JP2001093411A - Method for assembling structure body of shadow mask - Google Patents

Method for assembling structure body of shadow mask

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JP2001093411A
JP2001093411A JP26674699A JP26674699A JP2001093411A JP 2001093411 A JP2001093411 A JP 2001093411A JP 26674699 A JP26674699 A JP 26674699A JP 26674699 A JP26674699 A JP 26674699A JP 2001093411 A JP2001093411 A JP 2001093411A
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shadow mask
face panel
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mask
value
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Sanehiro Ono
修弘 大野
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Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for assembling a structural body of a shadow mask wherein precision in assembling a clearance between the inner surface of a face panel and a shadow mask is improved so as to decrease dispersion of Q-value. SOLUTION: A method for assembling a structural body of a shadow mask comprises a step of computing a suitable height of a shadow mask by using values of heights of an internal plane of a face panel 22 which are measured at many points as well as a standard value between an internal plane 22a of the face panel and a shadow mask 27, and decide a position to weld a mask frame 28 by approximating the position to the height of the shadow mask then weld the mask frame, a step of measuring Q-value of the face panel 22 to which a structural body 29 of the shadow mask is attached after being welded, and a step of correcting the position of the mask frame 28 of the face panel by feeding back a difference between the measured Q-value and the standard value.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー受像管、カ
ラーディスプレイ管などに搭載されるシャドウマスク構
体の組立方法に関し、特に、フェースパネルの内面とシ
ャドウマスクとの間隔の組立精度の向上を図ったシャド
ウマスク構体の組立方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of assembling a shadow mask assembly mounted on a color picture tube, a color display tube, and the like, and more particularly, to improving the assembly accuracy of the distance between the inner surface of a face panel and a shadow mask. And a method of assembling the shadow mask structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータ端末ディスプレイ、ハイビ
ジョンなどの画像表示に好適するカラー陰極線管21
は、図2に示すような構造と機能を有している。すなわ
ち、フェースパネル22とファンネル23とをフリット
ガラス24により一体に接合したバルブ25を有し、フ
ェースパネル22の内側には、緑、青、赤に発光する蛍
光体がドット状またはストライプ状に配設された蛍光体
スクリーン26が塗布形成され、この蛍光体スクリーン
26の背後には、多数の電子ビーム通過孔が形成された
シャドウマスク27をマスクフレーム28に溶接固定し
たシャドウマスク構体29が、パネル内面と一定間隔で
配設されている。ファンネルのネック部30内には3電
子ビームを放出する電子銃31が配設されている。そし
て、シャドウマスク27によって選択された緑、青、赤
に対応する電子ビームをそれぞれの蛍光膜上に照射して
発光させ画像を表示している。
2. Description of the Related Art A color cathode ray tube 21 suitable for displaying an image such as a computer terminal display or a high-definition television.
Has the structure and function as shown in FIG. That is, it has a bulb 25 in which the face panel 22 and the funnel 23 are integrally joined by the frit glass 24, and phosphors that emit green, blue, and red light are arranged in the form of dots or stripes inside the face panel 22. A phosphor mask 26 provided is applied and formed, and behind the phosphor screen 26, a shadow mask structure 29 in which a shadow mask 27 in which a number of electron beam passage holes are formed is welded and fixed to a mask frame 28, a panel is provided. It is arranged at a fixed interval from the inner surface. An electron gun 31 that emits three electron beams is provided in the neck portion 30 of the funnel. Then, electron beams corresponding to green, blue and red selected by the shadow mask 27 are irradiated on the respective fluorescent films to emit light, thereby displaying an image.

【0003】シャドウマスク構体29は、図3の要部拡
大断面図に示すように、シャドウマスク27の周辺部を
折り曲げて成形したスカート部27aと、枠状のマスク
フレーム28の側壁部28aとを位置決めし、溶接一体
化して形成される。マスクフレーム28の3辺の側壁部
28aの外側には、弾性金属片からなるフックスプリン
グ32が各辺につき1個計3個又は4個溶接固定されて
いる(以下、便宜上3個の場合を例にして説明する)。
このフックスプリング32の先端部には取付孔(図示せ
ず)が形成されている。この取付孔を、フェースパネル
22の側部内壁の数箇所に植設されたスタッドピン33
に嵌着することによりシャドウマスク構体29がフェー
スパネル22に固定される。
As shown in an enlarged sectional view of a main part of FIG. 3, a shadow mask structure 29 includes a skirt portion 27a formed by bending a peripheral portion of a shadow mask 27 and a side wall portion 28a of a frame-shaped mask frame 28. It is formed by positioning and welding. Outside the three side walls 28a of the mask frame 28, a total of three or four hook springs 32 made of elastic metal pieces are fixedly welded on each side (hereafter, three hooks 32 are used for convenience). To explain).
A mounting hole (not shown) is formed at the tip of the hook spring 32. The stud pins 33 planted at several places on the inner side wall of the face panel 22
, The shadow mask structure 29 is fixed to the face panel 22.

