JP2001125083A - Panel substrate and liquid crystal display panel - Google Patents
Panel substrate and liquid crystal display panelInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
の表示部に好適なパネル基板および液晶表示パネルに関
する。The present invention relates to a panel substrate and a liquid crystal display panel suitable for a display section of a liquid crystal display.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来から文字や図形などの各種の画像を
表示する表示装置の一種として液晶を用いた液晶ディス
プレイが知られている。この液晶ディスプレイにおける
表示方式としては、多種多様のものが提案されている
が、現在ではＴＮ（ねじれネマチック）方式とＳＴＮ
（超ねじれネマチック）方式のものが最も広く用いられ
ている。また近年では、携帯機器用途の表示装置に軽量
で割れにくいということにより、透明樹脂により形成さ
れたパネル基板を用いた液晶表示パネルが使用されるよ
うになってきた。2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display using a liquid crystal has been known as a kind of display device for displaying various images such as characters and figures. A variety of display methods have been proposed for the liquid crystal display. At present, however, the TN (twisted nematic) method and the STN
The (super twisted nematic) type is most widely used. In recent years, a liquid crystal display panel using a panel substrate formed of a transparent resin has come to be used because it is lightweight and hard to break into a display device for a portable device.
【０００３】図３はＴＮ方式またはＳＴＮ方式の液晶デ
ィスプレイの表示部である液晶表示パネルの一例を示す
ものであり、従来の液晶表示パネル１は、１対のパネル
基板２を有している。これらのパネル基板２の相互に対
向する内側表面には、所定パターンの酸化インジウムな
どからなる透明電極３がそれぞれ積層形成されている。
そして、透明電極３上には、相互に対向する透明電極３
間で液晶分子を一定の形態に配列させるために、ポリイ
ミドなどの高分子からなる配向膜４が積層されている。
この配向膜４の表面は、布を巻いたローラなどで一方向
にこすることによるラビングと称される配向処理が施さ
れており、こすった方向に液晶分子が配列するようにな
されている。このような配向処理が施された２枚のパネ
ル基板２は、相互間の間隔が図示しないスペーサによっ
て数μｍ程度に保持されている。また、２枚のパネル基
板２は、接着材を兼ねたシール材５によって貼り合わさ
れており、貼り合わせの際に、予め設けられた図示しな
い注入口から液晶６が注入され、その後注入口を封止す
ることで、２枚のパネル基板２の間に液晶６が密封され
ている。そして、２枚のパネル基板２の透明電極３の形
成面と反対側の面には偏光板７がそれぞれ貼着されてい
る。FIG. 3 shows an example of a liquid crystal display panel which is a display unit of a TN type or STN type liquid crystal display. A conventional liquid crystal display panel 1 has a pair of panel substrates 2. Transparent electrodes 3 made of a predetermined pattern of indium oxide or the like are formed on the inner surfaces of these panel substrates 2 facing each other, respectively.
The transparent electrodes 3 facing each other are placed on the transparent electrodes 3.
An alignment film 4 made of a polymer such as polyimide is laminated in order to arrange liquid crystal molecules in a certain form between them.
The surface of the alignment film 4 is subjected to an alignment treatment called rubbing by rubbing in one direction with a cloth-wound roller or the like, so that the liquid crystal molecules are arranged in the rubbing direction. The two panel substrates 2 that have been subjected to such orientation processing are maintained at a distance of about several μm by a spacer (not shown). Further, the two panel substrates 2 are bonded together by a sealing material 5 also serving as an adhesive. At the time of bonding, the liquid crystal 6 is injected from an injection port (not shown) provided in advance, and then the injection port is sealed. By stopping, the liquid crystal 6 is sealed between the two panel substrates 2. Then, polarizing plates 7 are adhered to surfaces of the two panel substrates 2 opposite to the surfaces on which the transparent electrodes 3 are formed.
【０００４】なお、この種の従来の液晶表示パネルは、
大きなパネル基板を用いて複数個の液晶表示パネルを同
時に形成し、その大きなパネル基板を所望の位置にて分
割することにより液晶表示パネルが同時に複数得られる
製法が、生産効率などの理由により多用されている。Incidentally, this type of conventional liquid crystal display panel is
A method of simultaneously forming a plurality of liquid crystal display panels using a large panel substrate and dividing the large panel substrate at a desired position to obtain a plurality of liquid crystal display panels simultaneously is often used for reasons such as production efficiency. ing.
【０００５】図４は液晶表示パネル１に用いられる従来
のパネル基板２の一例を示すものであり、従来のパネル
基板２は、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリアク
リレートなどの透明樹脂からなる透明樹脂基板２１の少
なくとも一面に、１層の気体遮断層２２を設けたものが
一般的に用いられている。この気体遮断層２２は、液晶
表示パネル１を形成した際に、大気中の酸素や水分など
が透明樹脂基板２１を通過して液晶６に移行して液晶６
に悪影響を及ぼすのを防止するものである。例えば、空
気中の水分が透明樹脂基板２１を通過して液晶６に移行
すると、液晶６が加水分解し、その結果、消費電流の増
加や、最適動作電圧が変動するために一定電圧で駆動す
るとコントラスト不足、表示ムラ、クロストークなどの
表示異常を生じる。このような気体遮断層２２として
は、ＳｉＯ2 からなる無機膜が、気体の通過を防止する
遮断効果が最も大きいなどという理由により多用されて
いる。また、気体遮断層２２は、透明樹脂基板２１の液
晶６に隣位する表面、あるいはその反対側に位置する背
面のうちの少なくとも一方に形成されるようになってい
る。FIG. 4 shows an example of a conventional panel substrate 2 used for the liquid crystal display panel 1. The conventional panel substrate 2 is made of a transparent resin substrate 21 made of a transparent resin such as polycarbonate, acrylic resin or polyacrylate. In general, one provided with a single gas blocking layer 22 on at least one surface thereof is used. When the liquid crystal display panel 1 is formed, the gas blocking layer 22 allows oxygen and moisture in the atmosphere to pass through the transparent resin substrate 21 and migrate to the liquid crystal 6 so that the liquid crystal 6
To prevent adverse effects on For example, when the moisture in the air passes through the transparent resin substrate 21 and moves to the liquid crystal 6, the liquid crystal 6 is hydrolyzed, and as a result, the current consumption increases, and the liquid crystal 6 is driven at a constant voltage because the optimum operating voltage varies. Display abnormalities such as insufficient contrast, display unevenness, and crosstalk occur. As such a gas blocking layer 22, an inorganic film made of SiO 2 is frequently used because it has the largest blocking effect of preventing the passage of gas. The gas blocking layer 22 is formed on at least one of the surface of the transparent resin substrate 21 adjacent to the liquid crystal 6 and the back surface located on the opposite side.
【０００６】なお、パネル基板２としては、硬さ（剛
性）を補うなどの理由により、図５に示すように、透明
樹脂基板２１の表面に有機膜あるいは有機−無機複合材
料からなるハードコート層２３を設け、このハードコー
ド層２３の表面に気体遮断層２２を設けた構成のものも
用いられている。As shown in FIG. 5, a hard coat layer made of an organic film or an organic-inorganic composite material is formed on the surface of the transparent resin substrate 21 to compensate for the hardness (rigidity). 23, and a structure in which a gas barrier layer 22 is provided on the surface of the hard code layer 23 is also used.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述した従
来のパネル基板２においては、気体遮断層２２の透明樹
脂基板２１あるいはハードコート層２３に対する密着力
が弱く、しかも、ＳｉＯ 2 からなる無機膜が硬くて脆い
という特性を有しているため、透明樹脂基板２１あるい
はハードコート層２３に比較して曲げに弱く、例えば、
液晶表示パネル１の製造工程において、２枚のパネル基
板２をシール材５によって貼り合わせて圧着した場合な
どの曲げや、気体遮断層２２を形成した後の取り扱いな
どにより、気体遮断層２２にクラックが発生しやすく、
気体遮断層２２にクラックが生じた場合には、気体遮断
効果が大幅に低下するという問題点があった。By the way, the above-described subordinate
In the conventional panel substrate 2, a transparent resin
Adhesive force to resin substrate 21 or hard coat layer 23
Is weak and SiO TwoInorganic film consisting of hard and brittle
The transparent resin substrate 21 or
Is less susceptible to bending than the hard coat layer 23, for example,
In the manufacturing process of the liquid crystal display panel 1, two panel bases are used.
