JP2001093293A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2001093293A
JP2001093293A JP26667199A JP26667199A JP2001093293A JP 2001093293 A JP2001093293 A JP 2001093293A JP 26667199 A JP26667199 A JP 26667199A JP 26667199 A JP26667199 A JP 26667199A JP 2001093293 A JP2001093293 A JP 2001093293A
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JP
Japan
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column
data
activation signal
line activation
column line
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JP26667199A
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Japanese (ja)
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Marefusa Kurumada
希総 車田
Masashi Agata
政志 縣
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve relieving efficiency of a shift type redundant circuit and to reduce exclusive area of a redundant cell. SOLUTION: In first to third memory sub-arrays 11A-11c excluding a forth memory sub-array 11D, cell columns of 64 columns accessed by column lines respectively are arranged, cell columns of 65 columns including a redundant cell column 11a is arranged only in the forth memory sub-array 11D. An internal data bus DBA and an internal column line start signal line YA connected to the forth memory sub-array 11D are formed respectively as a signal line having 65 bits width. A connection switching circuit 121 is arranged so that the column line start signal line Y and the internal column line start signal line YA can be connected by shifting, and a data bus DB and an internal data bus DBA also are arranged so that they can be connected by shifting.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数のデータ入出
力回路と対応する個数のメモリセルアレイを有する半導
体記憶装置であって、製造プロセスに起因する不良箇所
を含むメモリセル群(列)を該メモリセル群(列)と同
等の構成を持つ冗長メモリセル群と置換して救済する冗
長セル機能を備えた半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a plurality of data input / output circuits and a number of memory cell arrays corresponding to a plurality of data input / output circuits. The present invention relates to a semiconductor memory device having a redundant cell function of replacing a redundant memory cell group having the same configuration as a memory cell group (column) and performing repair.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、DRAM(ダイナミックランダム
アクセスメモリ)等の半導体記憶装置においては、製造
時の歩留まりを向上させる手段として冗長回路を設けて
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor memory device such as a DRAM (Dynamic Random Access Memory), a redundant circuit is provided as a means for improving the yield in manufacturing.

【0003】このような冗長回路としては、カラム線の
立ち上がりを高速に行なうことができるシフト型冗長回
路が知られている。また、特開平9−231790号公
報には、それぞれ2組ずつの直列接続ヒューズとカラム
線切替回路とを設けることにより、1メモリセルブロッ
ク当たり2本のカラム線の不良セル列を救済できる構成
が開示されている。
[0003] As such a redundant circuit, a shift type redundant circuit capable of rapidly raising a column line is known. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-231790 discloses a configuration in which two sets of series-connected fuses and two column line switching circuits are provided so that a defective cell column of two column lines can be relieved per memory cell block. It has been disclosed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】近年の大規模な半導体
記憶装置は、メモリセルアレイを所定数のブロックごと
に分割したサブアレイ構成とし、サブアレイごとに外部
データ入出力回路を配した構成を採るのが一般的であ
る。ここで、外部データ入出力回路は外部データバスの
ビット幅分の数だけ設ける場合が多い。従って、外部デ
ータバスのビット幅を拡大するような場合に、例えば、
16ビット幅から32ビット幅に拡大するような場合
に、拡大されるビット幅数だけ外部データ入出力回路を
増設する必要が生じる。
Recently, large-scale semiconductor memory devices adopt a sub-array configuration in which a memory cell array is divided into a predetermined number of blocks, and an external data input / output circuit is arranged for each sub-array. General. Here, the external data input / output circuits are often provided by the number corresponding to the bit width of the external data bus. Therefore, when expanding the bit width of the external data bus, for example,
When the width is increased from 16 bits to 32 bits, it is necessary to increase the number of external data input / output circuits by the number of bits to be expanded.

【0005】しかしながら、前記従来のシフト型冗長回
路を有する半導体記憶装置は、外部データ入出力回路と
対応するサブアレイごとに冗長セル列を設けているた
め、冗長セル列の専有面積が大きくなり、且つ、該冗長
セル列の使用効率も悪いという問題を有している。
However, in the conventional semiconductor memory device having a shift-type redundant circuit, since a redundant cell column is provided for each sub-array corresponding to an external data input / output circuit, the area occupied by the redundant cell column is increased, and In addition, there is a problem that the use efficiency of the redundant cell column is poor.

【0006】本発明は、前記従来の問題に鑑み、シフト
型冗長回路の救済効率を向上させると共に、冗長セルの
専有面積を減らせるようにすることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above-described conventional problems, and has as its object to improve the relief efficiency of a shift-type redundant circuit and reduce the area occupied by redundant cells.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明は、半導体記憶装置を、サブアレイごとに冗
長セル列を設けることなく、該サブアレイに含まれる各
セル列を複数のデータ入出力回路のうちのいずれか1つ
と接続し且つデータ入出力回路とセル列との接続状態を
順次シフトして変更できる接続切替手段を設ける構成と
する。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a semiconductor memory device in which a plurality of data rows are stored in each cell row included in the sub-array without providing a redundant cell row for each sub-array. A connection switching means is provided which is connected to any one of the output circuits and which can sequentially shift and change the connection state between the data input / output circuit and the cell column.

【0008】具体的に、本発明に係る第1の半導体記憶
装置は、行列状に配置された複数のデータ保持部を有す
る複数のデータ保持手段と、複数のデータ保持手段と対
応する複数のデータ入出力手段と、複数のデータ保持手
段及び複数のデータ入出力手段の間の電気的な接続を切
り替える接続切替手段とを備え、接続切替手段は、複数
のデータ保持手段に含まれる一列分又は一行分の各デー
タ保持部を複数のデータ入出力手段のうちのいずれか1
つと選択的に接続し且つ接続の切替時には接続状態を順
次シフトして変更できるように設けられている。
More specifically, a first semiconductor memory device according to the present invention comprises a plurality of data holding units having a plurality of data holding units arranged in a matrix, and a plurality of data holding units corresponding to the plurality of data holding units. Input / output means, and a plurality of data holding means and a connection switching means for switching an electrical connection between the plurality of data input / output means, wherein the connection switching means comprises one column or one row included in the plurality of data holding means. Each data holding unit to one of a plurality of data input / output units.
The connection state is provided so that the connection state can be sequentially shifted and changed when the connection is switched.

【0009】第1の半導体記憶装置によると、接続切替
手段によって、複数のデータ保持手段に含まれる一列分
又は一行分の各データ保持部が複数のデータ入出力手段
のうちのいずれか1つと選択的に接続されるため、デー
タ入出力手段から転送されるデータは、複数のデータ保
持手段のうちの1つに限定されることがなくなる。ま
た、接続切替手段は、接続の切替時には接続状態を順次
シフトして変更できるように設けられているため、シフ
トされる側に配置されているデータ保持手段に、一列分
又は一行分の冗長データ保持部を少なくとも1つ設けて
おけば、複数のデータ保持手段ごとに冗長データ保持部
を設ける必要がない。その結果、複数のデータ保持手段
ごとに冗長データ保持部を持たないため、冗長データ保
持部の専有面積が大幅に減ると共に、無駄な冗長データ
保持部がなくなり、冗長データ保持部の救済効率が向上
する。
According to the first semiconductor memory device, the connection switching unit selects one of the data holding units for one column or one row included in the plurality of data holding units with any one of the plurality of data input / output units. The data transferred from the data input / output means is not limited to one of the plurality of data holding means. Further, the connection switching means is provided so that the connection state can be sequentially shifted and changed at the time of connection switching, so that one column or one row of redundant data is stored in the data holding means arranged on the shifted side. If at least one holding unit is provided, there is no need to provide a redundant data holding unit for each of the plurality of data holding units. As a result, since the redundant data holding unit is not provided for each of the plurality of data holding units, the area occupied by the redundant data holding unit is greatly reduced, and the redundant data holding unit is eliminated, thereby improving the relief efficiency of the redundant data holding unit. I do.

【0010】第1の半導体記憶装置において、接続切替
手段が、各データ入出力手段とは所定数の第1のデータ
線によって接続されると共に、各データ保持手段とは第
1のデータ線の数よりも多い第2のデータ線によって接
続されており、複数のデータ保持手段におけるデータ保
持部の総列数又は総行数が第2のデータ線と同等又はそ
れ以上となるように設けられていることが好ましい。こ
のようにすると、第2のデータ線の本数と第1のデータ
線の本数との差分が一列分又は一行分の冗長データ保持
部の数となる。これにより、複数のデータ入出力手段が
有する一列分又は一行分のデータ保持部のいずれか1つ
に不良箇所が生じている場合には、この不良個所を含む
データ保持部列(行)とデータ入出力手段との接続を絶
つと共に、この接続が絶たれたデータ保持部列(行)か
ら冗長データ保持部が設けられている側に順次シフトす
ることにより、不良箇所を確実に救済することができ
る。
In the first semiconductor memory device, the connection switching means is connected to each data input / output means by a predetermined number of first data lines, and each data holding means is connected to each data input / output means by the number of first data lines. Are connected by more second data lines, and are provided such that the total number of columns or total rows of the data holding units in the plurality of data holding units is equal to or greater than the second data lines. Is preferred. In this case, the difference between the number of second data lines and the number of first data lines becomes the number of redundant data holding units for one column or one row. Accordingly, when a defective portion occurs in one of the data holding units for one column or one row of the plurality of data input / output units, the data holding unit column (row) including the defective portion is stored in the data storage unit. By disconnecting the connection with the input / output means and sequentially shifting from the column (row) of the disconnected data holding section to the side where the redundant data holding section is provided, it is possible to reliably remedy a defective portion. it can.

