JP2001129363A - Method for treating malodor or hazardous gas and device therefor - Google Patents

Method for treating malodor or hazardous gas and device therefor

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JP2001129363A
JP2001129363A JP31560399A JP31560399A JP2001129363A JP 2001129363 A JP2001129363 A JP 2001129363A JP 31560399 A JP31560399 A JP 31560399A JP 31560399 A JP31560399 A JP 31560399A JP 2001129363 A JP2001129363 A JP 2001129363A
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Japan
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gas
garbage
photocatalytic reaction
processing
chamber
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Akio Matsui
観雄 松井
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TRUST JAPAN KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent environmental pollution by collecting a hazardous gas containing a malodor molecule or airborne bacteria and detoxifying them. SOLUTION: A gas material so be treated is introduced into a treatment chamber 21 and then cooled to liquefy. The resultant liquefied martial L is decomposed by the photocatalyst reaction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は悪臭又は有害ガス
の処理方法及び装置に関し、特には光触媒反応作用を利
用した悪臭又は有害ガスの処理技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for treating an odor or a harmful gas, and more particularly to a technique for treating an odor or a harmful gas utilizing a photocatalytic reaction.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば業務用の生ゴミ処理機などにおい
ては、生ゴミを微生物によって分解して有機肥料や土壌
改良用の特殊肥料とする発酵型処理や、生ゴミをおがく
ずやコーヒー粕等の菌床に混合して水と炭酸ガスに分解
する分解消滅型処理などの方式によって処理されてい
る。しかしながら、従来の処理方式においては、処理時
に発生する悪臭や有害ガス等の処理については全く考慮
されておらない。
2. Description of the Related Art For example, in a garbage processing machine for business use, a fermentation type process in which garbage is decomposed by microorganisms into organic fertilizers or special fertilizers for soil improvement, or garbage is processed into sawdust and coffee grounds. It is treated by a method such as a disintegration type treatment in which it is mixed with the bacterial bed and decomposed into water and carbon dioxide. However, in the conventional processing method, no consideration is given to the processing of the odor or harmful gas generated during the processing.

【0003】従来の業務用の生ゴミ処理機では、腐敗菌
と発酵菌とが区別されることなく混在し、特に生ゴミの
腐敗を促進して短時間分解処理するタイプの処理機で
は、腐敗菌の繁殖促進も同時進行し、非病原性のバクテ
リアが病原性のバクテリアの増殖の環境に変わる可能性
がある。殊に大腸菌のような増殖遺伝子は単純に遺伝子
の組換えがなされ増殖率も早い。大腸菌O157がこれ
ら腐敗菌に混じって増殖を始めれば処理機全体が汚染さ
れてしまう危険性が十分に考えられる。
In a conventional commercial garbage disposer, putrefactive bacteria and fermentative bacteria are mixed without being distinguished. The promotion of fungal growth may also proceed, and non-pathogenic bacteria may be transformed into an environment for the growth of pathogenic bacteria. In particular, a growth gene such as Escherichia coli is simply recombined and has a high growth rate. If Escherichia coli O157 starts to proliferate by mixing with these spoilage bacteria, there is a considerable possibility that the entire processing machine will be contaminated.

