JP2001091958A - Liquid crystal display device and its manufacture - Google Patents

Liquid crystal display device and its manufacture

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JP2001091958A
JP2001091958A JP26542799A JP26542799A JP2001091958A JP 2001091958 A JP2001091958 A JP 2001091958A JP 26542799 A JP26542799 A JP 26542799A JP 26542799 A JP26542799 A JP 26542799A JP 2001091958 A JP2001091958 A JP 2001091958A
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JP
Japan
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liquid crystal
transparent
insulating substrate
particles
display device
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JP26542799A
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Japanese (ja)
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Yoichiro Aya
洋一郎 綾
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To widen the viewing angle without deteriorating the picture quality of the liquid crystal display(LCD). SOLUTION: In the case voltage is applied between each of transparent electrodes 14, 15 of a liquid crystal panel 2, the rotary polarization of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 16 disappears and incident light on the liquid crystal panel 2 through a polarizing plate 3 passes through a polarizing plate 4. Since a number of transparent silicon particles 13 are dispersedly arranged on the liquid crystal layer 16 side surface of a transparent insulation substrate 12 with a nearly uniform density, without mutually overlapping and forming a single layer, the light radiated to the respective transparent silicon particles 13 is diffused with diffraction phenomena and the diffused light passes through the polarizing plate 4 from the transparent insulation substrate 12. Consequently, the viewing angle of the LCD 1 is widened so as to improve the visibility from the direction inclined with respect to the screen of the LCD 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置および
液晶表示装置の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display and a method for manufacturing the liquid crystal display.

【0002】[0002]

【従来の技術】透過型の液晶表示装置(LCD:Liquid
Crystal Display)は、片面に透明電極(ITO(Indi
um Thin Oxide )など)が形成された透明絶縁基板(ガ
ラス基板など)を2枚用い、それぞれの透明電極側が対
向するように2枚の透明絶縁基板を配置し、両基板の間
隙に液晶を封入して液晶パネルを作成し、その液晶パネ
ルの両側(入射側および出射側)に偏光板を配置した構
造になっている。そして、入射側の偏光板に対向して光
源(バックライト)を配置し、そのバックライトからの
光(照明光)を入射側の偏光板を通すことにより、所定
の偏光成分の光のみを液晶パネルに入射させるようにな
っている。ここで、液晶パネルの各透明電極間に電圧が
印加されていない場合には、液晶分子に旋光性が生じ、
入射側の偏光板を通して液晶パネルに入射された光は、
液晶層中を透過する間に液晶分子の旋光性により90゜
旋光されることから、出射側の偏光板で遮断される。そ
して、液晶パネルの各透明電極間に電圧が印加されてい
る場合には、液晶分子の旋光性が消失するため、入射側
の偏光板を通して液晶パネルに入射された光は、出射側
の偏光板を透過する。
2. Description of the Related Art A transmission type liquid crystal display device (LCD: Liquid)
Crystal Display) has a transparent electrode (ITO (Indi
um Thin Oxide)), two transparent insulating substrates (glass substrates, etc.) are formed, two transparent insulating substrates are arranged so that each transparent electrode side faces each other, and liquid crystal is sealed in the gap between both substrates. Then, a liquid crystal panel is prepared, and polarizing plates are arranged on both sides (incident side and output side) of the liquid crystal panel. Then, a light source (backlight) is arranged to face the polarizing plate on the incident side, and light (illumination light) from the backlight passes through the polarizing plate on the incident side, so that only light of a predetermined polarization component is converted to liquid crystal. The light is incident on the panel. Here, when no voltage is applied between the transparent electrodes of the liquid crystal panel, optical rotation occurs in the liquid crystal molecules,
The light incident on the liquid crystal panel through the polarizing plate on the incident side is
During the transmission through the liquid crystal layer, the light is rotated by 90 ° due to the optical rotation of the liquid crystal molecules. When a voltage is applied between the transparent electrodes of the liquid crystal panel, the optical rotation of the liquid crystal molecules is lost, so that the light incident on the liquid crystal panel through the polarizer on the incident side is polarized by the polarizer on the output side. Through.

【0003】また、反射型のLCDは、片面に透明電極
が形成された透明絶縁基板と、片面に反射電極(アルミ
ニウム合金など)が形成された透明絶縁基板とを用い、
透明電極と反射電極とが対向するように2枚の透明絶縁
基板を配置し、両基板の間隙に液晶を封入して液晶パネ
ルを作成し、その液晶パネルの透明電極が形成された透
明絶縁基板側(入射側)に偏光板を配置した構造になっ
ている。ここで、液晶パネルの各電極間に電圧が印加さ
れていない場合には、液晶分子に旋光性が生じ、偏光板
を通して液晶パネルに入射された後に反射電極にて反射
された光は、液晶層中を透過する間に液晶分子の旋光性
により90゜旋光されることから、偏光板で遮断され
る。そして、液晶パネルの各電極間に電圧が印加されて
いる場合には、液晶分子の旋光性が消失するため、偏光
板を通して液晶パネルに入射された後に反射電極にて反
射された光は、偏光板を透過する。
Further, a reflection type LCD uses a transparent insulating substrate having a transparent electrode formed on one side and a transparent insulating substrate having a reflective electrode (aluminum alloy or the like) formed on one side.
Two transparent insulating substrates are arranged so that the transparent electrode and the reflective electrode face each other, and liquid crystal is sealed in the gap between the two substrates to form a liquid crystal panel. The transparent insulating substrate on which the transparent electrodes of the liquid crystal panel are formed The structure is such that a polarizing plate is arranged on the side (incident side). Here, when no voltage is applied between the electrodes of the liquid crystal panel, optical rotation occurs in the liquid crystal molecules, and the light reflected by the reflective electrode after being incident on the liquid crystal panel through the polarizing plate is reflected by the liquid crystal layer. Since the liquid crystal molecules are rotated by 90 ° due to the optical rotation of the liquid crystal molecules while passing through, the liquid crystal molecules are blocked by the polarizing plate. When a voltage is applied between the electrodes of the liquid crystal panel, the optical rotation of the liquid crystal molecules disappears. Therefore, the light reflected by the reflective electrode after being incident on the liquid crystal panel through the polarizing plate is polarized. Transmit through the board.

【0004】このように、LCDは液晶の旋光性を利用
して光の透過・遮断を行うことで画面を表示するため、
ユーザーが視認し得る角度(視野角)が狭く、液晶パネ
ルの画面に対して斜め方向からの視認性が悪いという基
本的な欠陥がある。
As described above, the LCD displays a screen by transmitting and blocking light by utilizing the optical rotation of the liquid crystal.
There is a basic defect that an angle (viewing angle) that can be visually recognized by a user is narrow and visibility from an oblique direction with respect to the screen of the liquid crystal panel is poor.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】そこで、LCDの視野
角を拡大するため、特開平8−313891号公報(G0
2F 1/1335、G02B 5/02、G02B 6/00)や特開平8−33
4751号公報などに開示された技術が提案されてい
る。
In order to increase the viewing angle of the LCD, Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 8-3133891 (G0
2F 1/1335, G02B 5/02, G02B 6/00) and JP-A-8-33
A technique disclosed in, for example, Japanese Patent No. 4751 has been proposed.

