JP2001084798A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2001084798A
JP2001084798A JP25456399A JP25456399A JP2001084798A JP 2001084798 A JP2001084798 A JP 2001084798A JP 25456399 A JP25456399 A JP 25456399A JP 25456399 A JP25456399 A JP 25456399A JP 2001084798 A JP2001084798 A JP 2001084798A
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Japan
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row
selection line
memory cell
cell array
row selection
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JP25456399A
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Kazuhiro Ida
一博 伊田
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Toshiba Electronic Device Solutions Corp
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Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory having a function for easily localizing a fault causing failure of row select line. SOLUTION: A switching circuit 7 is provided between a row decoder 6 and a memory cell array 1 and a decision can be made whether a fault detected through test is present in a row decoder or a memory cell array by switching a word line 3 selected by the row decoder 6. A circuit for dividing each word line in the memory cell array along the row direction of the memory cell array 1 is provided and the fault in the memory cell array 1 can be localized furthermore by dividing the memory cell array 1 into a plurality of blocks. The time required for localizing a fault can be shortened significantly through use of the switching circuit and the dividing circuit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に係
り、特に行選択線不良の故障箇所の範囲を特定するテス
ト回路を備えた半導体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a test circuit for specifying a range of a defective portion of a row selection line failure.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2を用いて従来の半導体記憶装置の行
選択線の構成と、そのテストにおける問題点を説明す
る。図2に示す半導体記憶装置はメモリセルアレイ1
と、メモリセル2と、ワード線(行選択線)3と、ビッ
ト線4と、行アドレスによりワード線3を選択する行デ
コーダ5と、ワードドライバー6から構成される。この
ほか従来の半導体記憶装置はカラムデコーダや、入出力
データの制御回路等を備えているが、本発明とは直接関
連がないので説明を省略する。
2. Description of the Related Art A configuration of a row selection line of a conventional semiconductor memory device and a problem in a test thereof will be described with reference to FIG. The semiconductor memory device shown in FIG.
, A memory cell 2, a word line (row selection line) 3, a bit line 4, a row decoder 5 for selecting the word line 3 by a row address, and a word driver 6. In addition, the conventional semiconductor memory device includes a column decoder, a control circuit for input / output data, and the like. However, the description is omitted because it is not directly related to the present invention.

【0003】メモリセルアレイ1は情報を記憶するメモ
リセル2の集合体であって、特定のメモリセル2の選択
は、各メモリセル2が接続されるワード線3のアドレス
情報を行デコーダ5に入力し、ワード線3を選択するこ
とにより行われる。また、メモリセルへの記憶情報の入
出力等は、ワードドライバ6と前記ワード線3を介して
メモリセル2を駆動する制御信号を送ること等により行
われる。
A memory cell array 1 is an aggregate of memory cells 2 for storing information. When a specific memory cell 2 is selected, address information of a word line 3 to which each memory cell 2 is connected is input to a row decoder 5. Then, the selection is performed by selecting the word line 3. Input / output of storage information to / from the memory cell is performed by sending a control signal for driving the memory cell 2 via the word driver 6 and the word line 3 or the like.

【0004】しかし、前記半導体記憶装置のテストにお
いて、行選択線不良が発生しても、その故障箇所の含ま
れる範囲が行デコーダ5(ワードドライバー6を含む)
の範囲内であるのか、又は、メモリセルアレイ1の範囲
内であるのかを特定することは従来不可能であった。
However, in the test of the semiconductor memory device, even if a row selection line failure occurs, the range including the failure location is included in the row decoder 5 (including the word driver 6).
, Or within the range of the memory cell array 1.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
半導体記憶装置は、そのテストに際して行選択線不良が
発生しても、故障箇所の含まれる範囲が行デコーダ(ワ
ードドライバーを含む)なのか、又はメモリセルアレイ
の内部なのかを特定することができないという問題があ
った。
As described above, in the conventional semiconductor memory device, even if a row selection line failure occurs during the test, is the range including the failed portion included in the row decoder (including the word driver)? Or it cannot be specified whether it is inside the memory cell array.

