JP2001060400A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JP2001060400A
JP2001060400A JP11235716A JP23571699A JP2001060400A JP 2001060400 A JP2001060400 A JP 2001060400A JP 11235716 A JP11235716 A JP 11235716A JP 23571699 A JP23571699 A JP 23571699A JP 2001060400 A JP2001060400 A JP 2001060400A
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spare
information
circuit
word line
signal
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JP11235716A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Nakano
浩明 中野
Kaoru Nakagawa
薫 中川
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit device in which increment of a chip area caused by the increment of program elements for programming a defective address can be suppressed. SOLUTION: This device is provided with plural bit lines performing delivery and receipt of information with a memory cell, plural word lines WL selecting the memory cell taking out the information to the bit line, and spare word lines SWL relieving the word line connected to the memory cell which cannot take out the information normally. Further, the device is provided with a spare discriminating circuit 5 holding the relieving information for relieving the memory cell which cannot take out the information normally, and shared respectively in replacement of the word line WL by the spare word line SWL based on this relieving information and change of a refresh period of the word line WL based on this relieving information.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体記憶装置
に係わり、特に不良救済用のリダンダンシ回路の増加の
抑制に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and, more particularly, to suppressing an increase in redundancy circuits for repairing defects.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、1トランジスタ/1キャパシタ型
のメモリセル構造を持つダイナミック型半導体記憶装置
(DRAM)は、メモリセルの改良・微細加工技術及び
回路設計技術の進歩により、その高集積化、およびその
微細化が著しく進んでおり、今後もこの流れは続くと思
われる。
2. Description of the Related Art In recent years, dynamic semiconductor memory devices (DRAMs) having a one-transistor / one-capacitor type memory cell structure have been highly integrated due to improvements in memory cells, fine processing technology and circuit design technology. In addition, the miniaturization has been remarkably progressed, and this trend is expected to continue in the future.

【0003】DRAMの高集積化、つまり記憶容量の大
規模化に伴い、1チップに集積されるメモリセルの数
は、著しく増えている。このため、メモリセルアレイ内
で不良セルが発生する確率も高くなっており、不良セル
をスペアセルに置き換えるリダンダンシ技術が益々重要
になってきている。
[0003] With the increase in DRAM integration, that is, the increase in storage capacity, the number of memory cells integrated on one chip has increased significantly. For this reason, the probability of occurrence of a defective cell in the memory cell array is increasing, and a redundancy technique for replacing a defective cell with a spare cell is becoming increasingly important.

【0004】一般的なリダンダンシ技術は、不良セルが
発生した際、これをスペアセルに置き換えるものであ
る。たとえばあるワード線に接続されたメモリセルに不
良なものが発見されたとき、この不良セルを含むワード
線を、スペアセルに接続されたスペアワード線に置き換
える。一般にメモリの集積度・微細化の進展とともに、
不良セルを置き換えるためのスペアワード線、あるいは
スペアカラム選択線の数や、不良セルのアドレス情報な
どを記憶するためのヒューズの数も増大していく傾向に
ある。
In a general redundancy technique, when a defective cell occurs, it is replaced with a spare cell. For example, when a defective memory cell connected to a certain word line is found, the word line including the defective cell is replaced with a spare word line connected to a spare cell. In general, with the progress of memory integration and miniaturization,
The number of spare word lines or spare column selection lines for replacing defective cells and the number of fuses for storing address information of defective cells and the like also tend to increase.

【0005】また、不良セルをスペアセルに置き換える
ためには、外部から入力されるアドレス情報がヒューズ
にプログラムされた情報に一致するかどうかの判定をし
なければならない。この判定のためのスペア判定回路の
数、あるいはその規模も、メモリセルやヒューズの増大
にともなって増大していく傾向にある。
In order to replace a defective cell with a spare cell, it is necessary to determine whether address information input from the outside matches information programmed in a fuse. The number of spare determination circuits for this determination, or the scale thereof, also tends to increase as the number of memory cells and fuses increases.

【0006】このようなリダンダンシ技術は、主にワー
ド線やメモリセルに欠陥があって正常に読み書きできな
い場合に用いられてきたが、最近では、リフレッシュ周
期を延ばすためにも用いられている。DRAMの待機時
の消費電力を低く抑えるためには、リフレッシュ周期は
長い方がよい。リフレッシュ周期とは、メモリセルのデ
ータの減衰を補償するために、定期的にメモリセルに対
してデータを再書き込みする周期を指す。例えば全ての
ワード線を32msecでリフレッシュする場合に比べて、全
てのワード線を64msecでリフレッシュすることができれ
ば、待機時の消費電力は、半分になる。
[0006] Such a redundancy technique has been used mainly when a word line or a memory cell has a defect and reading and writing cannot be performed normally, but recently, it is also used to extend a refresh cycle. In order to reduce the power consumption of the DRAM during standby, the longer the refresh cycle, the better. The refresh cycle refers to a cycle in which data is periodically rewritten to the memory cells in order to compensate for the attenuation of the data in the memory cells. For example, if all the word lines can be refreshed in 64 msec as compared with the case where all the word lines are refreshed in 32 msec, the power consumption in the standby state is reduced to half.

【0007】しかしこの場合、リフレッシュ周期が32ms
ecでは問題なく動作するが、64msecでは不良してしまう
ポーズ特性の悪いメモリセルも何らかの方法で救済しな
ければならない。これらの不良まで上述したようなスペ
アワード線で置き換えようとするとチップ面積への影響
が非常に大きい。
However, in this case, the refresh cycle is 32 ms.
Memory cells with poor pause characteristics that work well with ec, but fail at 64 msec, must be rescued in some way. Attempts to replace these defects with spare word lines as described above have a very large effect on the chip area.

【0008】この問題を解決するために、ポーズ特性の
良い普通のメモリセルは長い周期でリフレッシュして、
ポーズ特性の悪いメモリセルだけをそれより短い周期で
リフレッシュすることで消費電力を抑えようとする方式
が提案されている。
In order to solve this problem, ordinary memory cells having good pause characteristics are refreshed in a long cycle,
A method has been proposed in which power consumption is suppressed by refreshing only memory cells having poor pause characteristics in a shorter cycle.

【0009】(参考文献:Y.Idei, et.al., "Dual-Peri
od Self-Refresh Scheme for Low-Power DRAM's with O
n-Chip PROM Mode Resister", IEEE J.Solid-State Cir
cuits, vol33, No.2, Feb. 1988. :S.Takase, et.a
l., "A 1.6GB/s DRAM with Flexible Mapping Redundan
cy Technique and Additional Refresh Scheme", IEEEI
SSCC digest of technical papers, Feb.1999.)
(Reference: Y.Idei, et.al., "Dual-Peri
od Self-Refresh Scheme for Low-Power DRAM's with O
n-Chip PROM Mode Resister ", IEEE J. Solid-State Cir
cuits, vol33, No.2, Feb. 1988.: S.Takase, et.a
l., "A 1.6GB / s DRAM with Flexible Mapping Redundan
cy Technique and Additional Refresh Scheme ", IEEEI
(SSCC digest of technical papers, Feb. 1999.)

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
においても、何らかの方法で、ポーズ特性の悪いメモリ
セルに接続されたワード線を指定しなければならない。
例えば後者の例では約8000本のワード線を4本単位でま
とめて約2000本のヒューズを用意することでプログラム
しているが、チップ面積への影響は大きい。
However, even in these methods, a word line connected to a memory cell having poor pause characteristics must be specified by some method.
For example, in the latter example, programming is performed by preparing about 2,000 fuses by grouping about 8000 word lines in units of four, but this has a large effect on the chip area.

【0011】この発明は、上記の事情に鑑み為されたも
ので、その目的は、不良アドレスをプログラムするため
のプログラム素子の増大によるチップ面積増を抑えるこ
とのできる半導体集積回路装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a semiconductor integrated circuit device capable of suppressing an increase in chip area due to an increase in program elements for programming a defective address. It is in.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の第1の態様に係る半導体集積回路装置
は、メモリセルと情報のやりとりを行う複数のビット線
と、前記ビット線に情報を取り出すメモリセルを選択す
る複数のワード線と、正常に情報を取り出すことができ
ないメモリセルに接続されているワード線を救済するた
めのスペアワード線と、前記正常に情報を取り出すこと
ができないメモリセルを救済するための救済情報を保持
し、この救済情報に基いた前記ワード線の前記スペアワ
ード線への置き換え、および前記救済情報に基いた前記
ワード線のリフレッシュ周期の変更の機能を有するスペ
ア判定回路とを具備することを特徴としている。
In order to achieve the above object, a semiconductor integrated circuit device according to a first aspect of the present invention comprises a plurality of bit lines for exchanging information with a memory cell, and A plurality of word lines for selecting a memory cell from which information is to be taken out, a spare word line for repairing a word line connected to a memory cell from which information cannot be taken out normally, and the above-mentioned information cannot be taken out normally It has a function of holding rescue information for relieving a memory cell, replacing the word line with the spare word line based on the rescue information, and changing a refresh cycle of the word line based on the rescue information. And a spare determination circuit.

【0013】また、上記目的を達成するために、この発
明の第2の態様に係る半導体集積回路装置は、メモリセ
ルと情報のやりとりを行う複数のビット線と、前記ビッ
ト線を選択するカラム選択線と、前記ビット線に情報を
取り出すメモリセルを選択する複数のワード線と、正常
に情報を取り出すことができないメモリセルに接続され
ているワード線を救済するためのスペアワード線、およ
び正常に情報を取り出すことができないメモリセルに接
続されているビット線を救済するためのスペアビット線
と、前記スペアビット線を選択するスペアカラム選択線
と、前記正常に情報を取り出すことができないメモリセ
ルを救済するための救済情報を保持し、この救済情報に
基いた前記ワード線の前記スペアワード線への置き換
え、および前記救済情報に基いた前記カラム選択線の前
記スペアカラム選択線への置き換えの機能を有するスペ
ア判定回路とを具備することを特徴としている。
In order to achieve the above object, a semiconductor integrated circuit device according to a second aspect of the present invention includes a plurality of bit lines for exchanging information with a memory cell, and a column selection for selecting the bit line. A plurality of word lines for selecting a memory cell from which information is to be taken out to the bit line, a spare word line to rescue a word line connected to a memory cell from which information cannot be taken out normally, and A spare bit line for relieving a bit line connected to a memory cell from which information cannot be taken out; a spare column selection line for selecting the spare bit line; and a memory cell from which information cannot be taken out properly. Holding relief information for relief, replacing the word line with the spare word line based on the relief information, and It is characterized by comprising a spare determination circuit having a function of replacement of the spare column selection line of the column select lines based on distribution.

【0014】また、上記目的を達成するために、この発
明の第3の態様に係る半導体集積回路装置は、メモリセ
ルと情報のやりとりを行う複数のビット線と、前記ビッ
ト線を選択するカラム選択線と、前記ビット線に情報を
取り出すメモリセルを選択する複数のワード線と、正常
に情報を取り出すことができないメモリセルに接続され
ているワード線を救済するためのスペアワード線、およ
び正常に情報を取り出すことができないメモリセルに接
続されているビット線を救済するためのスペアビット線
と、前記スペアビット線を選択するスペアカラム選択線
と、前記正常に情報を取り出すことができないメモリセ
ルを救済するための救済情報を保持し、この救済情報に
基いた前記ワード線の前記スペアワード線への置き換
え、前記救済情報に基いた前記カラム選択線の前記スペ
アカラム選択線への置き換え、および前記救済情報に基
いた前記ワード線のリフレッシュ周期の変更の機能を有
するスペア判定回路とを具備することを特徴としてい
る。
In order to achieve the above object, a semiconductor integrated circuit device according to a third aspect of the present invention includes a plurality of bit lines for exchanging information with a memory cell, and a column selection for selecting the bit line. A plurality of word lines for selecting a memory cell from which information is to be taken out to the bit line, a spare word line to rescue a word line connected to a memory cell from which information cannot be taken out normally, and A spare bit line for relieving a bit line connected to a memory cell from which information cannot be taken out; a spare column selection line for selecting the spare bit line; and a memory cell from which information cannot be taken out properly. Holding the relief information for relief, replacing the word line with the spare word line based on the relief information, Replacement of the spare column selection line of the column selection lines had, and is characterized by comprising a spare determination circuit having a function of changing the refresh period of the word lines based on the repair information.

【0015】上記第1〜第3の態様に係る半導体集積回
路装置であると、スペアワード線への置き換え、および
リフレッシュ周期の変更の機能を有するスペア判定回
路、あるいはスペアワード線への置き換え、およびスペ
アカラム選択線への置き換えの機能を有するスペア判定
回路、あるいはスペアワード線への置き換え、スペアカ
ラム選択線への置き換え、およびリフレッシュ周期の変
更の機能を有するスペア判定回路を具備する。
In the semiconductor integrated circuit device according to the first to third aspects, replacement with a spare word line and a spare determination circuit having a function of changing a refresh cycle, or replacement with a spare word line, and A spare determination circuit having a function of replacing with a spare column selection line, or a spare determination circuit having a function of replacing with a spare word line, replacing with a spare column selection line, and changing a refresh cycle is provided.

【0016】このようなスペア判定回路を具備すること
で、1つのスペア判定回路を、互いに異なった救済モー
ドに対応させることが可能となり、記憶容量の増大に伴
ったスペア判定回路の数の増加を抑制でき、チップ面積
増を抑えることができる。
By providing such a spare determination circuit, it is possible to make one spare determination circuit correspond to different relief modes, and to increase the number of spare determination circuits with an increase in storage capacity. It is possible to suppress the increase in the chip area.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態を図面
を参照して説明する。この説明に際し、全図にわたり、
共通の部分には共通の参照符号を付す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. For this explanation,
Common parts are denoted by common reference symbols.

【0018】[第1の実施形態]図1は、この発明の第
1の実施形態に係るDRAMのブロック図である。
[First Embodiment] FIG. 1 is a block diagram of a DRAM according to a first embodiment of the present invention.

