JP2001108851A - Optical waveguide grating and method of manufacturing the same - Google Patents

Optical waveguide grating and method of manufacturing the same

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JP2001108851A
JP2001108851A JP28709599A JP28709599A JP2001108851A JP 2001108851 A JP2001108851 A JP 2001108851A JP 28709599 A JP28709599 A JP 28709599A JP 28709599 A JP28709599 A JP 28709599A JP 2001108851 A JP2001108851 A JP 2001108851A
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metal ions
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Tomoyuki Hayashi
智幸 林
Masaru Sadayuki
勝 定行
Yasuhiro Yasuma
康浩 安間
Hiromitsu Umezawa
浩光 梅澤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To inexpensively and easily form a grating with good accuracy at a desired submicron period without dependence upon polarization in an optical waveguide of an ion exchange type. SOLUTION: Portions where metal ions are deposited in a colloidal state and portions where the metal ions exist in the state of an ion state are arrayed alternately periodically in the ion exchange type optical waveguide formed in a glass substrate, by which refractive index changes are generated at a specified period. The metallic particulates deposited in the colloidal state are formed Ag colloid. The period of the refractive index changes is preferably specified to 0.2 to about 1.0 μm. The entire part is irradiated with the light of low-irradiation intensity to deposite the metal ions in the colloidal state and is then locally irradiated with the light of high-irradiation intensity at a desired period to eliminate the deposition. Otherwise, the portions are locally irradiated with the light of low-irradiation intensity at a desired period to deposite the metal ions in the colloidal state. As a result, the deposited portions and the portions in the state of the ion state are alternately periodically formed to give rise to the refractive index changes.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、イオン交換法によ
ってガラス基板に形成した光導波路に、金属イオンがコ
ロイド状態で析出している部分とイオン状態のままで存
在する部分とが交互に周期的に配列され、それによって
一定周期で屈折率変化が生じている光導波路グレーティ
ング及びそれを製造する方法に関するものである。この
技術は、所定の波長の光信号を多重あるいは分離する波
長多重分離素子などとして用いられるイオン交換型光導
波路グレーティングに有用である。
The present invention relates to an optical waveguide formed on a glass substrate by an ion exchange method, wherein a portion where metal ions are precipitated in a colloidal state and a portion where a metal ion remains in an ionic state are alternately and periodically. The present invention relates to an optical waveguide grating in which the refractive index changes at regular intervals, and a method for manufacturing the same. This technique is useful for an ion-exchange type optical waveguide grating used as a wavelength division multiplexing / demultiplexing element for multiplexing or demultiplexing an optical signal of a predetermined wavelength.

【0002】[0002]

【従来の技術】平面導波路型光回路において、その光導
波路を形成する代表的な方法として、イオン交換法と火
炎堆積法がある。イオン交換法は、基板として多成分ガ
ラスを用い溶融塩中に浸漬して熱イオン交換や電界イオ
ン交換により光導波路を形成するもので、低温プロセス
(250〜350℃程度)である。この方法は、製造が
容易で安価である利点がある。それに対して火炎堆積法
は、Si基板上に石英系ガラスを堆積することで光導波
路を形成するもので、高温プロセス(1200〜130
0℃程度)である。この方法は、作製工程中に高温に曝
されるため内部応力等が異方的に作用し、光通信で重要
となる偏波依存損失が大きく、製法が複雑でコスト高と
なる。
2. Description of the Related Art In a planar waveguide type optical circuit, there are an ion exchange method and a flame deposition method as typical methods for forming the optical waveguide. The ion exchange method uses a multi-component glass as a substrate and immerses it in a molten salt to form an optical waveguide by thermal ion exchange or electric field ion exchange, and is a low-temperature process (about 250 to 350 ° C.). This method has the advantage of being easy and inexpensive to manufacture. On the other hand, in the flame deposition method, an optical waveguide is formed by depositing a silica-based glass on a Si substrate, and a high-temperature process (1200 to 130
(About 0 ° C.). This method is exposed to high temperatures during the manufacturing process, so that internal stress and the like act anisotropically, the polarization dependent loss that is important in optical communication is large, the manufacturing method is complicated, and the cost increases.

