JP2001052633A - Flat-plate display device with high aspect ratio spacer and manufacture of display device - Google Patents

Flat-plate display device with high aspect ratio spacer and manufacture of display device

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JP2001052633A
JP2001052633A JP11225186A JP22518699A JP2001052633A JP 2001052633 A JP2001052633 A JP 2001052633A JP 11225186 A JP11225186 A JP 11225186A JP 22518699 A JP22518699 A JP 22518699A JP 2001052633 A JP2001052633 A JP 2001052633A
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JP
Japan
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photosensitive material
support
spacer
flat panel
display
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JP11225186A
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Japanese (ja)
Inventor
Zairetsu Go
在 烈 呉
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KOTO GIJUTSU KENKYUIN KENKYU K
KOTO GIJUTSU KENKYUIN KENKYU KUMIAI
Original Assignee
KOTO GIJUTSU KENKYUIN KENKYU K
KOTO GIJUTSU KENKYUIN KENKYU KUMIAI
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flat plate type display device including spacers having a high aspect ratio equipped with supporting walls and legs integrally formed through photo-exposure of a photosensititive substance and an etching process. SOLUTION: This flat plate type display device comprises an emitter part 15 including a lower base board 12 whereon a cathode electrode 14 and gate electrode 18 are formed, a display part 20 including an upper base board 22 whereon an electrode as transparent anode 24 coated with a fluorescent substance is formed, supporting walls 32a having a high aspect ratio provided for keeping the specified spacing between the emitter part 15 and display part 20, a plurality of spacers 32 having at least one supporting leg 32b protruding to the left and right orthogonal to the supporting walls 32a for supporting the walls 32a, and a sealing member 54 for vacuum sealing the peripheral zone of the emitter part 15 and display part 20.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平板表示装置及びそ
の製造方法に関するものであり、より詳細には上部基板
と下部基板との間の間隔を維持するために改善された構
造を有する高縦横比スペーサを含む電界放出表示装置
(Field Emission Display:F
ED)及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel display and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a high aspect ratio having an improved structure for maintaining a space between an upper substrate and a lower substrate. Field Emission Display (F) including a spacer
ED) and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近に表示装置の大型化及び高解像度の
趨勢により普遍的な表示装置であるCRT(Catho
de Ray Tube)からLCD(Liquid
Crystal Display)、ELD(Elec
tro Luminescent Display)、
PDP(Plasma Display Pane
l)、またはVFD(Vacuum Fluoresc
ent Display)などのような新しい平板表示
装置に対する研究開発が活発になされている。
2. Description of the Related Art Recently, a CRT (Cathode), which is a universal display device, has been developed due to an increase in the size of a display device and a trend of high resolution.
de Ray Tube) to LCD (Liquid)
Crystal Display), ELD (Elect
tro Luminescent Display),
PDP (Plasma Display Panel)
l) or VFD (Vacuum Fluoresc)
Research and development of a new flat panel display such as an ent display has been actively conducted.

【0003】しかし、前述した平板表示装置はそれぞれ
長・短所同時に有しているが、新しい平板表示装置のう
ち一つであるFEDは前述した別の平板表示装置の短所
をほとんど同時に解決できるものとして期待されてい
る。
[0003] However, the flat panel display described above has both advantages and disadvantages at the same time, but the FED, which is one of the new flat panel displays, can solve the disadvantages of another flat panel display described above almost simultaneously. Expected.

【0004】前記FEDはその内部電極の構造が簡単
で、冷陰極方式で電力消耗が小さい長所がある。また、
FEDは内部支持台を使用することにより大画面化に有
利で高速動作、マルチプレックスアドレシング、高解像
度、光視野角、高光度、完全な色遂行能力などの長所を
有する。
The FED has the advantage that the structure of the internal electrodes is simple, and the power consumption is small due to the cold cathode method. Also,
The FED has advantages such as high-speed operation, multiplex addressing, high resolution, optical viewing angle, high luminous intensity, and perfect color performance by using an internal support.

【0005】前記FEDは大体に下部基板、下部基板と
向かい合うように配置された上部基板及び下部基板と上
部基板との間に設置されたスペーサを含む。前記下部基
板にはエミッタチップを有するカソード電極及びゲート
電極が形成され、前記上部基板には蛍光物質がコーティ
ングされたアノード電極が形成される。FEDにおい
て、前記上部基板と下部基板間にスペーサを介在して所
定の間隔で維持させその内部を高真空に維持する。前記
上部基板と下部基板間を高真空で維持しながら、前記カ
ソード電極とゲート電極及びアノード電極との間に強い
電界を形成させると電界放出によりエミッタチップから
電子が量子力学的にターナリング現象により放出され
る。
The FED generally includes a lower substrate, an upper substrate disposed to face the lower substrate, and a spacer disposed between the lower substrate and the upper substrate. A cathode electrode and a gate electrode having an emitter chip are formed on the lower substrate, and an anode electrode coated with a fluorescent material is formed on the upper substrate. In the FED, a spacer is interposed between the upper substrate and the lower substrate to be maintained at a predetermined interval, and the inside thereof is maintained at a high vacuum. When a strong electric field is formed between the cathode electrode, the gate electrode, and the anode electrode while maintaining a high vacuum between the upper substrate and the lower substrate, electrons are emitted from the emitter chip by quantum emission due to field emission due to field emission. Released.

【0006】従来のFEDのスペーサはスクリーンプリ
ンティング技法で一定の高さでシーラントなどを積み上
げた後、これを焼結して形成するか、予め加工されたガ
ラスボールを所定間隔で配列して形成した。また、上部
及び下部基板間にスペーサを形成するために、光繊維を
成長させたり、フォトレジスタパターンを利用して鍍金
方法で積み上げるか、基板に溝を掘って溝に差し込む
か、棒状のガラスやセラミックを立てる方式があった。
A conventional FED spacer is formed by stacking a sealant or the like at a predetermined height by a screen printing technique and then sintering the sealant or by arranging pre-processed glass balls at predetermined intervals. . In addition, in order to form a spacer between the upper and lower substrates, an optical fiber is grown, or is stacked by a plating method using a photoresistor pattern, a groove is formed in the substrate and inserted into the groove, or a rod-shaped glass or the like is used. There was a method of standing ceramic.

【0007】しかし、前記スクリーンプリンティング技
法を利用してスペーサを形成する方法において、スペー
サの高さが200μm以上になる場合、その線幅が広く
なり使用上制約多い。前記ガラスボールを使用する方法
(米国特許5,562,517号参照)においても、前
記ガラスボールはその形状比が1しかならないために使
用が困難である。また、光繊維を成長させる技法は切断
と固定が難しく、鍍金法は工程が大変複雑である。
However, in the method of forming the spacer using the screen printing technique, when the height of the spacer is 200 μm or more, the line width is widened and there are many restrictions in use. Also in the method using the glass ball (see U.S. Pat. No. 5,562,517), it is difficult to use the glass ball because its shape ratio is only one. Also, the technique of growing optical fibers is difficult to cut and fix, and the plating process is very complicated.

【0008】さらに、米国特許5,578,325号及
び米国特許5,708,325号などに開示された上部
基板または下部基板に溝を掘って一字型(bar sh
aped)ないし‘T’字形状のスペーサをたてる方法
においては、上部基板または下部基板に前記スペーサに
対応する形状を有する溝を掘ることが大変難しい。ま
た、溝を掘る方式としては電極を導出することが大変難
しい問題があり、前記溝が上部基板に形成される場合、
その表面に蛍光体をスピンコーティングすることがほと
んど不可能な難しさがある。
Further, a groove is formed in the upper substrate or the lower substrate disclosed in US Pat. No. 5,578,325 and US Pat. No. 5,708,325 to form a bar-shape.
In the method of forming a spacer having a shape of "aped" or "T", it is very difficult to dig a groove having a shape corresponding to the spacer in the upper substrate or the lower substrate. Also, as a method of digging a groove, there is a problem that it is very difficult to derive an electrode, and when the groove is formed in an upper substrate,
There is a difficulty that makes it almost impossible to spin coat the phosphor on its surface.

【0009】前記両基板間にガラス棒を立ててスペーサ
として利用する方法においては、焼結時にガラス棒がベ
ンディングされるか、ガラス棒が倒れる場合エミッタチ
ップが損傷される恐れがある。
In the method in which a glass rod is set up between the two substrates and used as a spacer, the glass rod may be bent during sintering, or the emitter chip may be damaged if the glass rod falls down.

【0010】一般的にFEDのスペーサは素子の表示領
域(active region)内に位置して両基板
を所定間隔で支持するためのものであるので、外部圧力
である大気圧を耐えられる程度の強度を有していなけれ
ばならない。また、両基板間でスペーサが占める領域を
最小化させることにより、スペーサが前記表示領域に影
響を与えることを最大限抑制させる構造が望ましい。
Generally, the spacer of the FED is located within an active region of the element and supports both substrates at a predetermined interval, and therefore has a strength enough to withstand the atmospheric pressure which is an external pressure. Must have. In addition, it is preferable that a structure that minimizes an area occupied by the spacer between the two substrates to suppress the spacer from affecting the display area is maximized.

【0011】しかし、外部圧力に耐えられるためにスペ
ーサの幅が広くなるとその分スペーサが占める領域が広
くなるために表示領域に影響を与え、これとは反対に表
示領域に及ぼす影響を最小化するために幅を減らすとス
ペーサが外部圧力に耐える強度が落ちる。特に、高電圧
用蛍光体を使用する場合にはスペーサの高さが1000
μm以上で要求されるところ、このような場合にはスペ
ーサが10以上の形状比(高さ/幅)を有しなければな
らない。
However, when the width of the spacer is increased to withstand the external pressure, the area occupied by the spacer is increased, thereby affecting the display area. On the contrary, the influence on the display area is minimized. Therefore, when the width is reduced, the strength of the spacer to withstand external pressure is reduced. In particular, when a high-voltage phosphor is used, the height of the spacer is 1000
In such a case, the spacer has to have a shape ratio (height / width) of 10 or more, which is required to be at least μm.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は以上
のような従来技術の問題点を解決するためのものであ
り、本発明の第1の目的は感光性物質の露光及び食刻工
程により一体で形成された支持壁と支持足とを具備する
高縦横比のスペーサを含む平板表示装置を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and a first object of the present invention is to provide a method for exposing and etching a photosensitive material. It is an object of the present invention to provide a flat panel display including a spacer having a high aspect ratio having a support wall and a support foot formed integrally.

【0013】本発明の第2の目的は前記高縦横比のスペ
ーサを含む平板表示装置に特に適合な平板表示装置の製
造方法を提供することにある。
It is a second object of the present invention to provide a method of manufacturing a flat panel display which is particularly suitable for a flat panel display including the high aspect ratio spacer.