【0019】図1に示すように、DRAMチップには、
複数のダイナミック型メモリセル(図示せず)が行列状
に配置されたメモリセルアレイが設けられている。この
例では、メモリセルアレイは、4つのメモリセルブロッ
ク1に分割されている。
As shown in FIG. 1, a DRAM chip includes:
A memory cell array in which a plurality of dynamic memory cells (not shown) are arranged in a matrix is provided. In this example, the memory cell array is divided into four memory cell blocks 1.

【0020】メモリセルブロック1には複数のワード線
WLが配置されており、それぞれ行方向に並ぶ複数のダ
イナミック型メモリセルのゲートに接続されている。ワ
ード線WLはローデコーダ(Row dec.)2によって選択
される。また、メモリセルブロック1には複数のスペア
ワード線SWLが配置されており、それぞれ行方向に並
ぶ複数のダイナミック型メモリセル(スペアセル)に接
続されている。スペアワード線SWLはスペアローデコ
ーダ(spare Row dec.)3によって選択される。この例
では、スペアワード線SWLは、1つのメモリセルブロ
ック1に対して2セット配置されている。したがって、
図1に示すメモリセルアレイは、全部で8セットのスペ
アワード線SWLを持つことになる。
A plurality of word lines WL are arranged in the memory cell block 1 and are connected to gates of a plurality of dynamic memory cells arranged in the row direction. The word line WL is selected by a row decoder (Row dec.) 2. Further, a plurality of spare word lines SWL are arranged in the memory cell block 1 and are connected to a plurality of dynamic memory cells (spare cells) arranged in the row direction. The spare word line SWL is selected by a spare row decoder (spare Row dec.) 3. In this example, two sets of spare word lines SWL are arranged for one memory cell block 1. Therefore,
The memory cell array shown in FIG. 1 has eight sets of spare word lines SWL in total.

【0021】ローデコーダ2およびスペアローデコーダ
3はそれぞれ、ロー系制御回路4によって制御される。
ロー系制御回路4はローデコーダ2およびスペアローデ
コーダ3にアドレス信号、ロー系タイミング信号、制御
信号などを出力する。
Each of the row decoder 2 and the spare row decoder 3 is controlled by a row control circuit 4.
The row control circuit 4 outputs an address signal, a row timing signal, a control signal and the like to the row decoder 2 and the spare row decoder 3.

【0022】ワード線WLをスペアワード線SWLに置
き換えるか否かの判定は、スペア判定回路5が行う。1
つのスペア判定回路5は、一度の不良置き換えをするた
めの救済回路の単位ブロックであり、複数セット設けら
れる。この例では4セット設けられている。4セットの
スペア判定回路5は、メモリセルアレイ内の8セットの
スペアワード線SWLの中から、任意のスペアワード線
SWLを選ぶ。この方式は、不良の発生を統計的に考え
た場合、メモリセルブロック1個あたり2セットのスペ
アワード線SWLは必要だが、メモリセルアレイ全体で
は、4セットのスペアワード線SWLの置き換えしか必
要ないことが予測される場合に有効である。即ち、スペ
ア判定回路5とスペアワード線SWLとの関係が1対1
でないので、不要な面積増を抑えることができる。
The spare determination circuit 5 determines whether to replace the word line WL with the spare word line SWL. 1
One spare determination circuit 5 is a unit block of a relief circuit for performing one-time defect replacement, and a plurality of sets are provided. In this example, four sets are provided. The four sets of spare determination circuits 5 select an arbitrary spare word line SWL from the eight sets of spare word lines SWL in the memory cell array. According to this method, two sets of spare word lines SWL are required for each memory cell block when the occurrence of defects is considered statistically, but only four sets of spare word lines SWL need to be replaced in the entire memory cell array. This is effective when is predicted. That is, the relationship between the spare determination circuit 5 and the spare word line SWL is one-to-one.
Therefore, an unnecessary increase in area can be suppressed.

【0023】4セットのスペア判定回路5のうち一つで
も“ワード線WLをスペアワード線SWLに置き換え
る”と判定した場合、プリチャージ回路6によってプリ
チャージされていた信号線、即ち信号bRDHITは“LOW”
レベルとなる。信号bRDHITが“LOW”レベルとなると、
ロー系制御回路4は、ローデコーダ2に代えてスペアロ
ーデコーダ3を活性化する。この結果、特定のワード線
WLがスペアワード線SWLに置き換えられる。
When at least one of the four sets of spare determination circuits 5 determines that "the word line WL is replaced with the spare word line SWL", the signal line precharged by the precharge circuit 6, that is, the signal bRDHIT becomes " LOW ”
Level. When the signal bRDHIT goes to “LOW” level,
The row control circuit 4 activates the spare row decoder 3 instead of the row decoder 2. As a result, the specific word line WL is replaced with the spare word line SWL.

【0024】第1の実施形態に係るDRAMが具備する
スペア判定回路5は、ワード線のリフレッシュ周期を変
更するか否かの判定を、さらに行う。4セットのスペア
判定回路5のうち一つでも“ワード線のリフレッシュ周
期を変更する”と判定した場合、プリチャージ回路6に
よってプリチャージされていた信号線、即ち信号bSRFON
は“LOW”レベルとなる。信号bSRFONが“LOW”レベルと
なると、ロー系制御回路4は、特定のワード線WLのリ
フレッシュ周期を、たとえば64msecから32msecに変更す
る。
The spare determination circuit 5 included in the DRAM according to the first embodiment further determines whether to change the word line refresh cycle. If at least one of the four sets of spare determination circuits 5 determines that the word line refresh cycle is to be changed, the signal line precharged by the precharge circuit 6, ie, the signal bSRFON
Becomes “LOW” level. When the signal bSRFON becomes “LOW” level, the row control circuit 4 changes the refresh cycle of the specific word line WL from, for example, 64 msec to 32 msec.

【0025】次に、この発明の第1の実施形態に係るD
RAMが具備するスペア判定回路5について、より詳細
に説明する。
Next, the D according to the first embodiment of the present invention will be described.
The spare determination circuit 5 provided in the RAM will be described in more detail.

【0026】図2は、この発明の第1の実施形態に係る
スペア判定回路5の全体を示す回路図、図3は、この発
明の第1の実施形態に係るスペア判定回路5の一つを示
す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing the whole of the spare determination circuit 5 according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a circuit diagram showing one of the spare determination circuits 5 according to the first embodiment of the present invention. FIG.

【0027】図2、図3に示すように、スペア判定回路
5はそれぞれ、判定回路11、判定回路11からの出力
信号をラッチするラッチ回路12、bRDHIT出力回路1
3、bSRFON出力回路14などから構成されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the spare determination circuit 5 includes a determination circuit 11, a latch circuit 12 for latching an output signal from the determination circuit 11, and a bRDHIT output circuit 1, respectively.
3. The bSRFON output circuit 14 and the like.

【0028】また、スペア判定回路5には、プログラム
部としてヒューズ回路群が設けられる。ヒューズ回路群
には、該スペア判定回路5を使用するか否かのイネーブ
ル情報、不良アドレス情報、およびスペアワード線に置
換するかリフレッシュ周期を変更するかの切替情報がプ
ログラムされる。
The spare determination circuit 5 is provided with a fuse circuit group as a program section. The fuse circuit group is programmed with enable information as to whether or not to use the spare determination circuit 5, defective address information, and switching information as to whether to replace the spare word line or change the refresh cycle.

【0029】図4(A)〜(C)はヒューズ回路群の回
路図であり、図4(A)は不良アドレス情報用ヒューズ
回路、図4(B)はイネーブル情報用ヒューズ回路、図
4(C)は切替情報用ヒューズ回路をそれぞれ示してい
る。
4A to 4C are circuit diagrams of a fuse circuit group. FIG. 4A shows a fuse circuit for defective address information, FIG. 4B shows a fuse circuit for enable information, and FIG. C) indicates a switching information fuse circuit.

【0030】まず、図4(A)に示すように、不良アド
レス情報用ヒューズ回路21は、ヒューズ(Fuse)を含
む。このヒューズには、不良アドレス情報がプログラム
される。ヒューズ回路21から出力された不良アドレス
情報はラッチ回路22に入力され、ここにラッチされ
る。ラッチ回路22の出力は、ヒューズ情報比較回路2
3に入力される。ヒューズ情報比較回路23は、ラッチ
回路22にラッチされた不良アドレス情報と入力アドレ
ス情報とを比較し、アドレス信号ADD、およびその相補
信号(反転信号)であるbADDのどちらか一方を選択し、
出力信号MISとして出力する。
First, as shown in FIG. 4A, the fuse circuit 21 for defective address information includes a fuse (Fuse). This fuse is programmed with defective address information. The defective address information output from the fuse circuit 21 is input to the latch circuit 22 and is latched here. The output of the latch circuit 22 is
3 is input. The fuse information comparison circuit 23 compares the defective address information latched by the latch circuit 22 with the input address information, and selects one of the address signal ADD and its complementary signal (inverted signal) bADD,
Output as output signal MIS.

【0031】また、図4(B)に示すように、イネーブ
ル情報用ヒューズ回路31は、ヒューズ(Fuse)を含
む。このヒューズには、イネーブル情報がプログラムさ
れる。ラッチ回路32は、ヒューズ回路31から出力さ
れたイネーブル情報をラッチする。ラッチ回路32は、
ヒューズ回路31の出力FLATと逆相のレベルを持つ出力
信号bRDENBを出力する。
As shown in FIG. 4B, the enable information fuse circuit 31 includes a fuse (Fuse). The fuse is programmed with enable information. The latch circuit 32 latches the enable information output from the fuse circuit 31. The latch circuit 32
An output signal bRDENB having a level opposite to that of the output FLAT of the fuse circuit 31 is output.

【0032】また、図4(C)に示すように、切替情報
用ヒューズ回路41は、ヒューズ(Fuse)を含む。この
ヒューズには、切替情報がプログラムされる。ラッチ回
路42は、ヒューズ回路41から出力された切替情報を
ラッチする。ラッチ回路42の出力は、インバータ43
の入力に接続されている。インバータ43は、ラッチ回
路42の出力FLATと同相のレベルを持つ出力信号SRFを
出力する。
Further, as shown in FIG. 4C, the switching information fuse circuit 41 includes a fuse (Fuse). Switching information is programmed in this fuse. The latch circuit 42 latches the switching information output from the fuse circuit 41. The output of the latch circuit 42 is
Connected to the input. Inverter 43 outputs an output signal SRF having the same level as output FLAT of latch circuit 42.

【0033】次に、ヒューズ回路群の動作を説明する。Next, the operation of the fuse circuit group will be described.

【0034】図5(A)はヒューズ回路群の動作を示す
動作波形図である。
FIG. 5A is an operation waveform diagram showing the operation of the fuse circuit group.

【0035】図5(A)に示す信号bFUP、信号FDWNは、
電源投入時に活性となる信号である。まず、電源の投入
とともに電源電位Vccは“HIGH”レベルに向かって上昇
する。これにともなって信号bFUPの電位が上昇する(時
刻tON)。
The signal bFUP and the signal FDWN shown in FIG.
This signal is activated when the power is turned on. First, when the power is turned on, the power supply potential Vcc rises toward the “HIGH” level. Accordingly, the potential of the signal bFUP increases (time tON).

【0036】電源電位Vccが“HIGH”レベルになって一
定の時間が経過した後、信号bFUPの電位は“LOW”レベ
ルに遷移する。これにより、ヒューズ回路21、31お
よび41それぞれに設けられたPMOS P1〜P3が
オンする(時刻t1)。PMOS P1〜P3がそれぞ
れオンすることで、ヒューズ回路21、31および41
それぞれの出力ノードFLATは“HIGH”レベルとなり、ラ
ッチ回路22、32および42はそれぞれ“HIGH”レベ
ルの初期情報をラッチする。信号bFUPは、ラッチ回路2
2、32および42がそれぞれ、出力レベル(FLAT)の
“HIGH”レベルをラッチするのに十分な時間が経過した
後、“HIGH”レベルに遷移する。
After a certain period of time has elapsed after the power supply potential Vcc has reached the "HIGH" level, the potential of the signal bFUP transitions to the "LOW" level. As a result, the PMOSs P1 to P3 provided in the fuse circuits 21, 31, and 41 are turned on (time t1). When the PMOSs P1 to P3 are turned on, the fuse circuits 21, 31, and 41 are turned on.
Each output node FLAT becomes "HIGH" level, and the latch circuits 22, 32 and 42 respectively latch "HIGH" level initial information. The signal bFUP is output from the latch circuit 2
Each of 2, 32, and 42 transitions to the "HIGH" level after a sufficient time has elapsed to latch the "HIGH" level of the output level (FLAT).

【0037】信号bFUPが“HIGH”レベルに遷移した後、
信号FDWNが“HIGH”レベルに遷移する。これにより、ヒ
ューズ回路21、31および41それぞれに設けられた
NMOS N1〜N3がオンする(時刻t2)。NMO
S N1〜N3がそれぞれオンすることで、ヒューズ回
路21、31および41それぞれの出力ノード(FLAT)
は、ヒューズが“切れている”とき“LOW”レベルに遷
移し、“切れていない”とき“HIGH”レベルを保つ。こ
れにより、ラッチ回路22、32および42はそれぞれ
ヒューズの状態に応じた情報をラッチする。信号FDWN
は、ラッチ回路22、32および42がそれぞれ、出力
レベル(FLAT)の“LOW”レベルをラッチするのに十分
な時間が経過した後、“LOW”レベルに遷移する。
After the signal bFUP transits to the “HIGH” level,
The signal FDWN changes to “HIGH” level. This turns on the NMOSs N1 to N3 provided in the fuse circuits 21, 31, and 41, respectively (time t2). NMO
When SN1 to N3 are turned on, the output nodes (FLAT) of the fuse circuits 21, 31, and 41, respectively.
Transitions to the "LOW" level when the fuse is "blown", and maintains the "HIGH" level when the fuse is not blown. As a result, the latch circuits 22, 32 and 42 each latch information corresponding to the state of the fuse. Signal FDWN
Transitions to the "LOW" level after a lapse of time sufficient for each of the latch circuits 22, 32 and 42 to latch the "LOW" level of the output level (FLAT).

