JP2001052343A - Optical disk and its manufacture - Google Patents

Optical disk and its manufacture

Info

Publication number
JP2001052343A
JP2001052343A JP11225313A JP22531399A JP2001052343A JP 2001052343 A JP2001052343 A JP 2001052343A JP 11225313 A JP11225313 A JP 11225313A JP 22531399 A JP22531399 A JP 22531399A JP 2001052343 A JP2001052343 A JP 2001052343A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical disk
molded substrate
resin molded
film
mark
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11225313A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Uchida
清 内田
Yasumori Hino
泰守 日野
Motoyoshi Murakami
元良 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP11225313A priority Critical patent/JP2001052343A/en
Publication of JP2001052343A publication Critical patent/JP2001052343A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical disk which is less in mark deviation, double copying, and ghost as an optical disk which uses a sample servo tracking system, and its manufacture. SOLUTION: This optical disk has a resin-molded substrate 11, and an enhancement film 12 formed of a dielectric thin film, a heat insulating film 14, a reflecting film 15, and a protective coat 16 which are laminated on the resin- molded substrate 11, which is 0.7 mm thick or smaller. Since the thickness of the resin-molded substrate is 0.7 mm or smaller, an optical disk which is less in mark deviation, double copying, and ghost is obtained as an optical disk which uses a sample servo tracking system.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクおよび
その製造方法に関する。
The present invention relates to an optical disk and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、光ディスクは、主に射出成形によ
って形成されているが、スタンパに刻印された信号マー
クを成形基板に転写する際に、マークがズレたり(マー
クずれ)、本来ピッチがあってはいけない部分にマーク
が形成されたりすること(二重転写・ゴースト)があっ
た。これらの成形不良は、光ディスクの特性不良の原因
の一つとなっている。
2. Description of the Related Art At present, an optical disk is mainly formed by injection molding. However, when a signal mark imprinted on a stamper is transferred to a molding substrate, the mark is displaced (mark shift), and the pitch is originally small. Marks were sometimes formed in the parts that should not be used (double transfer / ghost). These molding defects are one of the causes of the characteristic failure of the optical disk.

【0003】このマークずれや二重転写・ゴーストは特
にサンプルサーボトラッキング方式を採用したフォーマ
ットの樹脂成形基板で顕著に出現する。サンプルサーボ
トラッキング方式を用いた従来の光ディスクのサーボ領
域について、一例の模式平面図を図11に示す。
[0003] The mark misalignment and the double transfer / ghost appear remarkably especially on a resin molded substrate of a format employing a sample servo tracking system. FIG. 11 is a schematic plan view showing an example of a servo area of a conventional optical disk using the sample servo tracking method.

【0004】図11を参照して、従来の光ディスクは、
ポリカーボネートなどのプラスチックからなる樹脂成形
基板1を備え、樹脂成形基板1上のサーボ領域には、仮
想トラック中心ライン2に沿って、トラッキング用のウ
オブルマーク3および4と、クロックマーク5とが配置
されている。図11に示すように、サンプルサーボトラ
ッキング方式は、トラッキングのための案内溝は用い
ず、仮想トラック中心ライン2に沿って蛇行配列された
トラッキング用のウオブルマーク3および4を備える。
このウオブルマーク3および4は、仮想トラック中心ラ
イン2から左右略均等にずらして配置されており、この
ウオブルマーク3および4を光スポットで検出すること
によってトラッキングを行なうことができる。
Referring to FIG. 11, a conventional optical disk is
A resin molded substrate 1 made of plastic such as polycarbonate is provided. In a servo area on the resin molded substrate 1, wobble marks 3 and 4 for tracking and a clock mark 5 are arranged along a virtual track center line 2. ing. As shown in FIG. 11, the sample servo tracking method does not use a guide groove for tracking, but includes tracking wobble marks 3 and 4 meandering along the virtual track center line 2.
The wobble marks 3 and 4 are arranged so as to be substantially equally displaced from the virtual track center line 2 on the left and right sides, and tracking can be performed by detecting the wobble marks 3 and 4 with a light spot.

【0005】ウオブルマーク3および4、クロックマー
ク5のディスク径方向の長さは、たとえば、0.3μm
〜0.6μmである。また、ウオブルマーク3および
4、ならびにクロックマーク5の光学的深さは、共に、
λ/(4×n)の近傍(ここで、λは読み取りレーザ波
長、nはディスクの屈折率)の値である。
The lengths of the wobble marks 3 and 4 and the clock mark 5 in the disk radial direction are, for example, 0.3 μm.
0.60.6 μm. The optical depths of the wobble marks 3 and 4 and the clock mark 5 are both
A value near λ / (4 × n) (where λ is the reading laser wavelength and n is the refractive index of the disk).

【0006】図11に示すようなサーボ領域は、ディス
ク一周で1000箇所〜3000箇所必要とされる。そ
の他の部分はアドレス部を除いてミラー面であり、光デ
ィスク全体においてマーク(ウオブルマークおよびクロ
ックマーク等のマーク)の占める面積は約10%程度と
非常に少ない。
[0006] A servo area as shown in FIG. 11 is required at 1,000 to 3,000 locations around the disk. The other portions are mirror surfaces except for the address portion, and the area occupied by marks (marks such as wobble marks and clock marks) in the entire optical disk is very small, about 10%.

【0007】このようにマークの占める面積が少ない光
ディスクの樹脂成形基板1を射出成形で形成すると、図
12に示すように、本来のマーク(ウオブルマーク3お
よび4ならびにクロックマーク5)が2重転写され、ゴ
ーストマーク3a、4aおよび5aに示すような意図し
ないマークが形成されてしまう。はなはだしい場合は3
重あるいは4重にマークが形成される場合もある。この
ような2重転写は、トラッキング信号に悪影響をおよぼ
し、トラッキングが正常に動作しないという問題点があ
った。
When the resin molded substrate 1 of the optical disk having a small area occupied by the marks is formed by injection molding, the original marks (wobble marks 3 and 4 and clock mark 5) are double-transferred as shown in FIG. As a result, unintended marks such as the ghost marks 3a, 4a and 5a are formed. 3
In some cases, double or quadruple marks are formed. Such double transfer adversely affects the tracking signal, and there is a problem that tracking does not operate normally.

【0008】上記したマークずれや二重転写・ゴースト
の防止策として、ウオブルマークを有するサーボ領域の
内周側および外周側に、グルーブおよび/又は連続した
マークを複数トラック設けたもの(特開昭63−211
137号公報)や、基体の周方向に亘る間であって記録
トラックの幅方向の中心に対し基体本体の径方向に変位
した凹状溝を形成したもの(特開平3−203826号
公報)、ディスク外周側端面の厚さ方向の中央部分位置
にV溝部または山形突部のアンダーカット部を備えたも
の(特開平1−160627号公報)、スタンパと対向
するミラー面の情報記録領域以外にアンダーカット凹凸
部を形成したもの(特開平1−306214号公報)が
提案されている。また、樹脂成形材料に含まれるスタン
パとの表面張力を大きくさせる成分を含有する添加剤
(離型剤)の量を0.01重量%以下とするもの(特開
平5−109125号公報)など樹脂成形基板とスタン
パとのアンカー効果を改善したものが提案されている。
さらに、型開前の射出圧縮最終圧を通常より低圧に設定
した成形条件で成形するもの(特開平7−246644
号公報)が提案されている。
As a measure for preventing the above-described mark misalignment, double transfer and ghost, a servo area having wobble marks is provided with a plurality of grooves and / or continuous marks on the inner and outer peripheral sides (Japanese Patent Laid-Open No. 63-211
No. 137), a disk in which a concave groove is formed in the circumferential direction of the base body and is displaced in the radial direction of the base body with respect to the center of the recording track in the width direction (Japanese Patent Laid-Open No. 3-203826). One provided with an undercut portion of a V-groove or a chevron at the center of the outer peripheral end face in the thickness direction (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-160627), and undercuts other than the information recording area of the mirror surface facing the stamper One having an uneven portion (JP-A-1-306214) has been proposed. In addition, the amount of an additive (release agent) containing a component for increasing the surface tension with the stamper contained in the resin molding material is set to 0.01% by weight or less (Japanese Patent Laid-Open No. 5-109125). There has been proposed one in which the anchor effect between a molded substrate and a stamper is improved.
Further, molding is performed under molding conditions in which the final pressure of the injection compression before opening the mold is set lower than usual (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-246644).
Publication).

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、サーボ
領域の内周側および外周側にグルーブや連続したマーク
を複数トラック設けたもの、基板本体の径方向に変位し
た位置に凹状溝を形成したもの、および、スタンパと対
向するミラー面の情報記録領域以外にアンダーカット凹
凸部を形成したものは、記録可能な領域の面積を狭める
という問題があった。また、スタンパとの表面張力を大
きくさせる成分を含有する添加剤(離型剤)を0.01
重量%以下としてアンカー効果を向上させる方法は、同
一射出成形設備を用いて、光ディスク全体においてマー
クの占める面積が少ない光ディスクと全面にマークや溝
が配された光ディスクの樹脂成形基板とを織り交ぜて
(スタンパを交換するだけの変更で)射出成形する場
合、成形用の樹脂ペレットを置きかえる必要があるため
に成形樹脂の不要な廃棄を余儀なくされ、また成形樹脂
の交換作業に時間を割かれるという問題があった。ま
た、ディスク外周側端面の厚さ方向の中央部分にV溝部
または山形突部のアンダーカット部を形成する方法や、
型開前の射出圧縮最終圧を通常より低圧に設定した成形
条件で成形する方法は、マークずれや二重転写・ゴース
トに対する充分な改善効果が得られないという問題があ
った。
However, a servo area provided with a plurality of tracks on the inner and outer peripheral sides of the servo area, a concave area formed at a position displaced in the radial direction of the substrate body, In the case where the undercut concave and convex portions are formed other than the information recording area on the mirror surface facing the stamper, there is a problem that the area of the recordable area is reduced. Further, an additive (release agent) containing a component for increasing the surface tension with the stamper is added to 0.01%.
A method for improving the anchor effect by setting the weight% or less is to interweave an optical disk having a small area occupied by a mark in the entire optical disk and a resin molded substrate of the optical disk in which marks and grooves are arranged on the entire surface using the same injection molding equipment. In the case of injection molding (by simply changing the stamper), it is necessary to replace the resin pellets for molding, which necessitates unnecessary disposal of the molding resin, and also takes time to replace the molding resin. was there. A method of forming an undercut portion of a V-groove or a chevron at a central portion in a thickness direction of an outer peripheral end surface of a disk;
The method of molding under the molding conditions in which the final pressure of the injection compression before opening the mold is set to a pressure lower than usual has a problem that a sufficient improvement effect on mark misalignment, double transfer and ghost cannot be obtained.