【0006】本発明は上記の問題点を解決すべくなされ
たもので、テストに際して検出された行選択線不良の原
因となる故障箇所が含まれる範囲を容易に特定すること
ができる機能を備えた半導体記憶装置を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problem, and has a function of easily specifying a range including a faulty portion which is a cause of a row selection line defect detected during a test. It is an object to provide a semiconductor memory device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、そのテストに際して検出された行選択線不良の原因
となる故障箇所が含まれる範囲を特定するため、行デコ
ーダーとメモリセルアレイとの間に切り替え回路を設
け、行デコーダで選択されたワード線の切り替えを行う
ことにより、故障箇所の含まれる範囲が行デコーダなの
か、又はメモリセルアレイの内部なのかを特定すること
を特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A semiconductor memory device according to the present invention is provided between a row decoder and a memory cell array in order to specify a range including a faulty portion which causes a row selection line defect detected at the time of the test. Is provided with a switching circuit, and by switching the word line selected by the row decoder, it is possible to specify whether the range including the fault location is the row decoder or the inside of the memory cell array.

【0008】また、メモリセルアレイの列方向に沿って
メモリセルアレイの各ワード線を分割する分割回路を設
け、前記メモリセルアレイを列方向に沿って複数のメモ
リブロックに分割することにより、前記メモリセルアレ
イの内部に含まれる故障箇所の範囲をさらに絞り込むこ
とを特徴とする。
Further, a dividing circuit for dividing each word line of the memory cell array along the column direction of the memory cell array is provided, and the memory cell array is divided into a plurality of memory blocks along the column direction. It is characterized in that the range of the fault location included in the inside is further narrowed down.

【0009】具体的には本発明の半導体記憶装置は、行
方向及び列方向に沿ってマトリックス状に配置されたメ
モリセルアレイと、前記行方向に沿って前記メモリセル
アレイに配置された行選択線と、この行選択線から所定
の行アドレスの行選択線を選択する行デコーダとを有す
る半導体記憶装置において、前記メモリセルアレイと前
記行デコーダとの間に配置された前記行選択線の切り替
え回路と、前記メモリセルアレイの列方向に沿って前記
メモリセルアレイに配置された前記行選択線の分割回路
と、からなる故障箇所特定容易化回路を備えることを特
徴とする。
More specifically, a semiconductor memory device according to the present invention comprises a memory cell array arranged in a matrix along a row direction and a column direction, and a row selection line arranged on the memory cell array along the row direction. A semiconductor memory device having a row decoder for selecting a row selection line of a predetermined row address from the row selection line; a circuit for switching the row selection line disposed between the memory cell array and the row decoder; A circuit for dividing a row selection line disposed in the memory cell array along a column direction of the memory cell array;

【0010】好ましくは前記行選択線の切り替え回路
は、前記行デコーダにより選択された行選択線を、互い
に異なる他の選択線のいずれか1つに切り替えることを
特徴とする。
Preferably, the row selection line switching circuit switches the row selection line selected by the row decoder to any one of other selection lines different from each other.

【0011】また好ましくは、前記行選択線の切り替え
回路は、前記行デコーダにより選択された行選択線が前
記メモリセルアレイの最上位の行アドレスを有する場合
を除き、前記行選択線を隣り合う上位の行アドレスの行
選択線に切り替え、かつ、前記行デコーダにより選択さ
れた行選択線が前記メモリセルアレイの最上位の行アド
レスを有する場合には、前記最上位の行選択線を最下位
の行アドレスの行選択線に切り替えることを特徴とす
る。
Preferably, the row selection line switching circuit includes a row selection line selected by the row decoder, except when the row selection line has the highest row address of the memory cell array. And if the row selection line selected by the row decoder has the highest row address of the memory cell array, the highest row selection line is changed to the lowest row. It is characterized by switching to a row selection line of an address.

