JP2001116695A - 気体可視像撮像装置 - Google Patents
気体可視像撮像装置Info
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- JP2001116695A JP2001116695A JP29247799A JP29247799A JP2001116695A JP 2001116695 A JP2001116695 A JP 2001116695A JP 29247799 A JP29247799 A JP 29247799A JP 29247799 A JP29247799 A JP 29247799A JP 2001116695 A JP2001116695 A JP 2001116695A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 気体の可視像を撮像する気体可視像撮像装置
を提供する。 【解決手段】 本装置によれば、高出力Ｘ線発生装置１
０から出力されたＸ線は、接続経路３０を介して減圧容
器２０ｃに入射し、減圧容器２０内の被検出ガス２０ｇ
に照射される。Ｘ線を減圧状態の気体２０ｇに照射する
と、この気体が可視発光する。撮像装置４０は、気体の
可視像を撮像する。
を提供する。 【解決手段】 本装置によれば、高出力Ｘ線発生装置１
０から出力されたＸ線は、接続経路３０を介して減圧容
器２０ｃに入射し、減圧容器２０内の被検出ガス２０ｇ
に照射される。Ｘ線を減圧状態の気体２０ｇに照射する
と、この気体が可視発光する。撮像装置４０は、気体の
可視像を撮像する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、気体の可視像を撮
像する気体可視像撮像装置に関する。
像する気体可視像撮像装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の気体の可視像の検出においては、
検出可能な微粒子を当該気体中に放出し、この微粒子に
レーザ光や可視光を照射することにより、気体の可視像
を撮像していた。この場合、照射光が微粒子によって反
射又は散乱するので、気体の可視像を間接的に得ること
ができる。
検出可能な微粒子を当該気体中に放出し、この微粒子に
レーザ光や可視光を照射することにより、気体の可視像
を撮像していた。この場合、照射光が微粒子によって反
射又は散乱するので、気体の可視像を間接的に得ること
ができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、微粒子
の粒径が極限まで小さくなった状態、すなわち、気体自
体の可視像は得ることができなかった。本発明は、この
ような課題に鑑みてなされたものであり、気体自体の可
視像を撮像することが可能な気体可視像撮像装置を提供
することを目的とする。
の粒径が極限まで小さくなった状態、すなわち、気体自
体の可視像は得ることができなかった。本発明は、この
ような課題に鑑みてなされたものであり、気体自体の可
視像を撮像することが可能な気体可視像撮像装置を提供
することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本願発明者らは、高出力
Ｘ線発生装置の開発を行ってきた。特開平７−５０１４
５号公報に記載のＸ線発生装置は、比較的小型であるに
も拘わらず、非常に強力なＸ線を発生可能な装置であ
る。本願発明者らは、このような高出力Ｘ線発生装置か
ら発生したＸ線を減圧状態の気体に照射することによ
り、この気体が可視化することを見出した。本願発明者
らは、かかる原理に基づいて気体可視像撮像装置の開発
を行った。
Ｘ線発生装置の開発を行ってきた。特開平７−５０１４
５号公報に記載のＸ線発生装置は、比較的小型であるに
も拘わらず、非常に強力なＸ線を発生可能な装置であ
る。本願発明者らは、このような高出力Ｘ線発生装置か
ら発生したＸ線を減圧状態の気体に照射することによ
り、この気体が可視化することを見出した。本願発明者
らは、かかる原理に基づいて気体可視像撮像装置の開発
を行った。
【０００５】本発明に係る気体可視像撮像装置は、減圧
状態でＸ線を発生させるＸ線発生装置と、減圧状態で被
