JP2001101900A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2001101900A
JP2001101900A JP28094599A JP28094599A JP2001101900A JP 2001101900 A JP2001101900 A JP 2001101900A JP 28094599 A JP28094599 A JP 28094599A JP 28094599 A JP28094599 A JP 28094599A JP 2001101900 A JP2001101900 A JP 2001101900A
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JP
Japan
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macro cell
signal
integrated circuit
dft
dram
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JP28094599A
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Japanese (ja)
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Yuji Yokoyama
勇治 横山
Yosuke Tanaka
洋介 田中
Masahiro Katayama
雅弘 片山
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Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the number of processes of a memory integrated circuit on which logics are mixedly loaded and the like incorporated in plural DRAM macro-cells DRAM0-DRAM7 without increasing the manufacturing cost and obstructing its high speed operation and to improve the accuracy of test. SOLUTION: An individual identification numbers are given to DRAM marco- cells DRAM0-DRAM7 incorporated in a memory integrated circuit loading logics mixedly and the like, while a DFT circuit of each DRAM marco-cell is provided with a function recognizing an identification number given to a corresponding DRAM marco-cell based on marco-cells identification signals TDID0-TDID2, and a function in which a row address strobe signal RASN and a column address strobe signal CASN being a start control signal are selectively taken in a marco-cell, keeping a marco-cell active signal TMATMT selectively to a valid level, or fixing it substantially to an invalid level.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体集積回路装
置に関し、例えば、それぞれDFT回路を備える複数の
DRAMマクロセルを搭載する論理混載メモリ集積回路
ならびにその試験工数の削減及び試験精度の向上に利用
して特に有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly, to a semiconductor integrated circuit device having a plurality of DRAM macrocells each having a DFT circuit and a logic embedded memory integrated circuit. It concerns particularly effective technologies.

【0002】[0002]

【従来の技術】情報蓄積キャパシタ及びアドレス選択M
OSFET(金属酸化物半導体型電界効果トランジス
タ。この明細書では、MOSFETをして絶縁ゲート型
電界効果トランジスタの総称とする)をそれぞれ含むダ
イナミック型メモリセルが格子配列されてなるメモリア
レイをその基本構成要素とするダイナミック型RAM
(ランダムアクセスメモリ)がある。また、ゲートアレ
イ等からなる論理部と、それぞれダイナミック型RAM
を基本構成要素とする複数のDRAMマクロセルとを搭
載する論理混載メモリ集積回路の半導体集積回路装置が
ある。
2. Description of the Related Art Information storage capacitor and address selection M
A basic structure of a memory array in which dynamic memory cells each including an OSFET (metal oxide semiconductor type field effect transistor; in this specification, a MOSFET is generally referred to as an insulated gate type field effect transistor) is arranged in a lattice. Dynamic RAM as an element
(Random access memory). In addition, a logic unit including a gate array and the like, and a dynamic RAM
There is a semiconductor integrated circuit device of a logic embedded memory integrated circuit in which a plurality of DRAM macrocells each having a basic component are mounted.

【0003】一方、大容量化されつつあるダイナミック
型RAM等の機能試験を効率化し、その開発時における
TAT(Turn Around Time)を短縮す
る一つの手段として、DFT(Design For
Test)技術があり、DFT回路を内蔵するダイナミ
ック型RAM等が検討されている。
On the other hand, as one means for increasing the efficiency of functional tests of dynamic RAMs and the like which are increasing in capacity and shortening the TAT (Turn Around Time) at the time of their development, DFT (Design Forecast) has been proposed.
Test) technology, and a dynamic RAM or the like incorporating a DFT circuit is being studied.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本願発明者等は、この
発明に先立って、DFT回路を備える複数のDRAMマ
クロセルを搭載する論理混載メモリ集積回路の開発に従
事し、次の問題点に気付いた。すなわち、この論理混載
メモリ集積回路は、図9に例示されるように、例えば8
個のDRAMマクロセルDRAM0〜DRAM7を備
え、各DRAMマクロセルは、DFT回路(DFT)を
備える。DRAMマクロセルDRAM0〜DRAM7
は、論理部LCの出力信号たるロウアドレスストローブ
信号RASN(ここで、それが有効とされるとき選択的
にロウレベルとされるいわゆる反転信号等については、
その名称の末尾にNを付して表す。また、例えばロウア
ドレスストローブ信号RASNをもとに生成される内部
ロウアドレスストローブ信号rasn等の反転内部信号
については、nを付して表す。以下同様)又はカラムア
ドレスストローブ信号CASNがロウレベルとされるこ
とで選択的にかつ8個同時に選択状態とされ、指定アド
レスに対するアクセスを実行する。
Prior to the present invention, the present inventors engaged in the development of a logic-mixed memory integrated circuit having a plurality of DRAM macrocells having a DFT circuit, and noticed the following problems. . In other words, as shown in FIG.
DRAM macro cells DRAM0 to DRAM7 are provided, and each DRAM macrocell is provided with a DFT circuit (DFT). DRAM macro cells DRAM0 to DRAM7
Is a row address strobe signal RASN which is an output signal of the logic unit LC (here, for a so-called inverted signal which is selectively set to a low level when it is made valid,
The name is indicated by adding N to the end. Further, for example, an inverted internal signal such as an internal row address strobe signal rasn generated based on the row address strobe signal RASN is denoted by n. The same applies to the following) or the column address strobe signal CASN is set to the low level to selectively and simultaneously select eight pieces, thereby executing access to the specified address.

【0005】集積回路の微細化・高集積化技術が進む
中、上記論理混載メモリ集積回路も大規模化・大容量化
の一途にあり、相応してその所要チップ端子(ピン)数
が増加しつつある。周知のように、チップ端子数の増加
は、論理混載メモリ集積回路等のチップサイズを増大さ
せ,その低コスト化の妨げとなる。
As the technology for miniaturization and high integration of integrated circuits advances, the above-mentioned logic-mixed memory integrated circuit is also increasing in size and capacity, and the number of required chip terminals (pins) is correspondingly increased. It is getting. As is well known, the increase in the number of chip terminals increases the chip size of a logic-mixed memory integrated circuit or the like, and hinders cost reduction.

【0006】一方、論理混載メモリ集積回路等の大規模
化・大容量化が進むと、搭載される複数のDRAMマク
ロセル等の機能試験をより効率良くしかも精度良く実施
することが必要となり、結果的に各DRAMマクロセル
を個別にアクセスし、テストできることが必須条件とな
る。しかし、従来のDRAMマクロセルに搭載されるD
FT回路は、もともと単体で形成されたダイナミック型
RAM等のテストに供されるものであるため、個別識別
機能を持たない。
[0006] On the other hand, as the scale and capacity of a logic-mixed memory integrated circuit and the like increase, it becomes necessary to more efficiently and accurately perform functional tests on a plurality of DRAM macrocells and the like to be mounted. It is an essential condition that each DRAM macro cell can be individually accessed and tested. However, a DRAM mounted on a conventional DRAM macrocell
Since the FT circuit is used for testing a dynamic RAM or the like originally formed as a single unit, it does not have an individual identification function.

【0007】また、上記論理混載メモリ集積回路では、
通常アクセス時、8個のDRAMマクロセルが同時に選
択状態とされることから、各DRAMマクロセルを個別
にテストするには、図9に例示されるように、各DRA
Mマクロセルに対応して、試験用のテストロウアドレス
ストローブ信号TRAS0N〜TRAS7Nならびにテ
ストカラムアドレスストローブ信号TCAS0N〜TC
AS7Nを入力するためのチップ端子を追加し、これら
のテストロウアドレスストローブ信号及びテストカラム
アドレスストローブ信号あるいは論理部LCにより生成
されるロウアドレスストローブ信号RASN及びカラム
アドレスストローブ信号CASNをDRAMマクロセル
DRAM0〜DRAM7に選択的に伝達するためのマル
チプレクサMXR0〜MXR7ならびにMXC0〜MX
C7が必要となる。
In the above-mentioned logic-mixed memory integrated circuit,
At the time of normal access, eight DRAM macro cells are simultaneously selected. To test each DRAM macro cell individually, as shown in FIG.
The test row address strobe signals TRAS0N to TRAS7N for testing and the test column address strobe signals TCAS0N to TC correspond to the M macro cells.
A chip terminal for inputting AS7N is added, and these test row address strobe signal and test column address strobe signal or the row address strobe signal RASN and column address strobe signal CASN generated by the logic unit LC are added to the DRAM macro cells DRAM0 to DRAM7. MXR0-MXR7 and MXC0-MX for selectively transmitting to
C7 is required.

【0008】ところが、新しいチップ端子の追加は、上
記のように、論理混載メモリ集積回路のチップサイズを
増大させ、そのコスト上昇の原因となる。また、マルチ
プレクサMXR0〜MXR7ならびにMXC0〜MXC
7が追加される位置は、論理混載メモリ集積回路の動作
速度を律則する起動制御信号つまりロウアドレスストロ
ーブ信号RASN及びカラムアドレスストローブ信号C
ASNの信号経路にあたるため、信号経路の論理段数が
数段増えて、例えば数百MHz(メガヘルツ)台を目指
す論理混載メモリ集積回路の高速動作が制約を受ける。
However, the addition of a new chip terminal increases the chip size of the logic embedded memory integrated circuit, as described above, and causes an increase in cost. In addition, the multiplexers MXR0 to MXR7 and MXC0 to MXC
7 are added at start-up control signals that regulate the operation speed of the logic-mixed memory integrated circuit, that is, the row address strobe signal RASN and the column address strobe signal C.
Since this corresponds to the signal path of the ASN, the number of logic stages in the signal path increases by several steps, and the high-speed operation of the logic embedded memory integrated circuit aiming at, for example, several hundred MHz (megahertz) is restricted.

【0009】この発明の目的は、論理混載メモリ集積回
路等に搭載される複数のDRAMマクロセル等を、効率
良くかつ精度良くテストしうる手段を提供することにあ
る。この発明の他の目的は、そのコスト上昇を招くこと
なく、しかもその高速動作を阻害することなく、複数の
DRAMマクロセルを搭載する論理混載メモリ集積回路
等の試験工数を削減し、その試験精度を高めることにあ
る。
An object of the present invention is to provide means for efficiently and accurately testing a plurality of DRAM macrocells and the like mounted on a logic embedded memory integrated circuit and the like. Another object of the present invention is to reduce the number of test steps for a logic embedded memory integrated circuit having a plurality of DRAM macrocells without increasing the cost and without hindering the high-speed operation, thereby improving the test accuracy. To increase.

【0010】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、それぞれDFT回路を備える
複数のDRAMマクロセルを搭載する論理混載メモリ集
積回路等において、各DRAMマクロセルに個別の識別
番号を付与するとともに、各DRAMマクロセルのDF
T回路に、例えば固定レベルで入力されるマクロセル識
別信号をもとに、対応するマクロセルに与えられた識別
番号を認識する機能と、DFT信号として入力されるD
FTエントリー信号により対応するマクロセルが指定さ
れたとき、対応するマクロセルアクティブ信号を選択的
に有効レベルとして、起動制御信号となるロウアドレス
ストローブ信号及びカラムアドレスストローブ信号をマ
クロセル内に取り込ませ、対応するマクロセルが指定さ
れないときは、マクロセルアクティブ信号を無効レベル
として、ロウアドレスストローブ信号及びカラムアドレ
スストローブ信号を実質無効レベルに固定する機能とを
持たせる。
The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application. That is, in a logic-mixed memory integrated circuit or the like in which a plurality of DRAM macro cells each having a DFT circuit are mounted, an individual identification number is assigned to each DRAM macro cell, and the DF of each DRAM macro cell is assigned.
For example, a function of recognizing an identification number given to a corresponding macro cell based on a macro cell identification signal input at a fixed level to the T circuit, and a function of D input as a DFT signal
When a corresponding macro cell is designated by the FT entry signal, the corresponding macro cell active signal is selectively set to an effective level, and a row address strobe signal and a column address strobe signal serving as an activation control signal are taken into the macro cell. Is not specified, the macro cell active signal is set to the invalid level, and the function of fixing the row address strobe signal and the column address strobe signal to the substantially invalid level is provided.

【0012】上記した手段によれば、論理混載メモリ集
積回路等に新しいチップ端子を追加することなく、しか
もその動作時間を律則する信号経路にマルチプレクサ等
の回路を追加することなく、論理混載メモリ集積回路等
に搭載されるDRAMマクロセル等の機能試験を、各D
RAMマクロセル等に内蔵されるDFT回路により個別
に、しかも効率良く実施できる。この結果、そのコスト
上昇を招き、高速動作を阻害することなく、複数のDR
AMマクロセルを搭載する論理混載メモリ集積回路等の
試験工数を削減し、その試験精度を高めることができ
る。
According to the above-mentioned means, the logic-embedded memory can be implemented without adding a new chip terminal to the logic-embedded memory integrated circuit or the like, and without adding a circuit such as a multiplexer to a signal path that regulates the operation time. A functional test of a DRAM macro cell etc. mounted on an integrated circuit
The DFT circuit incorporated in the RAM macro cell or the like can be implemented individually and efficiently. As a result, the cost increases and the plurality of DRs can be
It is possible to reduce the number of test steps for a logic embedded memory integrated circuit or the like on which an AM macro cell is mounted, and to improve the test accuracy.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】図1には、この発明が適用された
論理混載メモリ集積回路(半導体集積回路装置)の一実
施例の基板配置図が示されている。同図をもとに、まず
この実施例の論理混載メモリ集積回路のブロック構成及
び基板配置の概要について説明する。なお、この実施例
の論理混載メモリ集積回路は、特に制限されないが、例
えば数百メガHz台のマシンサイクルで高速動作しうる
コンピュータシステムの所定のボードに搭載され、例え
ばそのキャッシュメモリを構成する。また、論理混載メ
モリ集積回路の基板配置に関する以下の記述では、図1
の位置関係をもって半導体基板CHIP面での上下左右
を表す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a board layout of an embodiment of a logic embedded memory integrated circuit (semiconductor integrated circuit device) to which the present invention is applied. First, an outline of a block configuration and a board arrangement of the logic-mixed memory integrated circuit of this embodiment will be described with reference to FIG. The logic-mixed memory integrated circuit of this embodiment is not particularly limited, but is mounted on a predetermined board of a computer system capable of operating at a high speed of, for example, several hundred megahertz machine cycles, and constitutes, for example, its cache memory. Further, in the following description regarding the substrate arrangement of the logic-mixed memory integrated circuit, FIG.
Represents the top, bottom, left and right on the semiconductor substrate CHIP surface.