【0004】また、これらの生ゴミ処理機では、一般に
熱撹拌がなされ、前記した悪臭又は有害分子は熱撹拌の
際に生じる水蒸気中に浮遊バクテリアとして包含され
て、大気中に悪臭ガス又は有害ガスとして放散された
り、汚水として排出されてしまう。これが環境汚染の因
となることはいうまでもない。
Further, in these garbage disposal machines, heat stirring is generally performed, and the above-mentioned odorous or harmful molecules are included as floating bacteria in water vapor generated at the time of the heat stirring, so that odorous gas or harmful gas is contained in the atmosphere. It is released as waste or discharged as sewage. Needless to say, this causes environmental pollution.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者は、
このような悪臭分子又は浮遊バクテリアを含む有害ガス
体を捕集して無害化することを提案するもので、これに
よって環境汚染の防止を図るとともに、前記したような
生ゴミ処理機にあっては、処理機の汚染を防ぎ、さらに
はその処理効率を高めることができる新規な悪臭又は有
害ガスの処理方法及び装置を提供しようとするものであ
る。
Therefore, the present inventor has proposed:
It is a proposal to collect and detoxify such harmful gas containing odorous molecules or floating bacteria, thereby preventing environmental pollution and in the above-mentioned garbage disposal machine. Another object of the present invention is to provide a novel method and apparatus for treating a bad odor or harmful gas, which can prevent contamination of the processing machine and can further improve the processing efficiency.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】すなわち、請求項1の発
明は、被処理ガス体を処理チャンバ内に導入し、冷却し
て液化させ、前記液状物を光触媒反応作用によって分解
処理することを特徴とする悪臭又は有害ガスの処理方法
に係る。
That is, the invention of claim 1 is characterized in that a gas to be processed is introduced into a processing chamber, cooled and liquefied, and the liquid is decomposed by a photocatalytic reaction. Pertaining to a method for treating offensive odors or harmful gases.

【0007】また、請求項2の発明は、被処理ガス体の
導入部と処理液状物の排出部とを有する処理チャンバ
と、前記処理チャンバ内の被処理ガス体を冷却して液状
化するための冷却装置と、前記処理チャンバ内に配置さ
れた光触媒活性を有する酸化チタン層が形成された光触
媒反応部材と、前記光触媒反応部材に対して照射される
紫外線照射装置とを有することを特徴とする悪臭又は有
害ガスの処理装置に係る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a processing chamber having an inlet for a gas to be processed and an outlet for discharging a liquid to be processed, and for cooling and liquefying the gas to be processed in the processing chamber. , A photocatalytic reaction member provided with a photocatalytically active titanium oxide layer disposed in the processing chamber, and an ultraviolet irradiation device for irradiating the photocatalytic reaction member. The present invention relates to a device for treating stench or harmful gas.

【0008】請求項3の発明は、請求項2において、前
記光触媒反応部材が、チタン材を陽極酸化した後結晶性
に優れたアナターゼ型酸化チタン粉末を被覆したもので
ある悪臭又は有害ガスの処理装置に係る。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for treating an odorous or harmful gas according to the second aspect, wherein the photocatalytic reaction member is formed by coating an anatase type titanium oxide powder having excellent crystallinity after anodizing a titanium material. Related to the device.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下添付の図面に従ってこの発明
を詳細に説明する。図1はこの発明による悪臭又は有害
ガスの処理方法の概要を示す概略工程図、図2はその処
理装置の一実施例を示す断面図、図3は本発明を生ゴミ
処理機に適用した一例を示す断面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic process diagram showing an outline of a method for treating offensive odor or harmful gas according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing one embodiment of the processing apparatus, and FIG. 3 is an example in which the present invention is applied to a garbage processing machine. FIG.

【0010】まず、請求項1の発明は、図1に図示した
ように、悪臭又は有害ガスの被処理ガス体を処理チャン
バ内に導入し捕集し、これを冷却して液化させ、この液
状物を光触媒反応作用によって分解処理することを特徴
とするものである。被処理ガス体は、例えば前記した生
ゴミ処理時に発生する悪臭や有害ガスを含むものであ
る。悪臭としては硫化水素やメチルメルカプタン等の腐
敗臭、アンモニア臭、刺激臭等があり、有害ガスとして
はNOxや浮遊バクテリア、特には腐敗菌やカビ菌等を
含む気体が例示される。
First, as shown in FIG. 1, according to the first aspect of the present invention, a to-be-processed gas body having a bad odor or a harmful gas is introduced into a processing chamber, collected, cooled and liquefied, and The substance is decomposed by a photocatalytic reaction. The gas body to be treated contains, for example, a bad smell or a harmful gas generated during the above-mentioned garbage disposal. Offensive odors include putrefactive odors such as hydrogen sulfide and methyl mercaptan, ammonia odors, and pungent odors. Examples of harmful gases include NOx and airborne bacteria, particularly gases containing putrefactive bacteria and fungi.

