JP2001089449A - Production of 4,7-dioxo-5-azaspiro[2,4]heptane derivative - Google Patents

Production of 4,7-dioxo-5-azaspiro[2,4]heptane derivative

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JP2001089449A
JP2001089449A JP27104499A JP27104499A JP2001089449A JP 2001089449 A JP2001089449 A JP 2001089449A JP 27104499 A JP27104499 A JP 27104499A JP 27104499 A JP27104499 A JP 27104499A JP 2001089449 A JP2001089449 A JP 2001089449A
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JP
Japan
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compound
general formula
group
protecting group
amino group
Prior art date
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Pending
Application number
JP27104499A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukinari Kobayashi
幸業 小林
Koji Sato
耕司 佐藤
Toshifumi Akiba
敏文 秋葉
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Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Daiichi Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an intermediate for an anti-bacterial medicine. SOLUTION: This method for producing a compound expressed by a general formula (III) (R1 is a blocking group for amino group) is provided by halogenating a compound expressed by a general formula (I) to obtain a compound expressed by a general formula (II) (X1 is a halogen atom) and then ring-opening it.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、抗菌性化合物の製造方
法及びその製造中間体に関する。
The present invention relates to a method for producing an antibacterial compound and an intermediate for producing the compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】7−(7−アミノ−5−アザスピロ
[2,4]ヘプタン−5−イル)−8−クロロ−6−フ
ルオロ−1−(1,2−シス−2−フルオロシクロプロ
ピル)−4−オキソ−1,4−ジヒドロキノリン−3−
カルボン酸(特開平2−231475号公報参照)は高
い抗菌活性を有する化合物として知られている。この抗
菌剤の製造中間体として、一般式(III)
2. Description of the Prior Art 7- (7-Amino-5-azaspiro [2,4] heptane-5-yl) -8-chloro-6-fluoro-1- (1,2-cis-2-fluorocyclopropyl) -4-oxo-1,4-dihydroquinoline-3-
Carboxylic acids (see JP-A-2-231475) are known as compounds having high antibacterial activity. As an intermediate for producing this antibacterial agent, a compound represented by the general formula (III)

【0003】[0003]

【化10】 (式中、R1は、アミノ基の保護基を意味する。)で表
される化合物(以下、化合物(III)と表す。また、
他の一般式で表される化合物も同様にして表す。)は有
用である。化合物(III)の製造方法としては下記に
示す方法が知られていた(特開平5−221947号公
報参照)。
Embedded image (Wherein, R 1 represents a protecting group for an amino group) (hereinafter, referred to as compound (III).
Compounds represented by other general formulas are similarly represented. ) Is useful. The following method has been known as a method for producing compound (III) (see JP-A-5-221947).

【0004】[0004]

【化11】 (式中、Bnは、ベンジル基を意味する。) この製造方法では、カルボニル基を保護した後、ハロゲ
ン化反応を行うため保護・脱保護の工程が必要であり、
工程数が多く工業的製法としては改良の余地があった。
Embedded image (In the formula, Bn means a benzyl group.) In this production method, after the carbonyl group is protected, a step of protection / deprotection is required to perform a halogenation reaction.
There are many steps and there is room for improvement as an industrial production method.

【0005】また、特開平5−286933号公報に
は、1−アセチル−1−ベンジルアミノカルボニルシク
ロブタンを臭素化(1,4−ジオキサン中で臭素で処
理)し、1−ベンジルアミノカルボニル−1−ブロモメ
チルカルボニルシクロブタンを得た後、閉環して6−ベ
ンジル−5,8−ジオキソ−6−アザスピロ[3,4]
オクタンを得る製法が記載されている。しかし、1−ア
セチル−1−ベンジルアミノカルボニルシクロプロパン
をこの公報記載の方法で臭素化しようとすると、化合物
が分解してしまい目的物が得られなかった。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-286933 discloses that 1-acetyl-1-benzylaminocarbonylcyclobutane is brominated (treated with bromine in 1,4-dioxane) to give 1-benzylaminocarbonyl-1-butane. After obtaining bromomethylcarbonylcyclobutane, the ring is closed to give 6-benzyl-5,8-dioxo-6-azaspiro [3,4].
A process for obtaining octane is described. However, when brominating 1-acetyl-1-benzylaminocarbonylcyclopropane by the method described in this publication, the compound was decomposed and the desired product could not be obtained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本願発明は、抗菌薬の
中間体として重要な化合物を従来の方法に比べ短工程で
製造する工業的製法として有用な方法である。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is a useful method as an industrial production method for producing an important compound as an intermediate of an antibacterial drug in a shorter step than conventional methods.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本願発明は、一般式(I)BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention relates to a compound of the general formula (I)