検出ガスが導入される減圧容器と、減圧容器とＸ線発生
装置とを減圧状態で接続する接続経路と、減圧容器内に
おける被検出ガスにＸ線発生装置から出力されたＸ線を
接続経路を介して照射することにより被検出ガスから発
生する被検出ガスの可視像を撮像する撮像装置とを備え
ることを特徴とする。
状態でＸ線を発生させるＸ線発生装置と、減圧状態で被
検出ガスが導入される減圧容器と、減圧容器とＸ線発生
装置とを減圧状態で接続する接続経路と、減圧容器内に
おける被検出ガスにＸ線発生装置から出力されたＸ線を
接続経路を介して照射することにより被検出ガスから発
生する被検出ガスの可視像を撮像する撮像装置とを備え
ることを特徴とする。
【０００６】Ｘ線発生装置はＸ線を発生させるが、これ
は接続経路を介して減圧容器内に入射する。減圧容器内
には被検出ガスが導入されているが、この被検出ガスは
強力なＸ線を照射することにより発光する。大気中にお
けるＸ線の減衰率は高いため、本装置においては、Ｘ線
発生装置、接続経路及び減圧容器内の気圧を減圧状態と
することにより、Ｘ線の減衰を抑制し、すなわち、被検
出ガスが可視発光する程度にＸ線強度を高く維持したま
ま、当該Ｘ線を被検出ガスに照射する。このＸ線の照射
によって、被検出ガスは可視発光し、被検出ガスの可視
像は撮像装置によって撮像される。
は接続経路を介して減圧容器内に入射する。減圧容器内
には被検出ガスが導入されているが、この被検出ガスは
強力なＸ線を照射することにより発光する。大気中にお
けるＸ線の減衰率は高いため、本装置においては、Ｘ線
発生装置、接続経路及び減圧容器内の気圧を減圧状態と
することにより、Ｘ線の減衰を抑制し、すなわち、被検
出ガスが可視発光する程度にＸ線強度を高く維持したま
ま、当該Ｘ線を被検出ガスに照射する。このＸ線の照射
によって、被検出ガスは可視発光し、被検出ガスの可視
像は撮像装置によって撮像される。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、実施の形態に係る気体可視
像撮像装置について説明する。なお、説明において、同
一要素には同一符号を用い、重複する説明は省略する。
像撮像装置について説明する。なお、説明において、同
一要素には同一符号を用い、重複する説明は省略する。
【０００８】図１は気体可視像撮像装置の斜視図、図２
は図１に示した気体可視像撮像装置のＩＩ−ＩＩ矢印断
面図、図３は図１に示した気体可視像撮像装置のＩＩＩ
−ＩＩＩ矢印断面図である。
は図１に示した気体可視像撮像装置のＩＩ−ＩＩ矢印断
面図、図３は図１に示した気体可視像撮像装置のＩＩＩ
−ＩＩＩ矢印断面図である。
【０００９】本気体可視像撮像装置は、減圧状態でＸ線
を発生させるＸ線発生装置１０と、減圧状態で被検出ガ
ス２０ｇが導入される減圧容器２０ｃと、減圧容器２０
ｃとＸ線発生装置１０とを減圧状態で接続する接続経路
３０とを備えている。
を発生させるＸ線発生装置１０と、減圧状態で被検出ガ
ス２０ｇが導入される減圧容器２０ｃと、減圧容器２０
ｃとＸ線発生装置１０とを減圧状態で接続する接続経路
３０とを備えている。
【００１０】Ｘ線発生装置１０は、その減圧容器１０ｃ
内において強力なＸ線を発生させるが、これは接続経路
３０を介して減圧容器２０ｃ内に入射する。減圧容器２
０ｃ内には被検出ガス２０ｇがバルブ２０ｖを介して導
入されているが、被検出ガス２０ｇは強力なＸ線を照射
することにより発光する。
内において強力なＸ線を発生させるが、これは接続経路
３０を介して減圧容器２０ｃ内に入射する。減圧容器２
０ｃ内には被検出ガス２０ｇがバルブ２０ｖを介して導
入されているが、被検出ガス２０ｇは強力なＸ線を照射
することにより発光する。
【００１１】大気中におけるＸ線の減衰率は高いため、
本装置においては、Ｘ線発生装置１０の減圧容器１０
ｃ、接続経路３０及び減圧容器２０ｃ内の気体を各容器
１０ｃ，２０ｃに接続された真空ポンプ（図示せず）に
よって排気することにより、減圧容器１０ｃ、接続経路
３０及び減圧容器２０ｃ内を減圧状態とする。これによ
ってＸ線の減衰が抑制される。したがって、被検出ガス
２０ｇが可視発光する程度にＸ線強度を高く維持したま
ま、当該Ｘ線を被検出ガス２０ｇに照射することができ
