JP2001129639A - 複製型の作製方法、これを用いた複製物の作製方法、及びこの方法で作製された物品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被複製物の表面の微細で一見不規則な凹凸を
巨視的な湾曲状態が異なる表面上に再現し得るようにし
た複製型の作製方法、これを用いた複製物の作製方法を
提供すること 【解決手段】 第一の基礎曲面に沿って微細凹凸３１を
備えた表面２１を有する被複製物１０の表面２１にシリ
コン印象材４０を密接させて該印象材４０の被密接面４
１に被複製物１０の微細凹凸と相補的形状の微細凹凸３
２を形成し、印象材４０を被複製物１０の表面２１から
剥離し、印象材の被密接面４１にワックス５０を薄膜状
に塗布してワックス５０の被塗布面５１に印象材４０の
微細凹凸３２と相補的形状の微細凹凸３３を形成し、ワ
ックス薄膜５０を印象材４０の被密接面４１から剥離
し、第一の基礎曲面とは異なる形状の第二の基礎曲面に
沿うようにワックス薄膜５０を撓めて複製型を形成す
る。更に、この複製型を用いてロストワックス法により
複製物を作製する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、形状の複製に係わ
る。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】被複製
物の表面と相補的形状の表面を有する鋳型を形成し、該
型を用いて被複製物と同一形状の物品を鋳造すること
は、古くから行われている。

【０００３】また、ワックス状複製材を用いて被複製物
と実際上同一の形状の複製型（原型）を形成しこのワッ
クス状複製材の複製型のまわりに石膏等を流して固めた
後、加熱してワックス状複製材を流失させることにより
石膏等の型を作ることは、ロストワックス法として知ら
れている。

【０００４】しかしながら、ワックス状複製材を用いた
従来の複製技術は、被複製物と同一の三次元形状の全体
を再現することを目的としたものに限られる。

【０００５】一方、物品の表面の装飾などにおいて、自
然物の形状を模したレリーフ等を彫刻などで物品やワッ
クス製原型の表面に形成したり、自然物自体を物品表面
に貼着けたり巻きつけたりすることも知られている。

【０００６】しかしながら、レリーフは自然物等を模し
たもので自然物等の表面の風合などに欠ける。一方、自
然物自体を用いたものでは、単品製作に等しいものにな
ったり、耐久性が低く寿命の短いものになりやすい。

【０００７】本発明者は、ワックス状複製材を可撓性薄
膜の形態で用いる場合には、三次元形状が異なって湾曲
状態が異なる物品表面に自然物などの微細で一見不規則
な複雑な表面凹凸を正確に再現し得ることに思い至り、
本発明をなした。

【０００８】本発明は、前記諸点に鑑みなされたもので
あって、その目的とするところは、自然物など被複製物
の表面の微細で一見不規則な凹凸を巨視的な湾曲状態が
異なる表面上に確実に再現し得るようにした複製型の作
製方法、複製型を用いた複製物の作製方法、この方法で
作製され装飾表面を有する物品を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の複製型の作製方
法は、前記した目的を達成すべく、第一の基礎曲面に沿
って微細凹凸を備えてなる表面を有する被複製物の当該
表面に第一の表面複製材を密接させて該第一の表面複製
材の被密接面に被複製物の微細凹凸と相補的形状の微細
凹凸を形成し、第一の表面複製材の被密接面が前記相補
的形状の微細凹凸を保った状態で第一の表面複製材を被
複製物の表面から剥離し、前記相補的形状の微細凹凸を
備えた第一の表面複製材の前記被密接面にワックス状の
第二の表面複製材を薄膜状に塗布して該第二の表面複製
材の被塗布面に第一の表面複製材の微細凹凸と相補的形
状の微細凹凸を形成し、第二の表面複製材の被塗布面が
第一の表面複製材の微細凹凸と相補的形状の微細凹凸を
保った状態で第二の表面複製材の薄膜を第一の表面複製
材の前記被密接面から剥離し、前記第一の基礎曲面とは
異なる形状の第二の基礎曲面に沿うように第二の表面複
製材の薄膜を撓めて複製型を形成することからなる。

【００１０】本発明による複製型の作製方法では、第一
の表面複製材によって被複製物の表面の微細凹凸と相補
的形状の微細凹凸を被密接表面に写し取り、第二の表面
複製材によって第一の表面複製材の被密接表面の微細凹
凸と相補的形状の微細凹凸を被塗布面に写し取っている
から、被複製物の表面の微細凹凸と実質上同一の形状の
微細凹凸が第二の表面複製材の被塗布面に再現される。
ここで、微細凹凸に関して「相補的形状」とは、微細凹
凸がちょうど正反対になりポジ・ネガの関係にあるよう
な形状になっていることをいう。特に、本発明による複
製型の作製方法では、第二の表面複製材の薄膜を被複製
物の表面の第一の基礎曲面とは異なる形状の第二の基礎
曲面に沿うように撓めて複製型を形成するから、被複製
物とは基礎曲面の形状すなわち表面の巨視的な湾曲形状
が異なる複製型を作製し得る。