【0038】このようにしてラッチ回路22、32およ
び42にはそれぞれ、ヒューズの状態、即ちヒューズが
“切れている”か、“切れていない”かに応じた情報が
ラッチされる。
As described above, the latch circuits 22, 32 and 42 latch information on the state of the fuse, that is, whether the fuse is "cut" or "not cut".

【0039】次に、ヒューズの状態に応じたラッチ例に
ついて、ラッチ回路22に着目して説明する。
Next, an example of latching according to the state of the fuse will be described focusing on the latch circuit 22.

【0040】まず、ヒューズ情報比較回路23の出力信
号MISが“LOW”レベルとなったときに、“不良アドレス
情報と入力アドレス情報とが一致したと判定する”、と
仮定する。この場合、アドレス信号ADD=HIGHのとき、不
良アドレス情報と入力アドレス情報とをマッチさせるの
で、ヒューズを切れば良い。この結果、ラッチ回路22
の出力によって、アドレス信号ADDをトランスファする
トランスファゲート24を“オフ”させた状態、アドレ
ス信号bADDをトランスファするトランスファゲート25
を“オン”させた状態にできる。アドレス信号ADD=HIGH
であれば、アドレス信号bADD=LOWであるため、出力信号
MISは“LOW”レベルとなる。図5(B)に、ヒューズの
状態と出力信号MISとの関係を示しておく。
First, it is assumed that when the output signal MIS of the fuse information comparison circuit 23 goes to the "LOW" level, "determining that the defective address information and the input address information match" is performed. In this case, when the address signal ADD = HIGH, the defective address information and the input address information are matched, so that the fuse may be blown. As a result, the latch circuit 22
, The transfer gate 24 for transferring the address signal ADD is turned off, and the transfer gate 25 for transferring the address signal bADD.
Can be turned on. Address signal ADD = HIGH
, The address signal bADD = LOW, so the output signal
MIS goes to the "LOW" level. FIG. 5B shows the relationship between the state of the fuse and the output signal MIS.

【0041】図2、図3に示す信号MIS0〜MIS3はそれぞ
れ、図4(A)に示すヒューズ情報比較回路23からの
出力信号である。信号MIS0〜MIS3はそれぞれ、入力アド
レス信号と不良アドレス情報とが一致した場合に“LO
W”レベルとなり、一致しなかった場合に“HIGH”レベ
ルとなる。
The signals MIS0 to MIS3 shown in FIGS. 2 and 3 are output signals from the fuse information comparison circuit 23 shown in FIG. Each of the signals MIS0 to MIS3 is “LO” when the input address signal matches the defective address information.
It becomes the "W" level, and if not matched, it becomes the "HIGH" level.

【0042】図2、図3に示す信号bRDENBは、図4
(B)に示すラッチ回路32からの出力信号である。信
号bRDENBは、該スペア判定回路5を使用する場合に“LO
W”レベルとなり、使用しない場合に“HIGH”レベルと
なる。
The signal bRDENB shown in FIG. 2 and FIG.
This is an output signal from the latch circuit 32 shown in FIG. The signal bRDENB is “LO” when the spare determination circuit 5 is used.
It goes to "W" level and goes to "HIGH" level when not used.

【0043】図2、図3に示す信号SRFは、図4(C)
に示すインバータ43の出力信号である。ワード線をス
ペアワード線に置換する場合に“LOW”レベルとなり、
リフレッシュ周期を変更する場合に“HIGH”レベルとな
る。
The signal SRF shown in FIG. 2 and FIG.
Is an output signal of the inverter 43 shown in FIG. When replacing a word line with a spare word line, it goes to “LOW” level,
It changes to “HIGH” level when the refresh cycle is changed.

【0044】図2、図3に示す信号RACTは、ロー系回路
を活性とする期間を示す信号である。この例では、たと
えば信号RACTは、スペア判定回路5を活性とする期間に
“HIGH”レベルとなる。
The signal RACT shown in FIGS. 2 and 3 is a signal indicating a period during which the row-related circuit is activated. In this example, for example, the signal RACT becomes “HIGH” level during a period in which the spare determination circuit 5 is activated.

【0045】次に、スペア判定回路5の動作を説明す
る。
Next, the operation of spare determination circuit 5 will be described.

【0046】図6(A)は不良アドレス情報と入力アド
レス情報とが一致しなかった場合の動作波形図であり、
図6(B)は不良アドレス情報と入力アドレス情報とが
一致した場合の動作波形図である。
FIG. 6A is an operation waveform diagram when the defective address information does not match the input address information.
FIG. 6B is an operation waveform diagram when the defective address information matches the input address information.

【0047】[入力アドレス情報と不良アドレス情報と
が一致しない場合]まず、図6(A)に示すように、信
号RACTが“HIGH”レベルになり、判定回路11の出力の
プリチャージが解除される。
[Case where Input Address Information Does Not Match Defective Address Information] First, as shown in FIG. 6A, the signal RACT goes to “HIGH” level, and the precharge of the output of the determination circuit 11 is released. You.

【0048】入力アドレス情報と不良アドレス情報とが
一致しない場合は、4セットのヒューズ情報比較回路2
3の出力MIS0〜MIS3のうち、少なくとも一つが“HIGH”
レベルとなる。この例では、出力MIS1が“HIGH”レベル
となっている。この結果、判定回路11の出力は、プリ
チャージレベル(“HIGH”レベル)から“LOW”レベル
となり、ラッチ回路12の出力ノードCMP0は“LOW”レ
ベルから“HIGH”レベルとなる。
If the input address information and the defective address information do not match, four sets of fuse information comparison circuits 2
At least one of the outputs MIS0 to MIS3 is "HIGH"
Level. In this example, the output MIS1 is at the “HIGH” level. As a result, the output of the determination circuit 11 changes from the precharge level (“HIGH” level) to “LOW” level, and the output node CMP0 of the latch circuit 12 changes from “LOW” level to “HIGH” level.

【0049】リダンダンシ判定のためのタイミングを規
定しているノードCMP1は、ノードCMP0の電位が変化する
のに必要な十分な時間が経過した後、“HIGH”レベルか
ら“LOW”レベルとなる。
The node CMP1, which defines the timing for the redundancy judgment, goes from the "HIGH" level to the "LOW" level after a sufficient time required for the potential of the node CMP0 to change.

【0050】bRDHIT出力回路13は、NORゲート回路
15を含む。このNORゲート回路15は、切替情報SR
Fが“LOW”レベル、かつノードCMP1がパルス状に“LO
W”レベルとなった期間にイネーブルされ、この期間
中、その出力をノードCMP0のレベルに応じて変化させ
る。この例では、ノードCMP0は“HIGH”レベルであるの
で、NORゲート回路15の出力は“LOW”レベルとな
り、NMOS N4をオフさせる。この結果、プリチャ
ージ回路6によって、たとえば電源電位Vccにプリチャ
ージされていた信号線bRDHITの電位は、プリチャージ電
位を保つ。
The bRDHIT output circuit 13 includes a NOR gate circuit 15. This NOR gate circuit 15 includes the switching information SR
F is low level and node CMP1 is pulsed low
It is enabled during the period when the signal is at the “W” level, and during this period, its output is changed according to the level of the node CMP0.In this example, since the node CMP0 is at the “HIGH” level, the output of the NOR gate circuit 15 As a result, the potential of the signal line bRDHIT, which has been precharged to the power supply potential Vcc by the precharge circuit 6, is maintained at the precharge potential.

【0051】なお、スペア判定回路5が使用されていな
い場合、信号bRDENBが“HIGH”レベルであるので、上で
述べた動作と同様の動作によって、信号線bRDHITの電位
は、プリチャージ電位を保つ。
When the spare determination circuit 5 is not used, the signal bRDENB is at the "HIGH" level, and the potential of the signal line bRDHIT is maintained at the precharge potential by the same operation as that described above. .

【0052】[入力アドレス情報と不良アドレス情報と
が一致する場合]まず、図6(B)に示すように、信号
RACTが“HIGH”レベルになり、判定回路11の出力のプ
リチャージが解除される。
[When the input address information matches the defective address information] First, as shown in FIG.
RACT becomes “HIGH” level, and the precharge of the output of the decision circuit 11 is released.

【0053】入力アドレス情報と不良アドレス情報とが
一致する場合は、4セットのヒューズ情報比較回路23
の出力MIS0〜MIS3は全て“LOW”レベルとなる。この結
果、判定回路11の出力は、“HIGH”レベルを保ち、ラ
ッチ回路12の出力ノードCMP0は“LOW”レベルを保
つ。
If the input address information matches the defective address information, four sets of fuse information comparison circuits 23
Output MIS0 to MIS3 are all at "LOW" level. As a result, the output of the determination circuit 11 maintains the “HIGH” level, and the output node CMP0 of the latch circuit 12 maintains the “LOW” level.

【0054】この後、同様に、ノードCMP1は、ノードCM
P0の電位が変化するのに必要な十分な時間が経過した
後、“HIGH”レベルから“LOW”レベルとなる。NOR
ゲート回路15は、切替情報SRFが“LOW”レベル、かつ
ノードCMP1がパルス状に“LOW”レベルとなった期間に
イネーブルされ、この期間中、その出力をノードCMP0の
レベルに応じて変化させる。この例では、ノードCMP0が
“LOW”レベルであるので、NOR回路15の出力は、
ノードCMP1が“LOW”レベルの期間、“HIGH”レベルと
なり、NMOS N4を、一時的にオンさせる。この結
果、信号線bRDHITの電位は、プリチャージレベルから
“LOW”レベルとなる。4セットのスペア判定回路5そ
れぞれに設けられているNMOS N4は、一つの信号
線bRDHITにワイヤードオア接続されている。このため、
NMOS N4のうち、一つでも一時的にオンすれば、
信号線bRDHITの電位は“LOW”レベルとなる。この結
果、通常セルがスペアセル、この例では通常のワード線
WLが、スペアワード線SWLに置き換えられる。
After that, similarly, the node CMP1
After a sufficient time required for the potential of P0 to change, the level changes from the “HIGH” level to the “LOW” level. NOR
The gate circuit 15 is enabled during a period when the switching information SRF is at the “LOW” level and the node CMP1 is at the “LOW” level in the form of a pulse. During this period, the output is changed according to the level of the node CMP0. In this example, since the node CMP0 is at the “LOW” level, the output of the NOR circuit 15 is
While the node CMP1 is at the “LOW” level, it goes to the “HIGH” level, turning on the NMOS N4 temporarily. As a result, the potential of the signal line bRDHIT changes from the precharge level to the “LOW” level. The NMOS N4 provided in each of the four sets of spare determination circuits 5 is wired-OR connected to one signal line bRDHIT. For this reason,
If at least one of the NMOSs N4 is temporarily turned on,
The potential of the signal line bRDHIT becomes “LOW” level. As a result, the normal cell is replaced with a spare cell, in this example, the normal word line WL is replaced with the spare word line SWL.

【0055】また、第1の実施形態に係るDRAMが具
備するスペア判定回路5は、bSRFON出力回路14を具備
している。
The spare determination circuit 5 included in the DRAM according to the first embodiment includes a bSRFON output circuit 14.

【0056】bSRFON出力回路14は、NORゲート回路
16を含む。このNORゲート回路16は、bRDHIT出力
回路13のNORゲート回路15とは反対に切替情報SR
Fが“HIGH”レベルのとき、かつノードCMP1がパルス状
に“LOW”レベルとなった期間にイネーブルされ、この
期間中、その出力をノードCMP0のレベルに応じて変化さ
せる。
The bSRFON output circuit 14 includes a NOR gate circuit 16. This NOR gate circuit 16 has the switching information SR opposite to the NOR gate circuit 15 of the bRDHIT output circuit 13.
When F is at the “HIGH” level and during the period when the node CMP1 is in the “LOW” level in a pulsed manner, the output is changed according to the level of the node CMP0 during this period.

【0057】この結果、入力アドレス情報と不良アドレ
ス情報とが一致する場合、即ち、ノードCMP0が“LOW”
レベルであり、かつノードCMP1が“LOW”レベルの期
間、NMOS N5を、一時的にオンさせる。この結
果、信号線bSRFONの電位は、プリチャージレベルから
“LOW”レベルとなる。4セットのスペア判定回路5そ
れぞれに設けられているNMOS N5は、一つの信号
線bSRFONにワイヤードオア接続されている。このため、
NMOS N5のうち、一つでも一時的にオンすれば、
信号線bSRFONは“LOW”レベルとなる。信号線bSRFON
は、セルフリフレッシュを行うか否かを示す信号を伝え
る配線である。
As a result, when the input address information matches the defective address information, that is, when the node CMP0 is “LOW”
Level, and while the node CMP1 is at the “LOW” level, the NMOS N5 is temporarily turned on. As a result, the potential of the signal line bSRFON changes from the precharge level to the “LOW” level. The NMOS N5 provided in each of the four sets of spare determination circuits 5 is wired-OR connected to one signal line bSRFON. For this reason,
If at least one of the NMOSs N5 is temporarily turned on,
The signal line bSRFON becomes “LOW” level. Signal line bSRFON
Is a wiring for transmitting a signal indicating whether to perform self-refresh.

【0058】ロー系制御回路4は、セルフリフレッシュ
期間内で、かつポーズ特性が弱いセルをリフレッシュし
ている期間において、ローアドレスストローブ信号RAS
やアドレス信号を用いて、リフレッシュ動作を制御する
信号を生成し、ローデコーダ2等に出力する。信号線bS
RFONの電位は、リフレッシュ動作を制御する信号をディ
セーブルする、あるいはイネーブルするために使われ
る。信号線bSRFONの電位が“HIGH”レベルのときは、リ
フレッシュ動作を制御する信号がイネーブルとなり、セ
ルフリフレッシュが行われる。また、信号線bSRFONの電
位が“LOW”レベルのときは、リフレッシュ動作を制御
する信号がデッセーブルとなり、セルフリフレッシュが
中止される。
The row control circuit 4 applies the row address strobe signal RAS during the self-refresh period and during the period of refreshing a cell having a weak pause characteristic.
A signal for controlling the refresh operation is generated using the address signal and the address signal, and is output to the row decoder 2 and the like. Signal line bS
The RFON potential is used to disable or enable a signal that controls the refresh operation. When the potential of the signal line bSRFON is at the “HIGH” level, a signal for controlling the refresh operation is enabled, and the self refresh is performed. When the potential of the signal line bSRFON is at the “LOW” level, the signal for controlling the refresh operation is disabled, and the self-refresh is stopped.