【0006】特開平8−313891号公報には、偏光
板が配された前面とその反対側の後面とを有する透過型
の液晶パネルと、後面側に配置されたバックライトと、
前面側に配置され該液晶パネルを透過した照明光を拡散
出射する光拡散手段とを備えたLCDが開示されてい
る。ここで、光拡散手段は、2層以上の樹脂層から構成
され、少なくとも1層の樹脂層には透明な微細粒子が多
層に敷き詰められた光拡散層が形成されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-3133891 discloses a transmissive liquid crystal panel having a front surface on which a polarizing plate is disposed and a rear surface opposite thereto, a backlight disposed on the rear surface side,
There is disclosed an LCD including a light diffusing unit disposed on the front side and diffusing and emitting illumination light transmitted through the liquid crystal panel. Here, the light diffusion means is composed of two or more resin layers, and at least one resin layer is formed with a light diffusion layer in which transparent fine particles are spread in multiple layers.

【0007】また、特開平8−334751号公報に
は、液晶セルの一方の側にバックライト装置が設けら
れ、該液晶セルの他方の側に視野角拡大シートが設けら
れたLCDが開示されている。ここで、視野角拡大シー
トは、透明なマトリックス樹脂中に透明な光拡散粒子が
充填されて構成されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-3344751 discloses an LCD in which a backlight device is provided on one side of a liquid crystal cell and a viewing angle widening sheet is provided on the other side of the liquid crystal cell. I have. Here, the viewing angle widening sheet is configured by filling transparent light diffusing particles in a transparent matrix resin.

【0008】しかし、これら公報に開示された技術には
以下の問題がある。 液晶パネル(液晶セル)の片側に光拡散手段または視
野角拡大シートが配置されていることから、液晶と光拡
散手段または視野角拡大シートとの距離が大きくなる。
従って、コントラストが低下した画面(いわゆる「ぼや
けた」画面)しか得られない。
However, the techniques disclosed in these publications have the following problems. Since the light diffusing means or the viewing angle widening sheet is arranged on one side of the liquid crystal panel (liquid crystal cell), the distance between the liquid crystal and the light diffusing means or the viewing angle widening sheet increases.
Therefore, only a screen with reduced contrast (a so-called "blurred" screen) can be obtained.

【0009】光拡散手段の光拡散層には微細粒子が多
層に敷き詰められている。また、視野角拡大シート中に
は光拡散粒子が充填されている。そのため、液晶パネル
(液晶セル)を透過する光はほぼ全て当該粒子を透過
し、当該粒子を透過しない光はほとんど無いことから、
光の拡散性には優れるものの、液晶パネル(液晶セル)
に対して垂直方向に透過する光量が大幅に減少する。従
って、暗い画面しか得られない。
[0009] The light diffusion layer of the light diffusion means has fine particles spread in multiple layers. Light diffusing particles are filled in the viewing angle widening sheet. Therefore, almost all light transmitted through the liquid crystal panel (liquid crystal cell) is transmitted through the particles, and almost no light is transmitted through the particles.
Liquid crystal panel (liquid crystal cell), although excellent in light diffusion
, The amount of light transmitted vertically is greatly reduced. Therefore, only a dark screen can be obtained.

【0010】上記により、視野角が拡大する反
面、画質が大幅に低下してしまう。本発明は上記問題点
を解決するためになされたものであって、その目的は、
LCDの画質を低下させることなく視野角を拡大するこ
とにある。
As described above, the viewing angle is increased, but the image quality is greatly reduced. The present invention has been made to solve the above problems, and the object is to
An object of the present invention is to increase the viewing angle without lowering the image quality of the LCD.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段および発明の効果】かかる
目的を達成するためになされた請求項1に記載の発明
は、液晶層を介して互いに対向配置された第1または第
2の透明絶縁基板のいずれか一方または両方の液晶層側
の表面に透明粒子を多数個分散配置し、当該透明粒子を
覆うように透明電極を形成した透過型の液晶表示装置を
その要旨とする。
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention The invention according to the first aspect of the present invention, which has been made to achieve the above object, comprises a first or a second transparent insulating substrate arranged to face each other via a liquid crystal layer. A gist of the invention is a transmission type liquid crystal display device in which a large number of transparent particles are dispersed and arranged on one or both surfaces of the liquid crystal layer side and a transparent electrode is formed so as to cover the transparent particles.

【0012】従って、本発明によれば、透明粒子に照射
された光は回折現象によって拡散され、その拡散された
光が透明絶縁基板を透過するため、液晶表示装置の視野
角は拡大され、液晶表示装置の画面に対して斜め方向か
らの視認性を良好にすることができる。そして、液晶層
は薄い透明電極を介して透明粒子と接し、液晶層と透明
粒子との距離が小さいため、コントラストが向上した画
面(いわゆる「明瞭な」画面)を得ることができる。そ
の結果、液晶表示装置の画質を低下させることなく視野
角を拡大することができる。
Therefore, according to the present invention, the light applied to the transparent particles is diffused by the diffraction phenomenon, and the diffused light passes through the transparent insulating substrate. Visibility in an oblique direction with respect to the screen of the display device can be improved. The liquid crystal layer is in contact with the transparent particles via the thin transparent electrode, and the distance between the liquid crystal layer and the transparent particles is small, so that a screen with improved contrast (a so-called “clear” screen) can be obtained. As a result, the viewing angle can be increased without lowering the image quality of the liquid crystal display device.

【0013】次に、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載の液晶表示装置において、前記多数個の透明粒子
は、前記第1または第2の透明絶縁基板の表面に対し
て、ほぼ均一な密度で互いに重なり合うこと無く1層に
分散配置され、前記第1または第2の透明絶縁基板の表
面には前記透明粒子から露出した部分があることをその
要旨とする。
Next, a second aspect of the present invention is the first aspect.
In the liquid crystal display device described in the above, the plurality of transparent particles are dispersedly arranged in one layer without overlapping with each other at a substantially uniform density with respect to the surface of the first or second transparent insulating substrate, The gist is that there is a portion exposed from the transparent particles on the surface of the first or second transparent insulating substrate.

【0014】従って、本発明によれば、透明絶縁基板の
表面には透明粒子から露出した部分があるため、液晶パ
ネルに入射された光のうち、当該露出した部分に入射さ
れた光は、散乱されることなく、透明絶縁基板を透過す
る。そのため、液晶パネルに対して垂直方向に透過する
光量を十分に確保することが可能になり、明るい画面を
得ることができる。その結果、請求項1に記載の発明の
作用・効果に加え、液晶表示装置の画質をより一層高め
ることができる。
Therefore, according to the present invention, since there is a portion exposed from the transparent particles on the surface of the transparent insulating substrate, of the light incident on the liquid crystal panel, the light incident on the exposed portion is scattered. Without being transmitted through the transparent insulating substrate. Therefore, it is possible to sufficiently secure the amount of light transmitted in the vertical direction to the liquid crystal panel, and a bright screen can be obtained. As a result, the image quality of the liquid crystal display device can be further improved in addition to the operation and effect of the invention described in claim 1.

