JP2001080110A - Manufacture of exposure device, exposure device and image forming apparatus using the same - Google Patents

Manufacture of exposure device, exposure device and image forming apparatus using the same

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JP2001080110A
JP2001080110A JP26225299A JP26225299A JP2001080110A JP 2001080110 A JP2001080110 A JP 2001080110A JP 26225299 A JP26225299 A JP 26225299A JP 26225299 A JP26225299 A JP 26225299A JP 2001080110 A JP2001080110 A JP 2001080110A
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JP
Japan
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light
base
center
exposure apparatus
emitting element
Prior art date
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JP26225299A
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Japanese (ja)
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Kenji Muto
健二 武藤
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Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exposure device that comprises light emitting elements formed in an array and achieves precise imaging relationship and to provide a method for manufacturing the exposure device wherein the exposure device can be simply and surely produced. SOLUTION: A rear face of a mounting substrate attaching face 5a of a substrate table 5 is preliminarily fixed to a substrate table attaching guide 55 of an assembling jig. A position relationship between a reference face 54 set to be perpendicular to an optical axis Z direction and the substrate table attaching guide 55 is predetermined and a distance L4 from a preliminary center CT' on the substrate table 5 to the reference face 54 is calculated. A rod lens array 3 is grasped by a hand H1 or the like. A distance between the reference face 54 and a preliminary center CT" of a finger of the hand H1 or the like is adjusted to be the distance L4 and the preliminary center CT' on the substrate table 5 and the center of the rod lens array 3 are set to be in conformity with each other in the direction Z (on the axis), and then they are bonded with each other. As a result, it is possible to assure a precise distance L2 from a light emitting point to the center of the rod lens array 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はモノクロ画像および
カラー画像を形成するプリンタ、ファクシミリ、穣写機
等の露光系として用いられる露光装置およびその露光装
置が搭載される画像形成装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus used as an exposure system for forming a monochrome image and a color image, such as a printer, a facsimile, and a copying machine, and an image forming apparatus equipped with the exposure apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、プリンタ、ファクシミリ、デジタ
ル複写機等の画像形成装置では、その多数に電子写真方
式が採用されており、その中には、外部コンピュータ、
あるいは画像読み取り機構から出力された画像信号に応
じた潜像を感光体上に形成する露光系として発光ダイオ
ード等の発光素子をアレイ化した光源を用いた露光装置
が使用されているものも多い。静粛な画像形成装置を簡
便に製造すべく、露光装置には小型のものが好んで用い
られる。
2. Description of the Related Art Conventionally, many image forming apparatuses such as a printer, a facsimile, and a digital copying machine employ an electrophotographic system, including an external computer,
Alternatively, an exposure system using a light source in which light-emitting elements such as light-emitting diodes are arrayed is often used as an exposure system for forming a latent image corresponding to an image signal output from an image reading mechanism on a photoconductor. In order to easily manufacture a quiet image forming apparatus, a small exposure apparatus is preferably used.

【0003】ここで、発光素子は発光ダイオードなどで
構成されるが、これらは或る点、もしくは或る面から拡
散光を放射するものであり、感光体上に潜像を形成する
ためには発光素子から発せられた拡散光を各々微小なス
ポットに結像する必要がある。そこで、露光装置にはロ
ッドレンズアレイに代表される結像素子列を設け、この
結像素子列によって良好なスポットを形成し、もって発
光素子と結像素子との相対的な位置関係を高い位置精度
になるようにしている。
Here, the light emitting element is composed of a light emitting diode or the like, which emits diffused light from a certain point or a certain surface. In order to form a latent image on a photoreceptor, It is necessary to form an image of the diffused light emitted from the light emitting element on each minute spot. Therefore, an exposure device is provided with an imaging element array represented by a rod lens array, and a good spot is formed by the imaging element array, thereby increasing the relative positional relationship between the light emitting element and the imaging element to a higher position. I try to be accurate.

【0004】例えば図12には、画像形成装置内部の露
光装置に着装されたロッドレンズアレイの一例を拡大し
て示す。
For example, FIG. 12 shows an enlarged example of a rod lens array mounted on an exposure device inside an image forming apparatus.

【0005】同図12において、ロッドレンズアレイの
光学的特性から、面Sl,S2は、いずれかが物面位置
にあれば、片方は像面位置にある、というように互いが
結像関係にある面とはなりうるが、ここでは便宜的に面
S1を物面、面S2を像面としておく。
In FIG. 12, from the optical characteristics of the rod lens array, the surfaces S1 and S2 are in an image forming relationship such that if one of them is at the object plane position, one is at the image plane position. Although it may be a certain surface, here, the surface S1 is an object surface and the surface S2 is an image surface for convenience.

【0006】ロッドレンズアレイ300は、物面S1及
び像面S2のそれぞれに向かって対向するようレンズ面
300a,300bを有する。そして、物面S1及び像
面S2が所定の面間隔を以って対峙し、且つ同ロッドレ
ンズアレイ300の光軸方向中心CTがその距離L1の
中央に位置する時に、良好な等倍成立の結像を形成す
る。よって、ロッドレンズアレイ300の光軸方向中心
CTと物面S1及び像面
The rod lens array 300 has lens surfaces 300a and 300b so as to face each of the object surface S1 and the image surface S2. Then, when the object surface S1 and the image surface S2 face each other with a predetermined surface interval and the optical axis direction center CT of the rod lens array 300 is located at the center of the distance L1, a good equal magnification is established. Form an image. Therefore, the center CT of the rod lens array 300 in the optical axis direction, the object plane S1, and the image plane

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the invention]

【0007】S2間の距離はL2=Ll/2となるのが
理想である。ところで、このように構成された露光装置
の製造工程に関し、通常、距離Llには比較的バラつき
が小さい一方、ロッドレンズアレイ300のレンズ長L
3にはバラつきが大きくなることが当業者間で周知とな
っている。
Ideally, the distance between S2 is L2 = L1 / 2. By the way, regarding the manufacturing process of the exposure apparatus configured as described above, the distance Ll generally has a relatively small variation, while the lens length L of the rod lens array 300 is generally small.
It is well-known to those skilled in the art that the variation in 3 increases.

【0008】すなわち、距離L1及びレンズ長L3の両
者間において上記のようなばらつき傾向の相違が存在す
るため、レンズ面300a,300bを光軸方向の基準
として露光装置を組み立てると、各製造ロットにおける
レンズ長L3のバラつきに起因して、実際の結像面間隔
がLlから外れる傾向が大きくなったり、Llの中央に
ロッドレンズアレイ300の中央が一致せずにL2=L
l/2の関係が十分に保証されなくなる等の問題が生じ
る。そして、いずれの場合も発光素子からの光束の良好
な結像が困難になる。その結果、露光装置、ひいてはそ
の露光装置が組み込まれた画像形成装置本体について
も、完成品として歩留まりの低下を招くこととなってい
た。
That is, since there is a difference in the above-mentioned variation tendency between both the distance L1 and the lens length L3, when an exposure apparatus is assembled using the lens surfaces 300a and 300b as a reference in the optical axis direction, each exposure lot is manufactured. Due to the variation in the lens length L3, the actual image plane distance tends to deviate from Ll, or the center of the rod lens array 300 does not coincide with the center of L1 and L2 = L.
There are problems such as the relationship of l / 2 cannot be guaranteed sufficiently. In any case, it is difficult to form a good image of the light beam from the light emitting element. As a result, the yield of the exposure apparatus, and eventually the image forming apparatus main body in which the exposure apparatus is incorporated, is reduced as a finished product.

【0009】本発明はこのような実情に鑑みてなされた
ものであって、その目的とするところは、アレイ化され
た発光素子を備えた露光装置にあって、高精度な結像関
係を達成する露光装置と、そのような露光装置を簡便且
つ確実に製造する露光装置の製造方法とを提供すること
にある。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an exposure apparatus having light emitting elements arranged in an array to achieve a high-precision imaging relationship. It is an object of the present invention to provide an exposure apparatus that performs the above-described steps, and a method of manufacturing the exposure apparatus that easily and reliably manufactures such an exposure apparatus.

【0010】また、本発明の目的とするところは、高精
細な画像形成を実現する画像形成装置を提供することに
ある。
Another object of the present invention is to provide an image forming apparatus which realizes high-definition image formation.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、光源と、該光源から発せられる光束を
像担持体に結像する結像素子とが同一の基台に固定され
てなる露光装置の製造方法において、前記結像素子にお
ける前記光束の光軸方向中心を基準として、前記基台に
対する結像素子の固定位置の位置決めを行うことをその
要旨とする。
In order to achieve the above object, according to the present invention, a light source and an imaging element for imaging a light beam emitted from the light source on an image carrier are fixed to the same base. In the manufacturing method of the exposure apparatus, the gist is that the fixed position of the imaging element with respect to the base is positioned with reference to the center of the light beam in the imaging element in the optical axis direction.

【0012】また、前記結像素子が前記基台に固定され
たときに当該結像素子の光軸方向中心が位置することと
なる仮想中心を前記基台上に決めておき、該仮想中心
と、前記結像素子の光軸方向中心とが一致するように、
該結像素子を該基台に固定してもよい。
A virtual center where the center of the imaging element in the optical axis direction is located when the imaging element is fixed to the base is determined on the base, and the virtual center is determined. , So that the center of the imaging element in the optical axis direction coincides,
The imaging element may be fixed to the base.