【0059】なお、スペア判定回路5において、信号線
bSRFONの電位の状態を決定した後に、セルフリフレッシ
ュを行うか中止するかの判定を行うことがタイミング的
に厳しい場合には、スペア判定回路5に、次のアドレス
を入力するようにしても良い。
In the spare determination circuit 5, the signal line
If it is difficult to determine whether to perform self-refresh or stop after determining the state of the potential of bSRFON, the next address may be input to the spare determination circuit 5.

【0060】セルフリフレッシュの場合、たとえばアド
レスカウンタを用い、アドレスを順次インクリメント、
あるいはデクリメントして、リフレッシュするアドレス
を決めていく。これを利用して、信号RASによりアドレ
ス信号を取り込んだとき、この取り込んだアドレスに対
して+1し、この+1されたアドレスをスペア判定回路
5に送る。そして、その判定情報を、次のサイクルまで
保持しておけば良い。
In the case of self-refresh, the address is sequentially incremented by using, for example, an address counter.
Alternatively, the address to be refreshed is determined by decrementing. Utilizing this, when an address signal is fetched by the signal RAS, +1 is added to the fetched address, and the + 1-added address is sent to the spare determination circuit 5. Then, the determination information may be held until the next cycle.

【0061】このような第1の実施形態によれば、1つ
のスペア判定回路5を複数の救済モードで共有、たとえ
ば第1の実施形態では、ワード線WLをスペアワード線
SWLに置き換える場合と、ワード線WLのリフレッシ
ュ周期を変更する場合との双方で共有することができ
る。
According to the first embodiment, one spare determination circuit 5 is shared by a plurality of repair modes. For example, in the first embodiment, the word line WL is replaced with the spare word line SWL. This can be shared both when the refresh cycle of the word line WL is changed.

【0062】このようなスペア判定回路5を具備するこ
とにより、スペア判定回路5を、余分に設けずに済む。
したがって、チップ面積の増加を抑えつつ、スペアセッ
トを増やして製造歩留りを向上させることができる。
By providing such a spare determination circuit 5, it is not necessary to provide an extra spare determination circuit 5.
Therefore, the manufacturing yield can be improved by increasing the number of spare sets while suppressing an increase in the chip area.

【0063】[第2の実施形態]第2の実施形態が第1
の実施形態と異なるところは、リフレッシュ周期の変更
に用いるかどうかを規定する信号SRFを発生する回路を
無くし、その代わりに、そのヒューズセットを使ってい
るかどうかを示す信号bRDENBを用いて、bRDHIT出力回路
13、bSRFON出力回路14を制御するようにしたことで
ある。
[Second Embodiment] The second embodiment is the first embodiment.
The difference from the embodiment is that the circuit that generates the signal SRF for specifying whether to use the refresh cycle is eliminated, and instead, the signal bRDENB indicating whether or not the fuse set is used is used, and the bRDHIT output is used. That is, the circuit 13 and the bSRFON output circuit 14 are controlled.

【0064】図7は、この発明の第2の実施形態に係る
スペア判定回路5-2の回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram of a spare determination circuit 5-2 according to the second embodiment of the present invention.

【0065】図7に示す信号bRDENBの使い方は、第1の
実施形態と同様に、ワード線をスペアワード線に置き換
える場合、信号bRDENBが“LOW”レベルとなるようにヒ
ューズ回路31をプログラムする。このようにしてbRDH
IT出力回路13をイネーブルし、bSRFON出力回路14を
デッセーブルする。
As in the case of the first embodiment, the fuse circuit 31 is programmed so that the signal bRDENB becomes "LOW" when the word line is replaced with a spare word line, as in the first embodiment. In this way bRDH
The IT output circuit 13 is enabled, and the bSRFON output circuit 14 is disabled.

【0066】また、ワード線のリフレッシュ周期を変更
する場合、信号bRDENBが“HIGH”レベルとなるようにヒ
ューズ回路31をプログラムする。このようにしてbRDH
IT出力回路13をデッセーブルし、bSRFON出力回路14
をイネーブルする。
When the refresh cycle of the word line is changed, the fuse circuit 31 is programmed so that the signal bRDENB becomes "HIGH" level. In this way bRDH
Disable the IT output circuit 13 and set the bSRFON output circuit 14
Enable.

【0067】このような第2の実施形態によれば、信号
SRFを発生する回路、および判定回路11のうち、信号S
RFをゲートに受けるNMOS等をそれぞれ省略すること
ができる。したがって、第2の実施形態に係るスペア判
定回路5-2によれば、第1の実施形態に比べて、ヒュー
ズなどのプログラム素子の数、およびトランジスタの数
をそれぞれ減らすことができる。したがって、第1の実
施形態に比べて、チップ面積の増加をさらに抑えること
ができる。
According to the second embodiment, the signal
The signal S of the circuit for generating the SRF and the judgment circuit 11
An NMOS or the like that receives RF at its gate can be omitted. Therefore, according to the spare determination circuit 5-2 according to the second embodiment, the number of program elements such as fuses and the number of transistors can be reduced as compared with the first embodiment. Therefore, an increase in the chip area can be further suppressed as compared with the first embodiment.

【0068】なお、第2の実施形態では、信号bRDENBが
“HIGH”レベル、即ち、使用しないスペア判定回路5で
はリフレッシュ周期の変更が行われ、アドレス0番地
(全てのヒューズを切ってない状態でヒットする番地)
において、余分なリフレッシュが発生することになる。
この影響として、消費電流が若干増える可能性がある。
しかし、上記消費電流の若干の増加は、ほぼ誤差範囲に
抑えることが可能である。
In the second embodiment, the signal bRDENB is at "HIGH" level, that is, the refresh cycle is changed in the unused spare determination circuit 5, and the address 0 (in a state where all the fuses are not blown). Address to hit)
In this case, an extra refresh occurs.
As an effect of this, current consumption may increase slightly.
However, the slight increase in the current consumption can be suppressed to almost the error range.

【0069】[第3の実施形態]第3の実施形態は、ス
ペア判定回路5の数の増加に伴った信号線bRDHIT、およ
び信号線bSRFONの負荷容量の増加の抑制に関する。
[Third Embodiment] The third embodiment relates to suppression of an increase in the load capacitance of the signal line bRDHIT and the signal line bSRFON with an increase in the number of spare determination circuits 5.

【0070】製造歩留りを向上させるためには、スペア
との置換数を増やす必要があるが、その結果、スペア判
定回路5の数が増えることになる。しかし、スペア判定
回路5の数が増加すると、信号線bRDHITにワイヤードオ
ア接続されるNMOS N4の数、および信号線bSRFON
にワイヤードオア接続されるNMOS N5の数もそれ
ぞれ増える。このため、信号線bRDHITの負荷容量、およ
び信号線bSRFONの負荷容量がそれぞれ増加してしまう。
In order to improve the manufacturing yield, it is necessary to increase the number of replacements with spares. As a result, the number of spare determination circuits 5 increases. However, when the number of spare determination circuits 5 increases, the number of NMOS N4 wired OR connected to the signal line bRDHIT and the signal line bSRFON
, The number of NMOSs N5 that are wired OR connected to each other also increases. Therefore, the load capacitance of the signal line bRDHIT and the load capacitance of the signal line bSRFON increase.

【0071】信号線bRDHIT、bSRFONの負荷容量の増加
は、信号線bRDHIT、bSRFON中の信号遅延を顕著にする。
つまり、信号線bRDHIT、bSRFONの負荷容量の増加は、D
RAMの動作速度に影響を及ぼし、その動作の高速化を
妨げる。
The increase in the load capacitance of the signal lines bRDHIT and bSRFON causes a noticeable signal delay during the signal lines bRDHIT and bSRFON.
That is, the increase in the load capacitance of the signal lines bRDHIT and bSRFON is D
This affects the operation speed of the RAM, and hinders speeding up the operation.

【0072】第3の実施形態は、このような信号線bRDH
IT、bSRFONの負荷容量の増加を抑制することを目的とし
ている。
In the third embodiment, such a signal line bRDH
It aims to suppress the increase in the load capacity of IT and bSRFON.

【0073】図8は、この発明の第3の実施形態に係る
スペア判定回路の回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram of a spare determination circuit according to the third embodiment of the present invention.

【0074】図8に示すように、第3の実施形態が第1
の実施形態と異なるところは、NAND回路51、NA
ND回路52を持つことである。NAND回路51は、
たとえば二入力型であり、それぞれ複数の出力回路13
-3の出力が入力される。同様に、NAND回路52は、
たとえば二入力型であり、それぞれ複数の出力回路14
-3の出力が入力される。NAND回路51の出力は、N
MOS N4のゲートに入力され、NAND回路52の
出力は、NMOS N5のゲートに入力される。
As shown in FIG. 8, the third embodiment is the first embodiment.
The difference from the third embodiment is that the NAND circuit 51, the NA
That is, the ND circuit 52 is provided. The NAND circuit 51
For example, a two-input type, each of which has a plurality of output circuits 13
-3 output is input. Similarly, the NAND circuit 52 includes:
For example, a two-input type, each of which has a plurality of output circuits 14
-3 output is input. The output of the NAND circuit 51 is N
The input to the gate of the MOS N4, and the output of the NAND circuit 52 are input to the gate of the NMOS N5.

【0075】このような第3の実施形態によれば、複数
のスペア判定回路5-3で、NMOSN4、およびNMO
S N5を共有できる。これにより、一つの信号線bRDH
ITにワイヤードオア接続されるNMOS N4、および
一つの信号線bSRFONにワイヤードオア接続されるNMO
S N5の数を減らすことができ、これら信号線bRDHI
T、bSRFONの負荷容量の増加をそれぞれ抑制できる。信
号線bRDHIT、bSRFONの負荷容量の増加をそれぞれ抑制で
きることで、第3の実施形態は、動作の高速化に有利で
ある。
According to the third embodiment, the plurality of spare determination circuits 5-3 use the NMOS N4 and the NMO
SN5 can be shared. Thereby, one signal line bRDH
NMOS N4 wired OR connected to IT and NMO wired OR connected to one signal line bSRFON
The number of SN5 can be reduced, and these signal lines bRDHI
The increase in the load capacity of T and bSRFON can be suppressed. The third embodiment is advantageous in increasing the operation speed because the increase in the load capacitance of the signal lines bRDHIT and bSRFON can be suppressed.

【0076】また、信号線bRDHIT、bSRFONの負荷容量が
増加すると、NMOS N4、N5それぞれの電流駆動
能力を大きくしなければならない。このためには、NM
OSN4、N5それぞれのディメンジョン、特にゲート
幅を大きくする必要があり、高集積化に不利である。
When the load capacitance of the signal lines bRDHIT and bSRFON increases, the current driving capability of each of the NMOSs N4 and N5 must be increased. For this, NM
It is necessary to increase the dimensions of the OSNs 4 and N5, particularly the gate width, which is disadvantageous for high integration.

【0077】このような事情に対しても、第3の実施形
態では、信号線bRDHIT、bSRFONの負荷容量の増加を抑制
できるので、NMOS N4、N5それぞれのディメン
ジョン、特にゲート幅を小さくすることが可能であり、
高集積化に有利である。
Even in such a situation, in the third embodiment, an increase in the load capacitance of the signal lines bRDHIT and bSRFON can be suppressed, so that the dimensions of the NMOSs N4 and N5, particularly the gate width, can be reduced. Is possible,
This is advantageous for high integration.

【0078】次に、第3の実施形態の変形例を説明す
る。
Next, a modification of the third embodiment will be described.

【0079】上記第3の実施形態では、救済効率の低下
を抑制しつつ、スペア判定回路5の数を削減するため
に、1つのスペア判定回路5を、ワード線WLをスペア
ワード線SWLに置き換える場合と、ワード線WLのリ
フレッシュ周期を変更する場合との双方で共有するよう
にした。
In the third embodiment, one spare determination circuit 5 is replaced with a spare word line SWL in order to reduce the number of spare determination circuits 5 while suppressing a decrease in the relief efficiency. This is shared between the case and the case where the refresh cycle of the word line WL is changed.

【0080】しかし、信号線bRDHIT、bSRFONの負荷容量
の増加を抑制する、という観点から、次の変形例のよう
に変形させても良い。
However, from the viewpoint of suppressing an increase in the load capacitance of the signal lines bRDHIT and bSRFON, the following modification may be used.

【0081】図9は、この発明の第3の実施形態の変形
例に係るスペア判定回路の回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram of a spare determination circuit according to a modification of the third embodiment of the present invention.

【0082】図9に示すように、第3の実施形態は、ワ
ード線WLをスペアワード線に置き換える場合のみに対
応したスペア判定回路5-3’を持つDRAMに適用して
も良い。あるいは特に図示しないが、ワード線WLのリ
フレッシュ周期を変更する場合のみに対応したスペア判
定回路を持つDRAMに適用しても良い。
As shown in FIG. 9, the third embodiment may be applied to a DRAM having a spare determination circuit 5-3 'corresponding only to replacing the word line WL with a spare word line. Alternatively, although not specifically shown, the present invention may be applied to a DRAM having a spare determination circuit corresponding only to a case where the refresh cycle of the word line WL is changed.

【0083】このような第3の実施形態の変形例によれ
ば、信号線bRDHITの負荷容量の増加、あるいは信号線bS
RFONの負荷容量の増加を抑制できるので、動作の高速化
や高集積化に有利である、という効果を得ることができ
る。
According to such a modification of the third embodiment, the load capacity of the signal line bRDHIT is increased or the signal line bS
Since an increase in the load capacitance of RFON can be suppressed, the effect that it is advantageous for high-speed operation and high integration can be obtained.