【0014】本発明の第3の目的は感光性物質のティル
ト露光により高さが互いに異なる支持柱及び連結壁を具
備し、エミッタ部または表示部間の空間を通して内部真
空時円滑な排気が可能な格子状スペーサを含む平板表示
装置を提供することにある。
A third object of the present invention is to provide a support column and a connecting wall having different heights by tilt exposure of a photosensitive material, and to allow smooth exhaust in an internal vacuum through a space between an emitter unit or a display unit. An object of the present invention is to provide a flat panel display including a lattice spacer.

【0015】本発明の第4の目的は前記格子状スペーサ
を含む平板表示装置に特に適合な平板表示装置の製造方
法を提供することにある。
A fourth object of the present invention is to provide a method of manufacturing a flat panel display device which is particularly suitable for a flat panel display device including the lattice spacer.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】前述した本発明の第1の
目的を達成するために本発明は、カソード電極及びゲー
ト電極が形成された下部基板を含むエミッタ部と、蛍光
物質がコーティングされた透明アノード電極が形成され
た上部基板を含む表示部と、前記エミッタ部と表示部を
所定間隔で維持するために、高縦横比を有する支持壁
と、該支持壁を支持するために支持壁から垂直方向に左
側方向及び右側方向に突出された少なくとも一つ以上の
支持足を含む複数個のスペーサと、そして前記エミッタ
部と表示部との周辺部を真空シーリングするためのシー
リング部材を含むことを特徴とする平板表示装置を提供
する。
In order to achieve the above-mentioned first object of the present invention, the present invention provides an emitter including a lower substrate having a cathode electrode and a gate electrode formed thereon, and a phosphor material coated thereon. A display unit including an upper substrate on which a transparent anode electrode is formed, a support wall having a high aspect ratio for maintaining the emitter unit and the display unit at a predetermined interval, and a support wall for supporting the support wall. A plurality of spacers including at least one or more support feet protruding leftward and rightward in a vertical direction, and a sealing member for vacuum-sealing a periphery of the emitter and the display. Provided is a flat panel display characterized by the following.

【0017】前記スペーサは感光性物質を露光及び食刻
して形成される、前記支持壁はその断面が直四角形、六
角形または梯子形の形状を有し、前記支持足は垂直露光
による四角形の断面またはティルト露光による三角形の
断面を有する。前記支持壁の断面が梯子形である場合に
は幅が狭い上端が前記表示部に面するように配置され
る。
The spacer is formed by exposing and etching a photosensitive material. The support wall has a rectangular, hexagonal or ladder-shaped cross section, and the support foot has a rectangular shape by vertical exposure. It has a cross section or a triangular cross section by tilt exposure. When the support wall has a ladder-shaped cross section, the support wall is arranged such that the narrow upper end faces the display unit.

【0018】本発明の一実施例によると、前記スペーサ
の支持壁の長さが前記表示部の表示領域の長さより長
く、前記支持足は前記表示領域外の周辺領域に位置する
支持壁の両側部に形成され前記スペーサが前記表示領域
より長い一字の形状を有する。
According to one embodiment of the present invention, the length of the support wall of the spacer is longer than the length of the display area of the display unit, and the support feet are on both sides of the support wall located in a peripheral area outside the display area. The spacer is formed in a portion and has a one-letter shape longer than the display area.

【0019】本発明の別の実施例によると、前記スペー
サの支持壁の長さが前記表示部の表示領域の長さより短
く、前記支持足は前記表示領域外の周辺領域に位置する
支持壁の一側に形成され、前記スペーサが前記表示領域
より短い一字の形状を有する。
According to another embodiment of the present invention, the length of the support wall of the spacer is shorter than the length of the display area of the display unit, and the support foot is formed of a support wall located in a peripheral area outside the display area. The spacer is formed on one side and has a one-letter shape shorter than the display area.

【0020】本発明のまた別の実施例によると、前記ス
ペーサの支持壁の長さが前記表示部の表示領域の長さよ
り短く、複数個の支持足が前記表示領域内で前記支持壁
の全体にかけて所定間隔で突出され前記スペーサが魚の
骨の形状を有する。
According to still another embodiment of the present invention, the length of the support wall of the spacer is shorter than the length of the display area of the display unit, and a plurality of support feet are provided in the display area in the entirety of the support wall. And the spacer has a shape of a fish bone projected at a predetermined interval.

【0021】望ましくは、前記表示部またはエミッタ部
の周辺領域に、前記各スペーサを固定させるために少な
くとも一つの前記スペーサの支持壁の一側が挿入される
溝を有する複数個の固定用ジグが形成される。
Preferably, a plurality of fixing jigs having a groove into which one side of a support wall of at least one of the spacers is inserted to fix each of the spacers are formed in a peripheral region of the display unit or the emitter unit. Is done.

【0022】前記スペーサの前記支持壁は前記支持足の
高さ以上の高さを有する。
The support wall of the spacer has a height equal to or higher than the height of the support foot.

【0023】前述した本発明の第2の目的を達成するた
めに本発明は、カソード電極及びゲート電極が形成され
た下部基板を含むエミッタ部を提供する段階と、蛍光物
質がコーティングされた透明アノード電極が形成された
上部基板を含む表示部を提供する段階と、感光性物質を
露光及び食刻して、高縦横比の支持壁と、該支持壁を支
持するために前記支持壁から垂直する方向に左側方向及
び右側方向に突出された少なくとも一つ以上の支持足を
有する複数個のスペーサを形成する段階と、前記エミッ
タ部と表示部との間に前記複数のスペーサを所定の間隔
で配置する段階と、そして前記エミッタ部と表示部との
周辺部をシーリング部材でシーリングし前記エミッタ部
及び前記表示部との間を排気させ真空状態で形成する段
階を含む平板表示装置の製造方法を提供する。
In order to achieve the second object of the present invention, the present invention provides an emitter unit including a lower substrate on which a cathode electrode and a gate electrode are formed, and a transparent anode coated with a fluorescent material. Providing a display unit including an upper substrate on which electrodes are formed, exposing and etching a photosensitive material, and vertically supporting the support wall having a high aspect ratio and supporting the support wall. Forming a plurality of spacers having at least one or more support feet protruding leftward and rightward in a direction, and arranging the plurality of spacers at a predetermined interval between the emitter unit and the display unit. And a step of sealing the periphery of the emitter section and the display section with a sealing member, and evacuating between the emitter section and the display section to form a vacuum state. To provide a method of manufacturing location.

【0024】前記スペーサを形成する段階は所定の厚さ
を有する感光性物質を提供する段階と、所定の長さを有
する支持ライン及び、該支持ラインから直交する方向に
左側方向及び右側方向に延長され前記支持ラインより短
い長さを有する少なくとも一つ以上の補助ラインを具備
するパターンが形成された露光用マスクを前記感光性物
質上に配置する段階と、前記露光用マスクを通して前記
感光性物質を露光させる段階と、前記露光された感光性
物質を熱処理する段階と、そして、前記熱処理された感
光性物質の露光された領域を食刻食刻方法で除去して前
記支持ラインに沿って形成される支持壁と、前記補助ラ
インに沿って形成された前記支持足を同時に形成する段
階を具備する。
The step of forming the spacer includes providing a photosensitive material having a predetermined thickness, a support line having a predetermined length, and extending leftward and rightward in a direction perpendicular to the support line. Disposing an exposure mask on the photosensitive material on which a pattern having at least one or more auxiliary lines having a shorter length than the support line is formed, and disposing the photosensitive material through the exposure mask. Exposing, heat-treating the exposed photosensitive material, and removing the exposed area of the heat-treated photosensitive material by an etching method to form along the support line. Simultaneously forming the supporting wall and the supporting foot formed along the auxiliary line.

【0025】本発明の一実施例によると、前記感光性物
質を露光させる段階は、ティルト角θ(θ<tan(w
/2h);ここで、wは前記補助ライン幅であり、hは
前記感光性物質の厚さ)でティルト露光して遂行される
か、前記補助ラインに対して左右でティルト角θ(θ>
tan(w/2h);ここで、wは前記補助ラインの幅
であり、hは感光性物質の厚さ)でティルト露光して遂
行される。
According to one embodiment of the present invention, the step of exposing the photosensitive material includes tilting the angle θ (θ <tan (w
/ 2h); where w is the width of the auxiliary line and h is the thickness of the photosensitive material, which is performed by tilt exposure, or a tilt angle θ (θ> θ left and right with respect to the auxiliary line).
Here, tan (w / 2h); where w is the width of the auxiliary line and h is the thickness of the photosensitive material, is performed by tilt exposure.

【0026】本発明の別の実施例によると、前記感光性
物質を露光させる段階は、前記支持ラインに対して左右
でティルト角θ(θ<tan(w/2h);ここ
で、wは前記補助ラインの幅であり、hは感光性物質の
厚さ)で前記感光性物質の上面をティルト露光し、前記
補助ラインに対して左右でティルト角θ(θ>ta
n(w/2h);ここで、wは前記補助ラインの幅であ
り、hは感光性物質の厚さ)で前記感光性物質の上面を
ティルト露光して遂行される。
According to another embodiment of the present invention, the step of exposing the photosensitive material includes tilting the support line at right and left with respect to a tilt angle θ 11 <tan (w / 2h); Is the width of the auxiliary line, h is the thickness of the photosensitive material, and the upper surface of the photosensitive material is subjected to tilt exposure, and a tilt angle θ 22 > ta) on the left and right with respect to the auxiliary line.
n (w / 2h); where w is the width of the auxiliary line, and h is the thickness of the photosensitive material, and the upper surface of the photosensitive material is subjected to tilt exposure.

【0027】望ましくは前記感光性物質を露光させる段
階の後に前記露光用マスクを前記感光性物質の底面に前
記上面の露光に対応して配置する段階と、そして前記感
光性物質の底面に配置された露光用マスクを通して前記
支持ラインに対して左右でティルト角θ(θ<ta
n(w/2h):ここで、wは前記補助ラインの幅であ
り、hは感光性物質の厚さ)で前記感光性物質の底面を
ティルト露光する段階をさらに具備する。
Preferably, after the step of exposing the photosensitive material, the exposing mask is arranged on the bottom surface of the photosensitive material in correspondence with the exposure of the top surface, and the exposing mask is arranged on the bottom surface of the photosensitive material. The tilt angle θ 11 <ta) left and right with respect to the support line through the exposure mask
n (w / 2h): where w is the width of the auxiliary line and h is the thickness of the photosensitive material, and the method further includes tilt-exposing the bottom surface of the photosensitive material.

【0028】前記感光性物質としてはSiO、Li
O、Al、NaO、AgO、CeOを含む
感光性ガラスを使用し、この場合、前記感光性物質の厚
さは略0.2〜2mm程度になる。
As the photosensitive material, SiO 2 , Li 2
O, Al 2 O 3, Na 2 O, Ag 2 O, using a photosensitive glass containing CeO 2, In this case, the thickness of the photosensitive material is about approximately 0.2 to 2 mm.