る。
本装置においては、Ｘ線発生装置１０の減圧容器１０
ｃ、接続経路３０及び減圧容器２０ｃ内の気体を各容器
１０ｃ，２０ｃに接続された真空ポンプ（図示せず）に
よって排気することにより、減圧容器１０ｃ、接続経路
３０及び減圧容器２０ｃ内を減圧状態とする。これによ
ってＸ線の減衰が抑制される。したがって、被検出ガス
２０ｇが可視発光する程度にＸ線強度を高く維持したま
ま、当該Ｘ線を被検出ガス２０ｇに照射することができ
る。
【００１２】Ｘ線の照射によって、被検出ガス２０ｇは
可視発光し、被検出ガス２０ｇの可視像は減圧容器２０
ｃに設けられた観察窓２０ｖｐを介してＣＣＤカメラ等
の撮像装置４０によって撮像される。撮像装置４０から
の画像信号は、コンピュータ５０に入力され、被検出ガ
ス２０ｇの可視像として記憶される。
可視発光し、被検出ガス２０ｇの可視像は減圧容器２０
ｃに設けられた観察窓２０ｖｐを介してＣＣＤカメラ等
の撮像装置４０によって撮像される。撮像装置４０から
の画像信号は、コンピュータ５０に入力され、被検出ガ
ス２０ｇの可視像として記憶される。
【００１３】なお、本形態のＸ線発生装置１０は、所謂
ガスパフ式のプラズマＸ線発生装置である。ガスパフ式
のＸ線発生装置は、バルブ１０ｖを介して容器１０ｃ内
に導入された窒素等のＸ線発生用ガス１０ｇが、容器１
０ｃ内のアノード１０ａ及びカソード１０ｃａ間に位置
している時に、パルス電流発生装置１０ｐから出力され
たパルス電流をアノード１０ａ及びカソード１０ｃａ間
に供給することによってこれらの間にパルス電圧を印加
して放電を生ぜしめ、Ｘ線発生用ガス１０ｇを励起して
Ｘ線を発生させる。なお、この時のＸ線発生用ガス１０
ｇの位置がＸ線源となる。
ガスパフ式のプラズマＸ線発生装置である。ガスパフ式
のＸ線発生装置は、バルブ１０ｖを介して容器１０ｃ内
に導入された窒素等のＸ線発生用ガス１０ｇが、容器１
０ｃ内のアノード１０ａ及びカソード１０ｃａ間に位置
している時に、パルス電流発生装置１０ｐから出力され
たパルス電流をアノード１０ａ及びカソード１０ｃａ間
に供給することによってこれらの間にパルス電圧を印加
して放電を生ぜしめ、Ｘ線発生用ガス１０ｇを励起して
Ｘ線を発生させる。なお、この時のＸ線発生用ガス１０
ｇの位置がＸ線源となる。
【００１４】コンピュータ５０は、Ｘ線発生用ガス１０
ｇの導入タイミング、パルス電圧の印加タイミングを同
期させるように、バルブ１０ｖ及びパルス電流発生装置
１０ｐを制御する。また、本例では、コンピュータ５０
は、このタイミングに同期して、減圧容器２０ｃ側のバ
ルブ２０ｖを開放し、これに併せて撮像装置４０から出
力される画像を記憶している。
ｇの導入タイミング、パルス電圧の印加タイミングを同
期させるように、バルブ１０ｖ及びパルス電流発生装置
１０ｐを制御する。また、本例では、コンピュータ５０
は、このタイミングに同期して、減圧容器２０ｃ側のバ
ルブ２０ｖを開放し、これに併せて撮像装置４０から出
力される画像を記憶している。
【００１５】なお、接続経路３０の途中にはＸ線以外の
波長の光を遮蔽するフィルタ３０ｆが設けられ、また、
減圧容器２０ｃの端部には接続経路３０を介して入射し
たＸ線をピンホール２０ｐを介して検出する半導体Ｘ線
検出器２０ｓが配置されている。
波長の光を遮蔽するフィルタ３０ｆが設けられ、また、
減圧容器２０ｃの端部には接続経路３０を介して入射し
たＸ線をピンホール２０ｐを介して検出する半導体Ｘ線
検出器２０ｓが配置されている。
【００１６】次に、ガスパフ式Ｘ線発生装置の構成につ
いて詳細に説明する。
いて詳細に説明する。
【００１７】図４は、ガスパフ式Ｘ線発生装置１０主要
部の縦断面図である。減圧容器１０ｃは、空間Ａを規定
するベル型のチャンバ１０ｃ’を備えており、その内部
にはガス放出空間を規制するための包囲体１０ｓが配置
されている。包囲体１０ｓの内部空間をＢとすると、空
間Ａ及びＢは、包囲体１０ｓに設けられた開口１０ｏｐ
を介して連通している。なお、チャンバ１０ｃ’及び包
囲体１０ｓは共に導電体から構成され、チャンバ１０
ｃ’の底面側開口は絶縁部材１０ｉを介して底板１０ｂ
によって封止されている。
部の縦断面図である。減圧容器１０ｃは、空間Ａを規定