【0084】なお、第3の実施形態、およびその変形例
では、NAND回路51、52をそれぞれ二入力型と
し、NMOS N4、またはNMOS N5をそれぞれ
2つのスペア判定回路5で互いに共有するように構成し
たが、NAND回路51、52の入力数には制限がない
ことは当然である。つまりNMOS N4、またはNM
OS N5を、2つ以上のスペア判定回路5で共有する
ことが可能である。
In the third embodiment and its modification, the NAND circuits 51 and 52 are of a two-input type, and the NMOS N4 or the NMOS N5 is shared by the two spare determination circuits 5, respectively. However, it goes without saying that the number of inputs to the NAND circuits 51 and 52 is not limited. That is, NMOS N4 or NM
The OS N5 can be shared by two or more spare determination circuits 5.

【0085】また、第3の実施形態は、第1の実施形態
と組み合わせばかりでなく、第2の実施形態、あるいは
以下に説明する全ての実施形態と組み合わせることが可
能である。
Further, the third embodiment can be combined not only with the first embodiment but also with the second embodiment or all the embodiments described below.

【0086】[第4の実施形態]第4の実施形態は、特
にスペア判定回路5の数の増加に伴った消費電流の増加
の抑制に関する。
[Fourth Embodiment] The fourth embodiment relates to the suppression of an increase in current consumption, particularly as the number of spare determination circuits 5 increases.

【0087】たとえば第1、第2の実施形態により説明
した判定回路11では、該スペア判定回路5を使用する
か否かに係わらず、信号RACTに同期してラッチ回路12
の入力を充放電する。スペア判定回路5の数が増加すれ
ば、このような充放電による消費電流は当然に増加す
る。
For example, in the determination circuit 11 described in the first and second embodiments, regardless of whether the spare determination circuit 5 is used or not, the latch circuit 12 is synchronized with the signal RACT.
Charge / discharge the input. As the number of spare determination circuits 5 increases, the current consumption due to such charging and discharging naturally increases.

【0088】第4の実施形態は、充放電による消費電流
の増加を抑制することを目的としている。
The fourth embodiment aims at suppressing an increase in current consumption due to charging and discharging.

【0089】図10は、この発明の第4の実施形態に係
るスペア判定回路5-4の回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram of a spare determination circuit 5-4 according to the fourth embodiment of the present invention.

【0090】図10に示すように、第4の実施形態が第
2の実施形態と異なるところは、信号bRDENBの極性を反
対にして、信号RDENBとして用いることである。信号RDE
NBは、該スペア判定回路5-4を使用する場合に“HIGH”
レベルとされ、使用しない場合に“LOW”レベルとされ
る。
As shown in FIG. 10, the fourth embodiment differs from the second embodiment in that the polarity of the signal bRDENB is reversed and used as the signal RDENB. Signal RDE
NB sets “HIGH” when using the spare determination circuit 5-4.
Level, and set to “LOW” level when not used.

【0091】また、判定回路11-4は、信号RDENBをゲ
ートに受けるNMOS N6を持つ。NMOS N6
は、信号MIS0〜MIS3をゲートに受け、互いに並列に接続
されたNMOS群61と電源電位Vccとの間に直列に接
続されている。具体的には、電源電位Vccと接地電位V
ssとの間には順次、ゲートに信号RACTを受けるPMOS
P4、NMOS N6、NMOS群61、ゲートに信号
RACTを受けるNMOSN7が直列に接続されている。N
MOS N6は、信号RDENBが“LOW”レベルのとき、オ
フし、信号RDENBが“HIGH”レベルのとき、オンする。
Further, the decision circuit 11-4 has an NMOS N6 which receives the signal RDENB at its gate. NMOS N6
Are connected in series between the NMOS group 61 and the power supply potential Vcc, which receive the signals MIS0 to MIS3 at their gates and are connected in parallel with each other. Specifically, the power supply potential Vcc and the ground potential V
between the ss and the PMOS that receives the signal RACT at the gate
P4, NMOS N6, NMOS group 61, signal to gate
NMOS N7 receiving RACT is connected in series. N
The MOS N6 turns off when the signal RDENB is at a "LOW" level, and turns on when the signal RDENB is at a "HIGH" level.

【0092】また、ラッチ回路12-4においては、イン
バータを二入力型のNAND回路62としている。NA
ND回路62の第1の入力には、PMOS P4とNM
OSN6との相互接続ノード63の電位が入力され、そ
の第2の入力には、信号RDENBが入力される。NAND
回路62は、信号RDENBが“LOW”レベルのとき、ノード
CMP0の電位を“HIGH”レベルに固定し、信号RDENBが“L
OW”レベルのとき、ノードCMP0の電位を判定回路11-4
の出力に応じて“HIGH”レベル、または“LOW”レベル
とする。
In the latch circuit 12-4, the inverter is a two-input NAND circuit 62. NA
A first input of the ND circuit 62 includes a PMOS P4 and an NM
The potential of the interconnection node 63 with the OSN 6 is input, and the signal RDENB is input to the second input. NAND
When the signal RDENB is at “LOW” level, the circuit 62
The potential of CMP0 is fixed at “HIGH” level, and the signal RDENB is set to “L”.
When the signal is at the “OW” level, the potential of the node CMP0 is determined by the determination circuit 11-4.
Set to "HIGH" level or "LOW" level according to the output of.

【0093】このような第4の実施形態によれば、信号
RDENBが“LOW”レベルのとき、NMOS N6がオフす
るので、信号RACTのクロッキング時に、電源電位Vccか
らPMOS P4を介して流れる充電電流、およびNM
OS N7を介して接地電位Vssに流れる放電電流がそ
れぞれ流れなくなる。よって、該スペア判定回路5を使
用しない場合、判定回路11-4は、ラッチ回路12-4の
入力、即ちノード63を充放電しなくなり、消費電流の
増加を抑制することができる。
According to the fourth embodiment, the signal
When RDENB is at the “LOW” level, the NMOS N6 is turned off, so that when charging the signal RACT, the charging current flowing from the power supply potential Vcc through the PMOS P4 and NM
The discharge current flowing to the ground potential Vss via the OS N7 stops flowing. Therefore, when the spare determination circuit 5 is not used, the determination circuit 11-4 does not charge or discharge the input of the latch circuit 12-4, that is, the node 63, and can suppress an increase in current consumption.

【0094】次に、第4の実施形態の変形例を説明す
る。
Next, a modification of the fourth embodiment will be described.

【0095】上記第4の実施形態では、救済効率の低下
を抑制しつつ、スペア判定回路5の数を削減するため
に、1つのスペア判定回路5-4を、ワード線WLをスペ
アワード線に置き換える場合と、ワード線WLのリフレ
ッシュ周期を変更する場合との双方で共有するようにし
た。
In the fourth embodiment, in order to reduce the number of spare determination circuits 5 while suppressing a decrease in the relief efficiency, one spare determination circuit 5-4 is replaced with a word line WL as a spare word line. The replacement is performed and the refresh cycle of the word line WL is changed.

【0096】しかし、消費電流の増加を抑制する、とい
う観点から、次の変形例のように変形させても良い。
However, from the viewpoint of suppressing an increase in current consumption, a modification may be made as in the following modification.

【0097】図11は、この発明の第4の実施形態の変
形例に係るスペア判定回路の回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram of a spare determination circuit according to a modification of the fourth embodiment of the present invention.

【0098】図11に示すように、第4の実施形態は、
ワード線WLをスペアワード線に置き換える場合のみに
対応したスペア判定回路5-4'を持つDRAMに適用し
ても良い。あるいは特に図示しないが、ワード線WLの
リフレッシュ周期を変更する場合のみに対応したスペア
判定回路を持つDRAMに適用しても良い。
As shown in FIG. 11, in the fourth embodiment,
The present invention may be applied to a DRAM having a spare determination circuit 5-4 'corresponding to only the case where the word line WL is replaced with a spare word line. Alternatively, although not specifically shown, the present invention may be applied to a DRAM having a spare determination circuit corresponding only to a case where the refresh cycle of the word line WL is changed.

【0099】このような第4の実施形態の変形例によれ
ば、該スペア判定回路を使用しない場合、判定回路11
-4が、ラッチ回路12-4の入力、即ちノード63を充放
電せず、消費電流の増加を抑制できる、という効果を得
ることができる。
According to such a modification of the fourth embodiment, when the spare judgment circuit is not used, the judgment circuit 11
-4 does not charge / discharge the input of the latch circuit 12-4, that is, the node 63, so that an increase in current consumption can be suppressed.

【0100】[第5の実施形態]第5の実施形態は、第
4の実施形態と同様に、スペア判定回路5の増加による
消費電流の増加を抑制することを目的とする。
[Fifth Embodiment] The fifth embodiment aims at suppressing an increase in current consumption due to an increase in the number of spare determination circuits 5, as in the fourth embodiment.

【0101】図12は、この発明の第5の実施形態に係
るDRAMが具備するRDENB発生回路の回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram of an RDENB generation circuit provided in a DRAM according to the fifth embodiment of the present invention.

【0102】信号RDENBは、該スペア判定回路5を使用
するか否かを示す信号であり、ヒューズ回路31のヒュ
ーズを切断するか否かで、該スペア判定回路5を使用す
るか否かを表すことができた。
The signal RDENB is a signal indicating whether or not the spare judgment circuit 5 is used. The signal RDENB indicates whether or not the fuse of the fuse circuit 31 is blown, and whether or not the spare judgment circuit 5 is used. I was able to.

【0103】これに対し、第5の実施形態では、図12
に示すように、信号RDENBを、RDENB発生回路71により
発生させる。RDENB発生回路71は、ヒューズ回路31
にプログラムされたイネーブル情報と信号RACTとの間で
ロジックをとり、信号RDENBを発生させる。該スペア判
定回路を使用しない場合は、ヒューズ回路31のヒュー
ズは切らない。これにより、RDENB発生回路71は、常
に“LOW”レベルの信号RDENBを出力する。
On the other hand, in the fifth embodiment, FIG.
The signal RDENB is generated by the RDENB generation circuit 71 as shown in FIG. The RDENB generation circuit 71
The logic is taken between the enable information programmed in step (1) and the signal RACT to generate the signal RDENB. When the spare determination circuit is not used, the fuse of the fuse circuit 31 is not blown. As a result, the RDENB generating circuit 71 always outputs the signal RDENB at the “LOW” level.

【0104】一方、該スペア判定回路を使用する場合
は、ヒューズ回路31のヒューズは切る。これにより、
RDENB発生回路71は、信号RACTと同相の信号RDENBを出
力する。即ち、信号RDENBは、該スペア判定回路を使用
していて、かつロー系回路が活性化されている状態での
み、“HIGH”レベルになる。
On the other hand, when the spare determination circuit is used, the fuse of the fuse circuit 31 is blown. This allows
The RDENB generating circuit 71 outputs a signal RDENB having the same phase as the signal RACT. That is, the signal RDENB becomes “HIGH” level only when the spare determination circuit is used and the row-related circuit is activated.

【0105】図13は、この発明の第5の実施形態で使
用されるスペア判定回路の回路図である。
FIG. 13 is a circuit diagram of a spare determination circuit used in the fifth embodiment of the present invention.

【0106】図13に示すように、判定回路11-5のP
MOS P4のゲート、およびNMOS N7のゲート
にはそれぞれ、RDENB発生回路71により発生された信
号RDENBが供給される。
As shown in FIG. 13, P of the decision circuit 11-5
The signal RDENB generated by the RDENB generating circuit 71 is supplied to the gate of the MOS P4 and the gate of the NMOS N7, respectively.

【0107】スペア判定回路5-5を使用しない場合、即
ち、ヒューズ回路31のヒューズを切っていない場合
は、信号RDENBは常に“LOW”レベルであり、PMOS
P4はオンし、NMOS N7はオフする。このため、
ラッチ回路12-5への入力ノード72の電位は“HIGH”
レベルに固定され、ラッチ回路12-5は、ノードCMP0の
電位を“LOW”レベルに固定される。
When the spare determination circuit 5-5 is not used, that is, when the fuse of the fuse circuit 31 is not blown, the signal RDENB is always at "LOW" level,
P4 turns on, and NMOS N7 turns off. For this reason,
The potential of the input node 72 to the latch circuit 12-5 is "HIGH"
Level, and the latch circuit 12-5 fixes the potential of the node CMP0 to the "LOW" level.

【0108】ノードCMP0の電位が“LOW”レベルに固定
されると、NOR回路15、16はイネーブルされてし
まう。このため、第5の実施形態では、信号RDENBが“L
OW”レベルのとき、ノードCMP1の電位を“HIGH”レベル
に固定するNAND回路73を、さらに有している。こ
れにより、たとえノードCMP0の電位が“LOW”レベルに
固定されていても、NAND回路73がノードCMP1の電
位を“HIGH”レベルに固定するために、NOR回路1
5、16の出力は、ともに“LOW”レベルに固定され
る。NAND回路73は、二入力型であり、その第1の
入力には信号RDENBが入力され、第2の入力にはリダン
ダンシ判定タイミング信号が入力される。ただし、第5
の実施形態におけるリダンダンシ判定タイミング信号
は、第1〜第4の実施形態におけるリダンダンシ判定タ
イミング信号とは逆相となる。
When the potential of the node CMP0 is fixed at the "LOW" level, the NOR circuits 15 and 16 are enabled. For this reason, in the fifth embodiment, the signal RDENB is set to “L”.
When the level is at the “OW” level, the NAND circuit 73 further includes a NAND circuit 73 for fixing the potential of the node CMP1 to the “HIGH” level. In order for the circuit 73 to fix the potential of the node CMP1 to the “HIGH” level, the NOR circuit 1
Outputs 5 and 16 are both fixed at "LOW" level. The NAND circuit 73 is of a two-input type. A signal RDENB is input to a first input, and a redundancy determination timing signal is input to a second input. However, the fifth
The redundancy judgment timing signal in the embodiment has a phase opposite to that of the redundancy judgment timing signal in the first to fourth embodiments.