【0003】ところで、光回路を構成する上で極めて重
要な技術として、グレーティングがある。このグレーテ
ィングは、光導波路内に形成した微細な周期構造であ
り、波長フィルタ、反射器、モード変換器など種々の光
デバイスに応用されている。
Meanwhile, a grating is an extremely important technique for forming an optical circuit. This grating has a fine periodic structure formed in an optical waveguide, and is applied to various optical devices such as a wavelength filter, a reflector, and a mode converter.

【0004】ファイバグレーティングの場合には、光フ
ァイバを構成するガラス材料の屈折率が紫外線照射によ
って変化することを利用して形成する。具体的な一つの
方法として、石英ガラスの表面に凹凸を形成した透過回
折格子(位相マスク)を設置し、紫外光の干渉縞を+1
次と−1次の透過回折光の干渉により形成する方法があ
る。この方法は、干渉縞のピッチが位相マスクの格子周
期の1/2となり、再現性に優れている。他の方法とし
ては、紫外光をハーフミラーで2つの等強度の光ビーム
に分離し、2つの光ビームの光路を互いに平行に配置さ
れた全反射ミラーで変更し、光ファイバ上で互いに交差
するように照射する方法がある。この方法では、光ファ
イバ上で2つの光ビームが互いに干渉し、周期Λ=λ/
2sin θの干渉縞の光強度分布を形成する。ここで、λ
は紫外光の波長、θは光ファイバに入射する紫外光の入
射角である。
[0004] In the case of a fiber grating, it is formed by utilizing the fact that the refractive index of a glass material constituting an optical fiber changes by irradiation with ultraviolet light. As a specific method, a transmission diffraction grating (phase mask) having irregularities formed on the surface of quartz glass is installed, and interference fringes of ultraviolet light are reduced by +1.
There is a method of forming by interference between the first and second order transmitted diffraction light. This method is excellent in reproducibility because the pitch of the interference fringes is の of the grating period of the phase mask. As another method, the ultraviolet light is split into two equal intensity light beams by a half mirror, and the optical paths of the two light beams are changed by a total reflection mirror arranged in parallel with each other, and cross each other on an optical fiber. Irradiation method. In this method, two light beams interfere with each other on an optical fiber, and a period Λ = λ /
A light intensity distribution of interference fringes of 2 sin θ is formed. Where λ
Is the wavelength of the ultraviolet light, and θ is the incident angle of the ultraviolet light incident on the optical fiber.

【0005】一般に、Geドープ光ファイバでは紫外光
の照射によって光損傷が生じ、照射部分の屈折率が増加
する。従って、紫外光の干渉縞が形成された光ファイバ
のコア中には、干渉縞の光強度分布に対応した周期的な
屈折率変化が生じる。すなわち、紫外光が照射された部
分には幅及び周期が一定の屈折率変化が生じ、それ以外
の部分では一定の屈折率が保たれる。このような屈折率
分布により、波長2nΛに近い波長成分のみを選択的に
反射し、それ以外の波長成分の光を低損失で透過する光
フィルタが形成される。ここで、nは光ファイバコア部
の平均屈折率である。
In general, in Ge-doped optical fibers, optical damage is caused by the irradiation of ultraviolet light, and the refractive index of the irradiated portion increases. Accordingly, a periodic change in the refractive index corresponding to the light intensity distribution of the interference fringes occurs in the core of the optical fiber on which the interference fringes of the ultraviolet light are formed. That is, a change in the refractive index having a constant width and period occurs in a portion irradiated with ultraviolet light, and a constant refractive index is maintained in other portions. With such a refractive index distribution, an optical filter is formed that selectively reflects only wavelength components close to the wavelength 2nΛ and transmits light of other wavelength components with low loss. Here, n is the average refractive index of the optical fiber core.

【0006】平面導波路型光回路においても、火炎堆積
法による光導波路の場合には、コア部にGeをドープす
ることで、ファイバグレーティングの場合と同様、紫外
光照射により光導波路内にグレーティングを形成でき
る。
[0006] In the case of a planar waveguide type optical circuit, in the case of an optical waveguide formed by the flame deposition method, the core is doped with Ge, so that the grating is formed in the optical waveguide by irradiating ultraviolet light as in the case of the fiber grating. Can be formed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】火炎堆積法により形成
した光導波路は偏波依存性が大きく、この種の平面導波
路型光回路は製法が複雑でコスト高である。そのため
に、グレーティングも偏波依存があり、且つ高価とな
る。それに対して、イオン交換法による平面導波路型光
回路は、作製が容易で安価であるが、その光導波路に微
小周期のグレーティングを精度よく作製する有効な方法
は、未だ開発されていない。
An optical waveguide formed by the flame deposition method has a large polarization dependence, and this type of planar waveguide optical circuit requires a complicated manufacturing method and is expensive. Therefore, the grating also has polarization dependence and is expensive. On the other hand, a planar waveguide type optical circuit using the ion exchange method is easy and inexpensive to manufacture, but an effective method for accurately manufacturing a grating having a small period in the optical waveguide has not yet been developed.