【0008】[0008]

【化12】 (式中、R1は、アミノ基の保護基を意味する。)で表
される化合物をハロゲン化し、一般式(II)
Embedded image (Wherein, R 1 represents a protecting group for an amino group), and the compound represented by the general formula (II) is halogenated.

【0009】[0009]

【化13】 (式中、X1はハロゲン原子を意味し、R1は、アミノ基
の保護基を意味する。)で表される化合物とした後、閉
環させることを特徴とする一般式(III)
Embedded image (Wherein X 1 represents a halogen atom, R 1 represents a protecting group for an amino group), and then ring-closing, wherein the compound is represented by the general formula (III):

【0010】[0010]

【化14】 (式中、R1は、アミノ基の保護基を意味する。)で表
される化合物の製造方法に関する。
Embedded image (Wherein, R 1 represents a protecting group for an amino group).

【0011】また、一般式(I)で表される化合物をハ
ロゲン化することを特徴とする、一般式(II)で表さ
れる化合物の製造方法に関する。さらに、一般式(I
I)で表される化合物を閉環させることを特徴とする一
般式(III)で表される化合物の製造方法に関する。
あるいは、一般式(IV)
Further, the present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (II), comprising halogenating the compound represented by the general formula (I). Furthermore, the general formula (I
The present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (III), wherein the compound represented by I) is closed.
Alternatively, the general formula (IV)

【0012】[0012]

【化15】 (式中、X2は、ハロゲン原子を意味し、R1は、アミノ
基の保護基を意味する。)で表される化合物を脱保護す
ることを特徴とする一般式(II−1)
Embedded image Wherein X 2 represents a halogen atom and R 1 represents a protecting group for an amino group. The compound represented by the general formula (II-1):

【0013】[0013]

【化16】 (式中、X2は、ハロゲン原子を意味し、R1は、アミノ
基の保護基を意味する。)で表される化合物の製造方法
に関する。
Embedded image (Wherein, X 2 represents a halogen atom, and R 1 represents an amino-protecting group).

【0014】そして、一般式(II−1)で表される化
合物に関する。また、ハロゲン化をアルコール中で行う
ことを特徴とする上記製造方法に関する。さらに、脱保
護を過塩素酸で行うことを特徴とする上記製造方法に関
する。
Further, the present invention relates to a compound represented by the general formula (II-1). Further, the present invention relates to the above production method, wherein the halogenation is performed in an alcohol. Further, the present invention relates to the above-mentioned production method, wherein the deprotection is performed with perchloric acid.

【0015】以下に本願発明の一般式中で用いる置換基
の定義を説明する。R1は、アミノ基の保護基を意味す
るが、アミノ基の保護基は、この分野で通常用いられて
いる基であれば特に限定されない。アミノ基の保護基と
しては、ベンジル基、フェニルエチル基(いずれもベン
ゼン環に置換基、例えば、p−メトキシ基等の低級アル
コキシル基、p−ニトロ基等を有していてもよい。)等
の置換基を有していてもよいアラルキル基、トリチル
基、ベンズヒドリル基、または低級アルキル基等を挙げ
ることができる。R1としては、置換基を有していても
よいアラルキル基が好ましく、特にベンジル基が好まし
い。X1のハロゲン原子としては、臭素原子が好まし
い。X2のハロゲン原子としては、塩素原子または臭素
原子が好ましい。次に、本願発明である製造方法の各工
程を詳細に説明する。
The definition of the substituent used in the general formula of the present invention will be described below. R 1 means an amino-protecting group, but the amino-protecting group is not particularly limited as long as it is a group usually used in this field. Examples of the amino-protecting group include a benzyl group and a phenylethyl group (each of which may have a substituent on the benzene ring, for example, a lower alkoxyl group such as a p-methoxy group, a p-nitro group, etc.). And an optionally substituted aralkyl group, trityl group, benzhydryl group, lower alkyl group and the like. R 1 is preferably an aralkyl group which may have a substituent, particularly preferably a benzyl group. The halogen atom of X 1, a bromine atom. As the halogen atom for X 2 , a chlorine atom or a bromine atom is preferable. Next, each step of the manufacturing method according to the present invention will be described in detail.