【0010】上記問題を解決するため、本発明は、サン
プルサーボトラッキング方式を用いた光ディスクにおい
て、マークずれや二重転写、ゴーストが少ない光ディス
クおよびその製造方法を提供することを目的とする。
[0010] In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide an optical disk using a sample servo tracking method, which has less mark shift, double transfer and ghost, and a method of manufacturing the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の光ディスクは、樹脂成形基板を含み、ディ
スク周方向に交互に配置された複数のサーボ領域と複数
のデータ領域とを備える光ディスクであって、前記サー
ボ領域は、仮想トラック中心ラインに沿って配置された
クロックマークと、前記仮想トラック中心ラインに沿っ
て蛇行配列されたウオブルマークとを備え、前記樹脂成
形基板の厚さが0.7mm以下であることを特徴とす
る。上記本発明の光ディスクでは、樹脂成形基板の厚さ
が0.7mm以下であるため、データ領域が大きいサン
プルサーボトラッキング方式を用いても、樹脂成形基板
を形成するときのマークずれや二重転写、ゴーストが少
ない光ディスクが得られる。
In order to achieve the above-mentioned object, an optical disk according to the present invention includes a resin molded substrate and has a plurality of servo areas and a plurality of data areas alternately arranged in a circumferential direction of the disk. An optical disc, wherein the servo area includes a clock mark arranged along a virtual track center line, and wobble marks arranged in a meandering manner along the virtual track center line, and the thickness of the resin molded substrate is reduced. It is not more than 0.7 mm. In the optical disc of the present invention, since the thickness of the resin molded substrate is 0.7 mm or less, even if the sample servo tracking method having a large data area is used, mark shift and double transfer when forming the resin molded substrate, An optical disk with few ghosts can be obtained.

【0012】上記本発明の光ディスクでは、前記樹脂成
形基板が射出成形によって形成された基板であることが
好ましい。
In the optical disk of the present invention, it is preferable that the resin molded substrate is a substrate formed by injection molding.

【0013】上記本発明の光ディスクでは、前記樹脂成
形基板の一主面の上方に形成された磁性材料からなる記
録膜をさらに備えることが好ましい。上記構成によっ
て、情報信号を磁気記録することができる光ディスクが
得られる。
It is preferable that the optical disk of the present invention further includes a recording film made of a magnetic material formed above one main surface of the resin molded substrate. With the above configuration, an optical disk capable of magnetically recording an information signal can be obtained.

【0014】上記本発明の光ディスクでは、隣接する前
記仮想トラック中心ライン間の距離(トラックピッチ)
が、前記ウオブルマークの径方向の幅の2倍よりも小さ
いことが好ましい。上記構成によって、記録密度を向上
させることができる。
In the above optical disk of the present invention, the distance (track pitch) between adjacent virtual track center lines.
However, it is preferable that the wobble mark be smaller than twice the radial width. With the above configuration, the recording density can be improved.

【0015】上記本発明の光ディスクでは、前記ウオブ
ルマークは、隣接する前記仮想トラック中心ライン毎に
蛇行の方向が異なることが好ましい。上記構成によっ
て、隣接するトラックからの信号の干渉を防止できる。
In the optical disc of the present invention, it is preferable that the wobble mark has a meandering direction different for each adjacent virtual track center line. With the above configuration, it is possible to prevent interference of signals from adjacent tracks.

【0016】上記本発明の光ディスクでは、複数のアド
レスマークからなるアドレスマーク列を備え、前記アド
レスマーク列が複数のサーボ領域にわたって分散して配
置されていることが好ましい。
It is preferable that the optical disk of the present invention has an address mark sequence including a plurality of address marks, and that the address mark sequence is distributed over a plurality of servo areas.

【0017】上記本発明の光ディスクでは、前記複数の
サーボ領域の全てまたは一部のサーボ領域にひきつづ
き、前記樹脂成形基板の反りを検出するための学習領域
を備え、前記学習領域は、複数のウオブルマークを備え
ることが好ましい。上記構成によって、樹脂成形基板を
薄くすることによって発生する樹脂成形基板の反りの影
響を抑制することができる。
In the optical disc of the present invention, a learning area for detecting warpage of the resin molded substrate is provided following all or a part of the plurality of servo areas, and the learning area includes a plurality of wobble areas. It is preferred to have a bullmark. With the above configuration, it is possible to suppress the influence of the warpage of the resin molded substrate caused by thinning the resin molded substrate.

【0018】上記本発明の光ディスクでは、前記サーボ
領域は、前記学習領域の存在を示す指標マークを備える
ことが好ましい。
In the optical disk of the present invention, it is preferable that the servo area has an index mark indicating the existence of the learning area.

【0019】上記本発明の光ディスクでは、制御情報を
さらに含み、前記制御情報が外周部に形成されているこ
とが好ましい。
It is preferable that the optical disc of the present invention further includes control information, and the control information is formed on an outer peripheral portion.

【0020】上記本発明の光ディスクでは、前記樹脂成
形基板と前記記録膜との間に、前記樹脂成形基板側から
順次積層された誘電体薄膜と磁性体薄膜とを備え、前記
データ領域は、前記樹脂成形基板側から光を照射したと
きに、記録再生波長の略3分の2の波長領域における反
射率が記録再生波長の波長領域における反射率よりも低
いことが好ましい。上記構成によって、データ領域に記
録不可領域を容易に形成することができる。
In the optical disk of the present invention, a dielectric thin film and a magnetic thin film are sequentially stacked from the resin molded substrate side between the resin molded substrate and the recording film, and the data area is When light is irradiated from the resin molded substrate side, it is preferable that the reflectance in the wavelength region of approximately two thirds of the recording / reproducing wavelength is lower than the reflectance in the wavelength region of the recording / reproducing wavelength. With the above configuration, a non-recordable area can be easily formed in the data area.

【0021】上記本発明の光ディスクでは、前記磁性体
薄膜と前記記録膜との間に磁性体からなる制御膜をさら
に備え、前記制御膜のキュリー温度が、前記磁性体膜の
キュリー温度および前記記録膜のキュリー温度よりも低
いことが好ましい。上記構成によって、記録膜に記録さ
れた信号を容易に分解能を高めて再生することができ
る。
In the optical disc of the present invention, a control film made of a magnetic material is further provided between the magnetic thin film and the recording film, and the Curie temperature of the control film is determined by the Curie temperature of the magnetic film and the recording temperature. Preferably, it is lower than the Curie temperature of the membrane. With the above configuration, the signal recorded on the recording film can be easily reproduced with higher resolution.

【0022】上記本発明の光ディスクでは、前記データ
領域に記録される記録マークの長さが、データ領域に記
録されたデータを再生するために照射される光スポット
の有効径の10%以上であることが好ましい。上記構成
によって、データ領域に記録されたデータを精度良く再
生することができる。
In the optical disk of the present invention, the length of the recording mark recorded in the data area is at least 10% of the effective diameter of a light spot irradiated for reproducing data recorded in the data area. Is preferred. With the above configuration, data recorded in the data area can be accurately reproduced.

【0023】上記本発明の光ディスクでは、前記樹脂成
形基板がポリカーボネート樹脂からなることが好まし
い。
In the optical disk of the present invention, it is preferable that the resin molded substrate is made of a polycarbonate resin.

【0024】本発明の光ディスクの製造方法は、樹脂成
形基板を含みサンプルサーボトラッキング方式を用いた
光ディスクの製造方法であって、凹凸形状を有するスタ
ンパを備える成形キャビティに樹脂を射出することによ
って、厚さが0.7mm以下の前記樹脂成形基板を形成
する工程を含むことを特徴とする。上記本発明の光ディ
スクの製造方法では、射出成形によって厚さが0.7m
m以下の樹脂成形基板を形成するため、樹脂成形基板を
形成する際にマークずれや二重転写、ゴーストが発生す
ることを防止できる。
The method of manufacturing an optical disk according to the present invention is a method of manufacturing an optical disk including a resin molded substrate and using a sample servo tracking method. A step of forming the resin molded substrate having a thickness of 0.7 mm or less. In the optical disk manufacturing method of the present invention, the thickness is 0.7 m by injection molding.
Since a resin-molded substrate having a size of m or less is formed, it is possible to prevent the occurrence of mark shift, double transfer, and ghost when forming the resin-molded substrate.

【0025】上記本発明の光ディスクの製造方法では、
前記スタンパがニッケルからなり、前記樹脂がポリカー
ボネート樹脂であることが好ましい。
In the method for manufacturing an optical disk according to the present invention,
Preferably, the stamper is made of nickel, and the resin is a polycarbonate resin.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0027】(実施形態1)実施形態1では、本発明の
光ディスクについて、一例を説明する。
(Embodiment 1) In Embodiment 1, an example of an optical disk of the present invention will be described.