【００１１】この明細書において、「基礎曲面」とは、
現実の表面から微細な凹凸を平均化してならした状態又
は微細凹凸を無視した状態の滑らかな仮想的な曲面をい
い、基礎曲面に微細凹凸を加えた（重合せた）形状が現
実の表面に対応する形状になる。従って、被複製物の表
面は第一の基礎曲面に沿って微細凹凸を備えることにな
る。なお、ここで「曲面」は、広義に用いており、特別
な場合には、実際上平面であってもよい。また、「微細
凹凸」に関して、「微細」とは、基礎曲面の拡がり方向
に沿った距離が比較的短いことをいい、「凹凸」とは、
基礎曲面の各部において該曲面に垂直な方向の凹凸をい
う。したがって、本発明においては、第二の表面複製材
の薄膜を撓めた際、基礎曲面の形状は、被複製物の第一
の基礎曲面からこれとは異なる第二の基礎局面に変わる
ことになる反面、微細凹凸の形状は、第二の表面複製材
を撓めることによってはほとんど変化せず、実際上同一
に保たれることになる。換言すれば、微細凹凸に関して
「短い距離」というのは、表面複製材を複製型が有すべ
き基礎曲面（第二の基礎曲面）に沿って撓めた場合で
も、実際上変形されていると感じられない程度に近接し
た距離をいう。但し、変形性さていると感じられるか否
かは、被複製材の微小凹凸の特性や複製物の特性や用途
などによって変動し得る種類のものである。すなわち、
短さの程度は、一面では、複製されるべき領域の大きさ
に対して相対的であり得、例えば一方向の長さで見て、
全体の領域の当該方向の長さの１／１０以下、典型的に
は、１／１００程度又はそれ以下の範囲をいう。但し、
複製物の用途によっては異なり得る。また、例えば、人
が明視の距離程度の距離で肉眼で見るものの場合には、
短い距離ないし長さとは、典型的には、数ｍｍ程度又は
それ以下の距離ないし長さをいう。人の肉眼以外の手段
で評価されるべき物品の表面の場合には、その長さを短
いとみなすレベルは異なり得る。短距離秩序を評価する
距離も同程度の距離である。

【００１２】被複製物に関して、「表面」とは、典型的
には、該被複製物の外側に位置する面を指すけれども、
空洞や穴や室を形成する壁面のように、ものの内側に形
成された表面であってもよい。

【００１３】被複製物は、樹木等の植物の幹や葉などや
石や貝などのような自然物や天然物であっても、人工の
造形物であってもよく、どのような複雑なものでもよ
い。なお、被複製物の表面は、被複製物の表面の全体で
あってもよいけれども、典型的には、その表面の一部で
ある。

【００１４】この明細書において、複製材が複製対象表
面の微細凹凸に「倣う」とは、微細凹凸の形状に相補的
な形状に微細凹凸を写すべく該微細凹凸に沿った表面形
状になることをいう。

【００１５】また、第一の表面複製材に関して、該複製
材を被複製物の表面に「密接する」とは、微細凹凸形状
を被複製面に写し取るべく複製材のうち被複製物の表面
に面する部分を該表面の所定範囲内の全域に亘って実際
上隙間なく倣わせることをいう。

【００１６】第一の表面複製材は、典型的には、シリコ
ン印象材として知られているようなシリコーン系の樹脂
からなる。但し、粘土状やロウ状などの他の表面複製材
でもワックスやパラフィンワックスとして知られるワッ
クス状の表面複製材などでも、パラフィンなど他のもの
でもよい。

【００１７】被複製物の表面が樹木の表面などのように
液体状のものでは内部に浸込む虞があるような場合に
は、複製材としては、粘土状又はゼリー状など比較的固
形性の高いものを用いればよい。ここで、「粘土状」と
は、大きな外力がかかった場合には塑性変形をして被複
製物の微小凹凸に倣い得るようなものであって、且つ相
補的形状の微細凹凸が実質上変形されてしまうことなく
剥離され得るように、小さな外力ではゴム状の弾性を有
するものをいう。一方、被複製物の表面が緻密な組織を
有し且つきわめて微細な凹凸を備えた種類の石の表面な
どのように液体が内部に浸込む虞がないような場合に
は、粘土状のものでも、その代わりに、当初は液体又は
液状に近い流動性で表面の微細な凹凸に倣い易く且つ表
面に密接するように塗布された後その形状を維持し得る
程度に弾力性のあるゲル状ないしゼリー状又はゴム状な
いしガム状に硬化するようなものを用いてもよい。ここ
で、「ゴム状」ないし「ガム状」とは、「ゼリー状」な
いし「ゲル状」と実際上同様な状態を指し、敢えて区別
すれば、前者は後者よりも同程度の変形に要する応力が
より大きく、弾性限界がより大きい状態を指す。

【００１８】第二の表面複製材は、典型的には、該第二
の表面複製材により形成される複製型がロストワックス
法で流失可能なように、加熱により溶融又は軟化して流
動性が高まる種類のワックス状の表面複製材からなり、
典型的には、ワックス又はパラフィンワックスなどの名
称で知られているものをいう。但し、第二の表面複製材
は、剥離後に第一の基礎曲面とは異なる第二の基礎曲面
に沿うように撓め得る限り、他の材料からなっていても
よい。なお、材料自体の可撓性の程度（割れたり折れた
りすることなく撓み得る曲がり角度及びその温度依存
性）や凝固点や軟化点などに応じて薄膜の厚さを調整し
て薄膜の可撓性を調整すればよい。

【００１９】第一の表面複製材で複製する領域は、第二
の表面複製材を用いて形成される複製型の表面領域を含
む限り、任意に選択され得る。換言すれば、第二の表面
複製材の薄膜の可撓性は、該薄膜を複製型を作製するに
必要な領域だけ切り出したとき、該薄膜に第二の基礎曲
面に沿うように撓み得る可撓性があればよい。もちろ
ん、第二の表面複製材薄膜を作製する際、複製型の作成
に必要な最小限の領域だけを複製するようにしてもよ
い。