【0013】また、前記仮想中心は、前記基台に固定さ
れる該光源から、同じく同基台に固定される結像素子の
光軸方向中心までの距離が所定値となるように設定する
こととしてもよい。ちなみに、この所定値は、基台に固
定された光源から発せられる光束が、結像素子を通じて
鮮明な像を像担持体上に結像するよう予め容易に算出あ
るいは設定することができる。
Further, the virtual center is set so that a distance from the light source fixed to the base to the center of the imaging element also fixed to the base in the optical axis direction becomes a predetermined value. It may be. Incidentally, the predetermined value can be easily calculated or set in advance so that the light beam emitted from the light source fixed to the base forms a clear image on the image carrier through the imaging element.

【0014】また、製造装置によって仮固定された結像
素子の光軸方向中心から所定の基準位置までの距離と、
これも製造装置によって仮固定された前記基台上の仮想
中心から同基準位置までの距離との比較により、該結像
素子の光軸方向中心と、該基台上の仮想中心とが略一致
するように位置決めして、前記結像素子を前記基台へ固
定することとしてもよい。
Further, a distance from the optical axis direction center of the imaging element temporarily fixed by the manufacturing apparatus to a predetermined reference position;
This is also compared with the distance from the virtual center on the base temporarily fixed by the manufacturing apparatus to the same reference position, and the center of the imaging element in the optical axis direction and the virtual center on the base substantially match. And the imaging element may be fixed to the base.

【0015】また、前記露光装置の光源は、複数の発光
素子からなる発光素子列を有してなるものであってもよ
い。
Further, the light source of the exposure apparatus may have a light-emitting element array including a plurality of light-emitting elements.

【0016】また、前記結像素子の基台への固定にあた
っては、製造装置に設けられた保持手段により該結像素
子を仮固定するとともにこれを保持しておく一方、該製
造装置上の所定位置に基台の仮固定を行い、所定の基準
位置と該結像素子の光軸方向中心との距離と、当該基準
位置と前記基台上の仮想中心との距離とを認識しつつ、
これらの距離を一致させるよう前記保持手段によって前
記結像素子の基台への固定行うこととしてもよい。
In fixing the image forming element to the base, the image forming element is temporarily fixed and held by holding means provided in the manufacturing apparatus, while a predetermined element on the manufacturing apparatus is held. While temporarily fixing the base to the position, while recognizing the distance between the predetermined reference position and the optical axis direction center of the imaging element, and the distance between the reference position and the virtual center on the base,
The imaging device may be fixed to the base by the holding means so that the distances are made to match.

【0017】また、前記保持手段は、結像素子を把持し
て保持状態を保つこととしてもよい。
Further, the holding means may hold the imaging element by holding the imaging element.

【0018】また、前記保持手段は、結像素子を吸着し
て保持状態を保つこととしてもよい。
Further, the holding means may hold the imaging element by sucking the imaging element.

【0019】また、前記保持装置は、該吸着負圧によっ
て結像素子の陵を吸着保持すべくテーパ状に形成された
吸着口を有するとともに、該テーパ状に形成された吸着
口は、その断面構造において、テーパ斜面が吸着口の中
心軸に対して略対称となるように形成されていることと
してもよい。
Further, the holding device has a suction port formed in a tapered shape so as to suck and hold the ridge of the imaging element by the suction negative pressure, and the tapered suction port has a cross-section. In the structure, the tapered slope may be formed so as to be substantially symmetric with respect to the central axis of the suction port.

【0020】また、前記製造装置によって前記基台を仮
固定する際には、該基台上において前記光源が固定され
る位置を基準として仮固定を行うこととしてもよい。
Further, when the base is temporarily fixed by the manufacturing apparatus, the base may be temporarily fixed based on a position where the light source is fixed on the base.

【0021】また、前記基台に対し、前記結像素子を接
着剤で固定することとしてもよい。
Further, the imaging element may be fixed to the base with an adhesive.

【0022】また、前記接着剤は嫌気性硬性であっても
よい。
Further, the adhesive may be anaerobic and hard.

【0023】また、前記接着剤は、紫外線あるいは可視
光に晒されると硬化する性質を有するものであってもよ
い。
Further, the adhesive may have a property of curing when exposed to ultraviolet light or visible light.

【0024】また、露光装置の発光素子列が複数の発光
素子を並べた発光素子チップを発光素子配列方向に複数
並べた発光素子チップアレイによって構成され、各発光
素子チップにはしきい電圧もしくはしきい電流を電気的
に制御可能な発光サイリスタを多数配列し、近傍の発光
サイリスタを互いに、電圧もしくは電流の一方向性を持
つ電気素子で接続することによって駆動部を形成し、一
つの発光素子チップ内の各発光素子列はこの駆動部を共
有し、2相の転送クロックによって複数の発光素子列の
発光を走査させてもよい。
The light emitting element array of the exposure apparatus is constituted by a light emitting element chip array in which a plurality of light emitting element chips in which a plurality of light emitting elements are arranged are arranged in the light emitting element arrangement direction, and each light emitting element chip has a threshold voltage or a threshold voltage. A light emitting element chip is formed by arranging a large number of light emitting thyristors capable of electrically controlling a threshold current and connecting neighboring light emitting thyristors to each other by an electric element having a unidirectional voltage or current. The light emitting element rows in the above may share this driving unit, and may scan the light emission of a plurality of light emitting element rows by a two-phase transfer clock.

【0025】あるいは、前記発光素子列は発光素子の発
光層が有機物もしくは無機物からなるEL発光素子をア
レイ化して構成してもよい。
Alternatively, the light emitting element row may be configured by arraying EL light emitting elements in which the light emitting layer of the light emitting element is made of an organic or inorganic substance.

【0026】また、前記発光素子列は、EL発光素子が
透明基材上に積層されて構成され、かつ各EL発光素子
から放射される光束はEL素子が積層される透明基材を
透過して放射される構成としてもよい。
The light emitting element row is constituted by EL light emitting elements laminated on a transparent base material, and a light beam emitted from each EL light emitting element passes through the transparent base material on which the EL element is laminated. It may be configured to emit light.

【0027】また、前記発光素子列は、EL発光素子が
基材上に積層されて構成され、かつ各EL発光素子から
放射される光束は積層方向に略垂直な方向に放射される
構成としてもよい。
[0027] The light emitting element array may be configured such that EL light emitting elements are stacked on a base material, and a light beam emitted from each EL light emitting element is emitted in a direction substantially perpendicular to the stacking direction. Good.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した各実施
の形態について詳細に説明する。ただし、この実施の形
態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その
相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この
発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではな
い。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. However, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the components described in this embodiment are not intended to limit the scope of the present invention thereto unless otherwise specified. Absent.

【0029】(第1の実施の形態)本発明を、画像形成
装置としての複写機、同複写機に組み込まれた露光装
置、及びその露光装置の製造方法に適用した一実施の形
態について、図1〜図9を参照して説明する。
(First Embodiment) An embodiment in which the present invention is applied to a copying machine as an image forming apparatus, an exposure apparatus incorporated in the copying machine, and a method of manufacturing the exposure apparatus will be described with reference to the drawings. This will be described with reference to FIGS.

【0030】図1には、本実施の形態の画像形成装置
(複写機)の概略構成を模式的に示す。
FIG. 1 schematically shows a schematic configuration of an image forming apparatus (copier) according to the present embodiment.

【0031】同図1に示すように、複写機10は、大き
くは、原稿の読み取り機構20や露光装置30等を含む
光学系と、給送ローラ13,14,15やレジストロー
ラ16a,16b等を含む搬送系と、現像器18や転写
器19等を含むプリント系とから構成されている。
As shown in FIG. 1, the copying machine 10 is mainly composed of an optical system including a document reading mechanism 20, an exposing device 30, etc., feeding rollers 13, 14, 15 and registration rollers 16a, 16b. And a printing system including a developing unit 18 and a transfer unit 19.

【0032】実際の複写動作に際しては、先ず原稿台2
4におかれた原稿が読み取り機構20によって読み取ら
れ、画像データに変換される。その一方、予め本体内に
備蓄されている記録材80が、あるいは本体外部から給
送ローラ15によって引き込まれる記録材81のうち何
れかの記録材が、本体内の給送ローラ13,14を介し
て給送されることとなる。これら記録材は、レジストロ
ーラ16a,16bの位置に達した際にセンサ(図示
略)によってその先端位置を検知され、特定のタイミン
グでレジストローラ16a,16bによって転写器19
の方向に送り出される。また一方、帯電器17により予
め帯電された像担持体2が図中矢印方向に回転してお
り、この回転する像担持体2上に、露光装置30が前記
画像データに応じた露光を行うことによって静電潜像を
形成する。この静電潜像に応じて、現像器18から現像
材(図示略)が像担持体2に付与される。そして、転写
器19上の位置までに現像材が付与された像担持体2が
回転すると同時に、記録材80も転写器19上に到達し
て、現像材が記録材80上に転写器19によって転写さ
れる。これにより、記録材80は、搬送路21を通り定
着器22a,22bまで到達し、転写された現像材が記
録材80に定着され、トレイ23に排出させられて画像
形成を完了する。
In the actual copying operation, first, the original table 2
4 is read by the reading mechanism 20 and converted into image data. On the other hand, the recording material 80 previously stored in the main body or one of the recording materials 81 drawn from the outside of the main body by the feeding roller 15 is supplied via the feeding rollers 13 and 14 in the main body. Will be fed. When these recording materials reach the positions of the registration rollers 16a and 16b, their leading end positions are detected by a sensor (not shown), and the transfer rollers 19a and 16b are transferred at specific timing by the registration rollers 16a and 16b.
Sent in the direction of. On the other hand, the image carrier 2 pre-charged by the charger 17 is rotating in the direction of the arrow in the figure, and the exposure device 30 performs exposure corresponding to the image data on the rotating image carrier 2. Forms an electrostatic latent image. A developing material (not shown) is applied to the image carrier 2 from the developing device 18 according to the electrostatic latent image. Then, at the same time that the image carrier 2 to which the developing material is applied rotates to the position on the transfer device 19, the recording material 80 also reaches the transfer device 19, and the developing material is transferred onto the recording material 80 by the transfer device 19. Transcribed. As a result, the recording material 80 reaches the fixing devices 22a and 22b through the conveyance path 21, and the transferred developer is fixed on the recording material 80, and is discharged to the tray 23 to complete the image formation.