【0012】また好ましくは、前記行選択線の切り替え
回路は、前記行デコーダにより選択された行選択線が前
記メモリセルアレイの最下位の行アドレスを有する場合
を除き、前記行選択線を隣り合う下位の行アドレスの行
選択線に切り替え、かつ、前記行デコーダにより選択さ
れた行選択線が前記メモリセルアレイの最下位の行アド
レスを有する場合には、前記最下位の行選択線を最上位
の行アドレスの行選択線に切り替えることを特徴とす
る。
Preferably, the switching circuit for switching the row selection line includes a row selection line selected by the row decoder, except when the row selection line has the lowest row address of the memory cell array. Is switched to the row selection line of the row address, and if the row selection line selected by the row decoder has the lowest row address of the memory cell array, the lowest row selection line is changed to the highest row. It is characterized by switching to a row selection line of an address.

【0013】また好ましくは、前記行選択線の分割回路
は、前記メモリセルアレイの列方向に沿って配置され、
前記行選択線を前記メモリセルアレイの列方向に沿って
それぞれ分割することを特徴とする。
Preferably, the division circuit for the row selection line is arranged along a column direction of the memory cell array,
The row selection lines are divided along the column direction of the memory cell array.

【0014】従来、行選択線不良については故障箇所の
含まれる範囲が広く、故障箇所を絞り込むための故障解
析の実施に長時間を要していたが、前記ワード線の切り
替え回路と分割回路とを用いることにより、故障箇所の
特定に要する時間が大幅に短縮され、高い確率で故障要
因の解析を行うことができる。
Conventionally, a defective row selection line has a wide range including a failed portion, and it has taken a long time to perform a failure analysis for narrowing down the failed portion. By using the method, the time required for specifying the failure location can be greatly reduced, and the failure factor can be analyzed with a high probability.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1を用いて本発明の第1
の実施の形態について説明する。第1の実施の形態で
は、本発明の行選択線の構成例とその特徴について述べ
る。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. The first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
An embodiment will be described. In the first embodiment, a configuration example of the row selection line of the present invention and its characteristics will be described.

【0016】図1に示す半導体記憶装置は、メモリセル
アレイ1a、1bと、メモリセル2と、ワード線3と、
ビット線4と、行デコーダ5と、ワードドライバ6と、
トランジスタQA1〜QA9及びQB1〜QB9からなる切り替
え回路7と、トランジスタQC1〜QC9からなる分割回路
8aと、トランジスタQD1〜QD9からなる分割回路8b
から構成される。
The semiconductor memory device shown in FIG. 1 has a memory cell array 1a, 1b, a memory cell 2, a word line 3,
A bit line 4, a row decoder 5, a word driver 6,
A switching circuit 7 including transistors QA1 to QA9 and QB1 to QB9, a dividing circuit 8a including transistors QC1 to QC9, and a dividing circuit 8b including transistors QD1 to QD9.
Consists of

【0017】図1に示す半導体記憶装置の特徴は次の通
りである。
The features of the semiconductor memory device shown in FIG. 1 are as follows.

【0018】(1)行デコーダ5(ワードドライバ6を
含む、以下同じ)とメモリセルアレイ1(図1の1a)
との間に、トランジスタQA1〜QA9及びQB1〜QB9から
なる切り替え回路7が配置されること。
(1) Row decoder 5 (including word driver 6, the same applies hereinafter) and memory cell array 1 (1a in FIG. 1)
And a switching circuit 7 including transistors QA1 to QA9 and QB1 to QB9.

【0019】(2)メモイセルアレイ1aとメモリセル
アレイ1bとがトランジスタQC1〜QC9からなる分割回
路8aにより分割されること。
(2) The memory cell array 1a and the memory cell array 1b are divided by a dividing circuit 8a including transistors QC1 to QC9.

【0020】(3)Vss共通線(通常接地される)とワ
ード線WL1 〜WL9 の終端部との間にトランジスタQ
D1〜QD9からなる分割回路8bが配置されること。
(3) A transistor Q is connected between the Vss common line (normally grounded) and the terminating ends of the word lines WL1 to WL9.
A dividing circuit 8b consisting of D1 to QD9 is arranged.

