JP2001092544A - Constant voltage circuit - Google Patents

Constant voltage circuit

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JP2001092544A
JP2001092544A JP26520999A JP26520999A JP2001092544A JP 2001092544 A JP2001092544 A JP 2001092544A JP 26520999 A JP26520999 A JP 26520999A JP 26520999 A JP26520999 A JP 26520999A JP 2001092544 A JP2001092544 A JP 2001092544A
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JP
Japan
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voltage
transistor
terminal
circuit
reference voltage
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JP26520999A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Suwabe
裕之 諏訪部
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Toshiba Electronic Device Solutions Corp
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Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To supply a fixed voltage not depending on external power voltage to a reference voltage generation circuit for generating a reference voltage and a comparator for controlling a transistor(TR) for dropping voltage as power supply voltage. SOLUTION: This constant voltage circuit is provided with terminals 11, 12, a depression type TR 13 connecting one end of a current passage between its source and drain to the terminal 11, connecting its gate to the terminal 12 and capable of generating limited voltage VLIM, a reference voltage generation circuit 14 allowed to be driven by the voltage VLIM and capable of generating reference voltage VREF, and a TR 17 connecting one end of a current passage between its source and drain to the terminal 11. The constant voltage circuit is also provided with a voltage division circuit 20 for dividing voltage generated between the other end of the current passage of the TR 17 and the terminal 11 and generating divided voltage and a comparator 21 allowed to be driven by the voltage VLIM and capable of comparing the reference voltage VREF with the divided voltage VKEN.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体集積回路に
内蔵される定電圧回路に係り、特に外部より供給される
電源電圧よりも低い一定電圧を発生する定電圧回路に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a constant voltage circuit built in a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a constant voltage circuit for generating a constant voltage lower than a power supply voltage supplied from the outside.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電池電源など、電圧が変動する電
源を使用する大規模半導体集積回路(以下、LSIと称
する)には、(1)LSIに供給される電源電圧が定格
で規定された動作電源電圧範囲を超えないようにする、
(2)LSI内部の電源電圧の値を低く押さえて消費電
流を低減させる、(3)LSI外部回路とのインターフ
ェースを取るために電源電圧を合わせ込む、などの目的
から、外部より供給される電源電圧を、LSIに内蔵さ
れた定電圧回路で一定電圧に降圧して、LSI内部回路
の電源として供給するシステムがある。このようなシス
テムでは、定電圧化に際して厳しい精度が要求されるこ
とが多い。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a large-scale semiconductor integrated circuit (hereinafter, referred to as LSI) using a power supply whose voltage fluctuates, such as a battery power supply, (1) a power supply voltage supplied to the LSI is specified by a rating. Do not exceed the operating power supply voltage range,
Power supplied from outside for the purpose of (2) keeping the value of the power supply voltage inside the LSI low to reduce current consumption, and (3) adjusting the power supply voltage to interface with the LSI external circuit. 2. Description of the Related Art There is a system in which a voltage is reduced to a constant voltage by a constant voltage circuit built in an LSI and supplied as a power supply for an LSI internal circuit. In such a system, strict accuracy is often required for constant voltage.

【0003】ここで、従来の定電圧回路の一例を図8に
示す。この定電圧回路には端子11、12が設けられて
いる。一方の端子11には電池の高電位側電圧VBAT
が供給され、他方の端子12には基準電位側の接地電圧
GNDが供給される。基準電圧発生回路14は、上記電
圧VBATで動作し、この電圧VBATからそれよりも
値が低い基準電圧VREFを発生する。
Here, an example of a conventional constant voltage circuit is shown in FIG. This constant voltage circuit is provided with terminals 11 and 12. One terminal 11 has a high-potential-side voltage VBAT of the battery.
The other terminal 12 is supplied with the ground voltage GND on the reference potential side. The reference voltage generation circuit 14 operates at the voltage VBAT, and generates a reference voltage VREF having a lower value from the voltage VBAT.

【0004】また、上記端子11とLSI内部回路15
の電源ノード16との間には、端子11の電圧を降圧し
てLSI内部回路15に供給する電圧降圧用のPチャネ
ルMOSトランジスタ17のソース、ドレイン間が挿入
されている。上記電源ノード16に得られる電圧VDD
は、一対の抵抗18、19からなる電圧分割回路20に
よって所定の比率で分割される。
The terminal 11 and the LSI internal circuit 15
Between the power supply node 16 and the source and drain of a voltage-dropping P-channel MOS transistor 17 for stepping down the voltage at the terminal 11 and supplying it to the LSI internal circuit 15. The voltage VDD obtained at the power supply node 16
Is divided at a predetermined ratio by a voltage dividing circuit 20 including a pair of resistors 18 and 19.

【0005】コンパレータ21は、上記電圧VBATで
動作し、基準電圧発生回路14で発生された基準電圧V
REFと、電圧分割回路20で発生された分割電圧VK
ENとを比較する。そして、このコンパレータ21から
の出力は上記トランジスタ17のゲートに供給される。
The comparator 21 operates at the voltage VBAT, and outputs the reference voltage V
REF and a divided voltage VK generated by the voltage dividing circuit 20.
Compare with EN. The output from the comparator 21 is supplied to the gate of the transistor 17.

