JP2001059831A - Ｈｃｌガスセンサ - Google Patents
ＨｃｌガスセンサInfo
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- JP2001059831A JP2001059831A JP11236125A JP23612599A JP2001059831A JP 2001059831 A JP2001059831 A JP 2001059831A JP 11236125 A JP11236125 A JP 11236125A JP 23612599 A JP23612599 A JP 23612599A JP 2001059831 A JP2001059831 A JP 2001059831A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガス拡散膜の同一平面上に、作用極、対極、
参照極の電極が形成されたセンサにおいて、安定した出
力が得られるＨＣＬガスセンサを提供する。 【解決手段】 ガス拡散膜３上に、ＡｕまたはＡｕ含有
Ｐｔからなる作用極Ｗと、Ｐｔからなる参照極Ｒと、Ｐ
ｔからなる対極Ｃとを形成し、作用極Ｗと対極Ｃの電極
間距離を１ｍｍ以上に離す。そして、使用前に作用極Ｗ
を一回アノード電解処理をし、５０〜５００ｍＶの電圧
を印加して、硫酸水溶液（１Ｍ〜８Ｍ）の電解液で使用
する。
参照極の電極が形成されたセンサにおいて、安定した出
力が得られるＨＣＬガスセンサを提供する。 【解決手段】 ガス拡散膜３上に、ＡｕまたはＡｕ含有
Ｐｔからなる作用極Ｗと、Ｐｔからなる参照極Ｒと、Ｐ
ｔからなる対極Ｃとを形成し、作用極Ｗと対極Ｃの電極
間距離を１ｍｍ以上に離す。そして、使用前に作用極Ｗ
を一回アノード電解処理をし、５０〜５００ｍＶの電圧
を印加して、硫酸水溶液（１Ｍ〜８Ｍ）の電解液で使用
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス中のＨＣｌ成
分の濃度を測定する定電位電解式のＨＣＬガスセンサに
係わり、特に、電解液側のガス透過性隔膜面上のセンサ
電極に関する。
分の濃度を測定する定電位電解式のＨＣＬガスセンサに
係わり、特に、電解液側のガス透過性隔膜面上のセンサ
電極に関する。
【０００２】
【従来の技術】ゴミ燃焼ガス中のＨＣｌ定量分析や、樹
脂の熱分解ガス中のＨＣｌ定量による塩化ビニール判別
等、作業環境の安全確保のためにＨＣｌガスを分析する
計測器として、定電位電解式ＨＣＬガスセンサが使われ
ている。この定電位電解式ガスセンサは、電解液と被検
ガスとの接触面にガス透過性の隔膜が設けられ、その隔
膜の電解液側に作用極が形成され、作用極に対し電解液
を介して対極と参照極が配置され、参照極の電位を基準
として、これに対する作用極の電位が一定に保たれ、対
極と作用極間の電流により被検ガス中の特定成分濃度が
検出されるものである。特に、測定ガスが隔膜を透過し
て作用極に至るガス拡散が反応系の律速段階になる場
合、この電流値は成分濃度に比例する。定電位電解式ガ
スセンサの特徴として、ガス濃度に対して出力電流が比
例し、特定のガスにしか応答しない選択性を持ち、応答
速度が速いなどの点を挙げることができる。
脂の熱分解ガス中のＨＣｌ定量による塩化ビニール判別
等、作業環境の安全確保のためにＨＣｌガスを分析する
計測器として、定電位電解式ＨＣＬガスセンサが使われ
ている。この定電位電解式ガスセンサは、電解液と被検
ガスとの接触面にガス透過性の隔膜が設けられ、その隔
膜の電解液側に作用極が形成され、作用極に対し電解液
を介して対極と参照極が配置され、参照極の電位を基準
として、これに対する作用極の電位が一定に保たれ、対
極と作用極間の電流により被検ガス中の特定成分濃度が
検出されるものである。特に、測定ガスが隔膜を透過し
て作用極に至るガス拡散が反応系の律速段階になる場
合、この電流値は成分濃度に比例する。定電位電解式ガ
スセンサの特徴として、ガス濃度に対して出力電流が比
例し、特定のガスにしか応答しない選択性を持ち、応答
速度が速いなどの点を挙げることができる。
【０００３】図１４に定電位電解式ＨＣＬガスセンサの
部品展開をした構造を示す。絶縁性材料で形成された筒
状のカバー１は、その底部に開口を持ち、その開口が金
網１ａで閉じられている。カバー１の内側底部の外周部
には絶縁性材料からなるパッキン２が配置されている。
カバー１内にはパッキン２上に、ガス拡散膜（ガス透過
性隔膜）２０上に電極が形成されて配置されている。ガ
ス拡散膜２０は、例えば、孔径が０．０５〜３μｍで厚
みが７０μｍの疎水性多孔質ＰＴＦＥ（ポリテトラフル
オロエチレン）である。ガス拡散膜２０のパッキン２と
は反対側の面には、Ａｕ膜、およびさらにその上のＰｔ
膜からなる金属薄膜が形成されており、その金属薄膜
は、３つの領域に分割されて、互いに絶縁されている。
この図１４では、一番面積の広い中央部を作用極Ｗと
し、残りの２つを対極Ｃ、参照極Ｒとする。電極Ｗ、
Ｃ、Ｒの金属薄膜としては、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ等の単層
膜を使用することができる。ガス拡散膜２０の各電極の
上に厚さが０．６８ｍｍのガラス繊維ろ紙からなるシー
ト（電解液保持シート部材）４が設置されており、シー
ト４には電解液として例えば６Ｍ硫酸が２００μリット
ル含まれている。シート４の外周部には、作用極Ｗ、対
極Ｃ及び参照極Ｒに対応する位置に、リード配線を通す
ための窪みがそれぞれ形成されている。パッキン２、ガ
ス拡散膜２０、およびシート４をカバー１の底部に押さ
えつけて固定するパイプ組立品５が備えられている。シ
ート４の電極に対応する窪み位置には例えばＰｔ線から