【0028】実施形態1の光ディスク10について、平
面図を図1(a)に、一部断面図を図1(b)に示す。
図1を参照して、光ディスク10は、樹脂成形基板11
と、樹脂成形基板11上に積層された、誘電体薄膜から
なるエンハンス膜12、記録膜13、断熱膜14、反射
膜15および保護コート16とを備える。
FIG. 1A is a plan view of the optical disc 10 according to the first embodiment, and FIG.
Referring to FIG. 1, an optical disk 10 includes a resin molded substrate 11.
And an enhancement film 12, a recording film 13, a heat insulating film 14, a reflection film 15, and a protective coat 16 which are laminated on a resin molded substrate 11 and made of a dielectric thin film.

【0029】樹脂成形基板11は、たとえば、ポリカー
ボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂、メタクリル樹脂
などからなり、射出成形によって形成できる。樹脂成形
基板11は、たとえば直径が約60mmである。また、
樹脂成形基板11は、厚さが0.7mm以下である。な
お、樹脂成形基板11は、厚さが0.3mm以上である
ことが好ましい。樹脂成形基板11の厚さを0.3mm
以上とすることによって、光ディスク10の反りを小さ
くすることができる。すなわち、樹脂成形基板11の厚
さは、0.3mm以上0.7mm以下であることが特に
好ましい。
The resin molded substrate 11 is made of, for example, a polycarbonate resin, a polyolefin resin, a methacryl resin, or the like, and can be formed by injection molding. The resin molded substrate 11 has a diameter of, for example, about 60 mm. Also,
The resin molded substrate 11 has a thickness of 0.7 mm or less. It is preferable that the resin molded substrate 11 has a thickness of 0.3 mm or more. 0.3 mm thick resin molded substrate 11
With the above, the warpage of the optical disk 10 can be reduced. That is, the thickness of the resin molded substrate 11 is particularly preferably 0.3 mm or more and 0.7 mm or less.

【0030】エンハンス膜12は、光の反射率を適切な
値に調整する膜である。エンハンス膜12は、誘電体薄
膜からなり、たとえば、厚さが約90nmのSiN薄膜
を用いることができる。
The enhancement film 12 is a film for adjusting the light reflectance to an appropriate value. The enhance film 12 is made of a dielectric thin film, and for example, a SiN thin film having a thickness of about 90 nm can be used.

【0031】記録膜13は、データ領域22(図2参
照)を形成する膜であり、たとえば、厚さが約15nm
のTbFeCo垂直磁化膜を用いることができる。記録
膜13への情報信号の記録は、たとえば、熱磁気的な作
用による記録や、磁界変調記録による記録によって行う
ことができる。
The recording film 13 is a film for forming the data area 22 (see FIG. 2), and has a thickness of about 15 nm, for example.
TbFeCo perpendicular magnetization film can be used. The recording of the information signal on the recording film 13 can be performed by, for example, recording by a thermomagnetic effect or recording by magnetic field modulation recording.

【0032】断熱膜14は、記録膜13から反射膜15
への熱の拡散を制御する膜であり、たとえば、厚さが約
10nmのSiN膜を用いることができる。
The heat insulating film 14 is composed of the recording film 13 and the reflective film 15
For example, an SiN film having a thickness of about 10 nm can be used.

【0033】反射膜15は、記録膜13を透過した光を
反射する膜であり、たとえば、厚さが約40nmのAl
Ti膜を用いることができる。
The reflection film 15 is a film that reflects light transmitted through the recording film 13, and is, for example, an Al film having a thickness of about 40 nm.
A Ti film can be used.

【0034】保護コート16は、反射膜15が傷つくこ
とを防止する膜であり、たとえば、厚さが約10μmの
紫外線硬化樹脂を用いることができる。
The protective coat 16 is a film for preventing the reflection film 15 from being damaged. For example, an ultraviolet curable resin having a thickness of about 10 μm can be used.

【0035】光ディスク10の要部拡大模式図を、図2
に示す。図2を参照して、光ディスク10は、樹脂成形
基板11の少なくとも一主面側に、ディスク周方向に交
互に配置された複数のサーボ領域21と複数のデータ領
域22とを備える。本発明の光ディスク10は、サンプ
ルサーボトラッキング方式によって、照射される光スポ
ットのトラッキングを行う。すなわち、サーボ領域21
は、仮想トラック中心ライン23に沿って蛇行配列され
たウオブルマーク24(第1のウオブルマーク)および
ウオブルマーク25(第2のウオブルマーク)と、仮想
トラック中心ライン23に沿って配置されたクロックマ
ーク26と、アドレスマークあるいは同期マークなどの
制御用マーク27とを備える。これらのマークは、樹脂
成形基板11に、凸部あるいは凹部などとして形成され
る。
FIG. 2 is an enlarged schematic view of a main part of the optical disc 10 shown in FIG.
Shown in Referring to FIG. 2, optical disk 10 includes a plurality of servo areas 21 and a plurality of data areas 22 alternately arranged in the disk circumferential direction on at least one principal surface side of resin molded substrate 11. The optical disk 10 of the present invention performs tracking of an irradiated light spot by a sample servo tracking method. That is, the servo area 21
Are wobble marks 24 (first wobble marks) and wobble marks 25 (second wobble marks) arranged meandering along the virtual track center line 23, and clock marks arranged along the virtual track center line 23. 26, and a control mark 27 such as an address mark or a synchronization mark. These marks are formed on the resin molded substrate 11 as convex portions or concave portions.

【0036】サーボ領域21およびデータ領域22は、
ディスクの周方向に交互に存在し、その数はそれぞれ、
1トラックに1000〜3000である。
The servo area 21 and the data area 22
It exists alternately in the circumferential direction of the disk, and the number is
The number is 1000 to 3000 for one track.

【0037】ウオブルマーク24および25、クロック
マーク26および制御用マーク27の半径方向の幅は、
トラックピッチ(径方向に隣接する仮想トラック中心ラ
イン23間の距離)の2分の1から4分の3程度の大き
さである。たとえば、トラックピッチを約0.7μmと
した場合、各マークのディスク径方向の幅を約0.5μ
m、長さを0.3μm〜0.6μmとすることができ
る。また、各マークの深さは、λ/(8×n)〜λ/
(4×n)(但し、λは読み取りレーザ波長、nはディ
スクの屈折率)の範囲内の所定の深さとすることがで
き、たとえば、深さを約90nmとすることができる。
The radial widths of the wobble marks 24 and 25, the clock mark 26 and the control mark 27 are as follows:
The size is about one-half to three-quarters of the track pitch (the distance between the virtual track center lines 23 adjacent in the radial direction). For example, when the track pitch is about 0.7 μm, the width of each mark in the disk radial direction is about 0.5 μm.
m and the length can be 0.3 μm to 0.6 μm. The depth of each mark is from λ / (8 × n) to λ /
The depth may be a predetermined depth within a range of (4 × n) (where λ is the reading laser wavelength and n is the refractive index of the disk). For example, the depth may be about 90 nm.

【0038】制御用マーク27は、複数のアドレスマー
クからなるアドレスマーク列を含んでもよい。この場
合、アドレスマーク列は、複数のサーボ領域21に分散
して配置される。複数のサーボ領域21にアドレスマー
ク列が分散して配置される分散配置アドレスマークの場
合には、樹脂成形基板11を形成する際にマークずれや
二重転写・ゴーストが発生しやすいため、本発明の構成
は効果的である。
The control mark 27 may include an address mark string composed of a plurality of address marks. In this case, the address mark strings are dispersedly arranged in the plurality of servo areas 21. In the case of a distributed address mark in which the address mark array is dispersedly arranged in the plurality of servo areas 21, mark shift, double transfer, and ghost are likely to occur when the resin molded substrate 11 is formed. Is effective.

【0039】実施形態1の光ディスク10を光ディスク
ドライブ装置(図示せず)に格納して情報の記録再生を
行う際には、光ディスクドライブ装置に内蔵された光ピ
ックアップから放射される光が対物レンズなどによって
収束され、光スポットとして光ディスク10の仮想トラ
ック中心ライン23に照射される。そして、光スポット
は、適切なサーボ手段を利用して仮想トラック中心ライ
ン23に沿って走査される。
When the optical disk 10 of the first embodiment is stored in an optical disk drive (not shown) for recording and reproducing information, light radiated from an optical pickup built in the optical disk drive uses an objective lens or the like. And irradiates the virtual track center line 23 of the optical disc 10 as a light spot. Then, the light spot is scanned along the virtual track center line 23 using an appropriate servo means.

【0040】ウオブルマーク24および25は、ディス
ク径方向に隣接するトラックごとに蛇行の方向が異な
る。また、隣接する仮想トラック中心ライン23間の距
離(トラックピッチ)は、ウオブルマーク24および2
5のディスク径方向の幅の2倍よりも小さい。トラック
ピッチがウオブルマーク24および25のディスク径方
向の幅の2倍よりも小さい場合(たとえば、ウオブルマ
ーク24および25のディスク径方向の幅が約0.5μ
m程度であり、トラックピッチが約0.7μmである場
合)には、隣接するトラック毎にウオブルマーク24お
よび25の蛇行の方向を変える必要がある。これは、ト
ラックピッチがウオブルマーク24および25のディス
ク径方向の幅の2倍よりも小さい場合に、ウオブルマー
クの蛇行の方向を等しくすると(図11参照)、隣接す
るトラックのウオブルマークからの信号が漏れ込むとい
う問題が生じるためである。
The wobble marks 24 and 25 have different meandering directions for adjacent tracks in the radial direction of the disk. The distance (track pitch) between the adjacent virtual track center lines 23 is the wobble marks 24 and 2
5 is smaller than twice the width in the disk radial direction. When the track pitch is smaller than twice the radial width of the wobble marks 24 and 25 (for example, when the radial width of the wobble marks 24 and 25 is about 0.5 μm).
m and the track pitch is about 0.7 μm), it is necessary to change the meandering direction of the wobble marks 24 and 25 for each adjacent track. This is because if the track pitch is smaller than twice the width of the wobble marks 24 and 25 in the radial direction of the disk, and if the wobble marks meander in the same direction (see FIG. 11), the signal from the wobble marks of the adjacent tracks is reduced. This is because a problem of leaking occurs.