【0033】次に、上記本実施形態の複写機10に組み
込まれた露光装置30について、図2に基づき詳細に説
明する。
Next, the exposure device 30 incorporated in the copying machine 10 of the embodiment will be described in detail with reference to FIG.

【0034】図2は、先の図1に示した露光装置30及
び露光装置30により露光される像担持体2を拡大して
示す平面図である。
FIG. 2 is an enlarged plan view showing the exposure device 30 shown in FIG. 1 and the image carrier 2 exposed by the exposure device 30.

【0035】同図2に示すように、露光装置30には発
光素子チップアレイCH1が設けられている。発光素子
チップアレイCH1上には、複数の発光素子を略直線状
に並べた発光素子列が備えられている。また、発光素子
チップアレイCH1の列方向は円柱状の像担持体2の回
転軸と平行に設定されており、発光素子チップアレイC
H1と像担持体2との間には多数のロッドレンズを発光
素子チップアレイCH1上の発光素子列と略平行に並べ
たロッドレンズアレイ3が設けられている。そして、発
光素子チップアレイCH1上の発光素子列から発散され
る光束を像担持体2の表面上に微小なスポットとして結
像するように、このロッドレンズアレイ3の配置は正確
に位置決めされている。また露光装置30において、発
光素子チップ実装基板4上には、発光素子チップアレイ
CH1が実装され、各発光素子を駆動させるドライバー
チップDRl、図示されない制限抵抗などが、発光素子
チップ実装基板4上に発光素子チップアレイCH1同様
に実装されている。そして、この発光素子チップ実装基
板4は、放熱作用を兼ね備えた基板台5上のロッドレン
ズアレイ取付け面5bに、接着剤もしくはネジ留めなど
によって固定されている。また、ロッドレンズアレイ3
は、基板台5上のロッドレンズアレイ取付け面5bに接
着剤90によって接着固定されている。そして、洩れ光
を防止するカバー6がロッドレンズアレイ3に接しなが
ら、基板台5に固定されている。また、ロッドレンズア
レイ3は前記の通り像担持体2の表面上に微小なスポッ
トとして結像する位置に正確に位置決めされている。
As shown in FIG. 2, the exposure apparatus 30 is provided with a light emitting element chip array CH1. On the light-emitting element chip array CH1, a light-emitting element row in which a plurality of light-emitting elements are arranged substantially linearly is provided. The column direction of the light emitting element chip array CH1 is set parallel to the rotation axis of the columnar image carrier 2, and the light emitting element chip array C
Provided between H1 and the image carrier 2 is a rod lens array 3 in which a number of rod lenses are arranged substantially in parallel with the light emitting element rows on the light emitting element chip array CH1. The arrangement of the rod lens array 3 is accurately positioned so that a light beam emitted from the light emitting element array on the light emitting element chip array CH1 is imaged as a minute spot on the surface of the image carrier 2. . In the exposure apparatus 30, the light emitting element chip array CH1 is mounted on the light emitting element chip mounting board 4, and a driver chip DR1 for driving each light emitting element, a limiting resistor (not shown), and the like are provided on the light emitting element chip mounting board 4. It is mounted similarly to the light emitting element chip array CH1. The light emitting element chip mounting substrate 4 is fixed to a rod lens array mounting surface 5b on a substrate base 5 having a heat radiation function by an adhesive or a screw. In addition, rod lens array 3
Are bonded and fixed to the rod lens array mounting surface 5b on the substrate table 5 by an adhesive 90. Then, a cover 6 for preventing light leakage is fixed to the substrate table 5 while being in contact with the rod lens array 3. Further, the rod lens array 3 is accurately positioned at a position where an image is formed as a minute spot on the surface of the image carrier 2 as described above.

【0036】なお、上記本実施形態の露光装置30に内
蔵されている発光素子チップ(発光素子チップアレイC
H1)には、サイリスタ構造からなる自己走査型発光体
チップが用いられている。例えば図3には、同発光素子
チップの等価回路を示す。
The light emitting element chip (light emitting element chip array C) built in the exposure apparatus 30 of the present embodiment is described.
For H1), a self-scanning light-emitting chip having a thyristor structure is used. For example, FIG. 3 shows an equivalent circuit of the light emitting element chip.

【0037】同図3中において、2001はシフトレジ
スタ部、2002は発光部を示す。この発光素子チップ
内には1列の発光素子が備えられており、発光部200
2内の各発光素子列は例示的に128個の発光サイリス
タを持っている。ただしこの発光サイリスタの数は2以
上の複数であればよく、上記個数に限られるものではな
い。ここで、L1001、L1002、…L1128は
発光サイリスタである。また、R1001、R100
2、…R1128は負荷抵抗を、D1001、D100
2、…D1127はダイオードを、T1001、T10
02、・‥T1128は発光サイリスタからなるスイッ
チ素子をそれぞれ示す。また、VGAは電源供給ライ
ン、ΦSAはスタートパルスライン、DATAは発光素
子列の発光サイリスタへの書き込み信号ラインをそれぞ
れ示す。
In FIG. 3, reference numeral 2001 denotes a shift register unit, and 2002 denotes a light emitting unit. One row of light emitting elements is provided in the light emitting element chip.
Each light-emitting element row in 2 has 128 light-emitting thyristors illustratively. However, the number of the light emitting thyristors may be two or more, and is not limited to the above number. Here, L1001, L1002,... L1128 are light emitting thyristors. Also, R1001, R100
2,... R1128 are load resistances, D1001, D100
2,... D1127 are diodes, T1001, T10
02,... T1128 indicate switch elements each composed of a light emitting thyristor. VGA denotes a power supply line, ΦSA denotes a start pulse line, and DATA denotes a write signal line to a light emitting thyristor of a light emitting element row.

【0038】ここで、例えばT1001およびT100
2のスイッチ素子のゲート端子はダイオードDlOOl
を介して互いに接続され、またそれぞれ負荷抵抗R10
01およびR1002を介して電源VGAに接続され
る。その一方で、転送動作のための転送クロック¢1、
Φ2がそれぞれT1001、T1002のそれぞれのカ
ソードに印加される。ちなみに、同図3には一つの発光
素子チップのみの内部についての回路図が示されている
が、他の発光素子チップも同様の構成を有するため、こ
こでの重復する記載は割愛する。
Here, for example, T1001 and T100
The gate terminal of the second switch element is a diode DIOOL.
Are connected to each other via a load resistor R10.
01 and R1002 to the power supply VGA. On the other hand, transfer clock # 1 for the transfer operation,
Φ2 is applied to the respective cathodes of T1001 and T1002, respectively. Incidentally, FIG. 3 shows a circuit diagram of the inside of only one light emitting element chip. However, since the other light emitting element chips have the same configuration, the repeated description is omitted here.

【0039】さて、今、ある時刻において、スイッチ素
子の一つT1001が転送クロックΦ1によってオン
(ON)状態であるとするとそのゲート電位はほぼ零
(0)ボルトになり、この電位はダイオードD1001
を通して右方向に影響を与える。そしてある時間が経過
した後、次の転送クロックΦ1とは180度位相が異な
る転送クロックΦ2によって、右方向の素子のみ選択的
にON状態に変換(ターンオン)されるため、右方向へ
の転送が可能となる。上記のΦ1によるON状態開始か
らΦ2による右方向の素子のターンオンまでの間、T1
001がアドレスされ、その間に画像情報に対応したD
ATAクロックに対して、書き込み信号ラインDATA
からパルスを印加することにより、対応する発光サイリ
スタL1001が発光する。ここで、与えられた画像信
号によっては各発光素子をオフ(OFF)にすることも
できる。また次にΦ2によるターンオン後はT1002
がアドレスされているためL1002を発光できる。こ
のような転送動作と書き込み信号のON/OFFを繰り
返すことにより所定の発光サイリスタを画像データのと
おりに発光させることができる。ちなみに、上記発光素
子チップの駆動についての説明もまた、一つの発光素子
チップについての例示的なものであり、他の発光素子チ
ップについても同様である。このため、DATA以外の
信号は各発光素子チップ共通とできるため、ドライバー
部は各発光素子チップ共通とできる。この結果、発光素
子チップとドライバーチップとが必ずしも1:1の対応
で接続されなくともよい。
Now, assuming that one of the switching elements T1001 is turned on (ON) at a certain time by the transfer clock Φ1, the gate potential thereof becomes almost zero (0) volt, and this potential becomes the diode D1001.
Affects right through. After a lapse of a certain time, only the rightward element is selectively turned on (turned on) by the transfer clock Φ2 which is 180 ° out of phase with the next transfer clock Φ1, so that the transfer in the rightward direction is performed. It becomes possible. From the start of the ON state by Φ1 to the turn-on of the rightward element by Φ2, T1
001 is addressed, during which D corresponding to the image information is
In response to the ATA clock, the write signal line DATA
, The corresponding light-emitting thyristor L1001 emits light. Here, each light emitting element can be turned off (OFF) depending on a given image signal. Next, after turn-on by Φ2, T1002
Are addressed, L1002 can emit light. By repeating such a transfer operation and ON / OFF of the write signal, a predetermined light-emitting thyristor can emit light according to image data. Incidentally, the description of the driving of the light emitting element chip is also an example of one light emitting element chip, and the same applies to other light emitting element chips. Therefore, since signals other than DATA can be common to each light emitting element chip, the driver section can be common to each light emitting element chip. As a result, the light emitting element chips and the driver chips do not necessarily have to be connected in a 1: 1 correspondence.