なるリード線５ｗ、５ｃ、５ｒが設置されており、パイ
プ組立品５の側壁の底部と電極との間にはさみ込まれ
て、各極と電気的に接続されている。パイプ組立品５の
内部にはシート４のずれを防止するために、例えば、ポ
リエチレンなどの疎水性スポンジからなるブッシング９
が挿入されている。パイプ組立品５の上部開口部は、貫
通穴からなる圧力調節孔６ａをもち絶縁性材料から形成
されたボス６により閉じられている。圧力調節孔６ａか
らの液漏れを防止するために、ブッシング９とボス６と
の間には、液漏れ防止用にガス拡散膜２０と同様のガス
拡散膜３ａが配置されており、パイプ組立品５とボス６
にはさみ込まれて固定されている。
部品展開をした構造を示す。絶縁性材料で形成された筒
状のカバー１は、その底部に開口を持ち、その開口が金
網１ａで閉じられている。カバー１の内側底部の外周部
には絶縁性材料からなるパッキン２が配置されている。
カバー１内にはパッキン２上に、ガス拡散膜（ガス透過
性隔膜）２０上に電極が形成されて配置されている。ガ
ス拡散膜２０は、例えば、孔径が０．０５〜３μｍで厚
みが７０μｍの疎水性多孔質ＰＴＦＥ（ポリテトラフル
オロエチレン）である。ガス拡散膜２０のパッキン２と
は反対側の面には、Ａｕ膜、およびさらにその上のＰｔ
膜からなる金属薄膜が形成されており、その金属薄膜
は、３つの領域に分割されて、互いに絶縁されている。
この図１４では、一番面積の広い中央部を作用極Ｗと
し、残りの２つを対極Ｃ、参照極Ｒとする。電極Ｗ、
Ｃ、Ｒの金属薄膜としては、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ等の単層
膜を使用することができる。ガス拡散膜２０の各電極の
上に厚さが０．６８ｍｍのガラス繊維ろ紙からなるシー
ト（電解液保持シート部材）４が設置されており、シー
ト４には電解液として例えば６Ｍ硫酸が２００μリット
ル含まれている。シート４の外周部には、作用極Ｗ、対
極Ｃ及び参照極Ｒに対応する位置に、リード配線を通す
ための窪みがそれぞれ形成されている。パッキン２、ガ
ス拡散膜２０、およびシート４をカバー１の底部に押さ
えつけて固定するパイプ組立品５が備えられている。シ
ート４の電極に対応する窪み位置には例えばＰｔ線から
なるリード線５ｗ、５ｃ、５ｒが設置されており、パイ
プ組立品５の側壁の底部と電極との間にはさみ込まれ
て、各極と電気的に接続されている。パイプ組立品５の
内部にはシート４のずれを防止するために、例えば、ポ
リエチレンなどの疎水性スポンジからなるブッシング９
が挿入されている。パイプ組立品５の上部開口部は、貫
通穴からなる圧力調節孔６ａをもち絶縁性材料から形成
されたボス６により閉じられている。圧力調節孔６ａか
らの液漏れを防止するために、ブッシング９とボス６と
の間には、液漏れ防止用にガス拡散膜２０と同様のガス
拡散膜３ａが配置されており、パイプ組立品５とボス６
にはさみ込まれて固定されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のＨＣＬガスセン
サは以上のように構成されているが、ガス拡散膜２０の
同一平面上に作用極Ｗ、対極Ｃ、参照極Ｒを形成した同
一平面型電極の場合、従来は作用極Ｗ、対極Ｃ、参照極
Ｒとも同じ素材の電極を用いていた。Ａｕ（またはＡｕ
含有Ｐｔ）を作用極ＷとするＨＣＬセンサでは、Ｐｔ電
極に比べＳ／Ｎが良く、選択性もよいが、Ａｕ、Ａｕ含
有Ｐｔを参照極Ｒとして使用した場合、対象となるＨＣ
ｌガスによる参照極電位の負へのシフトがあり、指示の
不安定さの原因となっていた。その安定性の改良のため
溶液中に塩化金酸を追加する必要があった。また、Ｐｔ
を参照極Ｒとして使用しても、作用極Ｗの電極中のＡｕ
とＨＣｌの反応による塩化金酸溶出のため反応の進行に
より、参照極電位が正へのシフトがあり、出力が増大す
る傾向があった。また、対極Ｃで析出するＡｕが、作用
極Ｗまで成長し、対極Ｃ・作用極Ｗ間がショートすると
いう問題があった。
サは以上のように構成されているが、ガス拡散膜２０の
同一平面上に作用極Ｗ、対極Ｃ、参照極Ｒを形成した同
一平面型電極の場合、従来は作用極Ｗ、対極Ｃ、参照極
Ｒとも同じ素材の電極を用いていた。Ａｕ（またはＡｕ
含有Ｐｔ）を作用極ＷとするＨＣＬセンサでは、Ｐｔ電
極に比べＳ／Ｎが良く、選択性もよいが、Ａｕ、Ａｕ含
有Ｐｔを参照極Ｒとして使用した場合、対象となるＨＣ
ｌガスによる参照極電位の負へのシフトがあり、指示の
不安定さの原因となっていた。その安定性の改良のため
溶液中に塩化金酸を追加する必要があった。また、Ｐｔ
を参照極Ｒとして使用しても、作用極Ｗの電極中のＡｕ
とＨＣｌの反応による塩化金酸溶出のため反応の進行に
より、参照極電位が正へのシフトがあり、出力が増大す
る傾向があった。また、対極Ｃで析出するＡｕが、作用
極Ｗまで成長し、対極Ｃ・作用極Ｗ間がショートすると
いう問題があった。
【０００５】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであって、ガス拡散膜２０の同一平面上に、作用極
Ｗ、対極Ｃ、参照極Ｒの電極が形成されたセンサにおい
て、安定した出力が得られるＨＣＬガスセンサを提供す
ることを目的とする。
ものであって、ガス拡散膜２０の同一平面上に、作用極
Ｗ、対極Ｃ、参照極Ｒの電極が形成されたセンサにおい
て、安定した出力が得られるＨＣＬガスセンサを提供す
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明のＨＣＬガスセンサは、電解液と被検ガスとの
接触面にガス透過性隔膜が設けられ、前記ガス透過性隔
膜より電解液側に作用極、対極及び参照極が配置され、