【0029】望ましくは、前記表示部を提供する段階
は、前記表示部の周辺領域に挿入溝を有する複数の固定
用ジグと、前記表示部とエミッタ部とを整列するための
少なくとも一つ以上の整列用マークを同時に形成する段
階をさらに含み、前記複数のスペーサを前記固定用ジグ
の挿入溝にスペーサの一側部を挿入して固定配置して遂
行される。
Preferably, the step of providing the display unit includes a plurality of fixing jigs having an insertion groove in a peripheral region of the display unit, and at least one or more jigs for aligning the display unit and the emitter unit. The method may further include simultaneously forming an alignment mark, wherein the plurality of spacers are fixedly arranged by inserting one side of the spacer into an insertion groove of the fixing jig.

【0030】前述した本発明の第3の目的を達成するた
めに本発明は、カソード電極及びゲート電極が形成され
た下部基板を含むエミッタ部と、蛍光物質がコーティン
グされた透明アノード電極が形成された上部基板を含む
表示部と、前記表示部の表示領域内で所定間隔の横及び
縦線の交差点に位置し、高縦横比を有する複数の支持柱
と、前記横及び縦線上で一対の前記支持柱との間に形成
された連結支持壁を含む格子形スペーサと、そして前記
エミッタ部と表示部との周辺部を真空シーリングするた
めのシーリング部材を具備する平板表示装置を提供す
る。
According to another aspect of the present invention, there is provided an emitter including a lower substrate on which a cathode electrode and a gate electrode are formed, and a transparent anode electrode coated with a fluorescent material. A display unit including the upper substrate, a plurality of support columns having a high aspect ratio, located at intersections of horizontal and vertical lines at predetermined intervals in a display area of the display unit, and a pair of the support columns on the horizontal and vertical lines. Provided is a flat panel display device comprising: a grid spacer including a connection support wall formed between support columns; and a sealing member for vacuum-sealing a periphery of the emitter unit and the display unit.

【0031】前記格子型スペーサは感光性物質のティル
ト露光及び食刻工程により形成され、前記連結支持壁は
前記支持柱より低い高さを有する。
The grid-type spacer is formed by tilt exposure and etching of a photosensitive material, and the connecting support wall has a lower height than the support pillar.

【0032】さらに、前述した本発明の第4の目的を達
成するために本発明は、カソード電極及びゲート電極が
形成された下部基板を含むエミッタ部を提供する段階
と、蛍光物質がコーティングされた透明アノード電極が
形成された上部基板を含む表示部を提供する段階と、前
記表示部の表示領域内で所定間隔の横及び縦線の交差点
に位置し高縦横比を有する複数の支持柱と、前記横及び
縦線上で一対の前記支持柱との間に形成される複数個の
連結支持壁を含み、感光性物質のティルト露光及び食刻
工程により格子形スペーサを形成する段階と、前記エミ
ッタ部と表示部との間に前記格子形スペーサを固定させ
る段階と、そして前記エミッタ部と表示部との周辺部を
シーリング部材でシーリングし内部を排気させ真空状態
で形成する段階を具備する平板表示装置の製造方法を提
供する。
In order to achieve the fourth object of the present invention, the present invention provides a step of providing an emitter unit including a lower substrate on which a cathode electrode and a gate electrode are formed; Providing a display unit including an upper substrate on which a transparent anode electrode is formed; and a plurality of support columns having a high aspect ratio and located at intersections of horizontal and vertical lines at predetermined intervals in a display area of the display unit. Forming a grid-shaped spacer by tilt exposure and etching processes of a photosensitive material, comprising a plurality of connecting support walls formed between the pair of support columns on the horizontal and vertical lines; and Fixing the grid-shaped spacer between the display unit and the display unit, and sealing the periphery of the emitter unit and the display unit with a sealing member, and evacuating the inside to form a vacuum. To provide a method of manufacturing a flat panel display that.

【0033】望ましくは、前記スペーサを形成する段階
は、所定厚さの感光性物質を提供する段階と、格子形パ
ターンが形成された露光用マスクを前記感光性物質上に
配置する段階と、前記露光用マスクを通して前記感光性
物質を上面と底面でそれぞれ前後左右でティルト露光さ
せる段階と、前記露光された感光性物質を熱処理する段
階と、そして前記熱処理された感光性物質の露光された
領域を食刻工程で除去して、前記表示部の表示領域内で
所定間隔の横及び縦線の交差点に位置し高縦横比を有す
る複数の支持柱と、前記横及び縦線上で一対の支持柱と
の間に支持柱より低い高さを有する連結支持壁を同時に
形成する段階を含む。この場合、前記ティルト露光させ
る段階で、前記ティルト角θはtan(w/2h)(こ
こで、wは前記格子型パターンのライン幅であり、hは
感光性物質の厚さ)より大きくtan(w/h)より小
さい。
Preferably, the step of forming the spacer includes providing a photosensitive material having a predetermined thickness, arranging an exposure mask having a lattice pattern formed on the photosensitive material. Tilt-exposing the photosensitive material on the top and bottom surfaces through front and back and left and right through an exposure mask, heat-treating the exposed photosensitive material, and exposing the exposed region of the heat-treated photosensitive material. Removed in the etching process, a plurality of support columns having a high aspect ratio and located at the intersection of horizontal and vertical lines at a predetermined interval in the display area of the display unit, and a pair of support columns on the horizontal and vertical lines And simultaneously forming a connecting support wall having a lower height than the support post. In this case, in the step of performing the tilt exposure, the tilt angle θ is larger than tan (w / 2h) (where w is the line width of the lattice pattern and h is the thickness of the photosensitive material). w / h).

【0034】[0034]

【作用】このような構成を有する本発明によるスペーサ
は高縦横比の支持壁を有する同時に支持足を有するため
に独立的にたてることができ固定が容易で、支持壁と支
持足の高さが異なるために内部真空時円滑な排気が可能
である。
The spacer according to the present invention having such a structure has a supporting wall having a high aspect ratio and has supporting feet at the same time, so that it can be set up independently and can be easily fixed, and the height of the supporting wall and the supporting feet is high. Are different from each other, so that smooth evacuation is possible at the time of internal vacuum.

【0035】以上のような本発明の目的と別の特徴及び
長所などは次ぎに参照する本発明のいくつかの好適な実
施例に対する以下の説明から明確になるであろう。
The above objects and other features and advantages of the present invention will become apparent from the following description of some preferred embodiments of the present invention to which reference is now made.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
の好適な実施例をより詳細に説明する。図1は本発明に
よる電界放出表示装置の断面構造を示す図である。図1
において、10はエミッタ部、または放出部であり、2
0はアノード部、または表示部である。
Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a view showing a sectional structure of a field emission display according to the present invention. FIG.
In the above, reference numeral 10 denotes an emitter section or an emission section;
0 is an anode unit or a display unit.

【0037】図1を参照すると、エミッタ部10は下部
ガラス基板12、カソード電極14、絶縁層16、ゲー
ト電極18を含む。カソード電極14は下部ガラス基板
12上に形成され、絶縁層16はカソード電極14上に
形成される。絶縁層16にはエミッタチップ15が位置
するホール17が形成され、このようなホール17を通
してカソード電極14の一部が露出される。絶縁層16
のホール17部分の露出されたカソード電極14上には
エミッタチップ15が形成される。エミッタチップ15
はマイクロチップであり、望ましくは、円錐形または楔
形の形状を有する。
Referring to FIG. 1, the emitter section 10 includes a lower glass substrate 12, a cathode electrode 14, an insulating layer 16, and a gate electrode 18. The cathode electrode 14 is formed on the lower glass substrate 12, and the insulating layer 16 is formed on the cathode electrode 14. A hole 17 in which the emitter chip 15 is located is formed in the insulating layer 16, and a part of the cathode electrode 14 is exposed through the hole 17. Insulating layer 16
An emitter tip 15 is formed on the exposed cathode electrode 14 in the hole 17. Emitter tip 15
Is a microchip, preferably having a conical or wedge shape.

【0038】前記表示部20は上部透明ガラス基板2
2、アノード電極24及び蛍光物質26を含む。アノー
ド電極24及び蛍光物質26が上部ガラス基板22上に
順次に形成された後、上部ガラス基板22は下部ガラス
基板12に対抗して配置される。前記ガラス基板22は
透明で、前記アノード電極24もITO(Indium
Tin Oxide)のような透明導電体で形成され
る。
The display section 20 is composed of an upper transparent glass substrate 2
2, including an anode electrode 24 and a fluorescent material 26; After the anode electrode 24 and the fluorescent material 26 are sequentially formed on the upper glass substrate 22, the upper glass substrate 22 is arranged to face the lower glass substrate 12. The glass substrate 22 is transparent, and the anode electrode 24 is also made of ITO (Indium).
It is formed of a transparent conductor such as Tin Oxide.

【0039】前記エミッタ部10と表示部20との間に
は所定間隔を維持しなければならない。エミッタ部10
と表示部20との空間は略10−7torr程度の高真
空状態で維持される。カソード電極14とアノード電極
24とに高電圧が印加されると、エミッタチップ15と
アノード電極24との間に高電界が形成される。これに
エミッタチップ15の表面からターナリング現象により
電子が電界放出によりエミッタ部10と表示部20との
空間に放出される。放出された電子はアノード電極24
の表面に塗布された蛍光物質26に高速で衝突し、この
ときの衝突エネルギーにより蛍光物質26の衝突部分か
ら可視光線が放射される。
A predetermined distance must be maintained between the emitter section 10 and the display section 20. Emitter section 10
The space between the display and the display unit 20 is maintained in a high vacuum state of about 10 −7 torr. When a high voltage is applied to the cathode electrode 14 and the anode electrode 24, a high electric field is formed between the emitter tip 15 and the anode electrode 24. Electrons are emitted from the surface of the emitter chip 15 to the space between the emitter section 10 and the display section 20 by field emission due to the turnover phenomenon. The emitted electrons are supplied to the anode electrode 24.
At a high speed, and the collision energy at this time causes visible light to be emitted from the collision portion of the fluorescent material 26.

【0040】エミッタ部10と表示部20との空間は高
真空状態で維持され、上部及び下部基板12、22には
それぞれ外部圧力である大気圧が作用される。エミッタ
部10と表示部20との間にはこのような大気圧と内部
の気圧差による変形力を克服できるスペーサが形成され
なければならない。特に、高電圧を使用しようとする場
合にはスペーサの高さが1mm(1000μm)以上で
ありその縦横比(高さと幅の比)が10以上であること
が望ましい。本発明によると、このようなスペーサを略
1mm程度の厚さを有する感光性ガラス、または感光性
セラミックのような感光性物質を写真食刻の工程で製作
する。
The space between the emitter section 10 and the display section 20 is maintained in a high vacuum state, and the upper and lower substrates 12 and 22 are subjected to atmospheric pressure, which is an external pressure, respectively. A spacer must be formed between the emitter unit 10 and the display unit 20 to overcome the deformation force due to the difference between the atmospheric pressure and the internal pressure. In particular, when a high voltage is to be used, it is desirable that the height of the spacer is 1 mm (1000 μm) or more and the aspect ratio (ratio of height to width) is 10 or more. According to the present invention, such a spacer is made of a photosensitive material such as a photosensitive glass or a photosensitive ceramic having a thickness of about 1 mm through a photolithography process.

