JP2001060301A - Reference tape for evaluation and its production as well as apparatus for production - Google Patents

Reference tape for evaluation and its production as well as apparatus for production

Info

Publication number
JP2001060301A
JP2001060301A JP11213302A JP21330299A JP2001060301A JP 2001060301 A JP2001060301 A JP 2001060301A JP 11213302 A JP11213302 A JP 11213302A JP 21330299 A JP21330299 A JP 21330299A JP 2001060301 A JP2001060301 A JP 2001060301A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tape
laser beam
lens
magnetic recording
recording layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11213302A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Osamu Iwasaki
修 岩崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP11213302A priority Critical patent/JP2001060301A/en
Priority to US09/580,544 priority patent/US6661610B1/en
Publication of JP2001060301A publication Critical patent/JP2001060301A/en
Priority to US10/407,423 priority patent/US6914254B2/en
Priority to US10/408,038 priority patent/US20030189777A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To permit the execution of the sensitivity correction of a drop-out inspection machine meeting the depths and sizes of defects and to permit adequate production magnification and higher accuracy by having recessed parts as a result of processing of a magnetic recording layer in this magnetic recording layer. SOLUTION: The reference tape for evaluation is formed by having the magnetic recording layer on one surface of a base layer consisting of polyethylene terephthalate(PET) or aramid resin and further having an over-coating layer or under-coating layer and a back layer formed on the reverse surface of the magnetic recording layer. A multiplicity of grooves extending in the longitudinal direction of the tape are formed in plural rows on the magnetic recording layer of the tape and the sizes of processing line components is not particularly restricted. The many grooves (b) extending in a diagonal direction may be formed and the angles and sizes of the processing line components (b) are not restricted and the coexistence of the different components is equally good. The depths of the recessed parts of the grooves may be the same or the coexistence of the recessed parts of the different depths is equally well. The performance of the drop-out inspection machine may be adequately recognized without destroying the tape by using such tape.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、DDS(digital d
ata storage)やDAT(digital audio tape)等の磁気テ
ープの技術分野に属し、詳しくは、ドロップアウト検査
機の感度補正や磁気テープの記録/再生系の評価を好適
に行うことができる評価用基準テープ、およびその製造
方法ならびに製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a DDS (digital d
It belongs to the technical field of magnetic tapes such as ata storage) and DAT (digital audio tape). Specifically, it is an evaluation standard that can suitably perform sensitivity correction of dropout inspection machines and evaluation of recording / reproducing system of magnetic tape. The present invention relates to a tape, a method of manufacturing the same, and a manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】DATやDDSに利用される磁気テープ
は、基本的に、PET(ポリエチレンテレフタレート)
等のフィルムであるベース層と、ベース層の一方の面に
形成される磁気記録層と、搬送安定性や強度の向上等を
目的として、ベース層の磁気記録層の逆面に形成される
バック層等を有して構成される。
2. Description of the Related Art Magnetic tapes used for DAT and DDS are basically made of PET (polyethylene terephthalate).
And the like, a base layer which is a film, a magnetic recording layer formed on one surface of the base layer, and a back formed on the opposite surface of the magnetic recording layer of the base layer for the purpose of improving transport stability and strength. It has a layer and the like.

【0003】このような磁気テープにおいて、傷等に起
因する磁気記録層の欠陥は、記録時や再生時において、
記録磁力や出力の降下、記録および再生ミス等の現象と
して現れ、通常、ドロップアウトと呼ばれている。従っ
て、磁気テープには、ドロップアウトが無いのが理想で
あるが、ドロップアウトは、元来、不可避なものであ
る。そのため、磁気テープの製造においては、ドロップ
アウト検査機を用いて、出力低下および時間的な幅の少
なくとも一方が所定値を超えたドロップアウトの数を測
定し、その数が閾値を超えた磁気テープは、製品として
不適正(NG)であると判定している。なお、ドロップ
アウト検査機は、DAT等のカートリッジでは、実際の
ドライブ(記録再生装置)を改造した物を用いることが
多く、また、ドロップアウト数の閾値はテープの品種に
よって異なる。
[0003] In such a magnetic tape, defects in the magnetic recording layer due to scratches and the like occur during recording and reproduction.
It appears as a phenomenon such as a drop in recording magnetic force or output, a mistake in recording and reproduction, and is usually called a dropout. Therefore, it is ideal that the magnetic tape has no dropout, but the dropout is originally inevitable. Therefore, in the production of magnetic tape, using a drop-out inspection machine, at least one of the output drop and time width is measured the number of drop-outs exceeding a predetermined value, the number of magnetic tapes exceeding the threshold value Determined that the product was inappropriate (NG). In the case of a DAT or the like, a dropout inspection machine often uses a modified drive (recording / reproducing device) for a DAT or the like, and the threshold value of the number of dropouts differs depending on the type of tape.

【0004】前述のドロップアウトの検査を適正に行う
ためには、ドロップアウト検査機が所定値を超えるドロ
ップアウトの数を正確に測定する必要があり、そのため
には、ドロップアウト検査機の感度が適正に設定されて
いる必要がある。そのため、磁気テープの製造において
は、各品種毎に、基準となる磁気テープすなわち評価用
基準テープ(以下、基準テープとする)を作製し、この
基準テープを用いてドロップアウト検査機の感度補正
(較正)に用いている。
In order to properly perform the above-described dropout inspection, it is necessary for the dropout inspection machine to accurately measure the number of dropouts exceeding a predetermined value. It must be set properly. Therefore, in the manufacture of magnetic tapes, a magnetic tape as a reference, that is, a reference tape for evaluation (hereinafter referred to as a reference tape) is prepared for each product type, and the sensitivity correction of a drop-out inspection machine is performed using the reference tape (hereinafter referred to as reference tape). Calibration).

【0005】ところが、このような基準テープは、実際
に磁気記録層にどの程度の大きさ、深さの欠陥を有する
のかを知見することはできない。磁気テープを解析する
ことにより、欠陥の大きさや深さを知見することはでき
る。ところが、解析は電子顕微鏡や磁気現象を用いた観
察が必須となるため、磁気テープを破壊する結果とな
り、解析された磁気テープを基準テープとして用いるこ
とはできず、また、通常は解析は磁気テープの一部しか
行われない。
However, it is not possible to know how large and deep a defect such a reference tape actually has in a magnetic recording layer. By analyzing the magnetic tape, the size and depth of the defect can be known. However, analysis requires observation using an electron microscope or magnetic phenomena, which results in the destruction of the magnetic tape, and the analyzed magnetic tape cannot be used as a reference tape. Only part of it is done.

【0006】そのため、現状では、基準テープが有する
欠陥の深さや大きさに応じたドロップアウト検査機の感
度補正を行うことができないので、ドロップアウト検査
では、ドロップアウトと、その欠陥の深さや大きさとの
対応が曖昧となってしまい、その結果、良好な品質管理
ができないという問題点がある。
Therefore, at present, it is not possible to correct the sensitivity of the drop-out inspection machine in accordance with the depth and size of the defect of the reference tape. There is a problem that a good quality control cannot be performed as a result.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
従来技術の問題点を解決することにあり、欠陥の深さや
大きさに応じたドロップアウト検査機の感度補正を行う
ことを可能とし、これにより、ドロップアウト検査機の
性能を適正に把握し、その機差や経時変化を吸収した、
より高精度なドロップアウト検査を行って、より好適な
生産管理や生産管理を行うこと、ならびに、磁気テープ
の記録/再生系の性能を定量的に測定して、その高精度
かつ適正な評価を行うことを可能にする評価用基準テー
プ、およびこの評価用基準テープを効率良く作製できる
評価用基準テープの製造方法ならびに製造装置を提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to make it possible to correct the sensitivity of a dropout inspection machine according to the depth and size of a defect. By this, the performance of the dropout inspection machine was properly grasped, and the machine difference and the secular change were absorbed.
Perform more accurate dropout inspection to perform more suitable production management and production management, and quantitatively measure the performance of the recording / reproducing system of the magnetic tape and evaluate its high accuracy and proper evaluation. It is an object of the present invention to provide an evaluation reference tape that enables the evaluation to be performed, and a method and an apparatus for manufacturing an evaluation reference tape capable of efficiently producing the evaluation reference tape.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、磁気記録層に、磁気記録層を加工してな
る凹部を有することを特徴とする評価用基準テープを提
供する。
In order to achieve the above object, the present invention provides a reference tape for evaluation, characterized in that the magnetic recording layer has a recess formed by processing the magnetic recording layer.

【0009】また、本発明の評価用基準テープの製造方
法は、磁気テープを長手方向に搬送しつつ、可視域のレ
ーザビームおよび紫外域のレーザビームの少なくとも一
方を前記磁気テープの磁気記録層に入射し、前記磁気記
録層を加工して凹部を形成することを特徴とする評価用
基準テープの製造方法を提供する。
In the method of manufacturing a reference tape for evaluation according to the present invention, at least one of a visible laser beam and an ultraviolet laser beam is applied to a magnetic recording layer of the magnetic tape while conveying the magnetic tape in the longitudinal direction. A method for manufacturing a reference tape for evaluation, characterized in that a concave portion is formed by incident light and processing the magnetic recording layer.

【0010】前記評価用基準テープの製造方法におい
て、前記磁気テープの磁気記録層に入射するレーザビー
ムは、多眼レンズによって分割および結像された複数本
のレーザビーム、分割手段によって分割された複数本の
レーザビーム、光走査素子で走査されたレーザビーム、
および分割手段と多眼レンズとを併用して分割および結
像された複数本のレーザビームの少なくとも一つである
のが好ましい。
In the method of manufacturing the evaluation reference tape, the laser beam incident on the magnetic recording layer of the magnetic tape is a plurality of laser beams divided and imaged by a multi-lens lens, and a plurality of laser beams divided by a dividing means. Book laser beam, laser beam scanned by optical scanning element,
It is preferable that the laser beam is at least one of a plurality of laser beams divided and imaged by using the dividing means and the multi-lens lens together.

【0011】さらに、本発明の評価用基準テープの製造
装置は、可視域のレーザビームおよび紫外域のレーザビ
ームの少なくとも一方を射出する光源と、前記光源から
射出されたレーザビームを所定の加工位置に入射する光
学系と、前記加工位置において、磁気記録層を前記レー
ザビームの光路の上流側に向けた状態で磁気テープを長
手方向に搬送する搬送手段と、前記加工位置において、
前記搬送手段によって搬送される磁気テープの平面性を
確保する手段とを有することを特徴とする評価用基準テ
ープの製造装置を提供する。
Further, the apparatus for manufacturing a reference tape for evaluation according to the present invention comprises a light source for emitting at least one of a visible region laser beam and an ultraviolet region laser beam, and a laser beam emitted from the light source at a predetermined processing position. And an optical system that is incident on the processing position, and a conveying unit that conveys the magnetic tape in a longitudinal direction with the magnetic recording layer facing the upstream side of the optical path of the laser beam, and at the processing position,
Means for ensuring the flatness of the magnetic tape conveyed by the conveying means.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の評価用基準テー
プ、および評価用基準テープの製造方法ならびに評価用
基準テープの製造装置について、添付の図面に示される
好適実施例をもとに詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a reference tape for evaluation, a method of manufacturing the reference tape for evaluation, and a device for manufacturing the reference tape for evaluation of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings. explain.

【0013】本発明の評価用基準テープは、PETやア
ラミド樹脂等からなるベース層(ベースフィルム)の一
面に磁気記録層を有し、あるいはさらにオーバーコート
層(保護層)や下塗り層、磁気記録層の逆面に形成され
るバック層(バックコート層)を有してなる、通常の層
構成を有する磁気テープで、磁気記録層に磁気テープの
ドロップアウトに対応する凹部、例えば、磁気テープの
長手方向に延在する溝や、磁気テープの長手方向に対し
て斜め方向(以下、斜め方向とする)に延在する溝を形
成してなるものである。
The evaluation reference tape of the present invention has a magnetic recording layer on one side of a base layer (base film) made of PET, aramid resin, or the like, or further has an overcoat layer (protective layer), an undercoat layer, and a magnetic recording layer. A magnetic tape having a normal layer configuration, having a back layer (back coat layer) formed on the opposite surface of the layer, and a concave portion corresponding to a dropout of the magnetic tape in the magnetic recording layer, for example, a magnetic tape. A groove extending in the longitudinal direction and a groove extending in a direction oblique to the longitudinal direction of the magnetic tape (hereinafter, referred to as an oblique direction) are formed.

【0014】図1に、本発明の評価用基準テープ(以
下、テープとする)の磁気記録層を概念的に示す。図1
(A)に示される例は、テープの磁気記録層に、テープ
の長手方向に延在する溝(加工線分a)を多数、複数列
に形成してなるものである。なお、この例において、加
工線分の大きさ(長さ、幅)には特に限定はなく、ま
た、加工線分の大きさは、全て同じであっても、異なる
ものが混在してよい。図1(B)に示される例は、斜め
方向に延在する溝(加工線分b)を多数形成した例であ
る。この例においては、加工線分bの角度や大きさには
特に限定はなく、また、加工線分の角度や大きさは全て
同じであっても、異なるものが混在してもよい。また、
本発明においては、溝等の凹部の深さは、全て同じであ
っても、異なる深さの凹部が混在してもよい。
FIG. 1 conceptually shows a magnetic recording layer of a reference tape for evaluation (hereinafter referred to as a tape) of the present invention. FIG.
In the example shown in (A), a large number of grooves (working line segments a) extending in the longitudinal direction of the tape are formed in a plurality of rows in the magnetic recording layer of the tape. In this example, the size (length, width) of the processing line segment is not particularly limited, and the sizes of the processing line segments may be the same or different. The example shown in FIG. 1B is an example in which a large number of grooves (processing line segments b) extending in oblique directions are formed. In this example, the angle and the size of the processing line segment b are not particularly limited, and the angles and the sizes of the processing line segments may be all the same or different. Also,
In the present invention, the depths of the recesses such as the grooves may be the same, or the recesses having different depths may be mixed.

【0015】本発明のテープは、磁気記録層にこのよう
なドロップアウトに対応する凹部、好ましくは深さや大
きさが既知の凹部を有する。そのため、本発明のテープ
を用いることにより、テープを破壊することなく、ドロ
ップアウト検査機の感度補正を、テープの欠陥の深さや
大きさに応じて行うことができる。その結果、ドロップ
アウト検査機の性能を適正に把握し、かつ、その機差や
経時変化を吸収した、より高精度なドロップアウト検査
を行って、より良好な磁気テープの品質管理を行うこと
が可能となる。また、このような本発明のテープを用い
ることにより、磁気テープの記録/再生系の検査や評価
も、より好適に行うことが可能である。
The tape of the present invention has a concave portion corresponding to such a dropout in the magnetic recording layer, preferably a concave portion having a known depth and size. Therefore, by using the tape of the present invention, the sensitivity correction of the dropout inspection machine can be performed according to the depth and size of the defect of the tape without breaking the tape. As a result, it is possible to properly grasp the performance of the dropout inspection machine, and perform a more accurate dropout inspection that absorbs the machine differences and changes over time to perform better magnetic tape quality control. It becomes possible. Further, by using such a tape of the present invention, inspection and evaluation of a recording / reproducing system of a magnetic tape can be performed more suitably.

【0016】本発明のテープにおいて、凹部の形成状態
(形成パターン)は図示例に限定はされず、各種のもの
が利用可能であり、例えば、テープの幅方向に延在する
溝を形成してもよく、円形や矩形の凹部を多数形成して
もよい。なお、幅方向や斜め方向に溝を形成する場合に
は、テープの幅方向端部を突き抜けるように溝を形成し
てもよく、あるいは、テープを横断するように溝を形成
してもよい。さらに、長手方向、幅方向および斜め方向
に延在する溝の2以上が混在しても良く、この場合に
は、溝が交差してもよい。
In the tape of the present invention, the formation state (formation pattern) of the concave portion is not limited to the illustrated example, and various types can be used. For example, a groove extending in the width direction of the tape is formed. Alternatively, a large number of circular or rectangular concave portions may be formed. When the grooves are formed in the width direction or in the oblique direction, the grooves may be formed so as to penetrate the end in the width direction of the tape, or may be formed so as to cross the tape. Further, two or more grooves extending in the longitudinal direction, the width direction, and the oblique direction may be mixed, and in this case, the grooves may intersect.

