JP2001080297A - Method for producing letter diagram of transparent body - Google Patents

Method for producing letter diagram of transparent body

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JP2001080297A JP30285299A JP30285299A JP2001080297A JP 2001080297 A JP2001080297 A JP 2001080297A JP 30285299 A JP30285299 A JP 30285299A JP 30285299 A JP30285299 A JP 30285299A JP 2001080297 A JP2001080297 A JP 2001080297A
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transparent body
laser beam
silicon wafer
unit cell
dark
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一男 佐藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing the letter diagram of a transparent body in which letters and a diagram are protected even in a state the surface of the transparent body is fouled, wetted, or somewhat damaged, and process control and product control can be surely performed. SOLUTION: In a method, radiation is done with the focus F of a laser beam 4 put in the inside of a transparent body passing through the surface a silicon wafer 1 which is the transparent body. An unit cell 3a of a bright pattern is formed by changing in quality by the heat of the laser beam 4, non-irradiated part is made a dark unit cell 3b, these unit cells 3a, 3b are combined to bake a two-dimensional code 2 by the matrix of a bright/dark pattern in the inside of the silicon wafer 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はガラスやシリコン基
板、プラスチックなどの透明体の内部に、文字や図形な
どを焼き付ける透明体の文字図形作成方法に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a transparent character or graphic in which characters or figures are printed inside a transparent material such as glass, a silicon substrate, or plastic.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体製造工程において、シリコ
ンウエハーやこの上に回路を形成した半導体チップを製
造する工程で、これらを各工程で個別に管理することが
要望されてきている。シリコンウエハーは硬く透明であ
るため、この上に材料種別や製造番号などの識別データ
を印刷することができず、従来は品番や製造番号などを
英文字や数字で直接レーザーで焼付けていた。またこれ
らの英文字や数字の代わりにバーコードや二次元コード
をレーザーで焼付けて工程や製品の管理も行なわれるよ
うになってきた。
2. Description of the Related Art In recent years, in a semiconductor manufacturing process, in a process of manufacturing a silicon wafer and a semiconductor chip having a circuit formed thereon, it has been demanded that these be individually managed in each process. Since silicon wafers are hard and transparent, identification data such as material type and serial number cannot be printed on the silicon wafer. Conventionally, product numbers and serial numbers have been directly baked with lasers in English letters and numbers. In addition, barcodes and two-dimensional codes are baked with lasers instead of these letters and numbers, and processes and products are being controlled.

【0003】またテレビのブラウン管や自動車のウイン
ドガラスなどのガラス製品や、液晶ディスプレイなどの
透明プラスチック板などの分野でも製造工程や製品の管
理にバーコードや二次元コードを利用することも検討さ
れている。
The use of barcodes and two-dimensional codes for manufacturing processes and product management in fields such as glass products such as cathode ray tubes for televisions and window glasses for automobiles, and transparent plastic plates such as liquid crystal displays has also been studied. I have.

【0004】しかしながら、このような透明体の表面に
文字や図形、バーコードや二次元コードなどを形成した
場合、表面が汚れたり濡れたりした状態になると識別で
きなくなる問題があった。またレーザー焼付けにより表
面を粗面化して形成した文字やコード面は傷付き易く、
読み取りが不能になる問題もあった。
However, when characters, figures, bar codes, two-dimensional codes, and the like are formed on the surface of such a transparent body, there is a problem that the surface cannot be identified if the surface becomes dirty or wet. In addition, letters and code surfaces formed by roughening the surface by laser baking are easily scratched,
There was also a problem that reading became impossible.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は係る問題点に
鑑みなされたもので、透明体の表面が汚れたり濡れた
り、あるいは多少傷ついた状態でも文字や図形が保護さ
れ、工程管理や製品管理を確実に行なうことができる透
明体の文字図形作成方法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and protects characters and figures even when the surface of a transparent body is dirty, wet, or slightly damaged, and enables process management and product management. And a method for creating a transparent character / graphic figure capable of reliably performing the following.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
透明体の文字図形作成方法は、レーザービームの焦点
を、透明体の表面を透過して内部に合わせてレーザービ
ームを照射し、この熱により文字や図形などを透明体の
内部に焼き付けることを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for forming a character or graphic on a transparent body, the method comprising: irradiating a laser beam with a laser beam focused on a transparent body through a surface thereof; Characteristically, characters and figures are printed inside the transparent body by this heat.