【００２０】なお、第二の表面複製材を第二の基礎曲面
に沿わせるように第二の表面複製材を薄膜で形成する変
わりに、第一の表面複製材を第二の基礎曲面に沿わせる
ように該第一の表面複製材を薄膜で形成しておいてもよ
い。この場合、第二の表面複製材は、可撓性薄膜にしな
くてもよい。

【００２１】いずれの場合にも、本発明の複製型の作製
方法は、被複製物表面の凹凸に関する短距離秩序を保っ
たまま、被複製物表面とは凹凸に関する長距離秩序が異
なる表面を形成することからなる。ここで、短距離秩序
を保つとは、前述のような短い距離の範囲で、凹凸状
態、すなわち凹凸変動の状態を実際上同じ状態に維持す
る（一見不規則な凹凸は同様に不規則な凹凸状態に保つ
こと及び規則性のある部分は同様に規則性のある状態に
保つこと）ことをいい、換言すれば、被複製物の微細凹
凸と複製型の微細凹凸とが平均的な表面（前述の基礎曲
面）に沿って採った短い距離の範囲で、実際上重なるこ
と乃至ズレが少ない（位置の相関が１に近い）ことをい
う。

【００２２】なお、被複製物の表面の微細凹凸の凹部と
凸部とが反転ないし逆転した状態の微細凹凸を備えたも
のを、上述の複製型と同様なもの、擬似複製型として作
製してもよい。その場合、本発明による擬似複製型の作
製方法は、第一の基礎曲面に沿って微細凹凸を備えた表
面を有する被複製物の当該表面に、ワックス状の表面複
製材を薄膜状に塗布して該表面複製材の被塗布面に被複
製物の微細凹凸と相補的形状の微細凹凸を形成し、該表
面複製材の被塗布面が前記相補的形状の微細凹凸を保っ
た状態で表面複製材の薄膜を被複製物の表面から剥離
し、前記第一の基礎曲面とは異なる形状の第二の基礎曲
面に沿うように表面複製材の薄膜を撓めて擬似複製型を
形成することからなる。ここで、「擬似」とは、凹凸が
反転していることをいい、視覚に訴える形状のうち一部
のものなどのように、場合によっては、実際上同一の印
象を与え得るものになる。

【００２３】以上のようにして形成された複製型を用い
て、典型的には、ロストワックス法により複製物を作成
しうる。このようにして得られる複製物では、表面の広
い範囲にわたる凹凸ないし湾曲、すなわち第二の基礎曲
面の形状ないし長距離秩序は、被複製物の同様な広い範
囲の凹凸ないし湾曲、すなわち第一の基礎曲面の形状な
いし長距離秩序とは異なる（第一及び第二の基礎曲面に
ついて複製される表面の大きさ程度の範囲で見た表面の
位置に関する相関が１よりもはるかに小さくなる）けれ
ども、微細凹凸の形状、すなわち短距離秩序は、擬似複
製型を用いる場合を除いて、被複製物の微細凹凸の形状
と実質上同一になる（擬似複製型を用いた場合凹凸が反
転する）。

【００２４】従って、本発明による物品の表面複製方法
は、基本的には、被複製物表面の凹凸に関する短距離秩
序を保ったまま、被複製物表面とは凹凸に関する長距離
秩序が異なる複製表面を形成することからなる。本発明
の場合には、表面の湾曲状態の異なるところに、実質上
同一の微細凹凸を再現し得るから、適用物品の表面の巨
視的な湾曲状態ないし形状によらず、所望の被複製物の
表面の微細凹凸をそのまま正確に再現し得る。

【００２５】物品は、典型的には、鋳造で形成される装
飾物ないし装飾部分であり、たとえば、指輪やネックレ
スのヘッドや物品の柄などである。但し、鋳造で形成さ
れ得るものであれば他のどのようなものでもよい。物品
の全体を一回の複製（一つの複製物）で形成するように
しても、その代わりに、複数の部分に分けて複製して、
後で一つに組合せてもよい。場合によっては、複数の型
の一部は、雄雌が逆の型でもよい。

【００２６】

【発明の実施の形態】次に、本発明による好ましい一実
施の形態を添付図面に示した好ましい一実施例に基づい
て説明する。

【００２７】

【実施例】図１から５に示した本発明による好ましい一
実施例の物品の表面複製方法の概略を、まず、図１及び
２に基づいて説明する。

【００２８】図１の（ａ）は、表面の凹凸からなる模様
などが複製されるべき被複製物としての石１０である。
被複製物は、石の代わりに、他の自然物ないし天然物で
も、人工造形物でもよく、表面の凹凸は複雑でも比較的
単純でもよく、規則性が高くても低くてもよい。石１０
は表面２０に微細凹凸３０を有する。図１の（ｂ）に示
したように、石１０の表面２０のうち表面形状を再現し
ようとする微細凹凸３１を備えた表面領域２１に、シリ
コン印象材のようなシリコーン樹脂系の表面複製材４０
を、例えば５ｍｍ程度の所望の厚さで付着させ、石１０
の表面領域２１に面する側が該領域２１の微細凹凸３１
の表面に密接した被密接面４１になるように外側面４２
から表面複製材４０を押し付ける。図示の例では、表面
複製材４０は比較的流動性の低い粘土状であるけれど
も、表面複製材４０として当初は液体状で塗布後硬化な
いし固化するようなものを用いる場合には、表面複製材
４０と石１０の表面領域２１との間に空気などが残らな
いように液状の表面複製材４０を該表面領域に拡げれば
よい。

