JP2001126868A - Method of manufacturing organic electroluminescence element - Google Patents

Method of manufacturing organic electroluminescence element

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JP2001126868A
JP2001126868A JP30729599A JP30729599A JP2001126868A JP 2001126868 A JP2001126868 A JP 2001126868A JP 30729599 A JP30729599 A JP 30729599A JP 30729599 A JP30729599 A JP 30729599A JP 2001126868 A JP2001126868 A JP 2001126868A
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Japan
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substrate
organic
ultraviolet
manufacturing
case
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Takeki Koto
武樹 小藤
Hiroshi Shoji
弘 東海林
Toshio Sakai
俊男 酒井
Kenichi Fukuoka
賢一 福岡
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/841Self-supporting sealing arrangements

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an organic electroluminescence element (hereinafter referred to as EL element) that can prevent degradation and damages to the organic EL element and efficiently manufacture an element having high luminescence and high luminescence efficiency, in the process of manufacturing a organic EL element. SOLUTION: A method of manufacturing an organic EL element comprising forming a stacked body by stacking a pair of electrodes and an organic luminescence layer on a substrate and then a sealed part of the stacked body by adhering a sealed case to the substrate using an ultraviolet ray hardening adhesive, which is characterized in that the method irradiates the ultraviolet rays to the organic luminescence layer after mounting means for preventing an ultraviolet ray irradiation to it previously when the sealed case is adhered to the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は有機エレクトロルミ
ネッセンス素子(以下、エレクトロルミネッセンンスを
「EL」と略す)の製造方法に関し、詳しくは、有機E
L素子の製造工程における発光素子の損傷、劣化を防止
し、発光強度、発光効率の高い有機EL素子の製造方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an organic electroluminescence device (hereinafter, abbreviated as "EL"), and more particularly, to a method for manufacturing an organic electroluminescence device.
The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL element that prevents damage and deterioration of a light emitting element in a manufacturing process of an L element and has high light emission intensity and light emission efficiency.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機EL素子の基本構造は、一対の電極
間に有機発光層(蛍光性色素、低分子蛍光性ポリマ−な
ど)を介在したものである。これは、直流低電流で高輝
度が得られる上、広い視野角度が得られ耐熱性の点でも
優れているので様々な情報表示素子としての利用が期待
されている。
2. Description of the Related Art The basic structure of an organic EL device is such that an organic light emitting layer (fluorescent dye, low molecular fluorescent polymer, etc.) is interposed between a pair of electrodes. This is expected to be used as various information display elements because it can obtain a high luminance with a low DC current, can obtain a wide viewing angle, and is excellent in heat resistance.

【0003】この有機EL素子の製造方法は、有機EL
素子が水分、酸素などに弱く、構成材料が変質するため
全ての工程が大気に晒されず、水分、酸素濃度等を極微
量に制御した気密空間内で行われる。その概略は、次の
通りである。
[0003] The manufacturing method of this organic EL element is based on an organic EL device.
Since the element is susceptible to moisture, oxygen, and the like, and the constituent materials are deteriorated, all steps are not exposed to the atmosphere, and are performed in an airtight space in which the moisture, oxygen concentration, and the like are controlled to a very small amount. The outline is as follows.

【0004】基板上に下部電極、有機発光層などの有機
層、対向電極を順次積層する。次いで、EL素子の使用
時において、大気中の水分などによる変質を防止するた
めに前記有機発光層などを封止ケ−スで覆うため基板と
封止ケ−スとを接合して封止部分を形成する。そしてこ
れを接合する場合接着剤を用いるが、一般に、紫外線硬
化型接着剤又は熱硬化型接着剤が使用される。しかし、
有機EL素子を構成する材料は、そのガラス転移温度以
上になると劣化、変質するため、接着工程の温度が比較
的低い紫外線硬化型接着剤を用いることが好ましいと言
われている。
A lower electrode, an organic layer such as an organic light emitting layer, and a counter electrode are sequentially laminated on a substrate. Then, when the EL element is used, the substrate and the sealing case are joined to cover the organic light-emitting layer and the like with a sealing case in order to prevent deterioration due to moisture in the air and the like. To form An adhesive is used to join the two, and an ultraviolet curable adhesive or a thermosetting adhesive is generally used. But,
It is said that it is preferable to use an ultraviolet-curing adhesive having a relatively low temperature in the bonding step, because the material constituting the organic EL element deteriorates and deteriorates when its temperature exceeds its glass transition temperature.

【0005】以上のように有機EL素子の製造は、素子
の劣化、損傷を防止するために、厳格に制御された環境
のもとで製造されている。
As described above, an organic EL device is manufactured under a strictly controlled environment in order to prevent deterioration and damage of the device.

【0006】しかしながら、本発明者らは、有機EL素
子の製造工程を厳密に追究した結果、上記のような厳格
に制御された環境の下で製造されても、何らかの要因に
より、発光素子が損傷、劣化を受け、発光が異常な素子
が製造されることがあることを発見した。このことは、
有機EL素子製造品の品質を損ない、製造効率の低下を
もたらす重大な問題である。
However, the present inventors have strictly studied the manufacturing process of the organic EL device, and as a result, even if the organic EL device is manufactured under the strictly controlled environment as described above, the light emitting device is damaged by some factor. It has been discovered that devices having abnormal light emission due to deterioration may be manufactured. This means
This is a serious problem that impairs the quality of the manufactured organic EL device and lowers the manufacturing efficiency.

【0007】従って、かかる損傷、劣化などが生じない
新たな有機EL素子製造方法の開発が不可決である。
Therefore, it is inevitable to develop a new method for manufacturing an organic EL device which does not cause such damage or deterioration.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題に
鑑みて成されたものであり、有機EL素子の製造工程に
おいて、有機EL素子の劣化、損傷を防止し、発光強
度、発光効率が高い素子を効率的に製造できる有機EL
素子の製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems. In the manufacturing process of an organic EL device, deterioration and damage of the organic EL device are prevented, and emission intensity and emission efficiency are reduced. Organic EL that can efficiently manufacture expensive devices
An object is to provide a method for manufacturing an element.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明らは、従来の有機
EL素子の製造方法による素子の損傷、劣化などの発生
原因を追究した結果、封止ケ−スと基盤とを紫外線硬化
型接着剤で接合するために用いる紫外線の一部が、有機
発光層を照射することが原因であること、及び封止ケ−
ス側から紫外線を照射して接合する場合は、紫外線は主
にそれと反対側にある基板、特に基板下面で反射し、そ
の反射光が発光層に到達することが原因であることをつ
きとめた。本発明はかかる新たな課題の発見に基づいて
完成したものであり、その概要は以下の通りである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has investigated the causes of the damage, deterioration, etc. of the device by the conventional method of manufacturing an organic EL device, and has found that the sealing case and the substrate are bonded by ultraviolet curing. That part of the ultraviolet light used for bonding with the agent is caused by irradiating the organic light emitting layer;
In the case of bonding by irradiating ultraviolet rays from the light source side, it was found that the ultraviolet rays mainly reflected on the substrate on the opposite side, particularly on the lower surface of the substrate, and the reflected light reached the light emitting layer. The present invention has been completed based on the discovery of such a new problem, and the outline thereof is as follows.