【0041】図2は本発明の一実施例によるフル一字形
(full−bar shape)スペーサを含む電界
放出表示装置の平面構造を示し、図3は本発明の他の実
施例によるハーフ一字形(half−bar shap
e)スペーサを含む電界放出表示装置の平面構造を示
し、図4は本発明のまた別の実施例による魚の骨形(r
ib shape)スペーサを含む電界放出表示装置の
平面構造を示す。
FIG. 2 is a plan view of a field emission display device including a full-bar shape spacer according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a half-shape of a field emission display according to another embodiment of the present invention. half-bar shape
e) shows a planar structure of a field emission display device including a spacer, and FIG. 4 shows a fish bone shape (r) according to another embodiment of the present invention.
ib shape) shows a planar structure of a field emission display including a spacer.

【0042】各々のスペーサ32、34、36は表示部
20またはエミッタ部10に対して横方向に延長された
支持壁32a、34a、36aと前記支持壁32a、3
4a、36aから垂直する方向に左右に突出された支持
足32b、34b、36bを含む。
Each of the spacers 32, 34, 36 is provided with support walls 32a, 34a, 36a extending in the lateral direction with respect to the display unit 20 or the emitter unit 10, and the support walls 32a, 3a, 3a.
Support legs 32b, 34b, 36b projecting right and left in the direction perpendicular to 4a, 36a are included.

【0043】表示部20に形成された蛍光物質26は各
画素別で独立されマトリックス状で表示領域50内に配
置される。従って、各々のスペーサ32、34、36は
図2ないし図4に示すように、表示領域50内では蛍光
物質26とはオーバーラップされないように各画素の間
に位置する。
The fluorescent substance 26 formed on the display section 20 is arranged independently in each pixel in the display area 50 in a matrix. Accordingly, as shown in FIGS. 2 to 4, the spacers 32, 34, and 36 are located between the pixels in the display area 50 so as not to overlap with the fluorescent material 26.

【0044】前記一字形スペーサ32、34の支持足3
2b、34bが形成された一側端部はそれぞれ表示領域
50とシーリング部材54との間に限定された周辺領域
52に位置する。一字形スペーサ32、34は表示部2
0上に一定ピッチ、例えば、数十mmの間隔で配列され
周辺領域52に位置した支持足32b、34bにより左
右に倒れずに容易に立てられる。前記支持足32b、3
4bにはシーラントなどのような接着剤が塗布され一字
形スペーサ32、34は表示部20上に固定される。
The support feet 3 of the one-piece spacers 32, 34
One end on which the 2b and 34b are formed is located in a peripheral area 52 defined between the display area 50 and the sealing member 54, respectively. The one-piece spacers 32 and 34 are the display unit 2
The support feet 32b, 34b arranged on the zero at a constant pitch, for example, at intervals of several tens of mm, and located in the peripheral area 52, can be easily erected without falling left and right. The support legs 32b, 3
An adhesive such as a sealant is applied to 4b, and the linear spacers 32 and 34 are fixed on the display unit 20.

【0045】前記フル一字形スペーサ32は両側端部が
表示領域50を横切って周辺領域52まで延長されなけ
ればならないためにその長さが例えば5cm以上になり
数十μmの幅に比べては大変長くて表示領域50の内で
曲げられることもあり得る。このような問題を避けるた
めにその長さを半分に減らしたハーフ一字形スペーサ3
4が望ましいこともあり得る。図3ではハーフ一字形ス
ペーサ34が同一線上に位置するが、これとは相違に互
いに交差にハーフ一字形スペーサ34を配置することも
できる。
Since the full straight spacer 32 has both side edges extending to the peripheral area 52 across the display area 50, the length thereof is, for example, 5 cm or more, which is very large compared to a width of several tens μm. It may be long and bend within the display area 50. In order to avoid such a problem, the half linear spacer 3 whose length is reduced to half.
4 may be desirable. In FIG. 3, the half-shaped spacers 34 are located on the same line, but alternatively, the half-shaped spacers 34 may be arranged to cross each other.

【0046】魚の骨形スペーサ36は表示領域50内の
画素間の領域に所定間隔で配置される。魚の骨形スペー
サ36は一字形スペーサ32、34と比較するとき、そ
の長さが短く、支持壁36a全体にかけて所定間隔で複
数の支持足36bが形成される。前記支持足36bの間
隔は画素間隔で画素間に位置することが望ましい。
The fish bone spacers 36 are arranged at predetermined intervals in an area between pixels in the display area 50. The fish bone spacer 36 has a shorter length when compared with the straight spacers 32 and 34, and a plurality of support feet 36b are formed at predetermined intervals over the entire support wall 36a. It is preferable that the distance between the support feet 36b is a pixel-to-pixel interval.

【0047】エミッタ部10と表示部20との間に配置
されるスペーサはフル一字形スペーサ32、ハーフ一字
形スペーサ34または魚の骨形スペーサ36をそれぞれ
使用するか、またはこれらの組合で構成することもでき
得る。この場合、真空排気時に表示領域50でこれらス
ペーサにより孤立され排気がされない特定領域が生じな
いように適当な間隔を維持しながら配置する。
The spacer disposed between the emitter section 10 and the display section 20 may be a full linear spacer 32, a half linear spacer 34, a fish bone spacer 36, or a combination thereof. Can also be done. In this case, the spacers are arranged while maintaining an appropriate interval so that a specific region which is isolated by these spacers and is not evacuated is not generated in the display region 50 during evacuation.

【0048】整列用マークまたはアラインキー40はエ
ミッタ部10と表示部20を組み立てることにおいて、
上部ないし下部基板22、12の厚さが1mm以上で厚
い場合に二つの基板22、12のアラインのために選択
される。
The alignment mark or align key 40 is used to assemble the emitter section 10 and the display section 20.
When the thickness of the upper or lower substrate 22 or 12 is 1 mm or more, it is selected to align the two substrates 22 and 12.

【0049】図5は本発明のまた別の実施例による固定
用ジグを有するフル一字形スペーサを含む電界放出表示
装置の平面構造を示し、図6は本発明のまた別の実施例
による固定用ジグを有するハーフ一字形スペーサを含む
電界放出表示装置の平面構造を示す。
FIG. 5 is a plan view showing a field emission display device including a full-shaped spacer having a fixing jig according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a plan view showing a fixing device according to another embodiment of the present invention. 1 shows a planar structure of a field emission display including a half-shaped spacer having a jig.

【0050】前記一字形スペーサ32、34は基板上に
より確実に固定させるために図2及び図6に示すよう
に、固定用ジグ38を使用することが望ましい。前記固
定用ジグ38は周辺領域52に設置され、一字形スペー
サ32、34の一側端部が挿入される挿入溝38aを有
する。図2及び図6に示した固定用ジグ38には挿入溝
38aが一つであるか複数個の挿入溝を有することもで
き得る。一字形スペーサ32、34の一側端部が前記固
定用ジグ38の挿入溝38aに挿入された後、シーラン
トのような接着剤で固定される。
It is desirable to use a fixing jig 38 as shown in FIGS. 2 and 6 in order to more securely fix the linear spacers 32 and 34 on the substrate. The fixing jig 38 is installed in the peripheral area 52 and has an insertion groove 38a into which one end of the straight spacers 32 and 34 is inserted. The fixing jig 38 shown in FIGS. 2 and 6 may have a single insertion groove 38a or a plurality of insertion grooves. After one end of the one-piece spacers 32, 34 is inserted into the insertion groove 38a of the fixing jig 38, it is fixed with an adhesive such as a sealant.

【0051】前記固定用ジグ38と整列用マーク40は
エミッタ部10及び表示部20上に通常の写真食刻技術
により絶縁体または感光性物質などで同時に形成するこ
とが望ましい。
It is preferable that the fixing jig 38 and the alignment mark 40 are simultaneously formed on the emitter section 10 and the display section 20 with an insulator or a photosensitive material by a usual photolithography technique.

【0052】本発明に置いて、一字形スペーサは図7な
いし図10に示すように、四角形、三角形、梯子形、六
面体などの多様の構造を有することができる。
According to the present invention, the linear spacer may have various structures such as a square, a triangle, a ladder, and a hexahedron as shown in FIGS.

【0053】図7に示した本発明の第1実施例によるス
ペーサは垂直露光により支持壁と支持足の断面が四角形
を有するように形成されたものである。従って、支持壁
32aと支持足32bが同一の高さを有する。
The spacer according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 7 is formed by vertical exposure so that the cross section of the support wall and the support foot has a square shape. Therefore, the support wall 32a and the support foot 32b have the same height.

【0054】図8に示す本発明の第2実施例によるスペ
ーサの支持足は三角形の断面を有する。この場合、支持
壁32aは四角形の断面を有する。本発明の第2実施例
によるスペーサは図11に示した方法で制作される。
The supporting feet of the spacer according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 8 have a triangular cross section. In this case, the support wall 32a has a rectangular cross section. The spacer according to the second embodiment of the present invention is manufactured by the method shown in FIG.

【0055】図11を参照すると、露光用マスク60は
支持足の形成のための補助ライン64と支持壁の形成の
ための支持ライン62を含む。前記露光用マスク60の
マスクパターンで補助ライン64を中心に左右でθ(θ
>tan(w/2h)、ここで、wは補助ライン64の
幅を意味し、hは感光性物質70の厚さを意味する)の
ティルト角度でA及びB方向に沿って感光性物質70を
ティルト露光させると、感光性物質70は露光された領
域と露光されない領域で区分される。すなわち、補助ラ
イン64の下の露光されない領域のうち支持足になる領
域は断面が三角形で形成され支持ライン62の下の支持
壁になる領域は断面が四角形で形成される。従って、支
持足の高さが支持壁の高さより低く形成される。
Referring to FIG. 11, the exposure mask 60 includes an auxiliary line 64 for forming a support foot and a support line 62 for forming a support wall. In the mask pattern of the exposure mask 60, θ (θ
> Tan (w / 2h), where w means the width of the auxiliary line 64 and h means the thickness of the photosensitive material 70) at a tilt angle along the A and B directions. Is subjected to tilt exposure, the photosensitive material 70 is divided into an exposed area and an unexposed area. That is, of the non-exposed areas below the auxiliary line 64, the area serving as the support feet has a triangular cross section, and the area serving as the support wall below the support line 62 has a quadrangular cross section. Therefore, the height of the support foot is formed lower than the height of the support wall.

【0056】図9に示した本発明の第3実施例によるス
ペーサは梯子形断面の支持壁32aと三角形断面の支持
足32bを有する。
The spacer according to the third embodiment of the present invention shown in FIG. 9 has a support wall 32a having a ladder-shaped cross section and support legs 32b having a triangular cross section.