【0017】凹部の形状(断面形状)にも特に限定はな
く、例えば、図2(A)に示されるような矩形状、図2
(B)に示されるような三角形状、図2(C)に示され
るような半円(弓型)等が例示される。
The shape (cross-sectional shape) of the concave portion is not particularly limited. For example, a rectangular shape as shown in FIG.
A triangular shape as shown in FIG. 2B, a semicircle (bow shape) as shown in FIG.

【0018】このような凹部の大きさ、深さ、形状、形
成角度、形成間隔(テープの長手方向および幅方向)、
形成パターン等は、後述する本発明の製造方法や製造装
置において、磁気記録層を加工するレーザビームのビー
ムスポット径、レーザビーム強度、ビームスポットの強
度分布(プロファイル)、レーザビームのパルス変調周
波数、レーザビームの走査方向や走査速度、テープの搬
送方向や搬送速度、マスクパターン等を調整すること
で、適宜、選択や調整を行うことができる。また、凹部
の大きさ、深さ、形状、形成角度、形成間隔等は、テー
プの幅、トラック幅、トラックの角度(リニアトラック
やヘリカルトラック)、さらにはドロップアウト検査機
の仕様等に応じて、適宜選択、設定すればよい。
The size, depth, shape, forming angle, forming interval (longitudinal direction and width direction of the tape) of such a concave portion,
In a manufacturing method and a manufacturing apparatus of the present invention to be described later, a formation pattern and the like are determined by a beam spot diameter of a laser beam for processing a magnetic recording layer, a laser beam intensity, an intensity distribution (profile) of the beam spot, a pulse modulation frequency of the laser beam, By adjusting the scanning direction and scanning speed of the laser beam, the transport direction and transport speed of the tape, the mask pattern, and the like, selection and adjustment can be made as appropriate. In addition, the size, depth, shape, forming angle, forming interval, etc. of the concave portion depend on the tape width, track width, track angle (linear track or helical track), and the specifications of the dropout inspection machine. May be appropriately selected and set.

【0019】いずれの場合にも、凹部は、テープの全バ
ンドあるいはさらに各バンドの全トラックに対応できる
ように形成するのが好ましい。テープのどのトラックに
どのような凹部(ドロップアウト)が存在しているかが
分かっていれば、1巻のテープで、各種のドロップアウ
トに対するドロップアウト検査機の感度補正や、磁気テ
ープの記録/再生系の検査や評価を行うことが可能にな
る。
In any case, the recess is preferably formed so as to correspond to all the bands of the tape or all the tracks of each band. If you know what recesses (dropouts) exist in which tracks on the tape, you can use one roll of tape to correct the sensitivity of the dropout tester for various types of dropouts and record / reproduce magnetic tape. The system can be inspected and evaluated.

【0020】図3に、このような本発明の(評価用基
準)テープを、本発明の製造方法を利用して作成する、
本発明の製造装置の概念図を示す。図示例の製造装置1
0は、前述の図1(A)に示されるような、テープの長
手方向に延在する溝(加工線や加工線分)を形成するも
ので、レーザビームを射出する光源12と、パルス変調
器14、ミラー16、ビームエクスパンダ18、ビーム
プロファイル成形器20および多眼レンズ22を有する
光学系と、テープ搬送手段24とを有する。
FIG. 3 shows such a (evaluation reference) tape of the present invention prepared using the manufacturing method of the present invention.
1 shows a conceptual diagram of a manufacturing apparatus of the present invention. Manufacturing apparatus 1 in illustrated example
Numeral 0 forms a groove (processing line or processing line segment) extending in the longitudinal direction of the tape as shown in FIG. 1A, and a light source 12 for emitting a laser beam and a pulse modulation It has an optical system having a device 14, a mirror 16, a beam expander 18, a beam profile shaper 20, and a multi-lens lens 22, and a tape transport means 24.

【0021】このような製造装置10においては、テー
プ走行手段24によってテープTを所定の加工位置に位
置して長手方向に搬送(図中矢印x方向)しつつ、光源
12から射出されたレーザビームを光学系によって前記
加工位置に入射することにより、テープTに溝を形成す
る。
In such a manufacturing apparatus 10, the laser beam emitted from the light source 12 while the tape T is positioned at a predetermined processing position by the tape running means 24 and transported in the longitudinal direction (the direction of the arrow x in the drawing). Is incident on the processing position by an optical system, thereby forming a groove in the tape T.

【0022】光源12には特に限定は無く、テープTの
磁気記録層を加工可能な出力を有する紫外域や可視域の
レーザビームを射出するものであれば、各種の光源(レ
ーザ発振器)が利用可能である。なお、加工性の点で
は、波長の短いレーザビームの方が好ましく、紫外域の
レーザビームが最も良好であるが、コスト、安全性、作
業性等の点では可視域のレーザビームが好ましい。具体
的には、488nmや515nmのアルゴンレーザ、Y
AGレーザをSHG(Second Harmonic Generation 二
次高調波発生)素子で波長変換してなる532nmのレ
ーザビームを射出する光源等が例示される。
The light source 12 is not particularly limited, and various light sources (laser oscillators) may be used as long as they emit an ultraviolet or visible laser beam having an output capable of processing the magnetic recording layer of the tape T. It is possible. In terms of workability, a laser beam having a short wavelength is more preferable, and a laser beam in the ultraviolet region is the best, but a laser beam in the visible region is preferable in terms of cost, safety, workability, and the like. Specifically, 488 nm or 515 nm argon laser, Y
A light source that emits a 532 nm laser beam obtained by converting the wavelength of an AG laser with an SHG (Second Harmonic Generation second harmonic generation) element is exemplified.

【0023】また、光源12の出力、すなわちレーザビ
ームの強度を調整することにより、溝の深さを調整する
ことができる。
Further, by adjusting the output of the light source 12, that is, the intensity of the laser beam, the depth of the groove can be adjusted.

【0024】前述のように、図示例の製造装置10で
は、光学系は、パルス変調器14、ミラー16、ビーム
エクスパンダ18、ビームプロファイル成形器20およ
び多眼レンズ22を有する。パルス変調器14は、図1
(A)に示されるような加工線分を形成するために、レ
ーザビームをパルス変調するものである。パルス変調器
14としては、AOM(音響光学変調器)等の公知の変
調手段が利用可能である。また、変調周期を調整するこ
とにより、溝の長さや形成間隔を調整してもよい。
As described above, in the manufacturing apparatus 10 of the illustrated example, the optical system has the pulse modulator 14, the mirror 16, the beam expander 18, the beam profile shaper 20, and the multi-lens 22. The pulse modulator 14 corresponds to FIG.
The laser beam is pulse-modulated to form a processing line segment as shown in FIG. As the pulse modulator 14, known modulation means such as an AOM (acoustic optical modulator) can be used. In addition, the length of the groove and the interval between the grooves may be adjusted by adjusting the modulation period.

【0025】レーザビームは、ミラー16で所定方向に
反射され、次いで、ビームエクスパンダ18に入射す
る。製造装置10は、1本のレーザビームを分割して、
テープTに溝を形成するが、多種の幅のテープTに対応
して、その幅方向の全面、特にテープTの全トラックに
対応して溝を形成可能であるのが好ましい。しかしなが
ら、一般的に、光源から射出されるレーザビームの径は
1mm前後であり、テープTはそれよりも太いので、そ
のままでは、テープTの幅方向全面に加工を行うことは
できない。そのため、製造装置10では、ビームエクス
パンダ18を配置し、光源12から射出されたレーザビ
ームを拡径する。例えば、光源12から射出されるレー
ザビームが1mmで、テープTの幅が0.5inである
場合には、15倍〜20倍程度にレーザビームを拡径す
ればよい。また、ビームエクスパンダ18でのレーザビ
ームの拡径率は調整可能にしてもよい。
The laser beam is reflected by the mirror 16 in a predetermined direction, and then enters the beam expander 18. The manufacturing apparatus 10 splits one laser beam,
Although grooves are formed in the tape T, it is preferable that grooves can be formed corresponding to the tape T having various widths, and corresponding to the entire surface in the width direction, particularly, all the tracks of the tape T. However, in general, the diameter of the laser beam emitted from the light source is about 1 mm, and the tape T is thicker than that, so that the entire surface in the width direction of the tape T cannot be processed as it is. Therefore, in the manufacturing apparatus 10, the beam expander 18 is arranged, and the diameter of the laser beam emitted from the light source 12 is expanded. For example, when the laser beam emitted from the light source 12 is 1 mm and the width of the tape T is 0.5 inch, the diameter of the laser beam may be increased by about 15 to 20 times. Further, the diameter expansion rate of the laser beam in the beam expander 18 may be adjustable.

【0026】ビームエクスパンダ18で拡径されたレー
ザビームは、次いで、ビームプロファイル成形器20
(以下、成形器20とする)に入射する。成形器20
は、レーザビームの強度をビームスポット全面でほぼ均
一にする、すなわち、レーザビームの強度分布をほぼ均
一化するものである。通常、光源12から射出されるレ
ーザビームは、ガウス分布のような強度分布を持ってい
るので、このレーザビームでテープTを加工すると、強
度分布に応じて溝の深さが異なってしまう。そのため、
成形器20を配置することにより、レーザビームの強度
分布を均一にして、形成する溝の深さを均一にでき、よ
り精度の高いドロップアウト検査機の感度補正や、記録
/再生系の評価を行うことができる(評価用基準)テー
プTを得ることができる。
The laser beam expanded in diameter by the beam expander 18 is then sent to a beam profiler 20.
(Hereinafter, referred to as a molding device 20). Molding machine 20
Is to make the intensity of the laser beam almost uniform over the entire beam spot, that is, to make the intensity distribution of the laser beam almost uniform. Normally, the laser beam emitted from the light source 12 has an intensity distribution such as a Gaussian distribution. Therefore, if the laser beam is used to process the tape T, the depth of the groove will differ depending on the intensity distribution. for that reason,
By arranging the molding device 20, the intensity distribution of the laser beam can be made uniform and the depth of the groove to be formed can be made uniform, so that the sensitivity of the dropout inspection machine with higher accuracy and the evaluation of the recording / reproducing system can be evaluated. A workable (evaluation standard) tape T can be obtained.

【0027】成形器20としては、例えば、各種の光学
フィルタが利用可能であり、一例として、図4(A)に
示されるような、頂角が鈍角の二等辺三角形を光透過領
域20aとして、その頂角を内側にして底辺を組み合わ
せて正四角形を形成してなる、周辺に向かうに従って透
過光量が増加するフィルタが例示される。また、図4
(B)に示されるような、前記二等辺三角形の代わり
に、楕円弧状の光透過領域20aを同様に組み合わせて
成る、周辺に向かうに従って透過光量が増加するフィル
タも例示される。なお、上記構成のフィルタは、図示例
のような正四角形に限定はされず、同様にして構成され
る五角形あるいはそれ以上の多角形であってもよい。
As the molding device 20, for example, various optical filters can be used. For example, as shown in FIG. 4A, an isosceles triangle whose apex angle is obtuse is used as the light transmission region 20a. An example is a filter in which the apex angle is inside and the bottom side is combined to form a regular square, and the amount of transmitted light increases toward the periphery. FIG.
As shown in (B), there is also exemplified a filter formed by similarly combining elliptical arc-shaped light transmitting regions 20a in place of the isosceles triangle and increasing the amount of transmitted light toward the periphery. The filter having the above configuration is not limited to a regular square as shown in the illustrated example, but may be a pentagon or a polygon having a similar configuration.

【0028】成形器20としては、以下に示す光学系も
利用可能である。この光学系においては、まず、ビーム
エクスパンダ18で拡径されたレーザビームを、シリン
ドリカルレンズで絞り込み、一方向(u方向とする)に
延在する直線状(スリット状)のレーザビームとし、次
いで、この直線状のレーザビームを、同方向に延在し端
部に行くに従って通過エリアの広がるスリットで調光し
た後に、例えばシリンドリカルレンズの組で、細いビー
ムにコリメートする。成形したレーザビームを、シリン
ドリカルレンズによって一方向にのみ拡径して、前記u
方向と直交するv方向に延在する直線状のレーザビーム
とし、これを同様のスリットで調光した後、u方向の際
と同様にシリンドリカルレンズの組で、細いビームにコ
リメートする。これにより、ほぼ全面的に均一な光量の
レーザビームを得ることができる。なお、スリットに関
しては、後述する図12に示されるスリット80(光量
調整手段72b)が利用できる。また、必要に応じて、
成形したビームをビームエクスパンダで拡径してもよ
い。
As the molding device 20, the following optical system can be used. In this optical system, first, the laser beam expanded in diameter by the beam expander 18 is narrowed down by a cylindrical lens to form a linear (slit-shaped) laser beam extending in one direction (referred to as u direction). After dimming the linear laser beam with a slit extending in the same direction and having a wider passing area toward the end, the laser beam is collimated into a narrow beam by, for example, a set of cylindrical lenses. The diameter of the formed laser beam is expanded only in one direction by a cylindrical lens,
A linear laser beam extending in the v direction perpendicular to the direction is dim, and the light is modulated by a similar slit. Then, as in the u direction, the laser beam is collimated into a thin beam by a set of cylindrical lenses. This makes it possible to obtain a laser beam having a uniform light amount over almost the entire surface. As for the slit, a slit 80 (light amount adjusting means 72b) shown in FIG. 12 described later can be used. Also, if necessary,
The shaped beam may be expanded by a beam expander.

【0029】あるいは逆に、必要に応じて、成形器20
によってレーザビームに強度分布を持たせ、各溝の深さ
を、適宜調整(選択)してもよい。また、成形器20を
設けず、レーザビームの強度分布に応じた深さの溝を形
成してもよい。
Or, conversely, if necessary, the molding machine 20
The laser beam may have an intensity distribution, and the depth of each groove may be appropriately adjusted (selected). Further, a groove having a depth corresponding to the intensity distribution of the laser beam may be formed without providing the molding device 20.

【0030】レーザビームは、次いで、多眼レンズ22
に入射する。多眼レンズ22は、マイクロボールレンズ
やセルフォックレンズを、その光軸をレーザビームに平
行として、光軸と直交する方向に多数配列したものであ
り、入射したレーザビームを、多数のレーザビームに分
割して、所定の加工位置に入射、結像する。これによ
り、レーザビームによってテープTの磁気記録層を加工
して、溝等を形成する。
The laser beam is then applied to the multi-lens 22
Incident on. The multi-lens lens 22 is formed by arranging a large number of microball lenses and selfoc lenses in a direction perpendicular to the optical axis with its optical axis parallel to the laser beam. The light beam is divided, incident on a predetermined processing position, and imaged. Thus, the magnetic recording layer of the tape T is processed by the laser beam to form a groove or the like.

【0031】図5に、その一例を光軸方向から見た際の
概略図を示す。図示例の多眼レンズは、一例として、図
5(A)に示されるように、マイクロボールレンズやセ
ルフォックレンズ(以下、両者をまとめてレンズとす
る)を5個×5個で細密状態に配列したものであり、図
5(B)に示されるように、一点鎖線で示されるレンズ
の配列線をテープTの搬送方向xに対して若干傾けた状
態で配置される。これにより、テープTを長手方向に一
回搬送(1パス)するだけで、図5(B)に示されるよ
うに、テープTの幅方向に計25列、長手方向に延在す
る溝(加工線分a)が形成できる。
FIG. 5 is a schematic diagram showing one example of the structure viewed from the optical axis direction. As an example, as shown in FIG. 5A, the multi-lens lens in the illustrated example is a microball lens or a selfoc lens (hereinafter, both are collectively referred to as a lens) in a fine state of 5 × 5. As shown in FIG. 5 (B), the lenses are arranged in a state where the lens array line indicated by a dashed line is slightly inclined with respect to the transport direction x of the tape T. As a result, the tape T is transported only once (one pass) in the longitudinal direction, and as shown in FIG. 5B, a total of 25 rows of grooves (processing) extending in the width direction of the tape T are formed. A line segment a) can be formed.