【0015】次に、請求項3に記載の発明は、片面に透
明電極が形成された透明絶縁基板と、片面に反射電極が
形成された絶縁基板とが、透明電極と反射電極とが対向
して配置され、透明絶縁基板と絶縁基板との間隙に液晶
が封入された液層層を備える液晶パネルと、絶縁基板の
液晶層側の表面に、多数個分散配置された粒子とを備
え、当該粒子を覆うように反射電極が形成された反射型
の液晶表示装置をその要旨とする。
Next, according to a third aspect of the present invention, a transparent insulating substrate having a transparent electrode formed on one side and an insulating substrate having a reflective electrode formed on one side face the transparent electrode and the reflective electrode. A liquid crystal panel having a liquid layer filled with liquid crystal in a gap between the transparent insulating substrate and the insulating substrate, and a plurality of particles arranged and dispersed on the surface of the insulating substrate on the liquid crystal layer side. The gist is a reflective liquid crystal display device in which a reflective electrode is formed so as to cover particles.

【0016】従って、本発明によれば、粒子を覆うよう
に反射電極が形成されていることから、反射電極の表面
には当該粒子の形状に沿った凹凸が形成される。そのた
め、反射電極にて反射された光は、反射電極表面の凹凸
によって拡散され、その拡散された光が透明絶縁基板を
透過する。従って、反射電極による光の拡散により、液
晶表示装置の視野角は拡大され、液晶表示装置の画面に
対して斜め方向からの視認性を良好にすることができ
る。その結果、液晶表示装置の画質を低下させることな
く視野角を拡大することができる。
Therefore, according to the present invention, since the reflection electrode is formed so as to cover the particles, irregularities are formed on the surface of the reflection electrode along the shape of the particles. Therefore, the light reflected by the reflective electrode is diffused by unevenness on the surface of the reflective electrode, and the diffused light passes through the transparent insulating substrate. Therefore, the viewing angle of the liquid crystal display device is expanded by the diffusion of light by the reflective electrode, and the visibility of the screen of the liquid crystal display device from an oblique direction can be improved. As a result, the viewing angle can be increased without lowering the image quality of the liquid crystal display device.

【0017】ところで、請求項4に記載の発明のよう
に、請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示装置
において、前記透明粒子または前記粒子は透明シリコン
粒子にしてもよい。また、請求項5に記載の発明のよう
に、請求項4に記載の液晶表示装置の製造方法は、前記
透明絶縁基板または絶縁基板の上にアモルファスシリコ
ン膜を形成する工程と、熱処理を行ってアモルファスシ
リコン膜を加熱溶融させ、その加熱溶融されたアモルフ
ァスシリコン膜を表面張力により多数の溶融液滴に変化
させ、その後に、当該溶融液滴を冷却して再結晶化さ
せ、当該溶融液滴から多数の透明シリコン粒子を形成す
る工程と、前記透明絶縁基板または絶縁基板の上に透明
シリコン粒子を覆う前記透明電極または前記反射電極を
形成する工程とを備えるようにしてもよい。
In the liquid crystal display device according to any one of the first to third aspects, the transparent particles or the particles may be transparent silicon particles. According to a fifth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the fourth aspect, a step of forming an amorphous silicon film on the transparent insulating substrate or the insulating substrate and a heat treatment are performed. The amorphous silicon film is heated and melted, the heated and melted amorphous silicon film is changed into a number of molten droplets by surface tension, and then the molten droplet is cooled and recrystallized, and The method may include a step of forming a large number of transparent silicon particles, and a step of forming the transparent electrode or the reflective electrode covering the transparent silicon particles on the transparent insulating substrate or the insulating substrate.

【0018】このようにすれば、前記透明シリコン粒子
を簡単かつ容易に作成することができる。尚、以下に述
べる発明の実施の形態において、特許請求の範囲または
課題を解決するための手段に記載の「透明粒子」または
「粒子」は透明シリコン粒子13に相当する。
In this case, the transparent silicon particles can be easily and easily produced. In the embodiments of the invention described below, “transparent particles” or “particles” described in claims or means for solving the problems correspond to transparent silicon particles 13.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した第1実
施形態を図面と共に説明する。図1は、第1実施形態の
LCD1の概略断面図である。透過型のLCD1は、液
晶パネル2、偏光板3,4、バックライト5から構成さ
れている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view of the LCD 1 of the first embodiment. The transmissive LCD 1 includes a liquid crystal panel 2, polarizing plates 3 and 4, and a backlight 5.

【0020】液晶パネル2は、透明絶縁基板(例えば、
ガラス基板,石英基板など)11,12、透明シリコン
粒子13、透明電極(例えば、ITOなど)14,1
5、液晶層16から構成されている。透明絶縁基板11
の片面(液晶層16側)には透明電極14が形成されて
いる。
The liquid crystal panel 2 includes a transparent insulating substrate (for example,
Glass substrates, quartz substrates, etc. 11, 12, transparent silicon particles 13, transparent electrodes (for example, ITO, etc.) 14, 1
5. It is composed of a liquid crystal layer 16. Transparent insulating substrate 11
The transparent electrode 14 is formed on one side (the liquid crystal layer 16 side).

【0021】透明絶縁基板12の片面(液晶層16側)
には、多数の透明シリコン粒子13がほぼ均一な密度で
互いに重なり合うこと無く1層に分散配置されている。
そして、各透明シリコン粒子13から露出した透明絶縁
基板12の表面には、各透明シリコン粒子13を覆うよ
うに透明電極15が形成されている。
One side of the transparent insulating substrate 12 (the liquid crystal layer 16 side)
, A large number of transparent silicon particles 13 are dispersedly arranged in one layer at a substantially uniform density without overlapping each other.
A transparent electrode 15 is formed on the surface of the transparent insulating substrate 12 exposed from each transparent silicon particle 13 so as to cover each transparent silicon particle 13.

【0022】各透明絶縁基板11,12はそれぞれの透
明電極14,15側が対向するように配置され、各透明
電極14,15の間隙に液晶が封入されて液晶層16が
形成されている。液晶パネル2における透明絶縁基板1
1側(入射側)には偏光板3が配置され、透明絶縁基板
12側(出射側)には偏光板4が配置されている。そし
て、偏光板3に対向して、略平行光を照射する光源であ
るバックライト5が配置されている。
The transparent insulating substrates 11 and 12 are arranged so that the respective transparent electrodes 14 and 15 face each other, and a liquid crystal is sealed in a gap between the transparent electrodes 14 and 15 to form a liquid crystal layer 16. Transparent insulating substrate 1 in liquid crystal panel 2
The polarizing plate 3 is arranged on one side (incident side), and the polarizing plate 4 is arranged on the transparent insulating substrate 12 side (outgoing side). Further, a backlight 5 which is a light source for irradiating substantially parallel light is disposed opposite to the polarizing plate 3.