【0057】図11を参照すると、露光用マスク60の
マスクパターンで補助ライン64を中心に左右でティル
ト角θ(θ>tan(w/2h))にA方向及びB
方向に沿って感光性物質70を1次ティルト露光させ、
次いで支持ライン62を中心に上下方向であるC方向及
びD方向に沿ってティルト角θ(θ<tan(w/
2h))で2次ティルト露光させると、支持足(32
b)になる領域の断面は三角形で形成され、支持壁32
aになる領域の断面は梯子形で形成される。梯子形断面
の支持壁32aでは幅が狭い上部が表示部20に接して
幅が広い下部がエミッタ部10に接するように配置され
ることが表示領域50でスペーサが占める領域を最小化
させるのにためになる。
Referring to FIG. 11, in the mask pattern of the exposure mask 60, the A direction and the B direction are set at a tilt angle θ 11 > tan (w / 2h)) on the left and right around the auxiliary line 64.
A first tilt exposure of the photosensitive material 70 along the direction,
Next, the tilt angle θ 22 <tan (w /
2h)), when the secondary tilt exposure is performed, the supporting feet (32
The cross section of the region to be b) is formed in a triangular shape and the support wall 32
The cross section of the region that becomes a is formed in a ladder shape. The ladder-shaped support wall 32a is arranged such that the narrow upper portion is in contact with the display portion 20 and the wide lower portion is in contact with the emitter portion 10 in order to minimize the area occupied by the spacers in the display region 50. Benefit.

【0058】図10に示した本発明の第4実施例による
スペーサは六角形断面の支持壁32aと三角形断面の支
持足32bを含む。
The spacer according to the fourth embodiment of the present invention shown in FIG. 10 includes a support wall 32a having a hexagonal cross section and support legs 32b having a triangular cross section.

【0059】図11を参照すると、露光用マスク60の
マスクパターンで補助ライン64を中心に左右でティル
ト角θ(θ>tan(w/2h))にA方向及びB
方向に沿って感光性物質70を1次ティルト露光させた
後、次いで支持ライン62を中心にC方向及びD方向に
沿ってティルト角θ(<tan(w/2h))で感光
性物質70を2次ティルト露光させる。次に、露光用マ
スク60を感光性物質70の底面で2次ティルト露光と
同一に露光させると支持足32bになる領域の断面は三
角形で、支持壁32aになる領域の断面は六面体で形成
される。
Referring to FIG. 11, in the mask pattern of the exposure mask 60, the A direction and the B direction are set at a tilt angle θ 11 > tan (w / 2h)) on the left and right around the auxiliary line 64.
After the first tilt exposure of the photosensitive material 70 along the direction, then the photosensitive material 70 at a tilt angle θ 2 (<tan (w / 2h)) along the C and D directions around the support line 62. Is subjected to secondary tilt exposure. Next, when the exposure mask 60 is exposed on the bottom surface of the photosensitive material 70 in the same manner as the secondary tilt exposure, the cross section of the region that becomes the support foot 32b is formed as a triangle and the cross section of the region that becomes the support wall 32a is formed as a hexahedron. You.

【0060】前述したスペーサを有する本発明の一実施
例による平板表示装置の製造方法は次のようである。
A method of manufacturing a flat panel display device having the above-described spacer according to an embodiment of the present invention is as follows.

【0061】まず、通常の方法で下部ガラス基板12に
カソード電極14及びゲート電極18が形成されたエミ
ッタ部10と、上部ガラス基板22に蛍光物質26がコ
ーティングされた透明アノード電極24が形成された表
示部20をそれぞれ備える。
First, the emitter portion 10 having the cathode electrode 14 and the gate electrode 18 formed on the lower glass substrate 12 and the transparent anode electrode 24 having the fluorescent material 26 coated on the upper glass substrate 22 were formed by a usual method. The display unit 20 is provided.

【0062】また、石英基板にクロムを塗布した後、こ
れをパターニングして一定の間隔のピッチ例えば、60
0μm、一定の線幅、例えば30μmであるフル一字形
スペーサ、ハーフ一字形スペーサ、魚の骨形スペーサに
それぞれ対応する露光マスク60を準備する。
Further, after chromium is applied to a quartz substrate, the chromium is patterned and patterned at a constant pitch of, for example, 60 mm.
An exposure mask 60 corresponding to a full linear spacer, a half linear spacer, and a fish bone spacer having a line width of 0 μm and a constant line width, for example, 30 μm, is prepared.

【0063】次に、略200〜2、000μmの厚さ、
望ましくは1、000μmの厚さを有する感光性物質を
備える。望ましくは、前記感光性物質70はSiO
75〜85%、LiO略7〜11%、Al略3
〜6%、NaO略1〜2%、AgO略0.05〜
0.15%及びCeO略0.01〜0.04%の代表
的な組成を有する感光性ガラスである。
Next, a thickness of about 200 to 2,000 μm,
Preferably, a photosensitive material having a thickness of 1,000 μm is provided. Preferably, the photosensitive material 70 is SiO 2 approximately 75-85%, Li 2 O approximately 7 to 11%, Al 2 O 3 substantially 3
66%, about 1 to 2 % of Na 2 O, about 0.05 to about Ag 2 O
This is a photosensitive glass having a typical composition of 0.15% and CeO 2 of about 0.01 to 0.04%.

【0064】前記感光性物質70に露光用マスク60を
アラインさせ略312nmの波長を有する紫外線で感光
性物質70を露光させる。露光は前述したように所望の
スペーサの断面構造により垂直露光またはティルト露光
を遂行する。露光された領域は次のような光化学反応が
起こる。
An exposure mask 60 is aligned with the photosensitive material 70, and the photosensitive material 70 is exposed to ultraviolet light having a wavelength of about 312 nm. As described above, vertical or tilt exposure is performed according to the desired cross-sectional structure of the spacer. The following photochemical reaction occurs in the exposed area.

【0065】 Ce3++hv(312nm)→Ce4++e Ag+e→Ag このように露光が完了されると、感光性物質70を炉に
入れて徐々に温度を上げて略500℃程度で1時間程度
1次熱処理した後に、徐々に略600℃まであげて1時
間程度2次熱処理する。このような熱処理工程の次に感
光性物質70を略10%HF溶液に入れて光化学反応が
起こった露光された部分を湿式食刻工程で除去する。
[0065] Ce 3+ + hv (312nm) → Ce 4+ + e - Ag + + e - → Ag in this way exposure is completed, at approximately 500 ° C. of about gradually raising the temperature to put the photosensitive material 70 into the furnace After the primary heat treatment for about one hour, the temperature is gradually raised to about 600 ° C., and the secondary heat treatment is performed for about one hour. Subsequent to the heat treatment process, the photosensitive material 70 is put into an approximately 10% HF solution, and the exposed portion where the photochemical reaction has occurred is removed by a wet etching process.

【0066】このように食刻工程が完了された後に洗浄
し乾燥すると、図7ないし図10に示すようにマスクパ
ターンの支持ラインに対応する部分である支持壁はその
断面が四角形、梯子形、または六面体などになり、補助
ラインに対応する部分である支持足は四角形または三角
形で形成される。従って、支持足及び支持壁を有する一
字形スペーサが得られる。
When the substrate is washed and dried after the etching process is completed, the supporting wall corresponding to the supporting line of the mask pattern has a rectangular, ladder-shaped cross section as shown in FIGS. Alternatively, the supporting foot, which is a hexahedron or the like and corresponds to the auxiliary line, is formed in a square or a triangle. Thus, a one-piece spacer having a support foot and a support wall is obtained.

【0067】得られた一字形スペーサを表示部20また
はエミッタ部10に適当な間隔で配置させた後、シーラ
ントのような接着剤で固定する。固定用ジグ38が形成
された場合には固定用ジグ38の挿入溝38aに挿入し
た後にシーラントで固定する。
After the obtained linear spacers are arranged at appropriate intervals on the display section 20 or the emitter section 10, they are fixed with an adhesive such as a sealant. When the fixing jig 38 is formed, the jig 38 is inserted into the insertion groove 38a of the fixing jig 38 and then fixed with a sealant.

【0068】このようにスペーサが固定された表示部2
0またはエミッタ部10に別の基板をアラインさせ向か
い合うように設置し二つの基板の周辺部に沿ってシーラ
ントのようなシーリング部材で封入する。このとき、内
部を真空にするための排気孔は除外した残りの部分は全
て密封する。密封工程時に前記排気孔にガラス細管を連
結した後、このガラス細管を通して真空ポンプに表示部
20とエミッタ部10との間の内部空気を外部にポンピ
ングして略10−7torr程度の高真空にした後に最
終的にガラス細管をチップオフ(tip−off)して
平板表示装置を完成する。
The display unit 2 to which the spacer is fixed as described above
Another substrate is aligned with the zero or emitter portion 10 and placed so as to face each other, and sealed along the periphery of the two substrates with a sealing member such as a sealant. At this time, all the remaining parts except the exhaust holes for evacuating the inside are sealed. After a glass tube is connected to the exhaust hole at the time of the sealing process, the internal air between the display unit 20 and the emitter unit 10 is pumped to the outside through a vacuum tube through this glass tube to a high vacuum of about 10 −7 torr. After that, the glass tube is finally tip-offed to complete a flat panel display.

【0069】図12は本発明の別の実施例による格子形
スペーサを含む電界放出表示装置の平面構造を示す。本
実施例による平板表示装置は格子状のスペーサ80を除
外した別の部分は前述した平板表示装置と同一であるた
めに同一の部分は同一符号で処理し詳しい説明は省略す
る。
FIG. 12 is a plan view showing a field emission display including a grid spacer according to another embodiment of the present invention. In the flat panel display according to the present embodiment, other parts except the lattice spacer 80 are the same as the above-described flat panel display, so the same parts are denoted by the same reference numerals, and detailed description will be omitted.

【0070】図13は図12の格子形スペーサの部分拡
大斜視図を示し、図14は図12の格子形スペーサの部
分拡大平面写真であり、図15は図12の格子形スペー
サの部分拡大側面写真である。
FIG. 13 is a partially enlarged perspective view of the lattice spacer of FIG. 12, FIG. 14 is a partially enlarged plan photograph of the lattice spacer of FIG. 12, and FIG. 15 is a partially enlarged side view of the lattice spacer of FIG. It is a photograph.

【0071】図12及び図13で格子形スペーサ80は
格子または網状を有する。各交差点には支持柱82が形
成され、支持柱82の間には連結壁84が形成され支持
柱82を固定支持する。格子形スペーサ80は表示領域
50内に配置される。
In FIGS. 12 and 13, the grid spacer 80 has a grid or mesh shape. A support column 82 is formed at each intersection, and a connecting wall 84 is formed between the support columns 82 to fix and support the support column 82. The grid spacer 80 is disposed in the display area 50.