【0109】一方、該スペア判定回路5-5を使用する場
合、即ちヒューズ回路31のヒューズを切った場合は、
信号RDENBは、信号RACTに応じて“LOW”レベル、または
“HIGH”レベルとなる。これにより、信号RDENBは、信
号RACTが“HIGH”レベル、即ちロー系回路が活性化され
ている期間中“HIGH”レベルとなる。この結果、ノード
CMP0の電位は、信号MIS0〜MIS3をゲートに受けるトラン
ジスタ群が全てオフか、あるいは一つでもオンかに応じ
て、“HIGH”レベル、または“LOW”レベルとなる。
On the other hand, when the spare determination circuit 5-5 is used, that is, when the fuse of the fuse circuit 31 is blown,
The signal RDENB becomes a “LOW” level or a “HIGH” level according to the signal RACT. As a result, the signal RDENB is at the “HIGH” level while the signal RACT is at the “HIGH” level, that is, while the row-related circuit is activated. As a result, the node
The potential of CMP0 attains a "HIGH" level or a "LOW" level depending on whether all the transistors receiving the signals MIS0 to MIS3 at their gates are off or at least one of them is on.

【0110】また、NAND回路73は、信号RDENBが
“HIGH”レベルのとき、リダンダンシ判定タイミング信
号に応じて、ノードCMP1の電位を“HIGH”レベル、また
は“LOW”レベルとする。また、信号RDENBが“LOW”レ
ベルのとき、リダンダンシ判定タイミング信号に係わら
ずに、ノードCMP1の電位を“HIGH”レベルに固定する。
When the signal RDENB is at the “HIGH” level, the NAND circuit 73 sets the potential of the node CMP1 to the “HIGH” level or the “LOW” level in accordance with the redundancy determination timing signal. Further, when the signal RDENB is at the “LOW” level, the potential of the node CMP1 is fixed at the “HIGH” level regardless of the redundancy determination timing signal.

【0111】このような第5の実施形態によれば、スペ
ア判定回路5-5を使用しない場合、信号RDENBを常に“L
OW”レベルにできる。これにより、判定回路11-5は、
ラッチ回路12-4への入力ノード72をたとえば放電せ
ず、第4の実施形態と同様に、消費電流の増加を抑制で
きる、という効果を得ることができる。
According to the fifth embodiment, when the spare determination circuit 5-5 is not used, the signal RDENB is always set to "L".
OW "level. As a result, the judgment circuit 11-5
For example, the input node 72 to the latch circuit 12-4 is not discharged, and an effect of suppressing an increase in current consumption can be obtained as in the fourth embodiment.

【0112】また、第4の実施形態に比べて、NMOS
N6を必要としない分、判定回路11-5を構成するト
ランジスタの数を減らすことができる。これによれば、
判定回路11-5をチップ上にレイアウトし易くなる、と
いう利点を得ることができ、高集積化にさらに有利とな
る。
Also, compared to the fourth embodiment, the NMOS
Since the transistor N6 is not required, the number of transistors constituting the determination circuit 11-5 can be reduced. According to this,
The advantage that the determination circuit 11-5 can be easily laid out on a chip can be obtained, which is more advantageous for high integration.

【0113】また、信号RDENBは、RDENB発生回路71に
より信号RACTに基いて発生されるので、判定回路11-5
に入力する信号数を減らすことができる。判定回路11
-5に入力される信号数が減ることからは、判定回路11
-5の動作を高速化し易くなる、という利点を得ることが
でき、動作の高速化にも有利である。
Since the signal RDENB is generated by the RDENB generation circuit 71 based on the signal RACT, the judgment circuit 11-5
The number of signals to be input to the device can be reduced. Judgment circuit 11
-5 from the decrease in the number of signals input to the determination circuit 11
This makes it possible to obtain the advantage that the operation of -5 can be speeded up easily, and it is also advantageous for speeding up the operation.

【0114】次に、第5の実施形態の変形例を説明す
る。
Next, a modification of the fifth embodiment will be described.

【0115】上記第5の実施形態では、救済効率の低下
を抑制しつつ、スペア判定回路の数を削減するために、
1つのスペア判定回路5-5を、ワード線WLをスペアワ
ード線に置き換える場合と、ワード線WLのリフレッシ
ュ周期を変更する場合との双方で共有するようにした。
In the fifth embodiment, in order to reduce the number of spare determination circuits while suppressing a decrease in the relief efficiency,
One spare determination circuit 5-5 is shared by both replacing the word line WL with a spare word line and changing the refresh cycle of the word line WL.

【0116】しかし、消費電流の増加を抑制する、とい
う観点から、次の変形例のように変形させても良い。
However, from the viewpoint of suppressing an increase in current consumption, the following modification may be applied.

【0117】図14は、この発明の第5の実施形態の変
形例に係るスペア判定回路の回路図である。
FIG. 14 is a circuit diagram of a spare determination circuit according to a modification of the fifth embodiment of the present invention.

【0118】図15に示すように、第5の実施形態は、
ワード線WLをスペアワード線に置き換える場合のみに
対応したスペア判定回路5-5'を持つDRAMに適用し
ても良い。あるいは特に図示しないが、ワード線WLの
リフレッシュ周期を変更する場合のみに対応したスペア
判定回路を持つDRAMに適用しても良い。
As shown in FIG. 15, in the fifth embodiment,
The present invention may be applied to a DRAM having a spare determination circuit 5-5 'corresponding to only the case where the word line WL is replaced with a spare word line. Alternatively, although not specifically shown, the present invention may be applied to a DRAM having a spare determination circuit corresponding only to a case where the refresh cycle of the word line WL is changed.

【0119】このような第5の実施形態の変形例によれ
ば、該スペア判定回路を使用しない場合、判定回路11
-5がラッチ回路12-5を充放電せず、消費電流の増加を
抑制できる、という効果を得ることができる。
According to such a modification of the fifth embodiment, when the spare judgment circuit is not used, the judgment circuit 11
-5 does not charge / discharge the latch circuit 12-5, thereby suppressing an increase in current consumption.

【0120】また、第5の実施形態の変形例では、たと
えば第4の実施形態の変形例に比較して、判定回路11
-5を構成するトランジスタ数、および信号の入力数をそ
れぞれ減らすことができ、判定回路11-5のチップ上へ
のレイアウトがし易くなる、および判定回路11-5の動
作を高速化し易い、などの利点をさらに得ることができ
る。
In the modification of the fifth embodiment, for example, as compared with the modification of the fourth embodiment, the judgment circuit 11
-5, the number of transistors and the number of input signals can be reduced, the layout of the decision circuit 11-5 on a chip can be easily performed, and the operation of the decision circuit 11-5 can be speeded up. Can be further obtained.

【0121】[第6の実施形態]上記第1〜第5の実施
形態では、1つのスペア判定回路5を、ワード線WLを
スペアワード線に置き換える場合と、ワード線WLのリ
フレッシュ周期を変更する場合との双方で共有した。
[Sixth Embodiment] In the first to fifth embodiments, one spare determination circuit 5 replaces the word line WL with a spare word line, and changes the refresh cycle of the word line WL. If shared with both.

【0122】第6の実施形態は、1つのスペア判定回路
5を、ワード線WLをスペアワード線に置き換える場合
と、カラム選択線をスペアカラム選択線に置き換える場
合とで共有させるようにしたものである。
In the sixth embodiment, one spare determination circuit 5 is shared between replacing a word line WL with a spare word line and replacing a column selection line with a spare column selection line. is there.

【0123】図15は、この発明の第6の実施形態に係
るスペア判定回路の回路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram of a spare determination circuit according to the sixth embodiment of the present invention.

【0124】図15に示すように、第6の実施形態に係
るスペア判定回路5-6が第1の実施形態と異なるところ
は、判定回路11-6が、該スペア判定回路5をローで使
うのか、カラムで使うのかを判断するための信号bRCSEL
をゲートに受けるNMOSを、さらに有することであ
る。このNMOSは、信号MIS0〜MIS3、信号bRDENBをゲ
ートに受ける互いに並列接続されたNMOS群に、並列
に接続されている。
As shown in FIG. 15, the difference between the spare judgment circuit 5-6 according to the sixth embodiment and the first embodiment is that the judgment circuit 11-6 uses the spare judgment circuit 5 at a low level. BRCSEL to determine whether to use in the column
Is further provided with an NMOS receiving the gate at the gate. This NMOS is connected in parallel to a group of NMOSs that are connected in parallel to each other and receive signals MIS0 to MIS3 and signal bRDENB at their gates.

【0125】図16は、この発明の第6の実施形態に使
用されるヒューズ回路の回路図である。
FIG. 16 is a circuit diagram of a fuse circuit used in the sixth embodiment of the present invention.

【0126】図16に示すように、ロー/カラム切替情
報用ヒューズ回路81は、ヒューズ(Fuse)を含む。こ
のヒューズには、スペア判定回路5-6を、ローの置き換
えに使うのか、カラムの置き換えに使うのかを示す情報
がプログラムされる。ラッチ回路82は、ヒューズ回路
81から出力されたロー/カラム切替情報をラッチす
る。ラッチ回路82の出力は、bRCSEL発生回路83に入
力される。bRCSEL発生回路83は、ヒューズ回路81に
プログラムされたロー/カラム切替情報に従って、信号
RACT、および信号CACTのどちらか一方を選択し、出力信
号bRCSELとして出力する。
As shown in FIG. 16, the row / column switching information fuse circuit 81 includes a fuse (Fuse). This fuse is programmed with information indicating whether the spare determination circuit 5-6 is used for row replacement or column replacement. The latch circuit 82 latches the row / column switching information output from the fuse circuit 81. The output of the latch circuit 82 is input to the bRCSEL generation circuit 83. The bRCSEL generation circuit 83 outputs a signal according to the row / column switching information programmed in the fuse circuit 81.
One of RACT and signal CACT is selected and output as output signal bRCSEL.

【0127】スペア判定回路5-6を、ローの活性化時、
即ちローの置き換えに使う場合、ヒューズ回路81のヒ
ューズを切らない。これにより、bRCSEL発生回路81
は、信号CACTと同相のレベルの信号bRCSELを出力する。
したがって、カラム活性化時には、信号bRCSELは“HIG
H”レベルとなり、ノードCMP0を“HIGH”として、アド
レスとプログラム情報とが不一致であることを示す情報
が出力される。
When the spare determination circuit 5-6 activates the row,
That is, when used for row replacement, the fuse of the fuse circuit 81 is not blown. Thereby, the bRCSEL generation circuit 81
Outputs a signal bRCSEL having the same phase as the signal CACT.
Therefore, when the column is activated, the signal bRCSEL is set to “HIG
The level becomes H level, the node CMP0 is set to “HIGH”, and information indicating that the address and the program information do not match is output.

【0128】一方、スペア判定回路5-6を、カラムの置
き換えに使う場合には反対に、ヒューズ回路81のヒュ
ーズを切る。これにより、bRCSEL発生回路81は、信号
RACTと同相のレベルの信号bRCSELを出力する。したがっ
て、カラム活性化時には、信号bRCSELは“LOW”レベル
となる。
On the other hand, when the spare determination circuit 5-6 is used for replacing a column, the fuse of the fuse circuit 81 is blown. As a result, the bRCSEL generation circuit 81 outputs the signal
The signal bRCSEL having the same phase as RACT is output. Therefore, at the time of column activation, signal bRCSEL is at the “LOW” level.

【0129】なお、信号RACTは、ロー系回路を活性とす
る期間を示す信号であり、信号CACTは、カラム系回路を
活性とする期間を示す信号である。
The signal RACT is a signal indicating a period during which a row-related circuit is activated, and the signal CACT is a signal indicating a period during which a column-related circuit is activated.

【0130】また、図15に示す信号RCACTはロー、あ
るいはカラムが活性化されたときに“HIGH”レベルとな
る信号である。
The signal RCACT shown in FIG. 15 is a signal which becomes "HIGH" level when a row or a column is activated.

【0131】このような第6の実施形態によれば、ロー
とカラムとでスペア判定回路を共有化することができ、
任意のスペア判定回路を、ロー/カラムのどちらにも使
用することができる。よって、救済効率を向上させるこ
とができる。
According to the sixth embodiment, the row and column can share a spare determination circuit,
Any spare decision circuit can be used for both rows and columns. Therefore, the relief efficiency can be improved.

【0132】なお、この方式を採用した場合、アドレス
を取り込む部分の回路を簡潔にするために、スペア判定
回路5においては、ローアドレスとカラムアドレスは同
じ信号線を用いることが望ましい。
When this method is adopted, in the spare determination circuit 5, it is desirable to use the same signal line for the row address and the column address in order to simplify the circuit for taking in the address.

【0133】次に、第6の実施形態の変形例を説明す
る。
Next, a modification of the sixth embodiment will be described.

【0134】上記第6の実施形態では、救済効率の低下
を抑制しつつ、スペア判定回路5の数を削減するため
に、1つのスペア判定回路5-6を、ワード線をスペアワ
ード線に置き換える場合、ワード線のリフレッシュ周期
を変更する場合、およびカラム選択線をスペアカラム選
択線に置き換える場合でそれぞれ共有するようにした。
In the sixth embodiment, one spare determination circuit 5-6 is replaced with a spare word line in one spare determination circuit 5-6 in order to reduce the number of spare determination circuits 5 while suppressing a decrease in the relief efficiency. In this case, the word line refresh cycle is changed and the column selection line is replaced with a spare column selection line.

【0135】しかし、ワード線をスペアワード線に置き
換える場合、およびカラム選択線をスペアカラム選択線
に置き換える場合のみで、1つのスペア判定回路を共有
するようにしても良い。このようにしても、従来のワー
ド線をスペアワード線に置き換えるのみのスペア判定回
路、あるいはカラム選択線をスペアカラム選択線に置き
換えるのみのスペア判定回路に比べれば、救済効率の低
下を抑制しつつ、スペア判定回路の数を削減できる。
However, one spare determination circuit may be shared only when replacing a word line with a spare word line and replacing a column selection line with a spare column selection line. Even in this case, compared with the conventional spare determination circuit that only replaces word lines with spare word lines, or a spare determination circuit that simply replaces column selection lines with spare column selection lines, it is possible to suppress a decrease in relief efficiency. In addition, the number of spare determination circuits can be reduced.