【0023】このように構成されたLCD1において、
バックライト5からの光(照明光)は、入射側の偏光板
3を通され、所定の偏光成分の光のみが液晶パネル2に
入射される。ここで、液晶パネル2の各透明電極14,
15間に電圧が印加されていない場合には、液晶層16
中の液晶分子に旋光性が生じ、偏光板3を通して液晶パ
ネル2に入射された光は、液晶層16中を透過する間に
液晶分子の旋光性により90゜旋光されることから、偏
光板4で遮断される。
In the LCD 1 configured as described above,
Light (illumination light) from the backlight 5 passes through the polarizing plate 3 on the incident side, and only light having a predetermined polarization component is incident on the liquid crystal panel 2. Here, each of the transparent electrodes 14 of the liquid crystal panel 2,
When no voltage is applied between the liquid crystal layers 16,
Optical rotation occurs in the liquid crystal molecules therein, and light incident on the liquid crystal panel 2 through the polarizing plate 3 is rotated by 90 ° due to the optical rotation of the liquid crystal molecules while passing through the liquid crystal layer 16. Is shut off by

【0024】そして、液晶パネル2の各透明電極14,
15間に電圧が印加されている場合には、液晶層16中
の液晶分子の旋光性が消失するため、偏光板3を通して
液晶パネル2に入射された光は、偏光板4を透過する。
このとき、透明絶縁基板12の液晶層16側の面には多
数の透明シリコン粒子13がほぼ均一な密度で互いに重
なり合うこと無く1層に分散配置されているため、各透
明シリコン粒子13に照射された光は回折現象によって
拡散され、その拡散された光が透明絶縁基板12から偏
光板4を透過する。従って、各透明シリコン粒子13に
よる光の拡散により、LCD1の視野角は拡大され、L
CD1の画面に対して斜め方向からの視認性を良好にす
ることができる。
The transparent electrodes 14 of the liquid crystal panel 2
When a voltage is applied between the liquid crystal layers 15, the optical rotation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 16 disappears, so that light incident on the liquid crystal panel 2 through the polarizing plate 3 passes through the polarizing plate 4.
At this time, since a large number of transparent silicon particles 13 are dispersed and arranged on the surface of the transparent insulating substrate 12 on the side of the liquid crystal layer 16 at a substantially uniform density without overlapping each other, each transparent silicon particle 13 is irradiated. The diffused light is diffused by a diffraction phenomenon, and the diffused light passes through the polarizing plate 4 from the transparent insulating substrate 12. Therefore, the viewing angle of the LCD 1 is expanded by the diffusion of light by the transparent silicon particles 13, and L
Visibility from an oblique direction with respect to the screen of the CD 1 can be improved.

【0025】そして、液晶層16は薄い透明電極15を
介して各透明シリコン粒子13と接し、液晶層16と各
透明シリコン粒子13との距離が小さいため、コントラ
ストが向上した画面(いわゆる「明瞭な」画面)を得る
ことができる。また、透明絶縁基板12の表面には各透
明シリコン粒子13から露出した部分12aがあるた
め、偏光板3を通して液晶パネル2に入射された光のう
ち、当該部分12aに入射された光は、図示矢印Aに示
すように、散乱されることなく、透明絶縁基板12から
偏光板4を透過する。従って、液晶パネル2に対して垂
直方向(矢印A方向)に透過する光量を十分に確保する
ことが可能になり、明るい画面を得ることができる。
The liquid crystal layer 16 is in contact with each transparent silicon particle 13 via the thin transparent electrode 15, and the distance between the liquid crystal layer 16 and each transparent silicon particle 13 is small. "Screen) can be obtained. Further, since there is a portion 12a exposed from each transparent silicon particle 13 on the surface of the transparent insulating substrate 12, of the light incident on the liquid crystal panel 2 through the polarizing plate 3, the light incident on the portion 12a is not shown in the figure. As shown by the arrow A, the light passes through the polarizing plate 4 from the transparent insulating substrate 12 without being scattered. Therefore, it is possible to sufficiently secure the amount of light transmitted in the vertical direction (the direction of arrow A) with respect to the liquid crystal panel 2, and it is possible to obtain a bright screen.

【0026】以上詳述したように、本第1実施形態のL
CD1によれば、画質を低下させることなく視野角を拡
大することができる。次に、透明シリコン粒子13の作
成方法について、図2に従って説明する。まず、透明絶
縁基板12上にアモルファスシリコン膜17を所定膜厚
だけ堆積させる(図2(a)参照)。尚、アモルファス
シリコン膜17の形成にはどのような方法(例えば、L
PCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)
法,PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Dep
osition)法,PVD(Physical Vapor Deposition)法
など)を用いてもよい。
As described in detail above, L of the first embodiment is
According to CD1, the viewing angle can be increased without deteriorating the image quality. Next, a method of forming the transparent silicon particles 13 will be described with reference to FIG. First, an amorphous silicon film 17 is deposited on the transparent insulating substrate 12 by a predetermined thickness (see FIG. 2A). In addition, what method (for example, L
PCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition)
Method, PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Dep.
osition) method, PVD (Physical Vapor Deposition) method, or the like.

【0027】次に、熱処理を行うことにより、アモルフ
ァスシリコン膜17を加熱溶融させると、アモルファス
シリコン膜17が表面張力により多数の溶融液滴に変化
する。そして、アモルファスシリコンの溶融液滴が冷却
されて再結晶化されると、当該溶融液滴から多数の透明
シリコン粒子13が形成される(図2(b)参照)。
Next, when the amorphous silicon film 17 is heated and melted by performing a heat treatment, the amorphous silicon film 17 changes into a large number of molten droplets due to surface tension. Then, when the molten droplet of the amorphous silicon is cooled and recrystallized, many transparent silicon particles 13 are formed from the molten droplet (see FIG. 2B).

【0028】尚、熱処理にはどのような方法(例えば、
各種レーザ(KrFエキシマレーザ,ArFエキシマレ
ーザ,F2エキシマレーザ,ルビーレーザ,YAGレー
ザ,炭酸ガスレーザなど)を照射するレーザアニール
法,電子ビームアニール法,各種ランプ(超高圧水銀ラ
ンプ,ハロゲンランプ,キセノンショットアークラン
プ,タングステンランプ、赤外光ランプなど)の光を照
射するRTA(Rapidly Thermal Anneal)法,ファーネ
スアニール法(抵抗加熱,高周波加熱,ランプ加熱炉な
ど)など)を用いてもよい。但し、アモルファスシリコ
ン膜17を効率的に加熱溶融させるには、アモルファス
シリコンに良く吸収されるエキシマレーザを用いるEL
A(Excimer Laser Anneal)法が最も有用である。
Note that any method (for example,
Laser annealing method for irradiating various lasers (KrF excimer laser, ArF excimer laser, F 2 excimer laser, ruby laser, YAG laser, carbon dioxide laser, etc.), electron beam annealing method, various lamps (ultra high pressure mercury lamp, halogen lamp, xenon) An RTA (Rapidly Thermal Anneal) method for irradiating light from a shot arc lamp, a tungsten lamp, an infrared light lamp, or the like, a furnace annealing method (resistance heating, high-frequency heating, a lamp heating furnace, or the like) may be used. However, in order to heat and melt the amorphous silicon film 17 efficiently, an EL using an excimer laser well absorbed by the amorphous silicon is used.
The A (Excimer Laser Anneal) method is most useful.