【0010】〔1〕 基板上に一対の電極と少なくとも
有機発光層とを積層して積層体部分を形成し、次いで封
止ケ−スを紫外線硬化型接着剤を用いて前記基板に接合
することによって前記積層体の封止部分を形成する有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、封
止ケ−スを基板に接合するに際し、予め有機発光層への
紫外線の照射を防止する手段を施した後、紫外線を照射
することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素
子の製造方法。 〔2〕 有機発光層への紫外線の照射を防止する手段
が、基板及び/又は封止ケ−ス面上における紫外線の透
過又は反射を防止する手段である前記〔1〕に記載の有
機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 〔3〕 有機発光層への紫外線の照射を防止する手段
が、基板面又は封止ケ−ス面の少なくとも一方であっ
て、一対の電極のうち透明電極が位置する側にある基板
面又は封止ケ−ス面上に設けられた紫外線吸収層である
前記〔1〕に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子
の製造方法。 〔4〕 基板上に透明電極、少なくとも有機発光層及び
金属電極を順次積層して積層体部分を形成し、次いで封
止ケ−スを紫外線硬化型接着剤を用いて前記基板に接合
することによって前記積層体の封止部分を形成する有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、封
止ケ−スを基板に接合するに際し、予め基板面における
紫外線の反射を防止する手段を施した後、封止ケ−ス側
から基板方向に紫外線を照射することを特徴とする有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 〔5〕 基板面における紫外線の反射を防止する手段が
基板下面に設けられた紫外線吸収層である前記〔4〕に
記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 〔6〕 基板面における紫外線の反射を防止する手段
が、封止作業を行う作業台の表面を覆う紫外線吸収層で
ある前記〔4〕に記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子の製造方法。 〔7〕 紫外線吸収層がカ−ボンを含む層である前記
〔5〕又は〔6〕に記載の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法。
[1] A pair of electrodes and at least an organic light-emitting layer are laminated on a substrate to form a laminated portion, and then a sealing case is bonded to the substrate using an ultraviolet-curable adhesive. In the method of manufacturing an organic electroluminescence element for forming a sealing portion of the laminate by the above, after the sealing case is bonded to the substrate, a means for preventing irradiation of the organic light emitting layer with ultraviolet rays is performed in advance, A method for manufacturing an organic electroluminescence device, comprising irradiating ultraviolet light. [2] The organic electroluminescence according to the above [1], wherein the means for preventing irradiation of the organic light emitting layer with ultraviolet rays is means for preventing transmission or reflection of ultraviolet rays on the substrate and / or the sealing case surface. Device manufacturing method. [3] The means for preventing the irradiation of the organic light emitting layer with ultraviolet rays is at least one of the substrate surface and the sealing case surface, and the substrate surface or the sealing surface of the pair of electrodes on the side where the transparent electrode is located. The method for producing an organic electroluminescence device according to the above [1], wherein the organic electroluminescence device is an ultraviolet absorbing layer provided on the surface of the stopper case. [4] A transparent electrode, at least an organic light emitting layer, and a metal electrode are sequentially laminated on a substrate to form a laminate portion, and then a sealing case is bonded to the substrate using an ultraviolet curing adhesive. In the method of manufacturing an organic electroluminescence element for forming a sealing portion of the laminate, a method for preventing reflection of ultraviolet rays on the substrate surface is performed before joining the sealing case to the substrate. A method of manufacturing an organic electroluminescent device, which comprises irradiating ultraviolet rays from the substrate side toward the substrate. [5] The method for producing an organic electroluminescent device according to [4], wherein the means for preventing reflection of ultraviolet light on the substrate surface is an ultraviolet absorbing layer provided on the lower surface of the substrate. [6] The method for producing an organic electroluminescence device according to [4], wherein the means for preventing reflection of ultraviolet light on the substrate surface is an ultraviolet absorbing layer covering a surface of a work table for performing a sealing operation. [7] The method for producing an organic electroluminescence device according to the above [5] or [6], wherein the ultraviolet absorbing layer is a layer containing carbon.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の発明の実施の形態
について説明する。本発明は、基板上に一対の電極と少
なくとも有機発光層とを積層して積層体部分を形成し、
次いで封止ケ−スを紫外線硬化型接着剤を用いて前記基
板に接合することによって前記積層体の封止部分を形成
する有機EL素子の製造方法において、封止ケ−スを基
板に接合するに際し、予め有機発光層への紫外線の照射
を防止する手段を施した後、紫外線を照射することを特
徴とする有機EL素子の製造方法である。
Embodiments of the present invention will be described below. The present invention forms a laminate portion by laminating a pair of electrodes and at least an organic light emitting layer on a substrate,
Then, the sealing case is joined to the substrate in a method of manufacturing an organic EL device in which a sealing portion of the laminate is formed by joining the sealing case to the substrate using an ultraviolet curable adhesive. At this time, a method for producing an organic EL element is provided, in which a means for preventing irradiation of the organic light-emitting layer with ultraviolet rays is applied in advance, and then ultraviolet rays are irradiated.

【0012】本発明における有機発光層への紫外線の照
射を防止する手段には種々の態様があるが、例えば、基
板及び/又は封止ケ−スにおける紫外線の透過又は反射
を防止する手段を好ましい態様として挙げることができ
る。
In the present invention, there are various modes of the means for preventing irradiation of the organic light emitting layer with ultraviolet rays. For example, means for preventing transmission or reflection of ultraviolet rays on the substrate and / or the sealing case is preferable. It can be mentioned as an embodiment.

【0013】これらの基板や封止ケ−スにおける紫外線
の透過又は反射を防止する手段は、基板と封止ケ−スと
のいずれにも施してもよいが、製造方法の簡略化、コス
ト低減のために、基板と封止ケ−スのいずれか一方に施
す方法が好ましい。いずれに施すかの選択は、有機EL
素子の素子構成と紫外線照射位置とによって異なる。
Means for preventing the transmission or reflection of ultraviolet light on the substrate or the sealing case may be applied to either the substrate or the sealing case, but the manufacturing method is simplified and the cost is reduced. Therefore, it is preferable to apply the method to one of the substrate and the sealing case. The choice of which to apply is organic EL
It differs depending on the element configuration of the element and the ultraviolet irradiation position.

【0014】この点について説明すると次のようにな
る。一般に、有機EL素子の素子構成には、基板上の下
部電極を透明電極、その対向電極を金属電極とし、基板
側から発光を取り出す方法(以下、「基板側取り出し」
と略称する),及び上記電極の位置を逆にして、下部電
極を金属電極、その対向電極を透明電極とし、封止ケ−
ス側から発光を取り出す方法(以下、「ケ−ス側取り出
し」と略称する)がある。また、紫外線照射位置に関し
ては、基板側から紫外線を照射する方法(基板側照射)
と封止ケ−ス側から紫外線を照射する方法(ケ−ス側照
射)とがある。
This will be described below. In general, an element configuration of an organic EL element includes a method of extracting light emission from the substrate side by using a lower electrode on a substrate as a transparent electrode and a counter electrode as a metal electrode (hereinafter referred to as “substrate side extraction”).
), And the positions of the above electrodes are reversed so that the lower electrode is a metal electrode, the opposite electrode is a transparent electrode, and the sealing case is formed.
There is a method of extracting light emission from the case side (hereinafter, abbreviated as "case side extraction"). Regarding the ultraviolet irradiation position, a method of irradiating ultraviolet rays from the substrate side (substrate side irradiation)
And a method of irradiating ultraviolet rays from the sealing case side (case side irradiation).

【0015】そして、基板側取り出し/ケ−ス側照射の
場合は、ケ−ス側に金属電極があることから、基板面に
おける紫外線の反射を防止する手段を施せば目的を達成
することができる。また、基板側取り出し/基板側照射
では基板における紫外線の透過を防止する手段を施せば
よい。一方、ケ−ス側取り出し/ケ−ス側照射のときは
封止ケ−ス面における紫外線の透過を防止する手段を施
し、ケ−ス側取り出し/基板側照射では、封止ケ−ス面
における紫外線の照射を防止する手段を施すことにな
る。
In the case of taking out the substrate side / irradiating the case side, since the metal electrode is provided on the case side, the object can be achieved by providing a means for preventing reflection of ultraviolet rays on the substrate surface. . In addition, in taking out the substrate side / irradiating the substrate side, means for preventing transmission of ultraviolet rays through the substrate may be provided. On the other hand, at the time of case side take-out / case side irradiation, means for preventing transmission of ultraviolet rays at the sealing case surface is provided. At the case side take-out / substrate side irradiation, the sealing case surface is provided. Means for preventing the irradiation of ultraviolet rays in the above.

【0016】即ち、有機発光層への紫外線の照射を防止
する手段として、基板面又は封止ケ−ス面の少なくとも
一方であって、一対の電極のうち透明電極が位置する側
にある基板面又は封止ケ−ス面に紫外線吸収層を設ける
などの紫外線の透過又は反射を防止する手段を施せばよ
い。
That is, as means for preventing irradiation of the organic light emitting layer with ultraviolet rays, at least one of the substrate surface or the sealing case surface and the substrate surface on the side of the pair of electrodes where the transparent electrode is located. Alternatively, means for preventing transmission or reflection of ultraviolet rays, such as providing an ultraviolet ray absorbing layer on the surface of the sealing case, may be provided.