【0136】図17は、この発明の第6の実施形態の変
形例に係るスペア判定回路の回路図である。
FIG. 17 is a circuit diagram of a spare determination circuit according to a modification of the sixth embodiment of the present invention.

【0137】図17に示すように、スペア判定回路5-
6’は、ワード線をスペアワード線に置き換える場合、
およびカラム選択線をスペアカラム選択線に置き換える
場合とでそれぞれ共有されている。
As shown in FIG. 17, spare determination circuit 5-
6 'is to replace the word line with a spare word line.
And when the column selection line is replaced with a spare column selection line.

【0138】[第7の実施形態]第7の実施形態は、第
5の実施形態を、第6の実施形態に応用したものであ
る。
[Seventh Embodiment] The seventh embodiment is obtained by applying the fifth embodiment to the sixth embodiment.

【0139】図18は、この発明の第7の実施形態に係
るスペア判定回路の回路図である。図18に示すよう
に、判定回路11-6のPMOS P5のゲート、および
NMOS N8のゲートにはそれぞれ、信号RCSELが供
給される。信号RCSELは、たとえば第6の実施形態で説
明したbRCSEL発生回路83から出力された信号bRCSELの
レベルを反転させた信号である。よって、信号RCSEL
は、ローあるいはカラムが選択されたときに“HIGH”レ
ベルとなる。
FIG. 18 is a circuit diagram of a spare determination circuit according to the seventh embodiment of the present invention. As shown in FIG. 18, the signal RCSEL is supplied to each of the gate of the PMOS P5 and the gate of the NMOS N8 of the determination circuit 11-6. The signal RCSEL is, for example, a signal obtained by inverting the level of the signal bRCSEL output from the bRCSEL generation circuit 83 described in the sixth embodiment. Therefore, the signal RCSEL
Goes high when a row or column is selected.

【0140】NAND回路91は、信号RCSELが“HIG
H”レベルのとき、リダンダンシ判定タイミング信号に
応じて、ノードCMP1の電位を“HIGH”レベル、または
“LOW”レベルとする。また、信号RCSELが“LOW”レベ
ルのとき、リダンダンシ判定タイミング信号に係わらず
に、ノードCMP1の電位を“HIGH”レベルに固定する。
The NAND circuit 91 sets the signal RCSEL to "HIG
When the signal is at the “H” level, the potential of the node CMP1 is set to the “HIGH” level or the “LOW” level in accordance with the redundancy determination timing signal, and when the signal RCSEL is at the “LOW” level, Instead, the potential of the node CMP1 is fixed at the “HIGH” level.

【0141】このような第7の実施形態によれば、スペ
ア判定回路5-7を、ワード線をスペアワード線の置き換
えに使用する場合、カラム活性化時に、ラッチ回路12
-7の入力ノードを充放電せず、反対にカラム選択線をス
ペアカラム選択線の置き換えに使用する場合、ロー活性
化時に、ラッチ回路12-7の入力ノードを充放電しな
い。よって、消費電流の増加を抑制できる、という効果
を得ることができる。
According to the seventh embodiment, when the spare determination circuit 5-7 is used to replace a word line with a spare word line, the latch circuit 12 is activated when the column is activated.
In the case where the column selection line is used for replacement of the spare column selection line without charging / discharging the input node of -7, the input node of the latch circuit 12-7 is not charged / discharged when the row is activated. Therefore, an effect that an increase in current consumption can be suppressed can be obtained.

【0142】また、第6の実施形態に比べて、判定回路
11-7に、信号bRCSELを受けるNMOSを設けずに済
み、判定回路11-7を構成するトランジスタの数を減ら
すことができる。これによれば、判定回路11-7をチッ
プ上にレイアウトし易くなる、という利点を得ることが
できる。
Further, as compared with the sixth embodiment, the determination circuit 11-7 does not need to be provided with an NMOS receiving the signal bRCSEL, and the number of transistors constituting the determination circuit 11-7 can be reduced. According to this, it is possible to obtain an advantage that the determination circuit 11-7 can be easily laid out on a chip.

【0143】次に、第7の実施形態の変形例を説明す
る。
Next, a modification of the seventh embodiment will be described.

【0144】上記第7の実施形態では、救済効率の低下
を抑制しつつ、スペア判定回路5の数を削減するため
に、1つのスペア判定回路5-7を、ワード線をスペアワ
ード線に置き換える場合、ワード線のリフレッシュ周期
を変更する場合、およびカラム選択線をスペアカラム選
択線に置き換える場合でそれぞれ共有するようにした。
In the seventh embodiment, in order to reduce the number of spare determination circuits 5 while suppressing a decrease in the relief efficiency, one spare determination circuit 5-7 is replaced with a spare word line instead of a word line. In this case, the word line refresh cycle is changed and the column selection line is replaced with a spare column selection line.

【0145】しかし、ワード線をスペアワード線に置き
換える場合、およびカラム選択線をスペアカラム選択線
に置き換える場合のみで、1つのスペア判定回路を共有
するようにしても良い。このようにしても、従来のワー
ド線をスペアワード線に置き換えるのみのスペア判定回
路、あるいはカラム選択線をスペアカラム選択線に置き
換えるのみのスペア判定回路に比べれば、救済効率の低
下を抑制しつつ、スペア判定回路の数を削減できる。
However, one spare determination circuit may be shared only when replacing a word line with a spare word line and replacing a column selection line with a spare column selection line. Even in this case, compared with the conventional spare determination circuit that only replaces word lines with spare word lines, or a spare determination circuit that simply replaces column selection lines with spare column selection lines, it is possible to suppress a decrease in relief efficiency. In addition, the number of spare determination circuits can be reduced.

【0146】図19は、この発明の第7の実施形態の変
形例に係るスペア判定回路の回路図である。
FIG. 19 is a circuit diagram of a spare determination circuit according to a modification of the seventh embodiment of the present invention.

【0147】図19に示すように、スペア判定回路5-
7’は、ワード線をスペアワード線に置き換える場合、
およびカラム選択線をスペアカラム選択線に置き換える
場合とでそれぞれ共有されている。
As shown in FIG. 19, spare determination circuit 5-
7 'is to replace the word line with a spare word line.
And when the column selection line is replaced with a spare column selection line.

【0148】[第8の実施形態]第8の実施形態は、bR
DHIT出力回路13、bSRFON出力回路14の回路規模の削
減に関する。
[Eighth Embodiment] The eighth embodiment employs bR
The present invention relates to reduction of the circuit size of the DHIT output circuit 13 and the bSRFON output circuit 14.

【0149】図20は、この発明の第8の実施形態に係
るスペア判定回路の回路図である。
FIG. 20 is a circuit diagram of a spare determination circuit according to the eighth embodiment of the present invention.

【0150】図20に示すように、スペア判定回路5-8
は、リダンダンシ判定タイミング信号(ノードCMP1)
と、ラッチ回路12の出力(ノードCMP0)とがそれぞれ
入力されるNOR回路101を具備する。
As shown in FIG. 20, spare determination circuit 5-8
Is the redundancy judgment timing signal (node CMP1)
And a NOR circuit 101 to which an output (node CMP0) of the latch circuit 12 is input.

【0151】NOR回路101の出力は、bRDHIT出力回
路13’のAND回路15’に入力されるとともに、bS
RFON出力回路14’のAND回路16’に入力される。
信号SRFはAND回路15’に入力され、信号SRFを反転
させた信号は、AND回路16’に入力される。
The output of the NOR circuit 101 is input to the AND circuit 15 ′ of the bRDHIT output circuit 13 ′, and
The signal is input to the AND circuit 16 'of the RFON output circuit 14'.
The signal SRF is input to an AND circuit 15 ', and a signal obtained by inverting the signal SRF is input to an AND circuit 16'.

【0152】このような第8の実施形態によれば、第1
の実施形態と同様の機能を有しつつ、bRDHIT出力回路1
3’、およびbSRFON出力回路14’を構成するトランジ
スタ数を減らすことができる。
According to the eighth embodiment, the first
BRDHIT output circuit 1 while having the same function as that of the first embodiment.
3 'and the number of transistors constituting the bSRFON output circuit 14' can be reduced.

【0153】[第9の実施形態]第9の実施形態は、第
8の実施形態と同様に、bRDHIT出力回路13、bSRFON出
力回路14の回路規模の削減に関するものであり、特に
第8の実施形態を、第2の実施形態のように変形させた
ものである。
[Ninth Embodiment] The ninth embodiment relates to a reduction in the circuit scale of the bRDHIT output circuit 13 and the bSRFON output circuit 14, as in the eighth embodiment. The embodiment is modified as in the second embodiment.

【0154】図21は、この発明の第9の実施形態に係
るスペア判定回路の回路図である。
FIG. 21 is a circuit diagram of a spare determination circuit according to the ninth embodiment of the present invention.

【0155】図21に示すように、第9の実施形態が第
8の実施形態と異なるところは、判定回路11-9であ
る。この判定回路11-9は、第2の実施形態で説明した
判定回路11-2と同様のもので、判定回路11に比べ
て、信号bRDENBを受けるNMOSが省略されている。
As shown in FIG. 21, the difference between the ninth embodiment and the eighth embodiment lies in the judgment circuit 11-9. The determination circuit 11-9 is similar to the determination circuit 11-2 described in the second embodiment, and is different from the determination circuit 11 in that an NMOS receiving the signal bRDENB is omitted.

【0156】また、bRDHIT出力回路13’のAND回路
15’には、NOR回路101の出力が入力されるとと
もに、信号bRDENBが入力される。また、bSRFON出力回路
14’のAND回路16’には、NOR回路101の出
力が入力されるとともに、信号bRDENBを反転させた信号
が入力される。
The output of the NOR circuit 101 and the signal bRDENB are input to the AND circuit 15 'of the bRDHIT output circuit 13'. In addition, the output of the NOR circuit 101 and the inverted signal of the signal bRDENB are input to the AND circuit 16 'of the bSRFON output circuit 14'.

【0157】このような第9の実施形態によれば、第2
の実施形態と同様の機能、および効果を有しつつ、bRDH
IT出力回路13’、およびbSRFON出力回路14’を構成
するトランジスタ数を減らすことができる。
According to the ninth embodiment, the second
BRDH while having the same function and effect as the embodiment of
The number of transistors constituting the IT output circuit 13 'and the bSRFON output circuit 14' can be reduced.

【0158】また、この第9の実施形態、および上記第
8の実施形態に係る発明は、第1、第2の実施形態だけ
でなく、第3〜第7の実施形態と組み合わせることが可
能である。
Also, the ninth embodiment and the invention according to the eighth embodiment can be combined with the third to seventh embodiments as well as the first and second embodiments. is there.

【0159】以上、この発明を、DRAMを例にとり、
説明したが、ロー/カラムで一つのスペア判定回路を共
有する場合には、DRAM以外のメモリにも適用するこ
とができる。
As described above, the present invention will be described by taking a DRAM as an example.
As described above, when one spare determination circuit is shared by rows / columns, the present invention can be applied to memories other than DRAM.

【0160】また、ヒューズとしては、レーザをヒュー
ズに照射することにより溶断するレーザ溶断型のヒュー
ズ、大きな電流をヒューズに流すことにより溶断する電
流溶断型のヒューズ、および電気的にデータを書き込む
ことが可能なPROM等を用いることができる。
Further, as the fuse, a laser fusing type fuse which is blown by irradiating a laser to the fuse, a current fusing type fuse which blows by applying a large current to the fuse, and data can be written electrically. A possible PROM or the like can be used.

【0161】[0161]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、不良アドレスをプログラムするためのプログラム素
子の増大によるチップ面積増を抑えることのできる半導
体集積回路装置を提供できる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor integrated circuit device capable of suppressing an increase in chip area due to an increase in the number of program elements for programming a defective address.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1はこの発明の第1の実施形態に係るDRA
Mのブロック図。
FIG. 1 is a diagram illustrating a DRA according to a first embodiment of the present invention;
The block diagram of M.

【図2】図2はこの発明の第1の実施形態に係るDRA
Mが具備するスペア制御ブロックの構成図。
FIG. 2 is a diagram illustrating a DRA according to the first embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a configuration diagram of a spare control block included in M.

【図3】図3はこの発明の第1の実施形態に係るDRA
Mが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 3 is a diagram showing a DRA according to the first embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in M.

【図4】図4(A)はこの発明の第1の実施形態に係る
DRAMが具備するヒューズ情報比較回路の回路図、図
4(B)はこの発明の第1の実施形態に係るDRAMが
具備するbRDENB発生回路の回路図、図4(C)はこの発
明の第1の実施形態に係るDRAMが具備するSRF発生
回路の回路図。
FIG. 4A is a circuit diagram of a fuse information comparison circuit included in the DRAM according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a circuit diagram of the fuse information comparing circuit according to the first embodiment of the present invention; FIG. 4C is a circuit diagram of a bRDENB generation circuit provided, and FIG. 4C is a circuit diagram of an SRF generation circuit provided in the DRAM according to the first embodiment of the present invention.

【図5】図5(A)はヒューズ情報比較回路の一動作例
を示す動作波形図、図5(B)はヒューズと出力との関
係を示す図。
FIG. 5A is an operation waveform diagram illustrating an operation example of a fuse information comparison circuit, and FIG. 5B is a diagram illustrating a relationship between a fuse and an output.

【図6】図6(A)、(B)はそれぞれスペア判定回路
の動作波形図。
FIGS. 6A and 6B are operation waveform diagrams of a spare determination circuit, respectively.

【図7】図7はこの発明の第2の実施形態に係るDRA
Mが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 7 is a diagram illustrating a DRA according to a second embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in M.

【図8】図8はこの発明の第3の実施形態に係るDRA
Mが具備するスペア制御ブロックの構成図。
FIG. 8 is a diagram illustrating a DRA according to a third embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a configuration diagram of a spare control block included in M.