【００２９】次に、表面複製材４０を石１０の表面領域
２１から剥がす。剥離された表面複製材４０は、被密接
面４１が上に位置するように図１の（ｃ）及び（ｄ）に
おいて裏返した状態で示したように、被密接面４１に石
１０の表面領域２１の微細凹凸３１と相補的形状の微細
凹凸３２を備える。

【００３０】次に、図１の（ｅ）及び（ｆ）に示したよ
うに、表面複製材４０の被密接面４１のうち表面形状を
再現しようとする微細凹凸３２を備えた表面領域４３
に、ワックス状の表面複製材５０を塗布し例えば１〜２
ｍｍ程度の薄層になるように拡げる。この表面複製材５
０は、図示の例では、当初は溶融又は軟化して比較的流
動性の高い状態で塗布後短時間で弾力性のあるゼリー状
又はゴム状に硬化ないし固化する。なお、その種の表面
複製材５０としては、流動性を、加熱により溶融又は軟
化させることにより付与するタイプのものでも、硬化反
応前は流動性のあるタイプのものでもよい。この場合に
も、薄層状表面複製材５０の被塗布面５１と表面複製材
４０の被密接面４１との間に泡などが残らないように、
流動性の表面複製材５０を硬化ないし固化済の表面複製
材（シリコン印象材）４０の被密接面４１上に拡げる。
表面複製材膜（ワックス薄膜）５０がゼリー状又はゴム
状に硬化ないし固化すると、被塗布面５１に微細凹凸３
２と相補的形状（微細凹凸３１と実際上同一形状）の微
細凹凸３３が形成される。なお、密接を確実にするため
に必要ならば、表面複製材薄膜５０を外側面５２から押
付けて圧接すればよい。このとき形成すべき表面複製材
薄膜５０の厚さは、表面複製材薄膜５０が備えるべき可
撓性の程度を考慮して、必要に応じて十分に薄くする。
表面複製材５０としてワックスないしパラフィンワック
スを用いる場合、その凝固点や破折することなく曲げ可
能な角度や加圧による短縮率などを考慮して、材料を選
択すればよい。表面複製材５０としては、粘土のような
可塑性のものでもよい。

【００３１】次に、ワックス状の表面複製材薄膜５０を
表面複製材（シリコン印象材型）４０から剥離し、剥が
れた表面複製材薄膜５０から指輪９０（図２の（ｉ））
に用いるべき細長い長方形の領域５３を、図２の（ａ）
に示すように、カッタないしナイフなどで切り出す。こ
の切り出すべき領域５３の形状は、最終的に複製すべき
物品９０の形状又は該物品９０のうち複製すべき部分の
形状に依存する。このようにして切り出された表面複製
材５０の薄片５３は、図２の（ｂ）及び（ｃ）に示した
ように、被塗布面５１に対応する面５４に微細凹凸３３
を有する。反対側の面ないし外側面５２に対応する面５
５は、例えば滑らかである。このように切り出された表
面複製材５０の薄片５３は、例えば、図２の（ｃ）に示
したような平面状などに容易に撓み得る。

【００３２】次に、表面複製材薄片（ワックス薄片）５
３を丸く撓めて指輪９０と同様なリング状の複製型（原
型）ないしワックスパターン６０を形成する。このと
き、微細凹凸３３を有する被塗布面部５４に対応する面
６１が外側に位置し、反対側の面部５５に対応する面６
２が内側になって円筒状ないし環状面を形成する。面６
１は面６２と同様にほぼ円筒状ないし環状である。すな
わち、複製型６０においては、面６１の平均的な輪郭な
いし基礎曲面６１ａは円筒状ないし環状であって、図１
の（ａ）の石１０の表面領域２１のうち対応する表面領
域２３（図１の（ａ）及び（ｂ）において想像線で示し
た領域）の平均的な輪郭ないし基礎曲面の形状、すなわ
ち後で詳説するように若干外に凸に湾曲した形状とは、
大きく異なる。

【００３３】一方、面５１のうち切り出された一部をな
す面６１に形成されている微細凹凸３４は、微細凹凸３
３の一部の領域であり、微細凹凸３２に対して相補的形
状で、石１０の表面領域２１の対応する部分２３の微細
凹凸３１と実際上同一形状である。従って、複製型６０
の表面６１の微細凹凸３１は、石１０の表面領域２１の
微細凹凸３１と実際上同一の風合ないし見た目の感じを
与え得る。

【００３４】指輪複製型（原型）６０のためには、複製
材薄片５３の厚さが不足するような場合には、例えば、
図２の（ｄ）のような指輪の形状に複製材薄片５３を撓
めた後その内表面６２に同一材料又は同種材料でより軟
化点の低いワックス状物を付加えないし盛り足すように
すればよい。勿論、例えば、複製材薄片５３が切り出し
後図２の（ｂ）に示したような状態にあるときに、より
軟化点の低いワックス状物を加熱・軟化させた状態裏側
の面６２に付加し、固化前に全体を撓めて指輪複製型６
０を形成してもよい。逆に、厚すぎるときは、一部を削
り取ればよい。なお、次のロストワックス工程を考慮し
て、所望ならば、リングの上下などの位置によって厚さ
が異なるようにしておいてもよい。また、図２の（ｄ）
の段階まで形成した型６０の繋ぎ目を目立ちにくくする
ことを目的として、繋ぎ目のところに別個に作成した同
様な型６０の所望表面部分を押し付けて、繋ぎ目のとこ
ろの表面にも同様な微細凹凸を形成してもよい。同様
に、型６０の環状側壁にも微細凹凸を付けるべく、同様
な別の型６０の所望表面部分を押し付けるようにしても
よい。繋ぎ目や環状側壁へ微細凹凸の付与のためには、
別の型を軟化又は溶融温度のより高いワックスで形成し
ておいて加温状態で押付けるようにしても、別の型を硬
化時の硬度のより高いワックスで形成しておいて、塑性
変形を付与し得る程度の強めの力で押付けてもよい。