【0011】前記した悪臭や有害ガスを含有する被処理
ガス体は、チャンバ内に導入され捕集される。前記チャ
ンバ内は、常に高湿状態に保たれており、また冷却装置
が設けられている。そのため、チャンバ内においては、
チャンバ外部から捕集された被処理ガス体が冷却装置の
作用により結露して液化され液状物になる。前記液状物
には前記チャンバ内にて捕集された際の悪臭や有害ガス
の分子が存在している。
The gas to be treated containing the above-mentioned odorous or harmful gas is introduced into the chamber and collected. The inside of the chamber is always kept in a high humidity state, and a cooling device is provided. Therefore, in the chamber,
The gas to be processed collected from outside the chamber is condensed and liquefied into a liquid by the action of the cooling device. The liquid material contains molecules of bad smell and harmful gas when collected in the chamber.

【0012】チャンバには、光触媒反応作用を示す光触
媒反応部材が設けられている。この光触媒反応部材に前
記液状物が付着することにより、悪臭や有害ガスの原因
分子がその前記光触媒反応作用を受けて効率的に分解処
理され、無臭、無害化される。無臭、無害化処理された
処理液は、チャンバの外部に排水として流出される。
The chamber is provided with a photocatalytic reaction member exhibiting a photocatalytic reaction. When the liquid material adheres to the photocatalytic reaction member, molecules causing a bad odor or a harmful gas are subjected to the photocatalytic reaction to be efficiently decomposed to be odorless and harmless. The odorless and detoxified treatment liquid flows out of the chamber as wastewater.

【0013】以下、請求項2として規定した悪臭又は有
害ガスの処理装置の実施例とともに、さらに詳しく説明
する。図2に示した処理装置20は、図3に図示した生
ゴミ処理機の生ゴミ発生ガス処理装置として用いられる
ものであって、以下この実施例について説明する。この
処理装置(生ゴミ発生ガス処理装置)20は、図3に示
すように、業務用の生ゴミ処理装置10に付属して配置
される。生ゴミ処理装置10は、生ゴミを熱と撹拌によ
って分解する生ゴミ処理部12を有し、該生ゴミ処理部
12の上方に、前記生ゴミ発生ガス処理装置20が配置
される。図において、符号11は生ゴミ処理装置10の
ケーシングを表す。
A detailed description will be given below, together with an embodiment of an apparatus for treating odor or harmful gas as defined in claim 2. The processing apparatus 20 shown in FIG. 2 is used as a garbage generating gas processing apparatus of the garbage processing machine shown in FIG. 3, and this embodiment will be described below. As shown in FIG. 3, the processing apparatus (garbage generating gas processing apparatus) 20 is attached to a commercial garbage processing apparatus 10. The garbage processing apparatus 10 has a garbage processing section 12 that decomposes garbage by heat and stirring. Above the garbage processing section 12, the garbage generating gas processing apparatus 20 is disposed. In the figure, reference numeral 11 denotes a casing of the garbage disposal device 10.

【0014】なお、生ゴミ処理部12は、生ゴミを熱と
撹拌によって分解処理する公知の部分で、前記した発酵
型処理あるいは分解消滅型処理のいずれの方式であって
もよい。そして、この生ゴミ処理部12の上方に生ゴミ
発生ガス処理装置20が配設される。生ゴミ発生ガス処
理装置20は、生ゴミから発生するガスを捕集しやすく
するために、前記生ゴミ処理部12の上方に配置される
もので、前記ケーシング11の内部であってもよいし、
外部であってもよい。
The garbage processing section 12 is a known section for decomposing garbage by heat and stirring, and may be any of the above-mentioned fermentation-type processing and separation-elimination-type processing. Then, a garbage generating gas processing device 20 is disposed above the garbage processing unit 12. The garbage generated gas processing device 20 is disposed above the garbage processing unit 12 so as to easily collect gas generated from garbage, and may be inside the casing 11. ,
It may be external.