作用極の電位が一定に保たれ、対極と作用極間の電流に
より被検ガス中の特定成分の濃度が検出される定電位電
解式ガスセンサにおいて、前記ガス透過性隔膜の電解液
側の面上に電極の材料として作用極にＡｕまたはＡｕ含
有Ｐｔ、対極にＰｔまたはＡｕまたはカーボンＳＵＳ等
の金属、参照極にＰｔを用いて互いに電気的に絶縁され
て形成された電極を備えるものである。また、前記作用
極が使用前にＨＣｌガス１００ｐｐｍ以上の雰囲気中ま
たはマイナス塩素イオン１００ｍＭ以上の電解液中で
０．０２から０．６クーロンでアノード電解処理される
ものである。また、前記作用極に印加される電圧が５０
ｍＶから５００ｍＶの間であるものである。また、前記
作用極と対極間の電極間距離が１ｍｍ以上離れているも
のである。
め本発明のＨＣＬガスセンサは、電解液と被検ガスとの
接触面にガス透過性隔膜が設けられ、前記ガス透過性隔
膜より電解液側に作用極、対極及び参照極が配置され、
作用極の電位が一定に保たれ、対極と作用極間の電流に
より被検ガス中の特定成分の濃度が検出される定電位電
解式ガスセンサにおいて、前記ガス透過性隔膜の電解液
側の面上に電極の材料として作用極にＡｕまたはＡｕ含
有Ｐｔ、対極にＰｔまたはＡｕまたはカーボンＳＵＳ等
の金属、参照極にＰｔを用いて互いに電気的に絶縁され
て形成された電極を備えるものである。また、前記作用
極が使用前にＨＣｌガス１００ｐｐｍ以上の雰囲気中ま
たはマイナス塩素イオン１００ｍＭ以上の電解液中で
０．０２から０．６クーロンでアノード電解処理される
ものである。また、前記作用極に印加される電圧が５０
ｍＶから５００ｍＶの間であるものである。また、前記
作用極と対極間の電極間距離が１ｍｍ以上離れているも
のである。
【０００７】本発明のＨＣＬガスセンサは上記のように
構成されており、電極の材料として作用極にＡｕまたは
Ａｕ含有Ｐｔを使用した場合、センサの反応条件でＡｕ
から塩化金酸が生成し、電解液中に溶出する。しかし、
センサーを使用する前に、作用極が事前にアノード電解
処理されるので、電解液中に塩化金酸が蓄積し、それに
より参照電極の電位が安定する。さらに、参照電極の材
料としてはＰｔがＨＣｌ濃度の影響を受けにくいため、
出力がより安定する。この状態で作用極に印加される電
圧が、５０ｍＶから５００ｍＶとすることで出力は安定
する。さらに、作用極と対極間の電極間距離が、１ｍｍ
以上離れているので、電極間ショートを防止することが
できる。
構成されており、電極の材料として作用極にＡｕまたは
Ａｕ含有Ｐｔを使用した場合、センサの反応条件でＡｕ
から塩化金酸が生成し、電解液中に溶出する。しかし、
センサーを使用する前に、作用極が事前にアノード電解
処理されるので、電解液中に塩化金酸が蓄積し、それに
より参照電極の電位が安定する。さらに、参照電極の材
料としてはＰｔがＨＣｌ濃度の影響を受けにくいため、
出力がより安定する。この状態で作用極に印加される電
圧が、５０ｍＶから５００ｍＶとすることで出力は安定
する。さらに、作用極と対極間の電極間距離が、１ｍｍ
以上離れているので、電極間ショートを防止することが
できる。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明のＨＣＬガスセンサの一実
施例を図１を参照しながら説明する。図１の（ａ）はセ
ンサ部分の一部を断面として示す正面図、（ｂ）は上面
図、（ｃ）は電解液保持（シート４）部分及びガス透過
性隔膜（ガス拡散膜３）部分の拡大断面図を示す。図１
の本ＨＣＬセンサは、従来の図１４に示すＨＣＬセンサ
と構造は同じで、その大きさは、直径が約２１ｍｍ、高
さが約１６ｍｍであるが、ガス拡散膜３上の電極材料、
事前の電極処理、印加電圧の範囲、電極間距離が異な
る。図２に本ＨＣＬガスセンサの部品展開をした斜視図
を示す。絶縁性材料で形成された筒状のカバー１は、そ
の底部に開口を持ち、その開口が金網１ａで閉じられて
いる。カバー１の内側底部の外周部には絶縁性材料から
なるパッキン２が配置されている。カバー１内にはパッ
キン２上に、ガス拡散膜（ガス透過性隔膜）３がその上
に電極が形成されて配置されている。ガス拡散膜３は、
例えば、孔径が０．０５〜３μｍで厚みが７０μｍの疎
水性多孔質ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）で
ある。ガス拡散膜３のパッキン２とは反対側の面には金
属薄膜が形成されており、その金属薄膜は、３つの領域
に分割されて互いに絶縁されている。図２では、一番面
積の広い中央部を作用極Ｗとし、残りの２つを対極Ｃ、
参照極Ｒとしている。
施例を図１を参照しながら説明する。図１の（ａ）はセ
ンサ部分の一部を断面として示す正面図、（ｂ）は上面
図、（ｃ）は電解液保持（シート４）部分及びガス透過
性隔膜（ガス拡散膜３）部分の拡大断面図を示す。図１
の本ＨＣＬセンサは、従来の図１４に示すＨＣＬセンサ
と構造は同じで、その大きさは、直径が約２１ｍｍ、高
さが約１６ｍｍであるが、ガス拡散膜３上の電極材料、
事前の電極処理、印加電圧の範囲、電極間距離が異な
る。図２に本ＨＣＬガスセンサの部品展開をした斜視図
を示す。絶縁性材料で形成された筒状のカバー１は、そ
の底部に開口を持ち、その開口が金網１ａで閉じられて
いる。カバー１の内側底部の外周部には絶縁性材料から
なるパッキン２が配置されている。カバー１内にはパッ
キン２上に、ガス拡散膜（ガス透過性隔膜）３がその上
に電極が形成されて配置されている。ガス拡散膜３は、
例えば、孔径が０．０５〜３μｍで厚みが７０μｍの疎
水性多孔質ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）で
ある。ガス拡散膜３のパッキン２とは反対側の面には金