This is the case where the plates 2 are bonded together with the sealing material 5 and pressed.
Do not bend or handle after forming the gas barrier layer 22.
For example, cracks are easily generated in the gas barrier layer 22,
If a crack occurs in the gas barrier layer 22, the gas barrier
There is a problem that the effect is greatly reduced.
【０００８】このような問題点に対処するためには、図
６に示すように、気体遮断層２２の表面を透明電極３の
下地層として機能するポリビニルアルコール系樹脂など
からなる柔らかい有機膜２４で被覆することにより、気
体遮断層２２に加わる応力を緩和させて気体遮断層２２
のクラックの発生を防止する構成が考えられるが、この
ような構成においては、気体遮断層２２のクラックの発
生を防止することはできるものの、パネル基板２の有機
膜２４で形成された最外層が柔らかくなるため、その表
面に積層される透明電極３が非常に傷つきやすく、液晶
表示パネル１を形成する工程で透明電極３の傷つきによ
る透明電極断線の発生が避けられないという問題点があ
る。In order to cope with such a problem, as shown in FIG. 6, the surface of the gas blocking layer 22 is formed by a soft organic film 24 made of a polyvinyl alcohol-based resin or the like which functions as a base layer of the transparent electrode 3. By coating, the stress applied to the gas blocking layer 22 is relieved and the gas blocking layer 22
In such a configuration, although the generation of cracks in the gas barrier layer 22 can be prevented, the outermost layer formed of the organic film 24 of the panel substrate 2 is not formed. Since the transparent electrode 3 is softened, the transparent electrode 3 laminated on the surface thereof is very easily damaged, and there is a problem that the transparent electrode 3 is damaged due to the damage of the transparent electrode 3 in the process of forming the liquid crystal display panel 1.
【０００９】すなわち、従来の液晶表示パネル１のパネ
ル基板２においては、気体遮断性能と、電極断線防止性
能とを両立させることができないという問題点があっ
た。That is, the conventional panel substrate 2 of the liquid crystal display panel 1 has a problem that it is impossible to achieve both gas blocking performance and electrode disconnection prevention performance.
【００１０】本発明はこれらの点に鑑みてなされたもの
であり、気体遮断性能と、電極断線防止性能とを両立さ
せることのできる信頼性に優れたパネル基板および液晶
表示パネルを提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a highly reliable panel substrate and a liquid crystal display panel which can achieve both gas blocking performance and electrode disconnection prevention performance. Aim.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ため特許請求の範囲の請求項１に係る本発明のパネル基
板の特徴は、気体遮断層が、透明樹脂基板に隣位するＳ
ｉＯｘ（１＜ｘ＜２）からなる下地膜と、この下地膜に
積層されるＳｉＯ2 からなる気体遮断膜と、この気体遮
断膜に積層されるＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）からなる表層
膜とを有している点にある。そして、このような構成を
採用したことにより、下地膜は、透明樹脂基板と気体遮
断膜との密着性を容易に向上させることができる。さら
に、下地膜と表層膜とにより気体遮断膜に加わる応力を
緩和することができるため、下地膜と表層膜との間に挟
まれた気体遮断膜の耐屈曲性を向上させてクラックの発
生を防止することができ、安定した気体遮断性能を確実
に保持できる。また、表層膜は、パネル基板の最外層の
硬さを硬くできるため、液晶表示パネルを形成する際
に、表層膜に積層される透明電極への傷つきを防止する
ことができ、電極断線防止性能を確実に保持できる。し
たがって、気体遮断性能と、電極断線防止性能とを確実
かつ容易に両立させることができる。According to a first aspect of the present invention, there is provided a panel substrate according to the present invention, wherein a gas barrier layer is disposed adjacent to a transparent resin substrate.
a base film made of iOx (1 <x <2), a gas blocking film made of SiO 2 stacked on the base film, and a surface film made of SiOx (1 <x <2) stacked on the gas blocking film And that it has Then, by employing such a configuration, the base film can easily improve the adhesion between the transparent resin substrate and the gas barrier film. Further, since the stress applied to the gas barrier film can be reduced by the base film and the surface layer film, the gas barrier film sandwiched between the base film and the surface layer film is improved in bending resistance to reduce the occurrence of cracks. It is possible to prevent the gas flow and to reliably maintain stable gas shutoff performance. In addition, since the surface layer can harden the outermost layer of the panel substrate, it is possible to prevent the transparent electrodes laminated on the surface layer from being damaged when forming a liquid crystal display panel, and to prevent electrode disconnection. Can be reliably held. Therefore, the gas shutoff performance and the electrode disconnection prevention performance can both be reliably and easily achieved.
【００１２】また、請求項２に記載の本発明のパネル基
板の特徴は、請求項１において、下地膜および表層膜の
それぞれの膜厚が１０〜６０ｎｍであり、気体遮断膜の
膜厚が２０〜６０ｎｍである点にある。そして、このよ
うな構成を採用したことにより、気体遮断性能と電極断
線防止性能との両機能を保持するために必要な最も好ま
しい厚さを得ることができる。Further, the feature of the panel substrate according to the present invention described in claim 2 is that, in claim 1, the thickness of each of the base film and the surface film is 10 to 60 nm, and the thickness of the gas blocking film is 20 nm. ６０60 nm. By adopting such a configuration, it is possible to obtain the most preferable thickness necessary to maintain both functions of the gas blocking performance and the electrode disconnection prevention performance.
【００１３】また、請求項３に記載の本発明の液晶表示
パネルの特徴は、パネル基板が請求項１または請求項２
に記載のパネル基板である点にある。そして、このよう
な構成を採用したことにより、気体遮断性能と、電極断
線防止性能とを両立させることができるので、長期間に
亘り安定した機能を容易かつ確実に保持できる。According to a third aspect of the present invention, a liquid crystal display panel according to the present invention is characterized in that the panel substrate is the first or second aspect.
In the panel substrate described in (1). By adopting such a configuration, it is possible to achieve both gas shutoff performance and electrode disconnection prevention performance, so that a stable function can be easily and reliably maintained over a long period of time.
【００１４】また、請求項４に記載の本発明の液晶表示
パネルの特徴は、請求項３において、パネル基板の表面
にＳｉＯ2 からなる薄膜を介して透明電極が形成されて
いる点にある。そして、このような構成を採用したこと
により、透明電極の下層の硬さをより硬くすることがで
きるため、気体遮断性能と、電極断線防止性能とを両立
させた状態で電極断線防止性能の向上を容易に図ること
ができるので、長期間に亘り安定した機能をより容易か
つ確実に保持できる。A feature of the liquid crystal display panel according to the present invention is that a transparent electrode is formed on the surface of the panel substrate via a thin film made of SiO 2 . And, by adopting such a configuration, the hardness of the lower layer of the transparent electrode can be made harder, so that the electrode breaking prevention performance is improved in a state where both the gas blocking performance and the electrode breaking prevention performance are compatible. Therefore, stable functions can be more easily and reliably maintained for a long period of time.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示す実施形
態により説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to embodiments shown in the drawings.