【0014】図1において、本実施例の論理混載メモリ
集積回路は、特に制限されないが、半導体基板CHIP
の上辺に沿って配置される4個のDRAMマクロセルD
RAM0〜DRAM3と、その下辺に沿って配置される
4個のDRAMマクロセルDRAM4〜DRAM7とを
備える。これらのDRAMマクロセルは、後述するよう
に、テスト回路たるDFT回路(DFT)をそれぞれ備
え、例えば64KW(キロワード)×292b(ビッ
ト)の記憶容量をそれぞれ有する。
In FIG. 1, although the logic embedded memory integrated circuit of this embodiment is not particularly limited, the semiconductor substrate CHIP
DRAM macro cells D arranged along the upper side of
RAM0 to DRAM3, and four DRAM macrocells DRAM4 to DRAM7 arranged along the lower side. As will be described later, these DRAM macrocells each include a DFT circuit (DFT) serving as a test circuit, and have a storage capacity of, for example, 64 KW (kiloword) × 292b (bit).

【0015】論理混載メモリ集積回路は、さらに、各D
RAMマクロセルの内側にそれぞれ配置される8個のS
RAMマクロセルSRAM0〜SRAM7と、半導体基
板CHIPの中央部に配置されるもう1個のSRAMマ
クロセルSRAM8とを備える。SRAMマクロセルS
RAM0〜SRAM3ならびにSRAM4〜SRAM7
の内側には、半導体基板CHIPの横の中心線に沿っ
て、多数の入出力セルIOCが列状に配置され、これら
の入出力セルIOC及びSRAMマクロセルの間には、
図示されない多数のゲートアレイとチップ端子に対応す
るバンプBUMPとを含む論理部LCが配置される。言
うまでもなく、バンプBUMPは、各入出力セルIOC
内にも配置される。また、論理部LCのゲートアレイ
は、ユーザ仕様に基づいて組み合わされ、所定の論理回
路を構成する。
The logic-mixed memory integrated circuit further includes
8 S arranged inside the RAM macro cell
It includes RAM macro cells SRAM0 to SRAM7 and another SRAM macro cell SRAM8 arranged at the center of the semiconductor substrate CHIP. SRAM macro cell S
RAM0 to SRAM3 and SRAM4 to SRAM7
Inside, a number of input / output cells IOC are arranged in a row along a horizontal center line of the semiconductor substrate CHIP, and between these input / output cells IOC and the SRAM macro cell,
A logic unit LC including a number of gate arrays (not shown) and bumps BUMP corresponding to chip terminals is arranged. Needless to say, the bump BUMP is connected to each input / output cell IOC.
It is also placed inside. In addition, the gate arrays of the logic unit LC are combined based on user specifications to form a predetermined logic circuit.

【0016】図2には、図1の論理混載メモリ集積回路
に搭載されるDRAMマクロセルの一実施例のブロック
図が示されている。同図をもとに、論理混載メモリ集積
回路に搭載されるDRAMマクロセルDRAM0〜DR
AM7の構成及び動作の概要について説明する。なお、
DRAMマクロセルDRAM0〜DRAM7は、付与さ
れる識別番号が異なることを除き、すべて同一構成とさ
れる。
FIG. 2 is a block diagram showing one embodiment of a DRAM macro cell mounted on the logic-integrated memory integrated circuit of FIG. Based on the drawing, DRAM macro cells DRAM0 to DR mounted on a logic embedded memory integrated circuit
An outline of the configuration and operation of the AM 7 will be described. In addition,
All the DRAM macro cells DRAM0 to DRAM7 have the same configuration except that assigned identification numbers are different.

【0017】図2において、DRAMマクロセルは、そ
のレイアウト所要面積の大半を占めて配置されるメモリ
アレイMARYをその基本構成要素とする。メモリアレ
イMARYは、特に制限されないが、図の水平方向に平
行して配置される実質4,096本のワード線と、図の
垂直方向に平行して配置される実質1,168組の相補
ビット線とを含む。これらのワード線及び相補ビット線
の交点には、それぞれ情報蓄積キャパシタ及びアドレス
選択MOSFETを含む合計19,136,512個の
ダイナミック型メモリセルが格子状に配置される。
In FIG. 2, a DRAM macro cell has a memory array MARY arranged so as to occupy most of the required layout area as its basic component. The memory array MARY includes, but is not limited to, substantially 4,096 word lines arranged in parallel in the horizontal direction of the figure and substantially 1,168 sets of complementary bits arranged in parallel in the vertical direction of the figure. Including lines. At the intersections of these word lines and complementary bit lines, a total of 19,136,512 dynamic memory cells each including an information storage capacitor and an address selection MOSFET are arranged in a grid.

【0018】メモリアレイMARYを構成するワード線
は、図の左方においてロウアドレスデコーダRDに結合
され、択一的にハイレベルの選択レベルとされる。ロウ
アドレスデコーダRDには、ロウアドレスバッファRB
から図示されない12ビットの内部ロウアドレス信号が
供給される。また、ロウアドレスバッファRBには、論
理混載メモリ集積回路の図示されないアクセスユニット
からマクロセル入力端子RA0〜RABを介して12ビ
ットのロウアドレスRA0〜RAB(ここで、例えばロ
ウアドレス等の10を超える追番については、アルファ
ベットで表す場合がある。以下同様)が供給される。ま
た、マクロセル入力端子CLKNから入力バッファIB
1を介してクロック信号CLKNつまり内部クロック信
号clknが供給されるとともに、マクロセル入力端子
SIDからスキャンインデータSIDつまり内部スキャ
ンインデータsidが供給され、さらにマクロセル入力
端子SCKから入力バッファIB2を介してスキャンク
ロック信号SCKつまり内部スキャンクロック信号sc
kが供給される。
A word line constituting the memory array MARY is coupled to a row address decoder RD on the left side of the drawing, and is alternatively set to a high level selection level. The row address decoder RD includes a row address buffer RB.
Supplies a 12-bit internal row address signal (not shown). The row address buffer RB has a 12-bit row address RA0-RAB (here, for example, a row address or the like having more than ten additional addresses) from an access unit (not shown) of the logic-mixed memory integrated circuit via macro cell input terminals RA0-RAB. The number may be represented by an alphabet. The same applies hereinafter). Further, the input buffer IB is connected to the macro cell input terminal CLKN.
1, the clock signal CLKN, that is, the internal clock signal clkn, is supplied, the scan-in data SID, that is, the internal scan-in data sid is supplied from the macro cell input terminal SID, and the scan is performed from the macro cell input terminal SCK via the input buffer IB2. The clock signal SCK, that is, the internal scan clock signal sc
k is supplied.

【0019】なお、内部クロック信号clkn及び内部
スキャンクロック信号sckは、後述する出力データラ
ッチOL,入力データラッチIL,カラムアドレスバッ
ファCB,制御信号バッファSB,DFT信号バッファ
DBならびにマクロセルアクティブ信号バッファTBに
共通に供給される。また、内部スキャンインデータsi
dは、これらのバッファを構成するフリップフロップの
スキャンイン端子及びスキャンアウト端子をチェーン結
合する形で連結され、試験診断のためのスキャン経路を
構成する。該スキャン経路の終端は、後述するマクロセ
ル出力端子SODに結合され、スキャンアウトデータS
ODとなる。各バッファの構成及びスキャン経路ならび
にその用途等については、後で詳細に説明する。
The internal clock signal clkn and the internal scan clock signal sck are supplied to an output data latch OL, an input data latch IL, a column address buffer CB, a control signal buffer SB, a DFT signal buffer DB, and a macro cell active signal buffer TB, which will be described later. Supplied in common. In addition, internal scan-in data si
d is connected in a manner that the scan-in terminal and scan-out terminal of the flip-flops constituting these buffers are chain-coupled, and constitutes a scan path for test diagnosis. The end of the scan path is connected to a macro cell output terminal SOD, which will be described later, and scan-out data S
OD. The configuration of each buffer, the scan path, its use, and the like will be described later in detail.

【0020】ロウアドレスバッファRBは、DRAMマ
クロセルが通常のアクセスモードで選択状態とされると
き、前段のアクセスユニットからマクロセル入力端子R
A0〜RABを介して入力されるロウアドレスRA0〜
RABを内部クロック信号clknに従って取り込み、
保持するとともに、これらのロウアドレスをもとに、そ
れぞれが非反転及び反転信号からなる内部ロウアドレス
信号を生成して、ロウアドレスデコーダRDに供給す
る。また、DRAMマクロセルが所定のテストモードで
選択状態とされるときには、マクロセル入力端子SID
からシリアルに入力されるスキャンインデータSIDを
内部スキャンクロック信号sckに従って順次取り込
み、シフトして、出力データラッチOLに伝達する。
When a DRAM macro cell is selected in a normal access mode, the row address buffer RB receives a signal from a macro cell input terminal R from a preceding access unit.
Row addresses RA0 input through A0-RAB
RAB is taken according to the internal clock signal clkn,
In addition to the holding, based on these row addresses, an internal row address signal composed of a non-inverted signal and an inverted signal is generated and supplied to the row address decoder RD. When the DRAM macro cell is selected in a predetermined test mode, the macro cell input terminal SID
The scan-in data SID input serially from the device is sequentially taken in according to the internal scan clock signal sck, shifted, and transmitted to the output data latch OL.

【0021】ロウアドレスデコーダRDは、ロウアドレ
スバッファRBから供給される12ビットの内部ロウア
ドレス信号をデコードして、メモリアレイMARYの対
応するワード線を択一的にハイレベルの選択レベルとす
る。これにより、選択ワード線に結合される実質1,1
68個のメモリセルの微小読み出し信号が対応する相補
ビット線に出力され、メモリアレイMARYの図示され
ないセンスアンプによってハイレベル又はロウレベルの
2値読み出し信号とされる。
The row address decoder RD decodes a 12-bit internal row address signal supplied from the row address buffer RB, and selectively sets a corresponding word line of the memory array MARY to a high selection level. Thereby, substantially 1, 1 coupled to the selected word line
The minute read signals of the 68 memory cells are output to the corresponding complementary bit lines, and are converted into high-level or low-level binary read signals by a sense amplifier (not shown) of the memory array MARY.

【0022】次に、メモリアレイMARYを構成する相
補ビット線は、図の下方においてメインアンプMA及び
ライトアンプWAに結合される。これらのメインアンプ
MA及びライトアンプWAには、特に制限されないが、
カラムアドレスデコーダCDから図示されないそれぞれ
16ビットの読み出し用又は書き込み用ビット線選択信
号が供給される。また、メインアンプMAから出力され
る合計292ビットの読み出しデータは、72ビットず
つ四つのグループに分割されて出力データラッチOLに
供給され、ライトアンプWAには、入力データラッチI
Lから72ビット単位で書き込みデータが供給される。
カラムアドレスデコーダCDには、カラムアドレスバッ
ファCBから4ビットの内部カラムアドレス信号が供給
され、カラムアドレスバッファCBには、マクロセル入
力端子CA0〜CA3を介して4ビットのカラムアドレ
スCA0〜CA3が供給される。
Next, the complementary bit lines forming the memory array MARY are connected to the main amplifier MA and the write amplifier WA at the bottom of the figure. The main amplifier MA and the write amplifier WA are not particularly limited.
A 16-bit read or write bit line selection signal (not shown) is supplied from the column address decoder CD. The read data of a total of 292 bits output from the main amplifier MA are divided into four groups of 72 bits each and supplied to the output data latch OL. The write amplifier WA receives the input data latch I
Write data is supplied from L in units of 72 bits.
The column address decoder CD is supplied with a 4-bit internal column address signal from a column address buffer CB, and the column address buffer CB is supplied with 4-bit column addresses CA0 to CA3 via macro cell input terminals CA0 to CA3. You.

【0023】出力データラッチOL,入力データラッチ
ILならびにカラムアドレスバッファCBには、上記の
ように、内部クロック信号clkn,内部スキャンイン
データsidならびに内部スキャンクロック信号sck
が供給される。また、出力データラッチOLにより保持
される合計292ビットの読み出しデータは、73ビッ
トずつグループ分割されたままマルチプレクサMXに供
給され、このマルチプレクサMXには、マクロセル入力
端子MS0〜MS3を介して4ビットの出力選択信号M
S0〜MS3が供給される。マルチプレクサMXにより
選択された73ビットの読み出しデータは、出力セレク
タOSの一方の入力端子に供給される。出力セレクタO
Sの他方の入力端子には、入力データラッチILにより
保持される73ビットの書き込みデータが供給され、そ
の制御端子には、マクロセル入力端子DWMCを介して
試験出力制御信号DWMCが供給される。
As described above, the internal clock signal clkn, the internal scan-in data sid, and the internal scan clock signal sck are supplied to the output data latch OL, the input data latch IL, and the column address buffer CB.
Is supplied. Further, the read data of 292 bits in total held by the output data latch OL is supplied to the multiplexer MX while being divided into groups of 73 bits, and the multiplexer MX is connected to the multiplexer MX via the macro cell input terminals MS0 to MS3. Output selection signal M
S0 to MS3 are supplied. The 73-bit read data selected by the multiplexer MX is supplied to one input terminal of the output selector OS. Output selector O
The other input terminal of S is supplied with 73-bit write data held by an input data latch IL, and its control terminal is supplied with a test output control signal DWMC via a macro cell input terminal DWMC.