【0017】本発明における基板や封止ケ−スにおける
紫外線の透過又は反射を防止する手段としては(1)基
板や封止ケ−ス面に紫外線吸収層を設ける方法、(2)
基板や封止ケ−スの材料自身を紫外線吸収性にする方
法,(3)及び封止作業台など製造装置を改良する方法
などがある。本発明は、それらの方法のいずれの方法で
あっても目的を達成することができる。
As means for preventing transmission or reflection of ultraviolet rays on the substrate or the sealing case in the present invention, (1) a method of providing an ultraviolet absorbing layer on the surface of the substrate or the sealing case, (2)
There are a method of making the material of the substrate and the sealing case itself UV-absorbing, (3) and a method of improving a manufacturing apparatus such as a sealing work table. The present invention can achieve the object by any of these methods.

【0018】基板や封止ケ−ス面上に紫外線吸収層を設
ける方法を中心に以下具体的に説明する。本発明の有機
発光層への紫外線の照射を防止する手段の一態様に用い
る紫外線吸収層は、紫外線、即ち波長400nm以下の
光の透過率又は反射率が30%以下,さらには20%以
下、特に10%以下の物質であることが好ましい。紫外
線の透過率又は反射率が30%を超える物質であれば有
機EL素子の劣化、損傷を防止する効果が顕著には認め
られないからである。このような紫外線吸収物質には、
黒色のものや紫外線吸収化合物を用いる。具体的には、
黒色のものとしては、各種黒色ペイント、黒色テ−プ、
カ−ボンを混合した物など、紫外線吸収化合物としては
サリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾ
トリアゾ−ル系化合物、トリアジン系化合物、シアノア
クリレ−ト系化合物などの有機系化合物と無機系の無機
酸化物などが挙げられる。
The method for providing an ultraviolet absorbing layer on a substrate or a sealing case will be specifically described below. The ultraviolet absorbing layer used in one embodiment of the means for preventing irradiation of the organic light emitting layer with ultraviolet light according to the present invention has an ultraviolet light, that is, a light transmittance or reflectance of light having a wavelength of 400 nm or less of 30% or less, further 20% or less, It is particularly preferable that the content is 10% or less. This is because the effect of preventing deterioration and damage of the organic EL element is not remarkably recognized as long as the substance has a transmittance or reflectance of ultraviolet rays exceeding 30%. Such UV absorbing materials include:
Use black or ultraviolet absorbing compounds. In particular,
Various black paints, black tapes,
Examples of ultraviolet absorbing compounds such as a mixture of carbon include organic compounds such as salicylic acid compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, triazine compounds, and cyanoacrylate compounds, and inorganic inorganic oxides. Is mentioned.

【0019】上記の好ましいサリチル酸系化合物として
は、フェニルサリシレ−ト、p−t−ブチルサリシレ−
ト、p−オクチルフェニルサリシレ−ト等が挙げられ
る。
The preferred salicylic acid compounds include phenyl salicylate and pt-butyl salicylate.
And p-octylphenyl salicylate.

【0020】また、好ましいベンゾフェノン系化合物と
しては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキ
シ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、ビス〔2−メト
キシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタ
ン〕等が挙げられる。
Preferred benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, and 2-hydroxy-benzophenone.
4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, bis [2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane] and the like.

【0021】また、好ましいベンゾトリアゾ−ル系化合
物としては、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾ−ル,2−(2’−ヒドロキシ
−5−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾ−
ル,2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジtert
−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル,2−(2’−
ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフ
ェニル)−5−クロロベンゾトリアゾ−ル,2−(2’
−ヒドロキシ−3’,5’−ジtert−ブチルフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾ−ル,2−(2’−ヒ
ドロキシ−3’,5’−ジtert−アミルフェニル)
ベンゾトリアゾ−ル,2−〔2−ヒドロキシ−3,5−
ジ(1,1−ジメチルベンジル)フェニル〕−2H−ベ
ンゾトリアゾ−ル,2−〔2−ヒドロキシ−3−ジメチ
ルベンジル−5−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾ−ル、イソオク
チル−3−〔3−(2H−ベンゾトリアゾ−ル−2−イ
ル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル〕プロピオネ−ト、メチル−3−〔3−tert−ブ
チル−5−(2H−ベンゾトリアゾ−ル−2−イル)−
4−ヒドドキシフェニル〕プロピオネ−トとポリエチレ
ングリコ−ル300との縮合物等が挙げられる。
Preferred benzotriazole-based compounds include 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5-tert-butylphenyl) benzotriazole-
, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-ditert
-Butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-
Hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2 ′
-Hydroxy-3 ', 5'-ditert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-ditert-amylphenyl)
Benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3,5-
Di (1,1-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3-dimethylbenzyl-5- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenyl] -2H- Benzotriazole, isooctyl-3- [3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl] propionate, methyl-3- [3-tert-butyl-5 -(2H-benzotriazol-2-yl)-
4-hydroxyphenyl] propionate and polyethylene glycol 300.

【0022】さらに、好ましいシアノアクリレ−ト系化
合物としては、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,
3’−ジフェニルアクリレ−トや2−エチル−2−シア
ノ−3,3’−ジフェニルアクリレ−ト等が挙げられ
る。
Further, preferred cyanoacrylate compounds include 2-ethylhexyl-2-cyano-3,
Examples thereof include 3′-diphenyl acrylate and 2-ethyl-2-cyano-3,3′-diphenyl acrylate.

【0023】また、好ましいトリアジン系化合物として
は、2−[4−〔(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキ
シプロピル)オキシ〕−2−ヒドロキシフェニル]−
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,
5−トリアジンや2−[4−〔(2−ヒドロキシ−3−
トリデシルオキシプロピル)オキシ〕−2−ヒドロキシ
フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。
Preferred triazine compounds include 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl]-
4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3
5-triazine or 2- [4-[(2-hydroxy-3-
Tridecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and the like.

【0024】さらに、好ましい無機酸化物としてはチタ
ニア、酸化亜鉛、ジルコニア、シリカ、アルミナなどが
ある。
Further, preferred inorganic oxides include titania, zinc oxide, zirconia, silica, and alumina.

【0025】なお、紫外線吸収層は紫外線を吸収すると
ともに、可視光線を透過するもの、たとえば波長400
〜800nmの領域における光の透過率が50%以上、
さらには70%以上,特に80%以上であるものが好ま
しい。
The ultraviolet absorbing layer absorbs ultraviolet light and transmits visible light, for example, a wavelength of 400.
Light transmittance of 50% or more in the region of ~ 800 nm;
Further, it is preferably 70% or more, particularly preferably 80% or more.

【0026】紫外線吸収層が可視光線をも吸収する場合
は、製造工程終了後紫外線吸収層を取り除くことが必要
になる。
When the ultraviolet absorbing layer also absorbs visible light, it is necessary to remove the ultraviolet absorbing layer after the end of the manufacturing process.

【0027】一方、紫外線吸収層を設ける手段として
は、紫外線吸収物質(化合物)を真空蒸着法、スパッタ
リング法などにより成膜する方法と、紫外線吸収物質そ
のもの又はそれらを微粒子にして樹脂バインダ−に分散
した後フィルム、シ−ト状の薄膜として貼付する方法の
いずれであってもよい。この場合、層の厚さは制限がな
く、通常数mm〜数μmの範囲で使用される。
On the other hand, means for providing an ultraviolet absorbing layer include a method of forming a film of an ultraviolet absorbing substance (compound) by a vacuum evaporation method, a sputtering method, or the like, and a method of dispersing the ultraviolet absorbing substance itself or fine particles thereof into a resin binder. After that, it may be a method of sticking as a film or a sheet-like thin film. In this case, the thickness of the layer is not limited, and is usually used in the range of several mm to several μm.

【0028】以上、上記(1)の紫外線吸収層の場合を
説明したが、(2)の基板などの材料自身を紫外線吸収
性にする場合は、紫外線吸収物質(化合物)などを含む
紫外線吸収ガラスなどを基板などに使用すればよい。な
お、上記(3)の方法については後述する。
In the above, the case (1) of the ultraviolet absorbing layer has been described. In the case (2) of making the material such as the substrate itself ultraviolet absorbing, the ultraviolet absorbing glass containing the ultraviolet absorbing substance (compound) or the like may be used. May be used for a substrate or the like. The method (3) will be described later.