【0006】ここで、図8の定電圧回路の動作を簡単に
説明する。端子11に電池の電圧VBATが供給される
と、基準電圧発生回路14は、上記電圧VBATの値に
依存しない一定の基準電圧VREFを発生する。なお、
電圧分割回路20における一対の抵抗18、19は、L
SI内部回路15の電源ノード16における電圧VDD
が所望の値になったときに、分割電圧VKENと基準電
圧VREFとが実質的に等しくなるように抵抗比が設定
されている。従って、VDDが所望の値よりも低い時は
VKEN<VREFとなり、このときのコンパレータ2
1の出力によってトランジスタ17がオンするように制
御される。すると、電源ノード16の電圧VDDはVB
ATに近付くように上昇を始める。逆に、VDDが所望
の値よりも高い時はVKEN>VREFとなり、このと
きのコンパレータ21の出力によってトランジスタ17
はオフするように制御される。このとき、電源ノード1
6の電圧VDDは、LSI内部回路15の消費電流によ
って順次低下していく。ここで、電圧VBATの値が変
動しても基準電圧VREFの値は変動しないので、電源
ノード16における電圧VDDは予め設定された所望の
値と一致するように制御される。
Here, the operation of the constant voltage circuit of FIG. 8 will be briefly described. When the battery voltage VBAT is supplied to the terminal 11, the reference voltage generation circuit 14 generates a constant reference voltage VREF that does not depend on the value of the voltage VBAT. In addition,
The pair of resistors 18 and 19 in the voltage dividing circuit 20 are L
Voltage VDD at power supply node 16 of SI internal circuit 15
Is set to a desired value, the resistance ratio is set such that the divided voltage VKEN and the reference voltage VREF become substantially equal. Therefore, when VDD is lower than the desired value, VKEN <VREF, and the comparator 2
The output of 1 controls the transistor 17 to be turned on. Then, the voltage VDD of the power supply node 16 becomes VB
Start climbing closer to the AT. Conversely, when VDD is higher than a desired value, VKEN> VREF, and the output of the comparator 21 at this time makes the transistor 17
Is controlled to be turned off. At this time, the power supply node 1
The voltage VDD of 6 gradually decreases due to the current consumption of the LSI internal circuit 15. Here, even if the value of voltage VBAT fluctuates, the value of reference voltage VREF does not fluctuate, so that voltage VDD at power supply node 16 is controlled to match a desired value set in advance.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図8に示し
た従来の定電圧回路では、電圧VBATの値がLSIの
定格値を超える仕様の場合、トランジスタ17や基準電
圧発生回路14及びコンパレータ21を構成するトラン
ジスタは、十分な耐圧を持たせるために、高耐圧プロセ
スなどの特殊なプロセスを用いて形成する必要がある。
この場合、次のような種々の問題が生じる。
In the conventional constant voltage circuit shown in FIG. 8, when the value of the voltage VBAT exceeds the rated value of the LSI, the transistor 17, the reference voltage generating circuit 14 and the comparator 21 are connected. The transistors to be formed need to be formed by using a special process such as a high withstand voltage process in order to have a sufficient withstand voltage.
In this case, the following various problems occur.

【0008】(1)設計ルールが標準耐圧のトランジス
タと異なるために、標準耐圧の設計ルールで設計された
実績のある既存回路ブロックが使用できず、専用に再設
計が必要となる。
(1) Since the design rule is different from that of the transistor having the standard withstand voltage, an existing circuit block which has been designed according to the design rule with the standard withstand voltage cannot be used, and a special redesign is required.

【0009】(2)高耐圧プロセスは耐圧を保持するた
めに、標準耐圧の設計ルールよりもトランジスタサイズ
が大きくなり、パターン面積が増大し、LSIの製造コ
ストが高くなる。
(2) In the high-breakdown-voltage process, the transistor size becomes larger than the standard withstand voltage design rule, the pattern area increases, and the LSI manufacturing cost increases in order to maintain the breakdown voltage.

【0010】(3)高耐圧プロセスは耐圧を高めるため
に、トランジスタのドレイン領域を通常の拡散領域の他
にそれよりも不純物濃度が薄い拡散領域を持つLDD
(Lightly Doped Drain)構造にする必要がある。従っ
て、一般的な標準耐圧プロセスよりもチャネル長変調効
果やしきい値のばらつきなどのプロセスばらつきが大き
く、基準電圧発生回路14の電源電圧依存性や絶対精度
が悪くなり、LSI内部回路16に供給される降圧され
た電圧VDDの精度も悪くなる。
(3) In the high-breakdown-voltage process, in order to increase the breakdown voltage, the drain region of the transistor has an LDD having a diffusion region having a lower impurity concentration in addition to a normal diffusion region.
(Lightly Doped Drain) structure is required. Therefore, the process variation such as the channel length modulation effect and the variation in the threshold value is larger than the general standard withstand voltage process, and the power supply voltage dependency and the absolute accuracy of the reference voltage generating circuit 14 are deteriorated. The accuracy of the reduced voltage VDD also decreases.

【0011】一方、高耐圧プロセスなどの追加プロセス
を用いない場合には、定電圧回路をLSI内部回路15
と一体的に集積化せずに、外付け回路としてLSIの外
部に設けるなど、LSI外部で電源電圧を押さえるシス
テム対策が不可欠となり、コストの高騰やセット上の基
板スペース確保が難しいなどの不具合が生じる。
On the other hand, when an additional process such as a high withstand voltage process is not used, the constant voltage circuit is connected to the LSI internal circuit 15.
It is indispensable to take a system measure to suppress the power supply voltage outside the LSI, such as installing it outside the LSI as an external circuit without integrating it integrally with the LSI. This raises costs and makes it difficult to secure board space on the set. Occurs.

【0012】この発明は上記のような事情を考慮してな
されたものであり、その目的は、上記したような種々の
問題点を解消して、高精度、低コストの定電圧回路を提
供することである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a high-precision, low-cost constant voltage circuit that solves the various problems described above. That is.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】この発明の定電圧回路
は、ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の
端子に接続され、ゲートが上記第2の端子に接続された
デプレッション型の第1のトランジスタと、上記第1の
トランジスタの電流通路の他端と上記第2の端子との間
に生じる電圧によって動作し、基準電圧を発生する基準
電圧発生回路と、ソース、ドレイン間の電流通路の一端
が上記第1の端子に接続された第2のトランジスタと、
上記第2のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
端子との間に生じる電圧を分割して分割電圧を発生する
電圧分割回路と、上記第1のトランジスタの電流通路の
他端と上記第2の端子との間に生じる電圧によって動作
し、上記基準電圧発生回路で発生される基準電圧と上記
電圧分割回路で発生される分割電圧とを比較し、その出
力で上記第2のトランジスタのゲートを制御するコンパ
レータとを具備したことを特徴とする。
A constant voltage circuit according to the present invention has a depletion type in which one end of a current path between a source and a drain is connected to the first terminal and a gate is connected to the second terminal. A first transistor, a reference voltage generating circuit which operates by a voltage generated between the other end of the current path of the first transistor and the second terminal and generates a reference voltage, and a current between the source and the drain. A second transistor having one end of the passage connected to the first terminal;
A voltage dividing circuit for dividing a voltage generated between the other end of the current path of the second transistor and the second terminal to generate a divided voltage; It operates according to the voltage generated between the second transistor and the second terminal, compares a reference voltage generated by the reference voltage generation circuit with a divided voltage generated by the voltage division circuit, and outputs an output of the second transistor A comparator for controlling the gate.