【0040】また、発光素子チップアレイCHを構成す
る発光素子をエレクトロルミネセンス(EL)タイプの
ものに代えても、上記のようなサイリスタ構造からなる
自己走査型発光体チップと同様に、本実施形態の露光装
置に適用することはできる。
Even if the light-emitting elements constituting the light-emitting element chip array CH are replaced with electroluminescent (EL) type light-emitting elements, as in the case of the self-scanning light-emitting chip having a thyristor structure as described above, the present embodiment is also applicable. It can be applied to an exposure apparatus of the form.

【0041】本実施形態に適用可能なEL素子の構造
(積層構造)については、図4、図5にその詳細を示
す。
FIGS. 4 and 5 show the details of the structure (laminated structure) of the EL element applicable to this embodiment.

【0042】すなわち、図4には、EL素子による発光
素子(部)の構成を層積層方向から見た平面図を、また
図5には層積層方向に垂直な断面を示す断面図を、それ
ぞれ示す。両図に示すように、EL素子による発光部
は、複数の積層体からなる基板204全体で一つの発光
部を形成している。また、このEL素子の発光部を発光
素子列として用いる場合には、先の図2における実装基
板4とCH1とを一体化したものが基板204に相当す
る。
That is, FIG. 4 is a plan view of the structure of a light emitting element (part) using an EL element as viewed from the layer stacking direction, and FIG. 5 is a cross sectional view showing a cross section perpendicular to the layer stacking direction. Show. As shown in both figures, the light emitting portion formed by the EL element forms one light emitting portion by the entire substrate 204 including a plurality of stacked bodies. When the light emitting portion of the EL element is used as a light emitting element row, the mounting board 4 and CH1 in FIG.

【0043】この基板204の構成は、発光波長に対し
て透明な透明基材2041上にITO(indium tin o
xide)等で構成されるこれも発光波長に対して透明なプ
ラス電極が、2042a、2042b、2042c、2
042d…というように(図4、図5を参照)発光素子
ごとに分割して形成されている。そのプラス電極の一部
の上に有機物のホール輸送層2043、有機物のエレク
トロン輸送層2044が積層され、有機物層2043、
2044の上にMg、Al等のマイナス電極層2045
が積層されている。場合によってはこのマイナス電極層
2045の上に図示されない封止層が積層される場合も
ある。ここで、プラス電極2042a、2042b、2
042c、2042dとマイナス電極2045との間に
最適な電圧を印加することにより良好な発光が行え、透
明基材2041方向に所望の光量が得られる。ここで、
ITOを発光波長を反射する金属膜などに変更すること
により、層積層方向に垂直に光を取り出すこともでき
る。また、図5中でプラス電極が並列に電源につながれ
ているとしてあるが、これは電圧が印加されることを摸
式的に示す図であり、各電極ごとにスイッチングしても
よく、時間ごとに各電極をスイッチングしてもよい。ま
た、ここでは、エレクトロン輸送層ならびにホール輸送
層を有機物として限定して説明したが、これらは無機物
で構成してもよい。
The structure of the substrate 204 is such that ITO (indium tin oxide) is formed on a transparent substrate 2041 which is transparent to the emission wavelength.
xide) etc., which are also transparent to the emission wavelength and have positive electrodes 2042a, 2042b, 2042c,
(See FIG. 4 and FIG. 5) for each light emitting element. An organic hole transport layer 2043 and an organic electron transport layer 2044 are stacked on part of the positive electrode.
A negative electrode layer 2045 of Mg, Al, etc. on 2044
Are laminated. In some cases, a sealing layer (not shown) may be laminated on the negative electrode layer 2045. Here, the plus electrodes 2042a, 2042b, 2
By applying an optimum voltage between the electrodes 042c and 2042d and the minus electrode 2045, good light emission can be performed, and a desired light amount can be obtained in the direction of the transparent substrate 2041. here,
By changing ITO to a metal film or the like that reflects the emission wavelength, light can be extracted perpendicular to the layer stacking direction. In addition, in FIG. 5, the plus electrode is assumed to be connected to the power supply in parallel. This is a diagram schematically showing that a voltage is applied, and switching may be performed for each electrode. Alternatively, each electrode may be switched. Although the electron transport layer and the hole transport layer have been described as being limited to organic substances, they may be composed of inorganic substances.

【0044】次に、本実施形態における露光装置30の
製造工程について、ロッドレンズアレイ3の取り付けを
中心に図6〜図9を参照して説明する。
Next, the manufacturing process of the exposure apparatus 30 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

【0045】なお、図6、図7、及び図8は、ロッドレ
ンズアレイの取り付け工程を視覚的に示したものであ
り、図9は、同取り付け工程の手順を概略的に示すフロ
ーチャートである。
FIGS. 6, 7, and 8 show the mounting process of the rod lens array visually, and FIG. 9 is a flowchart schematically showing the procedure of the mounting process.

【0046】また、ここで用いられるロッドレンズアレ
イ3は、先の図12において説明したロッドレンズアレ
イ300と同等の及び光学的特性を有するものであり、
図6〜8において距離や中心を示すL1,CT等の符号
も、図12で用いたものと同等の意味を有する。
The rod lens array 3 used here has the same and optical characteristics as the rod lens array 300 described in FIG.
In FIGS. 6 to 8, reference numerals such as L1 and CT indicating the distance and the center have the same meanings as those used in FIG.

【0047】また、説明の便宜上基板台5にはすでに別
な前工程において発光素子チップCHl〜CH7…およ
びドライバーチップDRl〜DR7…が実装された実装
基板4が取り付けられているものとする。ただし、これ
はロッドレンズアレイ3が取り付けられる(貼り付けら
れる)以前、以後のうちどちらでも構わない。
For convenience of explanation, it is assumed that the mounting board 4 on which the light emitting element chips CH1 to CH7 and the driver chips DR1 to DR7 are mounted in another previous step has already been mounted on the board base 5. However, this may be performed before or after the rod lens array 3 is attached (attached).

【0048】以下、露光装置の製造工程の中で、ロッド
レンズアレイを基板台に取り付ける工程を、図9のフロ
ーチャートに沿って説明する。この一連の製造工程は、
製造装置として周知の組み立て治具を用いて行う。
The step of attaching the rod lens array to the substrate stage in the manufacturing process of the exposure apparatus will be described below with reference to the flowchart of FIG. This series of manufacturing process,
This is performed using a known assembly jig as a manufacturing apparatus.

【0049】まず、同図9における工程Aの「基板取付
け面を基準に基板台を治具に取付」は、基板台5の実装
基板取付け面5aの背面を、組み立て治具(製造装置)
の一部に相当する基板台取付けガイド55に対してネジ
等で仮固定する工程である(図6参照)。このように、
基板台5を組み立て治具に取り付けることにより、組み
立て治具の光軸方向(=図6〜8中Z方向:以下Z方向
とする)の所定の基準面54と、ロッドレンズアレイ3
の中心が一致させられるべきZ方向仮中心CT'との距
離L4の割り出しを容易に行うことができる。基板台取
付けガイド55と基準面54との位置関係を予め割り出
しておけば、その位置関係に基づいて距離L4も容易に
算出することができるからである。ちなみにこの基準面
54は、光軸Z方向に対して垂直をなす平面であり、例
えば組み立て治具の一部であってもよいし、組み立て治
具が据置された作業台の表面等であってもよい(図7若
しくは図8参照)。ここで、L2は発光点からロッドレ
ンズアレイ3の光軸方向中心までの距離となるべきであ
るため(図12参照)、組み立て治具への取付け基準と
なる基板台5上の実装基板取付け面5aから、ロッドレ
ンズアレイ3のZ方向の中心が位置すべきZ方向の仮中
心CT'までの距離とは実装基板厚みと発光素子チップ
厚みを足した長さαだけ、L2より大きい。しかしなが
ら、発光素子チップは精密に製造されるのが通常である
ため、この長さαも極めて正確な数値である。よって、
Z方向の仮中心CT'が高い精度をもって決定されるこ
とに関し、信頼性が損なわれることはない。
First, "mounting the board base to the jig based on the board mounting surface" in step A in FIG. 9 is performed by assembling a jig (manufacturing apparatus) by mounting the rear surface of the mounting board mounting surface 5a of the board base 5 to the jig.
(See FIG. 6). in this way,
By attaching the substrate table 5 to the assembly jig, a predetermined reference surface 54 in the optical axis direction (= Z direction in FIGS. 6 to 8; hereinafter referred to as Z direction) of the assembly jig and the rod lens array 3
Of the distance L4 from the temporary center CT 'in the Z-direction to be matched with the center can be easily determined. This is because, if the positional relationship between the board mounting guide 55 and the reference surface 54 is determined in advance, the distance L4 can be easily calculated based on the positional relationship. Incidentally, the reference surface 54 is a plane perpendicular to the optical axis Z direction, and may be, for example, a part of an assembling jig, or a surface of a worktable on which the assembling jig is placed. (See FIG. 7 or FIG. 8). Here, since L2 should be the distance from the light emitting point to the center of the rod lens array 3 in the optical axis direction (see FIG. 12), the mounting board mounting surface on the board base 5 serving as the mounting reference to the assembly jig The distance from 5a to the temporary center CT 'in the Z direction where the center of the rod lens array 3 in the Z direction should be located is larger than L2 by the length α obtained by adding the thickness of the mounting substrate and the thickness of the light emitting element chip. However, since the light emitting element chip is usually manufactured precisely, the length α is also a very accurate numerical value. Therefore,
Regarding the determination of the temporary center CT ′ in the Z direction with high accuracy, the reliability is not impaired.

