JP2001068539A - Electrostatic chuck - Google Patents

Electrostatic chuck

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JP2001068539A
JP2001068539A JP24117399A JP24117399A JP2001068539A JP 2001068539 A JP2001068539 A JP 2001068539A JP 24117399 A JP24117399 A JP 24117399A JP 24117399 A JP24117399 A JP 24117399A JP 2001068539 A JP2001068539 A JP 2001068539A
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electrode
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Motohiro Umetsu
基宏 梅津
Mamoru Ishii
守 石井
Hironori Ishida
弘徳 石田
Yoichi Shirakawa
洋一 白川
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Taiheiyo Cement Corp
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Taiheiyo Cement Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent erosion f an organic adhesive, even in a highly corrosive gas by applying coatings of an inorganic coating material to exposed portions of the organic adhesive for adhering a dielectric substrate, having a suction surface to a support substrate. SOLUTION: A chuck 1 is constructed, such that an electrode 3 is formed on the underside of a dielectric substrate 2 by plating, screen-printing or the like. Then a support substrate 4 is provided under the electrode 3 for adhesion to the substrate 2 with an organic adhesive 5. Thereafter, portions of the adhesive 5 exposed to side surfaces are coated with an inorganic coating material 8. An electrode terminal 6 is brought into contact with the electrode 3 via a through-hole in the substrate 4. The substrate 2 is normally made of an insulating or conductive ceramic, while the substrate 4 is made of an insulating ceramic, a surface-insulated metal or the like. Since a direct current source 7 is connected to the electrode 3 of the chuck 1 via the terminal 6, when a direct current is fed to the electrode 3, the chuck 1 electrostatically chucks a silicon wafer that is mounted on a chucking surface 2a of the substrate 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置等
においてシリコンウェハ等の被吸着物を固定、搬送する
ために用いられる静電チャックに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrostatic chuck used for fixing and transporting an object such as a silicon wafer in a semiconductor manufacturing apparatus or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造装置等におけるシリコンウェ
ハ等の固定、搬送する治具としては、誘電層基板の下部
に電極を配し、その電極に直流電圧を印加することによ
り誘電層基板上面の吸着面にシリコンウェハを静電吸着
する静電チャックが使用されている。
2. Description of the Related Art As a jig for fixing and transporting a silicon wafer or the like in a semiconductor manufacturing apparatus or the like, an electrode is arranged below a dielectric layer substrate, and a DC voltage is applied to the electrode to attract the upper surface of the dielectric layer substrate. An electrostatic chuck that electrostatically attracts a silicon wafer to a surface is used.

【0003】特にエッチング装置では、ウェハ温度が2
00℃以下であることから、アルミナ、窒化アルミニウ
ム、ジルコニア、サファイア等からなる薄い誘電層基板
とそれを支える絶縁性セラミックス等からなる支持基板
との間に電極を配し、その誘電層基板と支持基板とを有
機系接着剤により接着すると同時に電極を固着する構造
を有する静電チャックが使用されている。
In particular, in an etching apparatus, the wafer temperature is 2
Since the temperature is not higher than 00 ° C., an electrode is arranged between a thin dielectric layer substrate made of alumina, aluminum nitride, zirconia, sapphire, etc. and a supporting substrate made of insulating ceramics or the like supporting the substrate, and the dielectric layer substrate is supported. 2. Description of the Related Art An electrostatic chuck having a structure in which an electrode is fixed while a substrate is adhered with an organic adhesive is used.

【0004】このような構造を有する静電チャックは、
作製が簡便であり、大型化が可能であり、しかも誘電層
基板と支持基板とを安価に問題なく接着できる利点があ
る。
An electrostatic chuck having such a structure is
There is an advantage that the fabrication is simple, the size can be increased, and the dielectric layer substrate and the supporting substrate can be bonded at low cost without any problem.