【0008】本発明の目的は、イオン交換型の光導波路
に微細周期で所望の屈折率変化を生じる光導波路グレー
ティングを提供することである。本発明の他の目的は、
イオン交換型の光導波路に、偏波依存性が無く、所望の
サブミクロン周期で安価に容易にグレーティングを精度
よく形成できる方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide an optical waveguide grating that produces a desired change in the refractive index at a fine period in an ion exchange type optical waveguide. Another object of the present invention is to
It is an object of the present invention to provide a method for easily and inexpensively forming a grating with a desired sub-micron period at low cost without any polarization dependence in an ion-exchange type optical waveguide.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、ガラス基
板にイオン交換法によって形成した屈折率増加部分にあ
る種の光を照射すると、その照射強度に応じて、屈折率
を増加させる金属イオンがコロイド状態で析出したり、
その析出を消失したりし、それによって屈折率を制御で
きることを見出した。本発明は、かかる現象の知得に基
づきなされたものである。
Means for Solving the Problems The present inventors irradiate a glass substrate with a certain light to a refractive index increasing portion formed by an ion exchange method, and increase the refractive index in accordance with the irradiation intensity. Ions precipitate in a colloidal state,
It has been found that the precipitation disappears and that the refractive index can be controlled thereby. The present invention has been made based on knowledge of such a phenomenon.

【0010】本発明は、ガラス基板に形成したイオン交
換型光導波路中に、金属イオンがコロイド状態で析出し
ている部分とイオン状態のままで存在する部分とが交互
に周期的に配列され、それによって一定周期で屈折率変
化が生じている光導波路グレーティングである。
According to the present invention, a portion where metal ions are precipitated in a colloidal state and a portion where a metal ion remains in an ionic state are alternately and periodically arranged in an ion exchange type optical waveguide formed on a glass substrate. This is an optical waveguide grating in which the refractive index changes at a constant period.

【0011】ガラス基板として、例えばNaイオンを含
有するガラス材料を使用し、ガラス基板中でイオン交換
型光導波路を形成する屈折率を増加させるイオンとして
は、例えばAgイオンを用いる。その場合、コロイド状
態で析出している金属微粒子はAgコロイドである。屈
折率変化の周期は、例えば0.2〜1.0μm程度とす
る。
As the glass substrate, for example, a glass material containing Na ions is used, and as the ions for increasing the refractive index forming the ion exchange type optical waveguide in the glass substrate, for example, Ag ions are used. In that case, the metal fine particles precipitated in a colloidal state are Ag colloids. The period of the refractive index change is, for example, about 0.2 to 1.0 μm.

【0012】本発明方法は、光導波路に照射する光の強
弱によって金属微粒子析出部の消失と金属微粒子の析出
を制御して光導波路に屈折率変化を生じさせるものであ
り、次の2つの方法がある。
The method of the present invention controls the disappearance of the metal fine particle deposition portion and the deposition of the metal fine particles by changing the intensity of light applied to the optical waveguide to cause a change in the refractive index of the optical waveguide. There is.

【0013】第1の方法は、イオン交換法によってガラ
ス基板に光導波路を形成し、全体に低照射強度の光を照
射して金属イオンをコロイド状態で析出させ、次いで高
照射強度の光を局所的に所望周期で照射し上記析出を消
失させることで、金属イオンがコロイド状態で析出して
いる部分とイオン状態のままで存在する部分とを交互に
周期的に形成し、それによって一定周期の屈折率変化を
生じさせる光導波路グレーティングの製造方法である。
The first method is to form an optical waveguide on a glass substrate by an ion exchange method, irradiate the entire surface with light having a low irradiation intensity to precipitate metal ions in a colloidal state, and then apply the light having a high irradiation intensity locally. By irradiating at a desired period and eliminating the above-mentioned precipitation, a portion where metal ions are precipitated in a colloidal state and a portion where the metal ion remains in an ionic state are alternately and periodically formed. This is a method for manufacturing an optical waveguide grating that causes a change in the refractive index.