【0015】この処理装置20は、処理チャンバ21
と、冷却装置25と、光触媒反応部材30と、紫外線照
射装置35とを含む。処理チャンバ21は、被処理ガス
体である生ゴミ発生ガスGの導入部22と処理液状物の
排出部23とを有する。実施例の処理チャンバ21はス
テンレス製の箱体よりなり、ガス導入部22は窓部より
なる。また、処理液状物の排出部23は前記ガス導入部
22と離隔した反対側に形成された排水孔23aよりな
る。なお、符号23bは排水管で、24は排出部23の
段部である。
The processing apparatus 20 includes a processing chamber 21
, A cooling device 25, a photocatalytic reaction member 30, and an ultraviolet irradiation device 35. The processing chamber 21 has an inlet 22 for the raw garbage gas G, which is a gas to be processed, and an outlet 23 for a processing liquid. The processing chamber 21 of the embodiment is formed of a stainless steel box, and the gas introduction unit 22 is formed of a window. In addition, the discharge part 23 for the treated liquid is formed of a drain hole 23a formed on the opposite side, which is separated from the gas introduction part 22. Reference numeral 23b denotes a drain pipe, and reference numeral 24 denotes a step of the discharge unit 23.

【0016】冷却装置25は前記導入部22より処理チ
ャンバ21内に導入された生ゴミ発生ガスを冷却して液
状化するための装置である。この実施例では、前記ガス
導入部22近傍に配置された冷却コイル25aと冷却機
25bよりなる。前記した生ゴミ処理部12で加熱され
暖められた生ゴミ発生ガスGはガス導入部22よりチャ
ンバー21内に導入され、この冷却装置25の冷却によ
って温度差が生じて高湿度状態となり、結露して液状化
される。
The cooling device 25 is a device for cooling and liquefying the garbage generating gas introduced into the processing chamber 21 from the introduction section 22. In this embodiment, a cooling coil 25a and a cooler 25b are arranged near the gas inlet 22. The garbage generating gas G heated and heated by the garbage processing section 12 is introduced into the chamber 21 from the gas introduction section 22, and a temperature difference is generated by cooling of the cooling device 25, resulting in a high humidity state and dew condensation. Liquefied.

【0017】光触媒反応部材30は処理チャンバ21内
に配置され前記液状物Lが付着する光触媒活性を有する
酸化チタン層が形成されたものである。光触媒反応部材
30は、公知のもので、酸化チタン又は酸化チタン合金
の金属板よりなり、前記生ゴミ発生ガスGが結露した液
状物Lが付着して、光触媒反応を発生させるものであ
る。
The photocatalytic reaction member 30 is provided in the processing chamber 21 and has a titanium oxide layer having photocatalytic activity to which the liquid material L adheres. The photocatalytic reaction member 30 is a publicly known one, and is made of a metal plate of titanium oxide or a titanium oxide alloy, and causes a liquid L condensed with the garbage generating gas G to adhere to generate a photocatalytic reaction.

【0018】なお、この光触媒反応部材30としては、
請求項3の発明として規定したように、チタン材を陽極
酸化した後結晶性に優れたアナターゼ型酸化チタン粉末
を被覆したものが好ましい。これは、例えば高機能抗菌
チタン「SPARKT(スパーク)」(株式会社神戸製
鋼の商品名)として市販されている。
The photocatalytic reaction member 30 includes:
As defined in the third aspect of the present invention, it is preferable that the titanium material is anodized and then coated with anatase type titanium oxide powder having excellent crystallinity. This is commercially available as, for example, high-performance antibacterial titanium “SPARKT” (trade name of Kobe Steel Ltd.).

【0019】紫外線照射装置35は、前記光触媒反応部
材30に対して照射されるもので、光触媒反応励起用ラ
ンプとして市販されている公知のものである。
The ultraviolet irradiation device 35 irradiates the photocatalytic reaction member 30 and is a known lamp which is commercially available as a photocatalytic reaction excitation lamp.