属薄膜が形成されており、その金属薄膜は、３つの領域
に分割されて互いに絶縁されている。図２では、一番面
積の広い中央部を作用極Ｗとし、残りの２つを対極Ｃ、
参照極Ｒとしている。
【０００９】図３にガス拡散膜３上の電極の仕様を示
す。電解液として硫酸水溶液（１Ｍ〜８Ｍ）を使用し、
電極材料として作用極ＷにＡｕまたはＡｕ含有Ｐｔ、参
照極ＲにＰｔ、対極ＣにＰｔ、Ａｕ、Ｃなどを使用する
（後ほど、図８、図９で説明する）。作用極Ｗは、図１
に示すように組み立て時に、または、シート４に電解液
として、１００ｐｐｍ以上のＨＣｌガスにセンサを暴露
する。電解液中Ｃｌ−イオン１００ｍＭ以上の２００μ
リットル程度を含ませて、図６に示す定電位電解装置又
は電位規制装置（ポテンショスタット）の回路を用い、
作用極Ｗと参照極Ｒ間に一定の直流電圧を、加電圧部２
３により印加し、記録計１８の回路に電量計（クーロメ
ータ）又は電流計と時計とを備えて、作用極Ｗと対極Ｃ
間に０．０２〜０．６クーロンの電量を流し、アノード
電解処理が施される。この作業は組み立て後、最初一回
行うことでよい。そして、動作時の作用極Ｗと参照極Ｒ
の印加電圧は、直流５０〜５００ｍＶとする。その動作
範囲での最適電圧は１５０〜４５０ｍＶである。（後ほ
ど、図１２で説明する。） また、作用極Ｗと対極Ｃ間は、対極Ｃで析出するＡｕが
作用極Ｗの方向に成長するため、電極ショートを防止す
るために、図３に示すように、１ｍｍ以上間隔をあけて
形成されている。
す。電解液として硫酸水溶液（１Ｍ〜８Ｍ）を使用し、
電極材料として作用極ＷにＡｕまたはＡｕ含有Ｐｔ、参
照極ＲにＰｔ、対極ＣにＰｔ、Ａｕ、Ｃなどを使用する
（後ほど、図８、図９で説明する）。作用極Ｗは、図１
に示すように組み立て時に、または、シート４に電解液
として、１００ｐｐｍ以上のＨＣｌガスにセンサを暴露
する。電解液中Ｃｌ−イオン１００ｍＭ以上の２００μ
リットル程度を含ませて、図６に示す定電位電解装置又
は電位規制装置（ポテンショスタット）の回路を用い、
作用極Ｗと参照極Ｒ間に一定の直流電圧を、加電圧部２
３により印加し、記録計１８の回路に電量計（クーロメ
ータ）又は電流計と時計とを備えて、作用極Ｗと対極Ｃ
間に０．０２〜０．６クーロンの電量を流し、アノード
電解処理が施される。この作業は組み立て後、最初一回
行うことでよい。そして、動作時の作用極Ｗと参照極Ｒ
の印加電圧は、直流５０〜５００ｍＶとする。その動作
範囲での最適電圧は１５０〜４５０ｍＶである。（後ほ
ど、図１２で説明する。） また、作用極Ｗと対極Ｃ間は、対極Ｃで析出するＡｕが
作用極Ｗの方向に成長するため、電極ショートを防止す
るために、図３に示すように、１ｍｍ以上間隔をあけて
形成されている。
【００１０】そして、ガス拡散膜３の各電極の上に厚さ
が０．６８ｍｍのガラス繊維ろ紙からなるシート（電解
液保持シート部材）４が設置され、シート４には電解液
として前記の硫酸水溶液（１Ｍ〜８Ｍ程度）が２００μ
リットル含まれている。シート４の外周部には、作用極
Ｗ、対極Ｃ、参照極Ｒ用のリード線５ｗ、５ｃ、５ｒに
対応する位置に、リード配線を通すための窪みがそれぞ
れ形成されている。パッキン２、ガス拡散膜３、および
シート４をカバー１の底部に押さえつけて固定するパイ
プ組立品５が備えられている。シート４の電極に対応す
る窪み位置には例えばＰｔ線からなるリード線５ｗ、５
ｃ、５ｒが設置されており、パイプ組立品５の側壁の底
部と電極との間にはさみ込まれて、各極と電気的に接続
されている。パイプ組立品５の内部にはシート４のずれ
を防止するために、例えばポリエチレンなどの疎水性ス
ポンジからなるブッシング９が挿入されている。パイプ
組立品５の上部開口部は、貫通穴からなる圧力調節孔６
ａをもち絶縁性材料から形成されたボス６により閉じら
れている。圧力調節孔６ａからの液漏れを防止するため
に、ブッシング９とボス６との間には、液漏れ防止用に
ガス拡散膜２０と同様のガス拡散膜３ａが配置されてお
り、パイプ組立品５とボス６にはさみ込まれて固定され
ている。
が０．６８ｍｍのガラス繊維ろ紙からなるシート（電解
液保持シート部材）４が設置され、シート４には電解液
として前記の硫酸水溶液（１Ｍ〜８Ｍ程度）が２００μ
リットル含まれている。シート４の外周部には、作用極
Ｗ、対極Ｃ、参照極Ｒ用のリード線５ｗ、５ｃ、５ｒに
対応する位置に、リード配線を通すための窪みがそれぞ
れ形成されている。パッキン２、ガス拡散膜３、および
シート４をカバー１の底部に押さえつけて固定するパイ
プ組立品５が備えられている。シート４の電極に対応す
る窪み位置には例えばＰｔ線からなるリード線５ｗ、５
ｃ、５ｒが設置されており、パイプ組立品５の側壁の底
部と電極との間にはさみ込まれて、各極と電気的に接続
されている。パイプ組立品５の内部にはシート４のずれ
を防止するために、例えばポリエチレンなどの疎水性ス
ポンジからなるブッシング９が挿入されている。パイプ
組立品５の上部開口部は、貫通穴からなる圧力調節孔６
ａをもち絶縁性材料から形成されたボス６により閉じら
れている。圧力調節孔６ａからの液漏れを防止するため
に、ブッシング９とボス６との間には、液漏れ防止用に
ガス拡散膜２０と同様のガス拡散膜３ａが配置されてお
り、パイプ組立品５とボス６にはさみ込まれて固定され
ている。
【００１１】次に、本ＨＣＬガスセンサを動作させる電
気回路（ポテンショスタット１７）について、図４を参
照しながら説明する。電解分析法として、定電流電解法
と定電位電解法があり、ここでの本センサは定電位電解
法を用いたもので、加電圧部２３の直流電圧が抵抗Ｒと
差動増幅器２２を介して、作用極Ｗと参照極Ｒとの間に
一定の電圧が印加されている。その電圧値は抵抗Ｒで調
整され、目的とする物質が電解生成される作用極Ｗの電