【0072】前記格子形スペーサ80の連結壁84は支
持柱82より低い高さを有する。従って、表示部20と
エミッタ部10との間は支持柱82により所定間隔で維
持され、格子形の連結壁84は上端と下端が表示部20
とエミッタ部10との表面からそれぞれ離隔され届かな
いためにこの空間を通して表示領域50が互いに連結さ
れているために完全に孤立された空間を形成しない。従
って、このような構造は平板表示装置の内部真空時排気
が円滑になるようにする。
The connecting wall 84 of the lattice spacer 80 has a lower height than the supporting column 82. Accordingly, the display column 20 and the emitter unit 10 are maintained at a predetermined interval by the support columns 82, and the lattice-shaped connecting wall 84 has the upper end and the lower end thereof at the display unit 20.
Since the display regions 50 are connected to each other through the spaces because the display regions 50 are separated from the surface of the emitter unit 10 and cannot reach, the spaces are not completely isolated. Accordingly, such a structure facilitates the evacuation of the inside of the flat panel display at the time of vacuum.

【0073】図14及び図15は1000μm程度の厚
さを有する感光性物質を本発明による方法でティルト露
光して得たスペーサの拡大写真である。格子ピッチは略
600μmであり、その線幅は60μm程度であり、感
光性物質の上面及び底面でそれぞれ前後左右略11°程
度でティルト露光し食刻した結果を示す。隔壁の上下端
は支持柱の上下端から略300μm程度位置し、隔壁の
高さは400μm程度である。
FIGS. 14 and 15 are enlarged photographs of spacers obtained by tilt-exposing a photosensitive material having a thickness of about 1000 μm by the method according to the present invention. The grating pitch is approximately 600 μm, the line width is approximately 60 μm, and the result of tilt exposure and etching at approximately 11 ° front, rear, left and right on the top and bottom surfaces of the photosensitive material is shown. The upper and lower ends of the partition are located approximately 300 μm from the upper and lower ends of the support column, and the height of the partition is approximately 400 μm.

【0074】図16ないし図18を参照して本発明の望
ましい実施例による電解放出表示装置の製造方法は次の
ようである。
A method of manufacturing a field emission display according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0075】まず、図16に示すように、石英基板にク
ロムを塗布した後、これをパターニングしてピッチ60
0μm、線幅60μmである格子パターン92が形成さ
れた露光用マスク90を準備する。
First, as shown in FIG. 16, after chromium is applied to a quartz substrate, it is patterned and
An exposure mask 90 having a grid pattern 92 having a thickness of 0 μm and a line width of 60 μm is prepared.

【0076】感光性物質70に露光用マスク90をアラ
インさせ略312nm波長の紫外線で感光性物質を露光
させる。図17に示すように、まず、左右側方向(A’
及びB’方向)で略11°程度の角度で傾斜にティルト
露光させると図16の斜線の45°角度のA’領域と1
35°角度のB’領域まで露光される。
An exposure mask 90 is aligned with the photosensitive material 70, and the photosensitive material is exposed to ultraviolet light having a wavelength of about 312 nm. As shown in FIG. 17, first, the left-right direction (A ′
And B ′ direction), the tilt exposure is performed at an angle of about 11 °.
Exposure is performed up to a 35 ° angle B ′ region.

【0077】図17を参照すると、露光用マスク90の
パターン92の真下方から感光性物質70の底面付近で
A’及びB’方向の入射光の交差点までは左右方向のテ
ィルト露光時に露光されない部分、すなわち、逆三角形
部分を除いては残り部分は全て露光される。
Referring to FIG. 17, a portion that is not exposed during the tilt exposure in the left-right direction extends from immediately below the pattern 92 of the exposure mask 90 to the intersection of the incident light in the directions A ′ and B ′ near the bottom surface of the photosensitive material 70. That is, all the remaining portions are exposed except for the inverted triangular portion.

【0078】同様な方式で前後方向に対して感光性物質
70をティルト露光を進行させると図16に示すように
斜線の45°角度のC’領域と135°角度のD’領域
まで露光される。従って、横及び縦ライン92aの下方
では楔状で露光されない領域が形成されるが、交差部9
2bでは四角柱状で露光されない領域が残る。
In the same manner, when the photosensitive material 70 is subjected to tilt exposure in the front-rear direction, as shown in FIG. 16, the photosensitive material 70 is exposed up to the 45 ° C 'region and the 135 ° D' region shown by oblique lines. . Accordingly, an unexposed area is formed in a wedge shape below the horizontal and vertical lines 92a, but at the intersection 9
In the case of 2b, an unexposed region remains in the shape of a quadrangular prism.

【0079】前述したように感光性物質70の上面での
露光が完了されると露光用マスク90を感光性物質70
の底面に前述した上面の露光配置に対応するように再配
置する。再配置された露光用マスク90を通して上面を
露光させる同一の方法で図18に示すように前後左右で
ティルト露光させると、パターン92の真上方から感光
性物質70の上面付近でA”及びB”方向の入射光の交
差点までは左右ティルト露光に露光されない部分、すな
わち三角形部分を除いては残り部分は全て露光される。
それで、最終的には格子状の横及び縦ライン92aに沿
って菱形状の露光されない領域が残り、交差部92bで
は四角柱状の露光されない領域が残る。
As described above, when the exposure on the upper surface of the photosensitive material 70 is completed, the exposure mask 90 is replaced with the photosensitive material 70.
Are rearranged on the bottom surface of the substrate so as to correspond to the above-described exposure arrangement on the top surface. When tilt exposure is performed in front, rear, left, and right directions as shown in FIG. Until the crossing point of the incident light in the direction, the portion which is not exposed by the right and left tilt exposure, that is, the remaining portion is exposed except for the triangular portion.
As a result, a diamond-shaped unexposed area remains along the grid-like horizontal and vertical lines 92a, and a square pillar-shaped unexposed area remains at the intersection 92b.

【0080】前記菱形形状の断面が残るように感光性物
質70の上面及び下面でティルト露光するためにはティ
ルト角θはtan(w/2h)より大きくtan(w/
h)よりは小さい条件を満足しなければならない。
In order to perform the tilt exposure on the upper surface and the lower surface of the photosensitive material 70 so that the diamond-shaped cross section remains, the tilt angle θ is larger than tan (w / 2h) and tan (w /
Conditions smaller than h) must be satisfied.

【0081】前記感光性物質70の上面と底面の左右前
後ティルト露光が完了されると、感光性物質70を炉に
入れて前述したような方法で熱処理する。熱処理した後
には感光性物質70を10%HF溶液に入れて決定化さ
れた露光された部分を湿式食刻して除去する。
When the left and right tilt exposure on the top and bottom surfaces of the photosensitive material 70 is completed, the photosensitive material 70 is placed in a furnace and heat-treated in the manner described above. After the heat treatment, the photosensitive material 70 is put into a 10% HF solution, and the determined exposed portions are removed by wet etching.

【0082】このような食刻工程が完了された後に洗浄
し乾燥すると、図13のように格子パターン92のライ
ン92aに対応する部分は断面が菱形形状の連結壁84
で形成されパターン92の交差部92bに対応する部分
は支持柱82で形成される。従って、全体的に3次元格
子状のスペーサ80が得られる。
After washing and drying after the completion of the etching process, a portion corresponding to the line 92a of the grid pattern 92 has a rhombic connecting wall 84 as shown in FIG.
The portion corresponding to the intersection 92b of the pattern 92 is formed by the support pillar 82. Accordingly, a spacer 80 having a three-dimensional lattice shape as a whole is obtained.

【0083】得られた格子形スペーサ80を表示部20
またはエミッタ部10に設置し、スペーサ80が設置さ
れた基板に別の基板をアラインさせ向かい合うように設
置し二つの基板の周辺部に沿ってシーラントのようなシ
ーリング部材で封入する。このとき、内部を真空にする
ための排気孔は残して残り部分は全て密封する。密封工
程時に排気孔にガラス細管を連結する。前記ガラス細管
を通して真空ポンプに内部空気を外部にポンピングして
表示部20とエミッタ部10との間の空間を10−7
orr程度の高真空にした後に最終的にガラス細管をチ
ップアップして平板表示装置を完成する。
The obtained grid spacer 80 is displayed on the display unit 20.
Alternatively, another substrate is arranged on the emitter unit 10, another substrate is aligned with the substrate on which the spacer 80 is installed, and the two substrates are arranged so as to face each other, and sealed along a peripheral portion of the two substrates with a sealing member such as a sealant. At this time, all the remaining portions are hermetically sealed, leaving an exhaust hole for evacuating the inside. A glass tube is connected to the exhaust hole during the sealing process. The internal air is pumped outside to the vacuum pump through the glass tube so that the space between the display unit 20 and the emitter unit 10 is 10 −7 t.
After a high vacuum of about orr is reached, glass flat tubes are finally chipped up to complete a flat panel display.

【0084】[0084]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明ではエミ
ッタ部と表示部を有する平板表示装置において、エミッ
タ部と表示部との間の間隔を維持するためのスペーサを
感光性物質で独立的な構造物で製造し後で基板上に立て
て設置するために組立時にスペーサを別の付加的な構造
物なしで自体の支持足により容易に立てられるために組
立が容易である。
As described above, according to the present invention, in a flat panel display device having an emitter portion and a display portion, a spacer for maintaining a space between the emitter portion and the display portion is made of a photosensitive material. The assembly is easy because the spacer can be easily erected by its own supporting foot without any additional structure during the assembly in order to manufacture and install it on a substrate later with a simple structure.

【0085】また、高さが互いに異なるスペーサの支持
柱と連結壁、または支持壁と支持足の構造をティルト露
光により同時に製作できるために内部空気の排気を容易
にできる。
Further, since the structures of the supporting columns and the connecting walls or the supporting walls and the supporting feet of the spacers having different heights can be simultaneously manufactured by tilt exposure, the exhaust of the internal air can be facilitated.

【0086】さらに、形状比が10以上で要求される高
電圧蛍光物質を使用する装置のスペーサを容易に得るこ
とができ、スペーサが表示部と別途構造物で製作される
ために表示部の蛍光物質に全く損傷を与えずに表示部を
製作することが可能である。
Further, a spacer for an apparatus using a high-voltage fluorescent material required to have a shape ratio of 10 or more can be easily obtained. It is possible to produce a display without damaging the material at all.

【0087】本発明を実施例によって詳細に説明した
が、本発明は実施例によって限定されず、本発明が属す
る技術分野において通常の知識を有するものであれば本
発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正また
は変更できるであろう。
Although the present invention has been described in detail with reference to embodiments, the present invention is not limited to the embodiments, and any person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs may depart from the spirit and spirit of the present invention. Rather, the invention could be modified or changed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】電界放出表示装置の断面構造を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a cross-sectional structure of a field emission display device.