【0004】フェースパネル22の内面22aとシャド
ウマスク27との間隔を一般にQ値と呼んでいる。Q値
は、陰極線管組立後の電子ビームのランディングに大き
く影響し、Q値の安定化はピュリティ、ホワイトユニフ
ォミティ等のカラー陰極線管の品質にとって重要な項目
である。また、近年、フラット化、高精細度化、高輝度
化等の要求が高まり、ピュリティ、ホワイトユニフォミ
ティの向上は大きな課題となっている。さて、Q値の不
具合の発生要因は種々あるが、特に、フェースパネルの
内面高さの変動、溶接時におけるマスクフレーム28の
側壁部28aと、シャドウマスク27のスカート部27
aとの重合部位の位置ずれ等の組立精度に起因する。そ
こで、フェースパネル22の内面高さの変動を考慮して
シャドウマスク構体29を組立てる必要がある。
The distance between the inner surface 22a of the face panel 22 and the shadow mask 27 is generally called a Q value. The Q value greatly affects the landing of the electron beam after assembling the cathode ray tube, and stabilization of the Q value is an important item for the quality of a color cathode ray tube such as purity and white uniformity. In recent years, demands for flatness, high definition, high luminance, and the like have been increasing, and improvement of purity and white uniformity has become a major issue. There are various causes of the inconvenience of the Q value. In particular, the inner surface height of the face panel fluctuates, the side wall portion 28a of the mask frame 28 during welding, and the skirt portion 27 of the shadow mask 27.
This is due to the assembly accuracy such as the displacement of the overlapped portion with a. Therefore, it is necessary to assemble the shadow mask structure 29 in consideration of the fluctuation of the inner surface height of the face panel 22.

【0005】従来のシャドウマスク構体の組立方法、装
置等について図を参照して説明する。図4は、フェース
パネル22の内面高さ測定装置(すなわち、フェースパ
ネル22の内面22aとスタッドピン33との間隔測定
装置)の要部拡大断面図であり、図5は、シャドウマス
ク構体の組立装置の要部拡大断面図である。まず、フェ
ースパネル22の内面高さの測定について説明する。図
4(a)に示すように、フェースパネル22の側部をパ
ネル受け台34に載置し、図示しない駆動機構によりパ
ネル受け台34を内面高さ測定装置35上の所定位置へ
移動させ、次に、図4(b)に示すように、パネル受け
台34を降下させてフェースパネル22のスタッドピン
33を内面高さ測定装置35のロケータ36に形成され
たテーパ状案内溝36bを経由して凹部36a(図4
(c))に挿入し、次いで、パネル受け台34をさらに
降下させてフェースパネル22から離し、フェースパネ
ル22をロケータ36で支持する。ここで、凹部36a
は貫通孔とすることもできる。ロケータ36には図示し
ないスプリングで凹部36a形成面側へ張力が付与され
ている。
A conventional method and apparatus for assembling a shadow mask structure will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is an enlarged sectional view of a main part of an inner surface height measuring device of the face panel 22 (that is, an interval measuring device between the inner surface 22a of the face panel 22 and the stud pin 33), and FIG. 5 is an assembly of the shadow mask structure. It is an important section enlarged sectional view of a device. First, measurement of the inner surface height of the face panel 22 will be described. As shown in FIG. 4A, the side of the face panel 22 is placed on the panel support 34, and the panel support 34 is moved to a predetermined position on the inner surface height measuring device 35 by a drive mechanism (not shown). Next, as shown in FIG. 4B, the panel receiving base 34 is lowered to move the stud pins 33 of the face panel 22 through the tapered guide grooves 36b formed in the locator 36 of the inner surface height measuring device 35. Recess 36a (FIG. 4)
(C)), and then the panel receiving base 34 is further lowered to be separated from the face panel 22, and the face panel 22 is supported by the locator 36. Here, the concave portion 36a
Can be a through hole. A tension (not shown) is applied to the locator 36 by a spring (not shown) toward the concave surface 36a.

【0006】次いで、フェースパネル22の3辺側部に
各々植設された3個のスタッドピン33で形成する平面
33aを基準にして、パネル内面22aとの間隔(パネ
ル内面高さ)をダイアルゲージ又はデジタル側長器など
の測定器37で複数の指定箇所(例えば、図6(a)に
示すように、パネルの中央部1箇所と、対角線上にある
周辺部の4箇所の計5箇所、或いは図6(b)に示すよ
うに、上記4箇所の間の各辺中央部の4箇所を追加した
計9箇所など)について測定する。このパネル内面高さ
の測定値xnを用いて望ましいマスク高さynを求め、こ
のマスク高さynが得られるように、所定の近似式を用
いてシャドウマスク27に対するマスクフレーム28の
望ましい溶接位置zn(フレーム3辺の位置z1、z2、
z3)(図示しない)を決定する。ここで、マスク高さ
ynは、平面33aしたがってマスクフレーム28のフ
ックスプリング32を基準にしたものであり、図3に示
すように、フェースパネル22の内面22aとシャドウ
マスク27との間隔の規格値をQ0nとし、yn=xn−Q
0nで与えられる。
Next, with reference to a plane 33a formed by three stud pins 33 planted on three sides of the face panel 22, a distance from the panel inner surface 22a (panel inner surface height) is determined by a dial gauge. Alternatively, a plurality of designated locations (for example, as shown in FIG. 6A, one location at the center of the panel and four locations at the diagonal periphery, as shown in FIG. Alternatively, as shown in FIG. 6 (b), the measurement is performed at nine places where four places at the center of each side between the above four places are added. A desired mask height yn is obtained using the measured value xn of the panel inner surface height, and a desired welding position zn of the mask frame 28 with respect to the shadow mask 27 is determined using a predetermined approximate expression so as to obtain the mask height yn. (Positions z1, z2,
z3) (not shown) is determined. Here, the mask height yn is based on the hook spring 32 of the plane frame 33a and thus of the mask frame 28, and as shown in FIG. 3, the standard value of the distance between the inner surface 22a of the face panel 22 and the shadow mask 27. Is Q0n, yn = xn-Q
It is given by 0n.