【0011】本発明に係る第2の半導体記憶装置は、行
列状に配置された複数のメモリセルを有する複数のメモ
リセルアレイと、複数のメモリセルアレイと対応する複
数のデータ入出力回路と、複数のデータ入出力回路と複
数のメモリセルアレイとの間の電気的な接続状態を切り
替える接続切替回路と、データ入出力回路と接続切替回
路とを接続する複数の第1のデータバスと、接続切替回
路と複数のメモリセルアレイとを接続する複数の第2の
データバスと、複数の第1のデータバスと対応して接続
切替回路とデータ入出力回路との間に並列接続され、メ
モリセルアレイの各セル列に対するデータ転送のトリガ
となるカラム線起動信号が入力される複数の第1のカラ
ム線起動信号線と、複数の第2のデータバスと対応して
接続切替回路とセル列との間に並列接続され、第1のカ
ラム線起動信号線と選択的に接続される第2のカラム線
起動信号線とを備え、第2のデータバスはその本数が第
1のデータバスよりも多く設けられていると共に、第2
のカラム線起動信号線はその本数が第1のカラム線起動
信号線よりも多く設けられており、接続切替回路は、各
第1のデータバスを複数の第2のデータバスのいずれか
1つと選択的に接続し且つ各第1のカラム線起動信号線
を複数の第2のカラム線起動信号線のいずれか1つと選
択的に接続すると共に、メモリセルアレイにおいて検出
された不良カラムと対応する第1のデータバスと第2の
データバスとの接続及び第1のカラム線起動信号線と第
2のカラム線起動信号線との接続を切り離し、切り離さ
れた不良カラム以降の各カラムと対応する第1のデータ
バスと第2のデータバスの接続状態及び第1のカラム線
起動信号線と第2のカラム線起動信号線との接続状態を
それぞれ対応させながら順次シフトして変更できるよう
に設けられている。
A second semiconductor memory device according to the present invention comprises: a plurality of memory cell arrays having a plurality of memory cells arranged in a matrix; a plurality of data input / output circuits corresponding to the plurality of memory cell arrays; A connection switching circuit that switches an electrical connection state between the data input / output circuit and the plurality of memory cell arrays, a plurality of first data buses that connect the data input / output circuit and the connection switching circuit, and a connection switching circuit. A plurality of second data buses for connecting the plurality of memory cell arrays, and a plurality of first data buses, which are connected in parallel between the connection switching circuit and the data input / output circuit, and each cell column of the memory cell array; And a connection switching circuit corresponding to a plurality of first column line activation signal lines to which a column line activation signal for inputting a data transfer trigger is input and a plurality of second data buses. A first column line activation signal line selectively connected to the first column line activation signal line and a second column line activation signal line selectively connected to the first column line. And the second
The number of the column line activation signal lines is greater than that of the first column line activation signal lines, and the connection switching circuit connects each first data bus to one of the plurality of second data buses. Selectively connecting and selectively connecting each of the first column line activation signal lines to any one of the plurality of second column line activation signal lines, and corresponding to a defective column detected in the memory cell array. The connection between the first data bus and the second data bus and the connection between the first column line activation signal line and the second column line activation signal line are disconnected, and the first and second columns corresponding to the columns following the disconnected defective column are disconnected. A connection state between the first data bus and the second data bus and a connection state between the first column line activation signal line and the second column line activation signal line are provided so as to be sequentially shifted and changed in correspondence with each other. ing

【0012】第2の半導体記憶装置によると、第2のデ
ータバスは、データ入出力回路と接続される第1のデー
タバスよりも多く設けられていると共に、第2のカラム
線起動信号線は外部から入力されるカラム線起動信号を
受ける第1のカラム線起動信号線よりも多く設けられて
いる。また、接続切替回路は、複数のメモリセルアレイ
に含まれる各セル列が複数のデータ入出力回路のうちの
いずれか1つと選択的に接続されるため、データ入出力
回路から転送されるデータは、複数のメモリセルアレイ
のうちの1つに限定されることがなくなる。その上、接
続切替手段は、検出された不良カラムと対応する第1の
データバスと第2のデータバスとの接続及び第1のカラ
ム線起動信号線と第2のカラム線起動信号線との接続を
切り離し、切り離された不良カラム以降の各カラムと対
応する第1のデータバスと第2のデータバスの接続状態
及び第1のカラム線起動信号線と第2のカラム線起動信
号線との接続状態をそれぞれ対応させながら順次シフト
して変更できるため、シフトされる側に配置されている
メモリセルアレイに冗長セル列を少なくとも1つ設けて
おけば、複数のメモリセルアレイごとに冗長セル列を設
ける必要がない。その結果、複数のメモリセルアレイご
とに冗長セル列を持たなくて済むため、冗長セル列の専
有面積が大幅に減ると共に、必要最低限の冗長セル列の
みを持つことから冗長セル列による救済効率が向上す
る。
According to the second semiconductor memory device, the second data bus is provided more than the first data bus connected to the data input / output circuit, and the second column line activation signal line is provided. More column lines are provided than the first column line activation signal line that receives a column line activation signal input from the outside. Further, since the connection switching circuit selectively connects each cell column included in the plurality of memory cell arrays to any one of the plurality of data input / output circuits, data transferred from the data input / output circuit includes: It is no longer limited to one of the plurality of memory cell arrays. In addition, the connection switching means is configured to connect the first data bus and the second data bus corresponding to the detected defective column and to connect the first column line activation signal line and the second column line activation signal line. The connection is cut off, the connection state of the first data bus and the second data bus corresponding to each column after the cut-off defective column, and the connection between the first column line start signal line and the second column line start signal line. Since the connection state can be sequentially shifted and changed while corresponding to each other, if at least one redundant cell column is provided in the memory cell array arranged on the shifted side, a redundant cell column is provided for each of the plurality of memory cell arrays. No need. As a result, it is not necessary to have a redundant cell column for each of the plurality of memory cell arrays, so that the area occupied by the redundant cell column is greatly reduced. improves.

【0013】第2の半導体記憶装置において、複数のメ
モリセルアレイは、セル列の総数が第2のデータバス又
は第2のカラム線起動信号線の総数と同等となるように
設けられており、接続切替回路は、各メモリセルアレイ
に属し且つ互いに隣接するセル列のうちの一方のセル列
と他方のセル列とを選択的に接続すると共に、複数のメ
モリセルアレイ同士における互いに隣接する側部に位置
する各セル列のうち、一方のメモリセルアレイに属する
セル列と他方のメモリセルアレイに属するセル列とを選
択的に接続する切替変更手段を有していることが好まし
い。このようにすると、接続切替回路の切替変更手段
が、メモリセルアレイ内においては、互いに隣接するセ
ル列同士の一方を選択的に接続し、また、互いに隣接す
るメモリセルアレイ同士においては、互いに隣接する側
部に位置する各セル列のうちの一方を選択的に接続する
ため、複数のメモリセルアレイに含まれるセル列のいず
れかに不良箇所が生じている場合には、この不良個所を
含むセル列とデータ入出力回路との接続を絶つと共に、
この接続が絶たれたセル列から冗長セル列が設けられて
いる側に順次シフトすることにより、不良箇所を確実に
救済できる。
In the second semiconductor memory device, the plurality of memory cell arrays are provided such that the total number of cell columns is equal to the total number of second data buses or second column line activation signal lines. The switching circuit belongs to each memory cell array and selectively connects one cell column and the other cell column among cell columns adjacent to each other, and is located on a side portion adjacent to each other in the plurality of memory cell arrays. It is preferable to have a switch changing means for selectively connecting a cell column belonging to one memory cell array and a cell column belonging to the other memory cell array among the cell columns. With this configuration, the switching changing means of the connection switching circuit selectively connects one of the cell columns adjacent to each other in the memory cell array, and selects the adjacent cell column in the memory cell arrays adjacent to each other. If one of the cell columns included in the plurality of memory cell arrays has a defective portion in order to selectively connect one of the cell columns located in the section, the cell column including the defective portion is While disconnecting the data input / output circuit,
By sequentially shifting from the disconnected cell row to the side where the redundant cell row is provided, a defective portion can be reliably relieved.

【0014】第2の半導体記憶装置において、第1のカ
ラム線起動信号線は、複数の第1のデータバスのm本
(但し、mは2以上の整数とする。)ごとに設けられて
いることが好ましい。このようにすると、第1のカラム
線起動信号線の本数が第1のデータバスの本数のm分の
1となるため、レイアウト面積をより小さくできる。
In the second semiconductor memory device, the first column line activation signal line is provided for every m number of first data buses (where m is an integer of 2 or more). Is preferred. In this case, the number of the first column line activation signal lines is 1 / m of the number of the first data buses, so that the layout area can be further reduced.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】(第1の実施形態)本発明の第1
の実施形態について図面を参照しながら説明する。
(First Embodiment) A first embodiment of the present invention.
An embodiment will be described with reference to the drawings.

【0016】図1は本発明の第1の実施形態に係る半導
体記憶装置の概略的なブロック構成を示している。図1
に示すように、多数のデータを保持するデータ保持手段
としてのメモリセルアレイ1は、メモリセグメント部1
0と外部信号のインタフェースとなるI/F部20とか
らなる。メモリセグメント部10は、それぞれが行列状
に配置されたデータ保持部としてのメモリセル(図示せ
ず)を有するn個(但し、nは2以上の整数である。)
のサブブロックであるメモリサブアレイ11A〜11D
と、I/F部20との信号経路を切り替える接続切替手
段としての接続切替部12とからなる。
FIG. 1 shows a schematic block configuration of a semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention. FIG.
As shown in FIG. 1, a memory cell array 1 as a data holding means for holding a large number of data includes a memory segment 1
0 and an I / F unit 20 serving as an interface for external signals. The memory segment unit 10 includes n memory cells (not shown) each serving as a data holding unit arranged in a matrix (where n is an integer of 2 or more).
Sub-arrays 11A to 11D which are sub-blocks of
And a connection switching unit 12 as connection switching means for switching a signal path with the I / F unit 20.

【0017】メモリセルアレイ1の周辺回路であって、
外部とのデータの入出力を制御するデータ入出力手段と
しての外部入出力回路31A〜31Dは、n個のメモリ
サブアレイ11A〜11Dとそれぞれ対応するように設
けられている。
A peripheral circuit of the memory cell array 1,
External input / output circuits 31A to 31D as data input / output means for controlling input / output of data with the outside are provided so as to correspond to n memory sub arrays 11A to 11D, respectively.

【0018】メモリセルアレイ1内のデータを特定する
外部からのアドレス信号を受け、セル列を特定するカラ
ムアドレス信号を生成すると共に、セル行を特定するロ
ウアドレス信号を出力するアドレス入力回路32が設け
られている。アドレス入力回路32とメモリセルアレイ
10との間には、受けたロウアドレス信号からロウアド
レスデコード信号を生成してメモリセルアレイ1に出力
するロウデコーダ回路33が設けられている。
An address input circuit 32 receives an external address signal for specifying data in the memory cell array 1, generates a column address signal for specifying a cell column, and outputs a row address signal for specifying a cell row. Have been. A row decoder circuit 33 is provided between the address input circuit 32 and the memory cell array 10 for generating a row address decode signal from the received row address signal and outputting the signal to the memory cell array 1.

【0019】図2は本実施形態に係るメモリセルアレイ
1の詳細なブロック構成を示している。図2において、
図1に示す構成要素と同一の構成要素には同一の符号を
付すことにより説明を省略する。図2に示すように、I
/F部20には、図1に示すアドレス入力回路32から
のカラムアドレス信号を受け、受けたカラムアドレス信
号からカラムデコード信号を生成してメモリセグメント
部10内の各メモリサブアレイ11A〜11Dにそれぞ
れ出力するカラムデコーダ21A〜21Dが設けられて
いる。ここでは、4つのメモリサブアレイ11A〜11
Dが設けられているとし、各メモリサブアレイ11A〜
11Dから読み出されるデータはビット幅が64ビット
の第1のデータ線としてのデータバスDBを通ってDQ
マルチプレクサ22A〜22Dによりそれぞれ1ビット
データに変換される。変換された各1ビットデータは、
図1に示す外部入出力回路31A〜31Dにそれぞれ出
力される。このように、併設された4つの外部入出力回
路31A〜31Dから外部に出力される外部データは、
4ビット幅のデータとして処理される。
FIG. 2 shows a detailed block configuration of the memory cell array 1 according to the present embodiment. In FIG.
Components that are the same as the components shown in FIG. 1 are given the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted. As shown in FIG.
The / F unit 20 receives a column address signal from the address input circuit 32 shown in FIG. 1, generates a column decode signal from the received column address signal, and supplies the column decode signal to each of the memory sub-arrays 11A to 11D in the memory segment unit 10. Output column decoders 21A to 21D are provided. Here, four memory sub arrays 11A to 11A
D, and each of the memory sub-arrays 11A to 11A to
Data read from 11D passes through a data bus DB as a first data line having a bit width of 64 bits,
The data is converted into 1-bit data by the multiplexers 22A to 22D. Each converted 1-bit data is
The signals are output to the external input / output circuits 31A to 31D shown in FIG. As described above, external data output to the outside from the four external input / output circuits 31A to 31D provided in parallel is:
It is processed as 4-bit data.