【0024】なお、試験出力制御信号DWMCは、DR
AMマクロセルが通常の読み出し又は書き込みモードと
されるときロウレベルの無効レベルとされ、所定のテス
トモードとされるときハイレベルの有効レベルとされ
る。また、ライトアンプWAには、マクロセル入力端子
WE0N〜WE3Nを介して入力される4ビットのライ
トイネーブル信号WE0N〜WE3Nをもとに生成され
る図示されない内部ライトイネーブル信号we0n〜w
e3nが供給される。
Note that the test output control signal DWMC is DR
When the AM macro cell is set to the normal read or write mode, it is set to the low level invalid level, and when set to the predetermined test mode, it is set to the high level valid level. The write amplifier WA has internal write enable signals we0n-w (not shown) generated based on 4-bit write enable signals WE0N-WE3N input via the macro cell input terminals WE0N-WE3N.
e3n is supplied.

【0025】カラムアドレスバッファCBは、マクロセ
ル入力端子CA0〜CA3を介して入力されるカラムア
ドレスCA0〜CA3を、内部クロック信号clknに
従って取り込み、保持するとともに、これらのカラムア
ドレスをもとにそれぞれ非反転及び反転信号からなる内
部カラムアドレス信号を生成し、カラムアドレスデコー
ダCDに供給する。カラムアドレスデコーダCDは、カ
ラムアドレスバッファCBから供給される内部カラムア
ドレス信号をデコードして、メインアンプMAに対する
読み出し用ビット線選択信号あるいはライトアンプWA
に対する書き込み用ビット線選択信号を択一的にハイレ
ベルの選択レベルとする。
The column address buffer CB captures and holds the column addresses CA0 to CA3 input via the macro cell input terminals CA0 to CA3 in accordance with the internal clock signal clkn, and respectively non-inverts based on these column addresses. And an internal column address signal comprising an inverted signal and an inverted signal. The column address decoder CD decodes the internal column address signal supplied from the column address buffer CB, and outputs a read bit line selection signal to the main amplifier MA or a write amplifier WA.
Is alternatively set to a high-level selection level.

【0026】メインアンプMAは、DRAMマクロセル
が通常の読み出しモードで選択状態とされるとき、メモ
リアレイMARYの選択ワード線に結合される1,16
8個のメモリセルから対応する相補ビット線を介して出
力される読み出し信号を、読み出し用ビット線選択信号
に従って288ビットずつ選択して増幅し、出力データ
ラッチOLに伝達する。このとき、出力データラッチO
Lは、メインアンプMAから出力される読み出しデータ
を、内部クロック信号clknに従って取り込み、保持
するとともに、72ビットずつ四つのグループに分割
し、マルチプレクサMXに伝達する。マルチプレクサM
Xは、出力選択信号MS0〜MS3に従ってメインアン
プMAから伝達される読み出しデータを72ビット選択
し、出力セレクタOSに伝達する。出力セレクタOS
は、試験出力制御信号DWMCのロウレベルを受けてマ
ルチプレクサMXから伝達される72ビットの読み出し
データを選択し、マクロセル出力端子DO0〜DO71
を介して出力する。
The main amplifier MA is connected to the selected word line of the memory array MARY when the DRAM macro cell is selected in the normal read mode.
Read signals output from the eight memory cells via the corresponding complementary bit lines are selected and amplified 288 bits at a time in accordance with the read bit line select signal, and transmitted to the output data latch OL. At this time, the output data latch O
L captures and holds the read data output from the main amplifier MA according to the internal clock signal clkn, divides the read data into four groups of 72 bits each, and transmits the groups to the multiplexer MX. Multiplexer M
X selects 72 bits of read data transmitted from the main amplifier MA according to the output selection signals MS0 to MS3, and transmits the selected data to the output selector OS. Output selector OS
Receives the low level of the test output control signal DWMC, selects 72-bit read data transmitted from the multiplexer MX, and selects the macro cell output terminals DO0 to DO71.
Output via.

【0027】一方、入力データラッチILは、DRAM
マクロセルが通常の書き込みMOSFETで選択状態と
されるとき、外部のアクセスユニットからマクロセル入
力端子WD0〜WD71を介して入力される72ビット
の書き込みデータを、内部クロック信号clknに従っ
て取り込み、保持するとともに、ライトアンプWAを構
成する288個の単位ライトアンプのうち、書き込み用
ビット線選択信号により指定される72個の単位ライト
アンプに伝達する。このとき、ライトアンプWAの各単
位ライトアンプは、内部ライトイネーブル信号we0n
〜we3nのハイレベルを受けて72個ずつ選択的に動
作状態となり、保持するそれぞれ72ビット、合計28
8ビットの書き込みデータをメモリアレイMARYの選
択ワード線に結合される72個ないし288個のメモリ
セルに書き込む。
On the other hand, the input data latch IL is
When the macro cell is selected by a normal write MOSFET, 72-bit write data input from an external access unit via the macro cell input terminals WD0 to WD71 is captured and held in accordance with the internal clock signal clkn, and written. The signal is transmitted to 72 unit write amplifiers specified by the write bit line selection signal among the 288 unit write amplifiers constituting the amplifier WA. At this time, each unit write amplifier of the write amplifier WA outputs the internal write enable signal we0n.
Wwe3n are selectively activated in response to the high levels of 72 to 72, each holding 72 bits, for a total of 28
The 8-bit write data is written to 72 to 288 memory cells coupled to the selected word line of the memory array MARY.

【0028】DRAMマクロセルは、さらに、メモリ制
御回路CTL及びDFT回路(DFT)と、制御信号バ
ッファSB,DFT信号バッファDBならびにマクロセ
ルアクティブ信号バッファTBとを備える。このうち、
制御信号バッファSBには、マクロセル入力端子RAS
N,CASN,RESN(及び入力バッファIB4)な
らびにWE0N〜WE3Nを介して、起動制御信号とな
るロウアドレスストローブ信号RASN,カラムアドレ
スストローブ信号CASN,リセット制御信号RESN
ならびにライトイネーブル信号WE0N〜WE3Nが供
給されるとともに、DFT回路から内部マクロセルアク
ティブ信号tmaentが供給される。また、メモリ制
御回路CTLには、制御信号バッファSBから、各起動
制御信号に対応する図示されない内部ロウアドレススト
ローブ信号rasn,内部カラムアドレスストローブ信
号casn,内部リセット制御信号resnならびに内
部ライトイネーブル信号we0n〜we3nが供給され
る。
The DRAM macro cell further includes a memory control circuit CTL and a DFT circuit (DFT), a control signal buffer SB, a DFT signal buffer DB, and a macro cell active signal buffer TB. this house,
The control signal buffer SB has a macro cell input terminal RAS
N, CASN, RESN (and input buffer IB4) and WE0N to WE3N, a row address strobe signal RASN, a column address strobe signal CASN, and a reset control signal RESN serving as start-up control signals.
In addition, the write enable signals WE0N to WE3N are supplied, and the internal macrocell active signal tment is supplied from the DFT circuit. Further, the memory control circuit CTL receives, from the control signal buffer SB, an internal row address strobe signal rasn, an internal column address strobe signal casn, an internal reset control signal resn, and an internal write enable signal we0n. We3n are supplied.

【0029】一方、DFT信号バッファDBには、マク
ロセル入力端子TDMS0〜TDMS5を介してDFT
信号の一部たる6ビットのDFTエントリー信号TDM
S0〜TDMS5が供給されるとともに、マクロセル入
力端子TDID0〜TDID2ならびにTDMCKNを
介してマクロセル識別信号TDID0〜TDID2なら
びにDFTクロック信号TDMCKNが供給される。ま
た、DFT回路には、DFT信号バッファDBを介して
上記DFTエントリー信号TDMS0〜TDMS5,マ
クロセル識別信号TDID0〜TDID2ならびにDF
Tクロック信号TDMCKNが供給され、マクロセルア
クティブ信号バッファTBには、DFT回路から内部マ
クロセルアクティブ信号tmaentが供給される。
On the other hand, the DFT signal buffer DB has a DFT signal via macro cell input terminals TDMS0 to TDMS5.
6-bit DFT entry signal TDM as part of signal
S0 to TDMS5 are supplied, and macro cell identification signals TDID0 to TDID2 and a DFT clock signal TDCKN are supplied via macro cell input terminals TDID0 to TDID2 and TDCKN. Further, the DFT circuit includes the DFT entry signals TDMS0 to TDMS5, macro cell identification signals TDID0 to TDID2, and DF via the DFT signal buffer DB.
The T clock signal TDMCKN is supplied, and the macro cell active signal buffer TB is supplied with the internal macro cell active signal tmaent from the DFT circuit.

【0030】制御信号バッファSB,DFT信号バッフ
ァDBならびにマクロセルアクティブ信号バッファTB
には、前述のように、内部クロック信号clkn,内部
スキャンインデータsidならびに内部スキャンクロッ
ク信号sckが供給される。また、DFT回路によって
生成される内部マクロセルアクティブ信号tmaent
は、出力バッファOB1及びマクロセル出力端子TMA
ENTを経た後、マクロセルアクティブ信号TMAEN
Tとして外部に出力され、マクロセルアクティブ信号バ
ッファTBのスキャンアウト出力信号SODは、スキャ
ンアウトデータSODとしてマクロセル出力端子SOD
から出力される。
Control signal buffer SB, DFT signal buffer DB and macro cell active signal buffer TB
Is supplied with the internal clock signal clkn, the internal scan-in data sid, and the internal scan clock signal sck, as described above. Also, the internal macro cell active signal tmaint generated by the DFT circuit
Is an output buffer OB1 and a macro cell output terminal TMA.
After passing through ENT, the macro cell active signal TMAEN
The scan-out output signal SOD of the macro cell active signal buffer TB is output to the outside as T, and the macro cell output terminal SOD is output as scan-out data SOD.
Output from

【0031】制御信号バッファSBは、外部のアクセス
ユニットからマクロセル入力端子RASN,CASN,
RESN(及び入力バッファIB4)ならびにWE0N
〜WE3Nを介して供給されるロウアドレスストローブ
信号RASN,カラムアドレスストローブ信号CAS
N,リセット制御信号RESNならびにライトイネーブ
ル信号WE0N〜WE3Nを内部クロック信号clkn
に従って取り込み、保持するとともに、これらの起動制
御信号をもとに内部ロウアドレスストローブ信号ras
n,内部カラムアドレスストローブ信号casn,内部
リセット制御信号resnならびに内部ライトイネーブ
ル信号we0n〜we3nを生成して、メモリ制御回路
CTLに供給する。なお、内部ライトイネーブル信号w
e0n〜we3nは、前述のように、ライトアンプWA
にも供給される。
The control signal buffer SB is supplied from an external access unit to macro cell input terminals RASN, CASN,
RESN (and input buffer IB4) and WE0N
To WE3N, the row address strobe signal RASN and the column address strobe signal CAS
N, the reset control signal RESN and the write enable signals WE0N to WE3N to the internal clock signal clkn.
And the internal row address strobe signal ras based on these activation control signals.
n, an internal column address strobe signal casn, an internal reset control signal resn, and internal write enable signals we0n-we3n, and supply them to the memory control circuit CTL. Note that the internal write enable signal w
e0n to we3n are write amplifiers WA as described above.
Is also supplied.

【0032】メモリ制御回路CTLは、制御信号バッフ
ァSBから供給される内部ロウアドレスストローブ信号
rasn,内部カラムアドレスストローブ信号cas
n,内部リセット制御信号resnならびに内部ライト
イネーブル信号we0n〜we3nをもとに、DRAM
マクロセルの動作モードを識別して、図示されない内部
制御信号を選択的に生成し、DRAMマクロセルの各部
に供給する。
The memory control circuit CTL includes an internal row address strobe signal rasn and an internal column address strobe signal cas supplied from the control signal buffer SB.
n, the internal reset control signal resn, and the internal write enable signals we0n to we3n.
The operation mode of the macro cell is identified, an internal control signal (not shown) is selectively generated, and supplied to each section of the DRAM macro cell.

【0033】一方、DFT信号バッファDBは、例えば
ウエハ状態で行われる論理混載メモリ集積回路のプロー
ブテスト時において、外部の試験装置から論理混載メモ
リ集積回路の論理部LCならびにDFT信号バッファD
Bを介して入力されるDFT信号つまりDFTエントリ
ー信号TDMS0〜TDMS5ならびにマクロセル識別
信号TDID0〜TDID2を、DFTクロック信号T
DMCKNに従って取り込み、DFT回路に伝達する。
また、DFT回路は、これらのDFT信号をもとに所定
の試験動作を実施し、その結果を外部試験装置に報告す
る。
On the other hand, the DFT signal buffer DB, for example, during a probe test of the logic embedded memory integrated circuit performed in a wafer state, is provided from an external tester to the logic part LC of the logic embedded memory integrated circuit and the DFT signal buffer D.
B, the DFT entry signals TDMS0 to TDMS5 and the macro cell identification signals TDID0 to TDID2 are input to the DFT clock signal T
The data is captured according to DMCKN and transmitted to the DFT circuit.
Further, the DFT circuit performs a predetermined test operation based on these DFT signals, and reports the result to an external test device.