【0021】ここで、トランジスタQA1〜QA9及びQB1
〜QB9からなる切り替え回路7は、行アドレスにより行
デコーダ5でワード線3を選択する際、行選択線不良が
発生すれば、前記切り替え回路7を用いてワード線を隣
り合う他のワード線に切り替え、同様に行選択線不良が
発生するか否かをテストする。
Here, transistors QA1 to QA9 and QB1
When a row selection line defect occurs when the row decoder 5 selects a word line 3 based on a row address, the switching circuit 7 including the switching circuit 7 switches the word line to another adjacent word line. Switching is performed, and similarly, a test is performed to determine whether or not a row selection line failure occurs.

【0022】行選択線不良の原因となる故障箇所が、隣
り合うワード線において同様に含まれる確率は低いの
で、ワード線を切り替えても同様に行選択線不良が発生
すれば行選択線不良の原因となる故障箇所は行デコーダ
5に含まれると判断することができる。
Since there is a low probability that a defective portion causing a row selection line defect is similarly included in an adjacent word line, if a row selection line defect similarly occurs even when the word lines are switched, the row selection line defect is determined. It can be determined that the failure location causing the failure is included in the row decoder 5.

【0023】また、トランジスタQC1〜QC9からなる分
割回路8aは、行選択線不良が発生した選択ワード線3
を分割回路8aを用いて2分割することにより前記行選
択線不良が消滅すれば、行選択線不良の原因となる故障
箇所は選択ワード線のメモリセルアレイ1bの側にある
ことがわかる。このようにして、メモリセルアレイ1
a、1bにおける故障箇所の範囲を絞り込むことが可能
になる。
The dividing circuit 8a including the transistors QC1 to QC9 is connected to the selected word line 3 in which the row selection line defect has occurred.
Is divided into two by using the dividing circuit 8a, and if the row selection line defect disappears, it can be understood that the failure site causing the row selection line defect is on the side of the memory cell array 1b of the selected word line. Thus, the memory cell array 1
It becomes possible to narrow down the range of the failure point in a and 1b.

【0024】なお、トランジスタQD1〜QD9からなる分
割回路8bは、非選択メモリセルアレイの各ワード線に
対してVss共通線の電圧を付与することにより書き込み
・読み出しを禁止し、選択されたメモリセルアレイの各
ワード線を前記Vss共通線から切り離すことにより書き
込み・読み出し可能な状態にするための分割回路であ
る。
The dividing circuit 8b composed of the transistors QD1 to QD9 prohibits writing and reading by applying a voltage of the Vss common line to each word line of the unselected memory cell array, and This is a division circuit for disconnecting each word line from the Vss common line so as to enable writing and reading.

【0025】上記したように、第1の実施の形態の切り
換え回路7は、行選択線不良が発生した選択ワード線を
隣り合うワード線に切り換える機能を備えているが、必
ずしも隣り合うものに切り換える必要はない。互いに異
なる他のワード線のいづれか1つに切り換えれば同様の
目的を達することができる。このようにすれば、例えば
行選択線不良の原因が隣り合うワード線の線間ショート
であった場合にも、メモリセルアレイ側の故障として正
しく判断することが可能になる。
As described above, the switching circuit 7 of the first embodiment has a function of switching a selected word line in which a row selection line failure has occurred to an adjacent word line. However, the switching circuit 7 does not necessarily switch to an adjacent word line. No need. A similar purpose can be achieved by switching to one of the other different word lines. In this way, even if, for example, the cause of the row selection line defect is a short circuit between adjacent word lines, it can be correctly determined as a failure on the memory cell array side.

【0026】なお、切り換え回路7のトランジスタ回路
を互いに異なる他のワード線のいづれか1つに切り換え
るように変更することは、図1に示す切り替え回路7の
構成から容易に類推することができる。
Changing the transistor circuit of the switching circuit 7 so as to switch to one of the other different word lines can be easily analogized from the configuration of the switching circuit 7 shown in FIG.

【0027】次に、本発明の第2の実施の形態について
説明する。第2の実施の形態では、本発明の半導体記憶
装置の通常動作について説明する。図1に示す本発明の
半導体記憶装置の通常動作において、切り替え回路7、
及び分割回路8a、8bを構成するトランジスタは次の
ように動作する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the second embodiment, a normal operation of the semiconductor memory device of the present invention will be described. In the normal operation of the semiconductor memory device of the present invention shown in FIG.
The transistors constituting the dividing circuits 8a and 8b operate as follows.