【0020】図3は本実施形態に係るメモリセグメント
部10の詳細なブロック構成を示している。図3に示す
ように、接続切替部12は、接続切替回路121と第1
〜第4のカラム線起動信号発生回路13A〜13Dとか
らなる。接続切替回路121は、各メモリサブアレイ1
1A〜11Dごとに64本ずつ設けられたデータバスD
Bと接続され、各メモリサブアレイ11A〜11Dとは
第2のデータ線としての64本ずつの内部データバスD
BAと接続されている。それぞれがカラムデコード信号
を受ける第1〜第4のカラム線起動信号発生回路13A
〜13Dは、接続切替回路121とそれぞれ64ビット
幅のカラム線起動信号線Yと接続されている。一方、カ
ラム線起動信号Yを受ける接続切替回路121は、第1
〜第4のメモリサブアレイ11A〜11Dとそれぞれ内
部カラム線起動信号線YAと接続されている。
FIG. 3 shows a detailed block configuration of the memory segment unit 10 according to the present embodiment. As shown in FIG. 3, the connection switching unit 12 includes the connection switching circuit 121 and the first
To 4th column line activation signal generation circuits 13A to 13D. The connection switching circuit 121 is connected to each memory sub-array 1
64 data buses D provided for each of 1A to 11D
B, and each of the memory sub arrays 11A to 11D is connected to 64 internal data buses D as second data lines.
Connected to BA. First to fourth column line activation signal generating circuits 13A each receiving a column decode signal
13D are connected to the connection switching circuit 121 and the column line activation signal lines Y each having a 64-bit width. On the other hand, the connection switching circuit 121 receiving the column line activation signal Y
To the fourth memory sub-arrays 11A to 11D and the internal column line activation signal lines YA, respectively.

【0021】本実施形態の特徴として、第4のメモリサ
ブアレイ11Dを除く第1〜第3のメモリサブアレイ1
1A〜11Cは、それぞれカラム線(=Y線又はビット
線)によりアクセスされる64列分のセル列が配置さ
れ、第4のメモリサブアレイ11Dのみ65列分のセル
列が配置されている。このように、第4のメモリサブア
レイ11Dの65列目のセル列が冗長セル列として設け
られている。
As a feature of the present embodiment, the first to third memory sub-arrays 1 except for the fourth memory sub-array 11D are provided.
In 1A to 11C, 64 columns of cells accessed by column lines (= Y lines or bit lines) are arranged, and 65 columns of cells are arranged only in the fourth memory sub-array 11D. Thus, the 65th cell column of the fourth memory sub-array 11D is provided as a redundant cell column.

【0022】従って、図3に示すように、第4のメモリ
サブアレイ11Dと接続される内部データバスDBA及
び内部カラム線起動信号線YAはいずれも65ビット幅
の信号線として形成されている。
Therefore, as shown in FIG. 3, both the internal data bus DBA and the internal column line activation signal line YA connected to the fourth memory sub-array 11D are formed as 65-bit wide signal lines.

【0023】図4(a)及び図4(b)は本実施形態に
係るメモリサブアレイであって、(a)は64列構成の
メモリサブアレイの概略構成を示し、(b)は65列構
成のメモリサブアレイの概略構成を示している。図4
(a)に示すように、第1のメモリサブアレイ11Aの
場合には、それぞれが行列状に配置された各メモリセル
111は、64本のビット線BL(1)〜BL(64)
のうちの1本、及びメモリセル111をアクセス可能と
する128本のワード線WL(1)〜WL(128)の
うちの1本と接続されている。
FIGS. 4A and 4B show a memory sub-array according to the present embodiment. FIG. 4A shows a schematic configuration of a memory sub-array having a 64-column configuration, and FIG. 3 shows a schematic configuration of a memory sub-array. FIG.
As shown in (a), in the case of the first memory sub-array 11A, each of the memory cells 111 arranged in a matrix has 64 bit lines BL (1) to BL (64).
, And one of the 128 word lines WL (1) to WL (128) that make the memory cell 111 accessible.

【0024】一方、図4(b)に示すように、第4のメ
モリサブアレイ11Dの場合には、それぞれが行列状に
配置された各メモリセル111は、65本のビット線B
L(193)〜BL(257)のうちの1本、及びメモ
リセル111をアクセス可能とする128本のワード線
WL(1)〜WL(128)のうちの1本と接続されて
いる。このように、65列目のセル列が、メモリセルア
レイ1における唯一の不良セル列救済用の冗長セル列1
1aとして設けられている。
On the other hand, as shown in FIG. 4B, in the case of the fourth memory sub-array 11D, each memory cell 111 arranged in a matrix has 65 bit lines B
It is connected to one of L (193) to BL (257) and one of 128 word lines WL (1) to WL (128) enabling access to memory cell 111. As described above, the 65th column is the only redundant cell column 1 for repairing the defective cell column in the memory cell array 1.
1a.

【0025】以下、前記のように構成された半導体記憶
装置の動作を説明する。
Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device configured as described above will be described.

【0026】最初に、冗長セル列11aが未使用の場合
を説明する。
First, the case where the redundant cell column 11a is not used will be described.

【0027】図1に示すアドレス入力回路32から、ロ
ウアドレスが0で且つカラムアドレスが0のアドレス信
号が出力されたとする。この場合は、ロウデコーダ回路
33により図4(a)及び図4(b)に示すワード線W
L1が選択される。一方、図2に示すカラムデコーダ2
1A〜21Dによって、図3に示す各カラム線起動信号
発生回路13A〜13Dにおけるカラム線起動信号線Y
(1)、Y(65)、Y(129)及びY(193)が
活性化される。これにより、図4(a)及び図4(b)
に示す第1〜第4のメモリサブアレイ11A〜11Dの
各ビット線BL(1)、BL(65)、BL(129)
及びBL(193)が選択される。
It is assumed that an address signal having a row address of 0 and a column address of 0 is output from the address input circuit 32 shown in FIG. In this case, the row decoder circuit 33 controls the word lines W shown in FIGS.
L1 is selected. On the other hand, the column decoder 2 shown in FIG.
1A to 21D, the column line activation signal lines Y in each of the column line activation signal generation circuits 13A to 13D shown in FIG.
(1), Y (65), Y (129) and Y (193) are activated. Thereby, FIG. 4 (a) and FIG. 4 (b)
Bit lines BL (1), BL (65), BL (129) of the first to fourth memory sub-arrays 11A to 11D shown in FIG.
And BL (193) are selected.

【0028】次に、第1のメモリサブアレイ11Aのビ
ット線BL(1)と内部データバスDBA(1)とが接
続され、第2のメモリサブアレイ11Bのビット線BL
(65)と内部データバスDBA(65)とが接続さ
れ、第3のメモリサブアレイのビット線BL(129)
と内部データバスDBA(129)とが接続され、第4
のメモリサブアレイ11Dのビット線BL(193)と
内部データバスDBA(193)とが接続される。これ
により、ワード線WL1と各メモリサブアレイ11A〜
11D内のビット線BL(1)、BL(65)、BL
(129)及びBL(193)と接続された4つのメモ
リセル111に対してデータの入出力が可能となる。
Next, the bit line BL (1) of the first memory sub-array 11A and the internal data bus DBA (1) are connected, and the bit line BL (2) of the second memory sub-array 11B is connected.
(65) and the internal data bus DBA (65) are connected, and the bit line BL (129) of the third memory sub-array is connected.
And the internal data bus DBA (129) are connected to
The bit line BL (193) of the memory sub-array 11D is connected to the internal data bus DBA (193). Thereby, the word line WL1 and each of the memory sub arrays 11A to
Bit lines BL (1), BL (65), BL in 11D
(129) and data can be input / output to / from the four memory cells 111 connected to the BL (193).

【0029】他のアドレスが選択された場合も、第1の
カラム線起動信号発生回路13Aからのカラム線起動信
線Y(1〜64)は接続切替回路121により、内部カ
ラム線起動信線YA(1〜64)と1対1で対応して接
続され、データバスDB(1〜64)も接続切替回路1
21によって、内部データバスDBA(1〜64)と1
対1で対応して接続される。同様に、残りのカラム線起
動信線Y(65〜256)は内部カラム線起動信線YA
(65〜256)と1対1で接続され、残りのデータバ
スDB(65〜256)は内部データバスDBA(65
〜256)と1対1で接続される。
Even when another address is selected, the column switching signal Y (1-64) from the first column switching signal generating circuit 13A is switched by the connection switching circuit 121 to the internal column switching signal YA. (1 to 64) and the data bus DB (1 to 64) is also connected to the connection switching circuit 1
21, the internal data buses DBA (1-64) and 1
They are connected in a one-to-one correspondence. Similarly, the remaining column line activation signal lines Y (65-256) are internal column line activation signal lines YA.
(65-256) and the remaining data buses DB (65-256) are connected to the internal data bus DBA (65).
To 256) in a one-to-one connection.

【0030】このように、各メモリサブアレイ11A〜
11D内の所定の64のセル列及び64本のビット線の
いずれにも不具合が生じていない場合には、内部カラム
線起動信線YA(257)及び内部データバスDBA
(257)は、いずれもカラム線起動信線Y(256)
及びデータバスDB(256)とは接続されることがな
い。
As described above, each of the memory sub-arrays 11A-
If no failure occurs in any of the predetermined 64 cell columns and 64 bit lines in 11D, the internal column line activation signal line YA (257) and the internal data bus DBA
(257) is a column line activation signal line Y (256)
And the data bus DB (256).

【0031】次に、データバスDB(1〜256)はD
Qマルチプレクサ22A〜22Dを介して図1に示す各
外部入出力回路31A〜31Dと接続される。これによ
り、ロウアドレスで選択されたワード線WLと接続さ
れ、且つ、カラムアドレスで選択された4個のメモリセ
ル111との間でそれぞれデータのアクセス(読み出し
及び書き込み)が可能となる。この場合、ビット線BL
(257)と接続された冗長セル列11aに対しては何
らのアクセスもされない。
Next, the data bus DB (1-256) is
The external input / output circuits 31A to 31D shown in FIG. 1 are connected via the Q multiplexers 22A to 22D. Accordingly, data access (reading and writing) can be performed between the four memory cells 111 connected to the word line WL selected by the row address and selected by the column address. In this case, the bit line BL
No access is made to the redundant cell column 11a connected to (257).