【0034】この実施例において、論理混載メモリ集積
回路に搭載される8個のDRAMマクロセルDRAM0
〜DRAM7には、その追番に対応する0ないし7の識
別番号がそれぞれ与えられ、各DRAMマクロセルのマ
クロセル入力端子TDID0〜TDID2は、対応する
DRAMマクロセルに与えられた識別番号の2進値に対
応して、選択的に電源電圧供給点VDD又は接地電位供
給点GNDに結合される。また、DFTエントリー信号
TDMS0〜TDMS5により指定されるテストモード
の中には、DRAMマクロセルDRAM0〜DRAM7
を選択的にアクティブ状態とするためのモードが含ま
れ、これによって特定のDRAMマクロセルを指定しな
がら個別に機能試験を実施できるものとされる。制御信
号バッファSB及びDFT信号バッファDBの具体的構
成とDFT回路のテストモードならびにその指定方法等
については、後で詳細に説明する。
In this embodiment, eight DRAM macrocells DRAM0 mounted on a logic embedded memory integrated circuit are provided.
DRAMDRAM7 are respectively assigned identification numbers of 0 to 7 corresponding to the serial numbers, and macro cell input terminals TDID0 to TDID2 of each DRAM macro cell correspond to the binary value of the identification number given to the corresponding DRAM macro cell. Then, it is selectively coupled to the power supply voltage supply point VDD or the ground potential supply point GND. In the test mode specified by DFT entry signals TDMS0 to TDMS5, DRAM macro cells DRAM0 to DRAM7
Is selectively activated, whereby a functional test can be individually performed while designating a specific DRAM macro cell. A specific configuration of the control signal buffer SB and the DFT signal buffer DB, a test mode of the DFT circuit, a method of specifying the test mode, and the like will be described later in detail.

【0035】図3には、図2のDRAMマクロセルに含
まれる制御信号バッファSBの一実施例の回路図が示さ
れている。同図をもとに、この実施例のDRAMマクロ
セルの制御信号バッファSBの具体的構成及び動作につ
いて説明する。
FIG. 3 is a circuit diagram showing one embodiment of the control signal buffer SB included in the DRAM macro cell of FIG. The specific configuration and operation of the control signal buffer SB of the DRAM macro cell of this embodiment will be described with reference to FIG.

【0036】図3において、制御信号バッファSBは、
特に制限されないが、マクロセル入力端子RASN,C
ASN,RESNならびにWE0N〜WE3Nに対応し
て設けられる合計7個のフリップフロップFF1〜FF
7を含む。これらのフリップフロップは、ともにエッジ
トリガ型とされ、そのクロック入力端子CKN及びSC
Kには、前記内部クロック信号clkn及び内部スキャ
ンクロック信号sckがそれぞれ共通に供給される。ま
た、フリップフロップFF3を除く6個のフリップフロ
ップFF1〜FF2ならびにFF4〜FF7のリセット
入力端子RESNには、マクロセル入力端子RESNか
ら入力バッファIB4を介して内部リセット制御信号r
esnが共通に供給される。さらに、フリップフロップ
FF1〜FF7のスキャンイン端子SID及びスキャン
アウト端子SODは、順次チェーン結合され、これによ
って試験診断用のスキャン経路が形成される。
In FIG. 3, the control signal buffer SB includes:
Although not particularly limited, macro cell input terminals RASN, C
A total of seven flip-flops FF1 to FF provided corresponding to ASN, RESN and WE0N to WE3N
7 inclusive. These flip-flops are both edge-triggered, and have their clock input terminals CKN and SC
The internal clock signal clkn and the internal scan clock signal sck are commonly supplied to K. The reset input terminals RESN of the six flip-flops FF1 to FF2 and FF4 to FF7 excluding the flip-flop FF3 are connected to the internal reset control signal r from the macro cell input terminal RESN via the input buffer IB4.
esn is commonly supplied. Further, the scan-in terminal SID and the scan-out terminal SOD of the flip-flops FF1 to FF7 are sequentially chain-coupled, thereby forming a scan path for test diagnosis.

【0037】制御信号バッファSBを構成するフリップ
フロップFF1及びFF2のデータ入力端子INには、
オア(OR)ゲートOG1及びOG2の出力信号がそれ
ぞれ供給され、そのデータ出力端子DOUTにおける非
反転出力信号は、内部ロウアドレスストローブ信号ra
sn又は内部カラムアドレスストローブ信号casnと
して後段のメモリ制御回路CTLに供給される。オアゲ
ートOG1及びOG2の一方の入力端子は、対応するマ
クロセル入力端子RASN又はCASNにそれぞれ結合
され、その他方の入力端子には、前記内部マクロセルア
クティブ信号tmaentのインバータV1による反転
信号が共通に供給される。
The data input terminals IN of the flip-flops FF1 and FF2 constituting the control signal buffer SB are
Output signals of OR gates OG1 and OG2 are supplied, respectively, and a non-inverted output signal at a data output terminal DOUT is an internal row address strobe signal ra.
It is supplied to the subsequent memory control circuit CTL as sn or an internal column address strobe signal casn. One input terminal of each of the OR gates OG1 and OG2 is coupled to a corresponding macro cell input terminal RASN or CASN, respectively, and the other input terminal is commonly supplied with an inverted signal of the internal macro cell active signal tmaint by an inverter V1. .

【0038】これにより、オアゲートOG1及びOG2
の出力信号は、内部マクロセルアクティブ信号tmae
ntが有効レベルつまりハイレベルとされ、かつ対応す
るロウアドレスストローブ信号RASN又はカラムアド
レスストローブ信号CASNが有効レベルつまりロウレ
ベルとされることで、選択的にハイレベルとされる。言
い換えるならば、オアゲートOG1及びOG2の出力信
号は、内部マクロセルアクティブ信号tmaentが無
効レベルつまりロウレベルとされるとき、ロウアドレス
ストローブ信号RASN又はカラムアドレスストローブ
信号CASNの論理レベルに関係なくハイレベルに固定
される訳であって、このとき、ロウアドレスストローブ
信号RASN又はカラムアドレスストローブ信号CAS
Nは、実質的な無効レベルつまりハイレベルに固定され
る形となる。
Thus, the OR gates OG1 and OG2
Is an internal macrocell active signal tmae.
nt is set to a valid level, that is, a high level, and the corresponding row address strobe signal RASN or column address strobe signal CASN is set to a valid level, that is, a low level. In other words, the output signals of the OR gates OG1 and OG2 are fixed to the high level when the internal macrocell active signal tmaint is at the invalid level, that is, the low level, regardless of the logical level of the row address strobe signal RASN or the column address strobe signal CASN. At this time, the row address strobe signal RASN or the column address strobe signal CAS
N has a form that is fixed to a substantially invalid level, that is, a high level.

【0039】オアゲートOG1及びOG2の出力信号の
ハイレベル及びロウレベルは、特に制限されないが、内
部クロック信号clknの立ち下がりエッジ又は内部ス
キャンクロック信号sckの立ち上がりエッジを受けて
フリップフロップFF1及びFF2に取り込まれ、内部
ロウアドレスストローブ信号rasn又は内部カラムア
ドレスストローブ信号casnとなる。なお、内部マク
ロセルアクティブ信号tmaentの生成条件等につい
ては、後で説明する。
The high level and low level of the output signals of the OR gates OG1 and OG2 are not particularly limited. , Internal row address strobe signal rasn or internal column address strobe signal casn. The conditions for generating the internal macro cell active signal tmaint will be described later.

【0040】周知のように、ロウアドレスストローブ信
号RASN及びカラムアドレスストローブ信号CASN
は、DRAMマクロセルの基本構成要素となるダイナミ
ック型RAMを選択的に動作状態とするための起動制御
信号であって、後段のメモリ制御回路CTLは、内部ロ
ウアドレスストローブ信号rasn及び内部カラムアド
レスストローブ信号casnのロウレベルを受けて選択
的にDRAMマクロセルを動作状態とする。内部マクロ
セルアクティブ信号tmaentがロウレベルとされる
とき、DRAMマクロセルはロウアドレスストローブ信
号RASN及びカラムアドレスストローブ信号CASN
の論理レベルに関係なく非選択状態とされ、アクセスユ
ニット又は試験装置からのアクセスを受理しない。
As is well known, a row address strobe signal RASN and a column address strobe signal CASN
Is a start control signal for selectively bringing a dynamic RAM, which is a basic component of the DRAM macro cell, into an operating state. The memory control circuit CTL at the subsequent stage is configured to control the internal row address strobe signal rasn and the internal column address strobe signal. The DRAM macro cell is selectively activated in response to the low level of casn. When the internal macro cell active signal tmain is set to the low level, the DRAM macro cell performs row address strobe signal RASN and column address strobe signal CASN.
Irrespective of the logic level of, the access from the access unit or the test apparatus is not accepted.

【0041】次に、制御信号バッファSBを構成するフ
リップフロップFF3のデータ入出力端子INには、入
力バッファIB4を介してリセット制御信号RESNが
供給され、そのデータ出力端子OUTは開放状態とされ
る。入力バッファIB4の出力信号は、そのまま内部リ
セット制御信号resnとして後段のメモリ制御回路C
TLに供給されるとともに、各バッファに供給される。
Next, the reset control signal RESN is supplied to the data input / output terminal IN of the flip-flop FF3 constituting the control signal buffer SB via the input buffer IB4, and the data output terminal OUT is opened. . The output signal of the input buffer IB4 is used as it is as the internal reset control signal resn,
It is supplied to each buffer while being supplied to the TL.

【0042】つまり、フリップフロップFF3は、上記
フリップフロップFF1及びFF2のように対応するリ
セット制御信号RESNを内部クロック信号clknに
同期化するためのものではなく、リセット制御信号RE
SNをスキャン経路に取り込み、DRAMマクロセルの
試験診断に供するためのものとなる。
That is, the flip-flop FF3 is not for synchronizing the corresponding reset control signal RESN with the internal clock signal clkn like the above-mentioned flip-flops FF1 and FF2, but for the reset control signal REFF.
The SN is taken into the scan path and used for test diagnosis of the DRAM macro cell.

【0043】一方、制御信号バッファSBを構成するフ
リップフロップFF4〜FF7のデータ入出力端子IN
は、対応するライトイネーブル信号WE0N〜WE3N
にそれぞれ結合され、そのデータ出力端子OUTにおけ
る非反転出力信号は、それぞれ内部ライトイネーブル信
号we0n〜we3nとなる。これらの内部ライトイネ
ーブル信号we0n〜we3nは、後段のメモリセル制
御回路CTLに供給されるとともに、ライトアンプWA
にも供給される。
On the other hand, the data input / output terminals IN of the flip-flops FF4 to FF7 forming the control signal buffer SB
Are the corresponding write enable signals WE0N to WE3N
, And the non-inverted output signals at the data output terminal OUT are the internal write enable signals we0n to we3n, respectively. These internal write enable signals we0n to we3n are supplied to a subsequent memory cell control circuit CTL, and the write amplifier WA
Is also supplied.

【0044】図4には、図2のDRAMマクロセルに含
まれるDFT信号バッファDB及び関連部の一実施例の
部分的な回路図が示されている。同図をもとに、この実
施例のDRAMマクロセルのDFT信号バッファDB及
びマクロセルアクティブ信号バッファTBの具体的構成
及び動作について説明する。
FIG. 4 is a partial circuit diagram of one embodiment of the DFT signal buffer DB and related parts included in the DRAM macro cell of FIG. The specific configuration and operation of the DFT signal buffer DB and the macro cell active signal buffer TB of the DRAM macro cell of this embodiment will be described with reference to FIG.

【0045】図4において、DFT信号バッファDB
は、特に制限されないが、マクロセル入力端子TDMS
0〜TDMS5,TDID0〜TDID2ならびにTD
MCKNに対応して設けられるエッジトリガ型の10個
のフリップフロップFF11〜FF20を含み、マクロ
セルアクティブ信号バッファTBは、マクロセル出力端
子TMAENTに対応して設けられるエッジトリガ型の
1個のフリップフロップFF21を含む。これらのフリ
ップフロップは、前記フリップフロップFF3と同様
に、すべてスキャン経路による試験診断時のみ使用さ
れ、リセット入力端子を備えない。また、そのクロック
入力端子CKN及びSCKには、内部クロック信号cl
kn及び内部スキャンクロック信号sckがそれぞれ共
通に供給され、そのスキャンイン端子SID及びスキャ
ンアウト端子SODは、試験診断用のスキャン経路を構
成すべく順次チェーン結合される。
In FIG. 4, DFT signal buffer DB
Is not particularly limited, but the macro cell input terminal TDMS
0 to TDMS5, TDID0 to TDID2 and TD
The macro cell active signal buffer TB includes ten edge trigger type flip-flops FF21 provided corresponding to the MCKN, and the edge trigger type flip-flop FF21 provided corresponding to the macro cell output terminal TMAENT. Including. These flip-flops, like the flip-flop FF3, are used only at the time of test diagnosis using a scan path and do not include a reset input terminal. The clock input terminals CKN and SCK have internal clock signals cl
kn and the internal scan clock signal sck are supplied in common, and their scan-in terminal SID and scan-out terminal SOD are sequentially chain-coupled to form a scan path for test diagnosis.

【0046】DFT信号バッファDBを構成するフリッ
プフロップFF11〜FF20のデータ入力端子IN
は、対応するマクロセル入力端子TDMS0〜TDMS
5,TDID0〜TDID2あるいはTDMCKNにそ
れぞれ結合され、そのデータ出力端子OUTは、すべて
開放状態とされる。したがって、DFTエントリー信号
TDMS0〜TDMS5,マクロセル識別信号TDID
0〜TDID2ならびにDFTクロック信号TDMCK
Nは、DFT信号バッファDBの対応するフリップフロ
ップを介することなくそのまま後段のDFT回路に伝達
される。なお、DFTクロック信号TDMCKNは、前
述のように、各バッファを構成するフリップフロップの
クロック入力端子SCKにも供給される。
Data input terminal IN of flip-flops FF11-FF20 constituting DFT signal buffer DB
Are the corresponding macro cell input terminals TDMS0 to TDMS
5, TDID0 to TDID2 or TDMCKN, respectively, and all the data output terminals OUT are open. Therefore, DFT entry signals TDMS0-TDMS5, macro cell identification signal TDID
0 to TDID2 and DFT clock signal TDMCK
N is transmitted directly to the subsequent DFT circuit without passing through the corresponding flip-flop of the DFT signal buffer DB. Note that the DFT clock signal TDMCKN is also supplied to the clock input terminal SCK of the flip-flop constituting each buffer as described above.