【0032】ここで、搬送方向xとレンズの配列線との
角度を調整することにより、溝の間隔を調整することが
できるが、効率良く溝を形成するためには、この角度
は、各レンズの光軸(ビームウエストの中心)が搬送方
向xで重ならないように設定する必要がある。図6に示
されるように、A方向のレンズの配列線に注目した際
に、一列の多眼レンズの数をN; 搬送方向xと配列線
との角度をθ1 ; とすると、下記式が満たされた場合
には、搬送方向xでレンズの光軸は重ならない。 sin[(2π/3)+θ1 ]≧N・ sin θ1 従って、レンズの光軸が重ならない角度θ1 は、 θ1 ≦tan -1[{sin(2π/3)}/{N−cos(2π/
3)}]
Here, the gap between the grooves can be adjusted by adjusting the angle between the transport direction x and the arrangement line of the lenses. However, in order to form the grooves efficiently, this angle must be adjusted for each lens. Must be set so that the optical axes (centers of the beam waists) do not overlap in the transport direction x. As shown in FIG. 6, when paying attention to the lens arrangement line in the A direction, if the number of multi-lens lenses in a row is N; and the angle between the transport direction x and the arrangement line is θ 1 ; When satisfied, the optical axes of the lenses do not overlap in the transport direction x. sin [(2π / 3) + θ 1 ] ≧ N · sin θ 1 Therefore, the angle θ 1 at which the optical axes of the lenses do not overlap is θ 1 ≦ tan −1 [{sin (2π / 3)} / {N-cos (2π /
3)}]

【0033】同様に、B方向のレンズの配列線に注目し
た際には、搬送方向xとの直交方向(Y方向)と、レン
ズの配列線とが成す角度θ2 が下記式を満たせば、搬送
方向xでレンズの光軸は重ならない。 θ2 ≦tan -1[{sin(π/3)}/{N−cos(π/
3)}]
Similarly, when attention is paid to the lens arrangement line in the B direction, if the angle θ 2 formed between the direction perpendicular to the transport direction x (Y direction) and the lens arrangement line satisfies the following equation: The optical axes of the lenses do not overlap in the transport direction x. θ 2 ≦ tan −1 [{sin (π / 3)} / {N-cos (π /
3)}]

【0034】本発明において、多眼レンズのレンズ配列
は、図5等に示される細密状態に限定はされず、各種の
ものが利用可能であり、例えば、図7に示されるよう
な、碁盤目状にレンズを配列したものであってもよく、
あるいは、搬送方向xに対して角度を有する方向に一列
あるいは複数列のレンズを配置したものでもよい。図7
に示されるように、レンズを碁盤目状に配列する場合に
は搬送方向x(あるいはY方向)とレンズの配列線とが
成す角度θが下記式を満たせば、搬送方向xでレンズの
光軸は重ならない。 θ≦tan -1(1/N) なお、必要に応じて、レンズの光軸を搬送方向xに重ね
ることにより、1つの溝を複数のレーザビームで形成
し、加工強度を強くしてもよい。
In the present invention, the lens arrangement of the multi-lens is not limited to the fine state shown in FIG. 5 and the like, and various kinds can be used. For example, a grid pattern shown in FIG. It may be one in which lenses are arranged in a shape,
Alternatively, one or a plurality of rows of lenses may be arranged in a direction having an angle with respect to the transport direction x. FIG.
As shown in the figure, when the lenses are arranged in a grid pattern, if the angle θ between the transport direction x (or Y direction) and the lens arrangement line satisfies the following equation, the optical axis of the lens in the transport direction x Do not overlap. θ ≦ tan −1 (1 / N) If necessary, one groove may be formed by a plurality of laser beams by overlapping the optical axis of the lens in the transport direction x to increase the processing strength. .

【0035】製造装置10において、テープTは、搬送
装置24によって、磁気記録層側(表面側)をレーザビ
ーム光路の上流に向けて、所定の加工位置に位置されつ
つ、長手方向に搬送される(搬送方向xと長手方向とを
一致して、所定方向に搬送される)。搬送手段24は、
図示しないキャプスタンローラ、リワインダ、ワインダ
等の搬送駆動手段と、ガイドローラ26および28と、
テープフラットナ30とを有して構成される。
In the manufacturing apparatus 10, the tape T is transported in the longitudinal direction by the transport device 24 while the magnetic recording layer side (surface side) is positioned at a predetermined processing position toward the upstream of the laser beam optical path. (The sheet is conveyed in a predetermined direction so that the conveyance direction x matches the longitudinal direction.) The transport means 24
Transport driving means such as a capstan roller, a rewinder, and a winder (not shown), guide rollers 26 and 28,
And a tape flattener 30.

【0036】テープフラットナ30は、搬送されるテー
プTの裏面に当接して、テープTを所定の加工位置に位
置(保持)するものである。テープTは、搬送方向xに
テープフラットナ30を挟んで配置されるガイドローラ
26および28によって、テープフラットナ30よりも
下方を通る搬送経路を形成される。これにより、テープ
Tは、テープフラットナ30によって支持され、加工位
置に位置される。
The tape flattener 30 abuts against the back surface of the tape T being conveyed, and positions (holds) the tape T at a predetermined processing position. The tape T forms a transport path that passes below the tape flattener 30 by guide rollers 26 and 28 that are arranged with the tape flatner 30 interposed therebetween in the transport direction x. Thus, the tape T is supported by the tape flattener 30 and is located at the processing position.

【0037】ここで、本発明においては、レーザビーム
による磁気記録層の加工は、磁気テープのドロップアウ
ト(ドロップアウト検査機の感度補正)に対応するよう
な、微細な加工であるので、加工位置に入射するビーム
スポット径は小さく、すなわち、ビームウエストの許容
範囲は非常に狭い。そのため、テープフラットナ30に
は、多眼レンズ22の焦点深度方向に高い精度、好まし
くは、誤差10μm以下の精度でテープTを位置するこ
とが要求される。
Here, in the present invention, the processing of the magnetic recording layer by the laser beam is a fine processing corresponding to the dropout of the magnetic tape (sensitivity correction of a dropout inspection machine). Is small, that is, the allowable range of the beam waist is very narrow. Therefore, the tape flattener 30 is required to position the tape T with high accuracy in the depth of focus direction of the multi-lens 22, preferably with an error of 10 μm or less.

【0038】これを実現する好ましいテープフラットナ
30としては、図8(A)に示されるような、側辺(側
稜)でテープTを支持する三角柱(ブレード刃型)を、
側辺を搬送方向xと直交した状態で、2以上、搬送方向
xに配列したものが例示される。これ以外にも、図8
(B)に示されるような、側面でテープTを支持する半
円(D型)柱の支持部材を複数同様に配列したテープフ
ラットナ、図8(C)に示されるような、側面でテープ
Tを支持する円柱の支持部材を複数同様に配列したテー
プフラットナ、図8(D)に示されるような、プレート
(直方体)型のテープフラットナ等も好適に例示され
る。
As a preferable tape flattener 30 for realizing this, as shown in FIG. 8A, a triangular prism (blade blade type) that supports the tape T at a side (side edge) is used.
An example in which two or more sides are arranged in the transport direction x with the side sides orthogonal to the transport direction x is illustrated. In addition to this, FIG.
A tape flattener in which a plurality of semicircular (D-shaped) column supporting members that support the tape T on the side as shown in FIG. 8B are similarly arranged, and a tape on the side as shown in FIG. A tape flattener in which a plurality of cylindrical support members for supporting T are similarly arranged, and a plate (rectangular parallelepiped) -type tape flattener as shown in FIG.

【0039】前述のように、加工位置には、光源12か
ら射出され、パルス変調器14で変調され、ミラー16
で反射され、ビームエクスパンダ18で拡径されて成形
器20で強度分布を均一化され、多眼レンズ22で分
割、調光されたレーザビームが入射、結像している。従
って、搬送装置24によって、表面側をレーザビーム光
路の上流に向けた状態で、テープフラットナ30で加工
位置に位置しつつ、テープTを長手方向に搬送すること
により、テープTの磁気記録層には、長手方向に延在す
る溝が形成され、前述の例であれば、一回の搬送で、2
5列の溝が形成される。また、搬送速度を調整すること
により、溝の形成密度を調整することも可能である。
As described above, the light is emitted from the light source 12, modulated by the pulse modulator 14,
Are reflected by the beam expander 18, the diameter of the laser beam is expanded by the beam expander 18, the intensity distribution is made uniform by the molding device 20, and the laser beam divided and modulated by the multi-lens 22 is incident and forms an image. Therefore, the tape T is transported in the longitudinal direction while being positioned at the processing position by the tape flattener 30 in a state where the front side is directed to the upstream of the laser beam optical path by the transport device 24. Is formed with a groove extending in the longitudinal direction.
Five rows of grooves are formed. Further, by adjusting the transport speed, it is also possible to adjust the groove formation density.

【0040】このような本発明によれば、レーザビーム
の強度、ビームスポットサイズ、変調周波数、搬送速度
を適宜選択することにより、加工強度すなわち溝の深さ
や大きさ、さらには形成密度等を調整することができる
ので、前述のような、優れた特性を有する本発明の(評
価用基準)テープを、好適かつ容易に作製することがで
きる。なお、テープTに形成した溝等の凹部の大きさや
深さは、適正に把握できるのが好ましい。ここで、本発
明によれば、加工強度やテープの搬送速度でこれらを調
整可能であり、また、同じテープであれば、同じ加工条
件で、再現性よく同様の凹部を形成できるので、特に凹
部の大きさや深さが既知でなくても、テープの欠陥の大
きさや深さに応じたドロップアウト検査機の感度補正
や、磁気テープの記録/再生系の評価を行うことができ
る。
According to the present invention, the processing intensity, that is, the depth and size of the groove, and the formation density are adjusted by appropriately selecting the intensity of the laser beam, the beam spot size, the modulation frequency, and the transport speed. Therefore, the (evaluation reference) tape of the present invention having excellent characteristics as described above can be suitably and easily produced. It is preferable that the size and depth of the concave portion such as the groove formed in the tape T can be properly grasped. Here, according to the present invention, these can be adjusted by the processing strength and the tape transport speed, and if the same tape, under the same processing conditions, the same concave portion can be formed with good reproducibility. Even if the size and depth of the tape are not known, it is possible to perform sensitivity correction of a dropout inspection machine according to the size and depth of a tape defect, and to evaluate a recording / reproducing system of a magnetic tape.

【0041】なお、可視域や紫外域のレーザビームを用
いる本発明においては、レーザビームの熱加工、レーザ
ビームによるアブレーション(解離、遊離)による加工
の両者が複合的に発生して、磁気記録層が加工されると
考えられる。
In the present invention using a laser beam in the visible or ultraviolet region, both the thermal processing of the laser beam and the processing by ablation (dissociation and separation) by the laser beam occur in combination, and the magnetic recording layer Is considered to be processed.

【0042】本発明においては、テープTの磁気記録層
の加工によって、粉塵等の加工カスやガスが発生する場
合が多々ある。そのため、加工位置には、加工カスやガ
スを除去する除去手段を設けるのが好ましく、また、加
工位置よりも下流に、テープTの少なくとも表面、好ま
しくは表裏面に付着した異物を取り除く、清掃手段を設
けるのが好ましい。なお、除去手段としては、スクラバ
や局所排気手段等の吸引手段を用いればよく、また、清
掃手段は、クリーニングテープを用いる方法等、磁気テ
ープの製造において行われている公知の方法によればよ
い。
In the present invention, the processing of the magnetic recording layer of the tape T often generates processing dust and gas such as dust. Therefore, it is preferable to provide a removing means for removing a processing residue and gas at the processing position, and a cleaning means for removing foreign matter attached to at least the front surface, preferably the front and back surfaces of the tape T, downstream of the processing position. Is preferably provided. Note that, as the removing unit, a suction unit such as a scrubber or a local exhaust unit may be used, and the cleaning unit may be a known method performed in the manufacture of a magnetic tape, such as a method using a cleaning tape. .

【0043】図9に、本発明の別の例の構成を示す。図
9に示される例は、図3に示される加工装置10におい
て、成形器20および多眼レンズ22に変えて、シート
ビーム成形器70、光量調整手段72、および多眼レン
ズ74を有するものである。本例は、これ以外は、前記
加工装置10と同様の構成を有するので、以下の説明
は、異なる部位を主に行う。
FIG. 9 shows the configuration of another example of the present invention. The example shown in FIG. 9 includes a sheet beam forming device 70, a light amount adjusting means 72, and a multi-lens lens 74 instead of the forming device 20 and the multi-lens lens 22 in the processing apparatus 10 shown in FIG. is there. Other than this, the present example has the same configuration as that of the processing apparatus 10, and thus the following description mainly focuses on different parts.

【0044】多眼レンズ74は、前述の多眼レンズ22
と同様、レーザビームを磁気記録層に結像して、加工を
行うものであり、図9に示される例は、細密充填された
多眼レンズではなく、図10に示されるように、一列に
直線状に配列されたレンズアレイを多眼レンズ74とし
て用いる。図示例においては、13×13の細密充填状
態に配列したレンズの一列と同様のレンズアレイを、テ
ープTの幅方向に対して斜めに延在するように配置した
ものである。なお、テープTの搬送方向上流に配置され
るのは、多眼レンズ74の配列精度や位置精度、直線性
等をより良好に確保するための、ダミーレンズアレイ7
4aである。あるいは、ダミーレンズアレイ74aに代
えて、平面度の良好な光学基板を用いてもよい。
The multi-lens 74 is the same as the multi-lens 22 described above.
In the same manner as described above, the laser beam is imaged on the magnetic recording layer to perform processing. The example shown in FIG. 9 is not a finely-packed multi-lens but a single line as shown in FIG. A lens array arranged linearly is used as the multi-lens 74. In the illustrated example, a lens array similar to a row of lenses arranged in a 13 × 13 close-packed state is arranged so as to extend obliquely with respect to the width direction of the tape T. The dummy lens array 7 is disposed upstream of the tape T in the transport direction to ensure better alignment accuracy, positional accuracy, linearity, and the like of the multi-lens 74.
4a. Alternatively, an optical substrate having good flatness may be used instead of the dummy lens array 74a.

【0045】本発明において、このようなレンズアレイ
状の多眼レンズは、細密充填状態に対応するレンズアレ
イに限定はされず、形成する凹部の間隔や数に応じて複
数のレンズを所定の間隔(ピッチ)で配列した、各種の
レンズアレイが利用可能であり、また、テープTの幅方
向に対して斜め方向に配置するのにも限定はされず、幅
方向と同方向に配列したものであってもよい。また、図
5等に示される細密充填された多眼レンズの一列のみを
レーザビームの光路に作用させて、レンズアレイとして
用いてもよい。なお、多眼レンズとして、細密充填状態
のレンズアレイ(あるいは、細密充填された多眼レン
ズ)を用いる場合には、レンズアレイの角度等は、前述
の方法と同様に計算すれば、効率のよい加工が可能であ
る。
In the present invention, such a lens array-shaped multi-lens is not limited to a lens array corresponding to a densely packed state, and a plurality of lenses are arranged at a predetermined interval according to the interval and the number of concave portions to be formed. Various kinds of lens arrays arranged in (pitch) are available, and the arrangement is not limited to the arrangement in the oblique direction with respect to the width direction of the tape T, but may be arranged in the same direction as the width direction. There may be. Alternatively, only one row of the finely-filled multi-lens lens shown in FIG. 5 or the like may act on the optical path of the laser beam to be used as a lens array. When a closely packed lens array (or a closely packed multi-lens lens) is used as a multi-lens lens, the angle and the like of the lens array can be efficiently calculated by calculating in the same manner as described above. Processing is possible.

【0046】図9に示される例においては、ビームエク
スパンダ18は、レーザビームのコリメートを行う。シ
ートビーム成形器70は、ビームエクスパンダ18でコ
リメートされたレーザビームを一方向のみに拡径して、
多眼レンズ74の配列方向と一致する、一方向に延在す
る直線状(スリット状)のレーザビームとするものであ
る。シートビーム成形器70としては、このような作用
を有するものであれば、公知の光学素子(その組み合わ
せ)が各種利用可能であり、例えば、シリンドリカルレ
ンズを用いて構成すればよい。あるいは、本態様におい
ては、ビームエクスパンダ18を用いずに、細いまま、
あるいはさらに絞ったレーザビームを、シートビーム成
形器によって一方向のみに拡径し、次いでコリメートし
て、一方向に延在する直線状のレーザビームとしてもよ
い。
In the example shown in FIG. 9, the beam expander 18 collimates the laser beam. The sheet beam forming device 70 expands the diameter of the laser beam collimated by the beam expander 18 in only one direction,
This is a linear (slit-shaped) laser beam extending in one direction, which coincides with the arrangement direction of the multi-lens 74. Various known optical elements (combinations thereof) can be used as the sheet beam former 70 as long as it has such an action. For example, the sheet beam former 70 may be configured using a cylindrical lens. Alternatively, in this embodiment, without using the beam expander 18,
Alternatively, the further narrowed laser beam may be expanded in only one direction by a sheet beam forming device, and then collimated into a linear laser beam extending in one direction.