【0029】続いて、PVD法を用い、透明絶縁基板1
2上に透明シリコン粒子13を覆う透明電極15を堆積
させる(図2(c)参照)。このように、透明シリコン
粒子13は簡単かつ容易に作成することができる。尚、
前記熱処理方法として、透明絶縁基板12を不要に加熱
しない方法(例えば、レーザアニール法やRTA法な
ど)を用いれば、透明絶縁基板12に耐熱性の高い高価
な材料を使用しなくてもよくなり、耐熱性の低い安価な
材料を使用できることから、LCD1の製造コストを低
減することができる。
Subsequently, the transparent insulating substrate 1 is formed using the PVD method.
A transparent electrode 15 that covers the transparent silicon particles 13 is deposited on the substrate 2 (see FIG. 2C). As described above, the transparent silicon particles 13 can be easily and easily formed. still,
If a method that does not unnecessarily heat the transparent insulating substrate 12 (for example, a laser annealing method or an RTA method) is used as the heat treatment method, it is not necessary to use an expensive material having high heat resistance for the transparent insulating substrate 12. Since an inexpensive material having low heat resistance can be used, the manufacturing cost of the LCD 1 can be reduced.

【0030】また、前記熱処理としてレーザアニール法
またはRTA法を用いる場合、アモルファスシリコン膜
17中にレーザ光またはランプ光を吸収する不純物(酸
素,窒素,炭素など)の量が多くなると、レーザ光また
はランプ光がアモルファスシリコン膜17に吸収され易
くなり加熱溶融が容易になる。そこで、透明シリコン粒
子13の透明性を低下させないことを条件として、アモ
ルファスシリコン膜17中の不純物の種類および量を適
宜設定することにより、加熱溶融を促進させてもよい。
この場合、不純物を含有するアモルファスシリコンの形
成材料は、不純物の含有量が少なく純度の高いアモルフ
ァスシリコンの形成材料に比べて安価であるため、LC
D1の製造コストを低減することができる。
When the laser annealing method or the RTA method is used as the heat treatment, if the amount of impurities (oxygen, nitrogen, carbon, etc.) that absorbs laser light or lamp light in the amorphous silicon film 17 increases, the laser light or The lamp light is easily absorbed by the amorphous silicon film 17, and the heating and melting are facilitated. Therefore, on condition that the transparency of the transparent silicon particles 13 is not reduced, the type and amount of impurities in the amorphous silicon film 17 may be appropriately set to promote the heating and melting.
In this case, since the material for forming amorphous silicon containing impurities is less expensive than the material for forming amorphous silicon having a low impurity content and high purity, LC
The manufacturing cost of D1 can be reduced.

【0031】図3は、前記熱処理にKrFエキシマレー
ザを用いたELA法を使用した場合における透明シリコ
ン粒子13の形成条件(レーザ光の照射エネルギー密度
に対するレーザショット数)を示す特性図である。アモ
ルファスシリコン膜17の膜厚が異なる場合(70nm
または30nm)、透明シリコン粒子13の形成条件
(図示斜線部分)は若干異なり、膜厚が厚い場合(70
nm)に比べて薄い場合(30nm)には、照射エネル
ギー密度を低くすると共にレーザショット数を少なくし
ても透明シリコン粒子13が形成されることがわかる。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing conditions for forming the transparent silicon particles 13 (the number of laser shots with respect to the irradiation energy density of laser light) when the ELA method using a KrF excimer laser is used for the heat treatment. When the thickness of the amorphous silicon film 17 is different (70 nm
Or 30 nm), the conditions for forming the transparent silicon particles 13 (shaded portions in the figure) are slightly different, and when the thickness is large (
In the case where the thickness is smaller than (nm), the transparent silicon particles 13 are formed even when the irradiation energy density is reduced and the number of laser shots is reduced.

【0032】図4は、図3に示す透明シリコン粒子13
の形成条件における透明シリコン粒子13の粒径分布を
示す特性図である。アモルファスシリコン膜17の膜厚
に関係なく、透明シリコン粒子13の粒径は約300n
m〜約600nmの範囲でほぼ一定であり、この範囲を
外れるものはほとんどないことがわかる。これは、透明
シリコン粒子13の粒径が、加熱溶融されたアモルファ
スシリコンと透明絶縁基板12との濡れ性や、アモルフ
ァスシリコン膜17が溶融してから再結晶化するまでの
時間などによって決定されるためと考えられる。
FIG. 4 shows the transparent silicon particles 13 shown in FIG.
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a particle size distribution of transparent silicon particles 13 under the formation conditions of FIG. Regardless of the thickness of the amorphous silicon film 17, the diameter of the transparent silicon particles 13 is about 300 n.
It is almost constant in the range from m to about 600 nm, and it can be seen that there is hardly anything outside this range. This is because the particle size of the transparent silicon particles 13 is determined by the wettability between the heated and melted amorphous silicon and the transparent insulating substrate 12, the time from the melting of the amorphous silicon film 17 to the recrystallization, and the like. It is thought to be.

【0033】図5は、図3に示す透明シリコン粒子13
の形成条件における透明シリコン粒子13の占有密度を
示す特性図である。尚、透明シリコン粒子13の占有密
度は、透明絶縁基板12表面の単位面積が全て透明シリ
コン粒子13で覆われた場合を占有密度=「1」として
ある。
FIG. 5 shows the transparent silicon particles 13 shown in FIG.
FIG. 4 is a characteristic diagram showing the occupation density of the transparent silicon particles 13 under the formation conditions of FIG. Note that the occupation density of the transparent silicon particles 13 is set to “1” when the unit area of the surface of the transparent insulating substrate 12 is entirely covered with the transparent silicon particles 13.

【0034】透明シリコン粒子13の占有密度はほぼ
0.3〜0.4の範囲内におさまることがわかる。ま
た、アモルファスシリコン膜17の膜厚が異なる場合
(70nmまたは30nm)、透明シリコン粒子13の
占有密度は若干異なり、膜厚が厚い場合(70nm)に
比べて薄い場合(30nm)には、低い照射エネルギー
密度で形成された透明シリコン粒子13の占有密度が小
さくなることがわかる。
It can be seen that the occupation density of the transparent silicon particles 13 falls within a range of about 0.3 to 0.4. When the thickness of the amorphous silicon film 17 is different (70 nm or 30 nm), the occupation density of the transparent silicon particles 13 is slightly different, and when the film thickness is thinner (30 nm) than when the film thickness is thicker (70 nm), the irradiation is lower. It can be seen that the occupation density of the transparent silicon particles 13 formed at the energy density decreases.

【0035】図6は、LCDの視野角に対するコントラ
スト比を示す特性図である。図3に示す透明シリコン粒
子13の形成条件(図示「○」「×」)によれば、アモ
ルファスシリコン膜17の膜厚にはほとんど関係なく、
広い視野角でほぼ均一なコントラスト比が得られること
がわかる。
FIG. 6 is a characteristic diagram showing the contrast ratio with respect to the viewing angle of the LCD. According to the conditions for forming the transparent silicon particles 13 shown in FIG. 3 (“O” and “X” in the figure), the amorphous silicon film 17 has almost no relation to the film thickness.
It can be seen that a substantially uniform contrast ratio can be obtained at a wide viewing angle.