位を、電解中常に一定に保つことができる最適電圧に設
定される。そして記録計１８に電量計（クーロメータ）
又は電流計を用いて、電気分解によって作用極Ｗで反応
した物質の定量は、作用極Ｗと対極Ｃとの間に流れる電
荷量、または、電流を電流検出増幅器２４を介して測定
することによって行われる。
気回路（ポテンショスタット１７）について、図４を参
照しながら説明する。電解分析法として、定電流電解法
と定電位電解法があり、ここでの本センサは定電位電解
法を用いたもので、加電圧部２３の直流電圧が抵抗Ｒと
差動増幅器２２を介して、作用極Ｗと参照極Ｒとの間に
一定の電圧が印加されている。その電圧値は抵抗Ｒで調
整され、目的とする物質が電解生成される作用極Ｗの電
位を、電解中常に一定に保つことができる最適電圧に設
定される。そして記録計１８に電量計（クーロメータ）
又は電流計を用いて、電気分解によって作用極Ｗで反応
した物質の定量は、作用極Ｗと対極Ｃとの間に流れる電
荷量、または、電流を電流検出増幅器２４を介して測定
することによって行われる。
【００１２】次に、センサの評価について説明する。図
５に、本ＨＣＬガスセンサを試験するのに使用した、セ
ンサ繰り返し試験システムを示す。まず、上記電極仕様
のＨＣＬガスセンサの圧力調整孔６ａの下部に使われて
いるガス拡散膜３ａを取り除き、図６に示すようにホル
ダ２１にセットする。ホルダ２１はシリコンゴム製のホ
ルダーで作られており、下部にテストガスを導入、排出
するパイプが設けられている。そして、ホルダー２１に
セットされたＨＣＬガスセンサー１５を判別器２５の試
験台にセットする。そして、加湿ビン１２に圧縮空気
（０．４ｋｇ／ｃｍ２、５９秒）を送り、加湿ビン１２
内の６Ｍ硫酸溶液を、５段分割器１１、電磁弁１３、１
３ｂを経由して、ＨＣＬガスセンサ１５の圧力調整孔６
ａから内部に送り込む。そして、ポテンショスタット１
７で電極にセンサ設定電圧として、直流３５０ｍＶを印
加する。次に、標準ガスＨＣｌ（０．５ｋｇ／ｃｍ２、
１秒）を、５段分割器１０、電磁弁１３、１３ｃを経由
してホルダー２１の下部に設けられたガス導入管からセ
ンサ１５に送りこむ。操作の制御はコントローラ１４で
行い、データを記録計１８で記録する。そしてＨＣｌ試
験液はポンプ１６で引かれ排気用洗浄ビン１９に貯めら
れる。図７に、本ＨＣＬガスセンサを、図５に示すくり
返し試験システムを用いて、測定した結果を示す。ポテ
ンショスタット１７で作用極Ｗと参照極Ｒ間の電位を３
５０ｍＶに設定して、試験ガスとして、ＨＣｌの１１０
ｐｐｍガスを用い、圧縮空気（ボンベ）０．５ｋｇ／ｃ
ｍ２圧で、５段分割器１０、電磁弁１３、１３ｃを経由
して、センサ１５のホルダ２１のガス導入管に、ＨＣｌ
を導入し、７秒後の出力（作用極Ｗと対極Ｃ間を流れる
電流値）を、室温にて記録計１８でプロットした結果を
示す。図７に示すように、くり返し試験回数を８０００
回以上行い、その出力（電流値）は、３５〜５５μＡの
安定した出力が得られた。
５に、本ＨＣＬガスセンサを試験するのに使用した、セ
ンサ繰り返し試験システムを示す。まず、上記電極仕様
のＨＣＬガスセンサの圧力調整孔６ａの下部に使われて
いるガス拡散膜３ａを取り除き、図６に示すようにホル
ダ２１にセットする。ホルダ２１はシリコンゴム製のホ
ルダーで作られており、下部にテストガスを導入、排出
するパイプが設けられている。そして、ホルダー２１に
セットされたＨＣＬガスセンサー１５を判別器２５の試
験台にセットする。そして、加湿ビン１２に圧縮空気
（０．４ｋｇ／ｃｍ２、５９秒）を送り、加湿ビン１２
内の６Ｍ硫酸溶液を、５段分割器１１、電磁弁１３、１
３ｂを経由して、ＨＣＬガスセンサ１５の圧力調整孔６
ａから内部に送り込む。そして、ポテンショスタット１
７で電極にセンサ設定電圧として、直流３５０ｍＶを印
加する。次に、標準ガスＨＣｌ（０．５ｋｇ／ｃｍ２、
１秒）を、５段分割器１０、電磁弁１３、１３ｃを経由
してホルダー２１の下部に設けられたガス導入管からセ
ンサ１５に送りこむ。操作の制御はコントローラ１４で
行い、データを記録計１８で記録する。そしてＨＣｌ試
験液はポンプ１６で引かれ排気用洗浄ビン１９に貯めら
れる。図７に、本ＨＣＬガスセンサを、図５に示すくり
返し試験システムを用いて、測定した結果を示す。ポテ
ンショスタット１７で作用極Ｗと参照極Ｒ間の電位を３
５０ｍＶに設定して、試験ガスとして、ＨＣｌの１１０
ｐｐｍガスを用い、圧縮空気（ボンベ）０．５ｋｇ／ｃ
ｍ２圧で、５段分割器１０、電磁弁１３、１３ｃを経由
して、センサ１５のホルダ２１のガス導入管に、ＨＣｌ
を導入し、７秒後の出力（作用極Ｗと対極Ｃ間を流れる
電流値）を、室温にて記録計１８でプロットした結果を
示す。図７に示すように、くり返し試験回数を８０００
回以上行い、その出力（電流値）は、３５〜５５μＡの
安定した出力が得られた。
【００１３】次に電極材料の試験結果を説明する。図８
に、ＨＣｌ濃度と電位（参照極Ｒと作用極Ｗ間の電位）
の関係を示す。また、図９に、塩化金酸濃度と電位（参
照極Ｒと作用極Ｗ間の電位）の関係を示す。ここでは参
照極ＲにＡｕ含有Ｐｔ（Ｐｔ／Ａｕ）、Ａｕ、Ｐｔの３
種類の電極を用いた場合について試験した。黒丸印を結
んだ曲線は、ＰＴＦＥ膜上に１０００Åの厚みを有する
Ａｕをスパッタリングし、その上に１０００Åの厚みの
Ｐｔをスパッタリングした電極Ｐｔ／Ａｕを示す。白丸
印を結んだ曲線は、ＰＴＦＥ膜上に１０００Åの厚みを
有するＡｕのみをスパッタリングした電極Ａｕを示す。
三角印を結んだ曲線は、ＰＴＦＥ膜上に１０００Åの厚
みを有するＰｔのみをスパッタリングした電極Ｐｔを示
す。縦軸は、塩化カリウムの飽和水溶液中のＡｇ／Ａｇ
Ｃｌに対する電位をｍＶで示す。図８において、黒丸印