【0029】次に、本発明の第二の発明は、基板上に透
明電極、少なくとも有機発光層及び金属電極を順次積層
して積層体部分を形成し、次いで封止ケ−スを紫外線硬
化型接着剤を用いて前記基板に接合することによって前
記積層体の封止部分を形成する有機エレクトロルミネッ
センス素子の製造方法において、封止ケ−スを基板に接
合するに際し、予め基板面における紫外線の反射を防止
する手段を施した後、封止ケ−ス側から基板方向に紫外
線を照射することを特徴とする有機エレクトロルミネッ
センス素子の製造方法である。
Next, in a second aspect of the present invention, a transparent electrode, at least an organic luminescent layer and a metal electrode are sequentially laminated on a substrate to form a laminate portion, and then the sealing case is formed of an ultraviolet curable type. In a method of manufacturing an organic electroluminescent device in which a sealing portion of the laminate is formed by bonding to the substrate by using an adhesive, when the sealing case is bonded to the substrate, reflection of ultraviolet rays on the substrate surface in advance is performed. A method for manufacturing an organic electroluminescent device, comprising irradiating ultraviolet rays from the side of the sealing case toward the substrate after taking measures to prevent the occurrence.

【0030】この方法は、前述の「基板側取り出し/ケ
−ス側照射」の場合に該当しそれを更に具体的に発展さ
せたものである。即ち、この場合の従来の有機EL素子
の製造方法にあっては、基板に有機発光層などの積層体
部分を形成した後、封止ケ−スと基板を接合するため、
封止ケ−ス側から照射した紫外線の一部が、封止ケ−ス
の側部を通過するする際に複雑に屈折又は反射して、基
板面、特に基板下面における紫外線の反射を生じさせ、
それが有機EL素子の損傷、劣化をもたらしていること
を究明した結果見出した方法である。従って、基板面に
おける紫外線の反射を防止する手段を施すことによっ
て、製造工程における有機EL素子の損傷、劣化を防止
することができる。
This method corresponds to the above-mentioned case of "unloading on the substrate side / irradiating on the case side", and is a more specific development thereof. That is, in the conventional method for manufacturing an organic EL device in this case, after forming a laminated body portion such as an organic light emitting layer on the substrate, the sealing case and the substrate are joined.
A part of the ultraviolet light irradiated from the sealing case side is complicatedly refracted or reflected when passing through the side of the sealing case, causing reflection of the ultraviolet light on the substrate surface, especially on the lower surface of the substrate. ,
This is a method found as a result of investigating that it causes damage and deterioration of the organic EL element. Therefore, by providing a means for preventing the reflection of ultraviolet rays on the substrate surface, damage and deterioration of the organic EL element in the manufacturing process can be prevented.

【0031】本発明で用いる基板面における紫外線の反
射を防止する手段は、特に制限はなく、例えば次の方法
が挙げられる。 基板下面に紫外線吸収層を設ける方法。 封止用作業台の表面に、紫外線吸収層を設ける方
法。
The means for preventing the reflection of ultraviolet rays on the substrate surface used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include the following method. A method in which an ultraviolet absorbing layer is provided on the lower surface of the substrate. A method in which an ultraviolet absorbing layer is provided on the surface of a working table for sealing.

【0032】の場合について 基板下面に紫外線吸収層を設けることにより基板下面に
おける紫外線の反射を抑制し、発光層に到達する反射紫
外線の大部分を遮断することができる。この点について
は上述の通りである。
Suppressing reflection of ultraviolet in the lower surface of the substrate by providing an ultraviolet absorbing layer on the lower surface of the substrate with the case of [0032], it is possible to cut off most of the reflected ultraviolet rays reaching the light-emitting layer. This is as described above.

【0033】の場合について 作業台の表面に、紫外線吸収層を設ける方法によても、
基板下面における紫外線の反射を防止できる。この場
合、作業台の表面と基板下面の間における紫外線の拡散
を防止できる程度に両者が密着することか必要であり、
従って作業台の表面の紫外線吸収層は平滑であることが
要求される。この方法の場合は、紫外線吸収層を基板そ
のものに設けるときと比較して、いかなる材質の層を使
用しても製造工程終了後に紫外線吸収層を除去する必要
がない点で利益がある。
In the case of (1), a method of providing an ultraviolet absorbing layer on the surface of the work table also
Reflection of ultraviolet light on the lower surface of the substrate can be prevented. In this case, it is necessary that both adhere to each other to the extent that ultraviolet light can be prevented from diffusing between the surface of the worktable and the lower surface of the substrate,
Therefore, the ultraviolet absorbing layer on the surface of the worktable is required to be smooth. This method is advantageous in that it is not necessary to remove the ultraviolet absorbing layer after the manufacturing process is completed, even if a layer of any material is used, as compared with the case where the ultraviolet absorbing layer is provided on the substrate itself.

【0034】なお、ととを組み合わせた方法が更に
有機EL素子の損傷などを確実に防止する効果が大きい
ことは言うまでもない。
It is needless to say that the method combining the above and the method has a great effect of reliably preventing the organic EL element from being damaged.

【0035】次に、図1及び2を参照しつつ本発明の有
機EL素子の製造方法の一態様について説明する。図1
は本発明の製造方法の一態様にかかわる有機EL素子の
垂直断面概念図、図2は図1の有機EL素子の積層体部
分の垂直断面概念図である。
Next, one embodiment of a method for manufacturing an organic EL device of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG.
FIG. 2 is a schematic vertical sectional view of an organic EL element according to one embodiment of the manufacturing method of the present invention, and FIG. 2 is a schematic vertical sectional view of a layered portion of the organic EL element in FIG.

【0036】まず、本発明の有機EL素子の製造する方
法は、基板1を使用し、この基板の上に積層体部分5を
作る。基板1は、通常透明なガラス又はポリエチレンテ
レフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−トなどの透明樹
脂を用いる。この基板1の片面にITOや酸化スズ、酸
化インジウム,IXO(In−Zn−O)のような透明
導電性物質を真空蒸着やスパッタリング法などで可視光
線透過率50%以上,好ましくは80%以上の透明導電
膜を被覆して、厚さ10〜500nm程度の下部電極
(透明電極)2とする。
First, in the method for manufacturing an organic EL device of the present invention, a substrate 1 is used, and a laminate portion 5 is formed on the substrate. The substrate 1 is usually made of transparent glass or a transparent resin such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate. A transparent conductive material such as ITO, tin oxide, indium oxide, or IXO (In-Zn-O) is applied to one surface of the substrate 1 by vacuum evaporation or sputtering, and the visible light transmittance is 50% or more, preferably 80% or more. To form a lower electrode (transparent electrode) 2 having a thickness of about 10 to 500 nm.

【0037】次に、下部電極2の上に、正孔注入輸送層
3aを形成する。正孔注入輸送材料は、正孔移動が大き
く、イオン化エネルギ−が陽極と発光層材料の中間にあ
り、成膜性が良く、少なくとも発光層材料の蛍光波長領
域において実質的に透明であるものを用いる。具体的に
は、銅フタロシアニンなどのフタロシアニン類もしくは
テトラフェニルジアミン誘導体を単層または積層して使
用する。テトラフェニルジアミン誘導体の代表例として
は、N,N’−ビス(3−メチルフェニル−N,N’−
ジフェニル(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジア
ミン(以下、「TPD」と略称する)が挙げられるが、
上記の例に限定されるものではない。これらの化合物を
用いる正孔注入輸送層3aの成膜は透明電極2上に主に
蒸着により形成するが、ポリエステル、ポリカ−ボネイ
トなどの樹脂中に分散させてスピンコ−トなどの方法で
コ−ティングすることによって形成することも可能であ
る。正孔注入輸送層3aの膜厚は、通常1nm〜1μm
である。
Next, a hole injection / transport layer 3a is formed on the lower electrode 2. The hole injecting / transporting material has a large hole transfer, an ionization energy between the anode and the light emitting layer material, a good film-forming property, and is substantially transparent at least in a fluorescent wavelength region of the light emitting layer material. Used. Specifically, a phthalocyanine such as copper phthalocyanine or a tetraphenyldiamine derivative is used as a single layer or a stacked layer. Representative examples of the tetraphenyldiamine derivative include N, N'-bis (3-methylphenyl-N, N'-
Diphenyl (1,1′-biphenyl) -4,4′-diamine (hereinafter abbreviated as “TPD”),
It is not limited to the above example. The hole injecting and transporting layer 3a using these compounds is formed mainly on the transparent electrode 2 by vapor deposition, but dispersed in a resin such as polyester or polycarbonate and coated by a method such as spin coating. It is also possible to form by carrying out. The thickness of the hole injection transport layer 3a is usually 1 nm to 1 μm.
It is.