【0014】この発明の定電圧回路は、第1及び第2の
端子と、ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第
1の端子に接続されたデプレッション型の第1のトラン
ジスタと、ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記
第1の端子に接続され、電流通路の他端が上記第1のト
ランジスタのゲートに接続され、ゲートが上記第2の端
子に接続されたデプレッション型の第2のトランジスタ
と、上記第1のトランジスタのゲートと上記第2のトラ
ンジスタの電流通路の他端との接続ノードと上記第2の
端子との間に接続された定電流素子と、上記第1のトラ
ンジスタの電流通路の他端と上記第2の端子との間に生
じる電圧によって動作し、基準電圧を発生する基準電圧
発生回路と、ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上
記第1の端子に接続された第3のトランジスタと、上記
第3のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の端子
との間に生じる電圧を分割して分割電圧を発生する電圧
分割回路と、上記第1のトランジスタの電流通路の他端
と上記第2の端子との間に生じる電圧によって動作し、
上記基準電圧発生回路で発生される基準電圧と上記電圧
分割回路で発生される分割電圧とを比較し、その出力で
上記第3のトランジスタのゲートを制御するコンパレー
タとを具備したことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a constant voltage circuit comprising: a first transistor of a depletion type in which one end of a current path between a first terminal and a second terminal and a source and a drain is connected to the first terminal; One end of a current path between drains is connected to the first terminal, the other end of the current path is connected to the gate of the first transistor, and the gate of the depletion type second is connected to the second terminal. A constant current element connected between the second terminal and a connection node between the gate of the first transistor and the other end of the current path of the second transistor; and the first transistor A reference voltage generating circuit that operates by a voltage generated between the other end of the current path and the second terminal and generates a reference voltage; and one end of a current path between a source and a drain is connected to the first terminal. The divided third transistor, a voltage dividing circuit for dividing a voltage generated between the other end of the current path of the third transistor and the second terminal to generate a divided voltage, and the first transistor Operated by a voltage generated between the other end of the current path of the second terminal and the second terminal,
A comparator for comparing a reference voltage generated by the reference voltage generating circuit with a divided voltage generated by the voltage dividing circuit, and controlling a gate of the third transistor with an output of the comparator; .

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下図面を参照してこの発明を実
施の形態により説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】図1はこの発明に係る定電圧回路の第1の
実施の形態による回路図である。この定電圧回路には端
子11、12が設けられている。一方の端子11には電
池の高電位側電圧VBATが供給され、他方の端子12
には基準電位側の接地電圧GNDが供給される。上記端
子11にはNチャネルでデプレッション型のMOSトラ
ンジスタ13のソース、ドレイン間の電流通路の一端が
接続されている。このトランジスタ13のゲートは上記
端子12に接続されている。
FIG. 1 is a circuit diagram of a constant voltage circuit according to a first embodiment of the present invention. This constant voltage circuit is provided with terminals 11 and 12. One terminal 11 is supplied with the high potential side voltage VBAT of the battery, and the other terminal 12
Is supplied with a ground voltage GND on the reference potential side. One end of a current path between the source and the drain of the depletion type MOS transistor 13 is connected to the terminal 11 through an N channel. The gate of the transistor 13 is connected to the terminal 12.

【0017】基準電圧発生回路14は、上記トランジス
タ13のソース、ドレイン間の電流通路の他端に得られ
る電圧VLIMで動作し、この電圧VLIMからそれよ
りも値が低い一定の基準電圧VREFを発生する。
The reference voltage generation circuit 14 operates at a voltage VLIM obtained at the other end of the current path between the source and the drain of the transistor 13, and generates a constant reference voltage VREF having a lower value from the voltage VLIM. I do.

【0018】また、上記端子11とLSI内部回路15
の電源ノード16との間には、端子11の電圧を降圧し
てLSI内部回路15に供給する電圧降圧用のPチャネ
ルでエンハンスメント型のMOSトランジスタ17のソ
ース、ドレイン間の電流通路が挿入されている。上記電
源ノード16に得られる電圧VDDは、電源ノード16
と端子12との間に直列に接続された一対の抵抗18、
19からなる電圧分割回路20によって、抵抗18、1
9の抵抗比に応じた所定の比率で分割される。
The terminal 11 and the LSI internal circuit 15
A power path between the source and the drain of the enhancement-type MOS transistor 17 is inserted between the power supply node 16 and the power supply node 16 of the enhancement type MOS transistor 17 for reducing the voltage of the terminal 11 and supplying the reduced voltage to the LSI internal circuit 15. I have. The voltage VDD obtained at the power supply node 16 is
A pair of resistors 18 connected in series between the
19, the resistors 18, 1
9 is divided by a predetermined ratio according to the resistance ratio of the ninth.

【0019】コンパレータ21は、上記電圧VLIMで
動作し、基準電圧発生回路14で発生された基準電圧V
REFと電圧分割回路20で発生された分割電圧VKE
Nとを比較する。そして、このコンパレータ21からの
出力は上記トランジスタ17のゲートに供給される。
The comparator 21 operates at the voltage VLIM, and outputs the reference voltage V
REF and the divided voltage VKE generated by the voltage dividing circuit 20
Compare with N. The output from the comparator 21 is supplied to the gate of the transistor 17.

【0020】次に、上記のように構成された回路の動作
を説明する。なお、上記デプレッション型のMOSトラ
ンジスタ13は、しきい値Vthが例えば−2V程度と
なるように、予めチャネル領域に対して所定の不純物イ
オンが所定のドーズ量で注入されているとする。
Next, the operation of the circuit configured as described above will be described. In the depletion type MOS transistor 13, it is assumed that predetermined impurity ions are previously implanted into the channel region at a predetermined dose such that the threshold value Vth is, for example, about -2V.