【００１６】図１は本発明に係るパネル基板を用いた液
晶表示パネルの実施形態を示す構造図である。FIG. 1 is a structural view showing an embodiment of a liquid crystal display panel using a panel substrate according to the present invention.
【００１７】本実施形態の液晶表示パネルは、ＴＮ方式
またはＳＴＮ方式の液晶ディスプレイの表示部に用いる
ものである。The liquid crystal display panel of this embodiment is used for a display section of a TN type or STN type liquid crystal display.
【００１８】図１に示すように、本実施形態の液晶表示
パネル３１は、１対のパネル基板３２を有している。こ
れらのパネル基板３２は、厚さ０．４ｍｍ程度の透明な
樹脂により形成された１対の透明樹脂基板３３を有して
いる。この透明樹脂基板３３に用いる樹脂としては、ポ
リカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルスル
ホン、アクリル樹脂などから、透明性、平坦性、硬さ、
耐熱性、耐薬品性、光学的な等方性、仕様、設計コンセ
プトなどを考慮して選択して用いられるものであり、本
実施形態においてはポリカーボネートが用いられてい
る。As shown in FIG. 1, the liquid crystal display panel 31 of the present embodiment has a pair of panel substrates 32. These panel substrates 32 have a pair of transparent resin substrates 33 formed of a transparent resin having a thickness of about 0.4 mm. As the resin used for the transparent resin substrate 33, polycarbonate, polyacrylate, polyethersulfone, acrylic resin, etc. may be used to obtain transparency, flatness, hardness,
It is selected and used in consideration of heat resistance, chemical resistance, optical isotropy, specifications, design concept, and the like. In the present embodiment, polycarbonate is used.
【００１９】前記透明樹脂基板３３の両面には、透明樹
脂基板３３の硬さ（剛性）を補うとともに機械的な傷に
よる断線という問題を低減するためのアクリル系樹脂に
より形成された厚さ８μｍ程度のハードコート層３４が
配設されている。なお、ハードコート層３４は、透明樹
脂基板３３の硬さや設計コンセプトなどの必要に応じて
設ければよい。また、ハードコート層３４の配設位置
は、透明樹脂基板３３の相互に対向する内側表面、すな
わち、各透明樹脂基板３３の後述する液晶３５と対向す
る内面にのみ形成する構成としてもよい。さらに、ハー
ドコート層３４としては、有機−無機複合材料を用いて
もよい。On both surfaces of the transparent resin substrate 33, a thickness of about 8 μm formed of an acrylic resin for compensating for the hardness (rigidity) of the transparent resin substrate 33 and reducing the problem of disconnection due to mechanical damage. Is provided. It should be noted that the hard coat layer 34 may be provided as required according to the hardness of the transparent resin substrate 33, the design concept, and the like. The hard coat layer 34 may be provided only on the inner surface of the transparent resin substrate 33 facing each other, that is, on the inner surface of each transparent resin substrate 33 facing the liquid crystal 35 described later. Further, as the hard coat layer 34, an organic-inorganic composite material may be used.
【００２０】前記各透明樹脂基板３３の液晶３５と対向
する側に位置する内面と、液晶３５と反対側の外側に位
置する外面との両面には、気体、水分を遮断するための
気体遮断層３６がそれぞれ形成されている。この気体遮
断層３６は、各透明樹脂基板３３の一面にのみ設ける構
成としてもよいが、気体遮断効果が２乗になることに加
えて、透明樹脂基板３３が大気中の気体や水分を吸収し
て透明樹脂基板３３の気体溶存量や含水率が増加するの
を防止できることや、透明樹脂基板３３そのものに溶解
している気体や水分が液晶層にしみ出すのを防止できる
という意味で両面に設けることが好ましい。特に、パネ
ル基板３２の外側に、後述する偏光板４１を貼り付ける
と、偏光板４１の偏光子がポリビニルアルコールという
酸素透過率の極めて低い材料であるために、透明樹脂基
板３３に溶解した酸素は、液晶３５側にしみ出し易くな
る。このような現象を防止するためには、透明樹脂基板
３３の偏光板４１と接する側にも気体遮断層３６が必要
となる。よって、気体遮断層３６を各透明樹脂基板３３
の表裏両面に設けることが好ましい。A gas blocking layer for blocking gas and moisture is provided on both the inner surface of each of the transparent resin substrates 33 facing the liquid crystal 35 and the outer surface of the transparent resin substrate 33 facing the outside of the liquid crystal 35. 36 are formed respectively. The gas blocking layer 36 may be provided only on one surface of each transparent resin substrate 33. However, in addition to the gas blocking effect being squared, the transparent resin substrate 33 absorbs gas and moisture in the atmosphere. It is provided on both surfaces in the sense that the dissolved gas amount and the water content of the transparent resin substrate 33 can be prevented from increasing, and the gas and moisture dissolved in the transparent resin substrate 33 itself can be prevented from seeping into the liquid crystal layer. Is preferred. In particular, when a polarizing plate 41 described later is attached to the outside of the panel substrate 32, oxygen dissolved in the transparent resin substrate 33 is reduced because the polarizer of the polarizing plate 41 is polyvinyl alcohol, a material having an extremely low oxygen transmittance. , It is easy to seep out to the liquid crystal 35 side. In order to prevent such a phenomenon, the gas blocking layer 36 is required also on the side of the transparent resin substrate 33 that contacts the polarizing plate 41. Therefore, the gas blocking layer 36 is
Is preferably provided on both the front and back surfaces.
【００２１】本実施形態における気体遮断層３６は、透
明樹脂基板３３側から順にＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）から
なる下地膜３６ａと、ＳｉＯ2 からなる気体遮断膜３６
ｂと、ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）からなる表層膜３６ｃと
を積層した３層に形成されている。すなわち、気体遮断
層３６は、透明樹脂基板３３に隣位するＳｉＯｘ（１＜
ｘ＜２）からなる下地膜３６ａと、この下地膜３６ａに
積層されるＳｉＯ2 からなる気体遮断膜３６ｂと、この
気体遮断膜３６ｂに積層されるＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）
からなる表層膜３６ｃとを有している。この気体遮断層
３６は、ＥＢ蒸着法、スパッタ法などを用いて形成され
ている。In the present embodiment, the gas blocking layer 36 is composed of a base film 36a made of SiOx (1 <x <2) and a gas blocking film 36 made of SiO 2 in this order from the transparent resin substrate 33 side.
b and a surface layer film 36c made of SiOx (1 <x <2). That is, the gas blocking layer 36 is formed of SiOx (1 <
x <2), a gas barrier film 36b made of SiO 2 laminated on the underlying film 36a, and SiOx (1 <x <2) laminated on the gas barrier film 36b
And a surface layer film 36c composed of The gas blocking layer 36 is formed by using an EB evaporation method, a sputtering method, or the like.
【００２２】そして、ＳｉＯｘにより形成された下地膜
３６ａが有機材料、詳しくは、透明樹脂基板３３または
ハードコート層３４と気体遮断層３６の密着性を保持・
向上する機能と応力緩和機能を分担し、気体遮断膜３６
ｂが透明樹脂基板３３から液晶３５へ向かって移行する
気体や水分を遮断する機能を分担し、表層膜３６ｃが応
力緩和機能と気体遮断層３６に積層される透明電極３７
への傷つきを防止する電極断線防止機能を分担してい
る。The base film 36a made of SiOx is an organic material, more specifically, the adhesion between the transparent resin substrate 33 or the hard coat layer 34 and the gas blocking layer 36 is maintained.
The gas blocking film 36 shares the function of improving and the function of relaxing stress.
b has a function of blocking gas and moisture migrating from the transparent resin substrate 33 toward the liquid crystal 35, and the surface layer 36 c has a stress relaxation function and a transparent electrode 37 laminated on the gas blocking layer 36.