【0014】第2の方法は、イオン交換法によってガラ
ス基板に光導波路を形成し、低照射強度の光を局所的に
所望周期で照射し金属イオンをコロイド状態で析出させ
ることで、金属イオンがコロイド状態で析出している部
分とイオン状態のままで存在する部分とを交互に周期的
に形成し、それによって一定周期の屈折率変化を生じさ
せる光導波路グレーティングの製造方法である。
The second method is to form an optical waveguide on a glass substrate by an ion exchange method, locally irradiate low-intensity light with a desired period, and precipitate metal ions in a colloidal state. This is a method for manufacturing an optical waveguide grating in which a portion precipitated in a colloidal state and a part existing in an ionic state are alternately and periodically formed, thereby causing a change in the refractive index at a constant period.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】イオン交換型光導波路に光を照射
すると、その照射光強度に対応して、金属イオンがコロ
イド状態で析出する部分とイオン状態のままで存在する
部分とを形成できる。光導波路の微小部分に所望周期の
光を照射するには、例えば2光束に分離したレーザ光に
よる干渉縞で照射する方法がある。また、位相マスクに
よって回折したレーザ光による干渉縞で照射する方法も
ある。これらは、従来のファイバグレーティングの形成
で採用しているのと同様の方法である。あるいは、ガラ
ス基板上に所望周期のメタルでパターニング処理し、光
照射を行う方法もある。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS When light is applied to an ion-exchange type optical waveguide, a portion where metal ions are precipitated in a colloidal state and a portion where the metal ion remains in an ionic state can be formed in accordance with the intensity of the irradiated light. In order to irradiate a minute portion of the optical waveguide with light having a desired period, for example, there is a method of irradiating with interference fringes by laser light separated into two light beams. There is also a method of irradiating with interference fringes by laser light diffracted by a phase mask. These are the same methods as employed in forming a conventional fiber grating. Alternatively, there is a method in which a glass substrate is patterned with a metal having a desired period and irradiated with light.

【0016】照射光としては、短波長側の可視光あるい
は紫外光を用い、例えば波長200nm〜600nmの光が
好ましい。ガラス基板としてNaイオンを含有するガラ
ス材料を使用し、イオン交換型光導波路を形成する屈折
率を増加させるイオンとしてAgイオンを用いる場合に
は、照射光強度が約600mW/cm2 を境として、それ
以上では析出が生じず、それ以下では析出が生じる。析
出粒子を数百nm以下とすることで、通信波長1〜1.7
μm帯においても損失とはならない。このような析出部
分では通信波長帯で屈折率が上昇するため、周期的な屈
折率変化を得ることができ、グレーティングを形成でき
る。
As the irradiation light, visible light or ultraviolet light on the short wavelength side is used, and for example, light having a wavelength of 200 nm to 600 nm is preferable. When a glass material containing Na ions is used as the glass substrate and Ag ions are used as ions for increasing the refractive index for forming the ion-exchange optical waveguide, the irradiation light intensity is about 600 mW / cm 2 , Above that, no precipitation occurs, below which precipitation occurs. By setting the precipitated particles to several hundreds nm or less, the communication wavelength is 1 to 1.7.
No loss occurs in the μm band. In such a deposited portion, the refractive index increases in the communication wavelength band, so that a periodic refractive index change can be obtained, and a grating can be formed.

【0017】[0017]