【0021】外部から端子11に電池の電圧VBATが
供給されると、デプレッション型のMOSトランジスタ
13がオンし、端子11に接続されている側とは反対側
のソース、ドレイン間の電流通路の他端における電圧V
LIMが電圧VBATに近付くように上昇を始める。こ
こで、上記トランジスタ13のゲートは接地電圧GND
(0V)の端子12に接続されているので、電圧VLI
Mがゲートの電圧(GND)に対し、しきい値の絶対値
分だけ高くなると、このトランジスタ13がオフする。
すなわち、電圧VLIMが2V程度を超えるとトランジ
スタ13がオフし、電圧VLIMの上昇が停止するの
で、電圧VBATが2V以上に上昇しても電圧VLIM
は2V程度に制限される。この電圧VLIMは基準電圧
発生回路14及びコンパレータ21に対して電源電圧と
して供給されており、電圧VBATが2V以上に上昇し
てもこれら基準電圧発生回路14及びコンパレータ21
には2V程度の電源電圧(VLIM)しか加わらない。
ここで、上記電圧VBATとVLIMとの関係を図2の
特性図に示す。
When a battery voltage VBAT is supplied to the terminal 11 from the outside, the depletion type MOS transistor 13 is turned on, and a current path between the source and the drain opposite to the side connected to the terminal 11 is provided. Voltage V at the end
LIM begins to rise to approach voltage VBAT. Here, the gate of the transistor 13 is connected to the ground voltage GND.
(0V) terminal 12 so that the voltage VLI
When M becomes higher than the gate voltage (GND) by the absolute value of the threshold, the transistor 13 is turned off.
That is, when the voltage VLIM exceeds about 2 V, the transistor 13 is turned off, and the rise of the voltage VLIM stops. Therefore, even if the voltage VBAT rises to 2 V or more, the voltage VLIM
Is limited to about 2V. This voltage VLIM is supplied as a power supply voltage to the reference voltage generation circuit 14 and the comparator 21. Even if the voltage VBAT rises to 2 V or more, the reference voltage generation circuit 14 and the comparator 21
Only a power supply voltage (VLIM) of about 2 V is applied.
Here, the relationship between the voltages VBAT and VLIM is shown in the characteristic diagram of FIG.

【0022】基準電圧発生回路14は、電圧VBATや
VLIMに依存せず、それらよりも低い値の基準電圧V
REFを上記電圧VLIMから発生する。また、電圧分
割回路20における一対の抵抗18、19は、LSI内
部回路15の電源ノード16における電圧VDDが所望
の値になったときに、分割電圧VKENと基準電圧VR
EFとが実質的に等しくなるように抵抗比が設定されて
いるとする。よって、VDDが所望の値よりも低い時は
VKEN<VREFとなり、このとき、コンパレータ2
1の出力によって、トランジスタ17はオンするように
制御される。すると、電源ノード16の電圧VDDはV
BATに近付くように上昇を始める。逆に、VDDが所
望の値よりも高い時はVKEN>VREFとなり、この
とき、コンパレータ21の出力によって、トランジスタ
17はオフするように制御される。このとき、電源ノー
ド16の電圧VDDは、LSI内部回路15の消費電流
によって順次低下していく。ここで、電圧VBATの値
が変動しても基準電圧VREFの値は変動しないので、
電源ノード16の電圧VDDは予め設定された所望の値
と一致するように制御される。
The reference voltage generation circuit 14 does not depend on the voltages VBAT and VLIM, and has a lower reference voltage V
REF is generated from the voltage VLIM. When the voltage VDD at the power supply node 16 of the LSI internal circuit 15 becomes a desired value, the pair of resistors 18 and 19 in the voltage dividing circuit 20 indicate the divided voltage VKEN and the reference voltage VR.
It is assumed that the resistance ratio is set so that EF is substantially equal. Therefore, when VDD is lower than the desired value, VKEN <VREF, and at this time, the comparator 2
The output of 1 controls the transistor 17 to turn on. Then, the voltage VDD of the power supply node 16 becomes V
Start rising to approach BAT. Conversely, when VDD is higher than the desired value, VKEN> VREF. At this time, the output of the comparator 21 controls the transistor 17 to be turned off. At this time, the voltage VDD of the power supply node 16 sequentially decreases due to the current consumption of the LSI internal circuit 15. Here, even if the value of the voltage VBAT changes, the value of the reference voltage VREF does not change.
The voltage VDD of the power supply node 16 is controlled so as to match a predetermined desired value.

【0023】図1に示した定電圧回路では、端子11に
電圧VBATとしてLSIの標準耐圧プロセスの定格を
超える高電圧が供給される場合であっても、トランジス
タ13と17のみに高電圧が印加されるだけであり、基
準電圧発生回路14及びコンパレータ21には標準耐圧
以下の電圧(2V程度)しか印加されないようにでき
る。また、基準電圧発生回路14及びコンパレータ21
に供給される電圧VLIMは、電池電圧VBATが2V
以上であっても一定値となるので、基準電圧発生回路1
4及びコンパレータ21の電源依存性が小さくなり、よ
り高精度に電圧VDDの出力制御を行うことができる。
In the constant voltage circuit shown in FIG. 1, even when a high voltage exceeding the rating of the standard withstand voltage process of the LSI is supplied to the terminal 11 as the voltage VBAT, a high voltage is applied only to the transistors 13 and 17. And only the voltage (about 2 V) equal to or lower than the standard withstand voltage can be applied to the reference voltage generating circuit 14 and the comparator 21. Further, the reference voltage generation circuit 14 and the comparator 21
Is supplied to the battery voltage VBAT is 2 V
Since the value is a constant value even if the value is above, the reference voltage generation circuit 1
4 and the comparator 21 are less dependent on the power supply, and the output of the voltage VDD can be controlled with higher accuracy.

【0024】このように第1の実施の形態による定電圧
回路によれば、以下のような効果を得ることかできる。
According to the constant voltage circuit according to the first embodiment, the following effects can be obtained.

【0025】(1)電池電圧VBATがLSIの定格を
超える仕様の場合であっても、基準電圧発生回路14及
びコンパレータ21の各回路ブロックに高耐圧トランジ
スタを用いる必要がない。従って、基準電圧発生回路1
4及びコンパレータ21では標準設計ルールで設計され
た実績のある既存回路ブロックが使用でき、設計期間の
短縮や確度の向上が期待できる。
(1) Even in the case where the battery voltage VBAT exceeds the rating of the LSI, it is not necessary to use a high voltage transistor in each circuit block of the reference voltage generation circuit 14 and the comparator 21. Therefore, the reference voltage generating circuit 1
4 and the comparator 21 can use an existing circuit block which has been designed according to the standard design rule, and can shorten the design period and improve the accuracy.

【0026】(2)上記(1)で説明したように、基準
電圧発生回路14及びコンパレータ21は標準設計ルー
ルで設計され、高耐圧プロセスの設計ルールを使用しな
いので、パターン面積が増大せず、製造コストが安くな
る。
(2) As described in the above (1), the reference voltage generating circuit 14 and the comparator 21 are designed according to the standard design rule, and do not use the design rule of the high withstand voltage process. Manufacturing costs are reduced.