【0005】この静電チャックは、腐蝕性の高いガス、
例えばフッ素系ガス(例えばSF6、CF4、NF
3等)、塩素系ガス(例えばBCI3、Cl2、SiCl4
等)等のガス中で使用されることがしばしばある。これ
らのガスは必要に応じてO2ガスやArガス等が混合さ
れることがある。
This electrostatic chuck uses a highly corrosive gas,
For example, fluorine-based gas (for example, SF 6 , CF 4 , NF
3 ), chlorine-based gas (for example, BCI 3 , Cl 2 , SiCl 4)
Etc.) are often used in such gases. These gases may be mixed with O 2 gas, Ar gas, or the like as needed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この静
電チャックを腐蝕性の高いガス中で使用すると、誘電層
基板、あるいは支持基板が侵蝕される前に、誘電層基板
と支持基板との間に存在する有機系接着剤の露出部分が
侵蝕され、その結果、内部の電極が露出し、異常放電が
発生するという問題があった。
However, when this electrostatic chuck is used in a highly corrosive gas, the gap between the dielectric layer substrate and the support substrate before the dielectric layer substrate or the support substrate is eroded. There is a problem that the exposed portion of the existing organic adhesive is eroded, and as a result, the internal electrode is exposed and abnormal discharge occurs.

【0007】本発明は、上述した静電チャックが有する
課題に鑑みなされたものであって、その目的は、腐蝕性
の高いガス中で使用しても、有機系接着剤の侵蝕を防ぐ
ことのできる静電チャックを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the electrostatic chuck, and has as its object to prevent the organic adhesive from corroding even when used in a highly corrosive gas. It is to provide a possible electrostatic chuck.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成するため鋭意研究した結果、有機系接着剤の露出
部分を耐蝕性に優れた無機系被覆材で被覆すれば、有機
系接着剤の侵蝕を防ぐことができるとの知見を得て本発
明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, if the exposed portion of the organic adhesive is covered with an inorganic coating material having excellent corrosion resistance, the organic adhesive can be obtained. The inventors have found that the erosion of the adhesive can be prevented, and have completed the present invention.

【0009】即ち本発明は、(1)被吸着物を吸着する
吸着面を有する誘電層基板の下部に電極を配し、その電
極の下部にさらに支持基板を配し、その誘電層基板と支
持基板とを有機系接着剤により接着した静電チャックに
おいて、該有機系接着剤の露出部分が、無機系被覆材に
より被覆されていることを特徴とする静電チャック(請
求項1)とし、また、(2)前記無機系被覆材が、ケイ
酸リチウム、シリカゾル、ベーマイト等の水溶性結合材
からなることを特徴とする請求項1記載の静電チャック
(請求項2)とし、さらに、(3)前記誘電層基板が、
前記支持基板より大きいことを特徴とする請求項1また
は2記載の静電チャック(請求項3)とすることを要旨
とする。以下さらに詳細に説明する。
That is, according to the present invention, (1) an electrode is arranged below a dielectric layer substrate having an adsorption surface for adsorbing an object to be adsorbed, a support substrate is further arranged below the electrode, and the dielectric layer substrate is supported. An electrostatic chuck in which a substrate is adhered with an organic adhesive, wherein an exposed portion of the organic adhesive is coated with an inorganic coating material (claim 1). (2) The electrostatic chuck according to claim 1, wherein the inorganic coating material is made of a water-soluble binder such as lithium silicate, silica sol, and boehmite. ) Wherein said dielectric layer substrate comprises:
The gist of the present invention is to provide an electrostatic chuck according to claim 1 or 2, wherein the electrostatic chuck is larger than the support substrate. This will be described in more detail below.

【0010】上記で述べたように、有機系接着剤の侵蝕
を防ぐ静電チャックとしては、有機系接着剤の露出部分
が、無機系被覆材により被覆されている静電チャックと
した(請求項1)。
As described above, as the electrostatic chuck for preventing the erosion of the organic adhesive, an electrostatic chuck in which an exposed portion of the organic adhesive is covered with an inorganic coating material. 1).