【0016】化合物(I)から化合物(II)への工程 本工程では、化合物(I)をハロゲン化することにより
化合物(II)を得ることができる。ハロゲン化は、化
合物(I)を溶媒中、特にアルコール中、ハロゲン化試
薬で処理することにより行うことができる。使用できる
溶媒としては、反応に対して不活性であればいずれの溶
媒も使用できるが、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、t−ブタノール等のアルコー
ルが好ましい。また、2種以上のアルコールを組み合わ
せて使用してもよい。アルコールとしては、メタノー
ル、エタノールが好ましい。ハロゲン化試薬としては、
塩素、臭素、ピリジニウムトリブロミド、N−ブロモス
クシンイミド(NBS)、N−クロロスクシンイミド
(NCS)等を挙げることができるが、特に臭素が好ま
しい。ハロゲン化試薬は、化合物(I)に対して1当量
から大過剰の範囲で使用すれば良く、好ましくは1当量
から2当量使用すればよい。反応温度は、通常−78℃
から溶媒の沸点の範囲で、好ましくは0℃から30℃の
範囲である。反応時間は、反応温度に依存するが、通常
30分から24時間の範囲で、好ましくは1時間から5
時間の範囲である。
Step of converting compound (I) to compound (II) In this step, compound (II) can be obtained by halogenating compound (I). The halogenation can be carried out by treating compound (I) with a halogenating reagent in a solvent, particularly in an alcohol. As a solvent that can be used, any solvent can be used as long as it is inert to the reaction, but alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and t-butanol are preferable. Further, two or more alcohols may be used in combination. As the alcohol, methanol and ethanol are preferable. As the halogenating reagent,
Chlorine, bromine, pyridinium tribromide, N-bromosuccinimide (NBS), N-chlorosuccinimide (NCS) and the like can be mentioned, with bromine being particularly preferred. The halogenating reagent may be used in a range of 1 equivalent to a large excess with respect to compound (I), and preferably 1 equivalent to 2 equivalents. The reaction temperature is usually −78 ° C.
To the boiling point of the solvent, preferably from 0 ° C to 30 ° C. The reaction time depends on the reaction temperature, but is usually in the range of 30 minutes to 24 hours, preferably 1 hour to 5 hours.
Time range.

【0017】化合物(II)から化合物(III)への
工程 化合物(II)を閉環させることにより、化合物(II
I)を得ることができる。閉環は、化合物(II)を溶
媒中、塩基で処理すればよい。使用できる溶媒として
は、反応に対して不活性であればいずれの溶媒も使用で
き、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
(THF)、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン等
のエーテル系溶媒;クロロホルム、メチレンクロリド、
エチレンクロリド等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジメ
チルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド
(DMAC)等のアミド系溶媒;アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等のニトリル系溶媒を挙げることができ
る。また以上の溶媒2種以上を組み合わせた混合溶媒で
あってもよい。溶媒としては、エーテル系溶媒、アミド
系溶媒が好ましく、特にテトラヒドロフラン(TH
F)、ジメチルホルムアミド(DMF)が好ましい。
Conversion of compound (II) to compound (III)
Step Compound (II) is closed to give compound (II)
I) can be obtained. The ring closure may be carried out by treating compound (II) with a base in a solvent. As a solvent that can be used, any solvent can be used as long as it is inert to the reaction. For example, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF), dimethoxyethane, and 1,4-dioxane; chloroform, methylene chloride ,
Examples include halogenated hydrocarbon solvents such as ethylene chloride; amide solvents such as dimethylformamide (DMF) and dimethylacetamide (DMAC); and nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile. Further, a mixed solvent obtained by combining two or more of the above solvents may be used. As the solvent, ether solvents and amide solvents are preferable, and particularly, tetrahydrofuran (TH
F), dimethylformamide (DMF) is preferred.