【0041】厚さが0.7mmである樹脂成形基板11
を用いた実施形態1の光ディスク10と、厚さが1.2
mmである従来の樹脂成形基板を用いた光ディスクとに
ついて、樹脂成形基板11を形成する際の転写エラー
(マークずれや二重転写・ゴースト)の発生頻度を測定
した。光ディスク10の測定結果を図3に、従来の光デ
ィスクの測定結果を図13に示す。図3から明らかなよ
うに、実施形態1の光ディスク10は、従来の光ディス
クに比べて転写エラーが少なかった。
Resin molded substrate 11 having a thickness of 0.7 mm
Optical disk 10 of the first embodiment using
With respect to an optical disk using a conventional resin molded substrate having a thickness of 1 mm, the frequency of occurrence of transfer errors (mark shift, double transfer, ghost) when forming the resin molded substrate 11 was measured. FIG. 3 shows the measurement result of the optical disk 10 and FIG. 13 shows the measurement result of the conventional optical disk. As is apparent from FIG. 3, the transfer error of the optical disk 10 of the first embodiment was smaller than that of the conventional optical disk.

【0042】さらに、図3から明らかなように、転写エ
ラーは、ディスクの内周部と外周部に多く発生してお
り、内周部と外周部とを比較すると外周部の方が転写エ
ラーが少ないことがわかった。光ディスクの場合、一般
的に、記録や再生を開始する位置はリードインエリアと
呼ばれ、リードインエリアには、記録や再生を行うため
のシステム情報や記録されている情報のインデックステ
ーブルなど重要な制御情報が配置されている。したがっ
て、光ディスク10では、上記制御情報を外周部に形成
し、ディスクの外周側から内周側に向かって記録や再生
が行われるようにすることが好ましい。ディスクの外周
側から内周側に向かって記録や再生が行われるようにす
ることによって、転写エラーが少ない外周側から光スポ
ットのトラッキング制御を開始することが多くなり、ア
クセス性能が向上する。したがって、上記構成によって
信頼性が高い光ディスクが得られる。
Further, as is apparent from FIG. 3, transfer errors occur more frequently in the inner and outer peripheral portions of the disk, and when the inner and outer peripheral portions are compared, the transfer error in the outer peripheral portion is larger. It turned out to be less. In the case of an optical disc, a position at which recording or reproduction is started is generally called a lead-in area. In the lead-in area, there are important information such as system information for recording and reproduction and an index table of recorded information. Control information is arranged. Therefore, in the optical disk 10, it is preferable that the control information is formed on the outer peripheral portion so that recording and reproduction are performed from the outer peripheral side to the inner peripheral side of the disk. By performing recording and reproduction from the outer peripheral side to the inner peripheral side of the disc, tracking control of the light spot is often started from the outer peripheral side where the transfer error is small, and the access performance is improved. Therefore, a highly reliable optical disk can be obtained by the above configuration.

【0043】上記実施形態1の光ディスクでは、光ディ
スクの樹脂成形基板11の厚さを薄くすることによっ
て、マークずれや二重転写・ゴーストの発生が少ない光
ディスクが得られる。転写エラー(マークずれや二重転
写・ゴースト)の発生状態を樹脂成形基板の厚さを変え
て検討したが、樹脂成形基板の厚さが1.2mmのとき
には、転写エラーが非常に激しく発生し、サーボ領域が
その機能を発揮しなかった。また、樹脂成形基板の厚さ
が0.8mmのときには、厚さ1.2mmの場合に比べ
て転写エラーの発生頻度は改善されるものの、依然とし
てサーボ領域が十分に機能しなかった。一方、樹脂成形
基板の厚さが0.6mmのときには、サーボ領域がその
機能を十分に発揮し、その信号品質も良好であった。
In the optical disk of the first embodiment, by reducing the thickness of the resin molded substrate 11 of the optical disk, it is possible to obtain an optical disk with less occurrence of mark shift, double transfer and ghost. We examined the occurrence of transfer errors (mark shift and double transfer / ghost) by changing the thickness of the resin-molded substrate. However, when the thickness of the resin-molded substrate was 1.2 mm, a very severe transfer error occurred. , The servo area did not perform its function. When the thickness of the resin molded substrate was 0.8 mm, the frequency of occurrence of transfer errors was improved as compared with the case where the thickness was 1.2 mm, but the servo area still did not function sufficiently. On the other hand, when the thickness of the resin molded substrate was 0.6 mm, the servo region exhibited its function sufficiently and the signal quality was good.

【0044】なお、実施形態1では、記録膜13の一例
としてTbFeCo膜を挙げたが、記録膜13に結晶−
非晶質相変化膜を用いても同様の効果を得ることができ
る。たとえば、エンハンス膜12としてZnSやGeN
を用い、記録膜13としてGeSbTe、InSbT
e、InGaSb、GeSnTeまたはAgSbTeか
らなる膜を用い、断熱膜14としてZnS・SiO2
を用い、反射膜としてAu、Al、Ti、Niもしくは
Cr単体またはこれらの合金からなる膜を用いることが
できる。
In the first embodiment, a TbFeCo film is used as an example of the recording film 13.
Similar effects can be obtained by using an amorphous phase change film. For example, ZnS or GeN
GeSbTe, InSbT as the recording film 13
A film made of e, InGaSb, GeSnTe or AgSbTe can be used, a ZnS.SiO 2 film can be used as the heat insulating film 14, and a film made of Au, Al, Ti, Ni or Cr alone or an alloy thereof can be used as the reflective film. .

【0045】上記実施形態1の光ディスク10では、樹
脂成形基板11の厚さが0.7mm以下であるため、サ
ンプルサーボトラッキング方式を用いた光ディスクにお
いて、マークずれや二重転写、ゴーストが少ない光ディ
スクが得られる。
In the optical disk 10 of the first embodiment, since the thickness of the resin molded substrate 11 is 0.7 mm or less, an optical disk using the sample servo tracking method, which has few mark shifts, double transfer, and ghost, can be used. can get.

【0046】さらに実施形態1の光ディスク10では、
サンプルサーボトラッキング方式を用いているため、十
分なデータ領域を備える光ディスクが得られる。
Further, in the optical disk 10 of the first embodiment,
Since the sample servo tracking method is used, an optical disk having a sufficient data area can be obtained.

【0047】(実施形態2)実施形態2では、本発明の
光ディスク10の製造方法について説明する。なお、実
施形態1で説明した部分については重複する説明を省略
する。
(Embodiment 2) In Embodiment 2, a method for manufacturing the optical disk 10 of the present invention will be described. Note that a duplicate description of the portions described in the first embodiment will be omitted.

【0048】実施形態2の光ディスク10の製造方法で
は、まず、樹脂成形基板11を射出成形したのち、樹脂
成形基板11上に、エンハンス膜12、記録膜13、断
熱膜14、反射膜15および保護コート16を形成す
る。
In the method of manufacturing the optical disk 10 according to the second embodiment, first, after the resin molded substrate 11 is injection molded, the enhancement film 12, the recording film 13, the heat insulating film 14, the reflection film 15, the protective film A coat 16 is formed.

【0049】エンハンス膜12、記録膜13、断熱膜1
4および反射膜15は、それぞれ、たとえば、スパッタ
リング法、真空蒸着法またはCVD法などによって形成
できる。保護コート16は、たとえば、反射膜15上に
紫外線硬化樹脂を塗布したのち、紫外線を照射して樹脂
を硬化させることによって形成できる。
Enhancement film 12, recording film 13, heat insulation film 1
4 and the reflection film 15 can be formed by, for example, a sputtering method, a vacuum evaporation method, a CVD method, or the like. The protective coat 16 can be formed, for example, by applying an ultraviolet curable resin on the reflective film 15 and then irradiating ultraviolet rays to cure the resin.

【0050】次に、樹脂成形基板11の形成方法につい
て、一例を説明する。まず、本発明の光ディスク10の
樹脂成形基板11を製造するための射出成形装置につい
て、一例を説明する。
Next, an example of a method for forming the resin molded substrate 11 will be described. First, an example of an injection molding apparatus for manufacturing the resin molded substrate 11 of the optical disc 10 of the present invention will be described.

【0051】実施形態2の製造方法で用いる射出成形装
置40について、一例の要部を示した模式断面図を図4
に示す。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing an example of a main part of an injection molding apparatus 40 used in the manufacturing method according to the second embodiment.
Shown in

【0052】図4を参照して、射出成形装置40は、樹
脂成形基板11の表面にマークを形成するためのスタン
パ41と、スタンパ41を設置するための固定側鏡面板
42と、固定側鏡面板42を固定側金型本体(図示せ
ず)に固定する背面板43と、スタンパ41を固定側鏡
面板42に固定するための内側スタンパ押え44と、内
側スタンパ押え44の内側に設置したスプルーブッシュ
45と、可動側鏡面板46と、可動側鏡面板46を可動
側金型本体(図示せず)に固定する背面板47と、外側
スタンパ押え48と、可動側鏡面板46の内側に設置し
た可動ブッシュ49と、可動ブッシュ49の内側に設置
したポンチカッター50と、ポンチカッター50の内側
に設置したエジェクタピン51と、内側スタンパ押え4
4とスプルーブッシュ45との間に設けた空気通路52
と、可動側鏡面板46と可動ブッシュ49との間に設け
た空気通路53と、射出ノズル54とを備える。そし
て、スタンパ41と、可動側鏡面板46と、外側スタン
パ押え48とは、樹脂材料が充填される空間である成形
キャビティ55を形成している。射出成形装置40は、
ゲート56を介して成形キャビティ55に樹脂材料を射
出することによって、樹脂成形基板11を形成する。
Referring to FIG. 4, injection molding apparatus 40 includes a stamper 41 for forming a mark on the surface of resin molded substrate 11, a fixed mirror plate 42 for mounting stamper 41, and a fixed mirror. A rear plate 43 for fixing the face plate 42 to the fixed mold body (not shown), an inner stamper retainer 44 for fixing the stamper 41 to the fixed mirror plate 42, and a sprue installed inside the inner stamper retainer 44. A bush 45, a movable mirror plate 46, a rear plate 47 for fixing the movable mirror plate 46 to a movable mold body (not shown), an outer stamper retainer 48, and installed inside the movable mirror plate 46. Movable bush 49, a punch cutter 50 installed inside the movable bush 49, an ejector pin 51 installed inside the punch cutter 50, and an inner stamper presser 4
4 and an air passage 52 provided between the sprue bush 45
, An air passage 53 provided between the movable mirror plate 46 and the movable bush 49, and an injection nozzle 54. The stamper 41, the movable mirror plate 46, and the outer stamper retainer 48 form a molding cavity 55 that is a space filled with a resin material. The injection molding device 40
The resin molding substrate 11 is formed by injecting a resin material into the molding cavity 55 through the gate 56.