【００３５】次に、ロストワックス法に従って、図２の
（ｅ）から（ｉ）に示す手順で、指輪９０を形成する。
すなわち、まず、図２の（ｅ）に示したように、ワック
ス流出路ないし湯道及び溶湯ないし鋳造材料導入路とし
て働く細い棒状部６４を同様なワックスで形成し複製型
６０に融着させて複合型６５を形成する。所望ならば、
棒状部６４の下部に下方に拡がった円錐状部を形成し
て、該錐状部の底部をゴム台などの上に固定するように
してもよい。次に、図２の（ｆ）に示したように、石膏
型形成枠内の所定位置に複合型６５を配設して、複合型
６５の複製型部６０が石膏７０内に埋没するまで型枠内
に流動性の石膏７０を流し、その後、乾燥させるなどに
より石膏７０を固める。石膏７０の周囲の型枠は例えば
鉄パイプなど所望のものを用いればよい。さらに、図２
の（ｇ）に示したように、石膏７０の全体を電気炉内な
どで加熱して、ワックス製の複合型６５を溶かしてワッ
クスを流出路６４から流出させて、石膏型７１を完成さ
せる。石膏型７１内には、複製型６０及び棒状部（溶湯
導入路）６４を含む複合型６５と同一形状の空洞７２が
形成される。次に、図２の（ｈ）に示したように、石膏
型７１の溶湯導入路６４から鋳造されるべき貴金属など
の溶湯を空洞７２内に流し込んで、貴金属製等の複製物
９１を鋳造する。所望ならば、通路６４を複数箇所に設
けて吸引しつつ溶湯を導入し得るようにしても、他の手
段で溶湯を空洞７２の全域に隙間や泡を残すことなく充
填し得るようにしてもよい。更に、石膏型７１を崩しな
いし壊して複製物９１を取り出し、さらに、導入路６４
のところにできた突起９２等を取り除いて、貴金属製の
最終複製物たる複製指輪９０を作製する。この複製指輪
９０には、その後、所望の研磨処理などが行われる。

【００３６】このようにして得られた指輪９０は、外表
面９３に石１０の表面２０の微細凹凸３１と実際上同一
形状の微細凹凸３６を備えることになる。

【００３７】次に、以上のような複製物９０の作製方法
を、表面の基礎曲面の形状の変化と、微細凹凸の形状維
持とを中心に、図３から図５に基づいて、より詳しく説
明する。

【００３８】図３の（ａ）は、被複製物１０の表面２０
のうち表面部分ないし領域２１のごく一部を拡大断面で
示す。但し、図３〜５では、見易さのために、基礎曲面
を過度に湾曲した状態で示すと共に微細凹凸を誇張して
大きく示してある。ここで、実線２１が被複製物１０の
表面領域の断面であり、想像線２１ａで示した曲線が当
該表面領域２１の基礎曲面の断面である。従って、想像
線で示した基礎曲面２１ａに対する実線２１の凹凸変動
（ズレ）が微細凹凸３１に対応する。図３の（ａ）の被
複製物１０では、微細凹凸３１は、符号３１ａ，３１
ｂ，３１ｃ，３１ｄで示した領域に比較的大きい凸部を
有し、符号３１ｅ，３１ｆ，３１ｇで示した領域などに
比較的大きい凹部を有し、これらの凸部や凹部にさらに
微細な凹凸構造を有すると共にこれらの凸部や凹部の間
にもさらに微細な凹凸構造を有する。

【００３９】図３の（ｂ）は、被複製物１０の表面領域
２１に粘土質のシリコーン樹脂系の表面複製材４０を被
せた状態である。この状態では、表面複製材４０の被密
接面４１は、基礎曲面２１ａにほぼ沿ってはいるけれど
も、微細凹凸３１には密接されておらず、被密接面４１
と表面２１との間には随所に隙間４４が残っている。

【００４０】図３の（ｃ）は、被複製物１０の表面領域
２１に表面複製材４０を押し付けて被密接面４１を密接
させた状態である。この密接状態においては、表面領域
２１の微細凹凸３１と相補的形状の微細突起３２が表面
複製材４０の被密接面４１に形成されている。すなわ
ち、表面複製材４０には、被複製物１０の表面領域２１
の微細凹凸３１の凸部３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ
に対応し該凸部と相補的形状の凹部３２ａ，３２ｂ，３
２ｃ，３２ｄ、凹部３１ｅ，３１ｆ，３１ｇに対応し該
凹部と相補的形状の凸部３２ｅ，３２ｆ，３２ｇ、微細
凹凸３１の凸部や凹部内の更に微細な凹凸構造に対応し
該凹凸構造と相補的形状の凹凸構造、及び微細凹凸３１
の凸部や凹部の間の更に微細な凹凸構造に対応し該凹凸
構造と相補的形状の凹凸構造を有する微細凹凸３２が形
成されている。この状態においては、密接面４１の基礎
曲面は、想像線４１ａで示したように、勿論、表面領域
２１の基礎曲面２１ａ（図３の（ａ））と実際上一致し
ている。