【0036】また、図3に示す透明シリコン粒子13の
形成条件外(図示「△」)では、透明シリコン粒子13
がほとんど形成されないため、アモルファスシリコン膜
17を用いない従来技術のLCD(図示「●」)と同様
に、視野角が狭いことがわかる。
In addition, outside the conditions for forming the transparent silicon particles 13 shown in FIG.
Are almost not formed, so that the viewing angle is narrow as in the case of the conventional LCD (“●” in the figure) in which the amorphous silicon film 17 is not used.

【0037】これら特性図から、図3に示す透明シリコ
ン粒子13の形成条件にて透明シリコン粒子13を形成
すれば、透明シリコン粒子13の粒径(図4参照)およ
び占有密度(図5参照)の違いや、アモルファスシリコ
ン膜17の膜厚にはほとんど関係なく、LCD1の視野
角を拡大できることがわかる。
From these characteristic diagrams, if the transparent silicon particles 13 are formed under the conditions for forming the transparent silicon particles 13 shown in FIG. 3, the particle size (see FIG. 4) and the occupation density (see FIG. 5) of the transparent silicon particles 13 It can be seen that the viewing angle of the LCD 1 can be increased irrespective of the difference between the two and the thickness of the amorphous silicon film 17.

【0038】ここで、前記したように、加熱溶融された
アモルファスシリコン膜17の表面張力によって透明シ
リコン粒子13が形成されるため、透明シリコン粒子1
3の形状は、球体状,回転楕円体状,卵形状,半球体状
などの連続した曲面から構成される形になる。そのた
め、前記した透明シリコン粒子13による光の拡散はス
ムーズに行われる。ちなみに、透明シリコン粒子13の
形状が複数の平面からなる多面体状である場合、全反射
光を生じて光がスムーズに拡散されなくなるため望まし
くない。
Here, as described above, since the transparent silicon particles 13 are formed by the surface tension of the amorphous silicon film 17 melted by heating, the transparent silicon particles 1 are formed.
The shape of 3 is a shape composed of continuous curved surfaces such as a sphere, a spheroid, an egg, and a hemisphere. Therefore, light diffusion by the transparent silicon particles 13 is performed smoothly. Incidentally, when the shape of the transparent silicon particles 13 is a polyhedral shape composed of a plurality of planes, the light is not diffused smoothly due to the generation of total reflection light, which is not desirable.

【0039】そして、アモルファスシリコン膜17の膜
厚の範囲は10nm〜100nmが適当であり、望まし
くは30nm〜70nm、特に望ましくは40nm〜6
0nmである。アモルファスシリコン膜17の膜厚がこ
の範囲より厚くなると、前記した熱処理方法では現在の
ところアモルファスシリコン膜17を確実に加熱溶融さ
せることが難しくなるという傾向がある。また、アモル
ファスシリコン膜17の膜厚がこの範囲より薄くなる
と、加熱溶融されたアモルファスシリコンが散ってしま
うことから、透明シリコン粒子13が形成されなくなる
傾向がある。
The thickness range of the amorphous silicon film 17 is suitably from 10 nm to 100 nm, preferably from 30 nm to 70 nm, particularly preferably from 40 nm to 6 nm.
0 nm. If the thickness of the amorphous silicon film 17 is larger than this range, it tends to be difficult to reliably heat and melt the amorphous silicon film 17 with the above-described heat treatment method at present. On the other hand, if the thickness of the amorphous silicon film 17 is smaller than this range, the amorphous silicon melted by heating is scattered, so that the transparent silicon particles 13 tend not to be formed.

【0040】また、透明シリコン粒子13の粒径の範囲
は100nm〜500nmが適当であり、望ましくは2
00nm〜400nm、特に望ましくは300nm〜3
50nmである。透明シリコン粒子13の粒径がこの範
囲より大きくなると、液晶パネル2に対して垂直方向に
透過する光量が減少し、画面が暗くなって表示品位が低
下するという傾向がある。また、透明シリコン粒子13
の粒径がこの範囲より小さくなると、各透明シリコン粒
子13により回折される光量が減少し、視野角拡大効果
が損なわれるという傾向がある。
Further, the range of the particle size of the transparent silicon particles 13 is preferably 100 nm to 500 nm, and more preferably 2 nm to 500 nm.
00 nm to 400 nm, particularly preferably 300 nm to 3
50 nm. If the particle size of the transparent silicon particles 13 is larger than this range, the amount of light transmitted in the direction perpendicular to the liquid crystal panel 2 decreases, and the screen tends to be dark and the display quality tends to deteriorate. In addition, the transparent silicon particles 13
If the particle size of the transparent silicon particles 13 is smaller than this range, the amount of light diffracted by each transparent silicon particle 13 decreases, and the viewing angle expanding effect tends to be impaired.

【0041】また、透明シリコン粒子13の占有密度の
範囲は、透明絶縁基板12表面の単位面積が全て透明シ
リコン粒子13で覆われた場合を占有密度=「1」とす
ると、0.1〜0.5が適当であり、望ましくは0.2
〜0.4、特に望ましくは0.3〜0.4である。透明
シリコン粒子13の占有密度がこの範囲より大きくなる
と、液晶パネル2に対して垂直方向に透過する光量が減
少して画面が暗くなる傾向がある。また、透明シリコン
粒子13の占有密度がこの範囲より小さくなると、LC
D1の視野角拡大効果を十分に得られなくなる傾向があ
る。
The occupation density of the transparent silicon particles 13 ranges from 0.1 to 0, assuming that the occupation density = “1” when the entire unit area of the surface of the transparent insulating substrate 12 is covered with the transparent silicon particles 13. .5 is suitable, preferably 0.2
-0.4, particularly preferably 0.3-0.4. If the occupation density of the transparent silicon particles 13 is larger than this range, the amount of light transmitted in a direction perpendicular to the liquid crystal panel 2 decreases, and the screen tends to be dark. If the occupation density of the transparent silicon particles 13 is smaller than this range, LC
There is a tendency that the viewing angle enlarging effect of D1 cannot be sufficiently obtained.

【0042】尚、本発明は上記第1実施形態に限定され
るものではなく、以下のように具体化してもよく、その
場合でも、上記第1実施形態と同等もしくはそれ以上の
作用・効果を得ることができる。 (1)図7(a)は、第2実施形態のLCD21の概略
断面図である。
The present invention is not limited to the above-described first embodiment, but may be embodied as follows. Even in such a case, the same operation or effect as or more than that of the first embodiment can be obtained. Obtainable. (1) FIG. 7A is a schematic sectional view of the LCD 21 of the second embodiment.