【0053】以下に、射出成形装置40の機能について
説明する。
The function of the injection molding device 40 will be described below.

【0054】固定側鏡面板42は、背面板43を介して
固定金型本体(図示せず)に取り付けられ、この固定金
型本体を介して、図示しない型締装置の固定盤に取り付
けられるている。
The fixed-side mirror plate 42 is attached to a fixed mold body (not shown) via a rear plate 43, and is attached to a fixed plate of a mold clamping device (not shown) via the fixed mold body. I have.

【0055】固定側鏡面板42と背面板43とは、成形
キャビティ55と同心軸上に配置されている。そして、
固定側鏡面板42および背面板43の内部には、成形キ
ャビティ55と同心軸上の位置に、固定側鏡面板42お
よび背面板43を貫通するように内側スタンパ押え44
とスプルーブッシュ45とが形成されている。このスプ
ルーブッシュ45の外周面と内側スタンパ押え44の内
周面との間には、成形キャビティ55に連通されている
微小クリアランスの環状の空気通路52が形成されてい
る。
The fixed side mirror plate 42 and the back plate 43 are arranged on the same axis as the molding cavity 55. And
Inside the fixed-side mirror plate 42 and the back plate 43, an inner stamper retainer 44 is provided at a position concentric with the molding cavity 55 so as to penetrate the fixed-side mirror plate 42 and the back plate 43.
And a sprue bush 45 are formed. Between the outer peripheral surface of the sprue bush 45 and the inner peripheral surface of the inner stamper retainer 44, there is formed an annular air passage 52 with minute clearance communicating with the molding cavity 55.

【0056】空気通路52は、固定金型本体(図示せ
ず)を貫通して設けられたパイプ(図示せず)を通じ
て、図示していない真空吸引装置または空気圧供給装置
に選択的に接続されるようになっている。後述するよう
に、樹脂成形基板11を成形したのち固定金型本体から
可動金型本体を型開きする際には、空気通路52を通じ
て空気が吸引される。また、型開きした後に、スタンパ
41から樹脂成形基板11を離型する際には、空気通路
52から所定の圧縮空気が吹き出される。
The air passage 52 is selectively connected to a vacuum suction device or an air pressure supply device (not shown) through a pipe (not shown) provided through a fixed mold body (not shown). It has become. As will be described later, when the movable mold body is opened from the fixed mold body after the resin molded substrate 11 is molded, air is sucked through the air passage 52. Further, when the resin molded substrate 11 is released from the stamper 41 after the mold is opened, predetermined compressed air is blown out from the air passage 52.

【0057】スプルーブッシュ45は、冷却水通路を備
えた二重筒構造である。樹脂成形基板11の成形時に
は、射出ノズル54から射出された樹脂材料が、スプル
ーブッシュ45を通じて成形キャビティ55に導かれ
る。
The sprue bush 45 has a double cylindrical structure provided with a cooling water passage. At the time of molding the resin molded substrate 11, the resin material injected from the injection nozzle 54 is guided to the molding cavity 55 through the sprue bush 45.

【0058】スタンパ41と共に成形キャビティ55を
形成する可動側鏡面板46は、背面板47を介して可動
金型本体(図示せず)に取り付けられており、前記可動
金型本体を介して型締装置の可動盤(図示せず)に取り
付けられている。
A movable mirror plate 46 forming a molding cavity 55 together with the stamper 41 is attached to a movable mold body (not shown) via a back plate 47, and the mold is clamped via the movable mold body. It is attached to a movable board (not shown) of the apparatus.

【0059】可動側鏡面板46のうち成形キャビティ5
5側の外周部には、外側スタンパ押え48が配置されて
いる。そして、スタンパ41は、内側スタンパ押え44
と外側スタンパ押え48とによって保持されている。ス
タンパ41は、たとえばニッケルからなり、樹脂成形基
板11に形成されるべきマーク(ウオブルマークやクロ
ックマークなど)に対応する凹凸形状が形成されてい
る。成形キャビティ55に樹脂材料を射出して樹脂成形
基板11を成形することによって、スタンパ41の凹凸
形状が樹脂成形基板11に転写される。
The molding cavity 5 of the movable mirror plate 46
An outer stamper retainer 48 is disposed on the outer peripheral portion on the fifth side. The stamper 41 is provided with an inner stamper retainer 44.
And the outer stamper retainer 48. The stamper 41 is made of, for example, nickel and has an uneven shape corresponding to a mark (such as a wobble mark or a clock mark) to be formed on the resin molded substrate 11. By injecting a resin material into the molding cavity 55 to form the resin molded substrate 11, the uneven shape of the stamper 41 is transferred to the resin molded substrate 11.

【0060】可動側鏡面板46および背面板47の中央
には、成形キャビティ55と同心軸上に可動側鏡面板4
6および背面板47を貫通するように、可動ブッシュ4
9が配置されている。
In the center of the movable side mirror plate 46 and the back plate 47, the movable side mirror plate 4
6 and the movable bush 4 so as to pass through the back plate 47.
9 are arranged.

【0061】可動ブッシュ49の外周面と可動側鏡面板
46の内周面との間には、微小クリアランスの環状の空
気通路53が形成されている。空気通路53には、可動
金型本体(図示せず)を貫通して設けられたパイプ(図
示せず)を介して、空気圧供給装置が接続されている。
固定側鏡面板42から可動側鏡面板46を型開きする際
には、空気通路53を通じて所定の圧縮空気が成形キャ
ビティ55側に吹き出される。
An annular air passage 53 having minute clearance is formed between the outer peripheral surface of the movable bush 49 and the inner peripheral surface of the movable mirror plate 46. An air pressure supply device is connected to the air passage 53 via a pipe (not shown) provided through a movable mold body (not shown).
When the movable mirror plate 46 is opened from the fixed mirror plate 42, predetermined compressed air is blown to the molding cavity 55 through the air passage 53.

【0062】可動ブッシュ49の内側には、可動ブッシ
ュ49を貫通するように、成形キャビティ55と同心軸
上にポンチカッター50が配置されている。ポンチカッ
ター50は、可動ブッシュ49の中心軸方向に移動可能
に配置されている。ポンチカッター50は、冷却水通路
を備えた二重筒構造を有する。ポンチカッター50の中
央部には、ポンチカッター50を貫通するようにエジェ
クタピン51が形成されている。エジェクタピン51
は、ポンチカッター50の中心軸方向に移動可能に配置
されている。
Inside the movable bush 49, a punch cutter 50 is disposed coaxially with the molding cavity 55 so as to penetrate the movable bush 49. The punch cutter 50 is arranged so as to be movable in the direction of the central axis of the movable bush 49. The punch cutter 50 has a double cylindrical structure provided with a cooling water passage. An ejector pin 51 is formed at the center of the punch cutter 50 so as to penetrate the punch cutter 50. Ejector pin 51
Are arranged so as to be movable in the central axis direction of the punch cutter 50.

【0063】ポンチカッター50の端部には複動シリン
ダ等の駆動手段(図示せず)が設けられており、ポンチ
カッター50は、この駆動手段を用いて中心軸方向に所
定の距離を移動させることができる。ポンチカッター5
0が射出ノズル54とは反対方向に引き込んだときに
は、スプルーブッシュ45とポンチカッター50との間
に環状のゲート56が形成される。また、ポンチカッタ
ー50をスプルーブッシュ45の方向に突き出すことに
よって、成形キャビティ55内で成形された樹脂成形基
板11の中央穴を打ち抜くことができる。
A driving means (not shown) such as a double-acting cylinder is provided at the end of the punch cutter 50, and the punch cutter 50 is moved by a predetermined distance in the direction of the central axis by using this driving means. be able to. Punch cutter 5
When 0 is drawn in the opposite direction to the injection nozzle 54, an annular gate 56 is formed between the sprue bush 45 and the punch cutter 50. In addition, by projecting the punch cutter 50 in the direction of the sprue bush 45, a central hole of the resin molded substrate 11 molded in the molding cavity 55 can be punched.

【0064】エジェクタピン51も、所定の駆動手段
(図示せず)によって、中心軸方向に所定の距離を移動
させることができる。金型を型開きしたのちにエジェク
タピン51をスプルーブッシュ45側に突き出すことに
よって、樹脂成形基板11から打ち抜かれた中央部分の
樹脂を分離することができる。
The ejector pin 51 can also be moved a predetermined distance in the direction of the central axis by a predetermined driving means (not shown). By projecting the ejector pins 51 toward the sprue bush 45 after the mold is opened, the resin in the central portion punched from the resin molded substrate 11 can be separated.

【0065】次に、射出成形装置40を用いて樹脂成形
基板11を製造する方法の一例について、以下に説明す
る。
Next, an example of a method for manufacturing the resin molded substrate 11 using the injection molding apparatus 40 will be described below.