【0020】なお、上の各部のほかに、図示したよう
に、前記処理チャンバ21内に生ゴミ処理装置内のガス
Gを吸引する吸引ファン40を配置することが生ゴミ発
生ガスGを効率良く捕集するうえで好ましい。
In addition to the above components, a suction fan 40 for sucking the gas G in the garbage processing apparatus is disposed in the processing chamber 21 as shown in FIG. It is preferable for collecting.

【0021】また、実施例に図示したように、生ゴミ発
生ガスGの液状物Lの光触媒反応を効果的に行うため
に、チャンバ21内に仕切板45を設けて、液状物Lを
一時的に蓄積するようにしてもよい。実施例では、チャ
ンバ21のほぼ中央部に高さ2センチメートルの仕切板
45を設けてガス導入部側空間21Aと排出部側空間2
1Bとに区切り、ガス導入部側空間21Aで液状物Lを
一旦滞留させて光触媒反応を行い、仕切板45をオーバ
ーフローする液状物Lについてさらに排出部側空間21
Bで光触媒反応を行うようになっている。なお、実施例
では排出部23に段部24を設けたので、処理された液
状物はこの段部24を超えて排水管23bに流出するこ
とになる。
Further, as shown in the embodiment, a partition plate 45 is provided in the chamber 21 so that the liquid L is temporarily removed in order to effectively perform the photocatalytic reaction of the liquid L of the garbage generating gas G. May be stored. In the embodiment, a partition plate 45 having a height of 2 cm is provided substantially at the center of the chamber 21 so that the gas introduction section side space 21A and the discharge section side space 2 are provided.
1B, the liquid L is temporarily retained in the gas inlet side space 21A to perform a photocatalytic reaction, and the liquid L overflowing the partition plate 45 is further discharged.
A photocatalytic reaction is performed in B. In the embodiment, since the step portion 24 is provided in the discharge portion 23, the treated liquid material flows out of the drain portion 23b through the step portion 24.

【0022】この発明によれば、上のように、被処理ガ
ス体である生ゴミ発生ガスを処理チャンバ内に導入し、
冷却して液化させ、その液状物を光触媒反応作用によっ
て分解処理するようにしたものであるから、生ゴミ発生
ガス中に含有される腐敗悪臭の分子や浮遊バクテリアは
酸化分解されて無臭無害化されて外部へ排出される。
According to the present invention, as described above, the garbage generating gas as the gas to be processed is introduced into the processing chamber,
It is cooled and liquefied, and the liquid material is decomposed by photocatalytic reaction, so that putrefactive odor molecules and suspended bacteria contained in the garbage generated gas are oxidatively decomposed and made odorless and harmless. Is discharged to the outside.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように、この発明の悪臭又
は有害ガスの処理方法及び装置によれば、悪臭又は有害
分子を水蒸気中に浮遊バクテリアと共に包含するガス体
を捕集して無害化することが可能となり、これによって
大気中に悪臭又は有害ガスとして放散されたり、汚水と
して排出されることを防ぎ、環境汚染の防止を図ること
ができる。
As described above, according to the method and apparatus for treating stench or harmful gas according to the present invention, a gas containing a stench or harmful molecule together with suspended bacteria in water vapor is collected and made harmless. This makes it possible to prevent the air from being released into the atmosphere as a bad smell or harmful gas, or from being discharged as sewage, thereby preventing environmental pollution.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明による悪臭又は有害ガスの処理方法の
概要を示す概略工程図である。
FIG. 1 is a schematic process diagram showing an outline of a method for treating a malodorous or harmful gas according to the present invention.

【図2】生ゴミ発生ガス処理装置の一実施例を示す断面
図である。
FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of a garbage generating gas processing apparatus.