【0047】シートビーム成形器70によって直線状と
されたレーザビームは、光量調整手段72に入射する。
光量調整手段72は、多眼レンズ74の各レンズ入射す
るレーザビームの光量(光強度分布)を全域に渡って均
一にするものである。前述のように、レーザビームはガ
ウス分布を持っているので、シートビーム成形器70で
得られた直線状のレーザビームは、元のレーザビームが
有するガウス分布に応じて、長手方向の中央から両端に
向かって、次第に光量が低くなる。これに対し、光量調
整手段72を有することにより、多眼レンズ74に入射
するレーザビームの光量を全域に渡って均一とし、全て
凹部に対して均一な加工を行うことを可能にして、高精
度なドロップアウト検査機の感度調整を行うことができ
る。
The laser beam linearized by the sheet beam forming device 70 enters the light amount adjusting means 72.
The light amount adjusting means 72 makes the light amount (light intensity distribution) of the laser beam entering each lens of the multi-lens lens 74 uniform over the entire area. As described above, since the laser beam has a Gaussian distribution, the linear laser beam obtained by the sheet beam shaper 70 has both ends from the center in the longitudinal direction according to the Gaussian distribution of the original laser beam. The light amount gradually decreases toward. On the other hand, by having the light amount adjusting means 72, the light amount of the laser beam incident on the multi-lens lens 74 is made uniform over the entire area, and it is possible to perform uniform processing on all the concave portions, thereby achieving high precision. The sensitivity of a simple drop-out inspection machine can be adjusted.

【0048】なお、シートビーム成形器70と光量調整
手段72の間には、例えば、直線状のレーザビームの半
値幅以下の領域をカット(遮光)する、テープTの加工
に寄与しない領域をカットする等、レーザビーム両端部
分の不要な領域をカットするスリット等を配置してもよ
い。
In addition, between the sheet beam forming device 70 and the light amount adjusting means 72, for example, a region having a half width or less of a linear laser beam is cut (shielded), and a region which does not contribute to the processing of the tape T is cut. For example, slits or the like for cutting unnecessary regions at both ends of the laser beam may be provided.

【0049】光量調整手段72としては、レンズアレイ
状の多眼レンズ74の各レンズに入射するレーザビーム
の光量を全域に渡って均一にできるものであれば、各種
のものが利用可能であるが、好ましい一例として、図1
1に示されるような光量調整手段72aが例示される。
As the light amount adjusting means 72, various means can be used as long as the light amount of the laser beam entering each lens of the lens array-shaped multi-lens lens 74 can be made uniform over the entire area. As a preferred example, FIG.
The light amount adjusting means 72a shown in FIG.

【0050】図11は、光量調整手段72aをレーザビ
ームの光軸方向から見た図であり、多眼レンズ74の各
レンズに対応して、中心を対応するレンズの光軸と一致
する円形のアパーチャ76,76……を有する。アパー
チャ76は、レーザビームの長手方向の光量分布に応じ
た径を有する。光量調整手段72aは、このアパーチャ
76によって、多眼レンズ74の各レンズに入射するレ
ーザビームの光量を全域に渡って均一にするものであ
り、一例として、多眼レンズ74の各レンズに入射する
レーザビームの光量を、レーザビームの半値幅の光量に
調整する。なお、図中符号78の点線で示される円形
は、多眼レンズ74のダミーレンズアレイ74aを示す
ものである。
FIG. 11 is a view of the light amount adjusting means 72a as viewed from the optical axis direction of the laser beam, and corresponds to each lens of the multi-lens lens 74, and has a circular shape whose center coincides with the optical axis of the corresponding lens. Have apertures 76, 76,... The aperture 76 has a diameter according to the light amount distribution in the longitudinal direction of the laser beam. The light amount adjusting means 72a uses the aperture 76 to make the light amount of the laser beam incident on each lens of the multi-lens lens 74 uniform over the entire area. As an example, the light amount is incident on each lens of the multi-eye lens 74. The light quantity of the laser beam is adjusted to the light quantity of the half width of the laser beam. The circle indicated by the dotted line 78 in the figure indicates the dummy lens array 74 a of the multi-lens 74.

【0051】このような光量調整手段72aにおいて、
例えば、端部のアパーチャ76に入射する光量がレーザ
ビームの半値幅である場合には、中央のアパーチャ76
に入射する光量を半分にすればよく、この場合には、中
央のアパーチャ76の径を端部の60%にすればよい。
また、磁気記録層の加工には、所定のレーザパワーが必
要であるが、レンズに入射するビーム径が小さくなる
と、ビームウエスト径が大きくなって加工性が低下する
ので、必要に応じて、加工に必要なビームウエスト径
と、実際に入射するレーザビームのビームウエスト径と
の関係を計算して求めておく。
In such light amount adjusting means 72a,
For example, when the amount of light incident on the end aperture 76 is the half width of the laser beam, the central aperture 76
In this case, the diameter of the central aperture 76 may be set to 60% of the end.
Processing of the magnetic recording layer requires a predetermined laser power. However, when the diameter of the beam incident on the lens decreases, the beam waist diameter increases and the workability deteriorates. The relationship between the beam waist diameter necessary for the above and the beam waist diameter of the actually incident laser beam is calculated and obtained in advance.

【0052】光量調整手段としては、これ以外にも、図
12に示されるような、スリットを利用する光量調整手
段72bも好適に利用される。図示例の光量調整手段7
2bは、直線状のレーザビームの通過を規制するスリッ
ト板であって、レーザビーム(多眼レンズ74の配列方
向)と同方向に延在するスリット80を有する。このス
リット80は、直線状のレーザビームの光量分布に応じ
て、端部から中央に向かって通過光量(直線方向と直交
する方向の幅)が次第に少なくなる構成を有する。図示
例は、これによりスリット80を通過して多眼レンズ7
4の各レンズに入射するレーザビームの光量を全域に渡
って均一にするものであり、一例として、前述の光量調
整手段72aと同様に、直線状レーザビームの長手方向
全域の光量を半値幅に調整する。
As the light amount adjusting means, besides the above, a light amount adjusting means 72b using a slit as shown in FIG. 12 is preferably used. Light intensity adjusting means 7 in the illustrated example
Reference numeral 2b denotes a slit plate that regulates the passage of a linear laser beam, and has a slit 80 extending in the same direction as the laser beam (the direction in which the multi-lens lenses 74 are arranged). The slit 80 has a configuration in which the amount of light passing therethrough (the width in the direction orthogonal to the linear direction) gradually decreases from the end to the center according to the light amount distribution of the linear laser beam. In the illustrated example, the multi-lens 7
The light amount of the laser beam incident on each lens of No. 4 is made uniform over the entire area. For example, similarly to the light amount adjusting means 72a, the light amount of the entire linear laser beam in the longitudinal direction is reduced to a half width. adjust.

【0053】この光量調整手段80は、前述のアパーチ
ャ76による光量調整手段72に比べ、作製は簡単であ
るという特性を有する反面、ビームの非点収差によっ
て、許容深度が浅くなる可能性があるので、設計に注意
を要する。
The light quantity adjusting means 80 has a characteristic that it is easier to manufacture than the light quantity adjusting means 72 using the aperture 76, but the allowable depth may be shallow due to astigmatism of the beam. Care must be taken in the design.

【0054】このような光量調整手段72は、図示例の
ように多眼レンズ74の上流に配置してもよく、あるい
は、下流に配置してもよい。ただし、光量調整手段72
を多眼レンズ74の下流に配置する場合には、多眼レン
ズ74によるレーザビームの絞り込みを考慮して、レー
ザビームの光量が全域で均一となるように、アパーチャ
76やスリット80等のサイズや形状等を設定する必要
がある。
The light amount adjusting means 72 may be arranged upstream of the multi-lens 74 as shown in the figure, or may be arranged downstream. However, the light amount adjusting means 72
Is arranged downstream of the multi-lens lens 74, the size of the aperture 76 and the slit 80 and the like are adjusted so that the light amount of the laser beam is uniform over the entire region in consideration of the narrowing of the laser beam by the multi-eye lens 74. It is necessary to set the shape and the like.

【0055】図3や図9に示される例においては、多眼
レンズ22を用いてレーザビームを分割して、加工位置
に結像しているが、本発明は、これに限定はされず、各
種の構成が量可能である。
In the examples shown in FIG. 3 and FIG. 9, the laser beam is divided using the multi-lens lens 22 to form an image at the processing position. However, the present invention is not limited to this. Various configurations are possible.

【0056】例えば、多眼レンズ30の代わりに、図1
3に示されるような、AOM(音響光学変調器)32お
よび結像レンズ34を利用する方法が例示される。な
お、図13に示される例においては、テープTは、紙面
に垂直方向に搬送される。本例においては、AOM32
をレーザビームの分割手段とするものであり、ドライバ
36によって、AOM32に複数の周波数信号(あるい
は、周波数信号を連続的に振る)を入力する。これによ
り、多数のブラック回折が発生し、多数のブラック角で
レーザビームが射出する。この複数のレーザビームを、
結像レンズ34によって互いに平行な光線とし、かつ加
工位置に結像させることにより、前述の例と同様、長手
方向に延在する複数の溝を形成することができる。
For example, instead of the multi-lens lens 30, FIG.
3, a method utilizing an AOM (acousto-optic modulator) 32 and an imaging lens 34 is exemplified. In the example shown in FIG. 13, the tape T is transported in a direction perpendicular to the paper surface. In this example, AOM32
Is a laser beam splitting means, and a driver 36 inputs a plurality of frequency signals (or continuously oscillates frequency signals) to the AOM 32. As a result, a large number of black diffractions occur, and a laser beam is emitted at a large number of black angles. This plurality of laser beams,
By forming light beams parallel to each other by the imaging lens 34 and forming an image at the processing position, a plurality of grooves extending in the longitudinal direction can be formed as in the above-described example.

【0057】図14に、別の例を示す。本例は、同様
に、前述の図3に示される製造装置10において、多眼
レンズ22の代わりに、分割手段38と結像レンズ40
を用いるものである。本例においても、テープTは、紙
面に垂直方向に搬送される。分割手段38は、ガラス製
の平行平面基板38aに,内側にレーザビームを反射す
るコーティングを施し、多重反射を利用してレーザビー
ムを分割する。レーザビームは、矢印aに示されるよう
に、分割手段38(平行平面基板38a)に入射し、図
示されるように、コーティングされた反射膜38bの作
用の下、平行平面基板38a内で反射を繰り返すことに
よって、分割されたレーザビームとして射出される。従
って、分割数は、平行平面基板38aに対するレーザビ
ームの入射角によって設定することができる。射出面3
8cから射出されたレーザビームは、結像レンズ40に
よって加工位置に結像される。これにより、先と同様
に、テープTの磁気記録層に長手方向に延在する複数の
加工線を形成することができる。
FIG. 14 shows another example. In this example, similarly, in the manufacturing apparatus 10 shown in FIG. 3 described above, instead of the multi-lens 22, the dividing means 38 and the imaging lens 40 are used.
Is used. Also in this example, the tape T is transported in a direction perpendicular to the paper surface. The dividing means 38 applies a coating for reflecting the laser beam on the inside of the parallel plane substrate 38a made of glass, and divides the laser beam using multiple reflection. The laser beam is incident on the dividing means 38 (parallel plane substrate 38a) as shown by the arrow a, and as shown in the drawing, is reflected in the parallel plane substrate 38a under the action of the coated reflective film 38b. By repeating, the laser beam is emitted as a divided laser beam. Therefore, the number of divisions can be set by the incident angle of the laser beam on the parallel plane substrate 38a. Exit surface 3
The laser beam emitted from 8c is imaged at the processing position by the imaging lens 40. As a result, a plurality of processing lines extending in the longitudinal direction can be formed on the magnetic recording layer of the tape T as described above.

【0058】図14に示される例においては、平行平面
基板38aの反射膜38bと対抗する射出面38cの反
射率を調整することにより、射出されるレーザビームの
強度を調整してもよい。なお、射出面38cの反射率の
調整は、全面であっても、レーザビームが入射する可能
性のある領域のみであってもよい。また、搬送方向xに
複数のレーザビームを入射したり、平行平面基板38a
に入射角の異なる複数のレーザビームを入射することに
より、前述の例と同様に、加工線の形成密度の向上や、
加工強度の向上等を計ってもよい。さらに、図13およ
び図14に示される例においては、ビームエクスパンダ
18は、必ずしも配置する必要はない。
In the example shown in FIG. 14, the intensity of the emitted laser beam may be adjusted by adjusting the reflectivity of the emission surface 38c opposite to the reflection film 38b of the parallel flat substrate 38a. The adjustment of the reflectance of the emission surface 38c may be performed on the entire surface or only in a region where the laser beam may enter. Further, a plurality of laser beams may be incident in the transport direction x, or the parallel planar substrate 38a
Injecting a plurality of laser beams having different angles of incidence into the laser beam, as in the above-described example, the formation density of the processing line can be improved,
Improvement of the processing strength may be measured. Further, in the examples shown in FIGS. 13 and 14, the beam expander 18 does not necessarily need to be arranged.

【0059】図15に、本発明の製造装置の別の例を示
す。なお、図15には、搬送手段は図示しないが、本例
においても、搬送手段は図3に示される製造装置10と
同様でよい。また、図15においても、テープTは、矢
印x方向に搬送される。
FIG. 15 shows another example of the manufacturing apparatus of the present invention. Although the transporting means is not shown in FIG. 15, the transporting means may be the same as that of the manufacturing apparatus 10 shown in FIG. 3 in this example. Also in FIG. 15, the tape T is transported in the direction of the arrow x.

【0060】図15に示される製造装置82は、光源1
4と、強度変調器84と、ビームウエスト位置調整手段
86と、ビーム成形手段88と、マスク90と、収束レ
ンズ92とを有して構成される。
The manufacturing apparatus 82 shown in FIG.
4, an intensity modulator 84, a beam waist position adjusting unit 86, a beam shaping unit 88, a mask 90, and a converging lens 92.

【0061】光源14は、前述の図3に示される製造装
置10と同様のものである。強度変調器84は、光源1
4から射出されたレーザビームの強度を調整することに
より、凹部の深さ(加工強度)を調整するものである。
強度変調器84としては、AOM等の公知のレーザビー
ムの強度変調手段が各種利用可能である。なお、光源1
4が直接変調が可能なものである場合には、強度変調器
84は、特に設けなくてもよい。
The light source 14 is the same as that of the manufacturing apparatus 10 shown in FIG. The intensity modulator 84 is a light source 1
The depth (working strength) of the concave portion is adjusted by adjusting the intensity of the laser beam emitted from Step 4.
As the intensity modulator 84, various known laser beam intensity modulation means such as AOM can be used. The light source 1
In the case where 4 is capable of direct modulation, the intensity modulator 84 need not be particularly provided.

【0062】ビームウエスト位置調整手段86は、後述
するマスク90によって分割された各レーザビームのビ
ームウエストの位置(光軸方向)を加工位置に調整する
ものである。図示例においては、光軸方向において、収
束レンズ92によって収束される分割後の各レーザビー
ムの間隔が所定間隔となる位置を加工位置としており、
好ましい態様として、収束レンズ92によって収束され
る各レーザビームのテープTの幅方向の位置(間隔)
が、テープTのトラックの位置となる所を加工位置とし
て、ここにビームウエスト位置を調整する。例えば、図
示例においては、テープTは12のトラックを有してお
り、後述するが、製造装置82は、幅方向に12本のレ
ーザビームをテープTに入射できるので、テープTの全
トラックに1本ずつレーザビームを入射する。従って、
本態様によれば、テープTの各トラックに対応して凹部
を形成することができる。また、光学系やテープTの搬
送手段を光軸方向に移動することで加工位置を調整し
て、テープTの幅方向に入射するレーザビームの数を調
整し(図示例では最大12本)、そこにビームウエスト
を調整することにより、各種の幅やトラック数のテープ
Tに好適に対応することができる。
The beam waist position adjusting means 86 adjusts the position of the beam waist (in the direction of the optical axis) of each laser beam divided by the mask 90 described later to the processing position. In the illustrated example, in the optical axis direction, the position at which the interval between the divided laser beams converged by the converging lens 92 is a predetermined interval is set as the processing position.
As a preferred embodiment, the position (interval) in the width direction of the tape T of each laser beam converged by the converging lens 92
However, the beam waist position is adjusted here, using the position of the track of the tape T as the processing position. For example, in the illustrated example, the tape T has 12 tracks, which will be described later. However, since the manufacturing apparatus 82 can input 12 laser beams to the tape T in the width direction, all the tracks of the tape T Laser beams are incident one by one. Therefore,
According to this aspect, a concave portion can be formed corresponding to each track of the tape T. Further, the processing position is adjusted by moving the optical system and the transport means of the tape T in the optical axis direction, and the number of laser beams incident in the width direction of the tape T is adjusted (up to 12 laser beams in the illustrated example). By adjusting the beam waist there, it is possible to suitably cope with tapes T of various widths and the number of tracks.