【0047】一方、マクロセルアクティブ信号バッファ
TBを構成するフリップフロップFF21のデータ入力
端子INには、論理部LCから内部マクロセルアクティ
ブ信号tmaentが供給され、そのデータ出力端子O
UTは開放状態とされる。内部マクロセルアクティブ信
号tmaentは、さらに直接出力バッファOB1の入
力端子に供給され、マクロセル出力端子TMAENTか
らマクロセルアクティブ信号TMAENTとして試験装
置に出力される。
On the other hand, the data input terminal IN of the flip-flop FF21 forming the macro cell active signal buffer TB is supplied with the internal macro cell active signal tment from the logic unit LC, and its data output terminal O
The UT is in an open state. The internal macro cell active signal tmaint is further supplied directly to the input terminal of the output buffer OB1, and is output from the macro cell output terminal TMAENT to the test apparatus as the macro cell active signal TMAENT.

【0048】なお、この実施例の論理混載メモリ集積回
路では、後述するように、DRAMマクロセルDRAM
0〜DRAM7に対し、その追番に対応する0ないし7
の識別番号がそれぞれ付与され、各DRAMマクロセル
のマクロセル入力端子TDID0〜TDID2は、識別
番号の論理値に対応する組み合わせで、電源電圧供給点
VDD又は接地電位供給点GNDにそれぞれ選択的に結
合される。
In the logic integrated memory integrated circuit of this embodiment, as will be described later, a DRAM macro cell DRAM
0 to 7 corresponding to the serial number of the DRAM 7
And the macro cell input terminals TDID0 to TDID2 of each DRAM macro cell are selectively coupled to the power supply voltage supply point VDD or the ground potential supply point GND in a combination corresponding to the logical value of the identification number. .

【0049】各DRAMマクロセルのDFT回路は、マ
クロセル入力端子TDID0〜TDID2、つまりこれ
らのマクロセル入力端子を介して入力されるマクロセル
識別信号TDID0〜TDID2をもとに、対応するD
RAMマクロセルに付与された識別番号を認識する。そ
して、論理混載メモリ集積回路が所定のテストモードと
され、かつDFTエントリー信号TDMS0〜TDMS
5の所定ビットによって対応するDRAMマクロセルの
識別番号が指定されるとき、対応するDRAMマクロセ
ルに関する機能試験を個別に実施しうる機能を持つ。
The DFT circuit of each DRAM macro cell generates a corresponding D based on macro cell input terminals TDID0 to TDID2, that is, macro cell identification signals TDID0 to TDID2 input via these macro cell input terminals.
The identification number given to the RAM macro cell is recognized. Then, the logic embedded memory integrated circuit is set to a predetermined test mode, and DFT entry signals TDMS0 to TDMS are set.
When the identification number of the corresponding DRAM macro cell is designated by 5 predetermined bits, the function test can be individually performed for the corresponding DRAM macro cell.

【0050】一方、各DRAMマクロセルのDFT回路
は、論理混載メモリ集積回路が通常の動作モードとされ
るとき、その出力信号たる内部マクロセルアクティブ信
号tmaentをロウレベルとし、これを受けてマクロ
セル出力端子TMAENTにはロウレベルのマクロセル
アクティブ信号TMAENTが出力される。また、論理
混載メモリ集積回路が所定のテストモードとされ、かつ
DFTエントリー信号TDMS0〜TDMS5により対
応するDRAMマクロセルの識別番号が指定されると
き、内部マクロセルアクティブ信号tmaentを選択
的にハイレベルとし、これを受けてマクロセル出力端子
TMAENTにはハイレベルのマクロセルアクティブ信
号TMAENTが出力される。このとき、DFTエント
リー信号TDMS0〜TDMS5によって他のDRAM
マクロセルの識別番号が指定されるとき、内部マクロセ
ルアクティブ信号tmaentつまりマクロセルアクテ
ィブ信号TMAENTはロウレベルのままとされる。
On the other hand, the DFT circuit of each DRAM macro cell sets the internal macro cell active signal tmain, which is the output signal thereof, to a low level when the logic-mixed memory integrated circuit is set to the normal operation mode, and receives this signal at the macro cell output terminal TMAENT. Outputs a low-level macro cell active signal TMAENT. When the logic-mixed memory integrated circuit is set to a predetermined test mode and the DFT entry signals TDMS0 to TDMS5 specify the corresponding DRAM macrocell identification number, the internal macrocell active signal tmain is selectively set to a high level. In response to this, a high-level macro cell active signal TMAENT is output to the macro cell output terminal TMAENT. At this time, other DRAMs are supplied by DFT entry signals TDMS0 to TDMS5.
When the identification number of the macro cell is designated, the internal macro cell active signal tmain, that is, the macro cell active signal TMAENT is kept at the low level.

【0051】前記図3で示した通り、マクロセルアクテ
ィブ信号TMAENTがハイレベルとされるとき、論理
部LCから供給されるロウアドレスストローブ信号RA
SN及びカラムアドレスストローブ信号CASNは、そ
のまま内部ロウアドレスストローブ信号rasn又は内
部カラムアドレスストローブ信号casnとして各DR
AMマクロセルのメモリ制御回路CTLに伝達され、そ
のロウレベルを受けて各DRAMマクロセルが選択的に
動作状態とされる。また、マクロセルアクティブ信号T
MAENTがロウレベルとされるとき、ロウアドレスス
トローブ信号RASN及びカラムアドレスストローブ信
号CASNは、実質的にハイレベル固定され、各DRA
Mマクロセルは非動作状態に固定される。
As shown in FIG. 3, when the macro cell active signal TMAENT is set to the high level, the row address strobe signal RA supplied from the logic unit LC is output.
The SN and the column address strobe signal CASN are directly used as the internal row address strobe signal rasn or the internal column address strobe signal casn.
The signal is transmitted to the memory control circuit CTL of the AM macro cell, and each DRAM macro cell is selectively activated in response to the low level. Also, the macro cell active signal T
When MAENT is at a low level, the row address strobe signal RASN and the column address strobe signal CASN are substantially fixed at a high level, and each DRA is
The M macro cell is fixed in a non-operation state.

【0052】図5には、図1の論理混載メモリ集積回路
に含まれるDRAMマクロセルDRAM0〜DRAM7
の第1の実施例の接続図が示されている。また、図6に
は、DRAMマクロセルDRAM0〜DRAM7に入力
されるマクロセル識別信号TDMS0〜TDMS5の一
実施例の論理条件図が示され、図7には、DFTエント
リー信号TDID0〜TDID2の一実施例の部分的な
論理条件図が示されている。これらの図をもとに、この
実施例の論理混載メモリ集積回路におけるDRAMマク
ロセルDRAM0〜DRAM7の接続形態と、DFTエ
ントリー信号TDMS0〜TDMS5ならびにマクロセ
ル識別信号TDID0〜TDID2の論理条件及び試験
動作の概要ならびにその特徴等について説明する。な
お、図5には、各DRAMマクロセルに設けられる多数
のマクロセル入力端子及びマクロセル出力端子のうち、
本発明に関係するもののみを例示した。
FIG. 5 shows DRAM macro cells DRAM0 to DRAM7 included in the logic-mixed memory integrated circuit of FIG.
1 is a connection diagram of the first embodiment. FIG. 6 shows a logical condition diagram of one embodiment of the macro cell identification signals TDMS0 to TDMS5 input to the DRAM macro cells DRAM0 to DRAM7, and FIG. 7 shows an embodiment of the DFT entry signals TDID0 to TDID2. A partial logic condition diagram is shown. Based on these figures, the connection form of the DRAM macro cells DRAM0 to DRAM7, the logical conditions of the DFT entry signals TDMS0 to TDMS5 and the macrocell identification signals TDID0 to TDID2 and the outline of the test operation and The features and the like will be described. FIG. 5 shows a plurality of macro cell input terminals and macro cell output terminals provided in each DRAM macro cell.
Only those relevant to the present invention have been illustrated.

【0053】図5において、DRAMマクロセルDRA
M0〜DRAM7のマクロセル入力端子RASN及びC
ASNには、論理混載メモリ集積回路の論理部LCから
ロウアドレスストローブ信号RASN及びカラムアドレ
スストローブ信号CASNがそれぞれ共通に供給され
る。周知のように、ロウアドレスストローブ信号RAS
N及びカラムアドレスストローブ信号CASNは、DR
AMマクロセルDRAM0〜DRAM7の基本構成要素
たるダイナミック型RAMを選択的に動作状態とするた
めの起動制御信号とされる。したがって、すべてのDR
AMマクロセルに共通のロウアドレスストローブ信号R
ASN及びカラムアドレスストローブ信号CASNが供
給される本実施例の論理混載メモリ集積回路では、通常
の読み出し又は書き込みモード時、8個のDRAMマク
ロセルDRAM0〜DRAM7が一斉に動作状態とさ
れ、あるいは非動作状態とされる。
In FIG. 5, the DRAM macro cell DRA
Macro cell input terminals RASN and C of M0 to DRAM7
The row address strobe signal RASN and the column address strobe signal CASN are commonly supplied to the ASN from the logic unit LC of the logic-mixed memory integrated circuit. As is well known, the row address strobe signal RAS
N and the column address strobe signal CASN are DR
This is a start control signal for selectively bringing a dynamic RAM, which is a basic component of the AM macro cells DRAM0 to DRAM7, into an operating state. Therefore, all DR
Row address strobe signal R common to AM macro cells
In the logic-mixed memory integrated circuit of the present embodiment to which the ASN and the column address strobe signal CASN are supplied, in the normal read or write mode, the eight DRAM macro cells DRAM0 to DRAM7 are simultaneously activated or inactive. It is said.

【0054】次に、DRAMマクロセルDRAM0〜D
RAM7のマクロセル入力端子TDMS0〜TDMS5
は、論理部LCの前段に設けられる入力セレクタSLの
対応する右下部入出力端子にそれぞれ結合される。この
入力セレクタSLの右上部入出力端子は、論理部LCに
結合される。また、その左部入出力端子は、対応するチ
ップ入出力端子PB0〜PBjにそれぞれ結合され、そ
の選択制御端子には、チップ入出力端子PSLを介して
選択制御信号PSLが供給される。論理混載メモリ集積
回路は、さらにi+1個のチップ入出力端子PA0〜P
Aiを備え、これらのチップ入出力端子は、直接論理部
LCに結合される。
Next, the DRAM macro cells DRAM0-D
Macro cell input terminals TDMS0 to TDMS5 of RAM7
Are respectively coupled to corresponding lower right input / output terminals of an input selector SL provided in a preceding stage of the logic unit LC. The upper right input / output terminal of the input selector SL is coupled to the logic unit LC. The left input / output terminals are respectively coupled to the corresponding chip input / output terminals PB0 to PBj, and the selection control terminal is supplied with the selection control signal PSL via the chip input / output terminal PSL. The logic-mixed memory integrated circuit further includes i + 1 chip input / output terminals PA0-P
Ai, and these chip input / output terminals are directly coupled to the logic part LC.

【0055】入力セレクタSLは、例えば論理混載メモ
リ集積回路が通常の動作モードとされ、選択制御信号P
SLがロウレベルとされるとき、チップ入出力端子PB
0〜PBjと論理部LCとの間を接続状態とする。ま
た、論理混載メモリ集積回路が所定のテストモードとさ
れ、選択制御信号PSLがハイレベルとされるときは、
チップ入出力端子PB0〜PBjとDRAMマクロセル
DRAM0〜DRAM7との間を直接接続し、DFT回
路による試験動作を可能とする。
The input selector SL is set, for example, to a normal operation mode of the logic-mixed memory integrated circuit, and the selection control signal P
When SL is at a low level, the chip input / output terminal PB
A connection state is established between 0-PBj and the logic unit LC. When the logic-mixed memory integrated circuit is set to a predetermined test mode and the selection control signal PSL is set to a high level,
The chip input / output terminals PB0 to PBj are directly connected to the DRAM macrocells DRAM0 to DRAM7 to enable a test operation by the DFT circuit.

【0056】この実施例において、チップ入出力端子P
A0〜PAiを介して論理混載メモリ集積回路に入力又
は出力される信号は、例えばクロック信号や起動制御信
号等のように、論理混載メモリ集積回路の動作速度を律
則する高速の信号とされる。しかし、チップ入出力端子
PB0〜PBjを介して入力又は出力される信号(第1
の信号)は、論理混載メモリ集積回路の動作速度を律則
しない比較的低速の信号であって、チップ入出力端子P
B0〜PBjの実質的な機能が入力セレクタSLにより
切り換えられたとしても、論理混載メモリ集積回路の動
作速度に深刻な影響はなく、逆に、チップ入出力端子P
B0〜PBjがDFT回路による動作試験に必要な多数
の信号を入力又は出力するために兼用されることで、論
理混載メモリ集積回路の所要端子数が削減され、その低
コスト化が図られる。
In this embodiment, the chip input / output terminal P
A signal input or output to the logic-mixed memory integrated circuit via A0 to PAi is a high-speed signal that regulates the operation speed of the logic-mixed memory integrated circuit, such as a clock signal or a start control signal. . However, a signal input or output via the chip input / output terminals PB0 to PBj (first signal
) Is a relatively low-speed signal that does not determine the operation speed of the logic-mixed memory integrated circuit.
Even if the substantial functions of B0 to PBj are switched by the input selector SL, there is no serious effect on the operation speed of the logic-mixed memory integrated circuit.
Since B0 to PBj are also used to input or output a large number of signals required for the operation test by the DFT circuit, the number of required terminals of the logic-mixed memory integrated circuit is reduced, and the cost is reduced.