【0027】(3)上記(1)で説明したように、基準
電圧発生回路14及びコンパレータ21は標準設計ルー
ルで設計できるので、トランジスタのしきい値ばらつき
などのプロセスばらつきが高耐圧プロセスに比較して小
さくなる。また、基準電圧発生回路14に供給される電
源電圧が制限されるので、電圧依存性が小さく、LSI
内部回路15に供給される電源電圧VDDの精度が非常
に良くなる。このとき、消費電流など他の特性への影響
もほとんどない。
(3) As described in the above (1), since the reference voltage generating circuit 14 and the comparator 21 can be designed according to the standard design rule, the process variation such as the threshold value variation of the transistor is compared with the high breakdown voltage process. Smaller. Further, since the power supply voltage supplied to the reference voltage generation circuit 14 is limited, the voltage dependency is small, and
The accuracy of the power supply voltage VDD supplied to the internal circuit 15 is greatly improved. At this time, there is almost no influence on other characteristics such as current consumption.

【0028】(4)LSI内部回路15と一体的に集積
化することができ、外付け回路としてLSIの外部に設
ける必要がないので、低コスト化やセット上の基板スペ
ースの縮小化が可能になる。
(4) Since it can be integrated integrally with the LSI internal circuit 15 and there is no need to provide an external circuit outside the LSI, it is possible to reduce the cost and reduce the board space on the set. Become.

【0029】なお、上記第1の実施の形態において、ト
ランジスタ13のしきい値を2V程度に設定する場合に
ついて説明したが、これは必要に応じて任意の値に設定
することができる。
In the first embodiment, the case where the threshold value of the transistor 13 is set to about 2 V has been described. However, this can be set to an arbitrary value as needed.

【0030】次に、この発明の第2の実施の形態につい
て、図3を参照して説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0031】図1に示した第1の実施の形態によるもの
では、Nチャネルでデプレッション型のMOSトランジ
スタ13のゲートを接地電圧GNDが供給される端子1
2に接続していたが、この第2の実施の形態による定電
圧回路では、トランジスタ13のゲートを、定電流素子
である抵抗22を介して端子12に接続するようにして
いる。さらにこの第2の実施の形態による定電圧回路で
は、Nチャネルでデプレッション型のMOSトランジス
タ23が追加されている。この新たに追加されたトラン
ジスタ23のソース、ドレイン間の電流通路は、端子1
1と前記トランジスタ13のゲートとの間に挿入されて
おり、このトランジスタ23のゲートは端子12に接続
されている。なお、それ以外の構成は図1と同じなので
説明は省略する。
In the first embodiment shown in FIG. 1, the gate of the N-channel depletion type MOS transistor 13 is connected to the terminal 1 to which the ground voltage GND is supplied.
In the constant voltage circuit according to the second embodiment, the gate of the transistor 13 is connected to the terminal 12 via the resistor 22 which is a constant current element. Further, in the constant voltage circuit according to the second embodiment, an N-channel depletion type MOS transistor 23 is added. The current path between the source and the drain of the newly added transistor 23 is connected to the terminal 1
1 and the gate of the transistor 13, and the gate of the transistor 23 is connected to the terminal 12. The other configuration is the same as that of FIG.

【0032】ここで、新たに追加された抵抗22の抵抗
値は新たに追加されたトランジスタ23のオン抵抗の値
よりも十分に大きくなるように設定されていると共に、
追加されたトランジスタ23は、前記トランジスタ13
と同様に、しきい値Vthが例えば−2V程度となるよ
うに予めチャネル領域に対して所定の不純物イオンが所
定のドーズ量で注入されているとする。
Here, the resistance value of the newly added resistor 22 is set to be sufficiently larger than the on-resistance value of the newly added transistor 23, and
The added transistor 23 is the transistor 13
Similarly, it is assumed that predetermined impurity ions are implanted into the channel region in advance at a predetermined dose such that the threshold value Vth is, for example, about −2 V.

【0033】このような構成において、端子11に電池
の電圧VBATが供給されると、ゲートが接地電圧GN
Dの端子12に接続されているトランジスタ23がオン
し、トランジスタ13のゲートにおける電圧がVBAT
に近付くように上昇を始める。ここで、トランジスタ2
3のゲートは接地電圧GND(0V)の端子12に接続
されているので、トランジスタ13のゲート電圧が接地
電圧GNDに対してトランジスタ23のしきい値の絶対
値分だけ高くなると、このトランジスタ23がオフす
る。すなわち、トランジスタ13のゲート電圧が2V程
度を超えるとトランジスタ23がオフしてトランジスタ
13のゲート電圧の上昇が停止し、このゲート電圧は2
V程度に制限される。
In this configuration, when the battery voltage VBAT is supplied to the terminal 11, the gate is connected to the ground voltage GN.
The transistor 23 connected to the terminal 12 of D is turned on, and the voltage at the gate of the transistor 13 becomes VBAT.
Start to rise closer to. Here, transistor 2
Since the gate of the transistor 3 is connected to the terminal 12 of the ground voltage GND (0 V), when the gate voltage of the transistor 13 is higher than the ground voltage GND by the absolute value of the threshold value of the transistor 23, the transistor 23 is turned off. Turn off. That is, when the gate voltage of the transistor 13 exceeds about 2 V, the transistor 23 is turned off and the rise of the gate voltage of the transistor 13 stops, and this gate voltage becomes 2
V.

【0034】一方、端子11に電池の電圧VBATが供
給された後は、トランジスタ13もオンし、電圧VLI
Mが電圧VBATに近付くように上昇を始める。そし
て、電圧VLIMの値がトランジスタ13のゲート電圧
に対してそのしきい値の絶対値分だけ高くなると、この
トランジスタ13がオフする。従って、電池の電圧VB
ATが4V以上に上昇しても、電圧VLIMの値はトラ
ンジスタ23、13の両しきい値の絶対値の和である4
V程度に制限される。この電圧VLIMは基準電圧発生
回路14及びコンパレータ21に対して電源電圧として
供給されており、電圧VBATが4V以上に上昇しても
これら基準電圧発生回路14及びコンパレータ21には
4V程度の電源電圧(VLIM)しか加わらない。ここ
で、上記電圧VBATとVLIMとの関係を図4の特性
図に示す。
On the other hand, after the battery voltage VBAT is supplied to the terminal 11, the transistor 13 is also turned on and the voltage VLI
M begins to rise so that M approaches voltage VBAT. When the value of voltage VLIM becomes higher than the gate voltage of transistor 13 by the absolute value of the threshold, transistor 13 is turned off. Therefore, the battery voltage VB
Even if AT rises to 4V or more, the value of voltage VLIM is the sum of the absolute values of both thresholds of transistors 23 and 13
V. This voltage VLIM is supplied as a power supply voltage to the reference voltage generation circuit 14 and the comparator 21. Even if the voltage VBAT rises to 4 V or more, the reference voltage generation circuit 14 and the comparator 21 supply a power supply voltage of about 4 V ( VLIM). Here, the relationship between the voltages VBAT and VLIM is shown in the characteristic diagram of FIG.