【0043】LCD21において、図1に示した第1実
施形態のLCD1と異なるのは、透明絶縁基板12側で
はなく、透明絶縁基板11側に多数の透明シリコン粒子
13が配置されている点である。つまり、透明絶縁基板
11の片面(液晶層16側)には、多数の透明シリコン
粒子13がほぼ均一な密度で互いに重なり合うこと無く
1層に分散配置されている。そして、各透明シリコン粒
子13から露出した透明絶縁基板11の表面には、各透
明シリコン粒子13を覆うように透明電極14が形成さ
れている。一方、透明絶縁基板12の片面(液晶層16
側)には、透明シリコン粒子13は配置されておらず、
透明電極15のみが形成されている。
The LCD 21 differs from the LCD 1 of the first embodiment shown in FIG. 1 in that many transparent silicon particles 13 are arranged on the transparent insulating substrate 11 side, not on the transparent insulating substrate 12 side. . That is, on one surface (the liquid crystal layer 16 side) of the transparent insulating substrate 11, a large number of transparent silicon particles 13 are dispersedly arranged in one layer at a substantially uniform density without overlapping each other. On the surface of the transparent insulating substrate 11 exposed from each transparent silicon particle 13, a transparent electrode 14 is formed so as to cover each transparent silicon particle 13. On the other hand, one surface of the transparent insulating substrate 12 (the liquid crystal layer 16
Side), no transparent silicon particles 13 are arranged,
Only the transparent electrode 15 is formed.

【0044】図7(b)は、第3実施形態のLCD31
の概略断面図である。LCD31において、図1に示し
た第1実施形態のLCD1と異なるのは、透明絶縁基板
12側だけでなく、透明絶縁基板11側にも多数の透明
シリコン粒子13が配置されている点である。つまり、
LCD31は、第1実施形態と第2実施形態とを併用し
た構造になっている。
FIG. 7B shows an LCD 31 according to the third embodiment.
FIG. The LCD 31 differs from the LCD 1 of the first embodiment shown in FIG. 1 in that many transparent silicon particles 13 are arranged not only on the transparent insulating substrate 12 side but also on the transparent insulating substrate 11 side. That is,
The LCD 31 has a structure combining the first embodiment and the second embodiment.

【0045】第1〜第3実施形態に示すように、透明シ
リコン粒子13は各透明絶縁基板11,12の少なくと
もいずれか一方に配置されていればよく、そのいずれの
場合でも第1実施形態と同様の作用・効果を得ることが
できる。 (2)図8は、第4実施形態のLCD41の概略断面図
である。
As shown in the first to third embodiments, the transparent silicon particles 13 need only be disposed on at least one of the transparent insulating substrates 11 and 12, and in any case, the transparent silicon particles 13 are different from those of the first embodiment. Similar functions and effects can be obtained. (2) FIG. 8 is a schematic sectional view of the LCD 41 of the fourth embodiment.

【0046】反射型のLCD41において、図1に示し
た第1実施形態の透過型のLCD1と異なるのは、偏光
板3およびバックライト5が省かれ、透明電極14が反
射電極(アルミニウム合金など)42に置き換えられ、
透明絶縁基板11側に多数の透明シリコン粒子13が配
置されている点である。
The reflective LCD 41 is different from the transmissive LCD 1 of the first embodiment shown in FIG. 1 in that the polarizing plate 3 and the backlight 5 are omitted and the transparent electrode 14 is a reflective electrode (such as an aluminum alloy). 42
The point is that a number of transparent silicon particles 13 are arranged on the transparent insulating substrate 11 side.

【0047】つまり、反射型のLCD41は、液晶パネ
ル2および偏光板4から構成されている。液晶パネル2
は、透明絶縁基板11,12、透明シリコン粒子13、
透明電極14、反射電極42、液晶層16から構成され
ている。
That is, the reflection type LCD 41 is composed of the liquid crystal panel 2 and the polarizing plate 4. LCD panel 2
Are transparent insulating substrates 11 and 12, transparent silicon particles 13,
It comprises a transparent electrode 14, a reflective electrode 42, and a liquid crystal layer 16.

【0048】透明絶縁基板11の片面(液晶層16側)
には、多数の透明シリコン粒子13がほぼ均一な密度で
互いに重なり合うこと無く1層に分散配置されている。
そして、各透明シリコン粒子13から露出した透明絶縁
基板11の表面には、各透明シリコン粒子13を覆うよ
うに反射電極42が形成されている。尚、反射電極42
の形成にはPVD法を用いればよい。
One side of the transparent insulating substrate 11 (the liquid crystal layer 16 side)
, A large number of transparent silicon particles 13 are dispersedly arranged in one layer at a substantially uniform density without overlapping each other.
A reflective electrode 42 is formed on the surface of the transparent insulating substrate 11 exposed from each transparent silicon particle 13 so as to cover each transparent silicon particle 13. The reflection electrode 42
The PVD method may be used for the formation.

【0049】透明絶縁基板12の片面(液晶層16側)
には、透明シリコン粒子13は配置されておらず、透明
電極15のみが形成されている。液晶パネル2における
透明絶縁基板12側(入射側)には偏光板4が配置され
ている。
One side of the transparent insulating substrate 12 (the liquid crystal layer 16 side)
No transparent silicon particles 13 are arranged, and only a transparent electrode 15 is formed. The polarizing plate 4 is disposed on the liquid crystal panel 2 on the side of the transparent insulating substrate 12 (incident side).

【0050】このように構成されたLCD41におい
て、液晶パネル2の各電極14,42間に電圧が印加さ
れていない場合には、液晶層16中の液晶分子に旋光性
が生じ、偏光板4を通して液晶パネル2に入射された後
に反射電極42にて反射された光は、液晶層16中を透
過する間に液晶分子の旋光性により90゜旋光されるこ
とから、偏光板4で遮断される。
In the LCD 41 configured as described above, when no voltage is applied between the electrodes 14 and 42 of the liquid crystal panel 2, optical rotation occurs in the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 16 and passes through the polarizing plate 4. The light reflected by the reflection electrode 42 after being incident on the liquid crystal panel 2 is rotated by 90 ° due to the optical rotation of the liquid crystal molecules while passing through the liquid crystal layer 16, and is thus blocked by the polarizing plate 4.

【0051】そして、液晶パネル2の各電極14,42
間に電圧が印加されている場合には、液晶層16中の液
晶分子の旋光性が消失するため、偏光板4を通して液晶
パネル2に入射された後に反射電極42にて反射された
光は、偏光板4を透過する。このとき、透明絶縁基板1
2の液晶層16側の面には多数の透明シリコン粒子13
がほぼ均一な密度で互いに重なり合うことなく1層に分
散配置され、各透明シリコン粒子13を覆うように反射
電極42が形成されていることから、反射電極42の表
面には、透明シリコン粒子13の形状に沿った凹凸が形
成されている。そのため、反射電極42にて反射された
光は、反射電極42表面の凹凸によって拡散され、その
拡散された光が透明絶縁基板12から偏光板4を透過す
る。従って、反射電極42による光の拡散により、LC
D41の視野角は拡大され、LCD41の画面に対して
斜め方向からの視認性を良好にすることができる。
Then, the respective electrodes 14 and 42 of the liquid crystal panel 2
When a voltage is applied therebetween, the optical rotation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 16 disappears, so that the light reflected by the reflective electrode 42 after being incident on the liquid crystal panel 2 through the polarizing plate 4 is: The light passes through the polarizing plate 4. At this time, the transparent insulating substrate 1
2 has a large number of transparent silicon particles 13 on the surface on the liquid crystal layer 16 side.
Are distributed in one layer without overlapping with each other at a substantially uniform density, and the reflective electrode 42 is formed so as to cover each transparent silicon particle 13. Irregularities along the shape are formed. Therefore, the light reflected by the reflective electrode 42 is diffused by unevenness on the surface of the reflective electrode 42, and the diffused light passes through the polarizing plate 4 from the transparent insulating substrate 12. Therefore, the diffusion of light by the reflective electrode 42 causes
The viewing angle of D41 is enlarged, and the visibility of the LCD 41 from oblique directions can be improved.