【0007】本発明の請求項2記載の透明体の文字図形
作成方法は、レーザービームの波長を0.3〜1.1μ
mとしたことを特徴とするものである。また請求項3記
載の透明体の文字図形作成方法は、レーザービームの収
束角度を5〜20度で照射することを特徴とするもので
ある。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a character / figure forming method for a transparent body, wherein the wavelength of the laser beam is 0.3 to 1.1 μm.
m. According to a third aspect of the present invention, there is provided a transparent character / figure creation method, wherein a laser beam is irradiated at a convergence angle of 5 to 20 degrees.

【0008】更に本発明の請求項4記載の透明体の文字
図形作成方法は、透明体の内部に形成する図形が二次元
コードで、レーザービームの照射部分を明模様の単位セ
ルとし、非照射部分を暗模様の単位セルとして、これら
明暗の単位セルを組合わせて明暗模様のマトリックスに
よる二次元コードを形成することを特徴とするものであ
る。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of forming a character figure on a transparent body, wherein the figure formed inside the transparent body is a two-dimensional code, and a portion irradiated with a laser beam is a unit cell having a light pattern, and the non-irradiation is performed. The two-dimensional code is formed by combining a light and dark unit cell with a portion as a dark pattern unit cell and combining these light and dark unit cells.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の一形態を図1
および図2を参照して詳細に説明する。図において1は
シリコンウエハーで、これはシリコンの単結晶丸棒を薄
くスライスしたもので、この上に回路を形成してから、
縦横に切断して四角形状の多数の半導体チップを形成す
るものである。このシリコンウエハー1の内部には図2
に示すように二次元コード2が形成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be described in detail with reference to FIG. In the figure, 1 is a silicon wafer, which is a thin slice of a single-crystal silicon round bar, on which a circuit is formed,
The semiconductor chip is cut vertically and horizontally to form a large number of square semiconductor chips. FIG. 2 shows the inside of the silicon wafer 1.
The two-dimensional code 2 is formed as shown in FIG.

【0010】この二次元コード2は例えば1辺の幅が
1.2mm平方のエリア内を4行4列の方眼に分離して
正方形状の16個のセル3…を形成すると、各セル3は
1辺の幅が240μmの正方形に形成される。このセル
3は明るい単位セル3aと暗い単位セル3bとがあり、
これらをコードデーターに応じて縦横に組合わせること
により明暗模様のマトリックスによる二次元コード2を
形成したものである。
The two-dimensional code 2 is formed, for example, by dividing an area having a side width of 1.2 mm square into four rows and four columns of squares to form 16 square cells 3. It is formed in a square having a width of 240 μm on one side. This cell 3 has a bright unit cell 3a and a dark unit cell 3b,
These are combined vertically and horizontally according to the code data to form a two-dimensional code 2 using a matrix of light and dark patterns.

【0011】この二次元コード2を作成する方法は、画
像ソフトを用いてパソコン画面上で、明暗模様のマトリ
ックスによる画像データを作成し、この画像データから
コードデータを作成する。次に図1に示すようにシリコ
ンウエハー1をレーザー焼き付け機にセットして、レー
ザー発振器から発振したレーザービーム4をレンズ5で
絞って透明な表面を透過してシリコンウエハー1の内部
に照射する。この場合、レーザービーム4の焦点Fはシ
リコンウエハー1のコード形成位置に合わせてレーザー
ビーム4を照射していく。
The method of creating the two-dimensional code 2 is to create image data using a matrix of light and dark patterns on a personal computer screen using image software, and create code data from the image data. Next, as shown in FIG. 1, the silicon wafer 1 is set in a laser printer, and a laser beam 4 oscillated from a laser oscillator is narrowed down by a lens 5 and transmitted through a transparent surface to irradiate the inside of the silicon wafer 1. In this case, the laser beam 4 is irradiated in such a manner that the focal point F of the laser beam 4 is adjusted to the code forming position on the silicon wafer 1.