【実施例】ガラス基板としてソーダライムガラスを用
い、AgNO3 の溶融塩中に280℃で6時間浸漬し、
基板表面全体でNaイオンとAgイオンのイオン交換を
施した。このガラス基板を、NaNO3 の溶融塩中にて
280℃で電界強度150V/mmで2時間電界印加イオ
ン交換処理を施した。そして、このガラス基板に紫外光
を照射した。照射ビーム径は直径10mmとし、照射強度
は最高1200mW/cm2 である。照射ビームの強度プ
ロファイルを図1のAに示す。図1のBに示すように、
ガラス基板10には照射強度分布に従い、Ag析出部分
12が環状に生じた。照射ビームの強度プロファイルと
対比したところ、Ag析出部分12はほぼ600mW/
cm2 以下の領域であり、600mW/cm2 以上の領域で
はAgの析出は生じていない。このことは、Agの析出
に伴い、その領域では黄色の着色が観察できることから
判定できる。
EXAMPLE Soda lime glass was used as a glass substrate and immersed in a molten salt of AgNO 3 at 280 ° C. for 6 hours.
The entire surface of the substrate was subjected to ion exchange between Na ions and Ag ions. The glass substrate was subjected to an electric field application ion exchange treatment in a molten salt of NaNO 3 at 280 ° C. and an electric field strength of 150 V / mm for 2 hours. Then, the glass substrate was irradiated with ultraviolet light. The irradiation beam diameter is 10 mm, and the irradiation intensity is 1200 mW / cm 2 at the maximum. The intensity profile of the irradiation beam is shown in FIG. As shown in FIG. 1B,
Ag deposition portions 12 were formed in a ring shape on the glass substrate 10 in accordance with the irradiation intensity distribution. When compared with the intensity profile of the irradiation beam, the Ag deposition portion 12 was almost 600 mW /
cm 2 is less area, 600 mW / cm in the two or more regions not occur the precipitation of Ag. This can be determined from the fact that yellow coloring can be observed in that region with the precipitation of Ag.

【0018】また透過スペクトルを測定すると、図2に
示すように、Ag析出部分12(図1のBの(a)の位
置での測定)では波長450〜500nm付近にAgコロ
イドによる表面プラズモン吸収が観察できた。しかし、
600mW/cm2 以上の照射部分(図1のBの(b)の
位置での測定)では透過スペクトルでAgによる吸収が
消失している。Ag微粒子の析出が生じる照射強度の下
限値は50mW/cm2であった。なお、使用した照射ビ
ームの波長は365nmである。透過特性の測定は直径1
mmの狭い領域で行った。析出したAg微粒子は粒径数十
nmの微結晶であり、反射・吸収が生じるようなものでは
ないが、屈折率の変化は生じる。
When the transmission spectrum is measured, as shown in FIG. 2, in the Ag deposition portion 12 (measured at the position (a) in FIG. 1B), surface plasmon absorption by the Ag colloid is observed at a wavelength of about 450 to 500 nm. I could observe it. But,
In the irradiated portion of 600 mW / cm 2 or more (measured at the position (b) in FIG. 1B), absorption by Ag disappears in the transmission spectrum. The lower limit of the irradiation intensity at which the precipitation of Ag fine particles occurred was 50 mW / cm 2 . The wavelength of the irradiation beam used was 365 nm. Measurement of transmission characteristics is diameter 1
Performed in a narrow area of mm. The precipitated Ag fine particles have a particle size of several tens.
It is a nanocrystal of nm and does not cause reflection or absorption, but changes in the refractive index occur.

【0019】上記実施例から明らかなように、照射光強
度に対応して金属微粒子の析出・消失を変えられること
から、照射光強度の選択及び照射面積・照射位置などを
制御することで所望の微細周期のグレーティングを形成
できることになる。
As is apparent from the above embodiment, since the precipitation and disappearance of the metal fine particles can be changed in accordance with the irradiation light intensity, the desired irradiation intensity can be controlled by controlling the selection of the irradiation light intensity and the irradiation area and irradiation position. A grating with a fine period can be formed.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明は上記のように、光導波路中で金
属イオンがコロイド状態で析出している部分とイオン状
態のままで存在する部分とを交互に周期的に形成してお
り、それによって偏波依存性の無い光導波路グレーティ
ングが得られる。
As described above, according to the present invention, a portion where metal ions are precipitated in a colloidal state and a portion where the metal ions remain in an ionic state in an optical waveguide are formed alternately and periodically. Accordingly, an optical waveguide grating having no polarization dependence can be obtained.

【0021】本発明では、照射光の強度制御で微粒子の
析出・消失が制御できるため、紫外光照射に干渉法やマ
スク法などが使用でき、所望のサブミクロン周期のグレ
ーティングを光導波路に安価且つ容易に形成できる。
In the present invention, since the precipitation and disappearance of fine particles can be controlled by controlling the intensity of irradiation light, an interference method or a mask method can be used for ultraviolet light irradiation, and a grating having a desired submicron period can be used in an optical waveguide at low cost. It can be easily formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】照射ビームの強度プロファイルとガラス基板に
形成されるAg析出部分の関係を示す模式図。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a relationship between an irradiation beam intensity profile and an Ag deposition portion formed on a glass substrate.