【0038】次に、正孔注入輸送層3aの上に有機発光
層3bを形成する。有機発光層3bに用いる蛍光体は、
可視領域に蛍光を有し、適当な方法で成膜できる任意の
蛍光体が使用可能である。例えば、ベンゾオキサゾ−ル
系などの蛍光増白剤、スチルベンゼン系化合物、オキサ
ジアゾ−ル誘導体、8−ヒドロキシキノリン又はその誘
導体、具体的には 8−キノリノ−ルリチウム、トリス
(8−キノリノ−ル)アルミニウム、4,4’−ビス
(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(以下、
「DPVBi」と略称する)などが挙げられる。有機発
光層3bの成膜方法は、真空蒸着法、累積膜法、又は樹
脂バインダ−中に分散させてスピンコ−トなどの方法で
コ−ティングすることにより行われる。有機発光層3b
の膜厚は、通常0.01〜0.1μmである。
Next, an organic light emitting layer 3b is formed on the hole injection transport layer 3a. The phosphor used for the organic light emitting layer 3b is
Any phosphor that has fluorescence in the visible region and can be formed by an appropriate method can be used. For example, a benzoxazole-based fluorescent whitening agent, a stilbenzene-based compound, an oxadiazol derivative, 8-hydroxyquinoline or a derivative thereof, specifically 8-quinolinol lithium, tris (8-quinolinol) aluminum , 4,4'-bis (2,2'-diphenylvinyl) biphenyl (hereinafter, referred to as
"DPVBi"). The organic light emitting layer 3b is formed by a vacuum evaporation method, a cumulative film method, or a method of dispersing in a resin binder and coating by a method such as spin coating. Organic light emitting layer 3b
Is usually 0.01 to 0.1 μm.

【0039】次いで、有機発光層3bの上に電子注入輸
送層3cを形成する。電子注入輸送層3cに用いる材料
は、電子移動度が大きく、仕事関数が大きく、成膜性が
良いものが適しており、代表例として、オキサジアゾ−
ル誘導体、8−ヒドロキシキノリン又はその誘導体の金
属錯体などが挙げられる。電子注入輸送層3cの成膜方
法は、真空蒸着法、累積膜法、又は樹脂バインダ−中に
分散させてスピンコ−トなどの方法でコ−ティングする
ことにより行われる。電子注入輸送層3cの膜厚は、通
常1nm〜1μmである。
Next, an electron injection / transport layer 3c is formed on the organic light emitting layer 3b. As the material used for the electron injection / transport layer 3c, a material having a high electron mobility, a large work function, and a good film-forming property is suitable.
Derivatives, 8-hydroxyquinoline or a metal complex of a derivative thereof, and the like. The electron injecting and transporting layer 3c is formed by a vacuum deposition method, a cumulative film method, or a method of dispersing in a resin binder and coating by a method such as spin coating. The thickness of the electron injection / transport layer 3c is usually 1 nm to 1 μm.

【0040】次いで、積層体部分5形成の最後として、
電子注入輸送層3cの上に対向電極4を形成する。対向
電極4は、電子注入を効果的に行うために低仕事関数の
物質が使われ、Li,Na ,Mg ,Ca ,Al ,Ag ,I
n ,Sn ,Zn ,Zr などの金属元素単体又はこれらの
合金が用いられる。対向電極4の成膜方法は、抵抗加熱
方法により10-3Paオ−ダ−以下の真空度下で蒸着す
る。この成膜方法は、スパッタリング法、電子ビ−ム
法、蒸着法であってもよい。得られる膜厚は通常0.0
5〜1μm程度である。
Next, as the last step of forming the laminate portion 5,
The counter electrode 4 is formed on the electron injection transport layer 3c. The counter electrode 4 is made of a material having a low work function to effectively perform electron injection, and is composed of Li, Na, Mg, Ca, Al, Ag, and I.
A single metal element such as n, Sn, Zn, Zr, or an alloy thereof is used. The counter electrode 4 is deposited by a resistance heating method under a degree of vacuum of 10 −3 Pa or less. This film forming method may be a sputtering method, an electron beam method, or a vapor deposition method. The resulting film thickness is usually 0.0
It is about 5 to 1 μm.

【0041】なお、上記の説明では積層体部分5を下部
電極2,正孔注入輸送層3a、有機発光層3b、電子注
入輸送層3c、対向電極4の素子構成の例を示したが、
素子構成はこれに限られず、正孔注入輸送層と電子注入
輸送層のうちの一方又は両方を2種の層としてもよく、
また有機発光層に正孔注入輸送層及び電子注入輸送層の
機能を付与し有機層が単層のものなどの素子構成例があ
り、いかなる構成であってもよい。もちろん、各層は2
種以上の材料から構成されていてもよい。
In the above description, an example of the element structure of the laminate portion 5 including the lower electrode 2, the hole injection / transport layer 3a, the organic light emitting layer 3b, the electron injection / transport layer 3c, and the counter electrode 4 has been described.
The device configuration is not limited to this, and one or both of the hole injection transport layer and the electron injection transport layer may be two types of layers,
In addition, there is an element configuration example in which the organic light emitting layer is provided with the functions of a hole injection transport layer and an electron injection transport layer, and the organic layer is a single layer. Of course, each layer is 2
It may be composed of more than one kind of material.

【0042】また、上記の説明は下部電極を透明電極、
対向電極を金属電極とする基板側取り出しの場合である
が、ケ−ス側取り出しの場合は上記とは逆の順序で積層
し、下部電極と対向電極を逆にすれば製造することがで
きる。
In the above description, the lower electrode is a transparent electrode,
This is the case of taking out the substrate side using the counter electrode as the metal electrode. In the case of taking out the case side, the layers can be stacked in the reverse order, and the lower electrode and the counter electrode can be manufactured in reverse order.

【0043】以上のようにして基板上1に、積層体部分
5を形成した後、封止ケ−ス6を基板1に接合する。封
止ケ−ス6は、通常ガラス、金属、セラミックス、低透
湿性高分子材料などで形成されるが、本発明においては
光透過性、封止効果の点からガラスが好ましい。この封
止ケ−ス6は、例えば全体が一体で、長方形の上面とそ
の上面の全周囲から下方向に垂直に延びる封止ケ−ス側
面を備えた形状のものが用いられる。
After the laminate portion 5 is formed on the substrate 1 as described above, the sealing case 6 is joined to the substrate 1. The sealing case 6 is usually formed of glass, metal, ceramics, a low-moisture permeable polymer material or the like. In the present invention, glass is preferable in terms of light transmittance and sealing effect. For example, the sealing case 6 has a rectangular upper surface and a sealing case side surface extending vertically downward from the entire periphery of the upper surface.

【0044】まず、基板1の上面(積層体がある側)
に、封止ケ−ス6の側面形状に合わせて、紫外線硬化型
接着剤7を塗布する。紫外線硬化型接着剤は特に制限は
なく、市販のものがそのまま使用できる。
First, the upper surface of the substrate 1 (the side where the laminated body is located)
Then, an ultraviolet curable adhesive 7 is applied according to the side shape of the sealing case 6. The UV-curable adhesive is not particularly limited, and a commercially available one can be used as it is.

【0045】続いて、封止工程に入るが、予め基板1の
下面(積層体部分がある側の反対面)に紫外線吸収層8
を設けるなどの手段を施す。次いで、封止ケ−ス6を基
板1の上面の紫外線硬化型接着剤7の上に設置し作業台
(図示せず)の上に置く。
Subsequently, a sealing step is performed, and the ultraviolet absorbing layer 8 is formed on the lower surface of the substrate 1 (the surface opposite to the side where the laminated body portion is present) in advance.
Is provided. Next, the sealing case 6 is placed on the ultraviolet curing adhesive 7 on the upper surface of the substrate 1 and placed on a work table (not shown).