【0050】次に工程Bの「SLA貼付溝に接着剤を塗
布」では、図7、図8に示した接着剤90を取付け溝5
c位置に組み立て治具上のディスペンサ(図示略)等で
塗布する。また、この接着剤90は嫌気性硬化性などの
性質を持たせた物でもよく、さらに嫌気性硬化性に紫外
線や可視光による硬化性を持たせたものであってもよ
い。
Next, in the step B of “applying an adhesive to the SLA attaching groove”, the adhesive 90 shown in FIGS.
It is applied to the position c by a dispenser (not shown) on the assembly jig or the like. Further, the adhesive 90 may be a material having properties such as anaerobic curability, and may be a material having anaerobic curability having curability by ultraviolet light or visible light.

【0051】次に工程Cの「ロッドレンズアレイをハン
ド把持」について説明する。この工程では、図6、図7
に示す組み立て治具上のハンドHl,H2,H3…によ
ってロッドレンズアレイ3が把持される。ここで、ハン
ドHl,H2,H3…がロッドレンズアレイ3を把持し
た時に、ハンドHlで例示すると、ハンドHlのフィン
ガーHla,Hlbがクローズした状態で、フィンガー
Hla,HlbのZ方向の中心CT"がロッドレンズア
レイ3のZ方向の中心と一致するように調整されてい
る。一方、基準面54とハンドHlのフィンガーHl
a,Hlbの中心CT"との距離を前述の距離L4に調
整しておくことで、基板台5上の仮中心CT'とロッド
レンズアレイ3の中心がZ方向上で一致する。このハン
ドのフィンガーのZ方向中心と基準面54との距離L4
の関係は、Hl以外の他のハンドのフィンガー、図6中
のH2aとH2b、H3aとH3b…についても同様で
あり、発光素子配列方向(図6中X方向)の長手にわた
ってロッドレンズ3のZ方向中心を正確に決定すること
ができる。
Next, the process "hand gripping of the rod lens array" in step C will be described. In this step, FIGS.
The rod lens array 3 is gripped by hands H1, H2, H3,. When the hands Hl, H2, H3,... Grip the rod lens array 3, for example, when the hands Hl are closed, the fingers Hla, Hlb of the hand Hl are closed, and the fingers Hla, Hlb are centered in the Z direction. Is adjusted to coincide with the center in the Z direction of the rod lens array 3. On the other hand, the reference surface 54 and the finger Hl of the hand Hl are adjusted.
By adjusting the distance between the center CT ″ of a and Hlb to the above-described distance L4, the temporary center CT ′ on the substrate table 5 and the center of the rod lens array 3 match in the Z direction. Distance L4 between center of finger in Z direction and reference plane 54
Is the same for fingers of hands other than Hl, H2a and H2b, H3a and H3b... In FIG. 6, and the Z of the rod lens 3 extends over the length in the light emitting element arrangement direction (X direction in FIG. 6). The direction center can be accurately determined.

【0052】次に工程Dの「ハンド移動」は、図6中の
ハンドHl、H2、H3…がロッドレンズアレイ3を把
持した状態を保ったままで、図6若しくは図8の矢指方
向(Y方向)にハンドHl、H2、H3を移動させ、ロ
ッドレンズアレイ3を基板台5上のロッドレンズアレイ
取付け面5bに接触させ、各々を図8にある位置関係と
する。
Next, in the "hand movement" in the step D, the hand H1, H2, H3,... In FIG. 8), the hands H1, H2, and H3 are moved so that the rod lens array 3 is brought into contact with the rod lens array mounting surface 5b on the substrate table 5, and each has a positional relationship shown in FIG.

【0053】次に工程Eの「接着剤硬化」では、図8の
位置関係のまま、接着剤90が、嫌気性硬化のみで硬化
するものであれば所定の時間をかけて嫌気硬化が行われ
る。また、紫外線や可視光による硬化性も付与された接
着剤90であるならば、紫外線あるいは可視光を接着剤
に照射して硬化させれば、硬化を促進させて製造工程の
効率化を図ることもできる。ここでは図9のフローチャ
ート中にも記してあるように、ハンドに把持されること
により、ロッドレンズアレイ3は保持状態にある。
Next, in the "adhesive curing" of the process E, the anaerobic curing is performed for a predetermined time if the adhesive 90 is cured only by anaerobic curing while keeping the positional relationship of FIG. . In addition, if the adhesive 90 is also provided with curability by ultraviolet light or visible light, the adhesive may be cured by irradiating the adhesive with ultraviolet light or visible light to accelerate the curing and improve the efficiency of the manufacturing process. Can also. Here, as also described in the flowchart of FIG. 9, the rod lens array 3 is held by being held by the hand.

【0054】次に工程Fの「ハンド把持解除」ではハン
ドHl、H2、H3はロッドレンズアレイ3を離す。そ
して最後は組み立て治具(基板台取付けガイド55)よ
り基板台5をロッドレンズアレイ3ごと外してロッドレ
ンズアレイの取り付け工程を終了する。
Next, in step F, “hand grip release”, the hands H1, H2, H3 release the rod lens array 3. Finally, the substrate table 5 is removed together with the rod lens array 3 from the assembly jig (substrate table mounting guide 55), and the rod lens array mounting process is completed.

【0055】ここで、最後の工経で治具から基板台5を
外す前に前述したカバー6を取り付けてもよい。このカ
バー取り付け工程も含めると、露光装置30の組み立て
が完了することとなる。
Here, the cover 6 described above may be attached before the substrate table 5 is removed from the jig in the last process. Including the cover attaching step, the assembly of the exposure apparatus 30 is completed.

【0056】すなわち、本実施形態におけるロッドレン
ズアレイ3の取り付け工程では、(1)基板台5を実装
基板取付け面5aの背面にて組み立て治具の基板台取付
けガイド55に仮固定すること、(2)光軸Z方向に対
して垂直に設定される基準面54と基板台取付けガイド
55との位置関係を割り出しておき、基板台5上の仮中
心CT'から基準面54までの距離L4を算出するこ
と、(3)ハンドHl等によってロッドレンズアレイ3
を把持(保持)すること、(4)基準面54とハンドH
l等のフィンガーの中心CT"との距離を距離L4に調
整しておき、基板台5上の仮中心CT'とロッドレンズ
アレイ3の中心(フィンガーの中心CT'')とをZ方向
(軸上)で一致させた上で、両者を接着すること、とい
った一連の手順に基づいて製造工程をおこなうことによ
り、完成品としての露光装置3に関し、その発光点から
ロッドレンズアレイ3の中心までの距離L2が高精度で
保証されるようになっている。
That is, in the mounting step of the rod lens array 3 in the present embodiment, (1) the substrate table 5 is temporarily fixed to the substrate table mounting guide 55 of the assembling jig on the back surface of the mounting substrate mounting surface 5a; 2) The positional relationship between the reference surface 54 set perpendicular to the optical axis Z direction and the substrate table mounting guide 55 is determined, and the distance L4 from the temporary center CT ′ on the substrate table 5 to the reference surface 54 is determined. Calculating (3) rod lens array 3 by hand Hl or the like
(4) Reference surface 54 and hand H
The distance between the center of the finger CT such as "1" and the center CT "of the finger is adjusted to the distance L4, and the temporary center CT 'on the substrate table 5 and the center of the rod lens array 3 (center of the finger CT") in the Z direction (axis By performing the manufacturing process based on a series of procedures such as bonding the two in the above (1) and (2), the exposure apparatus 3 as a finished product, from the light emitting point to the center of the rod lens array 3, is manufactured. The distance L2 is guaranteed with high accuracy.