を結んだ曲線（Ｐｔ／Ａｕ）では、電位が、初期に５７
０ｍＶぐらいから急激に低下して４７０ｍＶ程度までに
下がり、それからＨＣｌ濃度が濃くなっても、ほとんど
一定である。また、白丸印を結んだ曲線（Ａｕ）では、
初期値５６０ｍＶから緩やかに低下し、それからＨＣｌ
濃度が濃くなっても、ほとんど４７０ｍＶで一定であ
る。これに比べて、三角印を結んだ曲線（Ｐｔ）では、
初期値６９０ｍＶから非常になだらかに僅かしか低下せ
ず、ＨＣＬ濃度が濃くなっても６６０ｍＶにとどまり、
電位変動が少なく一定である。また、図９において、黒
丸印を結んだ曲線（Ｐｔ／Ａｕ）と白丸印を結んだ曲線
（Ａｕ）では、電位の初期値５５０ｍＶから、塩化金酸
濃度の増加に応じて急激に上昇し、その後は８５０ｍＶ
で一定になる。これに比べて、三角印を結んだ曲線（Ｐ
ｔ）では、電位が初期値６８０ｍＶから緩やかに上昇
し、７８０ｍＶ程度でその電位変動が少なく一定とな
る。上記の結果から、参照極ＲにＡｕ含有Ｐｔ（電極Ｐ
ｔ／Ａｕ）または電極Ａｕを使用した場合、ＨＣｌ、塩
化金酸による電位変動が大きいが、Ｐｔを使用すると小
さくなることが分かる。このことから参照極Ｒの電極材
料はＰｔが良いことが分かる。
に、ＨＣｌ濃度と電位（参照極Ｒと作用極Ｗ間の電位）
の関係を示す。また、図９に、塩化金酸濃度と電位（参
照極Ｒと作用極Ｗ間の電位）の関係を示す。ここでは参
照極ＲにＡｕ含有Ｐｔ（Ｐｔ／Ａｕ）、Ａｕ、Ｐｔの３
種類の電極を用いた場合について試験した。黒丸印を結
んだ曲線は、ＰＴＦＥ膜上に１０００Åの厚みを有する
Ａｕをスパッタリングし、その上に１０００Åの厚みの
Ｐｔをスパッタリングした電極Ｐｔ／Ａｕを示す。白丸
印を結んだ曲線は、ＰＴＦＥ膜上に１０００Åの厚みを
有するＡｕのみをスパッタリングした電極Ａｕを示す。
三角印を結んだ曲線は、ＰＴＦＥ膜上に１０００Åの厚
みを有するＰｔのみをスパッタリングした電極Ｐｔを示
す。縦軸は、塩化カリウムの飽和水溶液中のＡｇ／Ａｇ
Ｃｌに対する電位をｍＶで示す。図８において、黒丸印
を結んだ曲線（Ｐｔ／Ａｕ）では、電位が、初期に５７
０ｍＶぐらいから急激に低下して４７０ｍＶ程度までに
下がり、それからＨＣｌ濃度が濃くなっても、ほとんど
一定である。また、白丸印を結んだ曲線（Ａｕ）では、
初期値５６０ｍＶから緩やかに低下し、それからＨＣｌ
濃度が濃くなっても、ほとんど４７０ｍＶで一定であ
る。これに比べて、三角印を結んだ曲線（Ｐｔ）では、
初期値６９０ｍＶから非常になだらかに僅かしか低下せ
ず、ＨＣＬ濃度が濃くなっても６６０ｍＶにとどまり、
電位変動が少なく一定である。また、図９において、黒
丸印を結んだ曲線（Ｐｔ／Ａｕ）と白丸印を結んだ曲線
（Ａｕ）では、電位の初期値５５０ｍＶから、塩化金酸
濃度の増加に応じて急激に上昇し、その後は８５０ｍＶ
で一定になる。これに比べて、三角印を結んだ曲線（Ｐ
ｔ）では、電位が初期値６８０ｍＶから緩やかに上昇
し、７８０ｍＶ程度でその電位変動が少なく一定とな
る。上記の結果から、参照極ＲにＡｕ含有Ｐｔ（電極Ｐ
ｔ／Ａｕ）または電極Ａｕを使用した場合、ＨＣｌ、塩
化金酸による電位変動が大きいが、Ｐｔを使用すると小
さくなることが分かる。このことから参照極Ｒの電極材
料はＰｔが良いことが分かる。
【００１４】次に、アノード電解処理をした場合と、し
ない場合の初期感度について説明する。ここで言う初期
感度とは、長期的な連続くり返し試験時にセンサの感度
が変化していく可能性があるため、図５のセンサ繰り返
し試験システムを用いて、ＨＣｌガスのショット回数が
５０回程度までの感度の変化を調べたものである。図１
０にアノード電解処理をしないＨＣＬガスセンサの初期
感度を示す（作用極ＷにＡｕ電極、参照極ＲにＰｔ電極
使用）。図１１にアノード電解処理を施したＨＣＬガス
センサの初期感度を示す（作用極ＷにＡｕ電極、参照極
ＲにＰｔ電極、塩化金酸濃度１ｍＭ）。図１０に示すよ
うに、アノード電解処理を施さないＨＣＬガスセンサの
初期感度は、最初の２０回までのＨＣｌショットでは感
度に変化はないが、それ以上になると、徐々に増加して
大幅に上昇する傾向がある。これは反応の進行により、
電解液内に生成物の塩化金酸が蓄積し、参照極Ｒの電位
が変化するためである。それに比べて、ＨＣｌ存在下で
事前にアノード電解処理したＨＣＬガスセンサは、図１
１に示すように、最初の数回のＨＣｌショットである感
度に達し、それからは一定の感度を示し、安定した状態
になる。この結果から分かるように、ＨＣＬガスセンサ
の作用極Ｗを最初に１回アノード電解処理をすれば、安
定して使用することができる。
ない場合の初期感度について説明する。ここで言う初期
感度とは、長期的な連続くり返し試験時にセンサの感度
が変化していく可能性があるため、図５のセンサ繰り返
し試験システムを用いて、ＨＣｌガスのショット回数が
５０回程度までの感度の変化を調べたものである。図１
０にアノード電解処理をしないＨＣＬガスセンサの初期
感度を示す（作用極ＷにＡｕ電極、参照極ＲにＰｔ電極
使用）。図１１にアノード電解処理を施したＨＣＬガス
センサの初期感度を示す（作用極ＷにＡｕ電極、参照極
ＲにＰｔ電極、塩化金酸濃度１ｍＭ）。図１０に示すよ
うに、アノード電解処理を施さないＨＣＬガスセンサの
初期感度は、最初の２０回までのＨＣｌショットでは感
度に変化はないが、それ以上になると、徐々に増加して
大幅に上昇する傾向がある。これは反応の進行により、
電解液内に生成物の塩化金酸が蓄積し、参照極Ｒの電位
が変化するためである。それに比べて、ＨＣｌ存在下で
事前にアノード電解処理したＨＣＬガスセンサは、図１
１に示すように、最初の数回のＨＣｌショットである感
度に達し、それからは一定の感度を示し、安定した状態