【0032】次に、特定のメモリセル111又はビット
線BLに不良箇所がある場合、例えば、第1のメモリサ
ブアレイ11Aのビット線BL(7)と接続されたメモ
リセル111又はビット線BL(7)自体に不良がある
場合は、製品検査工程において、あらかじめ接続切替回
路121に対して救済のプログラミングを行なうことに
よって、第1のメモリサブアレイ11Aのセル列(7)
を救済する。ここでは、救済のプログラミングの概略を
説明するにとどめ、接続切替回路121の具体的な回路
構成を用いた説明は後述する。
Next, when there is a defective portion in the specific memory cell 111 or the bit line BL, for example, the memory cell 111 or the bit line BL (7) connected to the bit line BL (7) of the first memory sub-array 11A. If there is a defect in the cell column (7) of the first memory sub-array 11A, the connection switching circuit 121 is programmed in advance in the product inspection step.
To rescue. Here, only the outline of the rescue programming will be described, and a description using a specific circuit configuration of the connection switching circuit 121 will be described later.

【0033】救済プログラミングの概略は、接続切替回
路121に対して、カラム線起動信線Y(1〜6)をそ
れぞれ内部カラム線起動信線YA(1〜6)と接続し、
カラム線起動信線Y(7〜256)をそれぞれ内部カラ
ム線起動信線YA(8〜257)とそれぞれシフトする
ように接続し、同様に、データバスDB(1〜6)をそ
れぞれ内部データバスDBA(1〜6)と接続し、デー
タバスDB(7〜256)をそれぞれ内部データバスD
BA(8〜257)とそれぞれシフトするように接続す
る。これにより、第1の外部入出力回路31Aは、第1
のメモリサブアレイ11Aと接続される内部データバス
DBA(1〜6、8〜64)及び第2のメモリサブアレ
イ11Bと接続される内部データバスDBA(65)の
計64ビットのデータバスとデータの授受を行なう。ま
た、第4の外部入出力回路31Dは、第4のメモリサブ
アレイ11Dと接続される内部データバスDBA(19
4〜257)の計64ビットでデータの授受を行なう。
The outline of the rescue programming is as follows. For the connection switching circuit 121, the column line activation signal lines Y (1-6) are connected to the internal column line activation signal lines YA (1-6), respectively.
The column line activation signal lines Y (7-256) are connected to be shifted from the internal column line activation signal lines YA (8-257), respectively. Similarly, the data buses DB (1-6) are respectively connected to the internal data buses. DBAs (1 to 6) and the data buses DB (7 to 256)
BA (8 to 257) are connected so as to be shifted. As a result, the first external input / output circuit 31A
Of the internal data buses DBA (1 to 6, 8 to 64) connected to the memory sub-array 11A and the internal data bus DBA (65) connected to the second memory sub-array 11B. Perform The fourth external input / output circuit 31D is connected to the internal data bus DBA (19) connected to the fourth memory sub-array 11D.
4 to 257), data is transmitted and received in a total of 64 bits.

【0034】このように、第1のメモリサブアレイ11
Aのセル列(7)が第4のメモリサブアレイ11Dのセ
ル列(65)からなる冗長セル列11aにより救済され
る。
As described above, the first memory sub-array 11
The cell column (7) of A is repaired by the redundant cell column 11a including the cell column (65) of the fourth memory sub-array 11D.

【0035】以上説明したように、本実施形態による
と、複数のサブブロックであるメモリサブアレイ11A
〜11Dのうちの1つのみに唯一の冗長セル列11aを
設けておき、製品検査時に接続切替回路121に対し
て、内部カラム線起動信号線YA及び内部データバスD
BAを冗長セル列11a側に1セル列分ずつ順次シフト
させることにより、不良個所を持つ一のセル列を避ける
ことができるため、不良半導体記憶装置を救済できるよ
うになる。
As described above, according to the present embodiment, the memory sub-array 11A as a plurality of sub-blocks
11D, only one redundant cell column 11a is provided, and the connection switching circuit 121 is supplied to the internal column line activation signal line YA and the internal data bus D during product inspection.
By sequentially shifting the BA toward the redundant cell column 11a by one cell column, one cell column having a defective portion can be avoided, so that a defective semiconductor memory device can be relieved.

【0036】前述したように、従来の冗長シフト方式で
は、それぞれの外部入出力回路と対応するサブアレイご
とに冗長セル列を設けなければならず、ビット幅を増加
させる、例えば、4ビット幅から8ビット幅に、8ビッ
ト幅から16ビット幅に、それぞれ増加させるような場
合に、外部入出力回路を増設する分だけ冗長セル列も増
設しなければならず、その結果、チップ上でのメモリセ
ルの面積効率を低下させる要因となると共に、セル列の
救済効率も低下する。
As described above, in the conventional redundant shift method, a redundant cell column must be provided for each sub-array corresponding to each external input / output circuit, and the bit width is increased, for example, from 4 bit width to 8 bit width. When the bit width is increased from the 8-bit width to the 16-bit width, the number of redundant cell columns must be increased by the number of external input / output circuits. As a result, the memory cells on the chip are increased. Of the cell array, and also the cell column rescue efficiency.

【0037】本実施形態によると、4つのメモリサブア
レイ11A〜11Dに対して1つの冗長セル列11aの
みを設けておき、さらに、各メモリサブアレイ11A〜
11Dとこれらと対応する各外部入出力回路31A〜3
1Dとのデータの授受の対応が固定されていない。これ
により、各メモリサブアレイ11A〜11Dの一部のデ
ータが互いに隣接する外部入出力回路同士を共用するこ
とができる。このように、各メモリサブアレイ11A〜
11Cが、互いに隣接する範囲で外部入出力回路31A
〜31Dと接続可能となるため、4個の外部入出力回路
31A〜31Dに対して一の冗長セル11aを設けるだ
けで、一のセル列の冗長救済が効率良く行なえるように
なる。
According to the present embodiment, only one redundant cell column 11a is provided for the four memory sub-arrays 11A to 11D.
11D and corresponding external input / output circuits 31A-3
The correspondence of data exchange with 1D is not fixed. Thereby, a part of the data in each of the memory sub arrays 11A to 11D can share the external input / output circuits adjacent to each other. Thus, each of the memory sub-arrays 11A to 11A to
11C is connected to the external input / output circuit 31A in a range adjacent to each other.
31D can be connected to the four external input / output circuits 31A to 31D, so that only one redundant cell 11a is provided for the four external input / output circuits 31A to 31D.

【0038】なお、本実施形態においては、4つの外部
入出力回路31A〜31Dを設けたが、外部入出力回路
の数はこれに限定されない。
In the present embodiment, four external input / output circuits 31A to 31D are provided, but the number of external input / output circuits is not limited to this.

【0039】また、第1〜第4の外部入出力回路31A
〜31Dと対応するカラム線起動信号線Y及びデータバ
スDBのビット幅を64ビットとしたが、これに限定さ
れない。
The first to fourth external input / output circuits 31A
Although the bit width of the column line activation signal line Y and the data bus DB corresponding to .about.31D is 64 bits, the invention is not limited to this.

【0040】また、冗長セル列11aを1列分とした
が、複数列設けてもよい。2列以上の冗長セル列11a
を設ける場合には、内部カラム線起動信号線YA及び内
部データバスDBAのビット幅をそれぞれ冗長セル列1
1aの列数と対応するように増設すればよい。
Although the redundant cell column 11a is one column, a plurality of redundant cell columns may be provided. Two or more redundant cell columns 11a
Is provided, the bit width of the internal column line activation signal line YA and the bit width of the internal data bus
What is necessary is just to add more so as to correspond to the number of columns of 1a.

【0041】以下、本実施形態に係る接続切替回路につ
いて図面を参照しながら説明する。
Hereinafter, the connection switching circuit according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.

【0042】図5は本実施形態に係る半導体記憶装置に
おける接続切替回路の部分的な回路構成を示している。
接続切替回路121は、その入力側において、図3に示
す第1〜第4のカラム線起動信号発生回路13A〜13
Dとそれぞれ64本ずつの計256本のカラム線起動信
号線Y(1〜256)と接続され、図2に示す第1〜第
4のDQマルチプレクサ22A〜22Dとそれぞれ64
本ずつの計256本のデータバスDB(1〜256)と
接続されている。また、図3に示すように、その出力側
において、第1〜第3のメモリサブアレイ11A〜11
Cとは、それぞれ64本ずつの計192本の内部カラム
線起動信号線YA(1〜192)及びそれぞれ64本ず
つの計192本の内部データバスDBA(1〜192)
と接続されており、第4のメモリサブアレイ11Dと
は、65本の内部カラム線起動信号線YA(193〜2
57)及び65本の内部データバスDBA(193〜2
57)と接続されている。
FIG. 5 shows a partial circuit configuration of the connection switching circuit in the semiconductor memory device according to the present embodiment.
The connection switching circuit 121 has first to fourth column line activation signal generation circuits 13A to 13 shown in FIG.
D is connected to a total of 256 column line activation signal lines Y (1 to 256) of 64 lines each, and is connected to the first to fourth DQ multiplexers 22A to 22D shown in FIG.
The data buses are connected to a total of 256 data buses DB (1 to 256). Also, as shown in FIG. 3, the first to third memory sub-arrays 11A to 11A
C is a total of 192 internal column line activation signal lines YA (1 to 192) each of 64 and a total of 192 internal data buses DBA (1 to 192) of 64 each.
And the fourth memory sub-array 11D is connected to 65 internal column line activation signal lines YA (193-2
57) and 65 internal data buses DBA (193-2)
57).

【0043】図5はそのうちの、4本のカラム線起動信
号線Y(1〜4)、5本の内部カラム線起動信号線YA
(1〜5)、4本のデータバスDB(1〜4)及び5本
の内部データバスDBA(1〜5)のみを表わしてい
る。ここでは、図5に示すように、便宜上、最初の2組
をそれぞれ第1の切替ブロック401及び第2の切替ブ
ロック402として説明する。従って、接続切替回路1
21は256組の切替ブロックを含んでいる。
FIG. 5 shows four column line activation signal lines Y (1 to 4) and five internal column line activation signal lines YA.
(1-5) Only four data buses DB (1-4) and five internal data buses DBA (1-5) are shown. Here, as shown in FIG. 5, for convenience, the first two sets will be described as a first switching block 401 and a second switching block 402, respectively. Therefore, the connection switching circuit 1
Reference numeral 21 includes 256 switching blocks.