【0063】ビームウエスト位置調整手段86には特に
限定はなく、公知の手段が各種利用可能であり、例え
ば、光軸上における位置や互いの間隔が調整可能な組レ
ンズ等を用い、H.Kogelnicの導出したABC
Dマトリクスによる計算に基づいたビームウエスト位置
の調整を行う手段が利用可能である。
The beam waist position adjusting means 86 is not particularly limited, and various known means can be used. For example, an H.264 lens is used which can adjust the position on the optical axis and the distance between each other. ABC derived by Kogelnic
Means for adjusting the beam waist position based on the calculation using the D matrix is available.

【0064】ビーム成形手段88は、レーザビームのビ
ーム径を所定サイズまで拡径すると共に、光軸と直交す
る方向(ビームスポット)における光強度(強度分布)
を全面的に均一にするものである。これにより、各レー
ザビームで形成される凹部の深さ(加工強度)を均一に
して、より正確なドロップアウト検査機の感度補正や磁
気テープの記録/再生系の評価を行うことが可能にな
る。ビーム成形手段88としては、上記作用を有する光
学素子や光学素子の組み合わせが各種利用可能であり、
一例として、前記製造装置10において例示した成形器
20とビームエクスパンダの組み合わせ等が例示され
る。
The beam shaping means 88 expands the beam diameter of the laser beam to a predetermined size, and light intensity (intensity distribution) in a direction (beam spot) orthogonal to the optical axis.
Is made uniform over the entire surface. This makes it possible to make the depth (working strength) of the concave portion formed by each laser beam uniform, and to perform more accurate sensitivity correction of the dropout inspection machine and evaluation of the recording / reproducing system of the magnetic tape. . As the beam shaping unit 88, various combinations of optical elements and optical elements having the above-described functions can be used.
As an example, a combination of the molding machine 20 and the beam expander illustrated in the manufacturing apparatus 10 is exemplified.

【0065】マスク90は、遮光性の部材にレーザビー
ムが通過する複数のアパーチャ(開口)を二次元的に形
成したものである。図示例の製造装置82においては、
このマスク90によって、ビーム成形手段86によって
拡径されたレーザビームを複数のレーザビームに分割す
る。
The mask 90 is formed by two-dimensionally forming a plurality of apertures (openings) through which a laser beam passes on a light-shielding member. In the illustrated manufacturing apparatus 82,
With this mask 90, the laser beam expanded in diameter by the beam shaping means 86 is divided into a plurality of laser beams.

【0066】図16に、マスク90の一例を光軸方向か
ら見た際の概略図を示す。図16(A)に示されるよう
に、マスク90は、遮光性の板材に、テープTの幅方向
に等間隔で12個、搬送方向(矢印x方向)に等間隔で
11個の、合計132個の同サイズの正方形のアパーチ
ャ94を形成したもので、ビーム成形手段88によって
拡径かつ強度分布を均一化されたレーザビームを分割し
て、最大132本のレーザビームとする。従って、製造
装置82は、最大12トラックまでであれば、テープT
の全トラックに対応して凹部を形成することができる。
FIG. 16 is a schematic view of an example of the mask 90 when viewed from the optical axis direction. As shown in FIG. 16 (A), a total of 132 masks 90 are provided on the light-shielding plate material, 12 at equal intervals in the width direction of the tape T and 11 at equal intervals in the transport direction (arrow x direction). A plurality of square apertures 94 of the same size are formed, and the laser beam whose diameter is increased and the intensity distribution is made uniform by the beam forming means 88 is divided into 132 laser beams at the maximum. Therefore, the manufacturing apparatus 82 controls the tape T for up to 12 tracks.
Recesses can be formed corresponding to all the tracks.

【0067】各アパーチャ94は、個々に液晶シャッタ
を有しており、それぞれ独立して、レーザビームが光通
過可能(開口)な状態と遮光状態(閉塞)とを切り換え
ることができ、例えば、図16(B)に示されるように
アパーチャ94を開口して(閉塞しているアパーチャ9
4は点線で示す)、その部分のレーザビームのみを通過
させて、レーザビームを複数に分割することができる。
すなわち、図示例の製造装置82は、開口するアパーチ
ャ94のパターンを変更して、テープTへのレーザビー
ムの入射パターンすなわちレーザビームによるテープT
への凹部の形成パターンを、任意に変更することができ
る。なお、液晶シャッタは、レーザビームを遮光でき、
かつ熱に耐えられるものであれば、例えば高輝度用液晶
を用いた液晶シャッタ等の公知のものが利用可能であ
る。
Each aperture 94 individually has a liquid crystal shutter, and can independently switch between a state in which a laser beam can pass light (opening) and a state in which light is blocked (blocking). As shown in FIG. 16B, the aperture 94 is opened (the closed aperture 9 is opened).
4 is indicated by a dotted line), and the laser beam can be divided into a plurality by passing only that part of the laser beam.
That is, the manufacturing apparatus 82 in the illustrated example changes the pattern of the aperture 94 to be opened to change the pattern of the laser beam incident on the tape T, ie, the tape T by the laser beam.
The formation pattern of the concave portion can be arbitrarily changed. In addition, the liquid crystal shutter can shield the laser beam,
As long as it can withstand heat, a known shutter such as a liquid crystal shutter using a liquid crystal for high luminance can be used.

【0068】製造装置82において、レーザビームの分
割手段を構成するマスクは、図示例のような液晶シャッ
タを有するものに限定はされず、液晶シャッタを有さな
いアパーチャのみを有するものであってもよく、液晶シ
ャッタを有するアパーチャと液晶シャッタを有さないア
パーチャとが混在するものであってもよい。また、十分
な応答性および耐熱性を有するものであれば、液晶シャ
ッタ以外の光シャッタも好適に利用可能である。但し、
いかなる構成であっても、幅方向のアパーチャの数は、
加工対象となるテープTの全トラック数と同数あるいは
それ以上とするのが好ましい。また、十分な耐熱性や遮
光性能を有するものであれば、TFT(Tin Film Transi
stor) などの液晶ディスプレイ等の非発光型のディスプ
レイをマスクとして用い、任意の位置に、任意の形状の
アパーチャを形成してもよい。
In the manufacturing apparatus 82, the mask constituting the laser beam dividing means is not limited to a mask having a liquid crystal shutter as shown in the illustrated example, and may be a mask having only an aperture having no liquid crystal shutter. Alternatively, an aperture having a liquid crystal shutter and an aperture having no liquid crystal shutter may coexist. An optical shutter other than the liquid crystal shutter can also be suitably used as long as it has sufficient responsiveness and heat resistance. However,
Regardless of the configuration, the number of apertures in the width direction is
It is preferable that the number is equal to or more than the total number of tracks of the tape T to be processed. In addition, as long as it has sufficient heat resistance and light shielding performance, a TFT (Tin Film Transi
A non-light emitting display such as a liquid crystal display such as a stor) may be used as a mask to form an aperture of an arbitrary shape at an arbitrary position.

【0069】マスク90によって分割されたレーザビー
ムは、収束レンズ92によって収束され、加工位置に位
置されつつ矢印x方向に搬送されるテープTに入射し
て、磁気記録層を加工して凹部を形成する。なお、収束
レンズ92は、屈折率(レンズパワー)が調整可能なも
のであってもよい。ここで、前述のように、加工位置
は、収束レンズ92によって収束されるレーザビームの
幅方向の間隔がテープTの各トラックに対応する間隔、
すなわちレーザビームがテープTの各トラックに入射す
る位置に設定されており、また、ビームウエスト調整手
段86によって、全ビームのビームウエストがこの位置
に調整されている。
The laser beam split by the mask 90 is converged by the converging lens 92, enters the tape T conveyed in the direction of the arrow x while being positioned at the processing position, and processes the magnetic recording layer to form a concave portion. I do. Note that the convergent lens 92 may be one whose refractive index (lens power) is adjustable. Here, as described above, the processing position is determined by setting the interval in the width direction of the laser beam converged by the converging lens 92 to the interval corresponding to each track of the tape T,
That is, the laser beam is set at a position where it is incident on each track of the tape T, and the beam waist of all the beams is adjusted to this position by the beam waist adjusting means 86.

【0070】製造装置82において、テープTへのレー
ザビームの照射は、連続的に行われる訳ではなく、所定
時間の照射(すなわち加工)と非照射とを繰り返して、
断続的に行われる。なお、テープTへのレーザビームの
断続的な照射は、光源14のon/off、強度変調器
84による強度調整、マスク90でのアパーチャ94の
開口/遮光等によって行えばよい。
In the manufacturing apparatus 82, the irradiation of the laser beam to the tape T is not performed continuously, but is repeated for a predetermined time (ie, processing) and non-irradiation.
It is done intermittently. The intermittent irradiation of the laser beam to the tape T may be performed by turning on / off the light source 14, adjusting the intensity by the intensity modulator 84, opening / blocking the aperture 94 in the mask 90, or the like.

【0071】マスク90のアパーチャ94は、一例とし
て、図16(B)に示されるパターンで開口している。
従って、テープTへの一回のレーザビームの照射によっ
て、アパーチャ94の開口に応じて、凹部が図17に示
されるようなパターンでブロック的に形成され、断続的
なレーザビームの照射により、テープTの長手方向に、
このブロック的なパターンが連続的(図示例では、3ブ
ロックが示される)に形成される。
The aperture 94 of the mask 90 has, for example, openings in the pattern shown in FIG.
Therefore, by a single irradiation of the laser beam onto the tape T, a concave portion is formed in a block as shown in FIG. 17 in accordance with the opening of the aperture 94, and the tape is intermittently irradiated with the laser beam. In the longitudinal direction of T,
This block-like pattern is formed continuously (three blocks are shown in the illustrated example).

【0072】ここで、一回(1ブロックの凹部の形成)
の照射時間が長過ぎると、搬送方向に配列されたアパー
チャ94を通過したレーザビームによって形成される凹
部が、テープTの搬送方向で重なってしまう。また、非
照射時間が短過ぎると、すなわち断続的な照射の繰り返
し周期が短過ぎると、搬送方向に連続して形成されるブ
ロック的なパターンが重なってしまう。
Here, once (formation of a recess of one block)
If the irradiation time is too long, the concave portions formed by the laser beams passing through the apertures 94 arranged in the transport direction overlap in the transport direction of the tape T. If the non-irradiation time is too short, that is, if the intermittent irradiation repetition cycle is too short, block-like patterns formed continuously in the transport direction overlap.

【0073】一つのアパーチャ94を通過したレーザビ
ームのテープT上における長手方向のサイズ(アパーチ
ャ94は正方形であるので、幅方向も長手方向も同一)
をDb[m]、同搬送方向の間隔(ピッチ)をLp
[m]、前記1ブロックのテープT上における長手方向
のサイズをLa[m]、加工時におけるテープTの走行
速度をSt[m/秒]とすると、断続的なレーザビーム
の照射における1回の照射時間(1ブロックの加工時
間)Pt[秒]を Pt<Lp/St を満足するように設定すれば、搬送方向に配列されるア
パーチャ94を通過したレーザビームによって形成され
る凹部が、テープTの搬送方向で重なることを防止でき
る。同様に、断続的な照射の繰り返し周期Pr[秒]を Pr>La/St を満足するように設定すれば、連続的に形成されるブロ
ックが重なる事を防止できる。
The size of the laser beam passing through one aperture 94 in the longitudinal direction on the tape T (the aperture 94 is a square, so the width direction and the longitudinal direction are the same).
Is Db [m], and the interval (pitch) in the transport direction is Lp
[M], assuming that the length of the one block on the tape T in the longitudinal direction is La [m] and the running speed of the tape T during processing is St [m / sec], one time in the intermittent laser beam irradiation. If the irradiation time (processing time of one block) Pt [seconds] is set so as to satisfy Pt <Lp / St, the concave portion formed by the laser beam that has passed through the apertures 94 arranged in the transport direction is taped. T can be prevented from overlapping in the transport direction of T. Similarly, if the intermittent irradiation repetition cycle Pr [second] is set so as to satisfy Pr> La / St, it is possible to prevent blocks formed continuously from overlapping.

【0074】なお、テープT上における、前述のDb、
LpおよびLa、さらにはテープT上におけるレーザビ
ームの幅方向のサイズや前記ブロックの幅方向のサイズ
は、アパーチャ94のサイズ、アパーチャ94の間隔、
マスク90におけるアパーチャ形成領域のサイズ、およ
びビームウエスト位置調整手段86の調整強度ならびに
収束レンズ92のパワー等で決定されるので、好ましく
はアパーチャ94のサイズや間隔、およびマスク90の
アパーチャ形成領域のサイズを適宜調整して、テープT
の磁気記録層に好適な凹部が形成されるようにする。
The above-mentioned Db on the tape T,
Lp and La, and furthermore, the size of the laser beam on the tape T in the width direction and the size of the block in the width direction are determined by the size of the aperture 94, the interval between the apertures 94,
Since it is determined by the size of the aperture forming region in the mask 90, the adjustment strength of the beam waist position adjusting means 86, the power of the converging lens 92, and the like, it is preferable that the size and interval of the aperture 94 and the size of the aperture forming region of the mask 90 be set. Is adjusted appropriately, and the tape T
A suitable concave portion is formed in the magnetic recording layer.

【0075】以上の説明から明らかなように、この製造
装置82によれば、マスク88におけるアパーチャ94
の開口パターンや強度変調器84によるレーザビームの
強度調整等に応じて、どのトラックにどのような凹部す
なわちドロップアウトが存在しているかが既知の(評価
用基準)テープTを製造することができる。従って、こ
のテープT1巻で、ドロップアウト検査機の感度補正を
好適に行うことができ、また、複数、好ましくは全トラ
ックに対応して、多種多様なドロップアウトに対する磁
気記録/再生系の評価を行うことができる。
As is clear from the above description, according to the manufacturing apparatus 82, the aperture 94 in the mask 88
According to the aperture pattern of the laser beam and the intensity adjustment of the laser beam by the intensity modulator 84, etc., it is possible to manufacture a tape T (reference for evaluation) in which track, what kind of concave portion or dropout exists, is known. . Therefore, the sensitivity correction of the drop-out inspection machine can be suitably performed by using the tape T1, and the evaluation of the magnetic recording / reproducing system for various drop-outs corresponding to a plurality of, preferably all the tracks can be performed. It can be carried out.

【0076】また、製造装置82においては、どのトラ
ックにどのような深さの凹部が形成されているかの信
号、マスク88の開口パターンの信号等を、凹部の形成
パターンで例えばデジタル信号やバーコード的に決定し
ておき、ドロップアウトとなる凹部以外にも、これらを
示す凹部をテープTに形成してもよい。
Further, in the manufacturing apparatus 82, a signal indicating which track has a concave portion at which depth, a signal of an opening pattern of the mask 88, and the like are converted into a digital signal or a bar code by using a concave portion forming pattern. It is also possible to form a concave portion indicating these in the tape T in addition to the concave portion serving as a dropout.

【0077】図18に、テープTの磁気記録層に、図1
(A)に示されるような、テープTの長手方向に延在す
る溝を形成する、本発明の製造装置の別の例を示す。な
お、図18には、搬送手段は図示しないが、本例におい
ても、搬送手段は図3に示される製造装置10と同様で
よい。また、図18においても、テープTは、紙面に垂
直方向に搬送される。
FIG. 18 shows that the magnetic recording layer of the tape T
Another example of the manufacturing apparatus of the present invention for forming a groove extending in the longitudinal direction of the tape T as shown in FIG. Although the transporting means is not shown in FIG. 18, the transporting means may be the same as the manufacturing apparatus 10 shown in FIG. 3 in this example. Also in FIG. 18, the tape T is conveyed in a direction perpendicular to the paper surface.