It is responsible for the function of preventing electrode breakage to prevent damage to the electrodes.
【００２３】前記下地膜３６ａおよび表層膜３６ｃのＳ
ｉＯｘ（１＜ｘ＜２）は、ＳｉＯそのものでは水への溶
解性があるので、ＳｉＯとＳｉＯ2 との中間的な状態が
好ましく、ｘの値を１．１〜１．８程度のものとするこ
とが、有機材料および気体遮断膜３６ｂの両者との密着
性、および、水への溶解性のバランスを適正な状態に保
持できること、ならびに、応力緩和機能を得るうえで最
も好ましい。この下地膜３６ａおよび表層膜３６ｃは、
ＳｉＯを蒸着原料とし、酸素濃度を調整することにより
ｘの値を制御することができる。また、下地膜３６ａお
よび表層膜３６ｃの膜厚としては、１０〜６０ｎｍ程度
が用いられるが、好ましくは２０〜５０ｎｍ程度であ
る。この範囲より薄くなると、下地膜３６ａにおいては
有機素材により形成された透明樹脂基板３３またはハー
ドコート層３４との密着性が低下して剥離しやすくなる
とともに、下地膜３６ａおよび表層膜３６ｃの両者とも
に応力緩和機能が低下する傾向があり、一方厚くなると
下地膜３６ａおよび表層膜３６ｃの両者ともにクラック
が発生しやすくなる傾向がある。なお、表層膜３６ｃと
してのＳｉＯｘのｘの値は、水への溶解性を考慮して、
ＳｉＯ2 に近い値、例えばｘを１．５〜１．８程度のも
のとすることがより好ましい。The S of the base film 36a and the surface film 36c
iOx (1 <x <2) is preferably in an intermediate state between SiO and SiO 2 because SiO itself has solubility in water, and the value of x is preferably about 1.1 to 1.8. It is most preferable to maintain the balance between the adhesion to both the organic material and the gas barrier film 36b and the solubility in water in an appropriate state, and to obtain a stress relaxation function. The base film 36a and the surface film 36c are
The value of x can be controlled by using SiO as a deposition material and adjusting the oxygen concentration. The film thickness of the base film 36a and the surface layer film 36c is about 10 to 60 nm, preferably about 20 to 50 nm. When the thickness is smaller than this range, the adhesion of the undercoat film 36a to the transparent resin substrate 33 or the hard coat layer 34 formed of an organic material is reduced and the undercoat film 36a is easily peeled off, and both the undercoat film 36a and the surface layer film 36c are removed. The stress relieving function tends to decrease. On the other hand, when the thickness increases, cracks tend to occur in both the base film 36a and the surface film 36c. The value of x of SiOx as the surface film 36c is determined in consideration of solubility in water.
It is more preferable to set a value close to SiO 2 , for example, x to about 1.5 to 1.8.
【００２４】前記気体遮断膜３６ｂは、石英粉末、ペレ
ットを蒸着原料として形成されている。この気体遮断膜
３６ｂのＳｉＯ2 の膜厚としては、２０〜６０ｎｍ程度
が用いられるが、好ましくは３０〜５０ｎｍ程度であ
る。この範囲より薄くなると透明樹脂基板３３から液晶
３５へ移行する気体や水分を遮断する機能が低下する傾
向があり、一方厚くなるとクラックが発生しやすくなる
傾向がある。The gas barrier film 36b is formed by using quartz powder and pellets as vapor deposition materials. The SiO 2 film thickness of the gas barrier film 36b is about 20 to 60 nm, preferably about 30 to 50 nm. If the thickness is smaller than this range, the function of blocking gas or moisture migrating from the transparent resin substrate 33 to the liquid crystal 35 tends to decrease, while if it is thicker, cracks tend to occur.
【００２５】なお、前記気体遮断層３６の構成として
は、図２に示すように、気体遮断膜３６ｂを複数とし、
これらの気体遮断膜３６ｂの間にＳｉＯｘ（１＜ｘ＜
２）からなる中間膜３６ｄを設けた構成としてもよい。
このような構成とすることにより、複数の気体遮断膜３
６ｂを下地膜３６ａと表層膜３６ｃとの間に中間膜３６
ｄを介して配設することができるので、気体遮断性能と
電極断線防止性能との両機能を保持した状態で、気体遮
断性能の向上を容易に図ることができる。なお、中間膜
３６ｄの膜厚としては、前記下地膜３６ａおよび表層膜
３６ｃと同様に、１０〜６０ｎｍ程度が用いられるが、
好ましくは２０〜５０ｎｍ程度である。この範囲より薄
くなると、応力緩和機能が低下する傾向があり、一方厚
くなると割れやすくなる傾向がある。As shown in FIG. 2, the gas barrier layer 36 has a plurality of gas barrier films 36b.
SiOx (1 <x <) between these gas barrier films 36b.
A configuration in which the intermediate film 36d of 2) is provided may be adopted.
With such a configuration, the plurality of gas barrier films 3
6b is an intermediate film 36 between the underlayer 36a and the surface layer 36c.
Since it is possible to dispose them via d, it is possible to easily improve the gas blocking performance while maintaining both the gas blocking performance and the electrode disconnection preventing performance. The thickness of the intermediate film 36d is about 10 to 60 nm as in the case of the base film 36a and the surface film 36c.
Preferably it is about 20 to 50 nm. When the thickness is smaller than this range, the stress relaxation function tends to be reduced, while when it is thicker, it tends to be easily broken.
【００２６】図１に戻って、前記気体遮断層３６が形成
された両面のうちの透明樹脂基板３３が液晶３５と対向
する内面には、透明電極３７が積層形成されている。こ
の透明電極３７は、気体遮断層３６の表面に、スパッタ
法などにより酸化インジウムを厚さ４０ｎｍに成膜し、
その後所定のパターンにパターニングすることにより形
成されている。なお、透明電極３７の形成方法として
は、緻密でかつ導電率の高い膜が得られればその方法は
問わない。また、透明電極３７の素材としては、酸化イ
ンジウムが一般的である。さらに、透明電極３７を気体
遮断層３６の表面に直接形成することは、気体遮断層３
６の最外層に位置する表層膜３６ｃのＳｉＯｘが不完全
な酸化膜の状態にあり、接触する酸化インジウムの導電
率を低下させたり、酸化インジウムの酸化状態を変えて
しまうので好ましくない。Returning to FIG. 1, a transparent electrode 37 is formed on the inner surface of the both surfaces on which the gas barrier layer 36 is formed, where the transparent resin substrate 33 faces the liquid crystal 35. The transparent electrode 37 is formed by depositing indium oxide to a thickness of 40 nm on the surface of the gas blocking layer 36 by a sputtering method or the like.
Thereafter, it is formed by patterning into a predetermined pattern. The method for forming the transparent electrode 37 is not limited as long as a dense and high-conductivity film can be obtained. As a material of the transparent electrode 37, indium oxide is generally used. In addition, forming the transparent electrode 37 directly on the surface of the gas blocking layer 36 requires the gas blocking layer 3.
The SiOx of the surface film 36c located at the outermost layer of No. 6 is in an incomplete oxide film state, which undesirably lowers the conductivity of the indium oxide contacting or changes the oxidation state of the indium oxide.