【図9】図9はこの発明の第3の実施形態の変形例に係
るDRAMが具備するスペア制御ブロックの構成図。
FIG. 9 is a configuration diagram of a spare control block included in a DRAM according to a modification of the third embodiment of the present invention.

【図10】図10はこの発明の第4の実施形態に係るD
RAMが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 10 is a diagram illustrating a D according to a fourth embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in the RAM.

【図11】図11はこの発明の第4の実施形態の変形例
に係るDRAMが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 11 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in a DRAM according to a modification of the fourth embodiment of the present invention.

【図12】図12はこの発明の第5の実施形態に係るD
RAMが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 12 is a diagram illustrating a D according to a fifth embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in the RAM.

【図13】図13はこの発明の第5の実施形態に係るD
RAMが具備するRDENB発生回路の回路図。
FIG. 13 is a diagram illustrating a D according to a fifth embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a circuit diagram of an RDENB generation circuit included in the RAM.

【図14】図14はこの発明の第5の実施形態の変形例
に係るDRAMが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 14 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in a DRAM according to a modification of the fifth embodiment of the present invention.

【図15】図15はこの発明の第6の実施形態に係るD
RAMが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 15 is a diagram illustrating a D according to a sixth embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in the RAM.

【図16】図16はこの発明の第6の実施形態に係るD
RAMが具備するbRCSEL発生回路の回路図。
FIG. 16 is a diagram illustrating a D according to a sixth embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram of a bRCSEL generation circuit included in the RAM.

【図17】図17はこの発明の第6の実施形態の変形例
に係るDRAMが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 17 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in a DRAM according to a modification of the sixth embodiment of the present invention.

【図18】図18はこの発明の第7の実施形態に係るD
RAMが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 18 is a diagram illustrating a D according to a seventh embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in the RAM.

【図19】図19はこの発明の第7の実施形態の変形例
に係るDRAMが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 19 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in a DRAM according to a modification of the seventh embodiment of the present invention.

【図20】図20はこの発明の第8の実施形態に係るD
RAMが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 20 is a diagram illustrating a D according to an eighth embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in the RAM.

【図21】図21はこの発明の第9の実施形態に係るD
RAMが具備するスペア判定回路の回路図。
FIG. 21 is a diagram illustrating a D-type power supply according to a ninth embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram of a spare determination circuit included in the RAM.

【符号の説明】 1…セルアレイ、 2…ローデコーダ、 3…スペアローデコーダ、 4…ロー系制御回路、 5…スペア判定回路、 6…プリチャージ回路、 11…比較回路、 12…ラッチ回路、 13…判定回路、 14…出力回路、 21…不良アドレス指定用ヒューズ回路、 22…ラッチ回路、 23…ヒューズ情報比較回路、 24,25…トランスファゲート、 31…イネーブル情報用ヒューズ回路、 32…ラッチ回路、 41…切替情報用ヒューズ回路、 42…ラッチ回路、 51,52…NAND回路、 61…トランジスタ群、 62…NAND回路、 71…RDENB発生回路、 72…入力ノード、 73…NAND回路、 81…ロー/カラム切替情報用ヒューズ回路、 82…ラッチ回路、 83…bRCSEL発生回路、 91…NAND回路、 101…NOR回路。[Explanation of Signs] 1 ... cell array, 2 ... row decoder, 3 ... spare row decoder, 4 ... row related control circuit, 5 ... spare determination circuit, 6 ... precharge circuit, 11 ... comparison circuit, 12 ... latch circuit, 13 ... determination circuit, 14 ... output circuit, 21 ... defective address designation fuse circuit, 22 ... latch circuit, 23 ... fuse information comparison circuit, 24, 25 ... transfer gate, 31 ... enable information fuse circuit, 32 ... latch circuit 41: Fuse circuit for switching information, 42: Latch circuit, 51, 52: NAND circuit, 61: Transistor group, 62: NAND circuit, 71: RDENB generation circuit, 72: Input node, 73: NAND circuit, 81: Low / Fuse circuit for column switching information, 82 latch circuit, 83 bRCSEL generation circuit, 91 NAND circuit, 10 1. NOR circuit.

フロントページの続き Fターム(参考) 5B024 AA15 BA20 BA21 BA29 CA07 CA11 CA16 CA17 DA10 DA14 DA18 5L106 AA01 CC04 CC13 CC17 CC22 CC32 GG07 Continued on the front page F term (reference) 5B024 AA15 BA20 BA21 BA29 CA07 CA11 CA16 CA17 DA10 DA14 DA18 5L106 AA01 CC04 CC13 CC17 CC22 CC32 GG07

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルと情報のやりとりを行う複数
のビット線と、 前記ビット線に情報を取り出すメモリセルを選択する複
数のワード線と、 正常に情報を取り出すことができないメモリセルに接続
されているワード線を救済するためのスペアワード線
と、 前記正常に情報を取り出すことができないメモリセルを
救済するための救済情報を保持し、この救済情報に基い
た前記ワード線の前記スペアワード線への置き換え、お
よび前記救済情報に基いた前記ワード線のリフレッシュ
周期の変更の機能を有するスペア判定回路とを具備する
ことを特徴とする半導体集積回路装置。
1. A plurality of bit lines for exchanging information with a memory cell, a plurality of word lines for selecting a memory cell from which information is taken out from the bit line, and a plurality of word lines connected to a memory cell from which information cannot be taken out normally. A spare word line for relieving a word line that has lost the spare word line, and a spare word line for the word line based on the rescue information. And a spare determination circuit having a function of changing a refresh cycle of the word line based on the relief information.
【請求項2】 前記救済情報は、 スペア判定回路を使用するか否かを示すイネーブル情報
と、 入力されたアドレス情報と救済すべきワード線のアドレ
ス情報とが一致した否かを示す比較情報と、 前記スペアワード線に置き換えるか、前記リフレッシュ
周期を変更するかのいずれかを選択する選択情報とを含
むことを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装
置。
2. The rescue information includes enable information indicating whether a spare determination circuit is used, and comparison information indicating whether input address information matches address information of a word line to be remedied. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising selection information for selecting one of replacement with the spare word line and change of the refresh cycle.
【請求項3】 前記救済情報は、 スペア判定回路を使用するか否かを示すイネーブル情報
と、 入力されたアドレス情報と救済すべきワード線のアドレ
ス情報とが一致した否かを示す比較情報とを含み、 前記スペア判定回路は、 前記イネーブル情報がスペア判定回路を使用することを
示すとき、前記スペアワード線への置き換えをイネーブ
ルし、 前記イネーブル情報がスペア判定回路を使用しないこと
を示すとき、前記リフレッシュ周期の変更をイネーブル
することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路
装置。
3. The rescue information includes enable information indicating whether a spare determination circuit is used and comparison information indicating whether input address information matches address information of a word line to be remedied. When the spare information indicates that the spare determination circuit is used, the spare determination circuit enables replacement with the spare word line; and when the enable information indicates that the spare determination circuit is not used, 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the change of the refresh cycle is enabled.
【請求項4】 前記スペア判定回路は、前記比較情報に
より制御され、互いに並列に接続されたトランジスタ群
が導通するか否かにより、救済するか否かを判定する判
定回路を含み、 前記判定回路は、 前記トランジスタ群を含む電源電位から接地電位への電
流経路の一部に、前記イネーブル情報により制御される
トランジスタを含むことを特徴とする請求項2および請
求項3いずれかに記載の半導体集積回路装置。
4. The spare determination circuit, which is controlled by the comparison information, includes a determination circuit that determines whether or not to perform relief based on whether or not a group of transistors connected in parallel to each other conducts. 4. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein a part of a current path from a power supply potential including the transistor group to a ground potential includes a transistor controlled by the enable information. Circuit device.
【請求項5】 前記イネーブル情報には、ローが活性化
されているか否かを示す情報が含まれていることを特徴
とする請求項2乃至請求項4いずれか一項に記載の半導
体集積回路装置。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the enable information includes information indicating whether a row is activated. apparatus.
【請求項6】 前記スペア判定回路は、前記イネーブル
情報と救済判定タイミングを示す救済判定タイミング情
報とを含む情報に基づきイネーブルされることを特徴と
する請求項5に記載の半導体集積回路装置。
6. The semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein said spare determination circuit is enabled based on information including said enable information and relief determination timing information indicating relief determination timing.
【請求項7】 前記スペア判定回路は、 前記救済情報に基づき前記スペアワード線への置き換え
を制御する信号を出力する置換制御信号出力回路と、 前記救済情報に基づき前記リフレッシュ周期の変更を制
御する信号を出力する周期変更信号出力回路とを具備す
ることを特徴とする請求項1乃至請求項6いずれか一項
に記載の半導体集積回路装置。
A replacement control signal output circuit for outputting a signal for controlling replacement with the spare word line based on the repair information; and controlling a change of the refresh cycle based on the repair information. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising a cycle change signal output circuit that outputs a signal.
【請求項8】 前記スペア判定回路は、 救済判定タイミングを示す救済判定タイミング情報に応
答して、前記救済情報を前記置換制御信号出力回路、お
よび前記周期変更信号出力回路に伝達する伝達回路を含
み、 前記伝達回路は、 前記置換制御信号出力回路と前記周期変更信号出力回路
とで共有されていることを特徴とする請求項7に記載の
半導体集積回路装置。
8. The spare determination circuit includes a transmission circuit that transmits the relief information to the replacement control signal output circuit and the cycle change signal output circuit in response to relief determination timing information indicating a relief determination timing. 8. The semiconductor integrated circuit device according to claim 7, wherein the transmission circuit is shared by the replacement control signal output circuit and the cycle change signal output circuit.
【請求項9】 前記置換制御信号出力回路と、置換制御
信号が伝わる置換制御信号線との接続部分は、前記置換
制御信号出力回路の複数で共有され、 前記周期変更信号出力回路と、周期変更信号が伝わる周
期変更信号線との接続部分は、前記周期変更信号出力回
路の複数で共有されていることを特徴とする請求項7お
よび請求項8いずれかに記載の半導体集積回路装置。
9. A connection portion between the replacement control signal output circuit and a replacement control signal line to which a replacement control signal is transmitted is shared by a plurality of the replacement control signal output circuits. 9. The semiconductor integrated circuit device according to claim 7, wherein a portion connected to a cycle change signal line through which a signal is transmitted is shared by a plurality of cycle change signal output circuits.
【請求項10】 メモリセルと情報のやりとりを行う複
数のビット線と、 前記ビット線を選択するカラム選択線と、 前記ビット線に情報を取り出すメモリセルを選択する複
数のワード線と、 正常に情報を取り出すことができないメモリセルに接続
されているワード線を救済するためのスペアワード線、
および正常に情報を取り出すことができないメモリセル
に接続されているビット線を救済するためのスペアビッ
ト線と、 前記スペアビット線を選択するスペアカラム選択線と、 前記正常に情報を取り出すことができないメモリセルを
救済するための救済情報を保持し、この救済情報に基い
た前記ワード線の前記スペアワード線への置き換え、お
よび前記救済情報に基いた前記カラム選択線の前記スペ
アカラム選択線への置き換えの機能を有するスペア判定
回路とを具備することを特徴とする半導体集積回路装
置。
10. A plurality of bit lines for exchanging information with a memory cell, a column selection line for selecting the bit line, a plurality of word lines for selecting a memory cell from which information is taken out to the bit line, A spare word line to rescue a word line connected to a memory cell from which information cannot be taken out,
A spare bit line for relieving a bit line connected to a memory cell from which information cannot be normally taken out; a spare column selection line for selecting the spare bit line; and the information cannot be taken out normally. Relief information for relieving a memory cell is held, the word line is replaced with the spare word line based on the relief information, and the column selection line is replaced with the spare column selection line based on the relief information. And a spare determination circuit having a replacement function.
【請求項11】 メモリセルと情報のやりとりを行う複
数のビット線と、 前記ビット線を選択するカラム選択線と、 前記ビット線に情報を取り出すメモリセルを選択する複
数のワード線と、 正常に情報を取り出すことができないメモリセルに接続
されているワード線を救済するためのスペアワード線、
および正常に情報を取り出すことができないメモリセル
に接続されているビット線を救済するためのスペアビッ
ト線と、 前記スペアビット線を選択するスペアカラム選択線と、 前記正常に情報を取り出すことができないメモリセルを
救済するための救済情報を保持し、この救済情報に基い
た前記ワード線の前記スペアワード線への置き換え、前
記救済情報に基いた前記カラム選択線の前記スペアカラ
ム選択線への置き換え、および前記救済情報に基いた前
記ワード線のリフレッシュ周期の変更の機能を有するス
ペア判定回路とを具備することを特徴とする半導体集積
回路装置。
11. A plurality of bit lines for exchanging information with a memory cell, a column selection line for selecting the bit line, a plurality of word lines for selecting a memory cell from which information is taken out to the bit line, A spare word line to rescue a word line connected to a memory cell from which information cannot be taken out,
A spare bit line for relieving a bit line connected to a memory cell from which information cannot be normally extracted; a spare column selection line for selecting the spare bit line; and the information cannot be normally extracted. Relief information for relieving a memory cell is held, the word line is replaced with the spare word line based on the relief information, and the column selection line is replaced with the spare column selection line based on the relief information. And a spare determination circuit having a function of changing a refresh cycle of the word line based on the relief information.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004093089A1 (en) * 2003-04-15 2004-10-28 International Business Machines Corporation Dynamic semiconductor storage device
US7187607B2 (en) 2003-10-09 2007-03-06 Elpida Memory, Inc. Semiconductor memory device and method for manufacturing same
US9076549B2 (en) 2013-03-15 2015-07-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor memory device and refresh method thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004093089A1 (en) * 2003-04-15 2004-10-28 International Business Machines Corporation Dynamic semiconductor storage device
US7187607B2 (en) 2003-10-09 2007-03-06 Elpida Memory, Inc. Semiconductor memory device and method for manufacturing same
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