【0057】一方、この実施例の論理混載メモリ集積回
路に搭載されるDRAMマクロセルDRAM0〜DRA
M7には、前述のように、その追番に対応する0ないし
7の識別番号がそれぞれ付与され、各DRAMマクロセ
ルのマクロセル入力端子TDID0〜TDID2は、そ
の識別番号に対応する組み合わせで、電源電圧供給点V
DD又は接地電位供給点GNDに選択的に結合される。
On the other hand, DRAM macro cells DRAM0 to DRA mounted on the logic-integrated memory integrated circuit of this embodiment
As described above, M7 is assigned an identification number of 0 to 7 corresponding to the serial number, and the macro cell input terminals TDID0 to TDID2 of each DRAM macro cell are connected to the power supply voltage in a combination corresponding to the identification number. Point V
DD or ground potential supply point GND.

【0058】すなわち、図6に示されるように、例えば
その追番に対応する0の識別番号が与えられたDRAM
マクロセルDRAM0では、マクロセル入力端子TDI
D0〜TDID2がすべて接地電位供給点GNDに結合
される。したがって、マクロセル識別信号TDID0〜
TDID2の各ビットはすべてロウレベルつまり論理
“0”とされ、その論理値は0の2進値に対応する“0
00”となる。また、例えばその追番に対応する1の識
別番号が与えられたDRAMマクロセルDRAM1で
は、マクロセル入力端子TDID0が電源電圧供給点V
DDに結合され、その他のマクロセル入力端子TDID
1及びTDID2は接地電位供給点GNDに結合され
る。したがって、マクロセル識別信号TDID0が論理
“1”とされ、マクロセル識別信号TDID1及びTD
ID2は論理“0”のままとされて、その論理値は1の
2進値に対応する“001”となる。
That is, as shown in FIG. 6, for example, a DRAM provided with an identification number of 0 corresponding to the serial number
In the macro cell DRAM0, the macro cell input terminal TDI
D0 to TDID2 are all coupled to ground potential supply point GND. Therefore, macro cell identification signals TDID0 to TDID0
Each bit of TDID2 is set to a low level, that is, logic "0", and the logic value is "0" corresponding to a binary value of 0.
00 ". For example, in the DRAM macro cell DRAM 1 to which the identification number corresponding to the serial number is given, the macro cell input terminal TDID0 is connected to the power supply voltage supply point V.
DD and another macro cell input terminal TDID
1 and TDID2 are coupled to ground potential supply point GND. Therefore, the macro cell identification signal TDID0 is set to logic "1" and the macro cell identification signals TDID1 and TDID
ID2 remains at logic "0", and its logic value becomes "001" corresponding to the binary value of 1.

【0059】一方、例えばその追番に対応する7の識別
番号が与えられたDRAMマクロセルDRAM7では、
マクロセル入力端子TDID0〜TDID2がすべて電
源電圧供給点VDDに結合される。したがって、マクロ
セル識別信号TDID0〜TDID2の各ビットはすべ
てハイレベルつまり論理“1”とされ、その論理値は7
の2進値に対応する“111”となる。
On the other hand, for example, in a DRAM macro cell DRAM 7 given an identification number of 7 corresponding to the serial number,
Macro cell input terminals TDID0 to TDID2 are all coupled to power supply voltage supply point VDD. Therefore, each bit of the macro cell identification signals TDID0 to TDID2 is all set to the high level, that is, logic "1", and the logic value is 7
Becomes "111" corresponding to the binary value of.

【0060】マクロセル入力端子TDID0〜TDID
2を介して入力されるマクロセル識別信号TDID0〜
TDID2は、前述のように、DFT信号バッファDB
を介して各DRAMマクロセルのDFT回路に伝達され
る。また、DFT回路は、これらのマクロセル識別信号
TDID0〜TDID2をもとに、対応するDRAMマ
クロセルに与えられた識別番号を認識するとともに、論
理混載メモリ集積回路が所定のテストモードとされると
き、その識別番号とマクロセル入力端子TDMS0〜T
DMS5を介して入力されるDFTエントリー信号TD
MS0〜TDMS5とを比較照合して、これらのDFT
エントリー信号により対応するDRAMマクロセルが試
験対象として指定されるとき、その出力信号たる内部マ
クロセルアクティブ信号tmaentを選択的にハイレ
ベルとする。
Macro cell input terminals TDID0 to TDID
2, macro cell identification signals TDID0 to TDID0
TDID2 is the DFT signal buffer DB as described above.
To the DFT circuit of each DRAM macro cell. Further, the DFT circuit recognizes the identification number given to the corresponding DRAM macro cell based on these macro cell identification signals TDID0 to TDID2, and when the logic embedded memory integrated circuit is set to a predetermined test mode, Identification number and macro cell input terminals TDMS0-T
DFT entry signal TD input via DMS5
MS0 to TDMS5 are compared and compared, and these DFTs are compared.
When a corresponding DRAM macro cell is designated as a test target by an entry signal, an internal macro cell active signal tmain, which is an output signal thereof, is selectively set to a high level.

【0061】なお、この実施例のDRAMマクロセルの
DFT回路は、いわゆるコンカレント機能を有し、例え
ば上記DFTエントリー信号TDMS0〜TDMS5に
よるDRAMマクロセルの指定は、順次追加する形で複
数のDRAMマクロセルに対して行うことが可能とされ
る。これにより、複数のDRAMマクロセルを機能試験
の対象として指定し、並行して試験動作を実施すること
ができる。
The DFT circuit of the DRAM macro cell according to this embodiment has a so-called concurrent function. For example, the designation of the DRAM macro cells by the DFT entry signals TDMS0 to TDMS5 is applied to a plurality of DRAM macro cells by adding them sequentially. It is possible to do. Thereby, a plurality of DRAM macro cells can be designated as a target of the function test, and the test operation can be performed in parallel.

【0062】ここで、マクロセル入力端子TDMS0〜
TDMS5を介して入力されるDFTエントリー信号T
DMS0〜TDMS5は、図7に例示されるように、例
えばDFT回路による機能試験の開始又は停止や試験種
別ならびに試験対象となるDRAMマクロセル等を選択
的に指定するために供される。
Here, the macro cell input terminals TDMS0 to TDMS0
DFT entry signal T input via TDMS5
As illustrated in FIG. 7, DMS0 to TDMS5 are used, for example, to start or stop a function test by the DFT circuit, to selectively specify a test type, a DRAM macro cell to be tested, and the like.

【0063】すなわち、各DRAMマクロセルのDFT
回路は、図7の第1項に示されるように、DFTエント
リー信号TDMS0〜TDMS5がすべてロウレベルつ
まり論理“0”とされ、その論理値が“000000”
とされるとき、DFTモードエントリーを判定し、以後
に指定される試験動作の開始に備える。また、図7の第
2項に示されるように、DFTエントリー信号TDMS
0〜TDMS5がすべてハイレベルつまり論理“1”と
され、その論理値が“111111”とされるときは、
DFTモードエグジットを判定し、実施中の試験動作を
停止する。さらに、図7の第3項に示されるように、D
FTエントリー信号TDMS0が論理“1”とされ、そ
の他のDFTエントリー信号TDMS1〜TDMS5が
論理“0”とされて、その論理値が“000001”と
されるときには、コンカレントモードクリアを判定し、
上記コンカレント指定のみを解除する。
That is, the DFT of each DRAM macro cell
In the circuit, as shown in the first term of FIG. 7, all of the DFT entry signals TDMS0 to TDMS5 are set to a low level, that is, logic “0”, and the logic value is “000000”.
, The DFT mode entry is determined to prepare for the start of a test operation specified thereafter. Also, as shown in the second term of FIG. 7, the DFT entry signal TDMS
When all 0 to TDMS5 are at high level, that is, logic "1", and the logic value is "111111",
The DFT mode exit is determined, and the test operation being performed is stopped. Further, as shown in the third term of FIG.
When the FT entry signal TDMS0 is set to logic "1" and the other DFT entry signals TDMS1 to TDMS5 are set to logic "0" and their logic values are set to "000001", the concurrent mode clear is determined.
Release only the above concurrent specification.

【0064】一方、図7の第4項ないし第8項に示され
るように、DFTエントリー信号TDMS0〜TDMS
5の論理値が“000010”“000011”“00
0100”“000101”あるいは“000110”
とされると、テスト所要時間短縮のための特別な試験モ
ード、すなわち例えば『2K(キロ)リフレッシュディ
スターブテスト』『1Kリフレッシュディスターブテス
ト』『全マットアクティブテスト』『ロウ(行)コピー
“1”』あるいは『ロウコピー“0”』が指定されたこ
とをそれぞれ判定し、対応する試験動作を開始する。
On the other hand, as shown in the fourth to eighth items of FIG. 7, the DFT entry signals TDMS0 to TDMS
The logical value of 5 is “000010” “000011” “00”
0100 "" 000101 "or" 000110 "
Then, a special test mode for shortening the test required time, for example, "2K (kilo) refresh disturb test", "1K refresh disturb test", "all mat active test", "row (row) copy" 1 "" Alternatively, it is determined that “row copy“ 0 ”” is specified, and the corresponding test operation is started.

【0065】さらに、図8の第9項ないし第16項に示
されるように、DFTエントリー信号TDMS0〜TD
MS5の論理値が“000111”“001000”
“001001”“001010”“001011”
“001100”“001101”あるいは“0011
10”とされるとき、マクロセル入力端子TDID0〜
TDID2に供給されるマクロセル識別信号TDID0
〜TDID2をもとに、対応するDRAMマクロセルD
RAM0ないしDRAM7が試験対象として択一的に指
定されたことをそれぞれ判定し、前記内部マクロセルア
クティブ信号tmaentをそれぞれ選択的にハイレベ
ル又はロウレベルとする。
Further, as shown in items 9 to 16 in FIG. 8, DFT entry signals TDMS0 to TDMS0 to TDMS
The logical value of MS5 is “000111” “001000”
“001001” “001010” “001011”
“001100” “001101” or “0011”
10 ", the macro cell input terminals TDID0 to TDID0
Macro cell identification signal TDID0 supplied to TDID2
TDID2, the corresponding DRAM macro cell D
It is determined that each of the RAM 0 to the DRAM 7 is alternatively specified as a test target, and the internal macro cell active signal tmain is selectively set to a high level or a low level, respectively.

【0066】以上のように、この実施例の論理混載メモ
リ集積回路は、それぞれDFT回路を含む8個のDRA
MマクロセルDRAM0〜DRAM7を備えるととも
に、これらのDRAMマクロセルには、その追番に対応
する0ないし7の識別番号がそれぞれ付与される。ま
た、各DRAMマクロセルには、マクロセル入力端子T
DID0〜TDID2が設けられ、これらのマクロセル
入力端子は、対応するDRAMマクロセルに与えられた
識別番号の論理値に対応して、選択的に電源電圧供給点
VDD又は接地電位供給点GNDに結合される。さら
に、各DRAMマクロセルのDFT回路により実施され
るテストモードには、DRAMマクロセルDRAM0〜
DRAM7を試験対象として択一的に指定するための
『DRAM0アクティブ』ないし『DRAM7アクティ
ブ』モードが追加される。
As described above, the logic-mixed memory integrated circuit of this embodiment has eight DRAs each including a DFT circuit.
M macro cells DRAM0 to DRAM7 are provided, and these DRAM macrocells are assigned identification numbers 0 to 7 corresponding to the serial numbers. Each DRAM macro cell has a macro cell input terminal T
DID0 to TDID2 are provided, and these macro cell input terminals are selectively coupled to power supply voltage supply point VDD or ground potential supply point GND according to the logical value of the identification number given to the corresponding DRAM macro cell. . Further, the test mode executed by the DFT circuit of each DRAM macro cell includes the DRAM macro cells DRAM0 to DRAM0.
"DRAM0 active" to "DRAM7 active" modes for alternately designating the DRAM 7 as a test object are added.

【0067】DRAMマクロセルDRAM0〜DRAM
7に設けられるDFT回路は、マクロセル入力端子TD
ID0〜TDID2を介して入力されるマクロセル識別
信号TDID0〜TDID2をもとに、対応するDRA
Mマクロセルに与えられた識別番号を認識する機能を有
し、さらに上記『DRAM0アクティブ』ないし『DR
AM7アクティブ』モードを受けて対応するDRAMマ
クロセルが試験対象として指定されたことを判定する機
能を有する。
DRAM macro cells DRAM0 to DRAM
7 has a macro cell input terminal TD
Based on the macro cell identification signals TDID0 to TDID2 input via ID0 to TDID2, the corresponding DRA
It has a function of recognizing the identification number given to the M macro cell, and further has a function of “DRAM0 active” to “DR
It has a function of receiving the “AM7 active” mode and determining that the corresponding DRAM macro cell is designated as a test target.

【0068】この結果、論理混載メモリ集積回路に新し
いチップ端子を追加することなく、しかもその動作時間
を律則する信号経路に試験動作のためのセレクタつまり
マルチプレクサ等を追加することなく、DRAMマクロ
セルDRAM0〜DRAM7に内蔵されるDFT回路に
より各DRAMマクロセルの機能試験を個別に、しかも
効率良く実施することができる。この結果、そのコスト
上昇を招き、高速動作を阻害することなく、複数のDR
AMマクロセルを搭載する論理混載メモリ集積回路の試
験工数を削減し、その試験精度を高めることができる。
As a result, without adding a new chip terminal to the logic-mixed memory integrated circuit and without adding a selector or a multiplexer for a test operation to a signal path that regulates the operation time of the DRAM macro cell DRAM0, The function test of each DRAM macro cell can be individually and efficiently performed by the DFT circuit built in the DRAM 7. As a result, the cost increases and the plurality of DRs can be
It is possible to reduce the number of test steps of a logic-mixed memory integrated circuit on which an AM macro cell is mounted, and to improve the test accuracy.