【0018】塩基としては、無機塩基、有機塩基のいず
れでも使用できる。無機塩基としては、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネ
シウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等を挙げることができる。有
機塩基としては、ジイソプロピルエチルアミン、1,8
−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の
アミン系;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、t−ブトキシカリウム、マグネシウムエトキシド等
のアルコキシド系;n−ブチルリチウム、メチルリチウ
ム、t−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム等の
アルキルリチウム系;その他リチウムジイソプロピルア
ミド(LDA)等を挙げることができる。本工程で用い
る塩基としては、アルコキシド系若しくはアルキルリチ
ウム系の有機塩基または無機塩基が好ましく、特に水素
化ナトリウムが好ましい。塩基は、化合物(II)に対
して1当量から大過剰の範囲で使用すれば良く、好まし
くは1当量から2当量使用すればよい。反応温度は、通
常−78℃から溶媒の沸点の範囲で、好ましくは−20
℃から30℃の範囲である。反応時間は、反応温度に依
存するが、通常5分から24時間の範囲で、好ましくは
5分から2時間の範囲である。本願発明である化合物
(III)の製造方法の中間体である化合物(II)は
新規化合物であり、化合物(II)は化合物(IV)か
らも製造することができる。
As the base, either an inorganic base or an organic base can be used. Examples of the inorganic base include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride, and the like. Can be. As the organic base, diisopropylethylamine, 1,8
Amines such as -diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene; alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, magnesium ethoxide; n-butyllithium, methyllithium, t-butyl Alkyl lithiums such as lithium and sec-butyllithium; and lithium diisopropylamide (LDA). The base used in this step is preferably an alkoxide-based or alkyllithium-based organic or inorganic base, and particularly preferably sodium hydride. The base may be used in the range of 1 equivalent to a large excess with respect to compound (II), and preferably 1 equivalent to 2 equivalents. The reaction temperature is usually in the range of -78 ° C to the boiling point of the solvent, preferably -20 ° C.
In the range of 30 ° C to 30 ° C. The reaction time depends on the reaction temperature, but is usually in the range of 5 minutes to 24 hours, preferably in the range of 5 minutes to 2 hours. Compound (II), which is an intermediate in the method for producing compound (III) of the present invention, is a novel compound, and compound (II) can also be produced from compound (IV).

【0019】化合物(IV)から化合物(II−1)へ
の工程 化合物(IV)を脱保護することにより、化合物(II
−1)を得ることができる。脱保護は、化合物(IV)
を溶媒中、酸で処理すればよい。使用できる溶媒として
は、反応に対して不活性であればいずれの溶媒も使用で
き、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール、t−ブタノール等のアルコール系溶
媒;ジエチルエーテル(単にエーテルと略す)、テトラ
ヒドロフラン(THF)、ジメトキシエタン、1,4−
ジオキサン等のエーテル系溶媒;クロロホルム、メチレ
ンクロリド、エチレンクロリド等のハロゲン化炭化水素
系溶媒;ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルア
セトアミド(DMAC)等のアミド系溶媒;アセトニト
リル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒;酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等
のケトン系溶媒;水を挙げることができる。また以上の
溶媒2種以上を組み合わせた混合溶媒であっても良い。
溶媒としては、ハロゲン化炭化水素系溶媒が好ましく、
特にクロロホルム、メチレンクロリドが好ましい。
From compound (IV) to compound (II-1)
The compound (II) is deprotected to give the compound (II)
-1) can be obtained. Deprotection is carried out using compound (IV)
May be treated with an acid in a solvent. As a solvent that can be used, any solvent can be used as long as it is inert to the reaction. For example, alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and t-butanol; diethyl ether (abbreviated simply as ether); tetrahydrofuran (THF), dimethoxyethane, 1,4-
Ether solvents such as dioxane; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, methylene chloride and ethylene chloride; amide solvents such as dimethylformamide (DMF) and dimethylacetamide (DMAC); nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile Ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; and water. Further, a mixed solvent obtained by combining two or more of the above solvents may be used.
As the solvent, a halogenated hydrocarbon solvent is preferable,
Particularly, chloroform and methylene chloride are preferred.