するベル型のチャンバ１０ｃ’を備えており、その内部
にはガス放出空間を規制するための包囲体１０ｓが配置
されている。包囲体１０ｓの内部空間をＢとすると、空
間Ａ及びＢは、包囲体１０ｓに設けられた開口１０ｏｐ
を介して連通している。なお、チャンバ１０ｃ’及び包
囲体１０ｓは共に導電体から構成され、チャンバ１０
ｃ’の底面側開口は絶縁部材１０ｉを介して底板１０ｂ
によって封止されている。
【００１８】チャンバ１０ｃ’の頂部にはバルブ１０ｖ
が設けられており、このバルブ１０ｖを介してチャンバ
１０ｃ’内にＸ線発生用ガス１０ｇが導入される。バル
ブ１０ｖは包囲体１０ｓの頂部に設けられたノズル１０
ａに連通しており、このノズル１０ａはアノードとして
機能する。
が設けられており、このバルブ１０ｖを介してチャンバ
１０ｃ’内にＸ線発生用ガス１０ｇが導入される。バル
ブ１０ｖは包囲体１０ｓの頂部に設けられたノズル１０
ａに連通しており、このノズル１０ａはアノードとして
機能する。
【００１９】一方、アノード１０ａに空間を介して対向
する位置にはカソード１０ｃａが配置されている。カソ
ード１０ｃａは有底筒体の外周部に、これと同軸となる
円環状の鍔部を底板１０ｂとして設けてなるシルクハッ
ト型を有する。カソード１０ｃａは、有底筒体型の内部
筒体を外部筒体内に配置し、これらの上部開口端間に形
成される円環状の隙間を封止し、外部筒体の外周部に、
これと同軸となる円環状の鍔部を底板１０ｂとして設け
てなる形状としてもよい。また、これらの形状によって
頂部に形成される凹部はガス流の安定性を向上させる。
する位置にはカソード１０ｃａが配置されている。カソ
ード１０ｃａは有底筒体の外周部に、これと同軸となる
円環状の鍔部を底板１０ｂとして設けてなるシルクハッ
ト型を有する。カソード１０ｃａは、有底筒体型の内部
筒体を外部筒体内に配置し、これらの上部開口端間に形
成される円環状の隙間を封止し、外部筒体の外周部に、
これと同軸となる円環状の鍔部を底板１０ｂとして設け
てなる形状としてもよい。また、これらの形状によって
頂部に形成される凹部はガス流の安定性を向上させる。
【００２０】なお、カソード１０ｃａの底部を構成する
外部筒体の下部開口端は底板１０ｂに一体成形されてい
る。
外部筒体の下部開口端は底板１０ｂに一体成形されてい
る。
【００２１】Ｘ線を発生させる場合、バルブ１０ｖを開
放することによって、ノズル１０ａからＸ線発生用ガス
１０ｇを包囲体１０ｓ内部に導入すると同時に、チャン
バ１０ｃ’及び底板１０ｂ間に上述のパルス電流を供給
を印加する。なお、チャンバ１０ｃ’は接地電位とす
る。
放することによって、ノズル１０ａからＸ線発生用ガス
１０ｇを包囲体１０ｓ内部に導入すると同時に、チャン
バ１０ｃ’及び底板１０ｂ間に上述のパルス電流を供給
を印加する。なお、チャンバ１０ｃ’は接地電位とす
る。
【００２２】パルス電流の供給によって、導電体の底板
１０ｂに電気的に接続されているカソード１０ｃａとア
ノード１０ａとの間にパルス電圧が印加され、電圧印加
に伴ってこれらの間の空間に電界が発生し、この電界強
度がこれらの間の空間によって規定される耐圧を越える
と、カソード１０ｃａとアノード１０ａとの間に放電が
生じ、この放電によって発生する磁場によってＸ線発生
用ガス１０ｇは中心方向に圧縮される（Ｚピンチ効果）
と同時に励起され、Ｘ線を発生する。発生したＸ線は、
包囲体１０ｓの開口１０ｏｐを介して接続経路３０方向
に出力される。
１０ｂに電気的に接続されているカソード１０ｃａとア
ノード１０ａとの間にパルス電圧が印加され、電圧印加
に伴ってこれらの間の空間に電界が発生し、この電界強
度がこれらの間の空間によって規定される耐圧を越える
と、カソード１０ｃａとアノード１０ａとの間に放電が
生じ、この放電によって発生する磁場によってＸ線発生
用ガス１０ｇは中心方向に圧縮される（Ｚピンチ効果）
と同時に励起され、Ｘ線を発生する。発生したＸ線は、
包囲体１０ｓの開口１０ｏｐを介して接続経路３０方向
に出力される。
【００２３】なお、本例の場合、直径２０ｍｍのパルス
状のガス塊は１００μ秒間噴出され、放電時のピーク電
流は１５０ｋＡ、放電によって発生する磁場により圧縮
されたガスの直径は０．１ｍｍ、Ｘ線のパルス幅は５０