【図3】生ゴミ発生ガス処理装置を生ゴミ処理機に適用
した一例を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing an example in which the garbage generating gas processing apparatus is applied to a garbage processing machine.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 生ゴミ処理装置 11 ケーシング 12 生ゴミ処理部 20 生ゴミ発生ガス処理装置 21 処理チャンバ 22 導入部 23 排出部 25 冷却装置 30 光触媒反応部材 35 紫外線照射装置 40 吸引ファン G 生ゴミ発生ガス L 液状物 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Garbage processing apparatus 11 Casing 12 Garbage processing part 20 Garbage generation gas processing apparatus 21 Processing chamber 22 Introducing part 23 Discharge part 25 Cooling apparatus 30 Photocatalytic reaction member 35 Ultraviolet irradiation apparatus 40 Suction fan G Garbage generation gas L Liquid material

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01J 35/02 B01J 37/02 301M 37/02 301 A61L 2/02 Z 2/10 // A61L 2/02 B01D 53/36 ZABJ 2/10 B B09B 3/00 H B09B 3/00 D Fターム(参考) 4C058 AA27 AA30 BB02 BB06 CC01 EE26 KK02 4C080 AA07 AA10 BB02 CC01 HH05 KK08 MM02 QQ17 4D004 AA02 AA03 CA17 CA48 CC11 4D048 AA01 AA03 AA06 AA08 AA22 AB01 AB03 AB05 AB06 BA07X BA13X BA41X BB03 CA01 CD10 EA01 EA10 4G069 AA04 AA08 AA09 AA11 BA04A BA04B BA04C BA48A BA48C BB04A BB04B BB04C CA04 CA07 CA10 CA13 CA17 DA06 EA11 EC22X FB11 FB23Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat II (reference) B01J 35/02 B01J 37/02 301M 37/02 301 A61L 2/02 Z 2/10 // A61L 2/02 B01D 53 / 36 ZABJ 2/10 B B09B 3/00 H B09B 3/00 DF term (Reference) 4C058 AA27 AA30 BB02 BB06 CC01 EE26 KK02 4C080 AA07 AA10 BB02 CC01 HH05 KK08 MM02 QQ17 4D004 AAA AAAAAAAAAA48A08A48A08A48A08A48A48A04A03A17 AB01 AB03 AB05 AB06 BA07X BA13X BA41X BB03 CA01 CD10 EA01 EA10 4G069 AA04 AA08 AA09 AA11 BA04A BA04B BA04C BA48A BA48C BB04A BB04B BB04C CA04 CA07 CA10 CA13 CA17 DA06 EA11 EC22X FB11 FB23

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被処理ガス体を処理チャンバ内に導入
し、冷却して液化させ、前記液状物を光触媒反応作用に
よって分解処理することを特徴とする悪臭又は有害ガス
の処理方法。
1. A method for treating malodorous or harmful gas, comprising introducing a gas to be processed into a processing chamber, cooling and liquefying the liquid, and decomposing the liquid by a photocatalytic reaction.
【請求項2】 被処理ガス体の導入部と処理液状物の排
出部とを有する処理チャンバと、 前記処理チャンバ内の被処理ガス体を冷却して液状化す
るための冷却装置と、 前記処理チャンバ内に配置された光触媒活性を有する酸
化チタン層が形成された光触媒反応部材と、 前記光触媒反応部材に対して照射される紫外線照射装置
とを有することを特徴とする悪臭又は有害ガスの処理装
置。
2. A processing chamber having an inlet for a gas to be processed and a discharge unit for a processing liquid, a cooling device for cooling and liquefying the gas to be processed in the processing chamber, and An apparatus for treating odor or harmful gas, comprising: a photocatalytic reaction member provided with a photocatalytically active titanium oxide layer disposed in a chamber; and an ultraviolet irradiation device for irradiating the photocatalytic reaction member. .
【請求項3】 請求項2において、前記光触媒反応部材
が、チタン材を陽極酸化した後結晶性に優れたアナター
ゼ型酸化チタン粉末を被覆したものである悪臭又は有害
ガスの処理装置。
3. The apparatus according to claim 2, wherein the photocatalytic reaction member is obtained by anodizing a titanium material and then coating anatase-type titanium oxide powder having excellent crystallinity.
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