【0007】次に、シャドウマスク構体の組立方法につ
いて説明する。図5に示すシャドウマスク構体の組立装
置において、シャドウマスク27を上下プラテン38、
39で挟持して位置決め固定すると共に、3組の位置決
め機構40に形成された3個の支持ピン42をマスクフ
レーム28に溶接された3個のフックスプリング32の
取付孔(図示せず)に各々挿入固定した状態で、マスク
フレーム28の側壁部28aとシャドウマスク27のス
カート部27aとを暫定位置で重合させる。次いで、図
4の内面高さ測定装置35により測定した内面高さxn
から算出した溶接位置znを用いて、フレーム位置決め
機構40の各パルスモーター43を制御して支持ピン4
2を上下動させ、マスクフレームを所定位置に調整し、
重合部を溶接してシャドウマスク構体29を得る。
Next, a method of assembling the shadow mask structure will be described. In the apparatus for assembling a shadow mask structure shown in FIG.
At the same time, the three support pins 42 formed on the three sets of positioning mechanisms 40 are inserted into mounting holes (not shown) of three hook springs 32 welded to the mask frame 28, respectively. In the state of being inserted and fixed, the side wall portion 28a of the mask frame 28 and the skirt portion 27a of the shadow mask 27 are overlapped at a provisional position. Next, the inner surface height xn measured by the inner surface height measuring device 35 of FIG.
Each pulse motor 43 of the frame positioning mechanism 40 is controlled using the welding position zn calculated from
2 up and down to adjust the mask frame to a predetermined position,
The overlapping portion is welded to obtain a shadow mask structure 29.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の従来
のシャドウマスク構体の組立方法では、フェースパネル
の内面高さの測定値と、Qの規格値とから、望ましいマ
スクフレーム位置を算出し、これを用いてフレーム位置
決め機構を制御してフレーム位置を所定位置に調整し、
重合部を溶接していたので、完成後のシャドウマスク構
体のQ値は、規格値にかなり近い値が得られていた。し
かしながら、近年、カラーディスプレイ管のフラット
化、さらなる高精細度化、高輝度化等の要求が高まり、
ピュリティ、ホワイトユニフォミティの向上が求めら
れ、Q値の安定化が課題になっているが、上記従来の組
立方法では組立精度が不足し、Q値のばらつきが無視で
きなくなってきた。
In the above-described conventional method of assembling a shadow mask structure, a desired mask frame position is calculated from a measured value of the inner surface height of the face panel and a standard value of Q. To control the frame positioning mechanism to adjust the frame position to a predetermined position,
Since the overlapped portion was welded, the Q value of the completed shadow mask structure was very close to the standard value. However, in recent years, there has been a growing demand for flattened color display tubes, higher definition, and higher brightness.
Improvements in purity and white uniformity have been demanded, and the stabilization of the Q value has been an issue. However, in the above-described conventional assembling method, the assembling accuracy is insufficient, and the variation in the Q value cannot be ignored.

【0009】そこで、本発明は上記の問題に鑑みてなさ
れたもので、さらに組立精度を向上してQ値のばらつき
を減少させたシャドウマスク構体の組立方法を提供する
ことである。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of assembling a shadow mask structure in which the assembling accuracy is further improved and the variation in Q value is reduced.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明のシャドウマスク
構体の組立方法は、フェースパネルの複数箇所の内面高
さの測定値と、フェースパネル内面とシャドウマスクと
の間隔の規格値とを用いて望ましいシャドウマスク高さ
を算出し、このシャドウマスク高さに近似してシャドウ
マスクに対するマスクフレームの位置を決め、溶接する
工程と、溶接後のシャドウマスク構体を装着したフェー
スパネルの内面とシャドウマスクとの間隔を測定する工
程と、該間隔の測定値と前記間隔の規格値との差を必要
に応じて統計的処理を行なったのちフィードバックし
て、次のフェースパネルに対するマスクフレームの位置
を補正することを特徴とする。この方法により、Q値の
実測値をフィードバックして溶接位置を補正するので、
従来よりも組立精度を向上させ、Q値のばらつきを低減
したシャドウマスク構体を提供できる。
According to the present invention, there is provided a method for assembling a shadow mask structure using a measured value of an inner surface height at a plurality of positions of a face panel and a standard value of a distance between the inner surface of the face panel and the shadow mask. The desired shadow mask height is calculated, the position of the mask frame with respect to the shadow mask is determined by approximating the shadow mask height, and the welding process is performed, and the inner surface of the face panel and the shadow mask on which the welded shadow mask structure is mounted. Measuring the distance between the mask frame and the difference between the measured value of the distance and the standard value of the distance, after performing statistical processing as necessary, and then feeding back to correct the position of the mask frame with respect to the next face panel. It is characterized by the following. With this method, the actual position of the Q value is fed back to correct the welding position.
It is possible to provide a shadow mask structure in which the assembling accuracy is improved and the variation in the Q value is reduced as compared with the related art.

【0011】また、本発明のシャドウマスク構体の組立
方法は、先行するフェースパネルの内面高さの測定値を
xn(1)とし、フェースパネルの内面とシャドウマス
クとの間隔の規格値をQ0nとすると、シャドウマスク高
さyn(1)はyn(1)=xn(1)−Q0nであり、後
続するフェースパネルの当初のシャドウマスク高さをy
n(2)とし、補正後のシャドウマスク高さをYn(2)
として、Yn(2)=yn(2)+ΔQn(1)を用いて
シャドウマスク高さを補正し(ただし、ΔQn(1)は
先行するフェースパネルの測定値Qen(1)と規格値Q
0nとの差で、ΔQn(1)=Qen(1)−Q0nであ
る。)、マスクフレームの位置を補正することを特徴と
する。この方法により、簡易な方法で効果的に補正がで
きる。上記の(1)、(2)は、個々のフェースパネル
を示すだけでなく、各々複数のフェースパネルをも示す
と解すべきである。
In the method of assembling a shadow mask structure according to the present invention, the measured value of the inner surface height of the preceding face panel is xn (1), and the standard value of the distance between the inner surface of the face panel and the shadow mask is Q0n. Then, the shadow mask height yn (1) is yn (1) = xn (1) -Q0n, and the initial shadow mask height of the subsequent face panel is y.
n (2), and the corrected shadow mask height is Yn (2)
The height of the shadow mask is corrected using Yn (2) = yn (2) + ΔQn (1) (where ΔQn (1) is the measured value Qen (1) of the preceding face panel and the standard value Q
.DELTA.Qn (1) = Qen (1) -Q0n. And) correcting the position of the mask frame. According to this method, correction can be effectively performed by a simple method. It should be understood that (1) and (2) above not only indicate individual face panels, but also each indicate a plurality of face panels.