【図2】透過スペクトルの一例を示す説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram showing an example of a transmission spectrum.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ガラス基板 12 Ag析出部分 10 Glass substrate 12 Ag deposition part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安間 康浩 東京都港区新橋5丁目36番11号 富士電気 化学株式会社内 (72)発明者 梅澤 浩光 東京都港区新橋5丁目36番11号 富士電気 化学株式会社内 Fターム(参考) 2H047 LA02 PA13 PA30 QA04 RA00 TA43  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Yasuhiro Anma 5-36-11 Shimbashi, Minato-ku, Tokyo Inside Fuji Electric Chemical Co., Ltd. (72) Hiromitsu Umezawa 5-36-11 Shimbashi, Minato-ku, Tokyo Fuji Electrochemical Co., Ltd. F-term (reference) 2H047 LA02 PA13 PA30 QA04 RA00 TA43

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス基板に形成したイオン交換型光導
波路中に、金属イオンがコロイド状態で析出している部
分とイオン状態のままで存在する部分とが交互に周期的
に配列され、それによって一定周期で屈折率変化が生じ
ていることを特徴とする光導波路グレーティング。
1. An ion-exchange type optical waveguide formed on a glass substrate, wherein portions where metal ions are precipitated in a colloidal state and portions where metal ions remain in an ionic state are alternately and periodically arranged. An optical waveguide grating wherein a refractive index change occurs at a constant period.
【請求項2】 コロイド状態で析出している金属微粒子
がAgコロイドである請求項1記載の光導波路グレーテ
ィング。
2. The optical waveguide grating according to claim 1, wherein the fine metal particles precipitated in a colloidal state are Ag colloids.
【請求項3】 屈折率変化の周期が0.2〜1.0μm
である請求項1又は2記載の光導波路グレーティング。
3. The period of change in the refractive index is 0.2 to 1.0 μm.
The optical waveguide grating according to claim 1, wherein
【請求項4】 イオン交換法によってガラス基板に光導
波路を形成し、全体に低照射強度の光を照射して金属イ
オンをコロイド状態で析出させ、次いで高照射強度の光
を局所的に所望周期で照射し上記析出を消失させること
で、金属イオンがコロイド状態で析出している部分とイ
オン状態のままで存在する部分とを交互に周期的に形成
し、それによって一定周期の屈折率変化を生じさせるこ
とを特徴とする光導波路グレーティングの製造方法。
4. An optical waveguide is formed on a glass substrate by an ion exchange method, and the entire surface is irradiated with light having a low irradiation intensity to precipitate metal ions in a colloidal state. By irradiating the above and eliminating the above-mentioned precipitation, a portion where the metal ion is precipitated in a colloidal state and a portion where the metal ion remains in the ionic state are alternately and periodically formed, whereby the refractive index change at a constant period is formed. A method for manufacturing an optical waveguide grating, comprising:
【請求項5】 イオン交換法によってガラス基板に光導
波路を形成し、低照射強度の光を局所的に所望周期で照
射し金属イオンをコロイド状態で析出させることで、金
属イオンがコロイド状態で析出している部分とイオン状
態のままで存在する部分とを交互に周期的に形成し、そ
れによって一定周期の屈折率変化を生じさせることを特
徴とする光導波路グレーティングの製造方法。
5. An optical waveguide is formed on a glass substrate by an ion exchange method, and low-intensity light is locally irradiated at a desired period to deposit metal ions in a colloidal state, whereby the metal ions are deposited in a colloidal state. A method of manufacturing an optical waveguide grating, comprising: forming periodically formed portions and portions that remain in an ionic state alternately and periodically, thereby causing a periodic change in refractive index.
【請求項6】 2光束に分離したレーザ光による干渉縞
を用いて所望周期の照射光を形成する請求項1又は2記
載の光導波路グレーティングの製造方法。
6. The method of manufacturing an optical waveguide grating according to claim 1, wherein irradiation light having a desired period is formed by using interference fringes formed by laser light separated into two light beams.
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