【0046】次に、封止ケ−ス6の側面の上方から基板
1に向けて紫外線照射器によりに紫外線を照射する(図
示せず)。紫外線の照射は通常1〜10000mW/c
2で、2〜60秒程度行えば良い。
Next, ultraviolet light is irradiated from above the side surface of the sealing case 6 toward the substrate 1 by an ultraviolet light irradiator (not shown). UV irradiation is usually 1 to 10,000 mW / c
It may be performed for about 2 to 60 seconds at m 2 .

【0047】最後に必要であれば、前記紫外線吸収層8
を除去する。これによって、有機EL素子の製造は完了
する。なお、以上の操作は全て真空または、不活性ガス
雰囲気で行われる。
Finally, if necessary, the ultraviolet absorbing layer 8
Is removed. Thereby, the manufacture of the organic EL element is completed. The above operations are all performed in a vacuum or an inert gas atmosphere.

【0048】[0048]

【実施例】本発明について、更に、実施例を用いて詳細
に説明する。 〔実施例1:基板側取り出し/ケ−ス側照射〕図3を参
照しながら、「基板側取り出し/ケ−ス側照射」の場合
の実施例を説明する。25mm×75mm×1.1mm
のガラス製の基板上11に膜厚100nmのITO膜1
2を蒸着法により成膜した。この基板11の400〜6
00nmの波長領域での光透過率は約80%であった。
この基板をイソプロピルアルコ−ル中、次いで純水中で
それぞれ5分間超音波洗浄し、更に10分間UVオゾン
洗浄した。
EXAMPLES The present invention will be described in further detail with reference to Examples. [Embodiment 1: Substrate Side Extraction / Case Side Irradiation] An embodiment in the case of "substrate side extraction / case side irradiation" will be described with reference to FIG. 25mm x 75mm x 1.1mm
100 nm thick ITO film 1 on a glass substrate 11
2 was formed by an evaporation method. 400 to 6 of this substrate 11
The light transmittance in the wavelength region of 00 nm was about 80%.
This substrate was subjected to ultrasonic cleaning in isopropyl alcohol and then in pure water for 5 minutes, and further to UV ozone cleaning for 10 minutes.

【0049】次に、この基板11を蒸着装置(日本真空
(株)製)の基板ホルダ−に固定し、モリブデン製の抵
抗加熱ボ−トにTPDを200mg入れ、別のモリブデ
ン製の抵抗加熱ボ−トにDPVBiを200mg入れた
後真空槽を1×10-4Pa まで減圧した。その後TPD
入りボ−トを215〜220℃まで加熱して蒸着速度
0.1〜0.3nm/sで膜厚60nmの正孔輸送層
(図示せず。以下の有機発層の各層についても同じく図
示せず)を形成した。次いでDPVBi入りボ−トを2
40℃まで加熱して蒸着速度0.1〜0.3nm/sで
膜厚40nmの発光層を形成した。
Next, this substrate 11 was fixed to a substrate holder of a vapor deposition apparatus (manufactured by Nippon Vacuum Co., Ltd.), 200 mg of TPD was placed in a molybdenum resistance heating boat, and another molybdenum resistance heating boat was placed. After 200 mg of DPVBi was put into the reactor, the pressure in the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 −4 Pa. Then TPD
The entrance boat was heated to 215 to 220 ° C., and a hole transport layer (not shown) having a film thickness of 60 nm at a deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / s (not shown. Was formed. Next, the boat containing DPVBi is
By heating to 40 ° C., a 40 nm-thick light emitting layer was formed at a deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / s.

【0050】これを真空槽から取り出し、上記発光層の
上にステンレススチ−ル製のマスクを設置し再び基板ホ
ルダ−に固定した。次いで、モリブデン製ボ−トにトリ
ス(8−キノリノ−ル)アルミニウム(以下、「Alq
3 」と略称する)を200g入れ、別のボ−ドにマグネ
シウムリボン1g,さらにタングステン製バスケットに
銀ワイヤ−500mg入れて、これらのボ−トを真空槽
に装着した。
This was taken out of the vacuum chamber, and a stainless steel mask was placed on the light emitting layer and fixed again to the substrate holder. Next, tris (8-quinolinol) aluminum (hereinafter referred to as "Alq
3 "), 1 g of magnesium ribbon in another board, and 500 mg of silver wire in a tungsten basket, and these boats were mounted in a vacuum chamber.

【0051】真空槽を1×10-4Pa まで減圧しAlq
3 入りボ−トを270℃まで加熱し蒸着速度0.1〜
0.3nm/sで膜厚20nmの電子輸送層を形成し
た。更に、銀を蒸着速度0.1nm/sで前記電子輸送
層上に蒸着させると同時に、マグネシウムを蒸着速度
1.4nm/sで前記接着層上に蒸着させて、マグネシ
ウムと銀の混合金属からなる膜厚150nmの対向電極
14を形成した。
The pressure in the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 −4 Pa, and Alq
The three- boat is heated to 270 ° C. and the deposition rate is 0.1 to
An electron transport layer having a thickness of 20 nm was formed at 0.3 nm / s. Further, at the same time as depositing silver on the electron transporting layer at a deposition rate of 0.1 nm / s, magnesium is deposited on the adhesive layer at a deposition rate of 1.4 nm / s, and is made of a mixed metal of magnesium and silver. The counter electrode 14 having a thickness of 150 nm was formed.

【0052】以上のようにして作製した積層体部分15
を次の方法により封止を行った。まず、ガラス製のキャ
ップ型封止ケ−ス(豊和産業社製の座グリ基板)16を
用意した。この封止ケ−スは内寸13mm×13mm×
0.5mmの凹部を1個有し、その外寸は17mm×1
7mm×1.1mmである。この封止ケ−ス16の凹部
の底には不活性液体を注入するための注入口19が設け
られている。次に、封止対象の積層体部分15が前記凹
部内に納まるようにして、前記積層体部分が形成されて
いる基板11と上記封止ケ−ス16とを紫外線硬化型接
着剤(スリ−ボンド社製T8−3025)17によって
貼り合わせた。この状態で、アクリル樹脂ツヤ消し黒
(ニトムズ社製)によって表面を黒色の紫外線吸収層で
覆った作業台(図示せず)に、封止ケ−ス16を上に
し、基板11を下にして、基板11が作業台表面に密着
するようにして乗せた。次に、紫外線照射器(HOYA
−SCHOTT製UL−200M)を用い、光ファイバ
−を通して紫外線10を照射した。この場合光ファイバ
−の先端を封止ケ−ス16に対し垂直の状態で1cmの
距離をおいて、封止ケ−ス16側面のシ−ル部をなぞる
ように照射した。紫外線強度は、1cmの距離でφ6m
mの領域で1750mW/cm2 、照射時間は30秒で
あった。従って、照射量は約5000mJである。この
紫外線照射により接着剤が硬化した。
The laminate portion 15 produced as described above
Was sealed by the following method. First, a glass cap-type sealing case (counterbore board manufactured by Howa Sangyo Co., Ltd.) 16 was prepared. This sealing case has an inner size of 13 mm x 13 mm x
It has one 0.5 mm recess, and its outer dimension is 17 mm x 1
It is 7 mm x 1.1 mm. An inlet 19 for injecting an inert liquid is provided at the bottom of the concave portion of the sealing case 16. Next, the substrate 11 on which the laminate portion is formed and the sealing case 16 are bonded with an ultraviolet-curable adhesive (three-layer) so that the laminate portion 15 to be sealed is accommodated in the recess. Bonding was performed using T8-3025) 17 manufactured by Bond. In this state, on a work table (not shown) whose surface is covered with a black ultraviolet absorbing layer with an acrylic resin mat black (manufactured by Nitoms), the sealing case 16 is turned up and the substrate 11 is turned down. The substrate 11 was placed so that the substrate 11 was in close contact with the surface of the worktable. Next, an ultraviolet irradiator (HOYA
(UL-200M manufactured by SCHOTT) and irradiated with ultraviolet rays 10 through an optical fiber. In this case, irradiation was performed so that the tip of the optical fiber was perpendicular to the sealing case 16 at a distance of 1 cm, and traced the sealing portion on the side surface of the sealing case 16. UV intensity is φ6m at 1cm distance
m, 1750 mW / cm 2 , and the irradiation time was 30 seconds. Therefore, the irradiation amount is about 5000 mJ. The adhesive was cured by this ultraviolet irradiation.