【0011】電極を固着する有機系接着剤は、誘電層基
板と支持基板で覆われている部分は侵蝕されないが、覆
われていない露出部分が侵蝕されるので、その部分を耐
蝕性に優れた無機系被覆材により被覆すれば、腐食性の
高いガス中で使用しても有機系接着剤の侵蝕を防ぐこと
のできる静電チャックとすることができる。
The organic adhesive for fixing the electrode does not erode the portion covered with the dielectric layer substrate and the supporting substrate, but erodes the uncovered exposed portion, so that the portion has excellent corrosion resistance. By coating with an inorganic coating material, it is possible to obtain an electrostatic chuck that can prevent erosion of an organic adhesive even when used in a highly corrosive gas.

【0012】その無機系被覆材としては、ケイ酸リチウ
ム、シリカゾル、ベーマイト等の水溶性結合材からなる
被覆材とした(請求項2)。
As the inorganic coating material, a coating material made of a water-soluble binder such as lithium silicate, silica sol, boehmite or the like is used.

【0013】これ以外の耐蝕性に優れた無機系材料であ
れば何でもよいが、特にこれら被覆材は、室温付近で溶
媒を揮発させることにより硬化するため、誘電層基板と
支持基板との接着に耐熱性の低い有機系接着剤を使用し
ても、その露出部分の接着剤が硬化熱によって劣化する
ことなく被覆することができる。
Any other inorganic material having excellent corrosion resistance may be used. In particular, since these coating materials are cured by evaporating the solvent at around room temperature, they are used for bonding the dielectric layer substrate and the supporting substrate. Even if an organic adhesive having low heat resistance is used, the adhesive at the exposed portion can be covered without being deteriorated by the heat of curing.

【0014】さらに、この無機系被覆材に無機フィラー
としてアルミナ、ジルコニア、シリカ等のセラミックス
粉末を必要量添加すれば、無機系被覆材の熱膨張係数を
誘電層基板あるいは支持基板に簡単に合わせることがで
き、温度の変化によって生ずる熱膨張収縮の違いによる
障害を取り除くことができる。
Further, by adding a required amount of ceramic powder such as alumina, zirconia, or silica as an inorganic filler to the inorganic coating material, the thermal expansion coefficient of the inorganic coating material can be easily adjusted to the dielectric layer substrate or the supporting substrate. And obstruction caused by a difference in thermal expansion and contraction caused by a change in temperature can be eliminated.

【0015】その添加するセラミックス粉末としては、
例えば、誘電層基板として炭化ケイ素を用いる場合に
は、無機フィラーの主成分として熱膨張係数の近いジル
コニア及びシリカの混合粉末を用い、誘電層基板として
アルミナもしくはジルコニアを用いる場合には、無機フ
ィラーとしてアルミナ粉末もしくはジルコニア粉末を用
いればよい。
As the ceramic powder to be added,
For example, when using silicon carbide as the dielectric layer substrate, use a mixed powder of zirconia and silica having a close thermal expansion coefficient as a main component of the inorganic filler, and when using alumina or zirconia as the dielectric layer substrate, use as the inorganic filler. Alumina powder or zirconia powder may be used.

【0016】一方、誘電層基板の支持基板に対する大き
さも腐食性ガスに対する侵蝕に大きく影響があり、その
誘電層基板の大きさとしては、支持基板より大きい誘電
層基板とした(請求項3)。
On the other hand, the size of the dielectric layer substrate with respect to the supporting substrate also has a great influence on the erosion by the corrosive gas, and the size of the dielectric layer substrate is a dielectric layer substrate larger than the supporting substrate.