【0057】ここで、先の図12において説明したよう
に、露光装置に対するロッドレンズアレイの取り付けに
関して従来の方法では、光軸方向におけるロッドレンズ
と光源(発光素子)等との位置関係を認識・確定するの
にロッドレンズ面を基準として用いることにより、当該
ロッドレンズの露光装置への取り付けを行っていた。こ
のため、各製造ロットにおけるロッッドレンズ長L3の
バラつきに起因して、実際の結像面間隔が距離L1から
外れる傾向が大きくなったり、距離Llの中央にロッド
レンズアレイの中央が一致せずにL2=Ll/2の関係
が十分に保証されなくなる等の問題が生じ(図12参
照)、いずれの場合も発光素子からの光束の良好な結像
が困難になるといった問題があった。
As described above with reference to FIG. 12, in the conventional method for attaching the rod lens array to the exposure apparatus, the positional relationship between the rod lens and the light source (light emitting element) in the optical axis direction is recognized. By using the rod lens surface as a reference for determination, the rod lens was attached to the exposure apparatus. For this reason, due to the variation of the rod lens length L3 in each manufacturing lot, the tendency that the actual image plane distance deviates from the distance L1 increases, or the center of the rod lens array does not coincide with the center of the distance L1 and L2. = Ll / 2 is not sufficiently ensured (see FIG. 12), and in any case, it is difficult to form a good image of a light beam from the light emitting element.

【0058】この点、本実施形態における露光装置30
の製造方法によれば、ロッドレンズアレイの取り付け工
程において、組み立て治具上でロッドレンズアレイ3の
光軸方向中心出しをして、その位置と基板台に取り付け
るべき位置をあらかじめ位置出ししておくことにより、
ロッドレンズアレイ3自身の光軸方向長さがバラついて
いたとしても良好な結像関係が行える位置にロッドレン
ズアレイ3を取り付けられる。
In this respect, the exposure apparatus 30 in the present embodiment
According to the manufacturing method of (1), in the rod lens array mounting process, the center of the rod lens array 3 in the optical axis direction is centered on the assembling jig, and its position and the position to be mounted on the substrate table are previously determined. By doing
Even if the length of the rod lens array 3 itself in the optical axis direction varies, the rod lens array 3 can be mounted at a position where a good imaging relationship can be obtained.

【0059】さらに、上記ロッドレンズアレイの取り付
け工程における位置決めや取付け等の作業に際し、とく
にハンドH1,H2,H3…を適用することにより、作
業効率や精度も一層高まることとなっている。
Further, by applying the hands H1, H2, H3... In the work of positioning and mounting in the mounting process of the rod lens array, the working efficiency and accuracy are further improved.

【0060】よって、本実施形態の製造法によって製造
された露光装置は、高精細な潜像形成を実現することが
できるようになる。そして、そのような高精細な潜像形
成が行える露光装置を画像形成装置に備えることによ
り、高品位な画像の出力が可能となる。
Accordingly, the exposure apparatus manufactured by the manufacturing method of the present embodiment can realize the formation of a high-definition latent image. By providing an exposure apparatus capable of forming such a high-definition latent image in the image forming apparatus, it is possible to output a high-quality image.

【0061】(第2の実施の形態)次に、本発明の第2
の実施形態を図10、図11に基づいて説明する。本実
施形態においては、第1の実施形態に比し結像素子であ
るロッドレンズアレイの光軸方向の中心出しの手段が異
なる。その一方、露光装置全体、本実施形態の露光装置
が組み込まれる画像形成装置、発光素子の詳細、および
ロッドレンズアレイの特性については第1の実施形態で
適用したものと同等であるため、ここでの重複する記載
は割愛する。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described.
Will be described with reference to FIGS. 10 and 11. In the present embodiment, the means for centering the rod lens array, which is the imaging element, in the optical axis direction is different from the first embodiment. On the other hand, the entire exposure apparatus, the image forming apparatus in which the exposure apparatus of the present embodiment is incorporated, the details of the light emitting elements, and the characteristics of the rod lens array are the same as those applied in the first embodiment. Are omitted.

【0062】以下、露光装置の製造工程の中でロッドレ
ンズアレイを前述の基板台に取り付ける(貼り付ける)
工程を、図10のフローチャートに沿って説明する。
Hereinafter, the rod lens array is attached to (attached to) the above-mentioned substrate table during the manufacturing process of the exposure apparatus.
The steps will be described with reference to the flowchart of FIG.

【0063】図10において、符号CH101は発光素
子チップ、DR101は発光素子チップCH101を駆
動するドライバーチップ、103はロッドレンズアレ
イ、104は発光素子チップCH101およびドライバ
ーチップDR101および図示されない制限抵抗などが
実装された実装基板、105は実装基板104が取り付
けられた基板台、154は組み立て治具の光軸方向(図
10中Z方向:以下Z方向とする)基準面、H101は
ロッドレンズアレイ103を吸着するハンドをそれぞれ
示す。
In FIG. 10, reference numeral CH101 denotes a light-emitting element chip, DR101 denotes a driver chip for driving the light-emitting element chip CH101, 103 denotes a rod lens array, 104 denotes a light-emitting element chip CH101, a driver chip DR101, and a not-shown limiting resistor. Mounting board 105, a board base on which the mounting board 104 is mounted, 154 a reference plane in the optical axis direction (Z direction in FIG. 10; hereinafter, referred to as Z direction) of the assembly jig, and H 101 suction the rod lens array 103. The hands to perform.

【0064】ロッドレンズアレイ103を基板台105
に取り付ける工程の手順としては第1の実施形態と同様
な図11のフローチャートに沿って進んでいく。
The rod lens array 103 is mounted on the substrate table 105.
The procedure of the process of attaching to the first embodiment proceeds according to the flowchart of FIG. 11 similar to the first embodiment.

【0065】まず、図11の工程A'の「基板取付け面
を基準に基板台を治具に取付」を説明する。この工程
は、図10において、基板台105の基板取付け面10
5aの背面に組み立て治具の基板台取付けガイドを接
し、図示されないネジなどの固定手段で取り付ける工程
である。このように基板台105を組み立て治具に取り
付けることで、第1の実施形態と同様、図10に示すよ
うにあらかじめ組み立て治具のZ軸方向の基準面154
からロッドレンズアレイ103の中心が一致させられる
べき仮中心CT'までの距離L104の割り出しが、基
板台取付けガイドと治具のZ方向基準面154との位置
関係を精密に割り出すことで可能となる。
First, a description will be given of "mounting the substrate table to the jig based on the substrate mounting surface" in step A 'of FIG. This step corresponds to the process of FIG.
This is a step of contacting the board mounting guide of the assembling jig with the back surface of 5a and mounting it with fixing means such as screws (not shown). By attaching the substrate table 105 to the assembling jig in this manner, similarly to the first embodiment, the reference surface 154 of the assembling jig in the Z-axis direction is previously set as shown in FIG.
Of the distance L104 from the center of the rod lens array 103 to the temporary center CT ′ at which the center of the rod lens array 103 should be matched can be determined by precisely determining the positional relationship between the board mounting guide and the Z-direction reference plane 154 of the jig. .

【0066】次に工程B'の「SLA貼付溝に接着剤を
塗布」では、図10に示した接着剤190を図示されな
い組み立て治具上のディスペンサなどで塗布する。この
接着剤190は嫌気性硬化性などの性質を持たせた物で
もよく、さらに嫌気性硬化性にUV硬化性を持たせたも
のでもよい。
Next, in “Applying an adhesive to the SLA attachment groove” in step B ′, the adhesive 190 shown in FIG. 10 is applied by a dispenser or the like on an assembly jig (not shown). The adhesive 190 may be a material having properties such as anaerobic curability, or may be a material having UV curability in addition to anaerobic curability.

【0067】次にC工捏の「ロッドレンズアレイをハン
ド吸着」について説明する。この工程では、図10にお
ける組み立て治具上に設けられ、テーパ状の吸引口を有
するハンドH101にロッドレンズアレイ103が吸着
される。ここで、ハンドH101の斜面(テーパ斜面)
H101aとH101bとの角度がハンドH101の中
心線CT"1−CT"2に対し正確に対称となるように製
作されている。そしてハンドH101の吸入口H101
Cから図示されない吸入手段(例えば真空ポンプ等)に
よって空気が吸入されると、ロッドレンズアレイ103
と斜面H101aおよびH101bで作られる空隙sp
には負圧がかかる。そうすることでロッドレンズアレイ
103のZ方向の陵部が斜面H101a,H101bに
接し、H101にロッドレンズアレイ103の吸着が完
了する。ここで、斜面H101a、H101bが前述の
ような位置関係になっていることで、ロッドレンズアレ
イ103のZ方向中心とハンドH101の中心CT"1
−CT"2が一致する。
Next, the "hand-adsorption of the rod lens array" of the kneading C will be described. In this step, the rod lens array 103 is attached to the hand H101 provided on the assembly jig in FIG. 10 and having a tapered suction port. Here, the slope (taper slope) of the hand H101
It is manufactured so that the angle between H101a and H101b is exactly symmetric with respect to the center line CT "1-CT" 2 of the hand H101. And the suction port H101 of the hand H101
When air is sucked from C by suction means (not shown) (for example, a vacuum pump or the like), the rod lens array 103
And the gap sp formed by the slopes H101a and H101b
Is under negative pressure. By doing so, the ridge in the Z direction of the rod lens array 103 comes into contact with the slopes H101a, H101b, and the suction of the rod lens array 103 to H101 is completed. Here, since the inclined surfaces H101a and H101b have the above-described positional relationship, the center of the rod lens array 103 in the Z direction and the center CT "1 of the hand H101 are set.
-CT "2 matches.