【0069】以上の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1)それぞれDFT回路を備える複数のDRAMマク
ロセルを搭載する論理混載メモリ集積回路等において、
各DRAMマクロセルに個別の識別番号を付与するとと
もに、各DRAMマクロセルのDFT回路に、例えば固
定レベルで入力されるマクロセル識別信号をもとに、対
応するマクロセルに与えられた識別番号を認識する機能
と、DFT信号として入力されるDFTエントリー信号
により対応するマクロセルが指定されたとき、対応する
マクロセルアクティブ信号を有効レベルとして、起動制
御信号となるロウアドレスストローブ信号及びカラムア
ドレスストローブ信号をマクロセル内に取り込ませ、D
FTエントリー信号により対応するマクロセルが指定さ
れないときは、マクロセルアクティブ信号を無効レベル
として、ロウアドレスストローブ信号及びカラムアドレ
スストローブ信号を実質無効レベルに固定する機能とを
持たせることで、論理混載メモリ集積回路等に新しいチ
ップ端子を追加することなく、またその動作時間を律則
するような信号経路にマルチプレクサ等の回路を追加す
ることなく、DRAMマクロセル等の機能試験を、各D
RAMマクロセル等に内蔵されるDFT回路により個別
に、しかも効率良く実施することができるという効果が
得られる。
The functions and effects obtained from the above embodiments are as follows. That is, (1) In a logic-mixed memory integrated circuit or the like in which a plurality of DRAM macro cells each having a DFT circuit are mounted,
A function of assigning an individual identification number to each DRAM macrocell, and recognizing the identification number given to the corresponding macrocell to the DFT circuit of each DRAM macrocell, for example, based on a macrocell identification signal input at a fixed level. When a corresponding macro cell is designated by a DFT entry signal input as a DFT signal, the corresponding macro cell active signal is set to an effective level, and a row address strobe signal and a column address strobe signal serving as an activation control signal are taken into the macro cell. , D
When the corresponding macro cell is not designated by the FT entry signal, the macro cell active signal is set to the invalid level, and the function of fixing the row address strobe signal and the column address strobe signal to the substantially invalid level is provided. The function test of the DRAM macro cell and the like can be performed without adding a new chip terminal to the DME and the like, and without adding a circuit such as a multiplexer to a signal path that regulates the operation time of each DRAM chip.
With the DFT circuit built in the RAM macro cell or the like, an effect that individual and efficient implementation can be obtained.

【0070】(2)上記(1)項により、そのコスト上
昇を招き、その高速動作を阻害することなく、複数のD
RAMマクロセルを搭載する論理混載メモリ集積回路等
の試験工数を削減することができるという効果が得られ
る。 (3)上記(1)項により、論理混載メモリ集積回路等
の試験精度を高めることができるという効果が得られ
る。
(2) According to the above item (1), the cost is increased and the plurality of D
An effect is obtained that the number of test steps for a logic-mixed memory integrated circuit or the like on which a RAM macrocell is mounted can be reduced. (3) According to the above item (1), an effect is obtained that the test accuracy of a logic embedded memory integrated circuit or the like can be improved.

【0071】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、論理混載メモリ集積回路には、任意
数のDRAMマクロセル及びSRAMマクロセルを搭載
することができるし、DFT回路は、SRAMマクロセ
ルにも設けることができる。また、論理混載メモリ集積
回路ならびにそのDRAMマクロセルDRAM0〜DR
AM7が形成される半導体基板CHIPの形状は任意で
あるし、各ブロックの配置位置やレイアウトサイズも任
意である。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, there is. For example, in FIG. 1, an arbitrary number of DRAM macro cells and SRAM macro cells can be mounted on the logic-mixed memory integrated circuit, and the DFT circuit can also be provided on the SRAM macro cell. Also, a logic-embedded memory integrated circuit and its DRAM macro cells DRAM0 to DR
The shape of the semiconductor substrate CHIP on which the AM 7 is formed is arbitrary, and the arrangement position and layout size of each block are also arbitrary.

【0072】図2において、DRAMマクロセルDRA
M0〜DRAM7のメモリアレイMARYは、任意数の
ワード線及び相補ビット線を備えることができるし、そ
の記憶容量も任意に設定できる。また、各DRAMマク
ロセルのマクロセル入力端子TDID0〜TDID2を
介して入力されるマクロセル識別信号のビット数は、論
理混載メモリ集積回路に搭載されるDRAMマクロセル
の個数に応じて変化する。これらのマクロセル識別信号
は、例えば所定のレジスタに予め書き込むことによって
各DRAMマクロセルに与えられるものとしてもよい。
DRAMマクロセルは、任意のブロック構成をとりうる
し、アドレス信号や起動制御信号の組み合わせならびに
その有効レベル等は、任意の実施形態をとりうる。
In FIG. 2, DRAM macro cell DRA
The memory array MARY of the M0 to DRAM 7 can have an arbitrary number of word lines and complementary bit lines, and its storage capacity can be set arbitrarily. The number of bits of the macro cell identification signal input via the macro cell input terminals TDID0 to TDID2 of each DRAM macro cell varies according to the number of DRAM macro cells mounted on the logic-mixed memory integrated circuit. These macro cell identification signals may be given to each DRAM macro cell by, for example, previously writing in a predetermined register.
The DRAM macro cell can have an arbitrary block configuration, and a combination of an address signal and a start control signal and an effective level thereof can have any embodiment.

【0073】図3において、制御信号バッファSBを構
成するフリップフロップFF1〜FF7は、特にエッジ
トリガ型であることを必須条件とはしないし、その各端
子の組み合わせ及び名称等も、種々の実施形態をとりう
る。また、フリップフロップFF1及びFF2の前段に
設けられるオアゲートOG1及びOG2は、必要に応じ
て他の論理ゲートに置き換えることができるし、対応す
るフリップフロップ内に取り込んでもよい。図4におい
て、マクロセル入力端子TDID0〜TDID2と電源
電圧供給点VDD及び接地電位供給点GNDとの間の接
続切り換えは、マスタースライス形態とすることができ
る。制御信号バッファSB,DFT信号バッファDBな
らびにマクロセルアクティブ信号バッファTBの具体的
構成は、基本的な論理条件が変わらない限り種々の実施
形態をとりうる。
In FIG. 3, the flip-flops FF1 to FF7 constituting the control signal buffer SB are not required to be of the edge trigger type in particular, and the combinations and names of their terminals are not limited to various embodiments. Can be taken. In addition, the OR gates OG1 and OG2 provided in front of the flip-flops FF1 and FF2 can be replaced with other logic gates as necessary, or may be incorporated in the corresponding flip-flop. In FIG. 4, the connection switching between the macro cell input terminals TDID0 to TDID2 and the power supply voltage supply point VDD and the ground potential supply point GND can be performed in a master slice mode. The specific configuration of the control signal buffer SB, the DFT signal buffer DB, and the macro cell active signal buffer TB can take various embodiments as long as the basic logical conditions do not change.

【0074】図5において、DRAMマクロセルDRA
M0〜DRAM7の起動形態は、例えばこれらのDRA
Mマクロセルを4個ずつ組み合わせて動作状態とするな
ど、任意に設定することができる。また、論理混載メモ
リ集積回路がBIST(Built In Self
Test)等の自己診断回路を備える場合、図8に例示
されるように、DFT信号となるDFTエントリー信号
TDMS0〜TDMS5等をこの自己診断回路BIST
により生成してもよい。図6において、マクロセル識別
信号TDID0〜TDID2の論理条件は、任意に設定
できる。図7において、DFT回路によるテストモード
の種別ならびにDFTエントリー信号TDMS0〜TD
MS5の組み合わせ等は、種々の実施例が考えられる。
In FIG. 5, DRAM macro cell DRA
The starting modes of the M0 to the DRAM 7 are, for example, those DRA
It can be set arbitrarily, for example, by combining four M-macro cells to be in an operating state. In addition, the logic embedded memory integrated circuit is a BIST (Build In Self).
In the case where a self-diagnosis circuit such as Test) is provided, as shown in FIG. 8, DFT entry signals TDMS0 to TDMS5, which are DFT signals, are converted to the self-diagnosis circuit BIST
May be generated. In FIG. 6, the logical conditions of the macro cell identification signals TDID0 to TDID2 can be set arbitrarily. In FIG. 7, the type of the test mode by the DFT circuit and the DFT entry signals TDMS0 to TDMS
Various embodiments can be considered for the combination of the MS5 and the like.

【0075】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野である複数
のDRAMマクロセルを搭載する論理混載メモリ集積回
路に適用した場合について説明したが、それに限定され
るものではなく、例えば、DRAMマクロセル等のメモ
リマクロセルのみを搭載するメモリ集積回路装置や、算
術論理演算ユニット等の各種デジタルユニットをマクロ
セルとして搭載するシングルチップマイクロコンピュー
タ等にも適用できる。この発明は、少なくともDFT回
路を備えるマクロセルを搭載する半導体集積回路装置な
らびにこのような半導体集積回路装置を含む装置又はシ
ステムに広く適用できる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to a logic embedded memory integrated circuit having a plurality of DRAM macrocells, which is a field of use, has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, the present invention can be applied to a memory integrated circuit device having only a memory macro cell such as a DRAM macro cell or a single-chip microcomputer having various digital units such as an arithmetic logic unit as a macro cell. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be widely applied to a semiconductor integrated circuit device equipped with at least a macro cell having a DFT circuit, and a device or a system including such a semiconductor integrated circuit device.

【0076】[0076]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、それぞれDFT回路を備え
る複数のDRAMマクロセルを搭載する論理混載メモリ
集積回路等において、各DRAMマクロセルに個別の識
別番号を付与するとともに、そのDFT回路に、例えば
固定レベルで入力されるマクロセル識別信号をもとに、
対応するマクロセルに与えられた識別番号を認識する機
能と、DFT信号として入力されるDFTエントリー信
号により対応するマクロセルが指定されたとき、対応す
るマクロセルアクティブ信号を有効レベルとして、起動
制御信号となるロウアドレスストローブ信号及びカラム
アドレスストローブ信号をマクロセル内に取り込ませ、
DFTエントリー信号により対応するマクロセルが指定
されないときは、マクロセルアクティブ信号を無効レベ
ルとして、ロウアドレスストローブ信号及びカラムアド
レスストローブ信号を実質無効レベルに固定する機能と
を持たせる。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, in a logic-mixed memory integrated circuit or the like in which a plurality of DRAM macro cells each having a DFT circuit are mounted, an individual identification number is assigned to each DRAM macro cell, and a macro cell identification signal input to the DFT circuit at, for example, a fixed level. Based on
A function for recognizing the identification number given to the corresponding macro cell, and when a corresponding macro cell is designated by a DFT entry signal input as a DFT signal, the corresponding macro cell active signal is set to an effective level, and a row that becomes a start control signal is set. An address strobe signal and a column address strobe signal are taken into a macro cell,
When the corresponding macro cell is not designated by the DFT entry signal, a function of fixing the row address strobe signal and the column address strobe signal to the substantially invalid level by setting the macro cell active signal to the invalid level is provided.

【0077】これにより、論理混載メモリ集積回路等に
新しいチップ端子を追加することなく、またその動作時
間を律則するような信号経路にマルチプレクサ等の回路
を追加することなく、論理混載メモリ集積回路等に搭載
されるDRAMマクロセル等の機能試験を、各DRAM
マクロセル等に内蔵されるDFT回路により個別に、し
かも効率良く実施することができる。この結果、そのコ
スト上昇を招き、高速動作を阻害することなく、複数の
DRAMマクロセルを搭載する論理混載メモリ集積回路
等の試験工数を削減し、その試験精度を高めることがで
きる。
Thus, without adding a new chip terminal to a logic-mixed memory integrated circuit or the like, and without adding a circuit such as a multiplexer to a signal path that regulates the operation time, the logic-mixed memory integrated circuit is not added. The function test of the DRAM macro cell etc. mounted on the
The DFT circuit built in the macro cell or the like can be implemented individually and efficiently. As a result, it is possible to reduce the number of test steps for a logic-mixed memory integrated circuit or the like in which a plurality of DRAM macrocells are mounted, and to increase the test accuracy without increasing the cost and hindering the high-speed operation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明が適用された論理混載メモリ集積回路
の一実施例を示す基板配置図である。
FIG. 1 is a board layout diagram showing an embodiment of a logic-mixed memory integrated circuit to which the present invention is applied.

【図2】図1の論理混載メモリ集積回路に搭載されるD
RAMマクロセルの一実施例を示すブロック図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a D mounted on the logic-mixed memory integrated circuit of FIG. 1;
FIG. 3 is a block diagram showing one embodiment of a RAM macro cell.

【図3】図2のDRAMマクロセルに含まれる制御信号
バッファの一実施例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing one embodiment of a control signal buffer included in the DRAM macro cell of FIG. 2;

【図4】図2のDRAMマクロセルに含まれるDFT信
号バッファ及び関連部の一実施例を示す部分的な回路図
である。
FIG. 4 is a partial circuit diagram showing one embodiment of a DFT signal buffer and related parts included in the DRAM macro cell of FIG. 2;

【図5】図1の論理混載メモリ集積回路に搭載されるD
RAMマクロセルの第1の実施例を示す接続図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a D mounted on the logic-mixed memory integrated circuit of FIG. 1;
FIG. 3 is a connection diagram illustrating a first example of a RAM macro cell.

【図6】図2のDRAMマクロセルに入力されるマクロ
セル識別信号の一実施例を示す論理条件図である。
FIG. 6 is a logic condition diagram showing one embodiment of a macro cell identification signal input to the DRAM macro cell of FIG. 2;

【図7】図2のDRAMマクロセルに入力されるDFT
エントリー信号の一実施例を示す部分的な論理条件図で
ある。
FIG. 7 shows a DFT input to the DRAM macro cell of FIG.
FIG. 4 is a partial logic condition diagram showing an embodiment of an entry signal.