【００２７】そこで、本実施形態においては、透明電極
３７を形成する前に、気体遮断層３６の表面に厚さ５〜
３０ｎｍ程度、特に好ましくは５〜１０ｎｍ程度のＳｉ
Ｏ2により形成された薄膜３８を形成しておくことが、
透明電極３７の下層の硬さをより硬くすることができる
ため、気体遮断性能と、電極断線防止性能とを両立させ
た状態で電極断線防止性能の向上を容易に図ることがで
きるとともに、密着性および透明電極３６の電極抵抗を
安定化させるうえで好ましい。したがって、本実施形態
においては、気体遮断層３６の表面に厚さ１０ｎｍのＳ
ｉＯ2 からなる薄膜３８を形成した構成となっており、
長期間に亘り安定した機能をより容易かつ確実に保持で
きるようにされている。Therefore, in the present embodiment, before forming the transparent electrode 37, the surface of the gas blocking layer 36 has a thickness of 5 to 5 mm.
Si of about 30 nm, particularly preferably about 5 to 10 nm
Forming a thin film 38 made of O 2
Since the hardness of the lower layer of the transparent electrode 37 can be made harder, it is possible to easily improve the electrode disconnection prevention performance in a state where the gas blocking performance and the electrode disconnection prevention performance are compatible, and the adhesion is improved. In addition, this is preferable for stabilizing the electrode resistance of the transparent electrode 36. Therefore, in the present embodiment, a 10 nm thick S
a thin film 38 made of iO 2 is formed,
A stable function can be maintained more easily and reliably over a long period of time.
【００２８】前記透明電極３７の表面には、配向膜３９
が積層形成されている。この配向膜３９は、透明電極３
７の表面に、印刷法などで溶剤揮散型ポリイミド樹脂を
厚さ４０ｎｍに成膜しその後乾燥させることにより形成
されている。この溶剤揮散型ポリイミド樹脂は、予め重
合したポリイミド樹脂を溶剤に溶解させたものである。An alignment film 39 is provided on the surface of the transparent electrode 37.
Are laminated. The alignment film 39 is formed on the transparent electrode 3
On the surface of No. 7, a solvent-evaporating polyimide resin is formed to a thickness of 40 nm by a printing method or the like and then dried. This solvent-evaporating polyimide resin is obtained by dissolving a polyimide resin that has been polymerized in advance in a solvent.
【００２９】前記配向膜３９は、乾燥後、布を巻いたロ
ーラなどで一方向にこすることにより、液晶３５が所定
のねじれ構造となるような配向処理が施されている。After the orientation film 39 is dried, it is rubbed in one direction by a roller wrapped with a cloth or the like, so that an orientation process is performed so that the liquid crystal 35 has a predetermined twisted structure.
【００３０】また、配向膜３９の乾燥は、透明樹脂基板
３３を形成する透明樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）より
２０〜３０℃低い温度で行うことが透明樹脂基板３３に
変形を生じさせないうえで好ましい。本実施形態におい
ては、透明樹脂基板２３がポリカーボネートを素材とし
ており、ポリカーボネートのガラス転移温度（Ｔｇ）は
１５０℃程度なので、１２０℃程度の温度で乾燥が行わ
れる。The drying of the alignment film 39 is preferably performed at a temperature 20 to 30 ° C. lower than the glass transition temperature (Tg) of the transparent resin forming the transparent resin substrate 33 so that the transparent resin substrate 33 is not deformed. preferable. In the present embodiment, the transparent resin substrate 23 is made of polycarbonate, and the glass transition temperature (Tg) of the polycarbonate is about 150 ° C., so that the drying is performed at a temperature of about 120 ° C.
【００３１】このような配向処理が施された２枚のパネ
ル基板３２は、相互間の間隔がスペーサによって数μｍ
程度に保持されている。また、２枚のパネル基板３２
は、接着材を兼ねたシール材４０によって貼り合わされ
ており、貼り合わせの際に、予め設けられた注入口から
液晶３５が注入され、その後注入口を封止することで、
２枚のパネル基板３２の間に液晶３５が密封されてい
る。The distance between the two panel substrates 32 having been subjected to such an alignment process is several μm by a spacer.
Is held to a degree. Also, two panel substrates 32
Are bonded by a sealing material 40 also serving as an adhesive, and at the time of bonding, the liquid crystal 35 is injected from an injection port provided in advance, and then the injection port is sealed.
A liquid crystal 35 is sealed between the two panel substrates 32.
【００３２】そして、２枚のパネル基板３２の透明電極
３７の形成面と反対側の面には偏光板４１がそれぞれ貼
着されている。A polarizing plate 41 is attached to each of the two panel substrates 32 on the surface opposite to the surface on which the transparent electrode 37 is formed.
【００３３】つぎに、前述した構成からなる本実施形態
の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment having the above-described configuration will be described.
【００３４】本実施形態のパネル基板３２を用いた液晶
表示パネル３１によれば、下膜層３６ａは、透明樹脂基
板３３と気体遮断膜３６ｂとの密着性を容易に向上させ
ることができる。さらに、下地膜３６ａと表層膜３６ｃ
とにより気体遮断膜３６ｂに加わる応力を緩和すること
ができるため、下地膜３６ａと表層膜３６ｃとの間に挟
まれた気体遮断膜３６ｂの耐屈曲性を向上させてクラッ
クの発生を防止することができ、安定した気体遮断性能
を確実に保持できる。また、表層膜３６ｃは、パネル基
板３２の最外層の硬さを硬くできるため、液晶表示パネ
ル３１を形成する際に、表層膜３６ｃに積層される透明
電極３７への傷つきを防止することができ、電極断線防
止性能を確実に保持できる。According to the liquid crystal display panel 31 using the panel substrate 32 of the present embodiment, the lower film layer 36a can easily improve the adhesion between the transparent resin substrate 33 and the gas blocking film 36b. Furthermore, the base film 36a and the surface film 36c
Thus, the stress applied to the gas blocking film 36b can be reduced, so that the bending resistance of the gas blocking film 36b sandwiched between the base film 36a and the surface film 36c is improved to prevent the occurrence of cracks. And stable gas shutoff performance can be reliably maintained. Further, since the surface layer film 36c can harden the outermost layer of the panel substrate 32, it is possible to prevent the transparent electrode 37 laminated on the surface layer film 36c from being damaged when the liquid crystal display panel 31 is formed. In addition, the electrode disconnection prevention performance can be reliably maintained.
【００３５】したがって、本実施形態の液晶表示パネル
３１によれば、気体遮断性能と、電極断線防止性能とを
確実かつ容易に両立させることができるので、長期間に
亘り安定した機能を容易かつ確実に保持できる。Therefore, according to the liquid crystal display panel 31 of the present embodiment, the gas shutoff performance and the electrode disconnection prevention performance can be both reliably and easily achieved, so that a stable function for a long period can be easily and reliably achieved. Can be held.
【００３６】つぎに、本発明の実施例について以下に示
すが、本発明はこれに限定されるものではない。Next, examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.
【００３７】実施例１ ポリカーボネートを素材とした厚さ０．４ｍｍの透明樹
脂基板３３の表面を、アクリル系のハードコート層３４
で両面を被覆し、ハードコート層３４の表面を、ＥＢ蒸
着法でＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）からなる膜厚２０ｎｍの
下地膜３６ａと、ＳｉＯ2 からなる膜厚４０ｎｍの気体
遮断膜３６ｂと、ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）からなる膜厚
４０ｎｍの表層膜３６ｃとをこの順に積層した３層の気
体遮断層３６を両面に形成してパネル基板３２を完成し
た。Example 1 A surface of a transparent resin substrate 33 made of polycarbonate and having a thickness of 0.4 mm was coated with an acrylic hard coat layer 34.
In covering the both surfaces, the surface of the hard coat layer 34, and the base film 36a of the film thickness 20nm made of SiOx (1 <x <2) the EB vapor deposition method, a gas barrier film 36b having a film thickness of 40nm of SiO 2 And a surface layer 36c of 40 nm in thickness formed of SiOx (1 <x <2) and a gas barrier layer 36 of three layers formed in this order on both surfaces to complete the panel substrate 32.