【0012】また、xn(1)に関する1次式で表示さ
れるYn(2)=αn(1)xn(1)+yn(2)(ただ
し、補正係数αn(1)=ΔQn(1)/xn(1)であ
る。)を用いて後続するフェースパネルのシャドウマス
ク高さyn(2)を補正することを特徴とする。この方
法により、簡易な方法で効果的に補正ができる。
Further, Yn (2) = αn (1) xn (1) + yn (2) expressed by a linear expression relating to xn (1) (where correction coefficient αn (1) = ΔQn (1) / xn (1)) to correct the shadow mask height yn (2) of the subsequent face panel. According to this method, correction can be effectively performed by a simple method.

【0013】また、各工程がライン上で自動的に実施さ
れることを特徴とする。この方法により、Q値の組立精
度の向上を図ったシャドウマスク構体を量産できる。
Further, each step is automatically performed on a line. This method enables mass production of a shadow mask structure with improved Q value assembly accuracy.

【0014】また、溶接後のシャドウマスク構体のフェ
ースパネル内面とシャドウマスクとの間隔は、レーザー
フォーカス変位計で測定されることを特徴とする。この
方法により、Q値の実測が容易となり、Q値の組立精度
の向上を図ったシャドウマスク構体を提供できる。
The distance between the inner surface of the face panel of the shadow mask structure after welding and the shadow mask is measured by a laser focus displacement meter. According to this method, the actual measurement of the Q value is facilitated, and a shadow mask structure with improved assembly accuracy of the Q value can be provided.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明のシャドウマスク構体の基
本的な組立方法の実施の形態について図を参照して説明
する。図1は、自動化された搬送ライン上でシャドウマ
スク構体を組立する工程を説明するための要部フロー図
である。以下、図1を参照して各工程について説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a basic method for assembling a shadow mask structure according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a main part flowchart for explaining a process of assembling a shadow mask structure on an automated transport line. Hereinafter, each step will be described with reference to FIG.

【0016】工程(1)・・パネル内面高さの測定 先ず、先行して投入されたフェースパネル22(例え
ば、No.1パネルとする。)を、図4(b)に示すよ
うな内面高さ測定装置35(パネル高さ測定機)に載置
し、フェースパネル22の内面に形成されたスタッドピ
ン33をロケータ36で支持する。次いで、フェースパ
ネル22の3辺側部に各々植設された3個のスタッドピ
ン33で形成する平面33aを基準にして、パネル内面
22aとの間隔(パネル内面高さ)をダイアルゲージ又
はデジタル側長器等の測定器37で複数の指定箇所(例
えば、図6に示す9ポジションP1〜P9)について測定
する。得られた9組の測定値xn(1)をコンピュータ
に記憶させる。(1)はNo.1パネルのデータである
ことを示す。
Step (1) —Measurement of Panel Inner Surface Height First, the face panel 22 (for example, No. 1 panel) that has been put in advance is converted into an inner surface height as shown in FIG. The stud pin 33 formed on the inner surface of the face panel 22 is supported by a locator 36. Next, based on a flat surface 33a formed by three stud pins 33 implanted on three sides of the face panel 22, a distance from the panel inner surface 22a (panel inner surface height) is determined by a dial gauge or digital side. Measurement is performed on a plurality of designated locations (for example, nine positions P1 to P9 shown in FIG. 6) by a measuring device 37 such as a long device. The obtained nine sets of measured values xn (1) are stored in the computer. (1) is No. Indicates that the data is for one panel.

【0017】 工程(2)・・マスク高さとフレーム溶接位置の算出 次に、パネル内面高さの測定値xn(1)と、各ポジシ
ョンでのフェースパネル22の内面22aとシャドウマ
スク27との間隔の規格値Q0n(Q01〜Q09)とを用い
て、所定の式(yn=xn−Q0n)から前記パネルの内面
形状に対応した望ましい9組のマスク高さyn(1)をコ
ンピュータで算出する。(1)はNo.1パネルのデー
タであることを示す。ここで、yn(1)は、平面33
aを基準にした各ポジションでのマスク高さである。こ
のマスク高さyn(1)が得られるように、シャドウマ
スク27に対するマスクフレーム28の望ましい溶接位
置zn(フレーム3辺の溶接位置z1、z2、z3)を算出
する。算出には種々の近似式が使用できる。なお、マス
ク高さyn(1)を、平面33aを基準にするのではな
く、フレーム底面28bを基準にした数値にしてもよ
い。この場合は、図3に示すように、パネル内面高さの
測定値としては、スタッドピン位置の平面33aとマス
ク底面28bとの距離kをxn(1)に加算した数値を
用いる。
Step (2) Calculation of Mask Height and Frame Welding Position Next, the measured value xn (1) of the panel inner surface height, and the distance between the inner surface 22a of the face panel 22 and the shadow mask 27 at each position And nine standard mask heights yn (1) corresponding to the inner surface shape of the panel are calculated by a computer from a predetermined equation (yn = xn-Q0n) using the standard values Q0n (Q01 to Q09). (1) is No. Indicates that the data is for one panel. Where yn (1) is the plane 33
This is the mask height at each position based on a. Desirable welding positions zn of the mask frame 28 with respect to the shadow mask 27 (welding positions z1, z2, z3 on three sides of the frame) are calculated so as to obtain the mask height yn (1). Various approximations can be used for the calculation. The mask height yn (1) may be a numerical value based on the frame bottom surface 28b instead of the plane 33a. In this case, as shown in FIG. 3, a value obtained by adding the distance k between the plane 33a at the stud pin position and the mask bottom surface 28b to xn (1) is used as the measured value of the panel inner surface height.