になる。この結果から分かるように、ＨＣＬガスセンサ
の作用極Ｗを最初に１回アノード電解処理をすれば、安
定して使用することができる。
【００１５】次に、センサ出力が、作用極Ｗと参照極Ｒ
間の電位に対して、どのような依存性があるか図１２を
参照しながら説明する。測定回路は、図４に示す定電位
電解装置又は電位規制装置（ポテンショスタット１７）
の回路を用いて行った。図１２は、作用極Ｗと参照極Ｒ
間の電位を０〜５００ｍＶまで変化させ横軸にとり、セ
ンサ出力電流値を縦軸にプロットした図を示す。白丸印
を結んだ曲線は、参照極ＲがＰｔで、硫酸溶液中の塩化
金酸濃度が１ｍＭの場合を示す。黒丸印を結んだ曲線
は、同じく参照極ＲがＰｔで、硫酸溶液中の塩化金酸濃
度が１０ｍＭの場合を示す。これによると、白丸印を結
んだ曲線（塩化金酸濃度１ｍＭ）は、作用極Ｗと参照極
Ｒ間の電位が、５０ｍＶ〜５００ｍＶでその出力電流値
は２５０から６００μＡであり、黒丸印を結んだ曲線
（塩化金酸濃度１ｍＭ）は、５０ｍＶ〜５００ｍＶでそ
の出力電流値は１５０から５００μＡである。そして、
アノード電解処理条件による塩化金酸濃度が高いと、出
力電流値は低い値となるが、電位の依存性は同じ傾向で
ある。この両特性から作用極Ｗと参照極Ｒ間の電位が、
５０ｍＶ〜５００ｍＶ、好ましくは１５０ｍＶ〜４５０
ｍＶの設定で安定した出力が得られることが確認でき
た。
間の電位に対して、どのような依存性があるか図１２を
参照しながら説明する。測定回路は、図４に示す定電位
電解装置又は電位規制装置（ポテンショスタット１７）
の回路を用いて行った。図１２は、作用極Ｗと参照極Ｒ
間の電位を０〜５００ｍＶまで変化させ横軸にとり、セ
ンサ出力電流値を縦軸にプロットした図を示す。白丸印
を結んだ曲線は、参照極ＲがＰｔで、硫酸溶液中の塩化
金酸濃度が１ｍＭの場合を示す。黒丸印を結んだ曲線
は、同じく参照極ＲがＰｔで、硫酸溶液中の塩化金酸濃
度が１０ｍＭの場合を示す。これによると、白丸印を結
んだ曲線（塩化金酸濃度１ｍＭ）は、作用極Ｗと参照極
Ｒ間の電位が、５０ｍＶ〜５００ｍＶでその出力電流値
は２５０から６００μＡであり、黒丸印を結んだ曲線
（塩化金酸濃度１ｍＭ）は、５０ｍＶ〜５００ｍＶでそ
の出力電流値は１５０から５００μＡである。そして、
アノード電解処理条件による塩化金酸濃度が高いと、出
力電流値は低い値となるが、電位の依存性は同じ傾向で
ある。この両特性から作用極Ｗと参照極Ｒ間の電位が、
５０ｍＶ〜５００ｍＶ、好ましくは１５０ｍＶ〜４５０
ｍＶの設定で安定した出力が得られることが確認でき
た。
【００１６】実施例では作用極Ｗを中央にして縦に配置
した電極で説明したが、これに限定することはなく、図
１３に示すような各種電極パターンの配置（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）でも同様の効果がある。
した電極で説明したが、これに限定することはなく、図
１３に示すような各種電極パターンの配置（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）でも同様の効果がある。
【００１７】
【発明の効果】本発明のＨＣＬガスセンサは上記のよう
に構成されており、電極の材料として参照極にＰｔ、作
用極にＡｕまたはＡｕ含有Ｐｔを使用し、センサーを組
み立て後、一回作用極がアノード電解処理されるので、
参照極の電位が安定する。さらに、参照極にＰｔを用い
ているので、ＨＣｌ濃度の影響を受けにくい。このため
出力がより安定する。そして、作用極と参照極との間に
印加する電圧を直流の５０〜５００ｍＶ、好ましくは１
５０〜４５０ｍＶに設定することで、安定した出力が得
られる。さらに、作用極と対極間を、１ｍｍ以上間隔を
あけて電極形成がされているので、対極で析出するＡｕ
が作用極の方向に成長しても、電極のショートが生じな
い。さらに、小型で構成部品が少なく、出力の安定した
ＨＣＬセンサを製作することができる。
に構成されており、電極の材料として参照極にＰｔ、作
用極にＡｕまたはＡｕ含有Ｐｔを使用し、センサーを組
み立て後、一回作用極がアノード電解処理されるので、
参照極の電位が安定する。さらに、参照極にＰｔを用い
ているので、ＨＣｌ濃度の影響を受けにくい。このため
出力がより安定する。そして、作用極と参照極との間に
印加する電圧を直流の５０〜５００ｍＶ、好ましくは１
５０〜４５０ｍＶに設定することで、安定した出力が得
られる。さらに、作用極と対極間を、１ｍｍ以上間隔を
あけて電極形成がされているので、対極で析出するＡｕ
が作用極の方向に成長しても、電極のショートが生じな
い。さらに、小型で構成部品が少なく、出力の安定した
ＨＣＬセンサを製作することができる。
【図１】 本発明のＨＣＬガスセンサの一実施例を示す
図である。
図である。
【図２】 本発明のＨＣＬガスセンサの部品展開を示す
図である。
図である。
【図３】 本発明のＨＣＬガスセンサの電極膜を示す図
である。
である。
【図４】 本発明のＨＣＬガスセンサを機能させるため
の電気回路を示す図である。
の電気回路を示す図である。
【図５】 本発明のＨＣＬガスセンサをテストするため
のくり返し試験システムを示す図である。
のくり返し試験システムを示す図である。
【図６】 本発明のＨＣＬガスセンサをテスト用のホル
ダーにセットした状態を示す図である。
ダーにセットした状態を示す図である。
【図７】 本発明のＨＣＬガスセンサのくり返し試験の
結果を示す図である。
結果を示す図である。
【図８】 本発明のＨＣＬガスセンサのＨＣＬ濃度と電
位の関係を示す図である。
位の関係を示す図である。
【図９】 本発明のＨＣＬガスセンサの塩化金酸濃度と
電位の関係を示す図である。
電位の関係を示す図である。