【0028】(イ)切り替え回路7において、ワードド
ライバの出力端と、対応するメモリセルアレイの各ワー
ド線とを直接接続するため、切り替え回路7の信号Aを
“H”(ハイレベル)にしてトランジスタQA1〜QA9を
オン状態にする。切り替え回路7の信号Bは“L”(ロ
ウレベル)にしてトランジスタQB1〜QB9をオフ状態と
し、切り替え回路7のワード線切り替え機能を除外す
る。
(A) In the switching circuit 7, the signal A of the switching circuit 7 is set to "H" (high level) in order to directly connect the output terminal of the word driver to each word line of the corresponding memory cell array. QA1 to QA9 are turned on. The signal B of the switching circuit 7 is set to "L" (low level) to turn off the transistors QB1 to QB9, excluding the word line switching function of the switching circuit 7.

【0029】(ロ)分割回路8aにおいて、メモリセル
アレイ1a、1bの対応するワード線を直接接続し、一
体化されたメモリセルアレイとするために、分割回路8
aの信号Cを“H”とし、トランジスタQC1〜QC9をオ
ン状態にする。
(B) In the division circuit 8a, the corresponding word lines of the memory cell arrays 1a and 1b are directly connected to each other to form an integrated memory cell array.
The signal C of "a" is set to "H" to turn on the transistors QC1 to QC9.

【0030】(ハ)一体化されたメモリセルアレイ1
a、1bを書き込み・読みだし等が可能な選択状態にす
るため、分割回路8bの信号Dを“L”としてメモリセ
ルアレイ1a、1bをVss共通線から切り離す。
(C) Integrated memory cell array 1
In order to set a and b to a selected state in which writing and reading can be performed, the signal D of the dividing circuit 8b is set to "L" to disconnect the memory cell arrays 1a and 1b from the Vss common line.

【0031】このようにすれば、切替え回路7、分割回
路8a、8bを備えた図1に示す本発明の半導体装置
を、図2に示す従来の半導体記憶装置と同様に動作させ
ることができる。
In this manner, the semiconductor device of the present invention shown in FIG. 1 having the switching circuit 7 and the dividing circuits 8a and 8b can be operated in the same manner as the conventional semiconductor memory device shown in FIG.

【0032】次に、本発明の第3の実施の形態について
説明する。第3の実施の形態では、本発明の半導体記憶
装置による行選択線不良の故障箇所の特定動作について
説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described. In the third embodiment, a description will be given of a specific operation of the semiconductor memory device of the present invention for identifying a failure location of a row selection line failure.

【0033】はじめに故障箇所の含まれる範囲が行デコ
ーダ(ワードドライバーを含む)なのか、又はメモリセ
ルアレイの内部なのかを特定する場合について述べる。
First, a case will be described in which it is specified whether a range including a fault location is a row decoder (including a word driver) or an inside of a memory cell array.

【0034】図1に示す切り替え回路7、及び分割回路
8a、8bを構成するトランジスタを先に第2の実施の
形態で説明した通常動作状態に設定して、半導体記憶装
置のテストを行い、例えば最下位からi番目の行アドレ
スに対応するワード線WLi(図1においてi=1〜
8)で行選択線不良が発生したとする。
The transistors constituting the switching circuit 7 and the dividing circuits 8a and 8b shown in FIG. 1 are set to the normal operation state described in the second embodiment, and the semiconductor memory device is tested. The word line WLi corresponding to the i-th row address from the lowest (i = 1 to 1 in FIG. 1)
Suppose that a row selection line defect occurs in 8).