【００４１】図３の（ｄ）には、表面複製材４０を剥離
させている途中で、表面複製材４０の一部が剥がれてい
る状態が示されている。この状態では、表面複製材４０
の被密接面４１の基礎曲面は、想像線４１ａで示したよ
うな形状になり、剥離されている部分においては、表面
領域２１の基礎曲面２１ａとは異なる形状を有する。し
かしながら、微細凹凸３２の凸部３２ｇや凹部３２ｃ，
３２ｄは、微細凹凸３１の凹部３１ｇや凸部３１ｃ，３
１ｄと実際上相補的形状を保っている。

【００４２】図４の（ａ）は、被複製物１０の表面２０
から剥がした後で且つ表面複製用ワックス５０を塗布す
る前における表面複製材（シリコン印象材）４０の状
態、すなわち図１の（ｃ）ないし（ｄ）に対応する状態
の拡大断面図で、密接面４１の基礎曲面４１ａは、被複
製物１０の表面領域２１の基礎曲面２１ａに一致し（但
し１８０度回転した状態）、被密接面４１の微細凹凸３
２は、被複製物の表面領域２１の微細凹凸３１に対して
相補的形状を有する。

【００４３】図４の（ｂ）は、表面複製材（シリコン印
象材）４０の被密接面４１に表面複製用ワックスを塗布
して該ワックスの固化薄膜５０を形成した状態の拡大断
面図で、ワックス薄膜５０の被塗布面５１は表面複製材
４０の被密接面４１に対して、全域で、実際上密接して
いる。従って、ワックス薄膜５０の被塗布面５１の基礎
曲面５１ａは、表面複製材４０の被密接面４１の基礎曲
面４１ａと同一形状で該基礎曲面４１ａに一致し、ワッ
クス薄膜５０の被塗布面５１の微細凹凸３３は、表面複
製材４０の被密接面４１の微細凹凸３２に対して相補的
形状である。

【００４４】図４の（ｃ）は、ワックス薄膜５０を表面
複製材（シリコン印象材）４０から剥離させている状態
を示した拡大断面図で、剥離に伴うワックス薄膜５０の
撓み変形により、ワックス薄膜５０の被塗布面５１の基
礎曲面５１ａは、表面複製材４０の被密接面４１の基礎
曲面４１ａとは形状が異なっている。但し、ワックス薄
膜５０の被塗布面５１の微細凹凸３３は、表面複製材４
０の被密接面４１の微細凹凸３２に対して相補的形状に
保たれる。

【００４５】図４の（ｄ）は、図２の（ｃ）のように、
ワックス薄膜５０から切取った薄片５３を平面状にした
場合における拡大断面図（但し１８０度回転した状態）
であり、被密接面５１に対応する面５４の基礎曲面５１
ａは、ほぼ平面状で、基礎曲面４１ａや基礎曲面２１ａ
とは形状が異なる。一方、微細凹凸３３は、微細凹凸３
２に対して相補的形状で、微細凹凸３１と実際上同一形
状に保たれる。すなわち、ワックス薄片５３の微細凹凸
３３は、被複製物１０の表面領域２１の微細凹凸３１の
凸部３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄと実際上同一形状
の凸部３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄ、及び凹部３１
ｅ，３１ｆ，３１ｇと実際上同一形状の凹部３３ｅ，３
３ｆ，３３ｇ、並びに微細凹凸３１の凸部や凹部内の更
に微細な凹凸構造と実際上同一形状の凹凸構造、及び微
細凹凸３１の凸部や凹部の間の更に微細な凹凸構造と実
際上同一形状の凹凸構造を有する。

【００４６】図５の（ａ）には、ワックス薄片５３を図
２の（ｄ）のような複製型６０を形成するように、リン
グ状に湾曲させた状態の一部の拡大断面が示されてい
る。この複製型６０の状態においても、図４の（ｄ）の
平面状の状態の場合と同様に、複製型６０の表面６１の
基礎曲面６１ａは、円筒状（この断面では円形）であっ
て基礎曲面４１ａや基礎曲面２１ａとは形状が異なる。
一方、複製型６０の表面６１の微細凹凸３４は、微細凹
凸３２に対して相補的形状で、微細凹凸３３，３１と実
際上同一形状に保たれる。すなわち、複製型６０の微細
凹凸３４は、被複製物１０の表面領域２１の微細凹凸３
１の凸部３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄと実際上同一
形状の凸部３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ、及び凹部
３１ｅ，３１ｆ，３１ｇと実際上同一形状の凹部３４
ｅ，３４ｆ，３４ｇ、並びに微細凹凸３１の凸部や凹部
内の更に微細な凹凸構造と実際上同一形状の凹凸構造、
及び微細凹凸３１の凸部や凹部の間の更に微細な凹凸構
造と実際上同一形状の凹凸構造を有する。

【００４７】ワックス型６０を元に形成した図２の
（ｇ）の石膏型７１は、従って、図５の（ｂ）に示すよ
うに、空洞７２の外周側の壁面７３の基礎曲面７３ｂが
ワックス型６０の面６１の基礎曲面６１ａと同一形状
で、該表面７３の微細凹凸３５が微細凹凸３４と相補的
形状になる。すなわち、石膏型７１の面７３の微細凹凸
３５は、ワックス型６０の面６１の微細凹凸３４の凸部
３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄと実際上同一形状の凸
部３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ、及び凹部３４ｅ，
３４ｆ，３４ｇと実際上同一形状の凹部３５ｅ，３５
ｆ，３５ｇ、並びに微細凹凸３４の凸部や凹部内の更に
微細な凹凸構造と実際上同一形状の凹凸構造、及び微細
凹凸３４の凸部や凹部の間の更に微細な凹凸構造と実際
上同一形状の凹凸構造を有する。