【0068】一方、組み立て治具の基準面154とハン
ドH101のZ方向中心CT''1−CT"2との距離を
前述の距離L104にあらかじめ調整しておくことで、
基板台105上の仮中心CT'とロッドレンズアレイ1
03の中心がZ方向上で一致する。
On the other hand, the distance between the reference surface 154 of the assembling jig and the center CT ″ 1-CT ”2 of the hand H101 in the Z direction is adjusted to the above-described distance L104 in advance.
Temporary center CT 'on substrate stand 105 and rod lens array 1
03 coincides in the Z direction.

【0069】次に工程C'の「ハンド移動」は、図10
中のハンドH101がロッドレンズアレイ103を吸着
した状態を保ったままで、図10中Y方向にハンドH1
01を移動させ、ロッドレンズアレイ103を基板台1
05上のロッドレンズアレイ取付面105bに接触させ
る。
Next, the “hand movement” in step C ′ is performed as shown in FIG.
The hand H1 in the Y direction in FIG. 10 keeps the state where the hand H101 in the middle holds the rod lens array 103 by suction.
01 to move the rod lens array 103 to the substrate stage 1
5 is brought into contact with the rod lens array mounting surface 105b on the main lens 05.

【0070】次に工程E'の「接着剤硬化」では、接着
剤190が嫌気性硬化のみで硬化するものであれば嫌気
硬化が行われる。また、紫外線や可視光による硬化性も
付与された接着剤190であれば、紫外線あるいは可視
光を接着剤に照射して硬化を促進させ、一層製造工程の
効率化を図ることができるのは、上記第1の実施形態と
同様である。同工程E'において、ハンドHl0lによ
るロッドレンズアレイ103吸着状態は保持されてい
る。
Next, in the "adhesive curing" of the step E ', anaerobic curing is performed if the adhesive 190 can be cured only by anaerobic curing. In addition, if the adhesive 190 is also provided with curability by ultraviolet light or visible light, the adhesive is irradiated with ultraviolet light or visible light to promote curing, and the efficiency of the manufacturing process can be further improved. This is the same as in the first embodiment. In the process E ′, the suction state of the rod lens array 103 by the hand H101 is maintained.

【0071】次に工程F'の「ハンド吸着解除」ではハ
ンドHl0lがロッドレンズアレイ103を離す。そし
て最後は組み立て治具より基板台105をロッドレンズ
アレイ103ごと外してロッドレンズアレイ取り付け工
程を終了する。
Next, in the step F ′ “hand suction release”, the hand H101 releases the rod lens array 103. Finally, the substrate stand 105 is removed together with the rod lens array 103 from the assembly jig, and the rod lens array mounting step is completed.

【0072】このように、本実施形態におけるロッドレ
ンズアレイ取り付け工程においても、上記第1の実施形
態と同様、組み立て治具上でロッドレンズアレイの光軸
方向中心出しをして、その位置と基板台に取り付ける
(貼り付ける)べき位置をあらかじめ位置出ししておく
ことにより、ロッドレンズアレイ自身の光軸方向の長さ
がバラついていたとしても良好な結像関係が成立する位
置にロッドレンズアレイを組み付けられる。
As described above, in the rod lens array mounting step in this embodiment, similarly to the first embodiment, the rod lens array is centered on the assembly jig in the optical axis direction, and its position and the substrate are set. By locating the position to be attached (attached) to the table in advance, the rod lens array can be placed at a position where a good imaging relationship is established even if the length of the rod lens array itself in the optical axis varies. Assembled.

【0073】従って本実施形態の露光装置によれば、高
精細な潜像形成ができるようになり、また高精細な潜像
形成が行える本露光装置を画像形成装置に備えることに
より、高品位な画像の出力が可能となる。
Therefore, according to the exposure apparatus of the present embodiment, it is possible to form a high-definition latent image, and to provide the image forming apparatus with the exposure apparatus capable of forming a high-definition latent image. Image output becomes possible.

【0074】加えて、空気の負圧で吸着するハンドを用
いることにより、クリーンルーム等の環境下で組立工程
を行っても、ルーム内の清浄且つ静寂な環境を乱すこと
がない。
In addition, by using a hand that sucks with the negative pressure of air, even if the assembly process is performed in an environment such as a clean room, the clean and quiet environment in the room is not disturbed.

【0075】[0075]

【発明の効果】本発明の露光装置の製造方法によれば、
結像素子の取り付け工程において、組み立て治具上で結
像素子の光軸方向中心出しをして、その位置と基板台に
取り付ける(貼り付ける)べき位置を予め位置出しして
おくことにより、結像素子自身の光軸方向の長さがバラ
ついていたとしても良好な結像関係が行える位置に結像
素子を組み付けられる。よって、本発明の露光装置によ
れば、高精細な潜像形成ができるようになる。また、本
発明の画像形成装置によれば、上記高精細な潜像形成が
行える本露光装置を画像形成装置に内蔵することとな
り、高品位な画像の出力が可能となる。
According to the method of manufacturing an exposure apparatus of the present invention,
In the mounting step of the imaging element, the imaging element is centered on the assembly jig in the optical axis direction, and the position to be mounted (attached) to the substrate table is determined in advance. Even if the length of the image element itself in the optical axis direction varies, the image forming element can be assembled at a position where a good image forming relationship can be obtained. Therefore, according to the exposure apparatus of the present invention, a high-definition latent image can be formed. Further, according to the image forming apparatus of the present invention, the exposure apparatus capable of forming the high-definition latent image is built in the image forming apparatus, so that a high-quality image can be output.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態の露光装置が組み込ま
れる画像形成装置を説明する図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating an image forming apparatus in which an exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention is incorporated.

【図2】本発明の第1の実施形態の露光装置と像担持体
の断面を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a cross section of an exposure apparatus and an image carrier according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態の発光素子チップの一
例の等価回路である。
FIG. 3 is an equivalent circuit of an example of a light emitting element chip according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施形態の発光素子の一例の発
光部付近を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating the vicinity of a light emitting section of an example of the light emitting element according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施形態の発光素子の一例の発
光部付近を説明する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating the vicinity of a light emitting section of an example of the light emitting element according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第1の実施形態のロッドレンズアレイ
取り付け工程の一部を説明する斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view illustrating a part of a rod lens array attaching step according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第1の実施形態のロッドレンズアレイ
取り付け工程の一部を説明する図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a part of a rod lens array attaching process according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第1の実施形態のロッドレンズアレイ
取り付け工程の一部を説明する図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating a part of a rod lens array attaching process according to the first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第1の実施形態のロッドレンズアレイ
取り付け工程のフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart of a rod lens array attaching process according to the first embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第2の実施形態のロッドレンズアレ
イ取り付け工程の一部を説明する図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a part of a rod lens array attaching process according to a second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第2の実施形態のロッドレンズアレ
イ取り付け工程のフローチャートである。
FIG. 11 is a flowchart of a rod lens array attaching process according to a second embodiment of the present invention.

【図12】ロッドレンズアレイの光学的特性を説明する
図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating optical characteristics of a rod lens array.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

S1,S2 物面(像面) 2 像担持体 3,103,300 ロッドレンズアレイ 3a,3b,300a,300b レンズ面 4,104 発光素子チップ実装基板 5,105 基板台(基台) 5a,105a 実装基板取付け面 5b ロッドレンズアレイ取付け面 CT 光軸方向中心 10 複写機 13,14,15 給送ローラ 16a,16b レジストローラ 17 帯電器 18 現像器 19 転写器 20 原稿の読み取り機構 21 搬送路 22a,22b 定着器 23 トレイ 24 原稿台 54,154 基準面 55 基板台取付けガイド 80,81 記録材 90,190 接着剤 CH1,CH2,CH3,CH4,CH5,CH6,C
H7,CH101 発光素子チップアレイ 2 像担持体 3,103 ロッドレンズアレイ H1,H2,H3,H101 ハンド
S1, S2 Object surface (image surface) 2 Image carrier 3, 103, 300 Rod lens array 3a, 3b, 300a, 300b Lens surface 4, 104 Light emitting element chip mounting substrate 5, 105 Substrate (base) 5a, 105a Mounting substrate mounting surface 5b Rod lens array mounting surface CT Center in the optical axis direction 10 Copy machine 13, 14, 15 Feed roller 16a, 16b Registration roller 17 Charger 18 Developing device 19 Transfer device 20 Document reading mechanism 21 Transport path 22a, 22b Fixing device 23 Tray 24 Document table 54,154 Reference plane 55 Board table mounting guide 80,81 Recording material 90,190 Adhesive CH1, CH2, CH3, CH4, CH5, CH6, C
H7, CH101 Light emitting element chip array 2 Image carrier 3,103 Rod lens array H1, H2, H3, H101 Hand