【0044】第1の切替ブロック401は、ドレインが
カラム線起動信号線Y(1)と接続され、ソースが内部
カラム線起動信号線YA(1)と接続され、ゲートが救
済プログラミングの結果を示す第1の切替制御信号を受
ける第1のNMOSトランジスタ41と、ドレインがカ
ラム線起動信号線Y(1)と接続され、ソースが内部カ
ラム線起動信号線YA(2)と接続され、ゲートが救済
プログラミングの結果を示す第2の切替制御信号を受け
る第2のNMOSトランジスタ42と、ドレインがデー
タバスDB(1)と接続され、ソースが内部データバス
DBA(1)と接続され、ゲートが第1の切替制御信号
を受ける第3のNMOSトランジスタ43と、ドレイン
がデータバスDB(1)と接続され、ソースが内部デー
タバスDBA(2)と接続され、ゲートが第2の切替制
御信号を受ける第4のNMOSトランジスタ44とを有
している。第1の切替制御信号は、第1のインバータ4
5により生成されるハイレベルの電位が、導通状態にあ
る切替変更手段としてのヒューズ素子46を介して生成
され、第2の切替制御信号は、第1の切替制御信号が第
2のインバータ47により反転されて生成される。これ
ら第1及び第2の切替制御信号は、入力端子が第2のイ
ンバータ47の出力端子と接続され、出力端子が第2の
インバータ47の入力端子と接続された第3のインバー
タ48によって、第1及び第2の切替制御信号の電位が
ラッチされる。
The first switching block 401 has a drain connected to the column line activation signal line Y (1), a source connected to the internal column line activation signal line YA (1), and a gate indicating the result of the rescue programming. A first NMOS transistor 41 that receives a first switching control signal, a drain is connected to the column line activation signal line Y (1), a source is connected to the internal column line activation signal line YA (2), and a gate is relieved. A second NMOS transistor 42 receiving a second switching control signal indicating a result of programming; a drain connected to the data bus DB (1); a source connected to the internal data bus DBA (1); , A drain connected to the data bus DB (1), and a source connected to the internal data bus DBA (2). It is connected to a gate and a fourth NMOS transistor 44 which receives the second switching control signal. The first switching control signal is output from the first inverter 4
5 is generated through a fuse element 46 serving as a switching change unit that is in a conductive state, and a second switching control signal is generated by the second inverter 47 by the first switching control signal. Generated inverted. The first and second switching control signals are supplied to the third inverter 48 whose input terminal is connected to the output terminal of the second inverter 47 and whose output terminal is connected to the input terminal of the second inverter 47. The potentials of the first and second switching control signals are latched.

【0045】また、ソースが接地され、ゲートにリセッ
ト回路50からの初期化信号を受け、ドレインに第1の
切替制御信号を出力する第5のNMOSトランジスタ4
9を有している。これにより、装置の初期化時の所定時
間にのみ第5のNMOSトランジスタ49を活性化させ
ることにより、第1及び第2の切替制御信号の電位がハ
イレベル又はローレベルに決定される。
The fifth NMOS transistor 4 has a source grounded, a gate receiving an initialization signal from the reset circuit 50, and a drain outputting a first switching control signal.
9. Thus, by activating the fifth NMOS transistor 49 only during a predetermined time when the device is initialized, the potentials of the first and second switching control signals are determined to be high or low.

【0046】図5に示すように、第2の切替ブロック4
02も同様の構成を有し、第2の切替ブロック402に
おける第1のNMOSトランジスタ41の出力が内部カ
ラム線起動信号線YA(2)と接続され、第2の切替ブ
ロック402における第3のNMOSトランジスタ43
の出力が内部データバスDBA(2)と接続されてい
る。これにより、内部カラム線起動信号線YA(2)及
び内部データバスDBA(2)は、第1の切替ブロック
401と共用される共用部分となる。同様に、内部カラ
ム線起動信号線YA(3)及び内部データバスDBA
(3)は、図示はしていないが第3の切替ブロックとの
共用部分となる。従って、内部カラム線起動信号線YA
(256)及び内部データバスDBA(256)に至る
まで共用部分が形成されている。
As shown in FIG. 5, the second switching block 4
02 has the same configuration, the output of the first NMOS transistor 41 in the second switching block 402 is connected to the internal column line activation signal line YA (2), and the third NMOS in the second switching block 402 Transistor 43
Are connected to the internal data bus DBA (2). As a result, the internal column line activation signal line YA (2) and the internal data bus DBA (2) become a common part shared with the first switching block 401. Similarly, the internal column line activation signal line YA (3) and the internal data bus DBA
(3) is a common part with the third switching block, though not shown. Therefore, the internal column line activation signal line YA
(256) and an internal data bus DBA (256).

【0047】以下、前記のように構成された接続切替回
路121の動作を説明する。
The operation of the connection switching circuit 121 configured as described above will be described below.

【0048】まず、図3に示す第1〜第4のメモリサブ
アレイ11A〜11Dの各セル列及びビット線のいずれ
にも不良箇所がない場合を説明する。
First, a case where there is no defective portion in each of the cell columns and the bit lines of the first to fourth memory sub-arrays 11A to 11D shown in FIG. 3 will be described.

【0049】この場合には、図5に示す第1の切替ブロ
ック401におけるヒューズ素子46がトリミング(溶
断)されていないため、第1の切替制御信号はハイレベ
ルの電位にラッチされ、第2の切替制御信号はローレベ
ルの電位にラッチされる。これにより、第1のNMOS
トランジスタ41が導通状態となり且つ第2のNMOS
トランジスタ42が非導通状態となるため、カラム線起
動信号線Y(1)と内部カラム線起動信線YA(1)と
が接続される。同様に、第3のNMOSトランジスタ4
3が導通状態となり且つ第4のNMOSトランジスタ4
4が非導通状態となるため、データバスDB(1)と内
部データバスDBA(1)とが接続される。
In this case, since the fuse element 46 in the first switching block 401 shown in FIG. 5 is not trimmed (blown), the first switching control signal is latched at a high level potential, and the second switching control signal is latched at the second level. The switching control signal is latched at a low level potential. Thereby, the first NMOS
The transistor 41 becomes conductive and the second NMOS
Since transistor 42 is turned off, column line activation signal line Y (1) and internal column line activation signal line YA (1) are connected. Similarly, the third NMOS transistor 4
3 becomes conductive and the fourth NMOS transistor 4
4 is turned off, so that data bus DB (1) and internal data bus DBA (1) are connected.

【0050】同様に、第2の切替ブロック402におい
ても、ヒューズ素子46がトリミングされていないた
め、カラム線起動信号線Y(2)と内部カラム線起動信
線YA(2)とが接続されると共に、データバスDB
(2)と内部データバスDBA(2)とが接続される。
その結果、最後の内部カラム線起動信線YA(257)
及び内部データバスDBA(257)は未使用状態のま
まとなる。
Similarly, in the second switching block 402, since the fuse element 46 is not trimmed, the column line activation signal line Y (2) and the internal column line activation signal line YA (2) are connected. With the data bus DB
(2) and the internal data bus DBA (2) are connected.
As a result, the last internal column line activation signal line YA (257)
And the internal data bus DBA (257) remains unused.

【0051】次に、一例として、第1のメモリサブアレ
イ11Aのセル列(1)又はビット線にのみ不良箇所が
存在する場合を説明する。
Next, as an example, a case where a defective portion exists only in the cell column (1) or the bit line of the first memory sub-array 11A will be described.

【0052】この場合には、製品検査工程において、第
1の切替ブロック401におけるヒューズ素子46が、
レーザー照射等によってあらかじめトリミングされてい
る。従って、第1の切替制御信号は初期化時の電位であ
るローレベルにラッチされ、逆に第2の切替制御信号は
ハイレベルの電位にラッチされる。これにより、第1の
NMOSトランジスタ41が非導通状態となり且つ第2
のNMOSトランジスタ42が導通状態となるため、カ
ラム線起動信号線Y(1)と内部カラム線起動信線YA
(2)とが接続される。同様に、第3のNMOSトラン
ジスタ43が非導通状態となり且つ第4のNMOSトラ
ンジスタ44が導通状態となるため、データバスDB
(1)と内部データバスDBA(2)とが接続される。
In this case, in the product inspection process, the fuse element 46 in the first switching block 401
It is trimmed beforehand by laser irradiation or the like. Therefore, the first switching control signal is latched at a low level which is the potential at the time of initialization, and conversely, the second switching control signal is latched at a high level potential. As a result, the first NMOS transistor 41 is turned off and the second NMOS transistor 41 is turned off.
NMOS transistor 42 is turned on, so that column line activation signal line Y (1) and internal column line activation signal line YA
(2) is connected. Similarly, since the third NMOS transistor 43 is turned off and the fourth NMOS transistor 44 is turned on, the data bus DB
(1) and the internal data bus DBA (2) are connected.

【0053】第2の切替ブロック402においても、同
様に、第1の切替制御信号がローレベルの電位に、第2
の切替制御信号がハイレベルの電位にそれぞれラッチさ
れるため、カラム線起動信号線Y(2)と内部カラム線
起動信線YA(3)とが接続され、且つ、データバスD
B(2)と内部データバスDBA(3)とが接続され
る。
Similarly, in the second switching block 402, the first switching control signal is set to the low level potential,
Are respectively latched at the high level potential, the column line activation signal line Y (2) and the internal column line activation signal line YA (3) are connected, and the data bus D
B (2) and the internal data bus DBA (3) are connected.

【0054】これにより、最後のカラム線起動信号線Y
(256)と内部カラム線起動信線YA(257)とが
接続され、且つ、データバスDB(256)と内部デー
タバスDBA(257)とが接続され、その結果、図3
に示す第1のメモリサブアレイ11Aのセル列(1)
が、第4のメモリサブアレイ11Dのセル列(65)
(=冗長セル列11a)によって救済される。
Thus, the last column line activation signal line Y
(256) is connected to the internal column line activation signal line YA (257), and the data bus DB (256) is connected to the internal data bus DBA (257). As a result, FIG.
Cell column (1) of the first memory sub-array 11A shown in FIG.
Is the cell column (65) of the fourth memory sub-array 11D.
(= Redundant cell column 11a).

【0055】このように、本実施形態に係る接続切替回
路121によると、異なるメモリサブアレイ間であって
も、各内部カラム線起動信号線YA及び各内部データバ
スDBAをそれぞれ冗長セル11a側に順次シフトさせ
ながら同時に切り替える接続切替を確実に行なえる。
As described above, according to the connection switching circuit 121 according to this embodiment, even between different memory sub-arrays, each internal column line activation signal line YA and each internal data bus DBA are sequentially placed on the redundant cell 11a side. Connection switching that switches simultaneously while shifting can be reliably performed.

【0056】(第2の実施形態)以下、本発明の第2の
実施形態について図面を参照しながら説明する。
(Second Embodiment) Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0057】図6及び図7は本発明の第2の実施形態に
係る半導体記憶装置であって、図6はメモリセグメント
部のブロック構成を示し、図7は68列構成の第4のメ
モリサブアレイの概略構成を示している。図6におい
て、図3に示す構成要素と同一の構成要素には同一の符
号を付すことにより説明を省略する。図6に示すよう
に、本実施形態に係る第1のカラム線起動信号発生回路
13Aから延びるカラム線起動信号線Y(1〜16)は
そのデータ幅を16ビットとしている。従って、第1の
カラム線起動信号発生回路13Aは、第1のDQマルチ
プレクサ22Aから延びる64ビットのデータバスDB
(1〜64)の4ビット分、すなわち4本のビット線を
1ビットで制御する。これは、第2〜第4のカラム線起
動信号発生回路13B〜13Dにおいても同様である。
FIGS. 6 and 7 show a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 6 shows a block configuration of a memory segment portion, and FIG. 7 shows a fourth memory sub-array having a 68-column configuration. 1 shows a schematic configuration of the embodiment. 6, the same components as those shown in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. As shown in FIG. 6, the column line activation signal lines Y (1 to 16) extending from the first column line activation signal generating circuit 13A according to the present embodiment have a data width of 16 bits. Therefore, the first column line activation signal generating circuit 13A is connected to the 64-bit data bus DB extending from the first DQ multiplexer 22A.
Four bits (1 to 64), that is, four bit lines are controlled by one bit. The same applies to the second to fourth column line activation signal generation circuits 13B to 13D.