【0017】誘電層基板が支持基板より大きいと、誘電
層基板と支持基板とを接着する部分の接着剤の露出する
位置が誘電層基板の裏面となるので、腐食性ガスに直接
曝されることがなくなり、無機系被覆材に被覆されてい
る有機系接着剤の侵蝕がさらに影響少なくなる。
If the dielectric layer substrate is larger than the supporting substrate, the portion where the dielectric layer substrate and the supporting substrate are bonded, where the adhesive is exposed, is located on the back surface of the dielectric layer substrate, so that the substrate is directly exposed to corrosive gas. Erosion of the organic adhesive coated on the inorganic coating material is further reduced.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、図を参照して本発明の実施
の形態について述べる。図1の静電チャックは、誘電層
基板2の下面にメッキやスクリーン印刷等により電極3
を形成し、その下部に支持基板4を配して有機系接着剤
5により接着した後、側面の有機系接着剤の露出部分を
無機系被覆材8により被覆して作製したものである。な
お、電極端子6は、支持基板4の貫通穴から電極3に当
接させた。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the electrostatic chuck shown in FIG. 1, the electrodes 3 are formed on the lower surface of the dielectric layer substrate 2 by plating or screen printing.
Is formed, a support substrate 4 is disposed below the substrate, and the substrate is adhered with an organic adhesive 5, and then the exposed portion of the organic adhesive on the side surface is covered with an inorganic coating material 8. The electrode terminals 6 were brought into contact with the electrodes 3 through the through holes of the support substrate 4.

【0019】ここで誘電層基板には、通常絶縁性セラミ
ックスあるいは導電性セラミックスなどが用いられ、支
持基板には絶縁性セラミックスあるいは表面を絶縁した
金属などが用いられる。有機系接着剤には、特に限定し
ないが、耐蝕性を有しているものが好ましいので、シリ
コン系接着剤などを用いるのが好ましい。
The dielectric layer substrate is usually made of insulating ceramics or conductive ceramics, and the supporting substrate is made of insulating ceramics or a metal whose surface is insulated. The organic adhesive is not particularly limited, but preferably has corrosion resistance. Therefore, it is preferable to use a silicon adhesive or the like.

【0020】この作製した静電チャックは、直流電源8
が電極端子6を介して電極3に接続されているので、直
流電源を入れて電極3に給電することにより、誘電層基
板2の吸着面2aに載置されているシリコンウェハが静
電吸着される。
The manufactured electrostatic chuck is connected to a DC power supply 8
Is connected to the electrode 3 through the electrode terminal 6, the DC power is turned on to supply power to the electrode 3, whereby the silicon wafer placed on the suction surface 2 a of the dielectric layer substrate 2 is electrostatically attracted. You.

【0021】図1の静電チャックの構造は、これに限定
されるものではなく、図2に示すように、支持基板4の
上面に電極3を形成し、その上部に誘電層基板2を有機
系接着剤5で接着した後、接着剤の露出部分を無機系被
覆材8により被覆した構造でもよいし、また、図3に示
すように、支持基板として電極を兼ねた金属基板4の上
部に誘電層基板2を有機系接着剤で接着した後、接着剤
の露出部分を無機系被覆材8で被覆してもよい。
The structure of the electrostatic chuck shown in FIG. 1 is not limited to this. As shown in FIG. 2, an electrode 3 is formed on an upper surface of a support substrate 4 and a dielectric layer substrate 2 is formed on top of the electrode 3. After bonding with the system adhesive 5, the exposed portion of the adhesive may be covered with an inorganic coating material 8, or as shown in FIG. After bonding the dielectric layer substrate 2 with an organic adhesive, the exposed portion of the adhesive may be covered with an inorganic coating material 8.

【0022】一方、誘電層基板が支持基板より大きい静
電チャックの場合には、図4に示すように、図1に示す
支持基板4を誘電層基板2より小さくした一例で、有機
系接着剤の露出部分は誘電層基板2の裏面に位置するこ
ととなり、誘電層基板の上方に存在する腐食性ガスには
直接曝されることがない構造となる。
On the other hand, in the case where the dielectric layer substrate is an electrostatic chuck larger than the supporting substrate, as shown in FIG. 4, the supporting substrate 4 shown in FIG. Is located on the back surface of the dielectric layer substrate 2 so that the structure is not directly exposed to the corrosive gas existing above the dielectric layer substrate.

【0023】以上述べたような製電チャックとすれば、
腐蝕性の高いガス中で使用しても、有機系接着剤の侵蝕
を防ぐことのできる静電チャックとすることができる。
With the electric chuck as described above,
Even when used in a highly corrosive gas, an electrostatic chuck that can prevent erosion of the organic adhesive can be obtained.