【0018】 工程(3)・・マスクとフレームの位置制御と溶接 次に、溶接位置znの情報を図5に示すシャドウマスク
構体の組立装置に入力する。図5の組立装置では、シャ
ドウマスク27を上下プラテン38、39で挟持して位
置決め固定すると共に、支持ピン42をマスクフレーム
28に溶接されたフックスプリング32の取付孔(図示
せず)に挿入固定した状態で、マスクフレーム28の側
壁部28aとシャドウマスク27のスカート部27aと
を暫定位置で重合させる。次いで、上記溶接位置znを
用いて、3組のフレーム位置決め機構40を制御してフ
レームの3辺の位置を各々最適位置に調整し、シャドウ
マスクとの重合部を溶接してシャドウマスク構体29を
得る。
Step (3): Position Control and Welding of Mask and Frame Next, information on the welding position zn is input to the shadow mask assembly assembling apparatus shown in FIG. In the assembling apparatus shown in FIG. 5, the shadow mask 27 is sandwiched and fixed between the upper and lower platens 38 and 39, and the support pin 42 is inserted and fixed into a mounting hole (not shown) of the hook spring 32 welded to the mask frame 28. In this state, the side wall portion 28a of the mask frame 28 and the skirt portion 27a of the shadow mask 27 are overlapped at a temporary position. Then, using the welding position zn, the three sets of frame positioning mechanisms 40 are controlled to adjust the positions of the three sides of the frame to the respective optimum positions, and the overlapping portion with the shadow mask is welded to form the shadow mask structure 29. obtain.

【0019】 工程(4)・・シャドウマスク構体をパネルへ装着 マスクフレーム28の3辺側壁部28aの外側に形成さ
れたフックスプリング32の先端部に形成された取付孔
(図示せず)を、従来と同様の方法により、パネル内面
高さを測定した前記フェースパネル22の側部内壁の対
応箇所に植設されたスタッドピン33に嵌着することに
よりシャドウマスク構体29をフェースパネル22に固
定する。
Step (4). Attach the shadow mask structure to the panel. Attach a mounting hole (not shown) formed at the tip of the hook spring 32 formed outside the three side wall portion 28a of the mask frame 28. The shadow mask structure 29 is fixed to the face panel 22 by fitting it to a stud pin 33 planted at a corresponding position on the side inner wall of the face panel 22 whose inner surface height is measured by a method similar to the conventional method. .

【0020】 工程(5)・・パネル−マスク間隔(Q値)の測定 シャドウマスク構体29を装着したフェースパネル22
の前面側から、レーザーフォーカス変位計(図示しな
い)で、フェースパネルの内面とシャドウマスクとの間
隔を図6の9ポジションについて測定し、得られた9組
の測定値Qen(1)をコンピュータに記憶させる。
(1)はNo.1パネルに対するデータであることを示
す。
Step (5): Measurement of Panel-Mask Interval (Q Value) Face Panel 22 with Shadow Mask Structure 29 Mounted
The distance between the inner surface of the face panel and the shadow mask is measured at nine positions in FIG. 6 from the front side of the camera using a laser focus displacement meter (not shown), and the obtained nine sets of measured values Qen (1) are sent to a computer. Remember.
(1) is No. Indicates that the data is for one panel.

【0021】 工程(6)・・Q値の測定値と規格値との差の検出 各測定ポジションでの測定値Qen(1)と規格値Q0nと
の差ΔQn(1)(=Qen(1)−Q0n)を算出する。
また、差ΔQn(1)の平均値ΔQav(1)も算出して
おく。(1)は先行パネルに対するデータであることを
示す。Qen(1)>Q0nのとき、ΔQn(1)>0であ
り、Qen(1)<Q0nのとき、ΔQn(1)<0であ
る。
Step (6) Detection of difference between measured value of Q value and standard value Difference ΔQn (1) between measured value Qen (1) and standard value Q0n at each measurement position (= Qen (1) -Q0n) is calculated.
Further, an average value ΔQav (1) of the difference ΔQn (1) is also calculated. (1) indicates that the data is for the preceding panel. When Qen (1)> Q0n, ΔQn (1)> 0, and when Qen (1) <Q0n, ΔQn (1) <0.