【0035】このとき、先に(ロ)、(ハ)で説明した
分割回路の信号Cの“H”と信号Dの“L”とを維持し
て、前記切替え回路7の信号Aを“L”、Bを“H”に
切り換え、トランジスタQA1〜QA9がオフ状態、トラン
ジスタQB1〜QB9がオン状態とすれば、i番目の行アド
レスに対応する選択ワード線WLi が隣り合う上位アド
レスのWLi+1 に切り換えられる。
At this time, while the "H" of the signal C and the "L" of the signal D of the dividing circuit described in (b) and (c) above are maintained, the signal A of the switching circuit 7 is changed to "L". , B are switched to "H" and the transistors QA1 to QA9 are turned off and the transistors QB1 to QB9 are turned on, the selected word line WLi corresponding to the i-th row address becomes the adjacent higher address WLi + 1. Is switched to.

【0036】なお、選択ワード線WLi が最上位の行ア
ドレスに対応する場合(図1においてi=9の場合)に
は、前記切替動作により、選択ワード線はWL9 から最
下位の行アドレスに対応するWL1 に切り換えられる。
When the selected word line WLi corresponds to the highest row address (when i = 9 in FIG. 1), the selected word line corresponds to the lowest row address from WL9 by the switching operation. Is switched to WL1.

【0037】このような切替動作を行った後再度テスト
を実施し、i番目の行アドレスに対応するワード線WL
i (図1においてi=1〜9)の行選択線不良が消滅す
れば故障箇所はメモリセルアレイ1a、1bの範囲内に
あると判断される。またこのような切替動作を行った後
再度テストを実施し、行選択線不良が維持されれば故障
箇所は行デコーダ(ワードドライバを含む)の範囲内に
あると判断される。
After performing such a switching operation, a test is performed again, and the word line WL corresponding to the i-th row address is
If the row selection line failure of i (i = 1 to 9 in FIG. 1) disappears, it is determined that the failure location is within the range of the memory cell arrays 1a and 1b. After performing such a switching operation, a test is performed again. If the row selection line defect is maintained, it is determined that the failed portion is within the range of the row decoder (including the word driver).

【0038】なお、図1に示す切替え回路7では、選択
ワード線を隣り合う上位アドレス側に切り換える場合に
ついて説明したが、同様に選択ワード線を隣り合う下位
アドレス側に切り換えることができることはいうまでも
ない。
In the switching circuit 7 shown in FIG. 1, the case where the selected word line is switched to the adjacent upper address side has been described, but it is needless to say that the selected word line can be similarly switched to the adjacent lower address side. Nor.

【0039】次に、故障箇所の含まれる範囲がメモリセ
ルアレイであると判断された場合、さらにメモリセルア
レイのどの領域に故障が含まれるかを特定する手段につ
いて説明する。
Next, a description will be given of a means for further specifying which area of the memory cell array contains a fault when it is determined that the range including the fault location is the memory cell array.

【0040】図1に示す切り替え回路7、及び分割回路
8a、8bを構成するトランジスタを、先に第2の実施
の形態で説明した通常動作状態に設定して半導体記憶装
置のテストを行い、行選択線不良が発生したとする。
The transistors constituting the switching circuit 7 and the dividing circuits 8a and 8b shown in FIG. 1 are set to the normal operation state described in the second embodiment, and the semiconductor memory device is tested. It is assumed that a selection line defect has occurred.

【0041】このとき、先に(イ)で説明した切替え回
路の信号Aの“H”と信号Bの“L”とを維持して、分
割回路8aの信号Cを“L”とし、メモリイセルアレイ
1bを切り離す分割動作を行う。また、分割回路8bの
信号Dを“H”にして、切り離されたメモリセルアレイ
1bをVss共通線に接続し、これを非選択ブロックとす
る。
At this time, while the "H" of the signal A and the "L" of the signal B of the switching circuit previously described in (a) are maintained, the signal C of the dividing circuit 8a is set to "L", A dividing operation for separating the cell array 1b is performed. Also, the signal D of the dividing circuit 8b is set to "H", and the separated memory cell array 1b is connected to the Vss common line, and this is set as a non-selected block.

【0042】このような分割動作を行った後再度テスト
を実施し、行選択線不良が消滅すれば、故障箇所はメモ
リセルアレイ1bの範囲内にあると判断される。また、
このような分割動作を行った後再度テストを実施し、行
選択線不良が維持されれば故障箇所はメモリセルアレイ
1aの範囲内にあると判断される。
After performing such a division operation, a test is performed again, and if the row selection line defect disappears, it is determined that the failed portion is within the range of the memory cell array 1b. Also,
After performing such a division operation, a test is performed again, and if the row selection line defect is maintained, it is determined that the failed portion is within the range of the memory cell array 1a.