【００３８】比較例１ 実施例１との比較のため、実施例１の気体遮断層３６の
構成を膜厚２０ｎｍの下地膜３６ａと、膜厚８０ｎｍの
気体遮断膜３６ｂとの２層構造とした。Comparative Example 1 For comparison with Example 1, the structure of the gas blocking layer 36 of Example 1 was a two-layer structure of a base film 36a having a thickness of 20 nm and a gas blocking film 36b having a thickness of 80 nm. .
【００３９】比較例２ 実施例１との比較のため、実施例１の気体遮断層３６の
構成を膜厚４０ｎｍの下地膜３６ａと、膜厚８０ｎｍの
気体遮断膜３６ｂとの２層構造とした。Comparative Example 2 For comparison with Example 1, the structure of the gas blocking layer 36 of Example 1 was a two-layer structure of a base film 36a having a thickness of 40 nm and a gas blocking film 36b having a thickness of 80 nm. .
【００４０】比較例３ 実施例１との比較のため、実施例１の気体遮断層３６の
構成を膜厚８０ｎｍの下地膜３６ａと、膜厚８０ｎｍの
気体遮断膜３６ｂとの２層構造とした。Comparative Example 3 For comparison with Example 1, the structure of the gas blocking layer 36 of Example 1 was a two-layer structure of a base film 36a having a thickness of 80 nm and a gas blocking film 36b having a thickness of 80 nm. .
【００４１】比較例４ 実施例１との比較のため、実施例１の気体遮断層３６の
構成を膜厚２０ｎｍの下地膜３６ａと、膜厚８０ｎｍの
気体遮断膜３６ｂと、膜厚４０ｎｍの表層膜３６ｃとの
３層構造とした。Comparative Example 4 For comparison with Example 1, the structure of the gas blocking layer 36 of Example 1 was changed to a base film 36a having a thickness of 20 nm, a gas blocking film 36b having a thickness of 80 nm, and a surface layer having a thickness of 40 nm. It has a three-layer structure with the film 36c.
【００４２】つぎに、実施例１および比較例１から比較
例４のそれぞれのパネル基板３２について、差圧法を用
いて、パネル基板３２の酸素透過率を評価した。なお、
酸素透過率は、単位分圧差で単位時間に単位面積のパネ
ル基板３２を通過する酸素の体積を示す。また、差圧法
とは、パネル基板３２によって隔てられた一方（低圧
側）を真空に保持し、他方（高圧側）に試験気体たる酸
素を導入し、低圧側の圧力の増加によって気体透過率を
測定する方法である。Next, for each of the panel substrates 32 of Example 1 and Comparative Examples 1 to 4, the oxygen permeability of the panel substrate 32 was evaluated by a differential pressure method. In addition,
The oxygen permeability indicates the volume of oxygen passing through the panel substrate 32 having a unit area per unit time at a unit partial pressure difference. Further, the differential pressure method means that one side (low pressure side) separated by the panel substrate 32 is kept in a vacuum, and oxygen (test gas) is introduced into the other side (high pressure side), and gas permeability is increased by increasing pressure on the low pressure side. It is a method of measuring.
【００４３】前記実施例１および比較例１から比較例４
の気体遮断層３６の構成と、それぞれの膜厚と、酸素透
過率の評価結果とを併せて表１に示す。Example 1 and Comparative Examples 1 to 4
Table 1 also shows the configuration of the gas barrier layer 36, the respective film thicknesses, and the evaluation results of the oxygen permeability.
【００４４】[0044]
【表１】 [Table 1]
【００４５】表１に示すように、実施例１および比較例
４に示す３層構造の気体遮断層３６とした場合には、比
較例１から比較例３に示す２層構造の気体遮断層３６に
比較して酸素透過率をほぼ１／１１程度低下できること
が判明した。As shown in Table 1, when the three-layer gas barrier layer 36 shown in Example 1 and Comparative Example 4 was used, the two-layer gas barrier layer 36 shown in Comparative Examples 1 to 3 was used. It has been found that the oxygen permeability can be reduced by about 1/11 as compared with.
【００４６】すなわち、気体遮断層３６の構成を、下地
膜３６ａと、気体遮断膜３６ｂと、表層膜３６ｃの３層
構造とすることで、酸素透過率が低下する。That is, when the gas barrier layer 36 has a three-layer structure of the base film 36a, the gas barrier film 36b, and the surface film 36c, the oxygen permeability decreases.
【００４７】また、比較例１から比較例３に示すよう
に、２層構造の気体遮断層３６とした場合には、下地膜
３６ａの膜厚にかかわらず酸素透過率は一定である。As shown in Comparative Examples 1 to 3, when the gas barrier layer 36 has a two-layer structure, the oxygen permeability is constant regardless of the thickness of the base film 36a.
【００４８】つぎに、実施例１および比較例１から比較
例４のそれぞれのパネル基板３２について、片面のみ
に、ＳｉＯ2 からなる膜厚１０ｎｍの薄膜３８を形成
し、この薄膜３８の表面に、酸化インジウムからなる膜
厚３０ｎｍの透明電極３７を形成し、その後、透明電極
３７を１００μｍ幅の短冊状にパターニングしたうえ
で、直径の異なる円筒形状のパイプに、透明電極の長手
方向をパイプの円周に沿うようにして１／２周巻き付
け、巻き付ける前後の透明電極３７の抵抗値の変化と透
明電極３７の顕微鏡観察による外観状態の両面から、透
明電極３７にクラックが発生した時点でのクラック発生
曲げ半径を得ることにより、透明電極３７の傷つきによ
る断線の発生を防止する電極断線防止性能の判断基準と
なる耐屈曲性を評価した。なお、パイプへの巻き付け
は、透明電極３７が外側になるようにした。Next, with respect to each of the panel substrates 32 of Example 1 and Comparative Examples 1 to 4, a thin film 38 of 10 nm in thickness made of SiO 2 was formed only on one side, and A transparent electrode 37 made of indium oxide and having a thickness of 30 nm is formed, and then the transparent electrode 37 is patterned into a strip having a width of 100 μm. A crack is generated at the time when a crack occurs in the transparent electrode 37 from both sides of a change in the resistance value of the transparent electrode 37 before and after winding and a change in the appearance of the transparent electrode 37 by microscopic observation. By obtaining the bending radius, the bending resistance, which is a criterion for electrode disconnection prevention performance for preventing the occurrence of disconnection due to damage to the transparent electrode 37, was evaluated. The winding around the pipe was such that the transparent electrode 37 was on the outside.
【００４９】前記実施例１および比較例１から比較例４
の気体遮断層３６の構成と、それぞれの膜厚と、耐屈曲
性の評価結果とを併せて表２に示す。Example 1 and Comparative Examples 1 to 4
Table 2 also shows the configuration of the gas barrier layer 36, the respective film thicknesses, and the evaluation results of the bending resistance.
【００５０】[0050]
【表２】 [Table 2]
【００５１】表２に示すように、耐屈曲性を向上させる
には、実施例１の如く、気体遮断膜３６ｂの膜厚を薄く
する必要がある。As shown in Table 2, in order to improve the bending resistance, it is necessary to reduce the thickness of the gas barrier film 36b as in the first embodiment.
【００５２】したがって、酸素透過率については実施例
１と同等であった比較例４は、耐屈曲性において実施例
１に劣るので、比較例４は、気体遮断性能と、電極断線
防止性能とを両立させることができないことが判明し
た。Therefore, Comparative Example 4, which had the same oxygen permeability as that of Example 1, was inferior to Example 1 in terms of flexing resistance. It turned out that they could not be compatible.