【0022】工程(7)・・マスク高さの補正と、フレ
ーム溶接位置の補正 図1の破線で示すように、工程(6)で算出したQ値の
差ΔQn(1)を工程(2)へフィードバックして、後
続して投入されたフェースパネル(例えばNo.2パネ
ルとする。)のマスク高さを補正する。先ず、No.2
パネルについて、No.1パネルと同様に工程(1)で
パネル内面高さxn(2)を測定し、No.2パネルに
ついて補正前のマスク高さyn(2)=xn(2)−Q0n
を算出する。次に、Q0nを補正値(Q0n−ΔQn
(1))に置きかえ、No.2パネルの補正後のマスク
高さYn(2)を次式、Yn(2)=xn(2)−(Q0n
−ΔQn(1))=(xn(2)−Q0n)+ΔQn(1)
=yn(2)+ΔQn(1)から算出する。この式は、N
o.2パネルの当初指定されたマスク高さyn(2)
を、先行したNo.1パネルのQ値の差で補正したもの
である。ここで、測定値Qen(1)が規格値Q0nより大
きい場合、Q値を減少する方向に補正する。この場合、
ΔQn(1)>0であるから、補正された(Q0n−ΔQn
(1))はQ0nよりもΔQn(1)だけ小さくなる。逆
に、測定値Qen(1)が規格値Q0nより小さい場合、Q
値を増加する方向に補正する。この場合は、ΔQn
(1)<0であるから、補正された(Q0n−ΔQn
(1))はQ0nよりも−ΔQn(1)だけ大きくなる。
また、他の補正方法として、ΔQn(1)に代えて平均
値ΔQav(1)で一律に補正してもよい。この場合は、
Yn(2)=yn(2)+ΔQav(1)を用いることにな
る。
Step (7): Correction of mask height and correction of frame welding position As shown by the broken line in FIG. 1, the difference ΔQn (1) between the Q values calculated in Step (6) is converted to Step (2). To correct the mask height of the subsequently input face panel (eg, No. 2 panel). First, no. 2
Regarding the panels, In step (1), the panel inner surface height xn (2) was measured in the same manner as in the case of the panel No. 1; Mask height yn (2) = xn (2) -Q0n before correction for two panels
Is calculated. Next, Q0n is corrected to a correction value (Q0n-ΔQn
No. (1)). The corrected mask height Yn (2) for the two panels is given by the following equation: Yn (2) = xn (2)-(Q0n
−ΔQn (1)) = (xn (2) −Q0n) + ΔQn (1)
= Yn (2) + ΔQn (1). This equation gives N
o. Initially specified mask height yn (2) for two panels
Of the preceding No. This is corrected by the difference between the Q values of one panel. Here, when the measured value Qen (1) is larger than the standard value Q0n, the Q value is corrected in a decreasing direction. in this case,
Since ΔQn (1)> 0, the corrected (Q0n−ΔQn)
(1)) is smaller than Q0n by ΔQn (1). Conversely, if the measured value Qen (1) is smaller than the standard value Q0n, Q
Correct the value in the increasing direction. In this case, ΔQn
(1) Since <0, the corrected (Q0n−ΔQn)
(1)) is larger than Q0n by -ΔQn (1).
As another correction method, the correction may be uniformly performed using the average value ΔQav (1) instead of ΔQn (1). in this case,
Yn (2) = yn (2) + ΔQav (1) will be used.

【0023】次に、補正されたマスク高さYn(2)に
できるだけ近似するように、シャドウマスク27に対す
るマスクフレーム28の補正された溶接位置Zn(2)
(フレーム3辺の溶接位置Z1、Z2、Z3)を算出す
る。Zn(2)を得る近似式は種々のものがある。この
補正された溶接位置Zn(2)の情報を図5に示すシャ
ドウマスク構体の組立装置に入力し、工程(3)と同様
に溶接してシャドウマスク構体を得る。
Next, the corrected welding position Zn (2) of the mask frame 28 with respect to the shadow mask 27 so as to be as close as possible to the corrected mask height Yn (2).
(Welding positions Z1, Z2, Z3 on three sides of the frame) are calculated. There are various approximate expressions for obtaining Zn (2). The information on the corrected welding position Zn (2) is input to the assembling apparatus for a shadow mask structure shown in FIG. 5, and welding is performed in the same manner as in step (3) to obtain a shadow mask structure.

【0024】次に、補正して溶接された上記のシャドウ
マスク構体をNo.2パネルに装着し、パネル−マスク
間隔Qen(2)を測定後、次の工程へ搬送する。No.
2パネルのQ値はNo.1パネルのQ値よりもばらつき
が改善されている。パネル−マスク間隔の測定値Qen
(2)は、さらなる補正に使用することができる。
Next, the above-mentioned shadow mask structure that has been corrected and welded is referred to as No. 1. After mounting on two panels and measuring the panel-mask distance Qen (2), the panel is conveyed to the next step. No.
The Q value of No. 2 panel is No. The variation is improved compared to the Q value of one panel. Panel-mask spacing measurement Qen
(2) can be used for further correction.

【0025】以下、同様にして、先行するフェースパネ
ルのQ値の差をフィードバックして後続するフェースパ
ネルのマスク高さ、溶接位置を順次改善することができ
る。
Similarly, the difference between the Q values of the preceding face panel is fed back, and the mask height and welding position of the subsequent face panel can be sequentially improved.

【0026】さて、他の補正方法として、フェースパネ
ル内面とシャドウマスクとの間隔(Q値)の測定値と規
格値との差ΔQn(1)は、上記の式に示すように、パ
ネル内面高さの関数であるから、パネル内面高さの測定
値xn(1)に補正係数αn(1)を乗じた形(αn
(1)xn(1))で表示することができる。したがっ
て、補正後のマスク高さYn(2)は、Yn(2)=yn
(2)+ΔQn(1)=αn(1)xn(1)+yn(2)
で表示できる。ここで、補正係数αn(1)=ΔQn
(1)/xn(1)である。すなわち、補正後のNo.
2パネルのマスク高さYn(2)は、補正前のNo.2
パネルのマスク高さyn(2)を定数項とし、No.1
パネルの内面高さの測定値xn(1)に関する1次式で
表示することができる。同様にして、さらに後続するN
o.3パネルの補正後のマスク高さはYn(3)=αn
(2)xn(2)+yn(3)で表示できる。ここで、補
正係数αn(2)=ΔQn(2)/xn(2)である。以
下同様に先行パネルのデータから算出した補正係数αn
を用いて、後続するパネルのマスク高さを順次補正する
ことができる。
As another correction method, the difference ΔQn (1) between the measured value of the distance (Q value) between the inner surface of the face panel and the shadow mask and the standard value is, as shown in the above equation, the height of the inner surface of the panel. Is a function of the panel inner surface height xn (1) multiplied by the correction coefficient αn (1) (αn
(1) xn (1)). Therefore, the corrected mask height Yn (2) is Yn (2) = yn.
(2) + ΔQn (1) = αn (1) xn (1) + yn (2)
Can be displayed with. Here, the correction coefficient αn (1) = ΔQn
(1) / xn (1). That is, the corrected No.
The mask height Yn (2) of the second panel is No. 2 before correction. 2
The mask height yn (2) of the panel is defined as a constant term. 1
It can be expressed by a linear expression relating to the measured value xn (1) of the inner surface height of the panel. Similarly, the following N
o. The corrected mask height of the three panels is Yn (3) = αn
(2) xn (2) + yn (3) can be displayed. Here, the correction coefficient αn (2) = ΔQn (2) / xn (2). Hereinafter, similarly, the correction coefficient αn calculated from the data of the preceding panel
Can be used to sequentially correct the mask height of subsequent panels.