ｎｓである。
状のガス塊は１００μ秒間噴出され、放電時のピーク電
流は１５０ｋＡ、放電によって発生する磁場により圧縮
されたガスの直径は０．１ｍｍ、Ｘ線のパルス幅は５０
ｎｓである。
【００２４】次に、減圧容器２０ｃについて説明する。
【００２５】図５は、減圧容器２０ｃの縦断面図であ
る。減圧容器２０ｃは、ベル型のチャンバ２０ｃ’を有
しており、チャンバ２０ｃ’の底面側開口は底板２０ｂ
によって封止され、その頂部にはバルブ２０ｖが設けら
れている。バルブ２０ｖを介してチャンバ２０ｃ’内に
被検出用ガス２０ｇが導入される。バルブ２０ｖはチャ
ンバ２０ｃ’の頂部に設けられたノズル２０ｎに連通し
ている。バルブ２０ｖを開放することによって、ノズル
２０ｎから被検出用ガス２０ｇが噴出した状態で、Ｘ線
が入射すると、被検出用ガス２０ｇが可視発光する。
る。減圧容器２０ｃは、ベル型のチャンバ２０ｃ’を有
しており、チャンバ２０ｃ’の底面側開口は底板２０ｂ
によって封止され、その頂部にはバルブ２０ｖが設けら
れている。バルブ２０ｖを介してチャンバ２０ｃ’内に
被検出用ガス２０ｇが導入される。バルブ２０ｖはチャ
ンバ２０ｃ’の頂部に設けられたノズル２０ｎに連通し
ている。バルブ２０ｖを開放することによって、ノズル
２０ｎから被検出用ガス２０ｇが噴出した状態で、Ｘ線
が入射すると、被検出用ガス２０ｇが可視発光する。
【００２６】なお、Ｘ線発生装置１０としては、レーザ
プラズマＸ線発生装置を用いてもよい。
プラズマＸ線発生装置を用いてもよい。
【００２７】図６は、レーザプラズマＸ線発生装置を用
いた気体可視像撮像装置の縦断面図である。本装置は、
Ｘ線発生装置１０の構造のみが前述のものと異なり、他
の構成は同一である。レーザプラズマＸ線発生装置１０
は、集光ミラー又はレンズ１０ｌ及びレーザ光入射窓１
０ｖｐを介して密閉容器１０ｍ内に配置されたターゲッ
ト物質１０ｔにレーザ光を集光して照射する。なお、密
閉容器１０ｍ内は減圧状態とされている。この照射によ
って、レーザ媒質からなるターゲット物質１０ｔはプラ
ズマ状態となり、ここからＸ線が出力される。前述のも
のと同様に、発生したＸ線は接続経路３０をｓ介して減
圧容器２０ｃ内の被検出ガス２０ｇに照射され、これに
よって被検出ガス２０ｇが可視発光する。
いた気体可視像撮像装置の縦断面図である。本装置は、
Ｘ線発生装置１０の構造のみが前述のものと異なり、他
の構成は同一である。レーザプラズマＸ線発生装置１０
は、集光ミラー又はレンズ１０ｌ及びレーザ光入射窓１
０ｖｐを介して密閉容器１０ｍ内に配置されたターゲッ
ト物質１０ｔにレーザ光を集光して照射する。なお、密
閉容器１０ｍ内は減圧状態とされている。この照射によ
って、レーザ媒質からなるターゲット物質１０ｔはプラ
ズマ状態となり、ここからＸ線が出力される。前述のも
のと同様に、発生したＸ線は接続経路３０をｓ介して減
圧容器２０ｃ内の被検出ガス２０ｇに照射され、これに
よって被検出ガス２０ｇが可視発光する。
【００２８】以上、説明したように、上記気体可視像撮
像装置は、減圧状態でＸ線を発生させるＸ線発生装置１
０と、減圧状態で被検出ガス２０ｇが導入される減圧容
器２０ｃと、減圧容器２０ｃとＸ線発生装置１０とを減
圧状態で接続する接続経路３０と、減圧容器２０ｃ内に
おける被検出ガスにＸ線発生装置１０から出力されたＸ
線を接続経路３０を介して照射することにより被検出ガ
ス２０ｇから発生する被検出ガス２０ｇの可視像を撮像
する撮像装置４０とを備え、窒素ガス等の気体自体の可
視像を撮像することができる。
像装置は、減圧状態でＸ線を発生させるＸ線発生装置１
０と、減圧状態で被検出ガス２０ｇが導入される減圧容
器２０ｃと、減圧容器２０ｃとＸ線発生装置１０とを減
圧状態で接続する接続経路３０と、減圧容器２０ｃ内に
おける被検出ガスにＸ線発生装置１０から出力されたＸ
線を接続経路３０を介して照射することにより被検出ガ
ス２０ｇから発生する被検出ガス２０ｇの可視像を撮像
する撮像装置４０とを備え、窒素ガス等の気体自体の可
視像を撮像することができる。
【００２９】また、上記減圧状態とは０．１Ｐａ以下の
気圧であることが好ましい。また、Ｘ線発生装置１０か
ら発生するＸ線の強度は、１パルス当たり３０Ｊ以上で