【００５３】つぎに、実施例１および比較例１から比較
例４のそれぞれのパネル基板３２の表面の片面のみに、
ＳｉＯ2 からなる膜厚１０ｎｍの薄膜３８を形成し、こ
の薄膜３８の表面に、酸化インジウムからなる膜厚３０
ｎｍの透明電極３７を形成し、その後、配向膜３９を形
成してから液晶表示パネル３１を完成させたうえで、液
晶表示パネル３１を完成させた際の不具合発生率である
傷断線発生率とクラック発生率とを評価した。Next, only one of the surfaces of the panel substrate 32 of Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 was
A thin film 38 made of SiO 2 having a thickness of 10 nm is formed, and a thin film 30 made of indium oxide is formed on the surface of the thin film 38.
After forming the transparent electrode 37 of nm, and then forming the alignment film 39, the liquid crystal display panel 31 is completed. The crack occurrence rate was evaluated.
【００５４】一方の傷断線発生率は、気体遮断層３６の
最外層である表層膜３６ｃの硬さを反映する。On the other hand, the damage line breakage occurrence ratio reflects the hardness of the outermost layer 36 c of the gas blocking layer 36.
【００５５】他方のクラック発生率は、２枚のパネル基
板３２をシール材４０によって貼り合わして圧着した後
のパネル基板３２を分割するために切断した際に、シー
ル材４０に対して平行に生じるクラックの発生率であ
り、耐屈曲性に優れるほどクラックの発生は少ない。The other crack generation rate occurs in parallel with the seal member 40 when the two panel substrates 32 are cut to divide the panel substrate 32 after being bonded and pressed by the seal member 40. This is the rate of occurrence of cracks, and the more excellent the bending resistance, the less the occurrence of cracks.
【００５６】前記実施例１および比較例１から比較例４
の気体遮断層３６の構成と、それぞれの膜厚と、傷断線
発生率およびクラック発生率の評価結果とを併せて表３
に示す。Example 1 and Comparative Examples 1 to 4
Table 3 shows the configuration of the gas barrier layer 36, the thickness of each gas barrier layer 36, and the evaluation results of the rate of occurrence of damage and breakage and the rate of occurrence of cracks.
Shown in
【００５７】[0057]
【表３】 [Table 3]
【００５８】表３に示すように、実施例１は、比較例１
から比較例４に比較して傷断線発生率およびクラック発
生率を低下できることが判明した。As shown in Table 3, Example 1 was a comparative example.
As a result, it was found that the rate of occurrence of breakage and breakage and the rate of occurrence of cracks can be reduced as compared with Comparative Example 4.
【００５９】つぎに、実施例１および比較例１のそれぞ
れのパネル基板３２の表面の片面のみに、ＳｉＯ2 から
なる膜厚１０ｎｍの薄膜３８を形成し、この薄膜３８の
表面に、酸化インジウムからなる膜厚３０ｎｍの透明電
極３７を形成し、その後、配向膜３９を形成してから液
晶表示パネル３１を完成させたうえで、液晶表示パネル
３１の信頼性を評価した。なお、信頼性評価は、温湿度
サイクル試験と、パチンコ玉押し圧試験とを行った。Next, a thin film 38 of SiO 2 having a thickness of 10 nm was formed on only one surface of the surface of each of the panel substrates 32 of Example 1 and Comparative Example 1, and the surface of the thin film 38 was formed of indium oxide. After forming the transparent electrode 37 having a thickness of 30 nm, and then forming the alignment film 39, the liquid crystal display panel 31 was completed, and the reliability of the liquid crystal display panel 31 was evaluated. In addition, reliability evaluation performed the temperature-humidity cycle test and the pachinko ball pressing pressure test.
【００６０】一方の温湿度サイクル試験は、摂氏−４０
度で１６時間保持、摂氏６０度・湿度９０％で１６時間
保持、摂氏７０度で１６時間保持を１サイクルとし、液
晶３５中に気泡が生じる発泡の有無、あるいは発砲の発
生を総サイクル数により判定し、液晶表示パネル３１の
信頼性を評価する。On the other hand, the temperature / humidity cycle test was performed at -40 degrees Celsius.
One cycle of holding at 16 degrees Celsius, 16 hours at 60 degrees Celsius and 90% humidity, and 16 hours at 70 degrees Celsius, the presence or absence of foaming in the liquid crystal 35, or the occurrence of firing according to the total number of cycles Then, the reliability of the liquid crystal display panel 31 is evaluated.
【００６１】他方のパチンコ玉押し圧試験は、空気雰囲
気で０．２９ＭＰａ加圧下に一定時間、例えば１５００
時間、液晶表示パネル３１を放置後、パチンコ玉を介し
て０．２４ＭＰａの荷重を数秒間、例えば３秒間付与
し、荷重を除去した後に液晶３５中に気泡が生じる発泡
の有無を評価する。パネル基板３２の気体透過率が大き
いと短時間の放置で発泡する。厳密には、パネル基板３
２とシール材４０との接合部の周辺からも気体は通過す
るが、ここでは、シール状態は、実施例１および比較例
１ともに同一と仮定し、気体遮断層３６の気体遮断性能
の差異を比較した。The other pachinko ball pressing test is performed under a pressure of 0.29 MPa in an air atmosphere for a certain period of time, for example, 1500 hours.
After leaving the liquid crystal display panel 31 for a period of time, a load of 0.24 MPa is applied through a pachinko ball for several seconds, for example, three seconds, and after removing the load, the presence or absence of foaming that generates bubbles in the liquid crystal 35 is evaluated. If the gas permeability of the panel substrate 32 is large, it foams in a short time. Strictly speaking, the panel substrate 3
The gas also passes from the periphery of the joint between the sealing material 40 and the sealing material 40. Here, it is assumed that the sealing state is the same in both Example 1 and Comparative Example 1, and the difference in the gas blocking performance of the gas blocking layer 36 is determined. Compared.
【００６２】実施例１および比較例１の気体遮断層３６
の構成と、それぞれの膜厚と、信頼性評価結果とを併せ
て表４に示す。Gas blocking layer 36 of Example 1 and Comparative Example 1
Table 4 shows the configuration, the respective film thicknesses, and the results of the reliability evaluation.
【００６３】[0063]
【表４】 [Table 4]
【００６４】表４に示すように、温湿度サイクル試験に
おいては、実施例１は２９サイクル終了後でも発泡が未
発生であるのに対して、比較例１は１２サイクルで発泡
が発生した。また、パチンコ玉押し圧試験においては、
実施例１は１７５０時間放置後で発泡が発生したのに対
して、比較例１は１５００時間放置後で発泡が発生し
た。したがって、実施例１は、比較例１に対して優れた
信頼性を有していることが判明した。As shown in Table 4, in the temperature / humidity cycle test, no foaming occurred in Example 1 even after the completion of 29 cycles, whereas in Comparative Example 1, foaming occurred in 12 cycles. In the pachinko ball pressing test,
In Example 1, foaming occurred after leaving for 1750 hours, whereas in Comparative Example 1, foaming occurred after leaving for 1500 hours. Therefore, it was found that Example 1 had better reliability than Comparative Example 1.
【００６５】したがって、本実施形態のパネル基板３２
によれば、気体遮断性能と電極断線防止性能との両機能
を保持した状態で、気体遮断性能の向上を容易に図るこ
とができる。Therefore, the panel substrate 32 of the present embodiment
According to this, it is possible to easily improve the gas shutoff performance while maintaining both the gas shutoff performance and the electrode disconnection prevention performance.
【００６６】また、本実施形態の液晶表示パネル３１に
よれば、気体遮断性能と、電極断線防止性能とを両立さ
せることができるので、長期間に亘り安定した機能を容
易かつ確実に保持できる。Further, according to the liquid crystal display panel 31 of the present embodiment, since both the gas blocking performance and the electrode disconnection preventing performance can be achieved, a stable function can be easily and reliably maintained for a long period of time.