【0066】まず、図4に示されているように、ポンチ
カッター50およびエジェクタピン51を可動金型本体
側に引き込んだ状態で、可動金型本体を固定金型本体に
型合わせする。そして、型合わせした状態で、射出装置
の射出ノズル54をスプルーブッシュ45に接触させ、
射出ノズル54から樹脂材料を射出する。射出された樹
脂材料は、スプルーブッシュ45およびゲート56を通
って、スタンパ41と可動側鏡面板46との間に形成さ
れた成形キャビティ55内に射出される。なお、スタン
パ41と可動側鏡面板46との距離は、形成される樹脂
成形基板の厚さが0.7mm以下となるように設定され
る。また、スタンパ41と可動側鏡面板46との距離
は、形成される樹脂成形基板の厚さが0.3mm以上と
なるように設定されることが好ましい。
First, as shown in FIG. 4, with the punch cutter 50 and the ejector pin 51 pulled into the movable mold body, the movable mold body is matched with the fixed mold body. Then, with the molds matched, the injection nozzle 54 of the injection device is brought into contact with the sprue bush 45,
The resin material is injected from the injection nozzle 54. The injected resin material is injected through a sprue bush 45 and a gate 56 into a molding cavity 55 formed between the stamper 41 and the movable mirror plate 46. Note that the distance between the stamper 41 and the movable mirror plate 46 is set so that the thickness of the formed resin molded substrate is 0.7 mm or less. Further, the distance between the stamper 41 and the movable mirror plate 46 is preferably set such that the thickness of the formed resin molded substrate is 0.3 mm or more.

【0067】成形キャビティ55内への樹脂材料の充填
が完了し、所定の冷却・固化期間が経過した後、ポンチ
カッター50を突き出すことによって、成形キャビティ
55内で成形された樹脂成形基板11の中央穴を打ち抜
く。
After the filling of the resin material into the molding cavity 55 is completed and a predetermined cooling / solidification period has elapsed, the punch cutter 50 is protruded, so that the center of the resin molding substrate 11 molded in the molding cavity 55 is formed. Punch a hole.

【0068】そして、この中央穴の打ち抜き後、型締装
置の可動盤(図示せず)を後退させることによって、固
定金型本体から可動金型本体を離脱させる。つまり、型
開き操作を行う。
After the center hole is punched out, the movable platen (not shown) of the mold clamping device is retracted, so that the movable die body is detached from the fixed die body. That is, a mold opening operation is performed.

【0069】なお、上記型開き操作を開始すると同時
に、または型開き操作の直前に、空気通路52から所定
の圧縮空気を成形キャビティ55側に供給する。またこ
れと同時に、空気通路53を通じて成形キャビティ55
内を吸引する。成形キャビティ55内で成形された樹脂
成形基板11は、空気通路52から吹き出される圧縮空
気によってスタンパ41から離脱させられる。一方、樹
脂成形基板11は、空気通路53を通じた空気の吸引に
よって、可動側鏡面版46に吸着させられる。
At the same time as starting the mold opening operation or immediately before the mold opening operation, a predetermined compressed air is supplied from the air passage 52 to the molding cavity 55 side. At the same time, the molding cavity 55 is
Suction inside. The resin molded substrate 11 molded in the molding cavity 55 is separated from the stamper 41 by compressed air blown out from the air passage 52. On the other hand, the resin molded substrate 11 is adsorbed to the movable mirror plate 46 by suction of air through the air passage 53.

【0070】つまり、可動金型本体が固定金型本体から
型開きされる際には、成形キャビティ55内で形成され
た樹脂成形基板11がスタンパ41から離脱させられ、
可動側鏡面板46に保持される。なお、樹脂成形基板1
1から打ち抜かれた中央穴打ち抜き部分の樹脂は、可動
金型本体側に残留する。
That is, when the movable mold main body is opened from the fixed mold main body, the resin molded substrate 11 formed in the molding cavity 55 is detached from the stamper 41,
It is held on the movable mirror plate 46. In addition, the resin molded substrate 1
The resin in the central hole punched portion punched from 1 remains on the movable mold body side.

【0071】可動金型本体を固定金型本体から一定距離
移動させることによって型開き操作を完了したのち、エ
ジェクタピン51を突き出すことによって、中央穴打ち
抜き部分の樹脂を可動金型本体から除去する。
After the mold opening operation is completed by moving the movable mold body from the fixed mold body by a predetermined distance, the ejector pin 51 is protruded to remove the resin in the central hole punched portion from the movable mold body.

【0072】その後、可動側鏡面板46に保持された樹
脂成形基板11を、所定の取出装置で取り出す。可動側
鏡面板46から樹脂成形基板11を取り出す際には、そ
の離脱(離型)を助勢するために、通常、空気通路53
を空気圧供給装置に接続して空気通路53から圧縮空気
を供給する。以上の工程によって、樹脂成形基板11が
形成される。
Thereafter, the resin molded substrate 11 held on the movable mirror plate 46 is taken out by a predetermined take-out device. When the resin molded substrate 11 is taken out from the movable mirror plate 46, an air passage 53 is usually used to assist the detachment (mold release).
Is connected to an air pressure supply device to supply compressed air from the air passage 53. Through the above steps, the resin molded substrate 11 is formed.

【0073】上記工程によって、厚さが1.2mmであ
る樹脂成形基板(従来の樹脂成形基板)を形成すると、
図13に示すような転写エラーが生じた。図13に示す
ように、従来の製造方法では、樹脂成形基板の内周部と
外周部で転写エラー(マークずれや2重転写・ゴース
ト)が生ずる傾向が強いことが分かった。このような転
写エラーは、樹脂成形基板を成形した後、金型を開いて
樹脂成形基板をスタンパ41から離型させる際に生ずる
と考えられる。そして、このような転写エラーは、樹脂
成形基板11の材料である樹脂(たとえば、ポリカーボ
ネート樹脂)の冷却速度(すなわち樹脂の硬化速度)、
およびスタンパ41と樹脂成形基板11との熱収縮率の
相違に起因すると考えられる。
When a resin molded substrate having a thickness of 1.2 mm (conventional resin molded substrate) is formed by the above steps,
A transfer error as shown in FIG. 13 occurred. As shown in FIG. 13, it has been found that in the conventional manufacturing method, a transfer error (mark shift, double transfer, ghost) tends to occur at the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the resin molded substrate. It is considered that such a transfer error occurs when the mold is opened and the resin molded substrate is released from the stamper 41 after molding the resin molded substrate. Such a transfer error is caused by the cooling rate of the resin (for example, polycarbonate resin) as the material of the resin molded substrate 11 (that is, the curing rate of the resin),
This is considered to be caused by the difference in the heat shrinkage between the stamper 41 and the resin molded substrate 11.

【0074】すなわち、スタンパ41と樹脂成形基板の
熱収縮率の差から、離型時にスタンパ41が再度樹脂成
形基板に接触し、スタンパ41に形成された凸部によっ
てゴーストマーク3a、4aおよび5aが形成されるも
のと考えられる。樹脂成形基板11とスタンパ41と
は、その熱収縮率が1桁程度異なるため(ポリカーボネ
ート樹脂の熱収縮率は6×10-5〜7×10-5[cm/
cm/℃]であり、ニッケルの熱収縮率は1.28×1
-5[cm/cm/℃]である)、スタンパ41と樹脂
成形基板11の接触面では常に接触面をずらす方向に力
が働いていると考えられる。したがって、たとえば金型
を開く時などのように、スタンパ41と樹脂成形基板1
1の接触摩擦力が弱まるように変化する場合には、スタ
ンパ41と樹脂成形基板11とのずれが起こり易い状況
となる。
That is, the stamper 41 comes into contact with the resin molded substrate again at the time of release from the difference in thermal shrinkage between the stamper 41 and the resin molded substrate, and the ghost marks 3a, 4a and 5a are formed by the convex portions formed on the stamper 41. It is thought to be formed. Since the resin molded substrate 11 and the stamper 41 have different heat shrinkage ratios by about one digit (the heat shrinkage ratio of the polycarbonate resin is 6 × 10 −5 to 7 × 10 −5 [cm /
cm / ° C.] and the heat shrinkage of nickel is 1.28 × 1
0 −5 [cm / cm / ° C.]), it is considered that a force always acts on the contact surface between the stamper 41 and the resin molded substrate 11 in a direction to shift the contact surface. Therefore, the stamper 41 and the resin-molded substrate 1 are used, for example, when the mold is opened.
If the contact frictional force changes so that the contact frictional force of the stamper 41 becomes weaker, the displacement between the stamper 41 and the resin molded substrate 11 is likely to occur.

【0075】ここで、スタンパ41の全面に高密度でマ
ーク群や溝が形成されている場合には、アンカー効果が
大きく、スタンパ41と樹脂成形基板とのずれが生じに
くい。また、スタンパ41の全面に高密度でマーク群や
溝が形成されている場合には、スタンパ41と樹脂成形
基板との接触面積が大きいため、樹脂成形基板からスタ
ンパ41への熱の伝達が大きいと考えられる。このた
め、金型を開いたときの樹脂の温度降下が大きく、樹脂
の硬度も大きくなるため、転写エラーが生じにくい状況
になっているとも考えられる。
Here, when the mark groups and grooves are formed at high density on the entire surface of the stamper 41, the anchor effect is large, and the displacement between the stamper 41 and the resin molded substrate hardly occurs. Further, when the mark groups and grooves are formed at high density on the entire surface of the stamper 41, the contact area between the stamper 41 and the resin molded substrate is large, so that the heat transfer from the resin molded substrate to the stamper 41 is large. it is conceivable that. For this reason, the temperature drop of the resin when the mold is opened is large, and the hardness of the resin is also large, so that it is considered that a transfer error is unlikely to occur.