【0020】酸としては、無機酸、有機酸のいずれでも
使用できる。無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、過塩
素酸等を挙げることができ、有機酸としては酢酸、トリ
フルオロ酢酸、トシル酸、トシル酸・1水和物、ピリジ
ニウムp−トルエンスルホネート、トリフルオロメタン
スルホン酸、カンファーメタンスルホン酸等を挙げるこ
とができるが、特に過塩素酸が好ましい。酸は、化合物
(II−1)に対して1当量から大過剰の範囲で使用す
れば良く、好ましくは1当量から10当量使用すればよ
い。反応温度は、通常0℃から溶媒の沸点の範囲で、好
ましくは0℃から30℃の範囲である。反応時間は、反
応温度に依存するが、通常1時間から24時間の範囲
で、好ましくは1時間から5時間の範囲である。得られ
た化合物(II−1)は、単離せずに、化合物(II)
から化合物(III)への工程と同じ反応を行い、化合
物(III)を得ることができる。以下、実施例におい
て本願発明を詳細に説明するが、本願発明はこれに限定
されるものではない。
As the acid, either an inorganic acid or an organic acid can be used. Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and perchloric acid. Examples of the organic acid include acetic acid, trifluoroacetic acid, tosylic acid, tosylic acid monohydrate, pyridinium p-toluenesulfonate, and trifluoromethane. Sulfonic acid, camphormethanesulfonic acid and the like can be mentioned, but perchloric acid is particularly preferred. The acid may be used in the range of 1 equivalent to a large excess with respect to compound (II-1), and preferably 1 equivalent to 10 equivalents. The reaction temperature is generally in the range of 0 ° C to the boiling point of the solvent, preferably in the range of 0 ° C to 30 ° C. The reaction time depends on the reaction temperature, but is usually in the range of 1 hour to 24 hours, preferably in the range of 1 hour to 5 hours. The obtained compound (II-1) was isolated without isolation.
Compound (III) can be obtained by performing the same reaction as in the step of converting to (III). Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0021】[0021]

【実施例】実施例11−ベンジルアミノカルボニル−1−ブロモアセチルシ
クロプロパン 1−アセチル−1−ベンジルアミノカルボニルシクロプ
ロパン(5.00g)をエタノール(25mL)に溶解
し、0℃下攪拌しながら、臭素(1.42mL)を10
分間で加えた。その後室温にし3時間攪拌した。反応
後、水(25mL)を加え、30分間攪拌した。減圧下
溶媒留去し、酢酸エチル(25mL)を加えた後、不溶
物を吸引濾過により除去した。母液へ酢酸エチル(25
mL)を加えた後、分液操作を行い、有機層と水層とに
分離した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(2
5mL)、水(15mL)及び飽和食塩水(10mL)
で順次洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減
圧下溶媒留去し、残渣を3.63g得た。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢
酸エチル=4:1〜3:1)に付した後 1H−NMRを
測定したところ、標題化合物に関して以下のピークが観
測された。 H−NMR(CDCl)d :1.60 (m,
2H), 1.94 (m, 2H), 3.79
(s, 2H), 4.49 (d, J =5.6
Hz, 2H), 7.24−7.39 (m, 5
H), 8.55 (br s, 1H).
Example 1 1-benzylaminocarbonyl-1-bromoacetyl
Clopropane 1-acetyl-1-benzylaminocarbonylcyclopropane (5.00 g) was dissolved in ethanol (25 mL), and bromine (1.42 mL) was added to the solution while stirring at 0 ° C.
Minutes. Then, the mixture was brought to room temperature and stirred for 3 hours. After the reaction, water (25 mL) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. After evaporating the solvent under reduced pressure and adding ethyl acetate (25 mL), insoluble materials were removed by suction filtration. Ethyl acetate (25
After adding (mL), a liquid separation operation was performed to separate an organic layer and an aqueous layer. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (2
5mL), water (15mL) and saturated saline (10mL)
Was sequentially washed. After drying the organic layer with sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 3.63 g of a residue. After the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 4: 1 to 3: 1) and 1 H-NMR was measured, the following peaks were observed for the title compound. 1 H-NMR (CDCl 3 ) d: 1.60 (m,
2H), 1.94 (m, 2H), 3.79
(S, 2H), 4.49 (d, J = 5.6
Hz, 2H), 7.24-7.39 (m, 5
H), 8.55 (br s, 1H).