【0078】図18に示される製造装置50は、可視域
や紫外域のレーザビーム、好ましくは青色のレーザビー
ムを射出するレーザダイオード(LD=Laser Diode)を
配列したLDアレイ52と、LDアレイ52の各LDか
ら射出される各レーザビームを加工位置に結像するレン
ズを配列してなるレンズアレイ54とを用いるもので、
LDアレイ52およびレンズアレイ54は、配列方向が
搬送方向xに対して角度を持つように配置される。この
ような光学系を用い、多数のレーザビームを加工位置に
入射しつつ、同様に、搬送手段によって長手方向にテー
プTを搬送することにより、同様に、長手方向に延在す
る溝をテープTの磁気記録層に形成できる。
A manufacturing apparatus 50 shown in FIG. 18 includes an LD array 52 having a laser diode (LD) that emits a visible or ultraviolet laser beam, preferably a blue laser beam, and an LD array 52. And a lens array 54 formed by arranging lenses for imaging each laser beam emitted from each LD at a processing position.
The LD array 52 and the lens array 54 are arranged such that the arrangement direction has an angle with respect to the transport direction x. Using such an optical system, the tape T is similarly conveyed in the longitudinal direction by the conveying means while a large number of laser beams are incident on the processing position. On the magnetic recording layer.

【0079】レンズアレイ54を構成するレンズとして
は、マイクロボールレンズ、セルフォックレンズ(GR
INレンズ)等が例示される。また、LDアレイ52
(さらにレンズアレイ54)は、LDを一列に配列した
ものに限定はされず、搬送方向にも複数配列してもよ
く、例えば、前述の多眼レンズ22のように、細密状態
や碁盤目状に配列して、より高密度に溝を形成してもよ
い。
The lenses constituting the lens array 54 include a microball lens and a selfoc lens (GR).
IN lens) and the like. Also, the LD array 52
(Furthermore, the lens array 54) is not limited to one in which the LDs are arranged in a line, and may be arranged in a plurality in the transport direction. And grooves may be formed at a higher density.

【0080】図19に、図1(B)に示されるような、
長手方向に対して角度を持って延在する溝(線分)を形
成する製造装置の概略図を示す。なお、図19に示され
る例は、多くの部材が図3に示される製造装置10と共
通であるので、同じ部材には同じ符号を付し、説明は、
異なる部位を主に行う。
In FIG. 19, as shown in FIG.
FIG. 2 shows a schematic view of a manufacturing apparatus for forming a groove (line segment) extending at an angle to the longitudinal direction. In the example illustrated in FIG. 19, many members are common to the manufacturing apparatus 10 illustrated in FIG. 3, and thus, the same members are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
Mainly in different parts.

【0081】図19に示される製造装置60は、光源1
2と、パルス変調器14と、ミラー16と、x方向操作
素子62と、Y方向操作素子64と、収束レンズ66
と、搬送手段24とを有して構成される。すなわち、製
造装置60は、製造装置10のビームエクスパンダ1
8、成形器20および多眼レンズ22の代わりに、x方
向走査素子62、y方向走査素子64および収束レンズ
66を配置したものであり、従って、光源12から射出
されたレーザビームは、必要に応じてパルス変調器14
でパルス変調され、ミラー16で偏向されて、x方向走
査素子62に入射する。
The manufacturing apparatus 60 shown in FIG.
2, a pulse modulator 14, a mirror 16, an x-direction operation element 62, a Y-direction operation element 64, and a converging lens 66.
And transport means 24. That is, the manufacturing apparatus 60 is the beam expander 1 of the manufacturing apparatus 10.
8. An x-direction scanning element 62, a y-direction scanning element 64, and a converging lens 66 are arranged in place of the forming unit 20 and the multi-lens lens 22, so that the laser beam emitted from the light source 12 is required. According to the pulse modulator 14
, And is deflected by the mirror 16 and enters the x-direction scanning element 62.

【0082】x方向走査素子62は、レーザビームを搬
送方向xと同方向に偏向走査する光走査素子である。他
方、y方向走査素子64は、x方向操作素子62によっ
て走査されたレーザビームを、搬送方向xと直交する幅
方向(以下、y方向とする)に偏向する光走査素子であ
る。図示例の製造装置60においては、このように互い
に直交する方向にレーザビームを偏向走査する光走査素
子を有することにより、レーザビームを斜め方向に走査
する。なお、光走査素子には特に限定はなく、例えば、
ガルバノメータミラー、ポリゴンミラー、AOD(音響
光学偏向器)等、公知の光偏向器が各種利用可能であ
る。
The x-direction scanning element 62 is an optical scanning element that deflects and scans the laser beam in the same direction as the transport direction x. On the other hand, the y-direction scanning element 64 is an optical scanning element that deflects the laser beam scanned by the x-direction operation element 62 in the width direction orthogonal to the transport direction x (hereinafter, referred to as the y direction). The manufacturing apparatus 60 of the illustrated example scans the laser beam in an oblique direction by including the optical scanning element that deflects and scans the laser beam in a direction orthogonal to each other. The optical scanning element is not particularly limited, for example,
Various known optical deflectors such as a galvanometer mirror, a polygon mirror, and an AOD (acoustic optical deflector) can be used.

【0083】斜め方向に偏向されたレーザビームは、x
方向走査素子62およびy方向走査素子64によるレー
ザビームの偏向走査領域に対して十分な面積を有し、か
つ、xおよびyの両方向にレンズパワー(屈折力)を有
するfθレンズ等の収束レンズ66に入射し、加工位置
に対応する所定の走査位置に所定のビームスポット径で
入射、結像し、走査線を画成する。ここで、前述のよう
に、テープTは、搬送手段24によって磁気記録層をレ
ーザビーム光路の上流側に向けて加工位置に位置されつ
つ長手方向に搬送されているので、テープTの磁気記録
層には、図1(B)に示されるような斜め方向に延在す
る溝が、連続的に形成され、テープTを長手方向に一回
搬送するだけで、磁性体層に、斜め方向に多数の溝が形
成されたテープTを製造することができる。また、各走
査素子による変更走査方向を調整することにより、溝の
角度を調整することができる。
The laser beam obliquely deflected is represented by x
A convergent lens 66 such as an fθ lens having a sufficient area for a laser beam deflection scanning region by the directional scanning element 62 and the y-direction scanning element 64 and having lens power (refractive power) in both x and y directions. At a predetermined scanning position corresponding to the processing position with a predetermined beam spot diameter, and forms an image to define a scanning line. Here, as described above, since the tape T is transported in the longitudinal direction while being positioned at the processing position toward the upstream side of the laser beam optical path by the transport means 24, the magnetic recording layer of the tape T In FIG. 1B, grooves extending in an oblique direction as shown in FIG. 1B are continuously formed, and a large number of oblique directions are formed in the magnetic material layer only by transporting the tape T once in the longitudinal direction. Can be manufactured. The angle of the groove can be adjusted by adjusting the scanning direction changed by each scanning element.

【0084】図示例の態様においては、光走査素子はx
方向およびy方向の両方の光偏向素子を有するものに限
定はされず、y方向あるいは斜め方向にレーザビームを
偏向する光偏向素子のみを有するものであってもよい。
前述のように、テープTは加工位置で長手方向に搬送さ
れているので、レーザビームをy方向に走査して入射す
れば、テープTの搬送速度とレーザビームの走査速度と
の兼ね合いで、テープT上には、結果的に斜め方向の走
査線が画成され、斜め方向に延在する溝が形成できる。
また、走査の方向を同方向(例えば、y方向)として、
走査の向き(右から左と、左から右等)が異なる複数の
光学系を用いることにより、図1(B)に示されるよう
な溝を形成してもよい。
In the embodiment shown, the optical scanning element is x
The present invention is not limited to the one having the light deflecting element in both the direction and the y direction, and may have only the light deflecting element for deflecting the laser beam in the y direction or the oblique direction.
As described above, since the tape T is conveyed in the longitudinal direction at the processing position, if the laser beam is scanned and incident in the y direction, the tape T is conveyed by the balance between the conveying speed of the tape T and the scanning speed of the laser beam. As a result, an oblique scanning line is defined on T, and a groove extending in an oblique direction can be formed.
Also, the scanning direction is the same direction (for example, the y direction),
By using a plurality of optical systems having different scanning directions (right to left, left to right, and the like), a groove as shown in FIG. 1B may be formed.

【0085】さらに、テープを搬送しつつ、一方向にレ
ンズパワーを有する光学レンズ等を用いて、レーザビー
ムをテープTの搬送方向に対して斜めの線状に結像させ
て(すなわち、光路をシート(面)状として)、レーザ
ビームをパルス変調することによって、斜め方向に延在
する溝を加工してもよい。
Further, while the tape is being conveyed, the laser beam is imaged in a line oblique to the conveying direction of the tape T by using an optical lens or the like having a lens power in one direction (that is, the optical path is changed). The groove extending in the oblique direction may be processed by pulse-modulating the laser beam (as a sheet (surface)).

【0086】ところで、マルチチャンネルの固定ヘッド
のようにテープ長手方向に平行に記録/再生を実施する
系では、できるだけテープを短くしてドロップアウト測
定を行い、システムの評価を行うことが、検査時間の短
縮等の意味で重要である。そのため、本発明のテープT
においても、図20に示されるように、加工線分(凹
部)を、テープTの記録バンドに応じて幅方向に複数の
グループ(第1グループ、第2グループ………第Nグル
ープ)に分けて形成してもよい。また、ドロップアウト
検査機の較正や、磁気テープの記録/再生系の評価をよ
り好適に行うために、同じグループに形成される加工線
分はグループ毎に定められた所定のパターン(図示例の
ように、第1グループは点線、第2グループは一点鎖線
………第Nグループは二点鎖線等)を有するのが好まし
く、さらに、このパターン(規則性)の基に、グループ
内でも互いに異なる加工線分を形成するのが、より好ま
しい。さらに、異なる加工線分には、各種のドロップア
ウトレベルと、トラックNoやバンドNo等とをデジタ
ル信号として記録しておき、各トラックおよび各バンド
で測定を行うことによって、何番目のトラックまたはバ
ンドにおけるドロップアウトレベルを直ちに求めること
ができる。
In a system such as a multi-channel fixed head that performs recording / reproduction in parallel with the longitudinal direction of the tape, it is necessary to make the tape as short as possible, perform dropout measurement, and evaluate the system. It is important in the sense of shortening. Therefore, the tape T of the present invention
20, the processing line segment (concave portion) is divided into a plurality of groups (first group, second group..., N-th group) in the width direction according to the recording band of the tape T. May be formed. Further, in order to more suitably perform the calibration of the drop-out inspection machine and the evaluation of the recording / reproducing system of the magnetic tape, the processing line segments formed in the same group are formed by a predetermined pattern (for example, illustrated in FIG. As described above, it is preferable that the first group has a dotted line, the second group has an alternate long and short dash line..., And the N-th group has an alternate long and two short dashes line). It is more preferable to form a processing line segment. Furthermore, various drop-out levels, track Nos. And band Nos. Are recorded as digital signals on different processing line segments, and measurement is performed on each track and each band to determine the number of the track or band. The dropout level at can be determined immediately.

【0087】このようなテープTを用いることにより、
マルチチャンネルの固定ヘッドのドロップアウト検査機
の較正や磁気テープの記録/再生系の評価を行う際に、
複数のバンドに対する個々の検査を短時間で同時に行う
ことができる。特に、同一グループ内で異なる加工線分
を形成する態様においては、バンド毎かつバンド内のト
ラック毎に、同時に多くのトラックを短時間で検査する
ことが可能である。また、テープTの長手方向で異なる
パターンを形成することにより、長手方向と幅方向のど
の位置で不都合が発生したかを検知でき、バンド(トラ
ック)と長手方向の位置を確定できる。
By using such a tape T,
When calibrating a multi-channel fixed head drop-out inspection machine or evaluating a magnetic tape recording / reproducing system,
Individual tests on a plurality of bands can be performed simultaneously in a short time. In particular, in a mode in which different processing line segments are formed within the same group, it is possible to inspect many tracks simultaneously in a short time for each band and each track in the band. Further, by forming different patterns in the longitudinal direction of the tape T, it is possible to detect at which position in the longitudinal direction and in the width direction the inconvenience has occurred, and to determine the band (track) and the longitudinal position.

【0088】このようなグループ単位に分割され、かつ
各グループで記録トラックに対応する複数の加工トラッ
クを有するテープTは、前述の各種の本発明の加工装置
をテープTの幅方向に対して複数用いることで作成する
ことができるが、好ましい加工装置として、以下に示す
加工装置が例示される。
The tape T divided into groups as described above and having a plurality of processing tracks corresponding to the recording tracks in each group can be obtained by using the above-described processing apparatus of the present invention in a plurality in the width direction of the tape T. Although it can be created by using, a processing apparatus shown below is exemplified as a preferable processing apparatus.

【0089】図21(A)に示される加工装置100
は、グループ内の各加工線分が同一のテープTの製造に
好適な装置である。図示例の加工装置100は、一例と
して、4つの記録バンドに対応した、4グループの加工
線分を形成するもので、基本的に、光源14と、ビーム
スプリッタ102と、4つの光変調器104(104
a,104b,104c,104d)と、ミラー105
と、シートビーム成形器106と、多眼レンズ108
と、搬送手段24とを有して構成される。なお、搬送手
段24は、前述の例と同様のものであるので、同じ部材
には同じ符号を付し、その説明は省略する。
The processing apparatus 100 shown in FIG.
Is an apparatus suitable for manufacturing a tape T in which each processing line segment in a group is the same. The processing apparatus 100 in the illustrated example forms, for example, four groups of processing line segments corresponding to four recording bands, and basically includes a light source 14, a beam splitter 102, and four light modulators 104. (104
a, 104b, 104c, 104d) and the mirror 105
, Sheet beam shaper 106, multi-lens 108
And transport means 24. Since the transporting means 24 is the same as in the above-described example, the same members are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0090】光源14は、前述の加工装置10等で用い
られた光源と同様のものである。光源14から射出され
たレーザビームは、図21(B)に示されるように、ビ
ームスプリッタ102によってテープTの幅方向に対応
して複数(図示例では4本)のレーザビームに分割され
る(従って、図21(B)では、テープTは紙面とほぼ
垂直方向に搬送される)。ビームスプリッタ102には
特に限定はなく、誘電体多層膜を用いるビームスプリッ
タ等、公知のビームスプリッタが各種利用可能である。
また、ビームスプリッタで分割される各レーザビームの
強度を均一にするために、ビームスプリッタ102の上
流に、ビームプロファイルの成形器を配置してもよい。
成形器は、前述の図3に示される加工装置10の成形器
20と同様のものを用いればよい。
The light source 14 is similar to the light source used in the above-described processing apparatus 10 and the like. The laser beam emitted from the light source 14 is split into a plurality (four in the illustrated example) of laser beams corresponding to the width direction of the tape T by the beam splitter 102 as shown in FIG. Therefore, in FIG. 21B, the tape T is transported in a direction substantially perpendicular to the paper surface.) The beam splitter 102 is not particularly limited, and various known beam splitters such as a beam splitter using a dielectric multilayer film can be used.
Further, in order to make the intensity of each laser beam split by the beam splitter uniform, a beam profiler may be arranged upstream of the beam splitter 102.
The same molding machine as the molding machine 20 of the processing apparatus 10 shown in FIG. 3 described above may be used.

【0091】なお、図示例においては、ビームスプリッ
タ102で光ビームを分割することにより、加工線分を
4グループ形成しているが、本発明はこれに限定はされ
ず、4つの光源を用いて4グループの加工線分を形成し
てもよい。この点に関しては、後述する各種の例も同様
である。
In the illustrated example, four groups of processing line segments are formed by splitting the light beam by the beam splitter 102, but the present invention is not limited to this, and four light sources are used. Four groups of processing line segments may be formed. In this regard, the same applies to various examples described later.

【0092】ビームスプリッタ102によって分割され
たレーザビームは、それぞれに対応する光変調器104
a,104b,104cおよび104dに入射して、強
度変調(加工のon/off)される。また、各光変調
器104は、それぞれに対応する信号源(ドライバ)
a,b,cおよびdによって駆動される。光変調器10
4には、特に限定はなく、AOM等の公知の光強度変調
器が各種利用可能である。
The laser beams split by the beam splitter 102 are applied to the corresponding optical modulators 104.
a, 104b, 104c and 104d, and are intensity-modulated (processing on / off). Each of the optical modulators 104 has a signal source (driver) corresponding to the optical modulator 104.
Driven by a, b, c and d. Optical modulator 10
4 is not particularly limited, and various known light intensity modulators such as AOM can be used.