【0024】[0024]

【実施例】以下、本発明の実施例を比較例と共に具体的
に挙げ、本発明をより詳細に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples of the present invention and Comparative Examples.

【0025】(実施例) (1)静電チャックの作製 誘電層基板としてZrO2基板を使用し、その誘電層基
板の下面にCuメッキにより単極型電極を形成し、その
下部にZrO2からなる支持基板を配した後、誘電層基
板と支持基板とをシリコン接着剤により接着すると同時
に電極を固着した。
(Example) (1) Production of Electrostatic Chuck A ZrO 2 substrate was used as a dielectric layer substrate, a monopolar electrode was formed by Cu plating on the lower surface of the dielectric layer substrate, and ZrO 2 was formed under the electrode. After arranging the supporting substrate, the dielectric layer substrate and the supporting substrate were bonded with a silicon adhesive, and the electrodes were fixed at the same time.

【0026】次いで支持基板の貫通穴から電極端子を挿
通させ、電極に当接させた後、誘電層基板と支持基板と
の間にある側面部の接着剤の露出部分に無機フィラーと
してアルミナ粉末を添加したシリカゾルからなる無機系
被覆材を被覆し、溶媒を十分に蒸発させた後、硬化させ
て有機系接着剤の露出部分を完全に無機系被覆材で被覆
した単極型静電チャックを作製した。なお、誘電層基板
と支持基板の大きさは、それぞれφ200×2tmmと
した。
Next, the electrode terminal is inserted through the through hole of the support substrate, and is brought into contact with the electrode. Then, alumina powder as an inorganic filler is applied to the exposed portion of the adhesive on the side surface between the dielectric layer substrate and the support substrate. After coating the inorganic coating material made of added silica sol and evaporating the solvent sufficiently, it is cured to produce a monopolar electrostatic chuck in which the exposed portion of the organic adhesive is completely covered with the inorganic coating material. did. Note that the size of the dielectric layer substrate and the size of the support substrate were each φ200 × 2 t mm.

【0027】(2)評価 得られた静電チャックの吸着面にシリコンウェハを載置
し、それを真空度0.1Toorの真空容器内に収容
し、その容器内に腐食性ガス(CF4+O2=50+10
SCCM)を流し込んだ後、静電チャックの電極に直流
電圧2kVを印加し、ウェハを吸着させ、それを10時
間経過させた。その結果、10時間経過させても異常放
電は認められず、安定してシリコンウェハを吸着固定す
ることができた。
(2) Evaluation A silicon wafer was placed on the suction surface of the obtained electrostatic chuck, and the silicon wafer was placed in a vacuum container having a degree of vacuum of 0.1 Toor, and a corrosive gas (CF 4 + O) was placed in the container. 2 = 50 + 10
After injecting SCCM), a DC voltage of 2 kV was applied to the electrodes of the electrostatic chuck to cause the wafer to be attracted and allowed to elapse for 10 hours. As a result, no abnormal discharge was observed even after 10 hours, and the silicon wafer could be stably fixed by suction.

【0028】(比較例)比較例として接着剤の露出部分
を無機系被覆材で被覆しない静電チャックを作製し、そ
れを同様に評価した。その結果、6時間経過したとき静
電チャックの側面部分から異常放電が認められた。接着
剤の露出部分を目視観察したところ、接着剤の一部が侵
蝕されており、その侵蝕が電極にまで及んでいる部分が
認められた。その周辺部が黒色にまで変化しているの
で、ここから異常放電が発生したものと考えられる。
(Comparative Example) As a comparative example, an electrostatic chuck in which the exposed portion of the adhesive was not covered with an inorganic coating material was produced, and the same was evaluated. As a result, when 6 hours had passed, abnormal discharge was observed from the side surface of the electrostatic chuck. When the exposed portion of the adhesive was visually observed, a portion of the adhesive was eroded, and a portion of the erosion extending to the electrode was observed. Since the peripheral portion has changed to black, it is considered that abnormal discharge has occurred from here.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上の通り、本発明にかかる静電チャッ
クであれば、腐蝕性の高いガス中で使用しても、有機系
接着剤の侵蝕を防ぐことのできる静電チャックとするこ
とができるようになった。
As described above, with the electrostatic chuck according to the present invention, an electrostatic chuck that can prevent the erosion of the organic adhesive even when used in a highly corrosive gas can be obtained. Now you can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】誘電層基板に電極を形成し、有機系接着剤を無
機系被覆材で被覆した図である。
FIG. 1 is a diagram in which electrodes are formed on a dielectric layer substrate, and an organic adhesive is coated with an inorganic coating material.