【0035】この図3の実施の形態の回路では、トラン
ジスタ23がオンする際に抵抗22を介して電流が流れ
る。しかし、トランジスタ23のオン抵抗に対して抵抗
22の抵抗値が十分に高く設定されており、この抵抗2
2で消費される電流はLSI内部回路15における消費
電流に対して非常に小さく、LSI内部回路15の消費
電流特性に対してほとんど影響を及ぼさない。
In the circuit of the embodiment shown in FIG. 3, a current flows through the resistor 22 when the transistor 23 is turned on. However, the resistance value of the resistor 22 is set sufficiently higher than the ON resistance of the transistor 23,
2, the current consumed in the LSI internal circuit 15 is very small and hardly affects the current consumption characteristics of the LSI internal circuit 15.

【0036】この実施の形態の場合にも、上記第1の実
施の形態と同様の効果が得られる上に、電圧VDDが2
個のトランジスタ13、23のしきい値の絶対値の和の
電圧に制限されるので、基準電圧発生回路14及びコン
パレータ21に供給される電源電圧としての電圧VLI
Mの値をより自由に設定することができるという効果も
得られる。
In this embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained, and the voltage VDD is 2
Since the voltage is limited to the sum of the absolute values of the threshold values of the transistors 13 and 23, the voltage VLI as the power supply voltage supplied to the reference voltage generation circuit 14 and the comparator 21
The effect that the value of M can be set more freely is also obtained.

【0037】なお、上記第2の実施の形態において、抵
抗22とトランジスタ23とからなる回路を1段の回路
とし、この回路をn段接続する構成とすることによっ
て、電圧VLIMをトランジスタ13、23のしきい値
Vthの(n+1)倍の値に制限することもできる。ま
た、各トランジスタのしきい値を異ならせることによ
り、電圧VLIMの値を種々に設定することもできる。
In the second embodiment, the circuit composed of the resistor 22 and the transistor 23 is formed as a one-stage circuit, and this circuit is connected in n stages. Can be limited to a value (n + 1) times the threshold value Vth. Further, by making the threshold value of each transistor different, the value of the voltage VLIM can be set variously.

【0038】次に、この発明の第3の実施の形態につい
て、図5を参照して説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0039】図3に示した第2の実施の形態では、トラ
ンジスタ13のゲートと端子12との間に定電流素子と
して抵抗22を接続する場合を説明したが、この第3の
実施の形態では定電流素子として抵抗22の代りに定電
流源24を接続するようにしたものである。この定電流
源24は、同じLSI内の他の回路、例えば基準電圧発
生回路14などにおいて、ゲートに所定のバイアス電圧
が供給されていてソース、ドレイン間に所定の電流が流
れるようにされた定電流源用のトランジスタに対して、
ゲートが共通に接続された単一のトランジスタによって
構成されている。
In the second embodiment shown in FIG. 3, the case where the resistor 22 is connected as a constant current element between the gate of the transistor 13 and the terminal 12 has been described. However, in the third embodiment, A constant current source 24 is connected instead of the resistor 22 as a constant current element. The constant current source 24 is a constant current source in which a predetermined bias voltage is supplied to a gate and a predetermined current flows between a source and a drain in another circuit in the same LSI, for example, the reference voltage generating circuit 14 or the like. For the current source transistor,
The gate is constituted by a single transistor connected in common.

【0040】この実施の形態よれば、図3の実施の形態
と同様の効果が得られる上に、集積回路上で大きなパタ
ーン面積を占める前記抵抗22に代えて単一のトランジ
スタによって構成されている定電流源24を用いるよう
にしているので、より小さなパターン面積が実現できる
効果が得られる。
According to this embodiment, the same effects as in the embodiment of FIG. 3 can be obtained, and in addition, a single transistor is used instead of the resistor 22 occupying a large pattern area on an integrated circuit. Since the constant current source 24 is used, an effect that a smaller pattern area can be realized is obtained.

【0041】すなわち、集積回路上の抵抗としては、半
導体基板に含まれる不純物とは反対導電型の不純物を基
板に拡散して形成される拡散抵抗が一般に使用される。
また、拡散抵抗に流れる電流を少くするためには、拡散
抵抗のパターン形状の長さ/幅で決定される抵抗値を大
きくする必要がある。しかし、拡散抵抗の幅は設計ルー
ルによって最小寸法が決められているために、大きな抵
抗値を実現するためにはパターン的に長い形状の抵抗素
子が必要になり、これによってパターン面積が増大す
る。ところが、第3の実施の形態によれば、LSI上で
大きなパターン面積を占める抵抗の代わりに、パターン
面積の小さいトランジスタを用いるようにしてるので、
図3に示した実施の形態のものに比べて、より小さなパ
ターン面積が実現できる。
That is, as the resistor on the integrated circuit, a diffused resistor formed by diffusing an impurity of the opposite conductivity type to the impurity contained in the semiconductor substrate into the substrate is generally used.
Further, in order to reduce the current flowing through the diffusion resistor, it is necessary to increase the resistance value determined by the length / width of the pattern shape of the diffusion resistor. However, since the minimum width of the diffusion resistor is determined by a design rule, a resistor element having a long pattern is required to realize a large resistance value, thereby increasing the pattern area. However, according to the third embodiment, a transistor having a small pattern area is used instead of a resistor occupying a large pattern area on an LSI.
A smaller pattern area can be realized as compared with the embodiment shown in FIG.