【００４８】従って、図２の（ｇ），（ｈ）及び（ｉ）
で示した石膏型７１の空洞７２の形状に鋳造した貴金属
指輪９０の表面９３は、図５の（ｃ）に示したように、
石膏型７１の面７３の基礎曲面７３ａ及びワックス型６
０の面６１の基礎曲面６１ａと同一形状の基礎曲面９３
ａを有すると共に、石膏型７１の面７３の微細凹凸３５
と相補的形状の微細凹凸３６を有する。従って、指輪９
０の表面９３の基礎曲面７３ａは、被複製物１０の表面
部分２１の基礎曲面２１ａとは全く異なるにもかかわら
ず、該表面９３の微細凹凸３６は、実際上表面領域２１
の微細凹凸３１と一致し、微細凹凸３１の凸部３１ａ，
３１ｂ，３１ｃ，３１ｄと実際上同一形状の凸部３６
ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄ、及び凹部３１ｅ，３１
ｆ，３１ｇと実際上同一形状の凹部３６ｅ，３６ｆ，３
６ｇ、並びに微細凹凸３１の凸部や凹部内の更に微細な
凹凸構造と実際上同一形状の凹凸構造、及び微細凹凸３
１の凸部や凹部の間の更に微細な凹凸構造と実際上同一
形状の凹凸構造を有する。

【００４９】なお、第一の複製型４０をワックス状複製
材の薄膜で形成し、該薄膜を、図５の（ｄ）において符
号８０で示すような擬似複製型として、複製型６０の代
わりに用いてもよい。この場合、擬似複製型８０の表面
８１は、複製型６０の基礎曲面６１ａと同一形状の基礎
曲面８１ａを備えると共に、複製型６０の微細凹凸３４
とは相補的形状の微細凹凸３８を備えることになる。こ
の擬似複製型８０を元に、ロストワックス法で擬似複製
表面を備えた擬似複製物を作成し得ることは明らかであ
ろう。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による好ましい一実施例の複製方法を説
明するための図の一部で、（ａ）は被複製物としての石
の斜視説明図、（ｂ）は石の表面にシリコン印象材から
なる第一の表面複製材を押し付けた状態の斜視説明図、
（ｃ）は複製した微細凹凸を含む被密接面を上にした状
態の第一の表面複製材の斜視説明図、（ｄ）は（ｃ）の
ＩＤ−ＩＤ線断面説明図、（ｅ）は第一の表面複製材
（シリコン印象材）型の微細凹凸複製面上に第二の表面
複製材としてワックスを塗布して拡げた状態の上面説明
図、（ｆ）は（ｅ）のＩＦ−ＩＦ線断面説明図である。

【図２】本発明による好ましい一実施例の複製方法を説
明するための図の残りの一部で、（ａ）は第二の表面複
製材（ワックス）薄膜の薄片状の切出しの平面説明図、
（ｂ）は切出したワックス薄片の斜視説明図、（ｃ）は
（ｂ）の湾曲していたワックス薄片を平面状に撓めた状
態の斜視説明図、（ｄ）はワックス薄片をリング状に撓
めて形成した複製型（原型）の斜視説明図、（ｅ）は複
製型に湯道形成用棒状部を付加した複合型の斜視説明
図、（ｆ）は複合型を石膏に埋設した状態を示す斜視説
明図、（ｇ）は（ｆ）の石膏埋設物を加熱してワックス
を流出させてなる石膏型の斜視説明図、（ｈ）は石膏型
を用いて指輪を複製するところを示した斜視説明図、
（ｉ）は最終複製物である指輪の斜視説明図。

【図３】図１及び２の実施例における表面の湾曲状態
（基礎曲面の状態）及び凹凸状態（微細凹凸の状態）の
変化を説明するための図の一部で、（ａ）は被複製物で
ある石の表面状態を示す拡大断面説明図、（ｂ）は石の
上にシリコン印象材（第一の表面複製材）を押し拡げて
いる途中の状態の（ａ）と同様な拡大断面説明図、
（ｃ）はシリコン印象材を石の表面に密接させた状態の
（ａ）と同様な拡大断面説明図、（ｄ）はシリコン印象
材を剥がしている途中の（ａ）と同様な拡大断面説明図
である。

【図４】図１及び２の実施例における表面の湾曲状態
（基礎曲面の状態）及び凹凸状態（微細凹凸の状態）の
変化を説明するための図の別の一部で、（ａ）は図１の
（ｃ）や（ｄ）のように複製済みのシリコン印象材を裏
返した状態の図３の（ａ）と同様な拡大断面説明図、
（ｂ）はシリコン印象材の被密接面上にワックス（第二
の表面複製材）を塗布して薄膜状に拡げた状態の（ａ）
と同様な拡大断面説明図、（ｃ）はワックス薄膜を剥が
した状態の（ａ）と同様な拡大断面説明図、（ｄ）は湾
曲していたワックス薄片を平面状に撓めた状態の同様な
拡大断面説明図である。

【図５】図１及び２の実施例における表面の湾曲状態
（基礎曲面の状態）及び凹凸状態（微細凹凸の状態）の
変化を説明するための図の残りの一部で、（ａ）はリン
グ上にしたワックス薄片（ワックス製の複製型ないし原
型）の図３の（ａ）と同様な拡大断面説明図、（ｂ）は
石膏型の空洞の（ａ）と同様な拡大断面説明図、（ｃ）
は最終複製物である指輪の（ａ）と同様な拡大断面説明
図、（ｄ）は変形例の擬似複製型の（ａ）と同様な拡大
断面説明図である。