【００６７】なお、本発明は、前記実施形態に限定され
るものではなく、必要に応じて種々変更することができ
る。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously modified as needed.
【００６８】[0068]
【発明の効果】以上説明したように請求項１に係る本発
明のパネル基板によれば、下地膜は、透明樹脂基板と気
体遮断膜との密着性を容易に向上させることができる。
さらに、下地膜と表層膜とにより気体遮断膜に加わる応
力を緩和することができるため、下地膜と表層膜との間
に挟まれた気体遮断膜の耐屈曲性を向上させてクラック
の発生を防止することができ、安定した気体遮断性能を
確実に保持できる。また、表層膜は、パネル基板の最外
層の硬さを硬くできるため、液晶表示パネルを形成する
際に、表層膜に積層される透明電極への傷つきを防止す
ることができ、電極断線防止性能を確実に保持できる。
したがって、気体遮断性能と、電極断線防止性能とを確
実かつ容易に両立させることができるなどの極めて優れ
た効果を奏する。As described above, according to the panel substrate of the first aspect of the present invention, the underlying film can easily improve the adhesion between the transparent resin substrate and the gas barrier film.
Further, since the stress applied to the gas barrier film can be reduced by the base film and the surface layer film, the gas barrier film sandwiched between the base film and the surface layer film is improved in bending resistance to reduce the occurrence of cracks. It is possible to prevent the gas flow and to reliably maintain stable gas shutoff performance. In addition, since the surface layer can harden the outermost layer of the panel substrate, it is possible to prevent the transparent electrodes laminated on the surface layer from being damaged when forming a liquid crystal display panel, and to prevent electrode disconnection. Can be reliably held.
Therefore, there is an extremely excellent effect that the gas shutoff performance and the electrode disconnection prevention performance can be both reliably and easily achieved.
【００６９】また、請求項２に係る本発明のパネル基板
によれば、気体遮断性能と電極断線防止性能との両機能
を保持するために必要な最も好ましい厚さを得ることが
できるなどの極めて優れた効果を奏する。According to the panel substrate of the second aspect of the present invention, it is possible to obtain the most preferable thickness necessary for maintaining both the function of blocking gas and the function of preventing electrode disconnection. It has excellent effects.
【００７０】また、請求項３に係る本発明の液晶表示パ
ネルによれば、気体遮断性能と、電極断線防止性能とを
両立させることができるので、長期間に亘り安定した機
能を容易かつ確実に保持できるなどの極めて優れた効果
を奏する。Further, according to the liquid crystal display panel of the present invention according to the third aspect, since both the gas blocking performance and the electrode disconnection prevention performance can be achieved, a stable function for a long period can be easily and reliably achieved. It has an extremely excellent effect such as being able to hold.
【００７１】また、請求項４に係る本発明の液晶表示パ
ネルによれば、透明電極の下層の硬さをより硬くするこ
とができるため、気体遮断性能と、電極断線防止性能と
を両立させた状態で電極断線防止性能の向上を容易に図
ることができるので、長期間に亘り安定した機能をより
容易かつ確実に保持できるなどの極めて優れた効果を奏
する。Further, according to the liquid crystal display panel of the present invention, since the hardness of the lower layer of the transparent electrode can be made harder, both the gas blocking performance and the electrode disconnection preventing performance can be achieved. Since the electrode disconnection prevention performance can be easily improved in the state, an extremely excellent effect such as that a stable function can be more easily and reliably maintained for a long period of time can be obtained.
【図１】 本発明に係るパネル基板を用いた液晶表示パ
ネルの実施形態を示す構造図FIG. 1 is a structural view showing an embodiment of a liquid crystal display panel using a panel substrate according to the present invention.
【図２】 図１の気体遮断層の他の例を示す構造図FIG. 2 is a structural view showing another example of the gas barrier layer of FIG.
【図３】 従来の液晶表示パネルを示す構造図FIG. 3 is a structural view showing a conventional liquid crystal display panel.
【図４】 従来のパネル基板の構成を示す構造図FIG. 4 is a structural diagram showing a configuration of a conventional panel substrate.
【図５】 従来のハードコート層を設けたパネル基板を
示す構造図FIG. 5 is a structural view showing a conventional panel substrate provided with a hard coat layer.
【図６】 従来のパネル基板の他例の構成を示す構造図FIG. 6 is a structural diagram showing a configuration of another example of a conventional panel substrate.
３１ 液晶表示パネル ３２ パネル基板 ３３ 透明樹脂基板 ３４ ハードコート層 ３５ 液晶 ３６ 気体遮断層 ３６ａ 下地膜 ３６ｂ 気体遮断膜 ３６ｃ 表層膜 ３６ｄ 中間膜 ３７ 透明電極 ３８ 薄膜 ３９ 配向膜 ４０ シール材 ４１ 偏光板 Reference Signs List 31 liquid crystal display panel 32 panel substrate 33 transparent resin substrate 34 hard coat layer 35 liquid crystal 36 gas blocking layer 36a base film 36b gas blocking film 36c surface layer film 36d intermediate film 37 transparent electrode 38 thin film 39 alignment film 40 sealing material 41 polarizing plate
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H090 HA04 HB03X HC01 JA06 JB03 JD11 KA05 KA08 LA01 2K009 AA00 AA15 BB24 CC03 CC24 DD03 EE00 Continuation of the front page F term (reference) 2H090 HA04 HB03X HC01 JA06 JB03 JD11 KA05 KA08 LA01 2K009 AA00 AA15 BB24 CC03 CC24 DD03 EE00
Claims (4)
とも一面に気体遮断層を設けたパネル基板において、 前記気体遮断層が、前記透明樹脂基板に隣位するＳｉＯ
ｘ（１＜ｘ＜２）からなる下地膜と、この下地膜に積層
されるＳｉＯ2 からなる気体遮断膜と、この気体遮断膜
に積層されるＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）からなる表層膜と
を有していることを特徴とするパネル基板。1. A panel substrate in which a gas barrier layer is provided on at least one surface of a transparent resin substrate made of a transparent resin, wherein the gas barrier layer is formed of SiO adjacent to the transparent resin substrate.
a base film made of x (1 <x <2), a gas barrier film made of SiO 2 laminated on this base film, and a surface film made of SiOx (1 <x <2) laminated on this gas barrier film A panel substrate comprising:
の膜厚が１０〜６０ｎｍであり、前記気体遮断膜の膜厚
が２０〜６０ｎｍであることを特徴とする請求項１に記
載のパネル基板。2. The panel substrate according to claim 1, wherein the thickness of each of the base film and the surface film is 10 to 60 nm, and the thickness of the gas barrier film is 20 to 60 nm. .
向膜を積層形成した１対のパネル基板を具備し、これら
のパネル基板のそれぞれの配向膜が相互に対向するよう
に間隔をおいて配設され、これらの配向膜の間に液晶が
密封されてなる液晶表示パネルにおいて、 前記パネル基板が請求項１または請求項２に記載のパネ
ル基板であることを特徴とする液晶表示パネル。3. A pair of panel substrates each having a transparent electrode and an alignment film laminated on one surface of the panel substrate, and are arranged at intervals so that the respective alignment films of the panel substrates face each other. A liquid crystal display panel provided with a liquid crystal sealed between these alignment films, wherein the panel substrate is the panel substrate according to claim 1 or 2.
る薄膜を介して透明電極が形成されていることを特徴と
する請求項３に記載の液晶表示パネル。4. The liquid crystal display panel according to claim 3, wherein a transparent electrode is formed on the surface of the panel substrate via a thin film made of SiO 2 .
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