【0042】図6は、上記第1ないし第3の各実施の形
態で使用される基準電圧発生回路14の詳細な回路の一
例を示している。この回路は、前記電圧VLIMが供給
されるノードにそれぞれのソースが接続されたPチャネ
ルでエンハンスメント型のMOSトランジスタ31〜3
3と、接地電圧GNDが供給されるノードにそれぞれの
ソースが接続されたNチャネルでエンハンスメント型の
MOSトランジスタ34、35と、上記トランジスタ3
1及び34の両ドレイン相互間に接続された抵抗36
と、上記トランジスタ33のドレインと接地電圧GND
が供給されるノードとの間に接続された抵抗37とから
構成されている。
FIG. 6 shows an example of a detailed circuit of the reference voltage generating circuit 14 used in each of the first to third embodiments. This circuit comprises a P-channel enhancement type MOS transistor 31 to 3 whose source is connected to a node to which the voltage VLIM is supplied.
3, N-channel enhancement-type MOS transistors 34 and 35 each having a source connected to a node to which ground voltage GND is supplied;
A resistor 36 connected between the drains 1 and 34
And the drain of the transistor 33 and the ground voltage GND
, And a resistor 37 connected between the node and the node to which is supplied.

【0043】そして、上記トランジスタ32のゲートと
ドレインとの間が短絡され、かつ上記トランジスタ31
〜33のゲートが共通に接続されており、これら3個の
トランジスタ31〜33はカレントミラー回路を構成
し、かつトランジスタ31〜33はそれぞれ定電流源と
して作用する。
Then, the gate and the drain of the transistor 32 are short-circuited and the transistor 31
33 are commonly connected, these three transistors 31 to 33 constitute a current mirror circuit, and the transistors 31 to 33 each function as a constant current source.

【0044】また、上記トランジスタ34のゲートはト
ランジスタ31のドレインに接続され、トランジスタ3
5のゲートはトランジスタ34のドレインに接続されて
いる。そして、前記基準電圧VREFは、トランジスタ
33のドレインと抵抗37との接続ノードに得られる。
The gate of the transistor 34 is connected to the drain of the transistor 31 and the transistor 3
The gate of 5 is connected to the drain of transistor 34. The reference voltage VREF is obtained at a connection node between the drain of the transistor 33 and the resistor 37.

【0045】この基準電圧発生回路では、トランジスタ
34、35を弱反転領域で動作させている。そして、両
トランジスタ34、35のゲート相互間であってトラン
ジスタ31に流れる定電流の経路に抵抗36を挿入する
ことにより、トランジスタ34、35のゲートバイアス
電圧を異ならせて、トランジスタ33に一定電流を流
し、これによって抵抗37に一定の電圧降下を生じさせ
て一定の基準電圧VREFを得るようにしている。
In this reference voltage generating circuit, the transistors 34 and 35 are operated in the weak inversion region. By inserting a resistor 36 between the gates of the transistors 34 and 35 in the path of the constant current flowing through the transistor 31, the gate bias voltages of the transistors 34 and 35 are made different, and a constant current is supplied to the transistor 33. This causes a constant voltage drop in the resistor 37 to obtain a constant reference voltage VREF.

【0046】図7は、上記第1ないし第3の各実施の形
態で使用されるコンパレータ21の詳細な回路の一例を
示している。この回路は、前記電圧VLIMが供給され
るノードにそれぞれの一端が接続された定電流源41、
42と、上記定電流源41の他端にそれぞれのソースが
接続され、それぞれのゲートに前記電圧VKEN、VR
EFがそれぞれ供給される差動対を構成する2個のPチ
ャネルでエンハンスメント型のMOSトランジスタ4
3、44と、上記トランジスタ43のドレインと接地電
圧GNDの供給ノードとの間にドレイン、ソース間が接
続されたNチャネルでエンハンスメント型のMOSトラ
ンジスタ45と、上記トランジスタ44のドレインと接
地電圧GNDの供給ノードにとの間にドレイン、ソース
間が接続されたNチャネルでエンハンスメント型のMO
Sトランジスタ46と、上記定電流源42の他端と接地
電圧GNDの供給ノードにとの間にドレイン、ソース間
が接続されたNチャネルでエンハンスメント型のMOS
トランジスタ47とから構成されている。
FIG. 7 shows an example of a detailed circuit of the comparator 21 used in each of the first to third embodiments. This circuit includes a constant current source 41 having one end connected to a node to which the voltage VLIM is supplied,
42 and the other end of the constant current source 41, the respective sources are connected, and the gates are connected to the voltages VKEN, VR
Two P-channel enhancement-type MOS transistors 4 forming a differential pair to which EF is supplied, respectively.
3, an N-channel enhancement-type MOS transistor 45 having a drain and a source connected between the drain of the transistor 43 and the supply node of the ground voltage GND, and the drain of the transistor 44 and the ground voltage GND. N-channel enhancement-type MO with drain and source connected between the supply node and
An N-channel enhancement type MOS transistor having a drain and a source connected between the S transistor 46 and the other end of the constant current source 42 and the supply node of the ground voltage GND.
And a transistor 47.

【0047】そして、上記トランジスタ46のゲートと
ドレインとの間が短絡され、トランジスタ45、46の
ゲートが共通接続されて、この両トランジスタ45、4
6はカレントミラー回路を構成し、かつトランジスタ4
5、46はそれぞれ能動負荷として作用する。また、ト
ランジスタ43のドレインとトランジスタ45のドレイ
ンとの接続ノードにトランジスタ47のゲートが接続さ
れる。そして、上記定電流源42とトランジスタ47と
の接続ノードから前記トランジスタ17のゲートに供給
するための信号電圧が得られる。
Then, the gate and the drain of the transistor 46 are short-circuited, and the gates of the transistors 45 and 46 are commonly connected.
6 is a current mirror circuit, and transistor 4
5 and 46 each act as an active load. The gate of the transistor 47 is connected to a connection node between the drain of the transistor 43 and the drain of the transistor 45. Then, a signal voltage to be supplied to the gate of the transistor 17 is obtained from a connection node between the constant current source 42 and the transistor 47.