【図2】本発明によるフル一字形スペーサを含む電界放
出表示装置の一実施例の平面構造を示す図である。
FIG. 2 is a plan view illustrating an exemplary embodiment of a field emission display including a full-shape spacer according to the present invention;

【図3】本発明によるハーフ一字形スペーサを含む電界
放出表示装置の一実施例の平面構造を示す図である。
FIG. 3 is a plan view illustrating an exemplary embodiment of a field emission display including a half-shaped spacer according to the present invention;

【図4】本発明による魚の骨形スペーサを含む電界放出
表示装置の一実施例の平面構造を示す図である。
FIG. 4 is a plan view showing an embodiment of a field emission display including a fish bone spacer according to the present invention;

【図5】本発明による固定用ジグを有するフル一字形ス
ペーサを含む電界放出表示装置の一実施例の平面構造を
示す図である。
FIG. 5 is a plan view illustrating an exemplary embodiment of a field emission display device including a full linear spacer having a fixing jig according to the present invention;

【図6】本発明による固定用ジグを有するハーフ一字形
スペーサを含む電界放出表示装置の一実施例の平面構造
を示す図である。
FIG. 6 is a plan view illustrating a field emission display device including a half-shaped spacer having a fixing jig according to an embodiment of the present invention;

【図7】本発明の第1実施例による一字形スペーサの一
部切除斜視図である。
FIG. 7 is a partially cutaway perspective view of the straight spacer according to the first embodiment of the present invention;

【図8】本発明の第2実施例による一字形スペーサの一
部切除斜視図である。
FIG. 8 is a partially cutaway perspective view of a straight spacer according to a second embodiment of the present invention;

【図9】本発明の第3実施例による一字形スペーサの一
部切除斜視図である。
FIG. 9 is a partially cutaway perspective view of a straight spacer according to a third embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第4実施例による一字形スペーサの
一部切除斜視図である。
FIG. 10 is a partially cutaway perspective view of a straight spacer according to a fourth embodiment of the present invention;

【図11】本発明の一実施例による一字形スペーサをつ
くるための感光性物質をティルト露光する状態を説明す
る図である。
FIG. 11 is a view illustrating a state in which a photosensitive material for tilt-exposure for forming a linear spacer according to an embodiment of the present invention;

【図12】本発明の別の実施例による格子形スペーサを
含む電界放出表示装置の平面構造を示す図である。
FIG. 12 is a plan view illustrating a planar structure of a field emission display including a grid spacer according to another embodiment of the present invention;

【図13】図12の格子形スペーサの部分拡大斜視図で
ある。
13 is a partially enlarged perspective view of the lattice spacer of FIG.

【図14】図12の格子形スペーサの部分拡大平面写真
である。
FIG. 14 is a partially enlarged plan photograph of the lattice spacer of FIG. 12;

【図15】図12の格子形スペーサの部分拡大側面写真
である。
FIG. 15 is a partially enlarged side view photograph of the lattice spacer of FIG. 12;

【図16】図12の格子形スペーサを形成するためのマ
スクパターンと感光性物質のティルト露光領域を説明す
る図である。
FIG. 16 is a view for explaining a mask pattern for forming the lattice spacer of FIG. 12 and a tilt exposure region of a photosensitive material.

【図17】図12の格子形スペーサを形成するための感
光性物質の上面でのティルト露光を説明する図である。
FIG. 17 is a diagram illustrating tilt exposure on the upper surface of a photosensitive material for forming the grid spacer of FIG.

【図18】図12の格子形スペーサを形成するための感
光性物質の底面でのティルト露光を説明する図である。
FIG. 18 is a view illustrating tilt exposure on the bottom surface of a photosensitive material for forming the grid spacer of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…エミッタ部 12…下部ガラス基板 14…カソード電極 15…エミッタチップ 16…絶縁膜 17…ゲートホール 18…ゲート電極 20…表示部 22…上部ガラス基板 24…アノード電極 26…蛍光物質 32…フル一字形スペーサ 34…ハーフ一字形スペーサ 36…魚の骨形スペーサ 32a、34a、36a…支持壁 32b、34b、36b…支持足 38…固定用ジグ 40…整列用マーク 50…表示領域 52…周辺領域 54…シーリング部材 60、90…露光用マスク 62…支持ライン 64…補助ライン 70…感光性物質 80…格子形スペーサ 82…支持柱 84…連結壁 92…格子パターン 92a…横及び縦ライン 92b…交差部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Emitter part 12 ... Lower glass substrate 14 ... Cathode electrode 15 ... Emitter chip 16 ... Insulating film 17 ... Gate hole 18 ... Gate electrode 20 ... Display part 22 ... Upper glass substrate 24 ... Anode electrode 26 ... Fluorescent substance 32 ... Fully L-shaped spacer 34 Half-shaped spacer 36 Fish bone spacer 32a, 34a, 36a Support wall 32b, 34b, 36b Support foot 38 Fixing jig 40 Alignment mark 50 Display area 52 Peripheral area 54 Sealing members 60, 90 Exposure mask 62 Support line 64 Auxiliary line 70 Photosensitive substance 80 Lattice spacer 82 Support column 84 Connecting wall 92 Grid pattern 92a Horizontal and vertical lines 92b Intersection