【0043】なお本発明は上記の実施の形態に限定され
ることはない。例えば第1乃至第3の実施の形態におい
て、分割回路8aがメモリセルアレイを列方向に沿って
2分割する場合について説明したが、必ずしも2分割さ
れる必要はない。メモリセルアレイを列方向に沿ってn
(nは2以上の自然数)分割することにより、さらに、
メモリセルアレイにおける行選択不良の故障箇所の範囲
を絞り込むことができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the first to third embodiments, the case where the dividing circuit 8a divides the memory cell array into two in the column direction has been described, but it is not always necessary to divide the memory cell array into two. The memory cell array is arranged along the column direction by n
By dividing (n is a natural number of 2 or more),
It is possible to narrow down the range of the failure location of the row selection failure in the memory cell array.

【0044】また前記第1及び第3の実施の形態におい
て、最上位又は最下位の行アドレスに対応するワード線
を除き、選択ワード線を隣り合う上位側又は下位側のワ
ード線に切り換える切替え回路について説明したが、必
ずしも隣り合うワード線に切り換える必要はない。先に
第1の実施の形態で説明したように互いに異なる他のワ
ード線のいづれか1つに切り換えれば同様の目的を達成
することができる。
In the first and third embodiments, the switching circuit for switching the selected word line to the adjacent upper or lower word line except for the word line corresponding to the uppermost or lowermost row address. However, it is not always necessary to switch to an adjacent word line. As described in the first embodiment, the same purpose can be achieved by switching to any one of the other different word lines.

【0045】また、例えば前記切替え回路を行デコーダ
とワードドライバとの間に配置すれば、ワードドライバ
における故障を特定することができる。その他本発明の
要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することが
できる。
If, for example, the switching circuit is arranged between a row decoder and a word driver, a failure in the word driver can be specified. In addition, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0046】[0046]

【発明の効果】上述したように本発明の半導体記憶装置
によれば、行デコーダーとメモリセルアレイとの間に切
り替え回路を設け、行デコーダで選択されたワード線の
切り替え動作を行うことにより、テストにおいて検出さ
れた行選択線不良の故障箇所の範囲が行デコーダなのか
又はメモリセルアレイの内部であるのかを特定すること
ができる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, the switching circuit is provided between the row decoder and the memory cell array, and the switching operation of the word line selected by the row decoder is performed. It is possible to specify whether the range of the faulty portion of the row selection line defect detected in the above is the row decoder or the inside of the memory cell array.

【0047】また、メモリセルアレイの列方向に沿って
メモリセルアレイの各ワード線を分割する分割回路を設
け、前記メモリセルアレイを複数のブロックに分割する
分割動作を行うことにより、前記メモリセルアレイ内部
に含まれる故障箇所の範囲をさらに絞り込むことが可能
になる。
Further, a dividing circuit for dividing each word line of the memory cell array along the column direction of the memory cell array is provided, and a dividing operation for dividing the memory cell array into a plurality of blocks is performed so that the memory cell array is divided into a plurality of blocks. It is possible to further narrow down the range of the failure location to be performed.

【0048】従来、行選択線不良の解析は、故障箇所特
定の対象となる半導体記憶装置の構成領域が広範囲に亘
るため、その絞り込みに長時間を要していたが、本発明
の切替え回路と分割回路を備えた半導体記憶装置を用い
れば、故障箇所の特定に要する時間を大幅に短縮し、高
い確率で故障原因を究明することができる。
Conventionally, analysis of a row selection line defect has taken a long time to narrow down because the configuration area of a semiconductor memory device for which a failure location is to be specified is wide. The use of the semiconductor memory device provided with the dividing circuit can significantly reduce the time required for specifying the failure location, and can determine the cause of the failure with a high probability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1乃至第3の実施の形態に係る半導
体記憶装置の行選択線の構成を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a row selection line of a semiconductor memory device according to first to third embodiments of the present invention.