【0058】この構成により、例えば、カラム線起動信
号線Y(1)と、内部カラム線起動信号線YA(1)又
は内部カラム線起動信号線YA(2)とが選択的に接続
され、データバスDB(1〜4)と、内部データバスD
BA(1〜4)又は内部データバスDBA(5〜8)と
が選択的に接続される。
With this configuration, for example, the column line activation signal line Y (1) is selectively connected to the internal column line activation signal line YA (1) or the internal column line activation signal line YA (2), Bus DB (1 to 4) and internal data bus D
BA (1 to 4) or the internal data bus DBA (5 to 8) are selectively connected.

【0059】また、図6及び図7に示すように、第4の
メモリサブアレイ11Dは4列分のセル列(65〜6
8)を冗長セル列群11bとして有している。
As shown in FIGS. 6 and 7, the fourth memory sub-array 11D has four cell columns (65 to 6).
8) as the redundant cell column group 11b.

【0060】図8及び図9は本実施形態に係る切替接続
回路122であって、図8は内部データバス選択部の回
路構成を示し、図9はビット線選択部の回路構成を示し
ている。図8に示すように、内部データバス選択部12
2aは、4本のカラム線起動信号線Y(1〜4)、5本
の内部カラム線起動信号線YA(1〜5)、16本のデ
ータバスDB(1〜16)及び20本の内部データバス
DBA(1〜20)のみを表わしている。ここでは、図
8に示すように、便宜上、最初の2組をそれぞれ第1の
切替ブロック501及び第2の切替ブロック502とし
て説明する。従って、接続切替回路122は64組の切
替ブロックを含んでいる。
FIGS. 8 and 9 show the switching connection circuit 122 according to the present embodiment. FIG. 8 shows the circuit configuration of the internal data bus selector, and FIG. 9 shows the circuit configuration of the bit line selector. . As shown in FIG. 8, the internal data bus selection unit 12
2a denotes four column line activation signal lines Y (1 to 4), five internal column line activation signal lines YA (1 to 5), 16 data buses DB (1 to 16) and 20 internal Only the data bus DBA (1 to 20) is shown. Here, as shown in FIG. 8, for convenience, the first two sets will be described as a first switching block 501 and a second switching block 502, respectively. Therefore, the connection switching circuit 122 includes 64 switching blocks.

【0061】第1の切替ブロック501は、ドレインが
カラム線起動信号線Y(1)と接続され、ソースが内部
カラム線起動信号線YA(1)と接続され、ゲートが救
済プログラミングの結果を示す第1の切替制御信号を受
ける第1のNMOSトランジスタ51と、ドレインがカ
ラム線起動信号線Y(1)と接続され、ソースが内部カ
ラム線起動信号線YA(2)と接続され、ゲートが救済
プログラミングの結果を示す第2の切替制御信号を受け
る第2のNMOSトランジスタ52と、ドレインがデー
タバスDB(1)と接続され、ソースが内部データバス
DBA(1)と接続され、ゲートが第1の切替制御信号
を受ける第3のNMOSトランジスタ53と、ドレイン
がデータバスDB(1)と接続され、ソースが内部デー
タバスDBA(5)と接続され、ゲートが第2の切替制
御信号を受ける第4のNMOSトランジスタ54とを有
している。さらに、第3及び第4のトランジスタ53、
54と同等の構成であって、データバスDB(2)と接
続され、内部データバス(2)と内部データバス(6)
とを選択して接続する第5及び第6のトランジスタ5
5、56と、データバスDB(3)と接続され、内部デ
ータバス(3)と内部データバス(7)とを選択して接
続する第7及び第8のトランジスタ57、58と、デー
タバスDB(4)と接続され、内部データバス(4)と
内部データバス(8)とを選択して接続する第9及び第
10のトランジスタ59、60とを有している。
In the first switching block 501, the drain is connected to the column line activation signal line Y (1), the source is connected to the internal column line activation signal line YA (1), and the gate indicates the result of the rescue programming. A first NMOS transistor 51 receiving the first switching control signal, a drain is connected to the column line activation signal line Y (1), a source is connected to the internal column line activation signal line YA (2), and a gate is relieved. A second NMOS transistor 52 receiving a second switching control signal indicating a result of programming; a drain connected to the data bus DB (1); a source connected to the internal data bus DBA (1); and a gate connected to the first data bus DBA (1) , A drain connected to the data bus DB (1), and a source connected to the internal data bus DBA (5). It is connected to a gate and a fourth NMOS transistor 54 which receives the second switching control signal. Further, third and fourth transistors 53,
54, which is connected to the data bus DB (2), and has an internal data bus (2) and an internal data bus (6).
And the fifth transistor 5 to select and connect
Fifth and 56, seventh and eighth transistors 57 and 58 which are connected to the data bus DB (3) and select and connect the internal data bus (3) and the internal data bus (7); It has ninth and tenth transistors 59 and 60 that are connected to (4) and select and connect the internal data bus (4) and the internal data bus (8).

【0062】第1の切替制御信号は、第1のインバータ
61により生成されるハイレベルの電位が導通状態にあ
るヒューズ素子62を介して生成され、第2の切替制御
信号は、第1の切替制御信号が第2のインバータ63に
より反転されて生成される。これら第1及び第2の切替
制御信号は、入力端子が第2のインバータ63の出力端
子と接続され、出力端子が第2のインバータ63の入力
端子と接続された第3のインバータ64により、第1及
び第2の切替制御信号の電位がラッチされる。
The first switching control signal is generated via the fuse element 62 in which the high-level potential generated by the first inverter 61 is conductive, and the second switching control signal is generated by the first switching control signal. The control signal is generated by being inverted by the second inverter 63. The first and second switching control signals are supplied to a third inverter 64 whose input terminal is connected to the output terminal of the second inverter 63 and whose output terminal is connected to the input terminal of the second inverter 63. The potentials of the first and second switching control signals are latched.

【0063】また、ソースが接地され、ゲートにリセッ
ト回路50からの初期化信号を受け、ドレインに第1の
切替制御信号を出力し、初期化時に第1及び第2の切替
制御信号の電位を決定できる第11のNMOSトランジ
スタ65が設けられている。
Further, the source is grounded, the gate receives the initialization signal from the reset circuit 50, outputs the first switching control signal to the drain, and sets the potentials of the first and second switching control signals at initialization. An eleventh NMOS transistor 65 that can be determined is provided.

【0064】図8に示すように、第2の切替ブロック5
02も同様の構成を有している。これにより、内部カラ
ム線起動信号線YA(2)、内部データバスDBA
(5)、内部データバスDBA(6)、内部データバス
DBA(7)及び内部データバスDBA(8)は、第1
の切替ブロック501と共用される共用部分となる。こ
のように、内部カラム線起動信号線YA(64)及び内
部データバスDBA(253〜256)に至るまで共用
部分が形成されており、前述したように順次シフトして
接続される構成を可能としている。
As shown in FIG. 8, the second switching block 5
02 has the same configuration. Thereby, the internal column line activation signal line YA (2) and the internal data bus DBA
(5) The internal data bus DBA (6), the internal data bus DBA (7) and the internal data bus DBA (8)
Is a common part shared by the switching block 501 of FIG. As described above, the common portion is formed up to the internal column line activation signal line YA (64) and the internal data bus DBA (253 to 256), and it is possible to realize a configuration in which the components are sequentially shifted and connected as described above. I have.

【0065】次に、ビット線選択部122bを説明す
る。
Next, the bit line selection section 122b will be described.

【0066】図9に示すように、ここでは、65本の内
部カラム線起動信号線YA(1〜65)のうちの第1の
内部カラム線起動信号線YA(1)と、260本の内部
データバスDBA(1〜260)のうちの第1〜第4の
内部データバスDBA(1〜4)とのみを示す。
As shown in FIG. 9, here, the first internal column line activation signal line YA (1) of the 65 internal column line activation signal lines YA (1 to 65) and 260 internal column line activation signal lines YA (1 to 65) are connected. Only the first to fourth internal data buses DBA (1 to 4) of the data buses DBA (1 to 260) are shown.

【0067】ビット線選択部122bにおける内部カラ
ム線起動信号線YA(1)を受ける部分からなる該部分
回路は、ゲートが内部データバス選択部122aからの
内部カラム線起動信号線YA(1)を受け、ドレインが
内部データバス選択部122aからの内部データバスD
BA(1)と接続された第1のNMOSトランジスタ7
1と、ゲートがビット線選択回路70の出力を受け、ド
レインが第1のNMOSトランジスタ71のソースと接
続され、ソースが第1のメモリサブアレイ11Aのビッ
ト線BL(1)と接続された第2のNMOSトランジス
タ72とを有している。また、内部データバスDBA
(2)とビット線BL(2)との接続状態を制御し、第
1のNMOSトランジスタ71と並列接続された第3の
NMOSトランジスタ73及び第2のNMOSトランジ
スタ72と並列接続された第4のNMOSトランジスタ
74と、内部データバスDBA(3)とビット線BL
(3)との接続状態を制御し、第1のNMOSトランジ
スタ71と並列接続された第5のNMOSトランジスタ
75及び第2のNMOSトランジスタ72と並列接続さ
れた第6のNMOSトランジスタ76と、内部データバ
スDBA(4)とビット線BL(4)との接続状態を制
御し、第1のNMOSトランジスタ71と並列接続され
た第7のNMOSトランジスタ77及び第2のNMOS
トランジスタ72と並列接続された第8のNMOSトラ
ンジスタ78とを有している。
The partial circuit of the bit line selection section 122b which receives the internal column line activation signal line YA (1) has a gate connected to the internal column line activation signal line YA (1) from the internal data bus selection section 122a. Receiving and draining the internal data bus D from the internal data bus selecting unit 122a.
First NMOS transistor 7 connected to BA (1)
1, the gate of which receives the output of the bit line selection circuit 70, the drain of which is connected to the source of the first NMOS transistor 71, and the source of which is connected to the bit line BL (1) of the first memory sub-array 11A. NMOS transistor 72. Also, the internal data bus DBA
The state of connection between (2) and the bit line BL (2) is controlled, and the third NMOS transistor 73 connected in parallel with the first NMOS transistor 71 and the fourth NMOS connected in parallel with the second NMOS transistor 72. NMOS transistor 74, internal data bus DBA (3) and bit line BL
(3), a fifth NMOS transistor 75 connected in parallel with the first NMOS transistor 71, a sixth NMOS transistor 76 connected in parallel with the second NMOS transistor 72, and internal data. A connection state between the bus DBA (4) and the bit line BL (4) is controlled, and a seventh NMOS transistor 77 and a second NMOS connected in parallel with the first NMOS transistor 71 are provided.
An eighth NMOS transistor 78 is connected in parallel with the transistor 72.