【0022】実施例25−ベンジル4,7−ジオキソ−5−アザスピロ[2.
4]ヘプタン 水素化ナトリウム(20mg)をジメチルホルムアミド
(1.5mL)に懸濁させ、0℃下で攪拌しているとこ
ろへ、1−ベンジルアミノカルボニル−1−ブロモアセ
チルシクロプロパン(200mg)のテトラヒドロフラ
ン(1.5mL)溶液を加えた。15分間攪拌した後、
反応液へ水(2.0mL)を加えた。酢酸エチル(3m
L)で抽出した後、水層を酢酸エチル(1.5mL)で
再度抽出した。すべての有機層を飽和食塩水(1.5m
L)で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下
溶媒留去し、残渣を107mg得た。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エ
チル=2:1)に付した後H−NMRを測定したとこ
ろ、標題化合物に関して以下のピークが観測された。1 H-NMR(CDCl3)d :1.62 (m, 2H), 1.75 (m, 2H), 3.80
(s, 2H), 4.68 (s, 2H),7.25-7.41 (m, 5H).
Example 2 5-benzyl 4,7-dioxo-5-azaspiro [2.
4] Sodium heptane (20 mg) was suspended in dimethylformamide (1.5 mL), and 1-benzylaminocarbonyl-1-bromoacetylcyclopropane (200 mg) in tetrahydrofuran was stirred at 0 ° C. (1.5 mL) solution was added. After stirring for 15 minutes,
Water (2.0 mL) was added to the reaction solution. Ethyl acetate (3m
After extraction with L), the aqueous layer was extracted again with ethyl acetate (1.5 mL). All organic layers were washed with saturated saline (1.5m
After washing with L), it was dried with sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 107 mg of a residue. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1), and 1 H-NMR was measured. As a result, the following peaks were observed for the title compound. 1 H-NMR (CDCl 3 ) d: 1.62 (m, 2H), 1.75 (m, 2H), 3.80
(s, 2H), 4.68 (s, 2H), 7.25-7.41 (m, 5H).

【0023】実施例31−ベンジルアミノカルボニル−1−クロロアセチルシ
クロプロパン 1−ベンジルアミノカルボニル−1−(2−クロロ−
1,1−エチレンジオキシエチル)シクロプロパン
(3.00g)をメチレンクロリド(30mL)に溶解
させ、0℃下で攪拌しているところへ、70%過塩素酸
水溶液(4.37mL)を加えた。30分間攪拌した
後、室温にしてからさらに2.5時間攪拌した。反応
後、水(5.63mL)及びメチレンクロリド(20m
L)を加えた。分液操作を行い有機層と水層を分離した
後、水層をメチレンクロリド(1回目:20mL、2回
目:10mL)により2回再抽出した。全ての有機層を
水(1回目:20mL、2回目:10mL)で2回洗浄
した後、飽和食塩水(15mL)で洗浄した。硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧下溶媒留去し、残渣を2.51g
得た。得られた残渣の 1H−NMRを測定したところ、
標題化合物に関して以下のピークが観測された。 H−NMR(CDCl)d :1.56 (m,
2H), 1.90 (m, 2H), 4.03
(s, 2H), 4.49 (d, J =5.9
Hz, 2H), 7.23−7.41 (m, 5
H), 8.48 (br s, 1H).
Example 3 1-benzylaminocarbonyl-1-chloroacetyl
Clopropane 1-benzylaminocarbonyl-1- (2-chloro-
1,1-Ethylenedioxyethyl) cyclopropane (3.00 g) was dissolved in methylene chloride (30 mL), and a 70% aqueous solution of perchloric acid (4.37 mL) was added while stirring at 0 ° C. Was. After stirring for 30 minutes, the mixture was brought to room temperature and further stirred for 2.5 hours. After the reaction, water (5.63 mL) and methylene chloride (20 m
L) was added. After performing a liquid separation operation to separate an organic layer and an aqueous layer, the aqueous layer was re-extracted twice with methylene chloride (first time: 20 mL, second time: 10 mL). All organic layers were washed twice with water (first time: 20 mL, second time: 10 mL), and then washed with saturated saline (15 mL). After drying over sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure.
Obtained. When 1 H-NMR of the obtained residue was measured,
The following peaks were observed for the title compound. 1 H-NMR (CDCl 3) d: 1.56 (m,
2H), 1.90 (m, 2H), 4.03
(S, 2H), 4.49 (d, J = 5.9
Hz, 2H), 7.23-7.41 (m, 5
H), 8.48 (brs, 1H).