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 カソード電極及びゲート電極が形成され
た下部基板を含むエミッタ部と、 蛍光物質がコーティングされた透明アノード電極が形成
された上部基板を含む表示部と、 前記エミッタ部と表示部を所定間隔で維持するために、
高縦横比を有する支持壁と、該支持壁を支持するために
支持壁から左側方向及び右側方向に突出された少なくと
も一つ以上の支持足を含む複数個のスペーサと、そして
前記エミッタ部と表示部との周辺部を真空シーリングす
るためのシーリング部材を含むことを特徴とする平板表
示装置。
An emitter unit including a lower substrate on which a cathode electrode and a gate electrode are formed; a display unit including an upper substrate on which a transparent anode electrode coated with a fluorescent material is formed; In order to maintain at predetermined intervals,
A support wall having a high aspect ratio; a plurality of spacers including at least one or more support feet protruding leftward and rightward from the support wall to support the support wall; A flat panel display device comprising a sealing member for vacuum sealing a peripheral portion of the flat panel display.
【請求項2】 前記スペーサは感光性物質を露光及び食
刻して形成されることを特徴とする請求項1に記載の平
板表示装置。
2. The flat panel display according to claim 1, wherein the spacer is formed by exposing and etching a photosensitive material.
【請求項3】 前記支持壁はその断面が直四角形、六角
形または梯子形の形状を有し、前記支持足は垂直露光に
よる四角形の断面またはティルト露光による三角形の断
面を有することを特徴とする請求項2に記載の平板表示
装置。
3. The support wall may have a rectangular, hexagonal or ladder-shaped cross section, and the support foot may have a rectangular cross section by vertical exposure or a triangular cross section by tilt exposure. The flat panel display according to claim 2.
【請求項4】 前記支持壁の断面が梯子形である場合に
は幅が狭い上端が前記表示部に面するようになされるこ
とを特徴とする請求項3に記載の平板表示装置。
4. The flat panel display according to claim 3, wherein when the cross section of the support wall is a ladder shape, a narrow upper end faces the display unit.
【請求項5】 前記スペーサの支持壁の長さが前記表示
部の表示領域の長さより長く、前記支持足は前記表示領
域外の周辺領域に位置する支持壁の両側部に形成され前
記スペーサが前記表示領域より長い一字の形状を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の平板表示装置。
5. The support wall of the spacer is longer than the display area of the display unit, and the support feet are formed on both sides of the support wall located in a peripheral area outside the display area. The flat panel display according to claim 1, wherein the flat panel display has a one-letter shape longer than the display area.
【請求項6】 前記スペーサの支持壁の長さが前記表示
部の表示領域の長さより短く、前記支持足は前記表示領
域外の周辺領域に位置する支持壁の一側に形成され前記
スペーサが前記表示領域より短い一字の形状を有するこ
とを特徴とする請求項1に記載の平板表示装置。
6. A support wall of the spacer is shorter than a display area of the display unit, and the support foot is formed on one side of the support wall located in a peripheral area outside the display area. The flat panel display according to claim 1, wherein the flat panel display has a one-letter shape shorter than the display area.
【請求項7】 前記スペーサの支持壁の長さが前記表示
部の表示領域の長さより短く、複数個の支持足が前記表
示領域内で前記支持壁の全体にかけて所定間隔で突出さ
れ前記スペーサが魚の骨の形状を有することを特徴とす
る請求項1に記載の平板表示装置。
7. A length of a support wall of the spacer is shorter than a length of a display area of the display unit, and a plurality of support feet project at predetermined intervals over the entire support wall in the display area. The flat panel display according to claim 1, wherein the flat panel display has a shape of a fish bone.
【請求項8】 前記表示部またはエミッタ部の周辺領域
に、前記各スペーサを固定させるために少なくとも一つ
の前記スペーサの支持壁の一側が挿入される溝を有する
複数個の固定用ジグが形成されることを特徴とする請求
項1に記載の平板表示装置。
8. A plurality of fixing jigs having a groove into which one side of a support wall of at least one spacer is inserted to fix each of the spacers, in a peripheral region of the display unit or the emitter unit. The flat panel display according to claim 1, wherein:
【請求項9】 前記支持壁の高さが前記支持足の高さ以
上であることを特徴とする請求項1に記載の平板表示装
置。
9. The flat panel display according to claim 1, wherein the height of the support wall is greater than the height of the support foot.
【請求項10】 カソード電極及びゲート電極が形成さ
れた下部基板を含むエミッタ部を提供する段階と、 蛍光物質がコーティングされた透明アノード電極が形成
された上部基板を含む表示部を提供する段階と、 感光性物質を露光及び食刻して、高縦横比の支持壁と、
該支持壁を支持するために前記支持壁から方向に左側方
向及び右側方向に突出された少なくとも一つ以上の支持
足を有する複数個のスペーサを形成する段階と、 前記エミッタ部と表示部との間に前記複数のスペーサを
所定の間隔で配置する段階と、そして前記エミッタ部と
表示部との周辺部をシーリング部材でシーリングし前記
エミッタ部及び前記表示部との間を排気させ真空状態で
形成する段階を含むことを特徴とする平板表示装置の製
造方法。
10. Providing an emitter unit including a lower substrate on which a cathode electrode and a gate electrode are formed, and providing a display unit including an upper substrate on which a transparent anode electrode coated with a fluorescent material is formed. Exposing and etching the photosensitive material to provide a high aspect ratio support wall;
Forming a plurality of spacers having at least one support leg protruding leftward and rightward from the support wall to support the support wall; and forming a plurality of spacers between the emitter unit and the display unit. Arranging the plurality of spacers at a predetermined interval therebetween, and sealing the periphery of the emitter and the display with a sealing member to evacuate the emitter and the display to form a vacuum. A method for manufacturing a flat panel display device, comprising the steps of:
【請求項11】 前記スペーサを形成する段階は所定の
厚さを有する感光性物質を提供する段階と、 所定の長さを有する支持ライン及び、該支持ラインから
直交する方向に左側方向及び右側方向に延長され前記支
持ラインより短い長さを有する少なくとも一つ以上の補
助ラインを具備するパターンが形成された露光用マスク
を前記感光性物質上に配置する段階と、 前記露光用マスクを通して前記感光性物質を露光させる
段階と、 前記露光された感光性物質を熱処理する段階と、 そして、前記熱処理された感光性物質の露光された領域
を食刻食刻方法で除去して前記支持ラインに沿って形成
される支持壁と、前記補助ラインに沿って形成された前
記支持足を同時に形成する段階を具備することを特徴と
する請求項10に記載の平板表示装置の製造方法。
11. The step of forming the spacer includes providing a photosensitive material having a predetermined thickness, a support line having a predetermined length, and a left and right direction perpendicular to the support line. Disposing an exposure mask on the photosensitive material, the exposure mask having at least one auxiliary line having a length shorter than the support line and formed on the photosensitive material. Exposing the material, heat-treating the exposed photosensitive material, and removing the exposed region of the heat-treated photosensitive material by an etching method along the support line. The flat panel display according to claim 10, further comprising the step of simultaneously forming the support wall formed and the support feet formed along the auxiliary line. Production method.
【請求項12】 前記感光性物質を露光させる段階は、
ティルト角θ(θ<tan(w/2h);ここで、wは
前記補助ライン幅であり、hは前記感光性物質の厚さ)
でティルト露光することを特徴とする請求項11に記載
の平板表示装置の製造方法。
12. The step of exposing the photosensitive substance,
Tilt angle θ (θ <tan (w / 2h); where w is the width of the auxiliary line and h is the thickness of the photosensitive material)
12. The method according to claim 11, wherein tilt exposure is performed.
【請求項13】 前記感光性物質を露光させる段階は、
前記補助ラインに対して左右でティルト角θ(θ>ta
n(w/2h);ここで、wは前記補助ラインの幅であ
り、hは感光性物質の厚さ)でティルト露光することを
特徴とする請求項11に記載の平板表示装置の製造方
法。
13. The step of exposing the photosensitive substance,
Left and right tilt angles θ (θ> ta) with respect to the auxiliary line
12. The method according to claim 11, wherein tilt exposure is performed using n (w / 2h); where w is the width of the auxiliary line and h is the thickness of the photosensitive material. .
【請求項14】 前記感光性物質を露光させる段階は、
前記支持ラインに対して左右でティルト角θ(θ
tan(w/2h);ここで、wは前記補助ラインの幅
であり、hは感光性物質の厚さ)で前記感光性物質の上
面をティルト露光し、前記補助ラインに対して左右でテ
ィルト角θ(θ>tan(w/2h);ここで、w
は前記補助ラインの幅であり、hは感光性物質の厚さ)
で前記感光性物質の上面をティルト露光することを特徴
とする請求項11に記載の平板表示装置の製造方法。
14. The step of exposing the photosensitive substance,
The tilt angle θ 11 <
where tan (w / 2h); where w is the width of the auxiliary line, and h is the thickness of the photosensitive material, the upper surface of the photosensitive material is tilt-exposed, and the left and right sides of the auxiliary line are tilted. Angle θ 22 > tan (w / 2h); where w
Is the width of the auxiliary line, and h is the thickness of the photosensitive material.
12. The method according to claim 11, wherein an upper surface of the photosensitive material is subjected to tilt exposure.
【請求項15】 前記感光性物質を露光させる段階の後
に前記露光用マスクを前記感光性物質の底面に前記上面
の露光に対応して配置する段階と、そして前記感光性物
質の底面に配置された露光用マスクを通して前記支持ラ
インに対して左右でティルト角θ(θ<tan(w
/2h):ここで、wは前記補助ラインの幅であり、h
は感光性物質の厚さ)で前記感光性物質の底面をティル
ト露光する段階をさらに具備することを特徴とする請求
項14に記載の平板表示装置の製造方法。
15. A step of disposing the exposure mask on the bottom surface of the photosensitive material corresponding to the exposure of the top surface after the step of exposing the photosensitive material, and disposing the exposure mask on the bottom surface of the photosensitive material. The tilt angle θ 11 <tan (w
/ 2h): where w is the width of the auxiliary line and h
15. The method of claim 14, further comprising tilt-exposing the bottom surface of the photosensitive material to a thickness of the photosensitive material.
【請求項16】 前記感光性物質はSiO、Li
O、Al、Na O、AgO、CeOを含
む感光性ガラスであることを特徴とする請求項10に記
載の平板表示装置の製造方法。
16. The photosensitive material may be SiO.2, Li
2O, Al2O3, Na 2O, Ag2O, CeO2Including
The photosensitive glass according to claim 10, wherein
Of manufacturing a flat panel display device.
【請求項17】 前記感光性物質の厚さは略0.2〜2
mmであることを特徴とする請求項10に記載の平板表
示装置の製造方法。
17. The photosensitive material has a thickness of about 0.2 to 2
The method for manufacturing a flat panel display according to claim 10, wherein
【請求項18】 前記表示部を提供する段階は、 前記表示部の周辺領域に挿入溝を有する複数の固定用ジ
グと、前記表示部とエミッタ部とを整列するための少な
くとも一つ以上の整列用マークを同時に形成する段階を
さらに含み、 前記複数のスペーサを前記固定用ジグの挿入溝にスペー
サの一側部を挿入して固定配置することを特徴とする請
求項10に記載の平板表示装置の製造方法。
18. The method of claim 18, wherein providing the display unit comprises: a plurality of fixing jigs having an insertion groove in a peripheral area of the display unit; and at least one alignment for aligning the display unit and the emitter unit. The flat panel display according to claim 10, further comprising a step of simultaneously forming a plurality of marks, wherein the plurality of spacers are fixedly arranged by inserting one side of the spacers into insertion grooves of the fixing jig. Manufacturing method.
【請求項19】 カソード電極及びゲート電極が形成さ
れた下部基板を含むエミッタ部と、 蛍光物質がコーティングされた透明アノード電極が形成
された上部基板を含む表示部と、 前記表示部の表示領域内で所定間隔の横及び縦線の交差
点に位置し、高縦横比を有する複数の支持柱と、前記横
及び縦線上で一対の前記支持柱との間に形成された連結
支持壁を含む格子形スペーサと、そして前記エミッタ部
と表示部との周辺部を真空シーリングするためのシーリ
ング部材を具備することを特徴とする平板表示装置。
19. An emitter section including a lower substrate on which a cathode electrode and a gate electrode are formed, a display section including an upper substrate on which a transparent anode electrode coated with a fluorescent material is formed, and a display area of the display section. A lattice shape including a plurality of support columns having a high aspect ratio and located at intersections of horizontal and vertical lines at predetermined intervals, and a connection support wall formed between the pair of support columns on the horizontal and vertical lines. A flat panel display device comprising: a spacer; and a sealing member for vacuum-sealing a peripheral portion between the emitter section and the display section.
【請求項20】 前記格子型スペーサは感光性物質のテ
ィルト露光及び食刻工程により形成され、前記連結支持
壁は前記支持柱より低い高さを有することを特徴とする
請求項19に記載の平板表示装置。
20. The flat plate according to claim 19, wherein the grid spacer is formed by tilt exposure and etching of a photosensitive material, and the connecting support wall has a lower height than the support column. Display device.
【請求項21】 カソード電極及びゲート電極が形成さ
れた下部基板を含むエミッタ部を提供する段階と、 蛍光物質がコーティングされた透明アノード電極が形成
された上部基板を含む表示部を提供する段階と、 前記表示部の表示領域内で所定間隔の横及び縦線の交差
点に位置し高縦横比を有する複数の支持柱と、前記横及
び縦線上で一対の前記支持柱との間に形成される複数個
の連結支持壁を含み、感光性物質のティルト露光及び食
刻工程により格子形スペーサを形成する段階と、 前記エミッタ部と表示部との間に前記格子形スペーサを
固定させる段階と、そして前記エミッタ部と表示部との
周辺部をシーリング部材でシーリングし内部を排気させ
真空状態で形成する段階をさらに具備することを特徴と
する平板表示装置の製造方法。
21. Providing an emitter unit including a lower substrate on which a cathode electrode and a gate electrode are formed, and providing a display unit including an upper substrate on which a transparent anode electrode coated with a fluorescent material is formed. A plurality of support columns having a high aspect ratio and located at intersections of horizontal and vertical lines at predetermined intervals in the display area of the display unit, and a pair of the support columns on the horizontal and vertical lines; Forming a grid-type spacer by tilt exposure and etching processes of a photosensitive material, including a plurality of connection support walls; fixing the grid-type spacer between the emitter unit and the display unit; and A method of manufacturing a flat panel display device, further comprising the steps of: sealing a periphery of the emitter unit and the display unit with a sealing member, evacuating the inside and forming a vacuum state.
【請求項22】 前記スペーサを形成する段階は、 所定厚さの感光性物質を提供する段階と、 格子形パターンが形成された露光用マスクを前記感光性
物質上に配置する段階と、 前記露光用マスクを通して前記感光性物質を上面と底面
でそれぞれ前後左右でティルト露光させる段階と、 前記露光された感光性物質を熱処理する段階と、そして
前記熱処理された感光性物質の露光された領域を食刻工
程で除去して、前記表示部の表示領域内で所定間隔の横
及び縦線の交差点に位置し高縦横比を有する複数の支持
柱と、前記横及び縦線上で一対の支持柱との間に支持柱
より低い高さを有する連結支持壁を同時に形成する段階
を含むことを特徴とする請求項21に記載の平板表示装
置の製造方法。
22. The step of forming the spacer, providing a photosensitive material having a predetermined thickness, arranging an exposure mask having a lattice pattern formed on the photosensitive material, Tilt-exposing the photosensitive material on the top and bottom through front and back and left and right through a mask, heat-treating the exposed photosensitive material, and exposing the exposed region of the heat-treated photosensitive material. Removed in the engraving step, a plurality of support columns having a high aspect ratio and located at the intersection of horizontal and vertical lines at a predetermined interval in the display area of the display unit, and a pair of support columns on the horizontal and vertical lines 22. The method of claim 21, further comprising simultaneously forming a connecting support wall having a height lower than that of the support pillar.
【請求項23】 前記ティルト露光させる段階は、前記
ティルト角θはtan(w/2h)(ここで、wは前記
格子型パターンのライン幅であり、hは感光性物質の厚
さ)より大きくtan(w/h)より小さいことを特徴
とする請求項22に記載の平板表示装置の製造方法。
23. The tilt exposure step, wherein the tilt angle θ is greater than tan (w / 2h) (where w is the line width of the lattice pattern and h is the thickness of the photosensitive material). 23. The method according to claim 22, wherein the value is smaller than tan (w / h).
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JP2006344467A (en) * 2005-06-08 2006-12-21 Sony Corp Flat surface display device and its manufacturing method
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