【0076】一方、実施形態1で説明したサンプルサー
ボトラッキング方式を用いる光ディスク10の場合に
は、樹脂成形基板11に占めるマークの面積が小さいた
め、樹脂成形基板11とスタンパ41との密着性が弱
く、アンカー効果が乏しい。
On the other hand, in the case of the optical disk 10 using the sample servo tracking method described in the first embodiment, since the area of the mark occupying the resin molded substrate 11 is small, the adhesion between the resin molded substrate 11 and the stamper 41 is weak. , Poor anchor effect.

【0077】また樹脂成形基板11からスタンパ41へ
の熱の伝達も悪いため、型開きの時点では成形樹脂の温
度が十分下がっておらず、成形樹脂の硬さが低いためマ
ークずれや二重転写・ゴーストが発生しやすい。上述し
たように、射出成形では、樹脂成形基板11の内周部と
外周部で二重転写が生じやすいが、この部分の成形キャ
ビティ55は、金型部品がいくつか組み合わされて形成
されており、熱の伝達を妨げる空間が多いために、熱の
伝達が中周領域に比べて悪いことが予想される。したが
って、熱の伝達が悪く、成形樹脂の温度降下が小さいこ
とが、樹脂成形基板11の内周部と外周部で2重転写が
生じやすい原因の一つであると考えることができる。
Since the heat transfer from the resin molded substrate 11 to the stamper 41 is also poor, the temperature of the molded resin is not sufficiently lowered at the time of opening the mold, and the hardness of the molded resin is low. -Ghosts are likely to occur. As described above, in the injection molding, double transfer easily occurs at the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the resin molded substrate 11, but the molding cavity 55 in this portion is formed by combining some mold parts. However, it is expected that the heat transfer will be worse than in the middle peripheral region because there are many spaces that hinder the heat transfer. Therefore, poor heat transfer and a small temperature drop of the molding resin can be considered as one of the causes of the occurrence of double transfer between the inner and outer peripheral portions of the resin molded substrate 11.

【0078】上記実施形態2に記載のように、樹脂成形
基板11の厚さを0.7mm以下に薄くした場合には、
ディスク全体においてマークの占める面積が少ないサン
プルサーボトラッキング方式を用いた光ディスクの場合
でも、マークずれや二重転写・ゴーストの発生を抑制す
ることができる。これには2つの理由が考えられる。
As described in the second embodiment, when the thickness of the resin molded substrate 11 is reduced to 0.7 mm or less,
Even in the case of an optical disk using the sample servo tracking method in which the area occupied by the mark in the entire disk is small, it is possible to suppress the occurrence of mark shift, double transfer, and ghost. There are two possible reasons for this.

【0079】一つの理由として、樹脂成形基板11の厚
さが薄いため、樹脂成形基板11が持っているトータル
の熱容量が減ることになり、成形樹脂を成形キャビティ
55に充填した後の成形樹脂の温度降下速度が大きくな
り、樹脂温度が十分下がって樹脂の硬度が大きくなると
いう理由が考えられる。もう一つの理由として、スタン
パ41と樹脂成形基板11との熱収縮率の差から生じる
スタンパ41と樹脂成形基板11との間に働くずれの力
が、樹脂成形基板11が薄くなったために弱くなったと
いう理由が考えられる。
One reason is that since the thickness of the resin molded substrate 11 is small, the total heat capacity of the resin molded substrate 11 is reduced, and the molding resin after the molding resin is filled into the molding cavity 55 is reduced. The reason may be that the temperature drop rate increases, the resin temperature drops sufficiently, and the hardness of the resin increases. Another reason is that the displacement force acting between the stamper 41 and the resin molded substrate 11 caused by the difference in the thermal shrinkage between the stamper 41 and the resin molded substrate 11 becomes weaker because the resin molded substrate 11 becomes thinner. There may be a reason.

【0080】形成する樹脂成形基板の厚さを変えて、転
写エラー(マークずれや二重転写・ゴースト)の発生状
態を検討したが、樹脂成形基板の厚さが1.2mmのと
きには、転写エラーが非常に激しく発生し、サーボ領域
がその機能を発揮しなかった。また、樹脂成形基板の厚
さが0.8mmのときには、厚さ1.2mmの場合に比
べて転写エラーの発生頻度は改善されるものの、依然と
してサーボ領域が十分に機能しなかった。一方、樹脂成
形基板の厚さが0.6mmのときには、サーボ領域がそ
の機能を十分に発揮し、その信号品質も良好であった。
The occurrence of a transfer error (mark shift, double transfer, ghost) was examined by changing the thickness of the resin molded substrate to be formed. When the thickness of the resin molded substrate was 1.2 mm, the transfer error was considered. Occurred very intensely and the servo area did not perform its function. When the thickness of the resin molded substrate was 0.8 mm, the frequency of occurrence of transfer errors was improved as compared with the case where the thickness was 1.2 mm, but the servo area still did not function sufficiently. On the other hand, when the thickness of the resin molded substrate was 0.6 mm, the servo region exhibited its function sufficiently and the signal quality was good.

【0081】なお、各サーボ領域21にアドレスマーク
列が分散して配置される分散配置アドレスマークの場合
には、特定のサーボ領域にアドレスマーク列が配置され
る集中配置に比べると、スタンパ41と樹脂成形基板1
1の密着性が低く、本発明の構成は効果的である。
In the case of a distributed address mark in which the address mark strings are dispersedly arranged in the respective servo areas 21, the stamper 41 and the centralized arrangement in which the address mark strings are arranged in the specific servo area are compared. Resin molded board 1
1 has low adhesion, and the structure of the present invention is effective.

【0082】(実施形態3)実施形態3では、本発明の
光ディスクの他の一例について説明する。なお、実施形
態3の光ディスクは、実施形態1の光ディスク10と比
較して、学習領域を備える点、およびサーボ領域21に
指標マークが形成されている点のみが異なるため、重複
する説明は省略する。なお、実施形態3で説明する光デ
ィスクの構造は、図1に示した構造と同様であり、実施
形態2の製造方法によって製造することができる。この
とき、スタンパ41には、実施形態3の光ディスクに対
応する凹凸形状が形成されたスタンパを用いればよい。
Embodiment 3 In Embodiment 3, another example of the optical disk of the present invention will be described. The optical disc according to the third embodiment differs from the optical disc 10 according to the first embodiment only in that it has a learning area and that an index mark is formed in the servo area 21. . The structure of the optical disc described in the third embodiment is the same as the structure shown in FIG. 1, and can be manufactured by the manufacturing method of the second embodiment. At this time, a stamper having an uneven shape corresponding to the optical disc of the third embodiment may be used as the stamper 41.

【0083】実施形態3の光ディスクの樹脂成形基板1
1の要部拡大図を図5に模式的に示す。
The resin molded substrate 1 of the optical disk according to the third embodiment
FIG. 5 schematically shows an enlarged view of a main part of FIG.

【0084】実施形態3の光ディスクは、サーボ領域2
1aの全てまたはサーボ領域21aの一部にひきつづい
て学習領域51を備える。すなわち、実施形態3の光デ
ィスクは、サーボ領域21aとデータ領域22との間
に、学習領域51を備える。サーボ領域21aは、ウオ
ブルマーク24(第1のウオブルマーク)と、ウオブル
マーク25(第2のウオブルマーク)と、クロックマー
ク26と、制御用マーク27と、指標マーク50とを備
える。
The optical disk of the third embodiment has a servo area 2
A learning area 51 is provided following all of 1a or a part of the servo area 21a. That is, the optical disc of the third embodiment includes the learning area 51 between the servo area 21a and the data area 22. The servo area 21a includes a wobble mark 24 (first wobble mark), a wobble mark 25 (second wobble mark), a clock mark 26, a control mark 27, and an index mark 50.

【0085】指標マーク50は、学習領域51の存在を
示すためのマークであり、樹脂成形基板11に凹部また
は凸部などとして形成される。指標マーク50を検出す
ることによって、サーボ領域21aに引き続いて学習領
域51が存在することを認識できる。
The index mark 50 is a mark for indicating the existence of the learning area 51, and is formed on the resin molded substrate 11 as a concave portion or a convex portion. By detecting the index mark 50, it can be recognized that the learning area 51 exists following the servo area 21a.

【0086】学習領域51は、樹脂成形基板11の反り
(すなわち光ディスクの反り)を検出するための領域で
あり、ウオブルマーク52(第3のウオブルマーク)
と、ウオブルマーク53(第4のウオブルマーク)と、
ウオブルマーク54(第5のウオブルマーク)と、ウオ
ブルマーク55(第6のウオブルマーク)とを備える。
ウオブルマーク52〜55は、樹脂成形基板11に凹部
または凸部などとして形成される。
The learning area 51 is an area for detecting the warp of the resin molded substrate 11 (that is, the warp of the optical disk), and includes a wobble mark 52 (third wobble mark).
And the wobble mark 53 (the fourth wobble mark),
A wobble mark 54 (fifth wobble mark) and a wobble mark 55 (sixth wobble mark) are provided.
The wobble marks 52 to 55 are formed on the resin molded substrate 11 as concave portions or convex portions.