【0012】またこの場合、使用するレーザービーム4
としては波長が0.3〜1.1μmの範囲のものを用
い、またレーザービーム4の収束角度αは5〜20度で
照射するとシリコンウエハー1の内部がレーザーの熱に
より結晶構造が変質して不透明になり、ビームのドット
を連続的に、または単独に形成することによりこの部分
に光が当たると乱反射して明るい単位セル3aとなる。
なおレーザービーム4を照射しない部分は光が透過する
ので暗い単位セル3bとなる。
In this case, the laser beam 4 to be used is
When the laser beam 4 is irradiated at a convergence angle α of 5 to 20 degrees, the crystal structure of the inside of the silicon wafer 1 is altered by the heat of the laser. It becomes opaque, and when light is applied to this portion by forming dots of the beam continuously or independently, it is irregularly reflected and becomes a bright unit cell 3a.
Note that a portion not irradiated with the laser beam 4 becomes a dark unit cell 3b because light is transmitted therethrough.

【0013】このように画像データから作成したコード
データに基づいてレーザーを照射して焼き付けた明るい
単位セル3aと、レーザーを照射しな暗い単位セル3b
を縦横に組合わせることにより明暗模様のマトリックス
による二次元コード2を形成することができる。このよ
うにレーザービーム4の波長と照射角度αを上記範囲に
規定することにより、焦点深度と熱量コントロールが可
能となりシリコンウエハー1の表面に熱影響を与えるこ
となく、内部の焦点で収束させて二次元コード2を焼き
付けることができる。
[0013] A bright unit cell 3a which is baked by irradiating a laser based on the code data created from the image data as described above, and a dark unit cell 3b which is not irradiated by the laser.
Can be formed vertically and horizontally to form a two-dimensional code 2 using a light and dark pattern matrix. By defining the wavelength of the laser beam 4 and the irradiation angle α in the above ranges, the depth of focus and the amount of heat can be controlled, and the laser beam 4 is converged at the internal focus without affecting the surface of the silicon wafer 1 by heat. The dimension code 2 can be printed.

【0014】なお照射するレーザービーム4の波長が
0.3μmより短いと、薄く透明なシリコンウエハー1
の内部で焦点を合わせるのが難しく、また波長が1.1
μmを越える長い波長では、レーザービーム4が散乱し
易く内部まで到達しにくくなる。またレーザービーム4
の収束角度αが5度より小さい角度であると焦点を合わ
せるのが難しく、また照射角度αが20度より大きい角
度であると、広範囲に亘ってレーザービーム4を振らせ
て走査することが難しく、特に斜めに照射した場合に焦
点部分Fで楕円状に広がり鮮明な焼き付けができなくな
るからである。
If the wavelength of the laser beam 4 to be irradiated is shorter than 0.3 μm, the thin and transparent silicon wafer 1
Is difficult to focus inside the
At a long wavelength exceeding μm, the laser beam 4 is easily scattered and hardly reaches the inside. Laser beam 4
If the convergence angle α is less than 5 degrees, it is difficult to focus, and if the irradiation angle α is more than 20 degrees, it is difficult to scan the laser beam 4 over a wide range. This is because, in particular, when the light is irradiated obliquely, it spreads in an elliptical shape at the focal point portion F and clear printing cannot be performed.