【図2】従来の半導体記憶装置における行選択線の構成
を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a row selection line in a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、1a、1b…メモリセルアレイ 2…メモリセル 3…ワード線 4…ビット線 5…行デコーダ 6…ワードドライバ 7…切替え回路 8a、8b…分割回路 1, 1a, 1b memory cell array 2 memory cell 3 word line 4 bit line 5 row decoder 6 word driver 7 switching circuit 8a, 8b dividing circuit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 行方向及び列方向に沿ってマトリックス
状に配置されたメモリセルアレイと、 前記行方向に沿って前記メモリセルアレイに配置された
行選択線と、 この行選択線から所定の行アドレスの行選択線を選択す
る行デコーダと、を有する半導体記憶装置において、 前記メモリセルアレイと前記行デコーダとの間に配置さ
れた前記行選択線の切り替え回路と、 前記メモリセルアレイの列方向に沿って前記メモリセル
アレイに配置された前記行選択線の分割回路と、からな
る故障箇所特定容易化回路を備えることを特徴とする半
導体記憶装置。
1. A memory cell array arranged in a matrix along a row direction and a column direction, a row selection line arranged in the memory cell array along the row direction, and a predetermined row address from the row selection line. A row decoder for selecting a row selection line of the following: a switching circuit for switching the row selection line disposed between the memory cell array and the row decoder; A semiconductor memory device, comprising: a circuit for dividing a row select line disposed in the memory cell array;
【請求項2】 前記行選択線の切り替え回路は、前記行
デコーダにより選択された行選択線を、互いに異なる他
の選択線のいずれか1つに切り替えることを特徴とする
請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the row selection line switching circuit switches the row selection line selected by the row decoder to one of other different selection lines. Storage device.
【請求項3】 前記行選択線の切り替え回路は、前記行
デコーダにより選択された行選択線が前記メモリセルア
レイの最上位の行アドレスを有する場合を除き、前記行
選択線を隣り合う上位の行アドレスの行選択線に切り替
え、かつ、前記行デコーダにより選択された行選択線が
前記メモリセルアレイの最上位の行アドレスを有する場
合には、前記最上位の行選択線を最下位の行アドレスの
行選択線に切り替えることを特徴とする請求項1記載の
半導体記憶装置。
3. The row selection line switching circuit according to claim 1, wherein the row selection line selected by the row decoder has an uppermost row address in the memory cell array unless the row selection line has an uppermost row address. If the row selection line is switched to the row selection line of the address and the row selection line selected by the row decoder has the highest row address of the memory cell array, the highest row selection line is set to the lowest row address. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein switching to a row selection line is performed.
【請求項4】 前記行選択線の切り替え回路は、前記行
デコーダにより選択された行選択線が前記メモリセルア
レイの最下位の行アドレスを有する場合を除き、前記行
選択線を隣り合う下位の行アドレスの行選択線に切り替
え、かつ、前記行デコーダにより選択された行選択線が
前記メモリセルアレイの最下位の行アドレスを有する場
合には、前記最下位の行選択線を最上位の行アドレスの
行選択線に切り替えることを特徴とする請求項1記載の
半導体記憶装置。
4. The row selection line switching circuit, wherein the row selection line selected by the row decoder has a lower row address of the memory cell array unless the row selection line has the lowest row address. If the row selection line is switched to the row selection line of the address and the row selection line selected by the row decoder has the lowest row address of the memory cell array, the lowest row selection line is changed to the highest row address. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein switching to a row selection line is performed.
【請求項5】 前記行選択線の分割回路は、前記メモリ
セルアレイの列方向に沿って配置され、前記行選択線を
前記メモリセルアレイの列方向に沿ってそれぞれ分割す
ることを特徴とする請求項1乃至4のいづれか1つに記
載の半導体記憶装置。
5. The row selection line dividing circuit is arranged along a column direction of the memory cell array, and divides the row selection line along a column direction of the memory cell array. 5. The semiconductor memory device according to any one of 1 to 4.
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