【0048】このような構成のコンパレータにおいて、
差動対を構成する2個のPチャネルでエンハンスメント
型のMOSトランジスタ43、44のゲートに供給され
る電圧VKEN、VREFの大小関係に応じてトランジ
スタ47のゲート電圧が変化し、このトランジスタ47
の導通状態に応じて定電流源42との接続ノードに発生
する電圧が変化する。
In the comparator having such a configuration,
The gate voltage of the transistor 47 changes according to the magnitude relationship between the voltages VKEN and VREF supplied to the gates of the enhancement-type MOS transistors 43 and 44 by the two P-channels forming the differential pair.
The voltage generated at the connection node with constant current source 42 changes according to the conduction state of.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
従来の種々の問題点を解消して、高精度、低コストの定
電圧回路を提供することができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide a high-precision, low-cost constant voltage circuit by solving various conventional problems.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係る定電圧回路の第1の実施の形態
の回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment of a constant voltage circuit according to the present invention.

【図2】図1の実施の形態回路の特性図。FIG. 2 is a characteristic diagram of the circuit according to the embodiment of FIG. 1;

【図3】この発明に係る定電圧回路の第2の実施の形態
の回路図。
FIG. 3 is a circuit diagram of a constant voltage circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図4】図3の実施の形態回路の特性図。FIG. 4 is a characteristic diagram of the circuit according to the embodiment of FIG. 3;

【図5】この発明に係る定電圧回路の第3の実施の形態
の回路図。
FIG. 5 is a circuit diagram of a third embodiment of the constant voltage circuit according to the present invention.

【図6】第1ないし第3の各実施の形態の回路で使用さ
れる基準電圧発生回路の詳細な回路図。
FIG. 6 is a detailed circuit diagram of a reference voltage generation circuit used in the circuits of the first to third embodiments.

【図7】第1ないし第3の各実施の形態の回路で使用さ
れるコンパレータの詳細な回路図。
FIG. 7 is a detailed circuit diagram of a comparator used in the circuits of the first to third embodiments.

【図8】従来の定電圧回路の回路図。FIG. 8 is a circuit diagram of a conventional constant voltage circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、12…端子、 13…Nチャネルでデプレッション型のMOSトランジ
スタ、 14…基準電圧発生回路、 15…LSI内部回路、 16…LSI内部回路の電源ノード、 17…電圧降圧用のPチャネルでエンハンスメント型の
MOSトランジスタ、 18、19…抵抗、 20…電圧分割回路、 21…コンパレータ、 22…抵抗、 23…Nチャネルでデプレッション型のMOSトランジ
スタ、 24…定電流源。
11, 12 terminal, 13 channel N-channel depletion type MOS transistor, 14 reference voltage generating circuit, 15 internal LSI circuit, 16 power supply node of the internal LSI circuit, 17 voltage reduction P channel enhancement channel MOS transistors of 18, 19, resistors, 20: voltage dividing circuit, 21: comparator, 22: resistor, 23: N-channel depletion type MOS transistor, 24: constant current source.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1及び第2の端子と、 ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の端子
に接続され、ゲートが上記第2の端子に接続されたデプ
レッション型の第1のトランジスタと、 上記第1のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
端子との間に生じる電圧によって動作し、基準電圧を発
生する基準電圧発生回路と、 ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の端子
に接続された第2のトランジスタと、 上記第2のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
端子との間に生じる電圧を分割して分割電圧を発生する
電圧分割回路と、 上記第1のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
端子との間に生じる電圧によって動作し、上記基準電圧
発生回路で発生される基準電圧と上記電圧分割回路で発
生される分割電圧とを比較し、その出力で上記第2のト
ランジスタのゲートを制御するコンパレータとを具備し
たことを特徴とする定電圧回路。
1. A depletion-type first depletion type in which one end of a current path between first and second terminals and a source and a drain is connected to the first terminal, and a gate is connected to the second terminal. A transistor; a reference voltage generation circuit that operates by a voltage generated between the other end of the current path of the first transistor and the second terminal to generate a reference voltage; and one end of a current path between a source and a drain Divides a voltage generated between a second transistor connected to the first terminal and the other end of the current path of the second transistor and the second terminal to generate a divided voltage. The circuit operates by a voltage generated between the other terminal of the current path of the first transistor and the second terminal, and is generated by the reference voltage generating circuit and the voltage dividing circuit. Divided voltage It compares the constant voltage circuit, characterized by comprising a comparator controlling the gate of the second transistor at its output.
【請求項2】 第1及び第2の端子と、 ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の端子
に接続されたデプレッション型の第1のトランジスタ
と、 ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の端子
に接続され、電流通路の他端が上記第1のトランジスタ
のゲートに接続され、ゲートが上記第2の端子に接続さ
れたデプレッション型の第2のトランジスタと、 上記第1のトランジスタのゲート及び上記第2のトラン
ジスタの電流通路の他端の接続ノードと上記第2の端子
との間に接続された定電流素子と、 上記第1のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
端子との間に生じる電圧によって動作し、基準電圧を発
生する基準電圧発生回路と、 ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の端子
に接続された第3のトランジスタと、 上記第3のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
端子との間に生じる電圧を分割して分割電圧を発生する
電圧分割回路と、 上記第1のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
端子との間に生じる電圧によって動作し、上記基準電圧
発生回路で発生される基準電圧と上記電圧分割回路で発
生される分割電圧とを比較し、その出力で上記第3のト
ランジスタのゲートを制御するコンパレータとを具備し
たことを特徴とする定電圧回路。
2. A depletion-type first transistor having one end of a current path between a first and a second terminal and a source and a drain connected to the first terminal; A depletion-type second transistor having one end connected to the first terminal, the other end of the current path connected to the gate of the first transistor, and a gate connected to the second terminal; A constant current element connected between the gate of the first transistor and a connection node at the other end of the current path of the second transistor and the second terminal; and a second end of the current path of the first transistor; A reference voltage generating circuit which operates by a voltage generated between the second terminal and the reference voltage generating circuit and generates a reference voltage; and a third transistor having one end of a current path between a source and a drain connected to the first terminal. A voltage dividing circuit for dividing a voltage generated between the other end of the current path of the third transistor and the second terminal to generate a divided voltage; It operates by a voltage generated between the terminal and the second terminal, compares a reference voltage generated by the reference voltage generation circuit with a divided voltage generated by the voltage division circuit, and uses the output to output the third voltage. And a comparator for controlling the gate of the transistor.
【請求項3】 前記定電流素子が抵抗である請求項2に
記載の定電圧回路。
3. The constant voltage circuit according to claim 2, wherein said constant current element is a resistor.
【請求項4】 前記定電流素子が定電流源である請求項
2に記載の定電圧回路。
4. The constant voltage circuit according to claim 2, wherein said constant current element is a constant current source.
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