【0015】このシリコンウエハー1の内部に形成した
二次元コード2を光反射式の読取装置で読取る場合に
は、シリコンウエハー1の表面から光を照射すると、シ
リコンウエハー1は透明であり、何ら加工せずそのまま
の状態の部分は光7が透過して反射がないため読取装置
では暗い単位セル3bとして認識される。またレーザー
を照射して焼き付けた部分は乱反射して読取装置では明
るい単位セル3aとして認識される。従ってこれらの組
合わせにより、明暗模様を印刷した二次元コード2と同
様に読取ることができるものである。また逆に光透過式
の読取装置で読み取る場合には、明るい単位セル3aと
暗い単位セル3bとは反転して読み取られる。
When the two-dimensional code 2 formed inside the silicon wafer 1 is read by a light reflection type reader, when light is irradiated from the surface of the silicon wafer 1, the silicon wafer 1 is transparent and any processing is performed. Since the light 7 is transmitted without reflection as it is, the reading unit recognizes it as a dark unit cell 3b. In addition, the portion printed by irradiating the laser is irregularly reflected and is recognized as a bright unit cell 3a by the reader. Therefore, by combining these, the two-dimensional code 2 on which a light and dark pattern is printed can be read in the same manner. Conversely, when reading with a light transmission type reading device, the bright unit cell 3a and the dark unit cell 3b are read in reverse.

【0016】このようにシリコンウエハー1の内部に二
次元コード2が形成されているので、表面に絶縁膜や回
路を形成することができる。また二次元コード2はシリ
コンウエハー1の内部に形成されているので、ウエハー
表面が汚れたり損傷しても内部の二次元コード2は影響
されず、工程管理や製品管理を確実に行なうことができ
る。
Since the two-dimensional code 2 is formed inside the silicon wafer 1, an insulating film or a circuit can be formed on the surface. Further, since the two-dimensional code 2 is formed inside the silicon wafer 1, even if the wafer surface is soiled or damaged, the internal two-dimensional code 2 is not affected, and the process control and the product control can be performed reliably. .

【0017】図3は本発明の他の実施の形態を示すもの
で、シリコンウエハー1の内部にバーコード6を形成し
たものである。また図4はシリコンウエハー1の内部に
アルファベットと数字を組合せた製品番号7を形成した
ものである。
FIG. 3 shows another embodiment of the present invention, in which a bar code 6 is formed inside a silicon wafer 1. FIG. 4 shows a product number 7 formed by combining alphabets and numerals inside the silicon wafer 1.

【0018】なお上記説明ではシリコンウエハー1の内
部に二次元コード2やバーコード6、製品番号7などを
形成した場合について示したが、テレビのブラウン管や
自動車のウインドガラスなどのガラス製品の他、液晶デ
ィスプレイなどの透明プラスチック板など透明体の内部
に形成して製造工程や製品の管理に利用することができ
る。
In the above description, the case where the two-dimensional code 2, the bar code 6, the product number 7 and the like are formed inside the silicon wafer 1 has been described, but in addition to glass products such as a cathode ray tube of a television and a window glass of an automobile, It can be formed inside a transparent body such as a transparent plastic plate such as a liquid crystal display and used for manufacturing processes and product management.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明した如く本発明に係る請求項1
記載の透明体の文字図形作成方法によれば、透明体の内
部に焦点を合わせてレーザービームを照射し、ビームの
熱により文字や図形などを透明体の内部に焼き付けるの
で、表面に絶縁膜や導電膜、蛍膜、反射膜などの膜のほ
か回路などを形成することができる。また文字や図形は
透明体の内部に形成されているので、表面が汚れたり損
傷しても内部の文字や図形は影響を受けず工程管理や製
品管理を確実に行なうことができる。
As described above, claim 1 according to the present invention.
According to the described method for creating a character figure of a transparent body, a laser beam is irradiated while focusing on the inside of the transparent body, and characters and figures are burned inside the transparent body by the heat of the beam. Circuits and the like can be formed in addition to films such as a conductive film, a fluorescent film, and a reflective film. Further, since the characters and figures are formed inside the transparent body, even if the surface becomes dirty or damaged, the inside characters and figures are not affected and the process control and the product control can be performed reliably.