【0053】さらに、封止ケ−ス16の注入口19から
不活性液体〔パ−フルオロポリエ−テル(ダイキン工業
株式会社製デムナムS−20)を真空脱気し、溶存酸素
濃度0.05ppm,水分5ppmにしたもの〕を注入
し封止ケ−ス16の凹部と基板11とによって形成され
る空間内に充填した。次いで注入口19に前記紫外線硬
化型接着剤を塗布し、その上に15mm×15mm×
0.7mmのガラス基板(図示せず)を貼り前記紫外線
照射器で紫外線を照射した。
Further, an inert liquid [Perfluoropolyether (Demnum S-20, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was vacuum-degassed from the inlet 19 of the sealing case 16 to give a dissolved oxygen concentration of 0.05 ppm. (With a water content of 5 ppm)] and filled into the space formed by the concave portion of the sealing case 16 and the substrate 11. Next, the above-mentioned ultraviolet curing adhesive was applied to the injection port 19, and 15 mm × 15 mm ×
A glass substrate (not shown) of 0.7 mm was attached, and ultraviolet rays were irradiated by the ultraviolet ray irradiator.

【0054】〔実施例2:基板側取り出し/基板側照
射〕図4を参照しながら、「基板側取り出し/基板側照
射」の場合の実施例を説明する。紫外線吸収処層を設け
ていない作業台上(図示せず)に、基板21を上に、封
止ケ−ス26を下にして置き、基板21の面(積層体部
分25の反対側)に黒色のビニルテ−プ28を封止ケ−
ス26のシ−ル面以外の部分に貼った点、及び紫外線照
射20を基板21側から行った点以外は、実施例1と同
様にして有機EL素子を製造した。
[Embodiment 2: Substrate side removal / substrate side irradiation] An embodiment in the case of "substrate side removal / substrate side irradiation" will be described with reference to FIG. The substrate 21 is placed on a workbench (not shown) on which the ultraviolet absorbing layer is not provided, with the sealing case 26 facing down, and is placed on the surface of the substrate 21 (the side opposite to the laminate portion 25). Sealing black vinyl tape 28
An organic EL device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the device was stuck on a portion other than the seal surface of the sheet 26 and that the ultraviolet irradiation 20 was performed from the substrate 21 side.

【0055】〔実施例3:ケ−ス側取り出し/ケ−ス側
照射〕図5を参照しながら、「ケ−ス側取り出し/ケ−
ス側照射」の実施例を説明する。積層体部分35の形成
順序を実施例1とは逆に、マグネシウムと銀の混合金
属、Alq3 ,DPVBi,TPD,ITOの順に成膜
し、基板31を下に封止ケ−ス36を上して作業台に乗
せ、封止ケ−ス36の表面に黒色のビニルテ−プ38を
貼ったこと以外は実施例1と同様にして有機EL素子を
製造した。
[Embodiment 3: Case-side take-out / case-side irradiation] Referring to FIG.
Example of “Surface side irradiation” will be described. The laminated body 35 is formed in the reverse order of the first embodiment, that is, a mixed metal of magnesium and silver, Alq 3 , DPVBi, TPD, and ITO are formed in this order, and the substrate 31 is placed below and the sealing case 36 is placed above. Then, the organic EL device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a black vinyl tape 38 was stuck on the surface of the sealing case 36.

【0056】〔実施例4:ケ−ス側取り出し/基板側照
射〕図6を参照しながら、「ケ−ス側取り出し/基板側
照射」の場合の実施例を説明する。紫外線の照射40を
基板41側から行った点以外は、実施例3と同様にして
有機EL素子を製造した。
[Embodiment 4: Case side take-out / substrate side irradiation] An embodiment in the case of "case side take-out / substrate side irradiation" will be described with reference to FIG. An organic EL device was manufactured in the same manner as in Example 3, except that the irradiation of ultraviolet rays 40 was performed from the substrate 41 side.

【0057】〔実施例5:基板側取り出し/ケ−ス側照
射〕図7を参照しながら、「基板側取り出し/ケ−ス側
照射」の場合他の実施例を説明する。基板51の下面に
紫外線吸収層58(1)に加えて、封止ケ−ス56の側
面のシ−ル面以外の部分にも黒色のビニルテ−プ58
(2)を貼ってから紫外線を照射50した。
[Embodiment 5: Substrate-side extraction / case-side irradiation] Another embodiment in the case of "substrate-side extraction / case-side irradiation" will be described with reference to FIG. In addition to the ultraviolet absorbing layer 58 (1) on the lower surface of the substrate 51, a black vinyl tape 58 is formed on the side of the sealing case 56 other than the seal surface.
After applying (2), ultraviolet irradiation 50 was performed.

【0058】〔実施例1〜5の効果について〕上記実施
例1〜5の製造方法では、製造工程中に紫外線照射によ
って有機発光層が劣化、損傷せず、発光強度、発光効率
が低下することは認められなかった。また、実施例5の
方法は照射された紫外線が拡散されず、紫外線の有機発
光層への照射が完全に防止できることを確認した。
[Effects of Examples 1 to 5] In the manufacturing methods of Examples 1 to 5, the organic light emitting layer is not deteriorated or damaged by ultraviolet irradiation during the manufacturing process, and the light emission intensity and the light emission efficiency are reduced. Was not found. In addition, it was confirmed that the method of Example 5 did not diffuse the irradiated ultraviolet light, and that irradiation of the organic light emitting layer with the ultraviolet light could be completely prevented.

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明の方法による有機EL素子の製造
工程によれば、製造工程中の有機EL素子の劣化、損傷
を防止し、発光強度、発光効率が高い素子を効率的に製
造することができる。
According to the manufacturing process of the organic EL device according to the method of the present invention, deterioration and damage of the organic EL device during the manufacturing process are prevented, and a device having high luminous intensity and luminous efficiency is efficiently manufactured. Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の有機EL素子の製造方法の一態様に
かかわる有機EL素子の垂直断概念面である。
FIG. 1 is a conceptual vertical sectional view of an organic EL device according to one embodiment of a method for manufacturing an organic EL device of the present invention.

【図2】 図1の積層体部分の垂直断面概念図である。FIG. 2 is a conceptual diagram of a vertical cross section of a laminated body portion of FIG.

【図3】 本発明の有機EL素子の製造方法の実施例1
にかかわる有機EL素子の垂直断概念図である。
FIG. 3 shows a first embodiment of a method for manufacturing an organic EL device of the present invention.
FIG. 3 is a schematic vertical sectional view of the organic EL element according to the first embodiment.

【図4】 本発明の有機EL素子の製造方法の実施例2
にかかわる有機EL素子の垂直断概念図である。
FIG. 4 shows a second embodiment of the method for producing an organic EL device of the present invention.
FIG. 3 is a schematic vertical sectional view of the organic EL element according to the first embodiment.

【図5】 本発明の有機EL素子の製造方法の実施例3
にかかわる有機EL素子の垂直断概念図である。
FIG. 5 shows a third embodiment of the method for producing an organic EL device of the present invention.
FIG. 3 is a schematic vertical sectional view of the organic EL element according to the first embodiment.

【図6】 本発明の有機EL素子の製造方法の実施例4
にかかわる有機EL素子の垂直断概念図である。
FIG. 6 shows a fourth embodiment of the method for producing an organic EL device of the present invention.
FIG. 3 is a schematic vertical sectional view of the organic EL element according to the first embodiment.

【図7】 本発明の有機EL素子の製造方法の実施例5
にかかわる有機EL素子の垂直断概念図である。
FIG. 7 shows a fifth embodiment of the method for producing an organic EL device of the present invention.
FIG. 3 is a schematic vertical sectional view of the organic EL element according to the first embodiment.