【符号の説明】

１０ 被複製物（石） ２０ 石の表面 ２１ 石の表面のうち複製される表面部分 ２１ａ 石の基礎曲面 ２３ 石の表面のうち微細凹凸形状が最終複製物に用い
られる表面部分 ３０ 石の表面の微細凹凸 ３１ 石の表面の微細凹凸のうち複製される微細凹凸部
分 ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ 石の微細凹凸の凸部 ３１ｅ，３１ｆ，３１ｇ 石の微細凹凸の凹部 ３２ 第一の表面複製材に複製された微細凹凸 ３３ 第二の表面複製材に複製された微細凹凸 ３４ 複製型に複製された微細凹凸 ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ 複製型の微細凹凸の
凸部 ３４ｅ，３４ｆ，３４ｇ 複製型の微細凹凸の凹部 ３５ 石膏型に複製された微細凹凸 ３６ 指輪に複製された微細凹凸 ３６ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄ 複製型の微細凹凸の
凸部 ３６ｅ，３６ｆ，３６ｇ 複製型の微細凹凸の凹部 ３８ 擬似複製型に複製された微細凹凸 ４０ 第一の表面複製材（シリコン印象材） ４１ 表面（被密接面） ４１ａ 第一の表面複製材の被密接面の基礎曲面 ４２ 反対側の表面 ５０ 第二の表面複製材（ワックス） ５１ 表面（被塗布面） ５１ａ 第二の表面複製材の被塗布面の基礎曲面 ５２ 反対側の表面 ５３ 切出し領域（薄片） ５４ 薄片の被塗布面 ５５ 薄片の反対側の表面 ６０ 複製型（原型） ６１ 外側表面 ６１ａ 外側表面の基礎曲面 ６２ 内側表面 ６４ 棒状部 ６５ 複合型 ７０ 石膏 ７１ 石膏型 ７２ 空洞 ７３ 石膏型の空洞の外周側壁面 ７３ａ 外周側壁面の基礎曲面 ８０ 擬似複製型 ８１ 擬似複製型の表面 ８１ａ 擬似複製型の表面の基礎曲面

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第一の基礎曲面に沿って微細凹凸を備え
   てなる表面を有する被複製物の当該表面に第一の表面複
   製材を密接させて該第一の表面複製材の被密接面に被複
   製物の微細凹凸と相補的形状の微細凹凸を形成し、 第一の表面複製材の前記被密接面が前記相補的形状の微
   細凹凸を保った状態で第一の表面複製材を被複製物の表
   面から剥離し、 前記相補的形状の微細凹凸を備えた第一の表面複製材の
   前記被密接面にワックス状の第二の表面複製材を薄膜状
   に塗布して該第二の表面複製材の被塗布面に第一の表面
   複製材の微細凹凸と相補的形状の微細凹凸を形成し、 第二の表面複製材の被塗布面が第一の表面複製材の微細
   凹凸と相補的形状の微細凹凸を保った状態で第二の表面
   複製材の薄膜を第一の表面複製材の前記被密接面から剥
   離し、 前記第一の基礎曲面とは異なる形状の第二の基礎曲面に
   沿うように第二の表面複製材の薄膜を撓めて複製型を形
   成することからなる複製型の作製方法。
2. 【請求項２】 第一の表面複製材がシリコーン系の樹脂
   からなる請求項１に記載の複製型の作製方法。
3. 【請求項３】 第一の表面複製材が、密接当初は流動性
   を有し、密接後弾力性のあるゲル状又はゴム状に硬化す
   る請求項１又は２に記載の複製型の作製方法。
4. 【請求項４】 第一の表面複製材が、大きな外力に対し
   て粘土状の可塑性を有し、且つ小さな外力に対してゴム
   状の弾性を有する請求項１又は２に記載の複製型の作製
   方法。
5. 【請求項５】 第二の表面複製材が、塗布当初は流動性
   を有し、塗布後弾力性のあるゲル状又はゴム状に硬化す
   る請求項１から４までのいずれか一つの項に記載の複製
   型の作製方法。
6. 【請求項６】 被複製物表面の凹凸に関する短距離秩序
   を保ったまま、被複製物表面とは凹凸に関する長距離秩
   序が異なる表面を形成することからなる複製型の作製方
   法。
7. 【請求項７】 第一の基礎曲面に沿って微細凹凸を備え
   た表面を有する被複製物の当該表面に、ワックス状の表
   面複製材を薄膜状に塗布して該表面複製材の被塗布面に
   被複製物の微細凹凸と相補的形状の微細凹凸を形成し、 該表面複製材の被塗布面が前記相補的形状の微細凹凸を
   保った状態で表面複製材の薄膜を被複製物の表面から剥
   離し、 前記第一の基礎曲面とは異なる形状の第二の基礎曲面に
   沿うように表面複製材の薄膜を撓めて擬似複製型を形成
   することからなる擬似複製型の作製方法。
8. 【請求項８】 請求項１から７までのいずれか一つの項
   に記載の複製型を用いてロストワックス法により複製物
   を作製する複製物の作製方法。
9. 【請求項９】 被複製物表面の凹凸に関する短距離秩序
   を保ったまま、被複製物表面とは凹凸に関する長距離秩
   序が異なる複製表面を形成することからなる物品の表面
   複製方法。
10. 【請求項１０】 請求項８又は９に記載の方法で作製さ
    れ被複製物の表面の微細凹凸と実際上同一又は相補的形
    状の微細凹凸を備えた装飾表面を有する物品。