【0027】マスク高さの補正精度を向上させるため
に、補正後のマスク高さYnを、xnに関する2次式とし
て、さらには多数次の関数として表すこともできる。ま
た、ΔQnの代わりに平均値ΔQavで補正することもで
き、この場合は、補正係数はαn=ΔQav/xnで表され
る。
In order to improve the accuracy of correction of the mask height, the corrected mask height Yn can be expressed as a quadratic expression relating to xn, or as a multiple-order function. In addition, the correction can be performed with the average value ΔQav instead of ΔQn. In this case, the correction coefficient is represented by αn = ΔQav / xn.

【0028】ところで、上記の補正方法では、1個のパ
ネル(例えば、No.1)についてQ値の測定値と規格
値との差ΔQnを検出し、これを用いて後続するパネル
を補正する基本的な例について説明したが、例えばロッ
ト切り替え毎にN個(例えば、N=数10個)のパネル
についてΔQnを検出し、N個のΔQnを統計的に処理し
た数値を用いて(N+1)個以後の後続するパネルを補
正することにより、補正精度を向上させることができ
る。これらの工程はすべて自動化が可能である。
In the above correction method, the difference ΔQn between the measured value of the Q value and the standard value is detected for one panel (for example, No. 1), and this is used to correct the subsequent panel. For example, ΔQn is detected for N (for example, N = several tens) panels each time a lot is switched, and (N + 1) number is obtained by using a numerical value obtained by statistically processing N ΔQn. The correction accuracy can be improved by correcting the subsequent panels thereafter. All of these steps can be automated.

【0029】以上に説明した本発明のシャドウマスク構
体の組立方法は、フェースパネルの内面高さを複数箇所
について測定し、この測定値から望ましいマスク高さを
算出し、さらに、マスクフレームの溶接位置を決め、溶
接後のシャドウマスク構体を装着したフェースパネルの
内面とシャドウマスクとの間隔を測定し、これをフィー
ドバックしてマスクフレームの溶接位置を補正すること
を特徴としている。測定方法、補正式、データ処理方法
等は上記に限定されるものではなく、種々のものが可能
である。
In the above-described method of assembling the shadow mask structure of the present invention, the height of the inner surface of the face panel is measured at a plurality of locations, a desired mask height is calculated from the measured values, and the welding position of the mask frame is further determined. The distance between the inner surface of the face panel on which the shadow mask structure after welding is mounted and the shadow mask is measured, and this is fed back to correct the welding position of the mask frame. The measuring method, correction formula, data processing method, and the like are not limited to the above, and various methods are possible.

【0030】本発明のシャドウマスク構体の組立方法に
よると、溶接後のQ値のばらつきは、従来方法によるQ
値のばらつき±200μmに対し、±80μmに減少す
ることを確認している。
According to the method of assembling the shadow mask structure of the present invention, the variation of the Q value after welding is reduced by the conventional method.
It has been confirmed that the variation of the value is reduced to ± 80 μm with respect to ± 200 μm.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明のシャドウマスク構体の組立方法
は、先行するフェースパネルの複数箇所の内面高さの測
定値と、フェースパネル内面とシャドウマスクとの間隔
の規格値とを用いて望ましいシャドウマスク高さを算出
し、このシャドウマスク高さに近似してシャドウマスク
に対するマスクフレームの位置を決め、溶接する工程
と、溶接後のシャドウマスク構体を装着したフェースパ
ネルの内面とシャドウマスクとの間隔を測定する工程
と、間隔の測定値と規格値との差をフィードバックして
後続するフェースパネルのマスクフレームの位置を補正
することを特徴とする。この方法により、Q値の実測値
をフィードバックして溶接位置を補正するので、従来よ
りも組立精度が向上し、Q値のばらつきを低減したシャ
ドウマスク構体を提供できる。
According to the method of assembling a shadow mask structure of the present invention, a desired shadow is obtained by using the measured values of the inner surface heights of a plurality of preceding face panels and the standard value of the distance between the inner surface of the face panel and the shadow mask. Calculate the mask height, determine the position of the mask frame with respect to the shadow mask by approximating the height of the shadow mask, and perform the welding process, and the distance between the inner surface of the face panel on which the shadow mask structure after welding is mounted and the shadow mask And correcting the position of the mask frame of the subsequent face panel by feeding back the difference between the measured value of the interval and the standard value. According to this method, the welding position is corrected by feeding back the actually measured value of the Q value, so that it is possible to provide a shadow mask structure with improved assembling accuracy and reduced variation in the Q value as compared with the related art.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明のシャドウマスク構体の組立方法を示
すフロー図
FIG. 1 is a flowchart showing a method of assembling a shadow mask structure according to the present invention.

【図2】 従来のカラー陰極線管の一部断面図を含む側
面図
FIG. 2 is a side view including a partial cross-sectional view of a conventional color cathode ray tube.

【図3】 フェースパネルにシャドウマスク構体を取付
けた状態の部分断面図
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a state in which a shadow mask structure is attached to a face panel.