【0093】光変調器104で変調された各レーザビー
ムは、ミラー105(図21(B)では省略)で所定の
方向に反射されて、シートビーム成形器106に入射す
る。シートビーム成形器106は、前述の図9に示され
るシートビーム成形器70と同様のものであり、ビーム
スプリッタ102で分割され、光変調器104で変調さ
れた各レーザビームを、多眼レンズ108(対応するレ
ンズアレイ110)の配列方向と一致する直線状のレー
ザビームとするものである。また、図9に示される例と
同様に、シートビーム成形器106の上流に、レーザビ
ームのコリメートするビームエクスパンダを配置しても
よい。
Each laser beam modulated by the optical modulator 104 is reflected in a predetermined direction by a mirror 105 (omitted in FIG. 21B) and enters a sheet beam shaper 106. The sheet beam shaper 106 is similar to the sheet beam shaper 70 shown in FIG. 9 described above, and separates each laser beam split by the beam splitter 102 and modulated by the light modulator 104 into a multi-lens 108. This is a linear laser beam that matches the arrangement direction of the (corresponding lens array 110). As in the example shown in FIG. 9, a beam expander for collimating a laser beam may be arranged upstream of the sheet beam shaper 106.

【0094】シートビーム成形器104によって直線状
にされたレーザビームは、多眼レンズ108に入射す
る。図22に示されるように、多眼レンズ108は、図
9に示される多眼レンズ74と同様のダミーレンズアレ
イを有するレンズアレイ110(110a,110b,
110c,110d)を、レンズアレイ110と直交す
る方向にスペーサ112を介して配列したものである。
なお、各レンズアレイ110は、図9に示される例と同
様に、光量調整手段を有してもよい。
The laser beam linearized by the sheet beam forming device 104 enters the multi-lens lens 108. As shown in FIG. 22, the multi-lens 108 has a lens array 110 (110a, 110b, 110b) having a dummy lens array similar to the multi-lens 74 shown in FIG.
110c, 110d) are arranged via a spacer 112 in a direction orthogonal to the lens array 110.
Note that each lens array 110 may include a light amount adjusting unit, as in the example shown in FIG.

【0095】このような多眼レンズ108は、図22に
示されるように、レンズアレイ110がテープTの搬送
方向に対して若干角度を有するように配置される。な
お、この角度は、各レンズアレイ110(レンズアレイ
110の各レンズの光軸を結ぶ線)が、テープTの搬送
方向に対して重ならないように設定される。従って、そ
れぞれに対応するレンズアレイ110に入射した直線状
の4本のレーザビームは、分割されてテープTの幅方向
に異なる位置に結像し、4つのブロックに分かれて、各
ブロック毎に複数(図示例では1ブロック14本)の加
工線分を形成する。
As shown in FIG. 22, such a multi-lens lens 108 is arranged such that the lens array 110 has a slight angle with respect to the tape T transport direction. The angle is set such that the lens arrays 110 (lines connecting the optical axes of the lenses of the lens array 110) do not overlap with the transport direction of the tape T. Therefore, the four linear laser beams incident on the corresponding lens arrays 110 are divided and imaged at different positions in the width direction of the tape T, are divided into four blocks, and each block has a plurality of laser beams. A processing line segment (14 blocks per block in the illustrated example) is formed.

【0096】前述のように、各レーザビームは、対応す
る光変調器104によって強度変調されるものであり、
この変調によってテープTの加工をon/offして、
各種のパターンの加工線分を形成することができる。従
って、図示例の加工装置100においては、光変調器1
04を駆動する各信号源が、互いにデューティーやon
/off周波数が異なる駆動信号を対応する光変調器1
04に供給することにより、ビームスプリッタ102に
よって分割された各レーザビームを個々に強度変調し
て、各ブロック毎に異なるパターンの加工線分を形成す
ることができる。また、光変調器104による変調パタ
ーンを変化させることにより、テープTの長手方向に異
なる加工線分を形成することができる(この点に関して
は、後述する態様も同様である)。
As described above, each laser beam is intensity-modulated by the corresponding optical modulator 104.
By this modulation, the processing of the tape T is turned on / off,
Processing line segments of various patterns can be formed. Therefore, in the processing apparatus 100 of the illustrated example, the optical modulator 1
04 drive each other with duty or on
Modulator 1 corresponding to drive signals having different / off frequencies
By supplying the laser beam to the laser beam 04, the laser beams split by the beam splitter 102 can be individually intensity-modulated to form a processing line segment having a different pattern for each block. Further, by changing the modulation pattern by the optical modulator 104, it is possible to form different processing line segments in the longitudinal direction of the tape T (this is the same in an embodiment described later).

【0097】図21に示される加工装置100は、各ブ
ロック内の加工線分が同じテープTの作成に好適な例で
あるが、図23に、ブロック内の加工線分も互いに異な
るテープTの作成に好適な加工装置の概念図を示す。な
お、図23に示される加工装置120は、前記図21に
示される加工装置100とほぼ同じ構成を有するもので
あるので、同じ部材には同じ符号を付し、以下の説明は
異なる部分を主に行う。
The processing apparatus 100 shown in FIG. 21 is an example suitable for producing a tape T in which the processing line segments in each block are the same. However, FIG. FIG. 1 shows a conceptual diagram of a processing apparatus suitable for preparation. Since the processing apparatus 120 shown in FIG. 23 has substantially the same configuration as the processing apparatus 100 shown in FIG. 21, the same members are denoted by the same reference numerals, and the following description mainly focuses on the different parts. To do.

【0098】図23に示される加工装置120も、同様
に、4グループの加工線分を形成するもので、図23
(A)に示されるように、基本的に、光源14と、ビー
ムスプリッタ102と、4つの光変調器104(104
a,104b,104c,104d)と、ミラー105
と、シートビーム成形器106と、4つのマルチパター
ンディスク122(122a,122b,122c,1
22d)と、多眼レンズ108と、搬送手段24とを有
して構成される。
The processing apparatus 120 shown in FIG. 23 similarly forms four groups of processing line segments.
As shown in (A), basically, the light source 14, the beam splitter 102, and the four light modulators 104 (104
a, 104b, 104c, 104d) and the mirror 105
, The sheet beam former 106 and the four multi-pattern disks 122 (122a, 122b, 122c, 1)
22d), the multi-lens 108, and the transport unit 24.

【0099】以上の記載より明らかなように、図23に
示される加工装置120は、シートビーム成形器106
と多眼レンズ108との間に、マルチパターンディスク
122を有する以外は、基本的に、前記加工装置100
と同じ構成を有する。従って、光源24から射出された
レーザビームは、図23(B)に示されるように、ビー
ムスプリッタ102によってテープTの略幅方向に4本
のレーザビームに分割され、それぞれに対応する光変調
器104によって変調されて、ミラー105(図23
(B)では省略)によって所定方向に反射され、シート
ビーム成形器106によって所定方向の直線状のレーザ
ビームに成形されて、それぞれに対応するマルチパター
ンディスク122を通過した後に、多眼レンズ108の
対応するレンズアレイ110に入射して、テープTに入
射・結像して、テープTを加工する。
As is clear from the above description, the processing apparatus 120 shown in FIG.
And the multi-lens 108, except that a multi-pattern disk 122 is provided.
It has the same configuration as Therefore, the laser beam emitted from the light source 24 is divided into four laser beams in the substantially width direction of the tape T by the beam splitter 102 as shown in FIG. Modulated by the mirror 104, the mirror 105 (FIG. 23)
(Omitted in (B)), is reflected in a predetermined direction, is shaped into a linear laser beam in a predetermined direction by a sheet beam shaper 106, passes through a corresponding multi-pattern disk 122, and is The light enters the corresponding lens array 110, enters the tape T, forms an image, and processes the tape T.

【0100】図24に、マルチパターンディスク122
の一例の正面図を示す。マルチパターンディスク122
は、中心から放射状に、複数のスリット124(図示例
では、等角度間隔で16本)が形成された遮光性の円板
である。本態様において、マルチパターンディスク12
2は、スリット124がレンズアレイ110に一致する
ように配置され、円板の中心Oを軸にモータ126によ
って高速回転される。従って、直線状のレーザビーム
は、スリット124とレンズアレイ110とが一致した
時のみにマルチパターンディスク122を通過してテー
プTを加工することになり、すなわち、本態様において
は、光変調器104に加え、マルチパターンディスク1
22の回転によっても、加工がon/offされる。
FIG. 24 shows a multi-pattern disk 122.
1 shows a front view of an example. Multi pattern disk 122
Is a light-shielding disk formed with a plurality of slits 124 (16 at equal angular intervals in the illustrated example) radially from the center. In this embodiment, the multi-pattern disk 12
2 is arranged so that the slit 124 coincides with the lens array 110, and is rotated at a high speed by a motor 126 about the center O of the disk. Therefore, the linear laser beam passes through the multi-pattern disk 122 and processes the tape T only when the slit 124 and the lens array 110 coincide with each other. That is, in this embodiment, the light modulator 104 And multi-pattern disc 1
The processing is also turned on / off by the rotation of 22.

【0101】ここで、図24において点線で示されるよ
うに、スリット124は、レンズアレイ110の各レン
ズに対応して区分け(従って、図示例では14区分)さ
れており、各区分は、任意にマスキングして遮光するこ
とができる。図示例においては、一例として、図中黒で
塗りつぶされる区分がマスキングされている。前述のよ
うに、レーザビームの通過すなわちテープTの加工は、
マルチパターンディスク122の回転によってもon/
offされる。従って、レンズアレイ110の各レンズ
に対応する区分のマスキングパターンを変えることによ
り、各レンズへのレーザビームの入射パターンを変える
事ができ、各ブロックにおいて、互いに異なる複数の加
工線分を形成することができる。
Here, as shown by the dotted lines in FIG. 24, the slits 124 are divided corresponding to the respective lenses of the lens array 110 (accordingly, 14 divisions in the illustrated example). It can be masked and shielded from light. In the illustrated example, as an example, a section painted black in the figure is masked. As described above, the passage of the laser beam, that is, the processing of the tape T,
The rotation of the multi-pattern disk 122 also causes
is turned off. Therefore, by changing the masking pattern of the section corresponding to each lens of the lens array 110, it is possible to change the incident pattern of the laser beam on each lens, and to form a plurality of different processing line segments in each block. Can be.

【0102】図示例の加工装置120において、マルチ
パターンディスク122の回転速度には特に限定はな
く、目的とする加工パターンや加工時のテープTの搬送
速度等に応じて適宜決定すればよいが、6000rpm
〜12000rpmとするのが好ましい。また、マルチ
パターンディスク122の回転速度は、一定であっても
よく、周期的あるいはランダムに変化させて、回転速度
の調整によって加工線分の形成パターンをテープTの長
手方向で変えてもよい。
In the processing apparatus 120 in the illustrated example, the rotation speed of the multi-pattern disk 122 is not particularly limited, and may be appropriately determined according to the target processing pattern, the transport speed of the tape T during processing, and the like. 6000 rpm
It is preferably set to 12000 rpm. Further, the rotation speed of the multi-pattern disk 122 may be constant, or may be changed periodically or randomly, and the formation pattern of the processing line segment may be changed in the longitudinal direction of the tape T by adjusting the rotation speed.

【0103】図25に、ブロック内の加工線分も互いに
異なるテープTの作成に好適な加工装置の別の例の概念
図を示す。なお、図25に示される加工装置130は、
前記図21に示される加工装置100と同様の部材を多
様するので、同じ部材には同じ符号を付し、以下の説明
は異なる部分を主に行う。
FIG. 25 shows a conceptual diagram of another example of a processing apparatus suitable for producing a tape T having different processing line segments in a block. The processing device 130 shown in FIG.
Since the same members as those of the processing apparatus 100 shown in FIG. 21 are diversified, the same members are denoted by the same reference numerals, and the following description mainly focuses on the different parts.

【0104】図25に示される加工装置130も、同様
に、4グループの加工線分を形成するもので、基本的
に、光源14と、ビームスプリッタ102と、4つの光
変調器104(104a,104b,104c,104
d)と、ミラー105と、4つのビーム偏向器132
(132a,132b,132c,132d)と、4つ
のビームコリメータ134(134a,134b,13
4c,134d)と、4つのレンズアレー110(11
0a,110b,110c,110d)と、搬送手段2
4とを有して構成される。
The processing apparatus 130 shown in FIG. 25 similarly forms four groups of processing line segments. Basically, the light source 14, the beam splitter 102, and the four optical modulators 104 (104a, 104a, 104b, 104c, 104
d), mirror 105 and four beam deflectors 132
(132a, 132b, 132c, 132d) and four beam collimators 134 (134a, 134b, 13d).
4c, 134d) and four lens arrays 110 (11
0a, 110b, 110c, 110d) and the transporting means 2
4.

【0105】加工装置130においても、光源14から
ミラー105に至るまでの作用は、前述の各例と同様で
ある。すなわち、光源24から射出されたレーザビーム
は、図26に示されるように、ビームスプリッタ102
によって幅方向に対応して複数(図示例では4本)のレ
ーザビームに分割され、それぞれに対応する光変調器1
04によって変調されて、ミラー105(図26では省
略)によって所定方向に反射される。
In the processing apparatus 130, the operation from the light source 14 to the mirror 105 is the same as in each of the above-described examples. That is, the laser beam emitted from the light source 24 is, as shown in FIG.
Is divided into a plurality (four in the illustrated example) of laser beams corresponding to the width direction, and the corresponding optical modulators 1
The modulated light is reflected by a mirror 105 (not shown in FIG. 26) in a predetermined direction.

【0106】ミラー105によって反射されたレーザビ
ームは、それぞれに対応するビーム偏向器132に入射
する。ビーム偏向器132は、光偏向器であって、光変
調器104によって変調されたレーザビームを、対応す
るレンズアレイ110のレンズ配列方向に偏向・走査す
る。
The laser beams reflected by the mirrors 105 enter the corresponding beam deflectors 132. The beam deflector 132 is an optical deflector, and deflects and scans the laser beam modulated by the optical modulator 104 in the lens array direction of the corresponding lens array 110.

【0107】ここで、図示例の態様においては、ビーム
偏向器132は、周波数で50kHz〜500kHz程
度の走査速度を有し、かつ、走査速度を時系列的に変更
できる光偏向器であって、例えば、AOD(音響光学偏
向器)等が好適に利用される。ビーム偏向器132は、
対応する信号源S(Sa〜Sd)によって駆動され、信
号源Sからの駆動信号の制御によって、走査速度を変更
する。
Here, in the embodiment shown in the figure, the beam deflector 132 is an optical deflector having a scanning speed of about 50 kHz to 500 kHz in frequency and capable of changing the scanning speed in time series. For example, an AOD (acoustic optical deflector) or the like is preferably used. The beam deflector 132 is
It is driven by the corresponding signal source S (Sa to Sd), and changes the scanning speed by controlling the driving signal from the signal source S.

【0108】ビーム偏向器132によってレンズアレイ
110のレンズ配列方向に偏向されたレーザビームは、
対応するビームコリメータ134に入射して、レンズア
レー110のレンズ光軸に平行なレーザビームとされ、
次いで、対応するレンズアレー110に入射/走査し
て、テープTに結像して、テープTを加工する。なお、
ビームコリメータとしては、通常の共軸球面系レンズを
組み合わせてなるもの、ガリレオ型、ケプラー型等、公
知のものが各種利用可能である。
The laser beam deflected in the lens array direction of the lens array 110 by the beam deflector 132 is
The laser beam is incident on the corresponding beam collimator 134 and is converted into a laser beam parallel to the lens optical axis of the lens array 110.
Next, the light is incident / scanned on the corresponding lens array 110 to form an image on the tape T, and the tape T is processed. In addition,
As the beam collimator, various types of known types such as a combination of a normal coaxial spherical lens, a Galileo type, and a Kepler type can be used.