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Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1は、アミノ基の保護基を意味する。)で表
される化合物をハロゲン化し、一般式(II) 【化2】 (式中、X1は、ハロゲン原子を意味し、R1は、アミノ
基の保護基を意味する。)で表される化合物とした後、
閉環させることを特徴とする一般式(III) 【化3】 (式中、R1は、アミノ基の保護基を意味する。)で表
される化合物の製造方法
1. A compound of the general formula (I) (Wherein, R 1 represents a protecting group for an amino group), and the compound represented by the general formula (II) is halogenated. (Wherein, X 1 represents a halogen atom, and R 1 represents a protecting group for an amino group).
General formula (III) characterized by ring closure (Wherein, R 1 represents a protecting group for an amino group.)
【請求項2】 一般式(I) 【化4】 (式中、R1は、アミノ基の保護基を意味する。)で表
される化合物をハロゲン化することを特徴とする、一般
式(II) 【化5】 (式中、X1は、ハロゲン原子を意味し、R1は、アミノ
基の保護基を意味する。)で表される化合物の製造方法
2. A compound of the general formula (I) (Wherein R 1 represents a protecting group for an amino group), characterized in that the compound represented by the general formula (II) is halogenated. (Wherein, X 1 represents a halogen atom, and R 1 represents a protecting group for an amino group.)
【請求項3】 一般式(II) 【化6】 (式中、X1は、ハロゲン原子を意味し、R1は、アミノ
基の保護基を意味する。)で表される化合物を閉環させ
ることを特徴とする一般式(III) 【化7】 (式中、R1は、アミノ基の保護基を意味する。)で表
される化合物の製造方法
3. A compound of the general formula (II) Wherein X 1 represents a halogen atom, and R 1 represents a protecting group for an amino group. A compound represented by the general formula (III): (Wherein, R 1 represents a protecting group for an amino group.)
【請求項4】 一般式(IV) (式中、X2は、ハロゲン原子を意味し、R1は、アミノ
基の保護基を意味する。)で表される化合物を脱保護す
ることを特徴とする一般式(II−1) 【化8】 (式中、X2は、ハロゲン原子を意味し、R1は、アミノ
基の保護基を意味する。)で表される化合物の製造方法
4. Formula (IV) (Wherein, X 2 represents a halogen atom, and R 1 represents a protecting group for an amino group). A compound represented by the general formula (II-1): Formula 8 (Wherein, X 2 represents a halogen atom, and R 1 represents a protecting group for an amino group).
【請求項5】 一般式(II−1) 【化9】 (式中、X2は、ハロゲン原子を意味し、R1は、アミノ
基の保護基を意味する。)で表される化合物
5. A compound of the general formula (II-1) (Wherein, X 2 represents a halogen atom, and R 1 represents a protecting group for an amino group.)
【請求項6】 ハロゲン化をアルコール中で行うことを
特徴とする請求項1または2記載の製造方法
6. The process according to claim 1, wherein the halogenation is carried out in an alcohol.
【請求項7】 脱保護を過塩素酸で行うことを特徴とす
る請求項6記載の製造方法
7. The method according to claim 6, wherein the deprotection is carried out with perchloric acid.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104230790A (en) * 2014-09-03 2014-12-24 苏州纳驰生物科技有限公司 Preparation method of sitafloxacin side chain intermediate

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