【図2】支持基板に電極を形成し、有機系接着剤を無機
系被覆材で被覆した図である。
FIG. 2 is a diagram in which an electrode is formed on a support substrate and an organic adhesive is coated with an inorganic coating material.

【図3】支持基板を電極に兼ね、有機系接着剤を無機系
被覆材で被覆した図である。
FIG. 3 is a diagram in which an organic adhesive is coated with an inorganic coating material, while the supporting substrate also serves as an electrode.

【図4】誘電層基板が支持基板より大きい場合の有機系
接着剤を無機系被覆材で被覆した図である。
FIG. 4 is a diagram in which an organic adhesive is coated with an inorganic coating material when the dielectric layer substrate is larger than the supporting substrate.

【符号の説明】 1 :静電チャック 2 :誘電層基板 2a:吸着面 3 :電極 4 :支持基板 5 :有機系接着剤 6 :電極端子 7 :直流電源 8 :無機系接着剤[Description of Signs] 1: Electrostatic chuck 2: Dielectric layer substrate 2a: Adsorption surface 3: Electrode 4: Support substrate 5: Organic adhesive 6: Electrode terminal 7: DC power supply 8: Inorganic adhesive

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白川 洋一 東京都江東区清澄1−2−23 太平洋セメ ント株式 会社 研究本部 清澄研究所 Fターム(参考) 3C016 AA01 BA01 CE05 GA10 5F031 CA02 HA16 MA32  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Yoichi Shirakawa 1-2-23 Kiyosumi, Koto-ku, Tokyo Pacific Cement Co., Ltd. Kiyosumi Research Laboratory, Research Headquarters F-term (reference) 3C016 AA01 BA01 CE05 GA10 5F031 CA02 HA16 MA32

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被吸着物を吸着する吸着面を有する誘電
層基板の下部に電極を配し、その電極の下部にさらに支
持基板を配し、その誘電層基板と支持基板とを有機系接
着剤により接着した静電チャックにおいて、該有機系接
着剤の露出部分が、無機系被覆材により被覆されている
ことを特徴とする静電チャック。
An electrode is arranged below a dielectric layer substrate having an adsorption surface for adsorbing an object to be adsorbed, a support substrate is further arranged below the electrode, and the dielectric layer substrate and the support substrate are organically bonded. An electrostatic chuck, wherein an exposed portion of the organic adhesive is covered with an inorganic coating material in the electrostatic chuck bonded with an agent.
【請求項2】 前記無機系被覆材が、ケイ酸リチウム、
シリカゾル、ベーマイト等の水溶性結合材からなること
を特徴とする請求項1記載の静電チャック。
2. The method according to claim 1, wherein the inorganic coating material is lithium silicate,
2. The electrostatic chuck according to claim 1, comprising a water-soluble binder such as silica sol or boehmite.
【請求項3】 前記誘電層基板が、前記支持基板より大
きいことを特徴とする請求項1または2記載の静電チャ
ック。
3. The electrostatic chuck according to claim 1, wherein the dielectric layer substrate is larger than the support substrate.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007110023A (en) * 2005-10-17 2007-04-26 Shinko Electric Ind Co Ltd Substrate holding apparatus
CN103098195A (en) * 2010-09-17 2013-05-08 朗姆研究公司 Polar regions for electrostatic de-chucking with lift pins

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