【0052】このように、本第4実施形態のLCD41
によれば、画質を低下させることなく視野角を拡大する
ことができる。尚、LCD41において、透明シリコン
粒子13は反射電極42に覆われるため、透明である必
要はなく、その作成にあたっては透明性の確保に留意し
なくてもよい。また、透明シリコン粒子13を、他の適
宜な粒子(例えば、プラスチックビーズ,ガラスビー
ズ,セラミックビーズ,各種金属粒子など)に置き換え
てもよく、当該粒子は透明である必要はない。そして、
透明絶縁基板11についても透明である必要はない。
As described above, the LCD 41 of the fourth embodiment is
According to this, the viewing angle can be increased without lowering the image quality. In the LCD 41, since the transparent silicon particles 13 are covered with the reflective electrode 42, the transparent silicon particles 13 do not need to be transparent. Further, the transparent silicon particles 13 may be replaced with other appropriate particles (for example, plastic beads, glass beads, ceramic beads, various metal particles, and the like), and the particles need not be transparent. And
The transparent insulating substrate 11 does not need to be transparent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を具体化した第1実施形態の概略断面
図。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a first embodiment embodying the present invention.

【図2】各実施形態の透明シリコン粒子の作成方法を説
明するための概略断面図。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining a method for producing transparent silicon particles of each embodiment.

【図3】第1実施形態の作用を説明するための特性図。FIG. 3 is a characteristic diagram for explaining the operation of the first embodiment.

【図4】第1実施形態の作用を説明するための特性図。FIG. 4 is a characteristic diagram for explaining the operation of the first embodiment.

【図5】第1実施形態の作用を説明するための特性図。FIG. 5 is a characteristic diagram for explaining the operation of the first embodiment.

【図6】第1実施形態の作用を説明するための特性図。FIG. 6 is a characteristic diagram for explaining the operation of the first embodiment.

【図7】図7(a)は本発明を具体化した第2実施形態
の概略断面図。図7(b)は本発明を具体化した第3実
施形態の概略断面図。
FIG. 7A is a schematic cross-sectional view of a second embodiment embodying the present invention. FIG. 7B is a schematic sectional view of a third embodiment embodying the present invention.

【図8】本発明を具体化した第4実施形態の概略断面
図。
FIG. 8 is a schematic sectional view of a fourth embodiment embodying the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,21,31,41…液晶表示装置(LCD) 2…液晶パネル 3,4…偏光板 5…バックライト 11,12…透明絶縁基板 13…透明シリコン粒子 14,15…透明電極 16…液晶層 17…アモルファスシリコン膜 42…反射電極 1, 21, 31, 41: Liquid crystal display (LCD) 2: Liquid crystal panel 3, 4: Polarizer 5: Backlight 11, 12: Transparent insulating substrate 13: Transparent silicon particles 14, 15, Transparent electrode 16: Liquid crystal layer 17: amorphous silicon film 42: reflective electrode

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶層を介して互いに対向配置された第
1または第2の透明絶縁基板のいずれか一方または両方
の液晶層側の表面に透明粒子を多数個分散配置し、当該
透明粒子を覆うように透明電極を形成したことを特徴と
する透過型の液晶表示装置。
1. A method in which a large number of transparent particles are dispersed and arranged on one or both surfaces of a liquid crystal layer of a first or second transparent insulating substrate opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. A transmissive liquid crystal display device comprising a transparent electrode formed so as to cover the liquid crystal display device.
【請求項2】 請求項1に記載の液晶表示装置におい
て、 前記多数個の透明粒子は、前記第1または第2の透明絶
縁基板の表面に対して、ほぼ均一な密度で互いに重なり
合うこと無く1層に分散配置され、前記第1または第2
の透明絶縁基板の表面には前記透明粒子から露出した部
分があることを特徴とする液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the plurality of transparent particles have a substantially uniform density with respect to a surface of the first or second transparent insulating substrate without overlapping each other. Dispersed in layers, the first or second
A liquid crystal display device characterized in that the surface of the transparent insulating substrate of (1) has a portion exposed from the transparent particles.
【請求項3】 片面に透明電極が形成された透明絶縁基
板と、片面に反射電極が形成された絶縁基板とが、透明
電極と反射電極とが対向して配置され、透明絶縁基板と
絶縁基板との間隙に液晶が封入された液層層を備える液
晶パネルと、 絶縁基板の液晶層側の表面に、多数個分散配置された粒
子とを備え、 当該粒子を覆うように反射電極が形成されたことを特徴
とする反射型の液晶表示装置。
3. A transparent insulating substrate having a transparent electrode formed on one surface and an insulating substrate having a reflective electrode formed on one surface, wherein the transparent electrode and the reflective electrode are arranged to face each other. A liquid crystal panel having a liquid layer in which liquid crystal is sealed in a gap between the liquid crystal layer and a plurality of particles dispersedly arranged on the surface of the insulating substrate on the liquid crystal layer side, and a reflective electrode is formed so as to cover the particles. A reflective liquid crystal display device.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項に記載の液
晶表示装置において、 前記透明粒子または前記粒子は、透明シリコン粒子であ
ることを特徴とする反射型の液晶表示装置。
4. The reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the transparent particles or the particles are transparent silicon particles.
【請求項5】 請求項4に記載の液晶表示装置の製造方
法であって、 前記透明絶縁基板または絶縁基板の上にアモルファスシ
リコン膜を形成する工程と、 熱処理を行ってアモルファスシリコン膜を加熱溶融さ
せ、その加熱溶融されたアモルファスシリコン膜を表面
張力により多数の溶融液滴に変化させ、その後に、当該
溶融液滴を冷却して再結晶化させ、当該溶融液滴から多
数の透明シリコン粒子を形成する工程と、 前記透明絶縁基板または絶縁基板の上に透明シリコン粒
子を覆う前記透明電極または前記反射電極を形成する工
程とを備えたことを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
5. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 4, wherein: a step of forming an amorphous silicon film on the transparent insulating substrate or the insulating substrate; and performing heat treatment to heat and melt the amorphous silicon film. Then, the heated and melted amorphous silicon film is changed into a large number of molten droplets by surface tension, and then the molten droplet is cooled and recrystallized, and a large number of transparent silicon particles are formed from the molten droplet. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a forming step; and a step of forming the transparent electrode or the reflective electrode that covers transparent silicon particles on the transparent insulating substrate or the insulating substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110189628A (en) * 2019-06-28 2019-08-30 京东方科技集团股份有限公司 A kind of backlight module and display device
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