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光源と、該光源から発せられる光束を像担
持体に結像する結像素子とが同一の基台に固定されてな
る露光装置の製造方法において、 前記結像素子における前記光束の光軸方向中心を基準と
して、前記基台に対する結像素子の固定位置の位置決め
を行うことを特徴とする露光装置の製造方法。
1. A method of manufacturing an exposure apparatus, comprising: a light source and an image forming element for forming an image of a light beam emitted from the light source on an image carrier, wherein the light beam in the image forming element is provided. A positioning position of the imaging element with respect to the base with respect to the center in the optical axis direction.
【請求項2】前記結像素子が前記基台に固定されたとき
に当該結像素子の光軸方向中心が位置することとなる仮
想中心を前記基台上に決めておき、該仮想中心と、前記
結像素子の光軸方向中心とが一致するように、該結像素
子を該基台に固定することを特徴とする請求項1記載の
露光装置の製造方法。
2. An imaginary center on which an optical axis direction center of the imaging element is located when the imaging element is fixed to the base is determined on the base, and the imaginary center is defined as the imaginary center. 2. The method according to claim 1, wherein the imaging element is fixed to the base so that the center of the imaging element in the optical axis direction coincides with the center.
【請求項3】前記仮想中心は、前記基台に固定される該
光源から、同じく同基台に固定される結像素子の光軸方
向中心までの距離が所定値となるように設定されること
を特徴とする請求項2記載の露光装置の製造方法。
3. The virtual center is set such that a distance from the light source fixed to the base to the center of the imaging element also fixed to the base in the optical axis direction becomes a predetermined value. 3. The method of manufacturing an exposure apparatus according to claim 2, wherein:
【請求項4】製造装置によって仮固定された結像素子の
光軸方向中心から所定の基準位置までの距離と、これも
製造装置によって仮固定された前記基台上の仮想中心か
ら同基準位置までの距離との比較により、該結像素子の
光軸方向中心と、該基台上の仮想中心とが略一致するよ
うに位置決めして、前記結像素子を前記基台へ固定する
ことを特徴とする請求項2又は3記載の露光装置の製造
方法。
4. A distance from an optical axis direction center of an imaging element temporarily fixed by a manufacturing apparatus to a predetermined reference position, and a distance from a virtual center on the base temporarily fixed by the manufacturing apparatus to the same reference position. By comparing with the distance to, the optical axis direction center of the imaging element and the virtual center on the base are positioned so as to substantially coincide with each other, and the imaging element is fixed to the base. 4. The method for manufacturing an exposure apparatus according to claim 2, wherein
【請求項5】前記露光装置の光源は、複数の発光素子か
らなる発光素子列を有してなることを特徴とする請求項
1〜4の何れか1つに記載の露光装置の製造方法。
5. The method of manufacturing an exposure apparatus according to claim 1, wherein the light source of the exposure apparatus has a light emitting element array including a plurality of light emitting elements.
【請求項6】前記結像素子の基台への固定にあたって
は、 製造装置に設けられた保持手段により該結像素子を仮固
定するとともにこれを保持しておく一方、該製造装置上
の所定位置に基台の仮固定を行い、 所定の基準位置と該結像素子の光軸方向中心との距離
と、当該基準位置と前記基台上の仮想中心との距離とを
認識しつつ、これらの距離を一致させるよう前記保持手
段によって前記結像素子の基台への固定を行うことを特
徴とする請求項2〜5の何れか1つに記載の露光装置の
製造方法。
6. When fixing the image forming element to the base, the image forming element is temporarily fixed and held by holding means provided in the manufacturing apparatus, While temporarily fixing the base to the position, while recognizing the distance between the predetermined reference position and the optical axis direction center of the imaging element and the distance between the reference position and the virtual center on the base, The method according to any one of claims 2 to 5, wherein the holding unit fixes the imaging element to the base so that the distances are matched.
【請求項7】前記保持手段は、結像素子を把持して保持
状態を保つことを特徴とする請求項6記載の露光装置の
製造方法。
7. The method according to claim 6, wherein said holding means holds the image forming element to maintain the holding state.
【請求項8】前記保持手段は、結像素子を吸着して保持
状態を保つことを特徴とする請求項6記載の露光装置の
製造方法。
8. The method of manufacturing an exposure apparatus according to claim 6, wherein said holding means holds the imaging element by suction.
【請求項9】前記保持手段は、該吸着負圧によって結像
素子の陵を吸着保持すべくテーパ状に形成された吸着口
を有するとともに、該テーパ状に形成された吸着口は、
その断面構造において、テーパ斜面が吸着口の中心軸に
対して略対称となるように形成されていることを特徴と
する請求項8記載の露光装置の製造方法。
9. The holding means has a tapered suction port for sucking and holding the ridge of the imaging element by the suction negative pressure, and the tapered suction port has:
9. The method according to claim 8, wherein the tapered slope is formed so as to be substantially symmetrical with respect to the central axis of the suction port.
【請求項10】前記製造装置によって前記基台を仮固定
する際には、該基台上において前記光源が固定される位
置を基準として仮固定を行うことを特徴とする請求項4
〜9の何れか1つに記載の露光装置の製造方法。
10. The method according to claim 4, wherein when the base is temporarily fixed by the manufacturing apparatus, the base is temporarily fixed on the basis of a position where the light source is fixed on the base.
10. The method of manufacturing an exposure apparatus according to any one of items 9 to 9.
【請求項11】前記基台に対し、前記結像素子を接着剤
で固定することを特徴とする請求項1〜10の何れか1
つに記載の露光装置の製造方法。
11. The imaging device according to claim 1, wherein the imaging element is fixed to the base with an adhesive.
6. A method for manufacturing an exposure apparatus according to any one of the above.
【請求項12】前記接着剤は嫌気性硬性であること特徴
とする請求項11記載の露光装置の製造方法。
12. The method according to claim 11, wherein the adhesive is anaerobic and hard.
【請求項13】前記接着剤は、紫外線あるいは可視光に
晒されると硬化する性質を有するものであることを特徴
とする請求項11又は12記載の露光装置の製造方法。
13. The method according to claim 11, wherein the adhesive has a property of curing when exposed to ultraviolet light or visible light.
【請求項14】請求項1〜13の何れか1つに記載の製
造方法によって製造されたことを特徴とする露光装置。
14. An exposure apparatus manufactured by the manufacturing method according to claim 1. Description:
【請求項15】前記光源は、複数の発光素子を並べた発
光素子チップを発光素子配列方向に複数並べた発光素子
チップアレイによって構成され、各発光素子チップには
しきい電圧もしくはしきい電流を電気的に制御可能な発
光サイリスタを多数配列し、近傍の発光サイリスタを互
いに、電圧もしくは電流の一方向性を持つ電気素子で接
続することによって駆動部を形成し、一つの発光素子チ
ップ内の各発光素子列はこの駆動部を共有し、2相の転
送クロックによって複数の発光素子列の発光を走査させ
ることを特徴とする請求項14記載の露光装置。
15. The light source comprises a light emitting element chip array in which a plurality of light emitting element chips in which a plurality of light emitting elements are arranged are arranged in the light emitting element arrangement direction, and a threshold voltage or a threshold current is applied to each light emitting element chip. A drive unit is formed by arranging a large number of electrically controllable light-emitting thyristors and connecting the neighboring light-emitting thyristors to each other by an electric element having one-way voltage or current, thereby forming a driving unit. 15. The exposure apparatus according to claim 14, wherein the light emitting element arrays share the driving unit, and scan the light emission of the plurality of light emitting element arrays with a two-phase transfer clock.
【請求項16】前記光源は、発光素子の発光層が有機物
もしくは無機物からなるEL発光素子をアレイ化して構
成される発光素子列であることを特徴とする請求項14
記載の露光装置。
16. The light source according to claim 14, wherein the light source is a light-emitting element array in which a light-emitting layer of the light-emitting element is formed by arraying EL light-emitting elements made of organic or inorganic substances.
Exposure apparatus according to the above.
【請求項17】前記発光素子列は、EL発光素子が透明
基材上に積層されて構成され、かつ各EL発光素子から
放射される光束はEL素子が積層される透明基材を透過
して放射されることを特徴とする請求項16記載の露光
装置。
17. The light-emitting element array is formed by laminating EL light-emitting elements on a transparent substrate, and a light beam emitted from each EL light-emitting element passes through the transparent substrate on which the EL elements are laminated. 17. The exposure apparatus according to claim 16, wherein the light is emitted.
【請求項18】前記発光素子列は、EL発光素子が基材
上に積層されて構成され、且つ各EL発光素子から放射
される光束は積層方向に略垂直な方向に放射されること
を特徴とする請求項16記載の露光装置。
18. The light-emitting element array, wherein EL light-emitting elements are stacked on a base material, and a light beam emitted from each EL light-emitting element is emitted in a direction substantially perpendicular to the stacking direction. The exposure apparatus according to claim 16, wherein
【請求項19】光源から射出された光束を前記結像手段
により結像し、該結像された光束を像担持体上に露光す
ることによって顕像化する電子写真式の画像形成装置で
あって、請求項14〜18の何れか1つに記載の露光装
置を前記光源として設け、発光素子列の配列方向が前記
像担持体の回転方向に直交する方向となるように当該露
光装置を配置したことを特徴とする画像形成装置。
19. An electrophotographic image forming apparatus which forms a light beam emitted from a light source by the image forming means and exposes the formed light beam on an image carrier to visualize the image. An exposure apparatus according to any one of claims 14 to 18 is provided as the light source, and the exposure apparatus is arranged such that an arrangement direction of the light emitting element rows is a direction orthogonal to a rotation direction of the image carrier. An image forming apparatus comprising:
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