あることが好ましく、パルス幅は数〜１０ナノ秒である
ことが好ましい。なお、Ｘ線発生用ガス１０ｇとして
は、窒素、アルゴン、酸素、ネオン等挙げられ、可視発
光する被検出ガス２０ｇとしてはネオン、アルゴン、キ
セノン等が挙げられる。
気圧であることが好ましい。また、Ｘ線発生装置１０か
ら発生するＸ線の強度は、１パルス当たり３０Ｊ以上で
あることが好ましく、パルス幅は数〜１０ナノ秒である
ことが好ましい。なお、Ｘ線発生用ガス１０ｇとして
は、窒素、アルゴン、酸素、ネオン等挙げられ、可視発
光する被検出ガス２０ｇとしてはネオン、アルゴン、キ
セノン等が挙げられる。
【００３０】
【発明の効果】本発明の気体可視像撮像装置によれば、
気体自体の可視像を撮像することができる。
気体自体の可視像を撮像することができる。
【図１】気体可視像撮像装置の斜視図である。
【図２】図１に示した気体可視像撮像装置のＩＩ−ＩＩ
矢印断面図である。
矢印断面図である。
【図３】図１に示した気体可視像撮像装置のＩＩＩ−Ｉ
ＩＩ矢印断面図である。
ＩＩ矢印断面図である。
【図４】ガスパフ式Ｘ線発生装置１０主要部の縦断面図
である。
である。
【図５】減圧容器２０ｃの縦断面図である。
【図６】レーザプラズマＸ線発生装置を用いた気体可視
像撮像装置の縦断面図である。
像撮像装置の縦断面図である。
１０…Ｘ線発生装置、２０ｇ…被検出ガス、２０ｃ…減
圧容器、３０…接続経路、４０…撮像装置。
圧容器、３０…接続経路、４０…撮像装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉山 優 静岡県浜松市市野町1126番地の１ 浜松ホ トニクス株式会社内 Ｆターム(参考） 2G001 AA01 CA07 DA09 GA10 GA11 HA13 JA09 JA14 KA20 MA01 PA18 2G043 AA03 CA01 DA05 EA11 GA02 GB10 GB21 KA02 LA03 4C092 AA04 AA14 AB21
Claims (1)
- 【請求項１】 減圧状態でＸ線を発生させるＸ線発生装
置と、減圧状態で被検出ガスが導入される減圧容器と、
前記減圧容器と前記Ｘ線発生装置とを減圧状態で接続す
る接続経路と、前記減圧容器内における前記被検出ガス
に前記Ｘ線発生装置から出力されたＸ線を前記接続経路
を介して照射することにより前記被検出ガスから発生す
る前記被検出ガスの可視像を撮像する撮像装置とを備え
ることを特徴とする気体可視像撮像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29247799A JP2001116695A (ja) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | 気体可視像撮像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29247799A JP2001116695A (ja) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | 気体可視像撮像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001116695A true JP2001116695A (ja) | 2001-04-27 |
Family
ID=17782330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29247799A Pending JP2001116695A (ja) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | 気体可視像撮像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001116695A (ja) |
-
1999
- 1999-10-14 JP JP29247799A patent/JP2001116695A/ja active Pending
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