【図１０】本発明のＨＣＬガスセンサのアノード電解前
の初期感度を示す図である。
の初期感度を示す図である。
【図１１】本発明のＨＣＬガスセンサのアノード電解後
の初期感度を示す図である。
の初期感度を示す図である。
【図１２】本発明のＨＣＬガスセンサ出力の電位特性を
示す図である。
示す図である。
【図１３】本発明のＨＣＬガスセンサの電極パターンを
示す図である。
示す図である。
【図１４】従来のＨＣＬガスセンサの部品展開をした構
造を示す図である。
造を示す図である。
１…カバー １ａ…金網 ２…パッキン ３…電極膜 ３ａ…ガス拡散膜 ４…シート ５…パイプ組立品 ５ｃ…リード線 ５ｒ…リード線 ５ｗ…リード線 ６…ボス ６ａ…圧力調節孔 ９…ブッシング １０…５段分割器 １１…５段分割器 １２…加湿ビン １３…電磁弁 １４…コントロー
ラ １５…センサ １６…ポンプ １７…ポテンショスタット １８…記録計 １９…排気用洗浄ビン ２０…ガス拡散膜 ２１…ホルダー ２２…差動増幅器 ２３…加電圧部 ２４…電流検出増
幅部 ２５…判別器 Ｗ…作用極 Ｒ…参照極 Ｃ…対極
ラ １５…センサ １６…ポンプ １７…ポテンショスタット １８…記録計 １９…排気用洗浄ビン ２０…ガス拡散膜 ２１…ホルダー ２２…差動増幅器 ２３…加電圧部 ２４…電流検出増
幅部 ２５…判別器 Ｗ…作用極 Ｒ…参照極 Ｃ…対極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 九山 浩樹 京都市中京区西ノ京桑原町１番地 株式会 社島津製作所内 (72)発明者 中西 博昭 京都市中京区西ノ京桑原町１番地 株式会 社島津製作所内
Claims (4)
- 【請求項１】電解液と被検ガスとの接触面にガス透過性
隔膜が設けられ、前記ガス透過性隔膜より電解液側に作
用極、対極及び参照極が配置され、作用極の電位が一定
に保たれ、対極と作用極間の電流により被検ガス中の特
定成分の濃度が検出される定電位電解式ガスセンサにお
いて、前記ガス透過性隔膜の電解液側の面上に電極の材
料として作用極にＡｕまたはＡｕ含有Ｐｔ、対極にＰｔ
またはＡｕまたはカーボンＳＵＳなどの金属、参照極に
Ｐｔを用いて互いに電気的に絶縁されて形成された電極
を備えたことを特徴とするＨＣＬガスセンサ。 - 【請求項２】電解液と被検ガスとの接触面にガス透過性
隔膜が設けられ、前記ガス透過性隔膜より電解液側に作
用極、対極及び参照極が配置され、作用極の電位が一定
に保たれ、対極と作用極間の電流により被検ガス中の特
定成分の濃度が検出される定電位電解式ガスセンサにお
いて、前記作用極が使用前にＨＣｌガス１００ｐｐｍ以
上の雰囲気中またはマイナス塩素イオン１００ｍＭ以上
の電解液中で０．０２から０．６クーロンでアノード電
解処理されることを特徴とするＨＣＬガスセンサ。 - 【請求項３】電解液と被検ガスとの接触面にガス透過性
隔膜が設けられ、前記ガス透過性隔膜より電解液側に作
用極、対極及び参照極が配置され、作用極の電位が一定
に保たれ、対極と作用極間の電流により被検ガス中の特
定成分の濃度が検出される定電位電解式ガスセンサにお
いて、前記作用極に印加される電圧が５０ｍＶから５０
０ｍＶの間であることを特徴とするＨＣＬガスセンサ。 - 【請求項４】電解液と被検ガスとの接触面にガス透過性
隔膜が設けられ、前記ガス透過性隔膜より電解液側に作
用極、対極及び参照極が配置され、作用極の電位が一定
に保たれ、対極と作用極間の電流により被検ガス中の特
定成分の濃度が検出される定電位電解式ガスセンサにお
いて、前記作用極と対極間の電極間距離が１ｍｍ以上離
れていることを特徴とするＨＣＬガスセンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11236125A JP2001059831A (ja) | 1999-08-23 | 1999-08-23 | Ｈｃｌガスセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11236125A JP2001059831A (ja) | 1999-08-23 | 1999-08-23 | Ｈｃｌガスセンサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001059831A true JP2001059831A (ja) | 2001-03-06 |
Family
ID=16996133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11236125A Pending JP2001059831A (ja) | 1999-08-23 | 1999-08-23 | Ｈｃｌガスセンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001059831A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101729937B1 (ko) | 2016-03-04 | 2017-05-04 | 에프에스엠테크(주) | 반도체식 염화수소 가스 센서 및 이의 제조방법. |
-
1999
- 1999-08-23 JP JP11236125A patent/JP2001059831A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101729937B1 (ko) | 2016-03-04 | 2017-05-04 | 에프에스엠테크(주) | 반도체식 염화수소 가스 센서 및 이의 제조방법. |
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