【符号の簡単な説明】[Brief description of reference numerals]

1、11、21、31、41、51 : 基板 2,12,22,32,42,52 : 下部電極 3,13,23,33,43,53 : 有機発光領域 3a : 電子注入輸送層 3b : 有機発光層 3c : 正孔注入輸送層 4,14,24,34,44,54 : 対向電極 5,15,25,35,45,55 : 積層体部分 6,16,26,36,46,56 : 封止ケ−ス 7,17,27,37,47,57 : 紫外線硬化型
接着剤 8,28,38,48,58 : 紫外線吸収層 19,29,39,49,59 : 封止ケ−ス注
入口 10,20、30,40,50 : 紫外線照射器
からの紫外線
1, 11, 21, 31, 41, 51: Substrate 2, 12, 22, 32, 42, 52: Lower electrode 3, 13, 23, 33, 43, 53: Organic light emitting region 3a: Electron injection transport layer 3b: Organic light emitting layer 3c: hole injecting and transporting layer 4, 14, 24, 34, 44, 54: counter electrode 5, 15, 25, 35, 45, 55: laminate portion 6, 16, 26, 36, 46, 56 : Sealing case 7, 17, 27, 37, 47, 57: UV curable adhesive 8, 28, 38, 48, 58: UV absorbing layer 19, 29, 39, 49, 59: Sealing case Injection port 10, 20, 30, 40, 50: UV light from UV irradiator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB02 AB03 AB18 BB00 BB01 CA01 CA05 CB01 DA00 DB03 EB00 FA00 FA01 FA02  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3K007 AB02 AB03 AB18 BB00 BB01 CA01 CA05 CB01 DA00 DB03 EB00 FA00 FA01 FA02

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に一対の電極と少なくとも有機発
光層とを積層して積層体部分を形成し、次いで封止ケ−
スを紫外線硬化型接着剤を用いて前記基板に接合するこ
とによって前記積層体の封止部分を形成する有機エレク
トロルミネッセンス素子の製造方法において、封止ケ−
スを基板に接合するに際し、予め有機発光層への紫外線
の照射を防止する手段を施した後、紫外線を照射するこ
とを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製
造方法。
1. A laminate part is formed by laminating a pair of electrodes and at least an organic light emitting layer on a substrate, and then a sealing case is formed.
In a method for manufacturing an organic electroluminescence element, wherein a sealing portion of the laminate is formed by bonding a substrate to the substrate using an ultraviolet curable adhesive, a sealing case is provided.
A method for manufacturing an organic electroluminescence device, comprising: before bonding an organic light-emitting layer to a substrate;
【請求項2】 有機発光層への紫外線の照射を防止する
手段が、基板及び/又は封止ケ−ス面上における紫外線
の透過又は反射を防止する手段である請求項1に記載の
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the means for preventing irradiation of the organic light emitting layer with ultraviolet light is means for preventing transmission or reflection of ultraviolet light on the substrate and / or the sealing case surface. A method for manufacturing a luminescence element.
【請求項3】 有機発光層への紫外線の照射を防止する
手段が、基板面又は封止ケ−ス面の少なくとも一方であ
って、一対の電極のうち透明電極が位置する側にある基
板面又は封止ケ−ス面上に設けられた紫外線吸収層であ
る請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子
の製造方法。
3. A means for preventing irradiation of the organic light-emitting layer with ultraviolet light is at least one of the substrate surface and the sealing case surface, and the substrate surface on the side of the pair of electrodes on which the transparent electrode is located. 2. The method for manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 1, wherein said device is an ultraviolet absorbing layer provided on a surface of a sealing case.
【請求項4】 基板上に透明電極、少なくとも有機発光
層及び金属電極を順次積層して積層体部分を形成し、次
いで封止ケ−スを紫外線硬化型接着剤を用いて前記基板
に接合することによって前記積層体の封止部分を形成す
る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法におい
て、封止ケ−スを基板に接合するに際し、予め基板面に
おける紫外線の反射を防止する手段を施した後、封止ケ
−ス側から基板方向に紫外線を照射することを特徴とす
る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
4. A laminate portion is formed by sequentially laminating a transparent electrode, at least an organic light-emitting layer and a metal electrode on a substrate, and then a sealing case is bonded to the substrate using an ultraviolet-curing adhesive. In the method of manufacturing an organic electroluminescence device for forming a sealing portion of the laminate, a method for preventing reflection of ultraviolet light on the substrate surface is performed before joining the sealing case to the substrate. A method of manufacturing an organic electroluminescence device, comprising irradiating ultraviolet rays from a stop case side toward a substrate.
【請求項5】 基板面における紫外線の反射を防止する
手段が基板下面に設けられた紫外線吸収層である請求項
4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法。
5. The method for manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 4, wherein the means for preventing reflection of ultraviolet light on the substrate surface is an ultraviolet absorbing layer provided on the lower surface of the substrate.
【請求項6】 基板面における紫外線の反射を防止する
手段が、封止作業を行う作業台の表面を覆う紫外線吸収
層である請求項4に記載の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法。
6. The method for manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 4, wherein the means for preventing the reflection of ultraviolet light on the substrate surface is an ultraviolet absorbing layer covering a surface of a work table for performing a sealing operation.
【請求項7】 紫外線吸収層がカ−ボンを含む層である
請求項5又は6に記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子の製造方法。
7. The method for producing an organic electroluminescence device according to claim 5, wherein the ultraviolet absorbing layer is a layer containing carbon.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003017257A (en) * 2001-06-29 2003-01-17 Sanyo Electric Co Ltd Manufacturing method of electroluminescent display
JP2003317953A (en) * 2002-04-26 2003-11-07 Seiko Epson Corp Manufacturing method for organic electroluminescent device, organic electroluminescent device, manufacturing device for organic electroluminescent device, and electronic apparatus
WO2004060021A1 (en) * 2002-12-26 2004-07-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
EP1526589A2 (en) 2003-10-21 2005-04-27 Lg Electronics Inc. Electro luminescence display device
JP2008084599A (en) * 2006-09-26 2008-04-10 Fujifilm Corp Organic electroluminescent device and manufacturing method of organic electroluminescent device
US7960910B2 (en) 2006-05-16 2011-06-14 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display device and method for manufacturing the same
KR101351511B1 (en) * 2006-06-15 2014-01-14 엘지디스플레이 주식회사 Organic electroluminescent display device and fabricating method thereof
JP2019050144A (en) * 2017-09-11 2019-03-28 東洋製罐グループホールディングス株式会社 Transparent substrate, and thin film support substrate

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003017257A (en) * 2001-06-29 2003-01-17 Sanyo Electric Co Ltd Manufacturing method of electroluminescent display
JP4614588B2 (en) * 2001-06-29 2011-01-19 三洋電機株式会社 Method for manufacturing electroluminescence display device
JP2003317953A (en) * 2002-04-26 2003-11-07 Seiko Epson Corp Manufacturing method for organic electroluminescent device, organic electroluminescent device, manufacturing device for organic electroluminescent device, and electronic apparatus
US7531847B2 (en) 2002-12-26 2009-05-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device having organic light-emitting element
WO2004060021A1 (en) * 2002-12-26 2004-07-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
US8785964B2 (en) 2002-12-26 2014-07-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Panel light comprising a light-emitting device
EP1526589A3 (en) * 2003-10-21 2006-07-26 Lg Electronics Inc. Electro luminescence display device
US7189990B2 (en) 2003-10-21 2007-03-13 Lg Electronics Inc. Electro luminescence display device
EP1526589A2 (en) 2003-10-21 2005-04-27 Lg Electronics Inc. Electro luminescence display device
US7960910B2 (en) 2006-05-16 2011-06-14 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display device and method for manufacturing the same
KR101351511B1 (en) * 2006-06-15 2014-01-14 엘지디스플레이 주식회사 Organic electroluminescent display device and fabricating method thereof
JP2008084599A (en) * 2006-09-26 2008-04-10 Fujifilm Corp Organic electroluminescent device and manufacturing method of organic electroluminescent device
JP4745181B2 (en) * 2006-09-26 2011-08-10 富士フイルム株式会社 ORGANIC EL LIGHT EMITTING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL LIGHT EMITTING DEVICE
US8030845B2 (en) 2006-09-26 2011-10-04 Fujifilm Corporation Organic electroluminescence device and method for manufacturing the same
JP2019050144A (en) * 2017-09-11 2019-03-28 東洋製罐グループホールディングス株式会社 Transparent substrate, and thin film support substrate
JP2022081622A (en) * 2017-09-11 2022-05-31 東洋製罐グループホールディングス株式会社 Transparent substrate, and thin film support substrate

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