【0020】また請求項2記載の透明体の文字図形作成
方法によれば、レーザービームの波長を0.3〜1.1
μmとし、また請求項3記載の方法では、レーザービー
ムの収束角度αを5〜20度で照射することにより、透
明体の内部に広範囲に亘ってレーザーの熱により文字や
図形などを鮮明に焼き付けることができる。
According to a second aspect of the present invention, the wavelength of the laser beam is set to 0.3 to 1.1.
In the method according to the third aspect, by irradiating the laser beam with a convergence angle α of 5 to 20 degrees, the heat of the laser widely prints characters and figures inside the transparent body over a wide range. be able to.

【0021】更に請求項4記載の透明体の文字図形作成
方法によれば、透明体の内部に形成する図形が二次元コ
ードで、レーザービームの照射部分を明模様の単位セル
とし、非照射部分を暗模様の単位セルとして、これら明
暗の単位セルを組合わせて明暗模様のマトリックスによ
る二次元コードを形成するので、透明体の内部に多量の
データーを記録でき、シリコンウエハーや小さな半導体
チップを個別に管理することができる。
According to a fourth aspect of the present invention, the figure formed inside the transparent body is a two-dimensional code, the portion irradiated with the laser beam is a bright unit cell, and the non-irradiated portion is formed. Is a dark unit cell, and these light and dark unit cells are combined to form a two-dimensional code with a light and dark pattern matrix, so that a large amount of data can be recorded inside the transparent body, and silicon wafers and small semiconductor chips can be individually Can be managed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の一形態によるシリコンウエハー
の内部にレーザービームを照射している状態を示す断面
図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a state in which a laser beam is irradiated inside a silicon wafer according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のシリコンウエハーの内部に二次元コード
を形成した状態を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a state in which a two-dimensional code is formed inside the silicon wafer of FIG.

【図3】本発明の他の実施の形態によるシリコンウエハ
ーの内部にバーコードを形成した状態を示す平面図であ
る。
FIG. 3 is a plan view showing a state in which a barcode is formed inside a silicon wafer according to another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の異なる他の実施の形態によるシリコン
ウエハーの内部に製品番号を形成した状態を示す平面図
である。
FIG. 4 is a plan view showing a state in which a product number is formed inside a silicon wafer according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シリコンウエハー 2 二次元コード 3 セル 3a 明るい単位セル 3b 暗い単位セル 4 レーザービーム 5 レンズ 6 バーコード 7 製品番号 Reference Signs List 1 silicon wafer 2 two-dimensional code 3 cell 3a bright unit cell 3b dark unit cell 4 laser beam 5 lens 6 barcode 7 product number

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザービームの焦点を、透明体の表面
を透過して内部に合わせてレーザービームを照射し、こ
の熱により文字や図形などを透明体の内部に焼き付ける
ことを特徴とする透明体の文字図形作成方法。
1. A transparent body characterized in that the laser beam is focused on the inside of the transparent body through the surface of the transparent body and irradiated with the laser beam, and the heat is used to print characters, figures and the like inside the transparent body. How to create a character figure.
【請求項2】 レーザービームの波長を0.3〜1.1
μmとしたことを特徴とする請求項1記載の透明体の文
字図形作成方法。
2. A laser beam having a wavelength of 0.3 to 1.1.
2. The method according to claim 1, wherein the thickness is set to μm.
【請求項3】 レーザービームの収束角度を5〜20度
で照射することを特徴とする請求項1または2記載の透
明体の文字図形作成方法。
3. The method according to claim 1, wherein the laser beam is irradiated at a convergence angle of 5 to 20 degrees.
【請求項4】 透明体の内部に形成する図形が二次元コ
ードで、レーザービームの照射部分を明模様の単位セル
とし、非照射部分を暗模様の単位セルとして、これら明
暗の単位セルを組合わせて明暗模様のマトリックスによ
る二次元コードを形成することを特徴とする請求項1記
載の透明体の文字図形作成方法。
4. A figure formed inside the transparent body is a two-dimensional code, and the light-irradiated part is a light-pattern unit cell, and the non-irradiated part is a dark-pattern unit cell. 2. The method according to claim 1, further comprising forming a two-dimensional code using a light and dark pattern matrix.
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