【0109】ここで、前述のように、ビーム偏向器13
2は、走査速度が時系列的に可変な光偏向器であるの
で、レンズアレー110の各レンズにおけるレーザビー
ムの走査時間すなわちレンズアレー110の各レンズへ
のレーザビームの入射時間を、レンズ毎に変更すること
ができる。また、レーザビームは、光変調器104によ
って強度変調され、加工のon/offを制御すること
ができる。従って、加工制御部136によって光変調器
104およびビーム偏向器132の信号源を制御して、
光変調器104の変調周波数やビーム偏向器132の走
査速度を調整することにより、両者の相乗効果によって
レンズアレー110の各レンズ毎の加工点数を変更する
ことができ、ブロック内における加工線分を互いに異な
るものにできる。
Here, as described above, the beam deflector 13
Reference numeral 2 denotes an optical deflector whose scanning speed is variable in a time series, so that the scanning time of the laser beam in each lens of the lens array 110, that is, the incident time of the laser beam to each lens of the lens array 110, is set for each lens. Can be changed. Further, the intensity of the laser beam is modulated by the optical modulator 104, and the on / off of the processing can be controlled. Accordingly, the processing control unit 136 controls the signal sources of the optical modulator 104 and the beam deflector 132,
By adjusting the modulation frequency of the optical modulator 104 and the scanning speed of the beam deflector 132, the number of processing points for each lens of the lens array 110 can be changed by a synergistic effect of both, and the processing line segment in the block can be reduced. Can be different from each other.

【0110】以上説明した、本発明によるテープTの加
工は、磁気記録層を形成した後であれば、磁気テープ製
造工程のいつ行っても良く、例えば、スリッタによって
テープを製品幅に切断する前であっても、切断した後で
あってもよい。
The above-described processing of the tape T according to the present invention may be performed at any time in the magnetic tape manufacturing process as long as the magnetic recording layer is formed. For example, before the tape is cut into a product width by a slitter. Or after cutting.

【0111】以上、本発明の評価用基準テープ、および
評価基準テープの製造方法ならびに製造装置について詳
細に説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本
発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変
更を行ってもよい。
Although the evaluation reference tape and the method and apparatus for manufacturing the evaluation reference tape of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described examples, and does not depart from the gist of the present invention. In the above, various improvements and changes may be made.

【0112】[0112]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
評価用基準テープは、磁気記録層に凹部を有するので、
これを用いることにより、評価用基準テープを破壊する
ことなく、ドロップアウト検査機の感度補正や磁気テー
プの磁気記録/再生系の評価を、テープの欠陥の深さや
サイズに応じて行うことができる。そのため、ドロップ
アウト検査機の性能を適正に把握し、かつ、その機差や
経時変化を吸収した、より好適なドロップアウト検査を
行って、より良好な磁気テープの品質管理を行うことが
でき、また、磁気テープの記録/再生系の性能を定量的
に把握して、好適な磁気記録/再生系の評価を行うこと
が可能となる。また、本発明の製造方法および製造装置
によれば、このような優れた特性を有する評価用基準テ
ープを、効率よく製造することができる。
As described above in detail, since the evaluation reference tape of the present invention has a concave portion in the magnetic recording layer,
By using this, the sensitivity correction of the dropout inspection machine and the evaluation of the magnetic recording / reproducing system of the magnetic tape can be performed according to the depth and size of the tape defect without destroying the evaluation reference tape. . Therefore, it is possible to properly grasp the performance of the dropout inspection machine, and to perform a more suitable dropout inspection, which absorbs the machine difference and the change with time, to perform better quality control of the magnetic tape, In addition, it is possible to quantitatively grasp the performance of the recording / reproducing system of the magnetic tape and to evaluate the suitable magnetic recording / reproducing system. Further, according to the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the present invention, it is possible to efficiently manufacture the evaluation reference tape having such excellent characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 (A)および(B)は、それぞれ本発明の評
価用基準テープの磁気記録層に形成される溝(凹部)の
一例を示す概念図である。
FIGS. 1A and 1B are conceptual diagrams each showing an example of a groove (recess) formed in a magnetic recording layer of a reference tape for evaluation of the present invention.

【図2】 (A),(B)および(C)は、それぞれ本
発明の評価用基準テープの磁気記録層に形成される溝
(凹部)の形状を示す概念図である。
FIGS. 2A, 2B and 2C are conceptual diagrams showing the shapes of grooves (recesses) formed in the magnetic recording layer of the evaluation reference tape of the present invention.

【図3】 本発明の評価用基準テープの製造装置の一例
の概念図である。
FIG. 3 is a conceptual diagram of an example of an apparatus for manufacturing a reference tape for evaluation of the present invention.

【図4】 (A)および(B)は、それぞれ図3に示さ
れる評価用基準テープの製造装置に利用される成形手段
の一例の概念図である。
FIGS. 4A and 4B are conceptual diagrams of an example of a molding unit used in the evaluation reference tape manufacturing apparatus shown in FIG. 3;

【図5】 (A)および(B)は、図3に示される製造
装置に用いられる多眼レンズを説明するための概念図で
ある。
FIGS. 5A and 5B are conceptual diagrams for explaining a multi-lens used in the manufacturing apparatus shown in FIG. 3;

【図6】 図3に示される製造装置に用いられる多眼レ
ンズを説明するための概念図である。
FIG. 6 is a conceptual diagram for describing a multi-lens used in the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図7】 図3に示される製造装置に用いられる多眼レ
ンズの別の例を示す概念図である。
FIG. 7 is a conceptual diagram showing another example of the multi-lens used in the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図8】 (A),(B),(C)および(D)は、そ
れぞれ図3に示される製造装置に用いられるテープフラ
ットナの一例の概念図である。
FIGS. 8A, 8B, 8C, and 8D are conceptual diagrams of an example of a tape flattener used in the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図9】 本発明の評価用基準テープの製造装置の別の
例の一部の概念図である。
FIG. 9 is a conceptual diagram of a part of another example of the evaluation reference tape manufacturing apparatus of the present invention.

【図10】 図9に示される評価用基準テープの製造装
置に利用される多眼レンズの一例の概念図である。
10 is a conceptual diagram of an example of a multi-lens used in the apparatus for manufacturing the evaluation reference tape shown in FIG.

【図11】 図9に示される評価用基準テープの製造装
置に利用される光量調整手段の一例の概念図である。
11 is a conceptual diagram of an example of a light amount adjusting unit used in the apparatus for manufacturing the evaluation reference tape shown in FIG.

【図12】 図9に示される評価用基準テープの製造装
置に利用される光量調整手段の別の例の概念図である。
FIG. 12 is a conceptual diagram of another example of the light amount adjusting means used in the apparatus for manufacturing the evaluation reference tape shown in FIG.

【図13】 図3に示される製造装置に用いられる光学
系の別の例を説明するための概念図である。
FIG. 13 is a conceptual diagram for explaining another example of the optical system used in the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図14】 図3に示される製造装置に用いられる光学
系の別の例を説明するための概念図である。
14 is a conceptual diagram for explaining another example of the optical system used in the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図15】 本発明の製造装置の別の例の概念図であ
る。
FIG. 15 is a conceptual diagram of another example of the manufacturing apparatus of the present invention.

【図16】 (A)および(B)は、図15に示される
製造装置のマスクの一例を示す概略図である。
16A and 16B are schematic diagrams showing an example of a mask of the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図17】 図15に示される製造装置で製造される評
価用基準テープの一例の概念図である。
17 is a conceptual diagram illustrating an example of an evaluation reference tape manufactured by the manufacturing apparatus illustrated in FIG.

【図18】 本発明の製造装置の別の例の概念図であ
る。
FIG. 18 is a conceptual diagram of another example of the manufacturing apparatus of the present invention.

【図19】 本発明の製造装置の別の例の概念図であ
る。
FIG. 19 is a conceptual diagram of another example of the manufacturing apparatus of the present invention.

【図20】 本発明の評価用基準テープの磁気記録層に
形成される溝(凹部)の別の例を示す概念図である。
FIG. 20 is a conceptual diagram showing another example of a groove (recess) formed in the magnetic recording layer of the evaluation reference tape of the present invention.

【図21】 (A)は本発明の製造装置の別の例の概念
図で、(B)は(A)に示される製造装置を説明するた
めの概念図である。
FIG. 21A is a conceptual diagram of another example of the manufacturing apparatus of the present invention, and FIG. 21B is a conceptual diagram for explaining the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図22】 図21に示される製造装置の多眼レンズの
概念図である。
22 is a conceptual diagram of a multi-lens lens of the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図23】 (A)は本発明の製造装置の別の例の概念
図で、(B)は(A)に示される製造装置を説明するた
めの概念図である。
23A is a conceptual diagram of another example of the manufacturing apparatus of the present invention, and FIG. 23B is a conceptual diagram for explaining the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図24】 図23に示される製造装置のマルチパター
ンディスクの一例の概念図である。
24 is a conceptual diagram of an example of a multi-pattern disk of the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図25】 本発明の製造装置の別の例の概念図であ
る。
FIG. 25 is a conceptual diagram of another example of the manufacturing apparatus of the present invention.

【図26】 図25の製造装置を説明するための概念図
である。
FIG. 26 is a conceptual diagram illustrating the manufacturing apparatus of FIG. 25.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,50,60,82,100,120,130 製
造装置 12 光源 14 パルス変調器 16,105 ミラー 18 ビームエクスパンダ 20 (ビームプロファイル)成形器 22,74,108 多眼レンズ 24 搬送手段 26,28 ガイドローラ 30 テープフラットナ 32 AOM 34,40 結像レンズ 36 ドライバ 38 分割手段 52 LEDアレイ 54,110 レンズアレイ 62 x方向走査素子 64 y方向走査素子 66,92 収束レンズ 70,106 シートビーム成形器 72(72a,72b) 光量調整手段 76 アパーチャ 80 スリット 84 強度変調器 86 ビームウエスト位置調整手段 88 ビーム成形器 90 マスク 94 アパーチャ 102 ビームスプリッタ 104 光変調器 112 スペーサ 122 マルチパターンディスク 124 スリット 126 モータ 132 ビーム偏向器 134 ビームコリメータ
10, 50, 60, 82, 100, 120, 130 Manufacturing apparatus 12 Light source 14 Pulse modulator 16, 105 Mirror 18 Beam expander 20 (Beam profile) shaper 22, 74, 108 Multi-lens 24 Transporting means 26, 28 Guide roller 30 Tape flattener 32 AOM 34, 40 Imaging lens 36 Driver 38 Division means 52 LED array 54, 110 Lens array 62 X-direction scanning element 64 Y-direction scanning element 66, 92 Convergent lens 70, 106 Sheet beam shaper 72 (72a, 72b) Light amount adjusting means 76 Aperture 80 Slit 84 Intensity modulator 86 Beam waist position adjusting means 88 Beam shaper 90 Mask 94 Aperture 102 Beam splitter 104 Optical modulator 112 Spacer 122 Multi pattern Disk 124 slit 126 motor 132 beam deflector 134 beam collimator

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】磁気記録層に、磁気記録層を加工してなる
凹部を有することを特徴とする評価用基準テープ。
1. A reference tape for evaluation, characterized in that the magnetic recording layer has a recess formed by processing the magnetic recording layer.
【請求項2】磁気テープを長手方向に搬送しつつ、可視
域のレーザビームおよび紫外域のレーザビームの少なく
とも一方を前記磁気テープの磁気記録層に入射し、前記
磁気記録層を加工して凹部を形成することを特徴とする
評価用基準テープの製造方法。
2. A laser beam in a visible region and an ultraviolet region of a laser beam are incident on a magnetic recording layer of the magnetic tape while conveying the magnetic tape in a longitudinal direction, and the concave portion is formed by processing the magnetic recording layer. Forming a reference tape for evaluation.
【請求項3】前記磁気テープの磁気記録層に入射するレ
ーザビームは、多眼レンズによって分割および結像され
た複数本のレーザビーム、分割手段によって分割された
複数本のレーザビーム、光走査素子で走査されたレーザ
ビーム、および分割手段と多眼レンズとを併用して分割
および結像された複数本のレーザビームの少なくとも一
つである請求項2に記載の評価用基準テープの製造方
法。
3. A laser beam incident on a magnetic recording layer of the magnetic tape, a plurality of laser beams divided and imaged by a multi-lens, a plurality of laser beams divided by a dividing means, an optical scanning element. 3. The method for manufacturing a reference tape for evaluation according to claim 2, wherein the laser beam is at least one of a laser beam scanned in step (1) and a plurality of laser beams divided and imaged by using a dividing unit and a multi-lens lens together.
【請求項4】可視域のレーザビームおよび紫外域のレー
ザビームの少なくとも一方を射出する光源と、前記光源
から射出されたレーザビームを所定の加工位置に入射す
る光学系と、前記加工位置において、磁気記録層を前記
レーザビームの光路の上流側に向けた状態で磁気テープ
を長手方向に搬送する搬送手段と、前記加工位置におい
て、前記搬送手段によって搬送される磁気テープの平面
性を確保する手段とを有することを特徴とする評価用基
準テープの製造装置。
4. A light source for emitting at least one of a visible region laser beam and an ultraviolet region laser beam, an optical system for emitting a laser beam emitted from the light source to a predetermined processing position, and: Transport means for transporting the magnetic tape in the longitudinal direction with the magnetic recording layer facing upstream of the optical path of the laser beam, and means for ensuring the flatness of the magnetic tape transported by the transport means at the processing position An apparatus for manufacturing a reference tape for evaluation, comprising:
JP11213302A 1998-12-09 1999-07-28 Reference tape for evaluation and its production as well as apparatus for production Withdrawn JP2001060301A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11213302A JP2001060301A (en) 1998-12-09 1999-07-28 Reference tape for evaluation and its production as well as apparatus for production
US09/580,544 US6661610B1 (en) 1999-05-28 2000-05-30 Evaluation reference tape
US10/407,423 US6914254B2 (en) 1999-05-28 2003-04-07 Apparatus for manufacturing evaluation reference tape
US10/408,038 US20030189777A1 (en) 1999-05-28 2003-04-07 Evaluation reference tape, method and apparatus for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35006698 1998-12-09
JP15001399 1999-05-28
JP11-150013 1999-05-28
JP16811899 1999-06-15
JP11-168118 1999-06-15
JP10-350066 1999-06-15
JP11213302A JP2001060301A (en) 1998-12-09 1999-07-28 Reference tape for evaluation and its production as well as apparatus for production

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001060301A true JP2001060301A (en) 2001-03-06

Family

ID=27472990

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11213302A Withdrawn JP2001060301A (en) 1998-12-09 1999-07-28 Reference tape for evaluation and its production as well as apparatus for production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001060301A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111299812A (en) * 2020-03-06 2020-06-19 东莞阿李自动化股份有限公司 Laser processing method and device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111299812A (en) * 2020-03-06 2020-06-19 东莞阿李自动化股份有限公司 Laser processing method and device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7153366B1 (en) Systems and method for forming a servo pattern on a magnetic tape
TWI655512B (en) Beam-forming optical system and direct imaging system
JPH0675188A (en) Method and apparatus for focusing images of many light sources, which are arranged in one line or many lines
EP0645043B1 (en) Apparatus for and method of verifying etching of optical servo information on magnetic media
US5798784A (en) Laser drawing apparatus featuring a beam separator supported by an adjusting means swingable about a rotating shaft
US5835471A (en) Optical information recording and/or reproducing apparatus
EP0848379B1 (en) Method and device for initializing optical recording medium of phase change type, and optical recording medium
US5892611A (en) Laser drawing apparatus
US6661610B1 (en) Evaluation reference tape
KR20080016849A (en) Drawing device and drawing method
JPH01287622A (en) Optical beam splitter
US6429411B1 (en) Magnetic tape processing method and magnetic tape processing apparatus having an optical system
JP2001060301A (en) Reference tape for evaluation and its production as well as apparatus for production
US6741415B1 (en) Method of writing servo signal on magnetic tape
EP0488407A2 (en) Optical system for converging light beams to form a single beam spot on an optical disc
US5745150A (en) Laser drawing apparatus having drawing beams in a common place aligned with a lens meridian
JPH01289910A (en) Light beam splitting method and light beam splitting and modulating method
US5805198A (en) Laser drawing apparatus and method for adjusting the same
US4889415A (en) Light beam deflector devices
JP3522444B2 (en) Light beam modulator
JP2000284205A (en) Exposure recording device
JPH10269613A (en) Optical head device
USRE38297E1 (en) Internal drum scophony raster recording device
JP2624397B2 (en) Optical recording / reproducing device
JP2003123308A (en) Optical servo writer system, optical system and method for generating servo mark on digital linear tape

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20061003