【0068】さらに、それぞれゲートが読み出し動作信
号80を受け、各内部データバス(1〜4)と各ビット
線BL(1〜4)とを接続する第9〜第12のNMOS
トランジスタ81〜84を有している。ここで、読み出
し動作信号80は、ビット線選択部122bで共通であ
り、また、ビット線選択回路70は、図2に示す各カラ
ムデコーダ21A〜21Dと対応して設けられている。
Further, ninth to twelfth NMOSs each having a gate receiving the read operation signal 80 and connecting each internal data bus (1 to 4) to each bit line BL (1 to 4).
It has transistors 81 to 84. Here, the read operation signal 80 is common to the bit line selection unit 122b, and the bit line selection circuit 70 is provided corresponding to each of the column decoders 21A to 21D shown in FIG.

【0069】この構成によると、読み出し動作時には、
ビット線選択回路70からの出力信号及び読み出し動作
信号80が共にハイレベルとなるため、4本のビット線
BL(1〜4)はいずれも各内部データバスDBA(1
〜4)と接続される。従って、該ビット線選択部122
bにおいてはカラムアドレスによる選択は行なわれず、
代わりに、図2に示すDQマルチプレクサ22Aにおい
てビットごとに選択される。
According to this configuration, at the time of the read operation,
Since both the output signal from the bit line selection circuit 70 and the read operation signal 80 are at the high level, all of the four bit lines BL (1 to 4) are connected to the internal data bus DBA (1).
To 4). Therefore, the bit line selection unit 122
In b, selection by a column address is not performed,
Instead, it is selected bit by bit in the DQ multiplexer 22A shown in FIG.

【0070】書き込み動作時には、読み出し動作信号8
0がローレベルに遷移しているため、内部カラム線起動
信号線YA(1)とビット線選択回路70からの出力信
号により選択されたビット線BLのみが内部データバス
DBAと接続されることとなり、選択された一のビット
線BLに対してのみデータの書き込みが可能となる。
At the time of the write operation, the read operation signal 8
Since 0 has transitioned to the low level, only the bit line BL selected by the internal column line activation signal line YA (1) and the output signal from the bit line selection circuit 70 is connected to the internal data bus DBA. In addition, data can be written only to one selected bit line BL.

【0071】以下、前記のように構成された切替接続回
路122を備えた半導体記憶装置の動作を説明する。
Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device having the switching connection circuit 122 configured as described above will be described.

【0072】まず、図5に示す第1〜第4のメモリサブ
アレイ11A〜11Dの各セル列及びビット線のいずれ
にも不良箇所がない場合を説明する。
First, the case where there is no defective portion in each of the cell columns and the bit lines of the first to fourth memory sub-arrays 11A to 11D shown in FIG. 5 will be described.

【0073】この場合は、第1の実施形態と同様に、図
8に示す第1の切替ブロック501におけるヒューズ素
子62がトリミングされていないため、第1の切替制御
信号はハイレベルの電位にラッチされ、第2の切替制御
信号はローレベルの電位にラッチされる。これにより、
第1のNMOSトランジスタ51が導通状態となり且つ
第2のNMOSトランジスタ52が非導通状態となるた
め、カラム線起動信号線Y(1)と内部カラム線起動信
線YA(1)とが接続される。同様に、第3、第5、第
7及び第9のNMOSトランジスタ53、55、57、
59が導通状態となり且つ第4、第6、第8及び第10
のNMOSトランジスタ54、56、58、60が非導
通状態となるため、データバスDB(1〜4)と内部デ
ータバスDBA(1〜4)とが接続される。
In this case, as in the first embodiment, since the fuse element 62 in the first switching block 501 shown in FIG. 8 is not trimmed, the first switching control signal is latched at a high-level potential. Then, the second switching control signal is latched at a low-level potential. This allows
Since the first NMOS transistor 51 is turned on and the second NMOS transistor 52 is turned off, the column line activation signal line Y (1) and the internal column line activation signal line YA (1) are connected. . Similarly, the third, fifth, seventh, and ninth NMOS transistors 53, 55, 57,
59 becomes conductive and the fourth, sixth, eighth and tenth
NMOS transistors 54, 56, 58, and 60 are turned off, so that data buses DB (1 to 4) and internal data buses DBA (1 to 4) are connected.

【0074】これにより、最後の内部カラム線起動信線
YA(65)及び内部データバスDBA(257〜26
0)は未使用のままとなる。
Thus, the last internal column line activation signal line YA (65) and internal data bus DBA (257 to 26)
0) remains unused.

【0075】次に、例えば、ここでも第1のメモリサブ
アレイ11Aのセル列(1)又はビット線にのみ不良箇
所が存在していたとする。
Next, for example, it is assumed that a defective portion exists only in the cell column (1) or the bit line of the first memory sub-array 11A.

【0076】この場合にも、製品検査工程において、第
1の切替ブロック501におけるヒューズ素子62が、
あらかじめトリミングされている。従って、第1の切替
制御信号はローレベルの電位にラッチされ、第2の切替
制御信号はハイレベルの電位にラッチされる。これによ
り、第1のNMOSトランジスタ51が非導通状態とな
り且つ第2のNMOSトランジスタ52が導通状態とな
るため、カラム線起動信号線Y(1)と内部カラム線起
動信線YA(2)とが接続される。同様に、第3、第
5、第7及び第9のNMOSトランジスタ53、55、
57、59が非導通状態となり且つ第4、第6、第8及
び第10のNMOSトランジスタ54、56、58、6
0が導通状態となるため、データバスDB(1〜4)と
内部データバスDBA(5〜8)とが接続される。
Also in this case, in the product inspection process, the fuse element 62 in the first switching block 501
It is already trimmed. Therefore, the first switching control signal is latched at a low level potential, and the second switching control signal is latched at a high level potential. As a result, the first NMOS transistor 51 is turned off and the second NMOS transistor 52 is turned on, so that the column line activation signal line Y (1) and the internal column line activation signal line YA (2) are connected. Connected. Similarly, the third, fifth, seventh, and ninth NMOS transistors 53, 55,
57, 59 become non-conductive and the fourth, sixth, eighth, and tenth NMOS transistors 54, 56, 58, 6
Since 0 is conductive, the data buses DB (1 to 4) and the internal data buses DBA (5 to 8) are connected.

【0077】これにより、最後のカラム線起動信号線Y
(64)と内部カラム線起動信線YA(65)とが接続
され、且つ、データバスDB(253〜256)と内部
データバスDBA(257〜260)とが接続され、そ
の結果、図6に示す第1のメモリサブアレイ11Aのセ
ル列(1〜4)が、第4のメモリサブアレイ11Dのセ
ル列(65〜68)(=冗長セル列11b)によって救
済される。
As a result, the last column line activation signal line Y
(64) is connected to the internal column line activation signal line YA (65), and the data bus DB (253 to 256) is connected to the internal data bus DBA (257 to 260). As a result, FIG. The cell columns (1 to 4) of the first memory sub-array 11A shown are relieved by the cell columns (65 to 68) (= redundant cell column 11b) of the fourth memory sub-array 11D.

【0078】このように、本実施形態によると、データ
バスDB(1〜256)の接続切り替えが4本同時に行
なわれるため、不良ビット線に対する救済効率は低下す
るものの、カラム線起動信号線Y(1〜64)が4分の
1の本数で済む。さらに、データバスDBの4本分に対
して素子の面積が比較的大きいヒューズ素子62が1つ
で済むので、レイアウト面積を大幅に縮小できると共
に、救済効率が高い救済回路を実現ができる。
As described above, according to the present embodiment, the connection switching of the four data buses DB (1 to 256) is performed simultaneously, so that the efficiency of repairing the defective bit line is reduced, but the column line activation signal line Y ( 1-64) is only a quarter of the number. Further, since only one fuse element 62 having a relatively large element area is required for four data buses DB, the layout area can be significantly reduced and a relief circuit with high relief efficiency can be realized.

【0079】なお、本実施形態において、カラム線起動
信号線Yの1本当たりデータバスDBを4本とし、冗長
セル列を4列としたが、これに限られない。
In this embodiment, four data buses DB and four redundant cell columns are provided for each column line activation signal line Y. However, the present invention is not limited to this.

【0080】[0080]

【発明の効果】本発明に係る半導体記憶装置によると、
接続切替手段が、メモリセルアレイにおいて検出された
不良カラム以降の各カラムに対して、接続状態が順次シ
フトして変更できるように設けられているため、シフト
される側に配置されているデータ保持手段に、一列分の
冗長データ保持部を少なくとも1つ設けておけば、複数
のデータ保持手段ごとに冗長データ保持部を設ける必要
がなくなる。このため、複数のデータ保持手段ごとに冗
長データ保持部を持たなくても済むので、冗長データ保
持部の専有面積が大幅に減ると共に、無駄な冗長データ
保持部がなくなり、冗長データ保持部の救済効率が向上
する。
According to the semiconductor memory device of the present invention,
Since the connection switching means is provided so that the connection state can be sequentially shifted and changed for each column after the defective column detected in the memory cell array, the data holding means arranged on the shifted side If at least one redundant data holding unit for one row is provided, it is not necessary to provide a redundant data holding unit for each of a plurality of data holding units. Therefore, it is not necessary to have a redundant data holding unit for each of the plurality of data holding units, so that the area occupied by the redundant data holding unit is greatly reduced, and no redundant redundant data holding unit is used. Efficiency is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置
を示す概略的なブロック構成図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置
のメモリセルアレイを示すブロック構成図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a memory cell array of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置
のメモリセグメント部を示すブロック構成図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a memory segment unit of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】(a)及び(b)は本発明の第1の実施形態に
係る半導体記憶装置のメモリサブアレイを示し、(a)
は冗長セル列を持たないメモリサブアレイを示す概略構
成図であり、(b)は冗長セル列を持つメモリサブアレ
イを示す概略構成図である。
FIGS. 4A and 4B show a memory sub-array of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a memory sub-array having no redundant cell column, and FIG. 2B is a schematic configuration diagram showing a memory sub-array having a redundant cell column.