【図8】図1の論理混載メモリ集積回路に搭載されるD
RAMマクロセルの第2の実施例を示す接続図である。
8 is a diagram illustrating a D mounted on the logic-mixed memory integrated circuit of FIG. 1;
FIG. 7 is a connection diagram illustrating a second embodiment of the RAM macro cell.

【図9】この発明に先立って本願発明者等が開発した論
理混載メモリ集積回路に搭載されるDRAMマクロセル
の一例を示す接続図である。
FIG. 9 is a connection diagram showing an example of a DRAM macro cell mounted on a logic embedded memory integrated circuit developed by the present inventors prior to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

CHIP…半導体基板(チップ)、DRAM0〜DRA
M7…DRAMマクロセル、DFT…DFT回路、SR
AM0〜SRAM7…SRAMマクロセル、LC…論理
部、BUMP…バンプ、IOC…入出力セル。MARY
…メモリアレイ、RD…ロウアドレスデコーダ、RB…
ロウアドレスバッファ、MA…メインアンプ、WA…ラ
イトアンプ、CD…カラムアドレスデコーダ、CB…カ
ラムアドレスバッファ、IL…入力データラッチ、OL
…出力データラッチ、MX…マルチプレクサ、OS…出
力セレクタ、CTL…メモリ制御回路、DFT…DFT
回路、SB…制御信号バッファ、DB…DFT信号バッ
ファ、TB…マクロセルアクティブ信号バッファ。CL
KN…クロック信号又はそのマクロセル入力端子、SI
D…スキャンインデータ又はそのマクロセル入力端子、
SCK…スキャンクロック信号又はそのマクロセル入力
端子、RA0〜RAB…ロウアドレス又はそのマクロセ
ル入力端子、MS0〜MS3…出力選択信号又はそのマ
クロセル入力端子、DWMC…試験出力制御信号又はそ
のマクロセル入力端子、DO0〜DO71…出力データ
又はそのマクロセル出力端子、ID0〜ID71…入力
データ又はそのマクロセル入力端子、CA0〜CA3…
カラムアドレス又はそのマクロセル入力端子、RASN
…ロウアドレスストローブ信号又はそのマクロセル入力
端子、CASN…カラムアドレスストローブ信号又はそ
のマクロセル入力端子、RESN…リセット制御信号又
はそのマクロセル入力端子、WE0N〜WE3N…ライ
トイネーブル信号又はそのマクロセル入力端子、TDM
S0〜TDMS5…DFTエントリー信号又はそのマク
ロセル入力端子、TDID0〜TDID2…マクロセル
識別信号又はそのマクロセル入力端子、TDMCKN…
DFTクロック信号又はそのマクロセル入力端子、TM
AENT…マクロセルアクティブ信号又はそのマクロセ
ル出力端子、SOD…スキャンアウトデータ又はそのマ
クロセル出力端子。clkn…内部クロック信号、sc
k…内部スキャンクロック信号、resn…内部リセッ
ト制御信号、tmaent…内部マクロセルアクティブ
信号、sid…内部スキャンインデータ、sod…内部
スキャンアウトデータ、rasn…内部ロウアドレスス
トローブ信号、casn…内部カラムアドレスストロー
ブ信号、we0n〜we3n…内部ライトイネーブル信
号。VDD…電源電圧又はその供給点、GND…接地電
位又はその供給点。IB1〜IB4…入力バッファ、O
B1…出力バッファ、FF1〜FF7,FF11〜FF
21…エッジトリガ型フリップフロップ、V1…インバ
ータ、OG1〜OG2…オア(OR)ゲート。PA0〜
PAi,PB0〜PBj…チップ入出力信号又はチップ
入出力端子、PSL…選択制御信号又はそのチップ入力
端子、SL…入力セレクタ、BIST…自己診断回路、
TRAS0N〜TRAS7N…テストロウアドレススト
ローブ信号又はそのチップ入力端子、TCAS0N〜T
CAS7N…テストカラムアドレスストローブ信号又は
そのチップ入力端子、MXR0〜MXR7,MXC0〜
MXC7…マルチプレクサ。
CHIP: Semiconductor substrate (chip), DRAM0-DRA
M7: DRAM macro cell, DFT: DFT circuit, SR
AM0 to SRAM7: SRAM macro cell, LC: logic unit, BUMP: bump, IOC: input / output cell. MARY
... Memory array, RD ... Row address decoder, RB ...
Row address buffer, MA: main amplifier, WA: write amplifier, CD: column address decoder, CB: column address buffer, IL: input data latch, OL
... Output data latch, MX ... Mux, OS ... Output selector, CTL ... Memory control circuit, DFT ... DFT
Circuit, SB: control signal buffer, DB: DFT signal buffer, TB: macro cell active signal buffer. CL
KN: Clock signal or its macro cell input terminal, SI
D: scan-in data or its macro cell input terminal
SCK: scan clock signal or its macro cell input terminal; RA0 to RAB: row address or its macro cell input terminal; MS0 to MS3: output selection signal or its macro cell input terminal; DWMC: test output control signal or its macro cell input terminal; DO71 ... output data or its macro cell output terminal, ID0 to ID71 ... input data or its macrocell input terminal, CA0 to CA3 ...
Column address or its macro cell input terminal, RASN
... a row address strobe signal or its macro cell input terminal, CASN ... a column address strobe signal or its macro cell input terminal, RESN ... a reset control signal or its macro cell input terminal, WE0N to WE3N ... a write enable signal or its macro cell input terminal, TDM
S0-TDMS5 ... DFT entry signal or its macro cell input terminal, TDID0-TDID2 ... macro cell identification signal or its macro cell input terminal, TDMCKN ...
DFT clock signal or its macro cell input terminal, TM
AENT: macro cell active signal or its macro cell output terminal; SOD: scan out data or its macro cell output terminal. clkn: internal clock signal, sc
k: internal scan clock signal, resn: internal reset control signal, tmain: internal macro cell active signal, sid: internal scan-in data, sod: internal scan-out data, rasn: internal row address strobe signal, casn: internal column address strobe signal , We0n to we3n ... internal write enable signals. VDD: power supply voltage or its supply point, GND: ground potential or its supply point. IB1 to IB4 ... input buffer, O
B1: output buffer, FF1 to FF7, FF11 to FF
21: Edge trigger flip-flop, V1: Inverter, OG1 to OG2: OR gate. PA0
PAi, PB0 to PBj: chip input / output signal or chip input / output terminal, PSL: selection control signal or its chip input terminal, SL: input selector, BIST: self-diagnosis circuit,
TRAS0N to TRAS7N: test row address strobe signal or its chip input terminal, TCAS0N to TCAS0N
CAS7N: Test column address strobe signal or its chip input terminal, MXR0 to MXR7, MXC0
MXC7: Multiplexer.

フロントページの続き (72)発明者 田中 洋介 東京都青梅市新町六丁目16番地の3 株式 会社日立製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 片山 雅弘 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 Fターム(参考) 2G032 AA07 AB01 AK11 AK14 5B024 AA15 BA21 BA29 CA07 CA16 EA01 5L106 AA01 AA15 DD12 GG05 GG07 9A001 BB03 BB05 JJ49 KK31 LL06Continued on the front page (72) Inventor Yosuke Tanaka 3-16-1, Shinmachi, Ome-shi, Tokyo Inside the Device Development Center, Hitachi, Ltd. (72) Masahiro Katayama 5-2-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo F-term (reference) 2G032 AA07 AB01 AK11 AK14 5B024 AA15 BA21 BA29 CA07 CA16 EA01 5L106 AA01 AA15 DD12 GG05 GG07 9A001 BB03 BB05 JJ49 KK31 LL06

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対応するマクロセルに与えられた識別番
号を認識し、かつ該識別番号が指定されることで対応す
るマクロセルに対する機能試験を選択的に実施しうるテ
スト回路をそれぞれ具備する複数のマクロセルを搭載し
てなることを特徴とする半導体集積回路装置。
1. A plurality of macrocells each comprising a test circuit for recognizing an identification number given to a corresponding macrocell and selectively performing a function test on the corresponding macrocell by designating the identification number. A semiconductor integrated circuit device characterized by comprising:
【請求項2】 請求項1において、 上記テスト回路は、DFT回路からなるものであって、 該DFT回路は、マクロセル識別コードの組み合わせに
より、対応するマクロセルに与えられた上記識別番号を
認識し、DFTエントリー信号の組み合わせにより、対
応するマクロセルの上記識別番号が指定されたことを判
定するものであることを特徴とする半導体集積回路装
置。
2. The test circuit according to claim 1, wherein the test circuit comprises a DFT circuit, and the DFT circuit recognizes the identification number given to a corresponding macro cell by a combination of macro cell identification codes, A semiconductor integrated circuit device for determining, by a combination of DFT entry signals, that the identification number of a corresponding macro cell has been designated.
【請求項3】 請求項1又は請求項2において、 上記半導体集積回路装置は、論理混載メモリ集積回路で
あり、 上記マクロセルのそれぞれは、ダイナミック型RAMを
基本構成要素とするDRAMマクロセルであることを特
徴とする半導体集積回路装置。
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit device is a logic integrated memory integrated circuit, and each of the macro cells is a DRAM macro cell having a dynamic RAM as a basic component. A semiconductor integrated circuit device characterized by the above-mentioned.
【請求項4】 請求項1,請求項2又は請求項3におい
て、 上記マクロセル識別コードの各ビットは、マクロセルの
対応する入力端子が電源電圧供給点又は接地電位供給点
に接続されることで選択的にハイレベル又はロウレベル
とされるものであることを特徴とする半導体集積回路装
置。
4. The macro cell identification code according to claim 1, wherein each bit of the macro cell identification code is selected by connecting a corresponding input terminal of the macro cell to a power supply voltage supply point or a ground potential supply point. A semiconductor integrated circuit device which is set to a high level or a low level.
【請求項5】 請求項1,請求項2,請求項3又は請求
項4において、 上記DFTエントリー信号を含むDFT信号は、上記半
導体集積回路装置の動作時間を律則しない第1の信号が
入力又は出力される入力端子又は出力端子を介して、上
記半導体集積回路装置に入力又は出力されるものであっ
て、 上記半導体集積回路装置は、所定の選択制御信号に従っ
て上記第1の信号又は上記DFT信号を選択的に伝達す
る入力セレクタを具備するものであることを特徴とする
半導体集積回路装置。
5. The DFT signal according to claim 1, wherein the DFT signal including the DFT entry signal is a first signal that does not determine the operation time of the semiconductor integrated circuit device. Or input or output to the semiconductor integrated circuit device via an output input terminal or output terminal, wherein the semiconductor integrated circuit device is configured to output the first signal or the DFT according to a predetermined selection control signal. A semiconductor integrated circuit device comprising an input selector for selectively transmitting a signal.
【請求項6】 請求項1,請求項2,請求項3又は請求
項4において、 上記半導体集積回路装置は、自己診断回路を具備するも
のであって、 上記DFTエントリー信号を含むDFT信号は、上記自
己診断回路により生成されるものであることを特徴とす
る半導体集積回路装置。
6. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising a self-diagnosis circuit, wherein the DFT signal including the DFT entry signal is: A semiconductor integrated circuit device generated by the self-diagnosis circuit.
【請求項7】 請求項1,請求項2,請求項3,請求項
4,請求項5又は請求項6において、 上記マクロセルのそれぞれは、所定の起動制御信号が有
効レベルとされることで選択的に起動されるものであ
り、 上記DFT回路は、上記DFTエントリー信号により対
応するマクロセルの上記識別番号が指定されるときマク
ロセルアクティブ信号を有効レベルとし、指定されない
ときこれを無効レベルとするものであって、 上記起動制御信号は、上記マクロセルアクティブ信号が
有効レベルとされるとき対応するマクロセルに取り込ま
れ、これが無効レベルとされるとき実質無効レベルに固
定されるものであることを特徴とする半導体集積回路装
置。
7. The macro cell according to claim 1, wherein each of the macro cells is selected by setting a predetermined activation control signal to a valid level. The DFT circuit sets the macro cell active signal to a valid level when the identification number of the corresponding macro cell is specified by the DFT entry signal, and sets the macro cell active signal to an invalid level when not specified. Wherein the activation control signal is taken into a corresponding macro cell when the macro cell active signal is set to a valid level, and is fixed to a substantially invalid level when the macro cell active signal is set to an invalid level. Integrated circuit device.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100688518B1 (en) * 2005-01-12 2007-03-02 삼성전자주식회사 Multi chip package having signature identification means for directly readout device information of chips
US7379349B2 (en) 2003-07-15 2008-05-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Simultaneous and selective memory macro testing
US7570535B2 (en) 2004-01-28 2009-08-04 Nec Electronics Corporation Semiconductor integrated circuit device having memory macros and logic cores on board
KR20190142540A (en) * 2018-06-18 2019-12-27 삼성전자주식회사 Semiconductor fualt analysis device and method for analyzing fault thereof

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7379349B2 (en) 2003-07-15 2008-05-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Simultaneous and selective memory macro testing
US7570535B2 (en) 2004-01-28 2009-08-04 Nec Electronics Corporation Semiconductor integrated circuit device having memory macros and logic cores on board
KR100688518B1 (en) * 2005-01-12 2007-03-02 삼성전자주식회사 Multi chip package having signature identification means for directly readout device information of chips
KR20190142540A (en) * 2018-06-18 2019-12-27 삼성전자주식회사 Semiconductor fualt analysis device and method for analyzing fault thereof
KR102589004B1 (en) * 2018-06-18 2023-10-16 삼성전자주식회사 Semiconductor fualt analysis device and method for analyzing fault thereof

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