【図4】 フェースパネルの内面高さ測定装置の要部拡
大断面図(a、b)と、ロケータの斜視図(c)
FIG. 4 is an enlarged sectional view (a, b) of a main part of a face panel inner surface height measuring device and a perspective view (c) of a locator.

【図5】 従来のシャドウマスク構体の組立装置の要部
拡大断面図
FIG. 5 is an enlarged sectional view of a main part of a conventional shadow mask assembly apparatus.

【図6】 測定箇所を示すフェースパネルの平面図
((a)は5箇所、(b)は9箇所)
FIG. 6 is a plan view of a face panel showing measurement points ((a) is 5 places, (b) is 9 places).

【符号の説明】 1 工程(1)・・パネル内面高さの測定 2 工程(2)・・マスク高さと溶接位置の算出 3 工程(3)・・マスクフレーム位置の制御と溶接 4 工程(4)・・シャドウマスク構体をパネルに装着 5 工程(5)・・パネル−マスク間隔(Q値)の測定 6 工程(6)・・Q値の測定値と規格値との差の算出 7 工程(7)・・マスク高さとフレーム溶接位置の補
正 22 フェースパネル 27 シャドウマスク 28 マスクフレーム 29 シャドウマスク構体
[Description of Signs] 1 Step (1): Measurement of panel inner surface height 2 Step (2): Calculation of mask height and welding position 3 Step (3): Control of mask frame position and welding 4 Step (4) 5) Step (5): Measurement of panel-mask interval (Q value) 6 Step (6): Calculation of difference between measured value of Q value and standard value 7) Step (5) 7) Correction of mask height and frame welding position 22 Face panel 27 Shadow mask 28 Mask frame 29 Shadow mask structure

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】先行するフェースパネルの複数箇所の内面
高さの測定値と、フェースパネル内面とシャドウマスク
との間隔の規格値とを用いて望ましいシャドウマスク高
さを算出し、このシャドウマスク高さとなるようにシャ
ドウマスクに対するマスクフレームの位置を決め、溶接
する工程と、溶接後のシャドウマスク構体を装着したフ
ェースパネルの内面とシャドウマスクとの間隔を測定す
る工程と、該間隔の測定値と間隔の規格値との差をフィ
ードバックして、後続するフェースパネルに対するマス
クフレームの位置を補正する工程とを具備するシャドウ
マスク構体の組立方法。
1. A desired shadow mask height is calculated using a measured value of the inner surface height of a plurality of preceding face panels and a standard value of an interval between the inner surface of the face panel and the shadow mask. Determining the position of the mask frame with respect to the shadow mask so as to be, a step of welding, a step of measuring an interval between the inner surface of the face panel on which the welded shadow mask structure is mounted and the shadow mask, and a measured value of the interval. Correcting the position of the mask frame with respect to the subsequent face panel by feeding back a difference from the standard value of the interval, and assembling the shadow mask assembly.
【請求項2】先行するフェースパネルの内面高さの測定
値をxn(1)とし、フェースパネルの内面とシャドウ
マスクとの間隔の規格値をQ0nとすると、シャドウマス
ク高さyn(1)はyn(1)=xn(1)−Q0nであ
り、後続するフェースパネルの当初のシャドウマスク高
さをyn(2)とし、補正後のシャドウマスク高さをYn
(2)として、Yn(2)=yn(2)+ΔQn(1)を
用いてシャドウマスク高さを補正し(ただし、ΔQn
(1)は先行するフェースパネルの測定値Qen(1)と
規格値Q0nとの差で、ΔQn(1)=Qen(1)−Q0n
である。)、マスクフレームの位置を補正することを特
徴とする請求項1に記載のシャドウマスク構体の組立方
法。
2. Assuming that the preceding measured value of the inner surface height of the face panel is xn (1) and the standard value of the distance between the inner surface of the face panel and the shadow mask is Q0n, the shadow mask height yn (1) is yn (1) = xn (1) -Q0n, the initial shadow mask height of the subsequent face panel is yn (2), and the corrected shadow mask height is Yn.
As (2), the height of the shadow mask is corrected using Yn (2) = yn (2) + ΔQn (1) (however, ΔQn
(1) is the difference between the measured value Qen (1) of the preceding face panel and the standard value Q0n, and ΔQn (1) = Qen (1) −Q0n.
It is. 2. The method according to claim 1, wherein the position of the mask frame is corrected.
【請求項3】xn(1)に関する1次式で表示されるYn
(2)=αn(1)xn(1)+yn(2)(ただし、補
正係数αn(1)=ΔQn(1)/xn(1)である。)
を用いて後続するフェースパネルのシャドウマスク高さ
yn(2)を補正することを特徴とする請求項2に記載
のシャドウマスク構体の組立方法。
3. Yn represented by a linear expression relating to xn (1)
(2) = αn (1) xn (1) + yn (2) (where the correction coefficient αn (1) = ΔQn (1) / xn (1))
3. The method for assembling a shadow mask structure according to claim 2, wherein the height yn (2) of the subsequent face panel is corrected using the following.
【請求項4】各工程がライン上で自動的に実施されるこ
とを特徴とする請求項1に記載のシャドウマスク構体の
組立方法。
4. The method according to claim 1, wherein each step is automatically performed on a line.
【請求項5】溶接後のシャドウマスク構体のフェースパ
ネル内面とシャドウマスクとの間隔は、レーザーフォー
カス変位計で測定されることを特徴とする請求項1に記
載のシャドウマスク構体の組立方法。
5. The assembly method according to claim 1, wherein the distance between the inner surface of the face panel of the shadow mask structure after welding and the shadow mask is measured by a laser focus displacement meter.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013537958A (en) * 2010-09-27 2013-10-07 ボーグワーナー インコーポレーテッド Manufacturing method of turbocharger

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