【図5】本発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置
における接続切替回路を示す部分的な回路図である。
FIG. 5 is a partial circuit diagram illustrating a connection switching circuit in the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置
のメモリセグメント部を示すブロック構成図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a memory segment unit of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置
における複数の冗長セル列を持つメモリサブアレイを示
す概略構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a memory sub-array having a plurality of redundant cell columns in a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置
における接続切替回路の内部データバス選択部を示す部
分的な回路図である。
FIG. 8 is a partial circuit diagram showing an internal data bus selection unit of a connection switching circuit in a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置
における接続切替回路のビット線選択部を示す部分的な
回路図である。
FIG. 9 is a partial circuit diagram illustrating a bit line selection unit of a connection switching circuit in a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ(データ保持手段) 10 メモリセグメント部 11A (第1の)メモリサブアレイ 11B (第2の)メモリサブアレイ 11C (第3の)メモリサブアレイ 11D (第4の)メモリサブアレイ 111 メモリセル(データ保持部) 11a 冗長セル列 11b 冗長セル列群 12 接続切替部(接続切替手段) 121 接続切替回路 122 接続切替回路 122a 内部データバス選択部 122b ビット線選択部 13A 第1のカラム線起動信号発生回路 13D 第4のカラム線起動信号発生回路 20 I/F部 21A 第1のカラムデコーダ 21D 第4のカラムデコーダ 22A 第1のDQマルチプレクサ 22D 第4のDQマルチプレクサ 31A 第1の外部入出力回路 31D 第4の外部入出力回路 32 アドレス入力回路 33 ロウデコーダ回路 DB データバス(第1のデータ線/第1のデータ
バス) DBA 内部データバス(第2のデータ線/第2のデ
ータバス) Y カラム線起動信号線(第1のカラム線起動信
号線) YA 内部カラム線起動信号線(第1の内部カラム
線起動信号線) 401 第1の切替ブロック 402 第2の切替ブロック 41 第1のNMOSトランジスタ 42 第2のNMOSトランジスタ 43 第3のNMOSトランジスタ 44 第4のNMOSトランジスタ 45 第1のインバータ 46 ヒューズ素子(切替変更手段) 47 第2のインバータ 48 第3のインバータ 49 第5のNMOSトランジスタ 50 リセット回路 501 第1の切替ブロック 502 第2の切替ブロック 51 第1のNMOSトランジスタ 52 第2のNMOSトランジスタ 53 第3のNMOSトランジスタ 54 第4のNMOSトランジスタ 55 第5のNMOSトランジスタ 56 第6のNMOSトランジスタ 57 第7のNMOSトランジスタ 58 第8のNMOSトランジスタ 59 第9のNMOSトランジスタ 60 第10のNMOSトランジスタ 61 第1のインバータ 62 ヒューズ素子(切替変更手段) 63 第2のインバータ 64 第3のインバータ 65 第11のNMOSトランジスタ 70 ビット線選択回路 71 第1のNMOSトランジスタ 72 第2のNMOSトランジスタ 73 第3のNMOSトランジスタ 74 第4のNMOSトランジスタ 75 第5のNMOSトランジスタ 76 第6のNMOSトランジスタ 77 第7のNMOSトランジスタ 78 第8のNMOSトランジスタ 80 読み出し動作信号 81 第9のNMOSトランジスタ 82 第10のNMOSトランジスタ 83 第11のNMOSトランジスタ 84 第12のNMOSトランジスタ
Reference Signs List 1 memory cell array (data holding means) 10 memory segment section 11A (first) memory sub-array 11B (second) memory sub-array 11C (third) memory sub-array 11D (fourth) memory sub-array 111 memory cell (data holding) Unit) 11a redundant cell column 11b redundant cell column group 12 connection switching unit (connection switching unit) 121 connection switching circuit 122 connection switching circuit 122a internal data bus selection unit 122b bit line selection unit 13A first column line activation signal generation circuit 13D Fourth column line activation signal generation circuit 20 I / F unit 21A First column decoder 21D Fourth column decoder 22A First DQ multiplexer 22D Fourth DQ multiplexer 31A First external input / output circuit 31D Fourth External input / output circuit 32 address input times 33 row decoder circuit DB data bus (first data line / first data bus) DBA internal data bus (second data line / second data bus) Y column line activation signal line (first column line activation) YA Internal column line activation signal line (first internal column line activation signal line) 401 First switching block 402 Second switching block 41 First NMOS transistor 42 Second NMOS transistor 43 Third NMOS Transistor 44 Fourth NMOS transistor 45 First inverter 46 Fuse element (switch changing means) 47 Second inverter 48 Third inverter 49 Fifth NMOS transistor 50 Reset circuit 501 First switch block 502 Second switch Block 51 First NMOS transistor 52 Second NMOS transistor Transistor 53 third NMOS transistor 54 fourth NMOS transistor 55 fifth NMOS transistor 56 sixth NMOS transistor 57 seventh NMOS transistor 58 eighth NMOS transistor 59 ninth NMOS transistor 60 tenth NMOS transistor 61 First inverter 62 Fuse element (switch changing means) 63 Second inverter 64 Third inverter 65 Eleventh NMOS transistor 70 Bit line selection circuit 71 First NMOS transistor 72 Second NMOS transistor 73 Third NMOS Transistor 74 Fourth NMOS transistor 75 Fifth NMOS transistor 76 Sixth NMOS transistor 77 Seventh NMOS transistor 78 Eighth NMOS transistor 8 Read operation signal 81 the ninth NMOS transistor 82 a 10 NMOS transistor 83 a 11 NMOS transistor 84 twelfth NMOS transistor of

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 行列状に配置された複数のデータ保持部
を有する複数のデータ保持手段と、 前記複数のデータ保持手段と対応する複数のデータ入出
力手段と、 前記複数のデータ保持手段及び前記複数のデータ入出力
手段の間の電気的な接続を切り替える接続切替手段とを
備え、 前記接続切替手段は、前記複数のデータ保持手段に含ま
れる一列分又は一行分の各データ保持部を前記複数のデ
ータ入出力手段のうちのいずれか1つと選択的に接続し
且つ接続の切替時には接続状態を順次シフトして変更で
きるように設けられていることを特徴とする半導体記憶
装置。
A plurality of data holding units having a plurality of data holding units arranged in a matrix; a plurality of data input / output units corresponding to the plurality of data holding units; a plurality of data holding units; Connection switching means for switching an electrical connection between a plurality of data input / output means, wherein the connection switching means includes a plurality of data holding units for one row or one row included in the plurality of data holding means. A semiconductor memory device which is selectively connected to any one of the data input / output means, and is provided so that the connection state can be sequentially shifted and changed when the connection is switched.
【請求項2】 前記接続切替手段は、前記各データ入出
力手段とは所定数の第1のデータ線によって接続される
と共に、前記各データ保持手段とは前記第1のデータ線
の数よりも多い第2のデータ線によって接続されてお
り、 前記複数のデータ保持手段におけるデータ保持部の総列
数又は総行数は、前記第2のデータ線と同等又はそれ以
上となるように設けられていることを特徴とする請求項
1に記載の半導体記憶装置。
2. The connection switching unit is connected to each of the data input / output units by a predetermined number of first data lines, and is connected to each of the data holding units by a number greater than the number of the first data lines. The plurality of data holding units are connected so that the total number of columns or total number of rows of the data holding units in the plurality of data holding units is equal to or greater than that of the second data lines. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 行列状に配置された複数のメモリセルを
有する複数のメモリセルアレイと、 前記複数のメモリセルアレイと対応する複数のデータ入
出力回路と、 前記複数のデータ入出力回路と前記複数のメモリセルア
レイとの間の電気的な接続状態を切り替える接続切替回
路と、 前記データ入出力回路と前記接続切替回路とを接続する
複数の第1のデータバスと、 前記接続切替回路と前記複数のメモリセルアレイとを接
続する複数の第2のデータバスと、 前記複数の第1のデータバスと対応して前記接続切替回
路と前記データ入出力回路との間に並列接続され、前記
メモリセルアレイの各セル列に対するデータ転送のトリ
ガとなるカラム線起動信号が入力される複数の第1のカ
ラム線起動信号線と、 前記複数の第2のデータバスと対応して前記接続切替回
路と前記セル列との間に並列接続され、前記第1のカラ
ム線起動信号線と選択的に接続される第2のカラム線起
動信号線とを備え、 前記第2のデータバスはその本数が前記第1のデータバ
スよりも多く設けられていると共に、前記第2のカラム
線起動信号線はその本数が前記第1のカラム線起動信号
線よりも多く設けられており、 前記接続切替回路は、 前記各第1のデータバスを前記複数の第2のデータバス
のいずれか1つと選択的に接続し且つ前記各第1のカラ
ム線起動信号線を前記複数の第2のカラム線起動信号線
のいずれか1つと選択的に接続すると共に、 前記メモリセルアレイにおいて検出された不良カラムと
対応する前記第1のデータバスと前記第2のデータバス
との接続及び前記第1のカラム線起動信号線と前記第2
のカラム線起動信号線との接続を切り離し、切り離され
た前記不良カラム以降の各カラムと対応する前記第1の
データバスと前記第2のデータバスの接続状態及び前記
第1のカラム線起動信号線と前記第2のカラム線起動信
号線との接続状態をそれぞれ対応させながら順次シフト
して変更できるように設けられていることを特徴とする
半導体記憶装置。
A plurality of memory cell arrays having a plurality of memory cells arranged in a matrix; a plurality of data input / output circuits corresponding to the plurality of memory cell arrays; a plurality of data input / output circuits; A connection switching circuit for switching an electrical connection state with a memory cell array; a plurality of first data buses connecting the data input / output circuit and the connection switching circuit; a connection switching circuit and the plurality of memories A plurality of second data buses connecting the cell array; and a plurality of second data buses connected in parallel between the connection switching circuit and the data input / output circuit corresponding to the plurality of first data buses, wherein each cell of the memory cell array is A plurality of first column line activation signal lines to which a column line activation signal for triggering data transfer to a column is input; and a plurality of second data buses. A second column line activation signal line, which is connected in parallel between the connection switching circuit and the cell column, and is selectively connected to the first column line activation signal line; The number of the second column line activation signal lines is greater than that of the first column line activation signal line, and the number of the second column line activation signal lines is greater than that of the first column line activation signal line. The connection switching circuit selectively connects each of the first data buses to any one of the plurality of second data buses and connects each of the first column line activation signal lines to the plurality of second columns. And selectively connecting to any one of the line activation signal lines, a connection between the first data bus and the second data bus corresponding to a defective column detected in the memory cell array, and the first column Line start signal line and front 2nd
And the connection state of the first data bus and the second data bus corresponding to each column after the disconnected defective column, and the first column line activation signal. A semiconductor memory device provided so as to be able to sequentially shift and change the connection state between a line and the second column line activation signal line while making them correspond to each other.
【請求項4】 前記複数のメモリセルアレイは、前記セ
ル列の総数が前記第2のデータバス又は前記第2のカラ
ム線起動信号線の総数と同等となるように設けられてお
り、 前記接続切替回路は、前記各メモリセルアレイに属し且
つ互いに隣接するセル列のうちの一方のセル列と他方の
セル列とを選択的に接続すると共に、互いに隣接する前
記複数のメモリセルアレイ同士における対向する側部に
位置する各セル列のうち、一方のメモリセルアレイに属
するセル列と他方のメモリセルアレイに属するセル列と
を選択的に接続する切替変更手段を有していることを特
徴とする請求項3に記載の半導体記憶装置。
4. The plurality of memory cell arrays are provided such that the total number of the cell columns is equal to the total number of the second data buses or the second column line activation signal lines. The circuit selectively connects one of the cell columns belonging to each of the memory cell arrays and the cell column adjacent to each other and the other cell column, and opposes side portions of the plurality of memory cell arrays adjacent to each other. And a switching unit for selectively connecting a cell column belonging to one memory cell array and a cell column belonging to the other memory cell array among the cell columns located in the memory cell array. 13. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項5】 前記第1のカラム線起動信号線は、前記
複数の第1のデータバスのm本(但し、mは2以上の整
数とする。)ごとに設けられていることを特徴とする請
求項3又は4に記載の半導体記憶装置。
5. The method according to claim 1, wherein the first column line activation signal line is provided for every m lines of the plurality of first data buses (where m is an integer of 2 or more). The semiconductor memory device according to claim 3, wherein:
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003007078A (en) * 2001-06-22 2003-01-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory

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