【0087】ウオブルマーク52および53は、仮想ト
ラック中心ライン23から等しい距離だけお互いに反対
方向にずれて配置されている。すなわち、ウオブルマー
ク52および53は、一対のウオブルマークとして仮想
トラック中心ライン23に沿って蛇行配列されている。
また、ウオブルマーク54および55は、仮想トラック
中心ライン23から等しい距離だけお互いに反対方向に
ずれて配置されている。すなわち、ウオブルマーク54
および55は、一対のウオブルマークとして仮想トラッ
ク中心ライン23に沿って蛇行配列されている。ここ
で、ウオブルマーク52とウオブルマーク53とのディ
スク径方向の間隔は、ウオブルマーク24とウオブルマ
ーク25との間隔よりも広い。また、ウオブルマーク5
4とウオブルマーク55とのディスク径方向の間隔は、
ウオブルマーク24とウオブルマーク25との間隔より
も狭い。
The wobble marks 52 and 53 are arranged offset from each other by an equal distance from the virtual track center line 23 in opposite directions. That is, the wobble marks 52 and 53 are meanderingly arranged along the virtual track center line 23 as a pair of wobble marks.
The wobble marks 54 and 55 are arranged to be shifted from each other by the same distance from the virtual track center line 23 in opposite directions. That is, the wobble mark 54
And 55 are meanderingly arranged along the virtual track center line 23 as a pair of wobble marks. Here, the distance between the wobble mark 52 and the wobble mark 53 in the disc radial direction is wider than the distance between the wobble mark 24 and the wobble mark 25. In addition, wobble mark 5
The distance between the wobble mark 55 and the wobble mark 55 in the disk radial direction is
The distance between the wobble mark 24 and the wobble mark 25 is narrower.

【0088】図5の下部には、光ヘッドから光ディスク
上に照射された光スポット56がトラッキングされてウ
オブルマーク上を移動したときの検出信号の変化を模式
的に示している。なお、図5には、光ディスクの反りが
小さい場合の検出信号の変化を示している。同様に、光
ディスクの反りが大きい場合の検出信号の変化を図6に
示す。
The lower part of FIG. 5 schematically shows a change in a detection signal when the light spot 56 emitted from the optical head onto the optical disk is tracked and moves on the wobble mark. FIG. 5 shows a change in the detection signal when the warp of the optical disk is small. Similarly, FIG. 6 shows a change in the detection signal when the warp of the optical disk is large.

【0089】実施形態1および2で説明したように、マ
ーク密度が低いサンプルサーボトラッキング方式の光デ
ィスクにおいても樹脂成形基板11の厚さを薄くするこ
とによって、マークずれや二重転写・ゴーストを防止で
きる。しかしながら、基板の厚さが薄くなると基板が反
る傾向が強くなる。こうした反りを解消するためにいく
つかの方法が提案されている。たとえば、反りを測定す
るための専用光源を準備し、光ディスクに光を照射して
その反射光の位置や強度を測定して反りを検出する方法
が提案されている(特開昭59−198538号公報お
よび特開平2−193329号公報など)。しかし、上
記方法は、記録再生用以外に別途光学系が必要であり、
コストの点および省スペースの点で問題があった。記録
再生用の光源を利用して反りを測定する方法としては、
反りを有する光ディスクの特定トラックから情報を読み
取り、それと同時にその隣接トラックに予め記録した情
報を読み取って反りの大きさを判断するものが提案され
ている(特開平1−57425号公報および特開平7−
50026号公報など)。しかしながら、この方法で
は、特定トラックと隣接トラックとを記録再生トラック
以外に設ける必要が有り、記録容量が少なくなるという
問題があった。
As described in the first and second embodiments, even in the sample servo tracking type optical disk having a low mark density, by reducing the thickness of the resin molded substrate 11, it is possible to prevent the mark shift, the double transfer and the ghost. . However, as the thickness of the substrate decreases, the tendency of the substrate to warp increases. Several methods have been proposed to eliminate such warpage. For example, a method has been proposed in which a dedicated light source for measuring the warpage is prepared, the optical disk is irradiated with light, and the position and intensity of the reflected light are measured to detect the warpage (Japanese Patent Laid-Open No. 59-198538). Gazette and JP-A-2-193329). However, the above method requires a separate optical system other than for recording and playback,
There were problems in terms of cost and space saving. As a method of measuring warpage using a light source for recording and reproduction,
Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 1-57425 and Hei 7-57425 propose a method in which information is read from a specific track of a warped optical disk, and at the same time, information previously recorded in an adjacent track is read to determine the magnitude of the warp. −
No. 50026). However, in this method, it is necessary to provide the specific track and the adjacent track other than the recording / reproducing track, and there is a problem that the recording capacity is reduced.

【0090】これに対して、実施形態3の光ディスク
は、ウオブルマークを利用してディスクの反りを検出す
る。以下に、その方法を説明する。
On the other hand, the optical disk of the third embodiment detects the warpage of the disk using the wobble mark. The method will be described below.

【0091】図5に示すように、反りが小さいディスク
の場合には、真円状の光スポット56が光ディスクに照
射される。そして、トラッキング制御された光スポット
56は、ウオブルマーク24および35における検出信
号(反射光量)の大きさが等しくなるように、仮想トラ
ック中心ライン23上を移動する。仮想トラック中心ラ
イン23上を真円状の光スポット56が移動する場合、
ウオブルマーク52および53における検出信号の大き
さは等しくなり、ウオブルマーク54および55におけ
る検出信号の大きさは等しくなる。
As shown in FIG. 5, in the case of a disk having a small warp, a perfect circular light spot 56 is irradiated on the optical disk. Then, the tracking-controlled light spot 56 moves on the virtual track center line 23 so that the magnitudes of the detection signals (reflected light amounts) at the wobble marks 24 and 35 become equal. When the perfect circular light spot 56 moves on the virtual track center line 23,
The magnitudes of the detection signals at the wobble marks 52 and 53 are equal, and the magnitudes of the detection signals at the wobble marks 54 and 55 are equal.

【0092】これに対して、光ディスクの反りが大きい
場合には、光強度の分布および形状が非対称である光ス
ポット56aが光ディスクに照射される。そして、図6
に示すように、トラッキング制御された光スポット56
aは、ウオブルマーク24および25における検出信号
(反射光量)の大きさが等しくなるように、仮想トラッ
ク中心ライン23に沿って移動する。すなわち、この場
合には光スポット56aの光強度分布および形状が非対
称であるため、光スポット56aの中心は、仮想トラッ
ク中心ライン23から少しずれた位置を移動する。光ス
ポット56aの中心が仮想トラック中心ライン23から
少しずれた状態でウオブルマーク52〜55を通過する
場合、それぞれのウオブルマーク対の蛇行距離(ディス
ク径方向の蛇行距離)が異なるため、ウオブルマーク5
2とウオブルマーク53とでは検出信号の大きさが異な
る。また、同様に、ウオブルマーク54とウオブルマー
ク55とでは、検出信号の大きさが異なる。このよう
に、光ディスクに反りがない場合と反りがある場合とで
は学習領域51における検出信号が異なるため、光ディ
スクの反りを検出できる。そして、一対のウオブルマー
ク52および53ならびに一対のウオブルマーク54お
よび55における検出信号がそれぞれほぼ等しくなるよ
うに、光スポットの光軸と光ディスクとの角度を調整す
ることによって、光ディスクの反りの影響を除去するこ
とができる。
On the other hand, when the optical disk has a large warp, the optical disk is irradiated with a light spot 56a whose light intensity distribution and shape are asymmetric. And FIG.
As shown in FIG.
“a” moves along the virtual track center line 23 so that the magnitudes of the detection signals (reflected light amounts) at the wobble marks 24 and 25 become equal. That is, in this case, since the light intensity distribution and the shape of the light spot 56a are asymmetric, the center of the light spot 56a moves a position slightly shifted from the virtual track center line 23. When the center of the light spot 56a passes through the wobble marks 52 to 55 with the center slightly shifted from the virtual track center line 23, the meandering distance (the meandering distance in the disk radial direction) of each wobble mark pair is different.
2 and the wobble mark 53 have different detection signal magnitudes. Similarly, the magnitude of the detection signal is different between the wobble mark 54 and the wobble mark 55. As described above, since the detection signal in the learning area 51 is different between the case where the optical disc has no warp and the case where there is the warp, the warp of the optical disc can be detected. Then, by adjusting the angle between the optical axis of the light spot and the optical disk so that the detection signals at the pair of wobble marks 52 and 53 and the pair of wobble marks 54 and 55 become substantially equal, the influence of the warp of the optical disk is reduced. Can be removed.

【0093】光スポットの光軸と光ディスクとの角度を
調整する方法としては、たとえば、光ピックアップを片
持ちのガイドレール上に設置し、ガイドレールの対向側
を光ディスク面に対して垂直方向に移動させて光ピック
アップの光ディスクに対する傾き角を調整する方法が挙
げられる(特開昭62−62439号公報参照)。
As a method of adjusting the angle between the optical axis of the light spot and the optical disk, for example, an optical pickup is installed on a cantilevered guide rail, and the opposite side of the guide rail is moved in a direction perpendicular to the optical disk surface. Then, a method of adjusting the tilt angle of the optical pickup with respect to the optical disk can be mentioned (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-62439).

【0094】光ディスクに反りがある場合の他の一例に
ついて、図7に示す。図7は、光スポットの形状が、図
6に示した光スポット56aとは異なる非対称形状にな
る場合の一例である。図7を参照して、トラッキング制
御された光スポット56bは、ウオブルマーク24およ
び25における検出信号(反射光量)の大きさが等しく
なるように、仮想トラック中心ライン23に沿って移動
する。すなわち、この場合には光スポット56bが非対
称であるため、光スポット56bの中心は、仮想トラッ
ク中心ライン23から少しずれた位置を移動する。非対
称の光スポット56の中心が仮想トラック中心ライン2
3から少しずれた状態でウオブルマーク52〜55を通
過する場合、図6の場合と同様に、ウオブルマーク52
とウオブルマーク53とでは検出信号の大きさが異な
る。また、同様に、ウオブルマーク54とウオブルマー
ク55とでは、検出信号の大きさが異なる。上述したよ
うに、一対のウオブルマーク52および53ならびに一
対のウオブルマーク54および45における検出信号が
それぞれほぼ等しくなるように、光スポットの光軸と光
ディスクとの角度を調整することによって、光ディスク
の反りの影響を抑制することができる。
FIG. 7 shows another example of the case where the optical disk is warped. FIG. 7 shows an example in which the shape of the light spot becomes an asymmetric shape different from the light spot 56a shown in FIG. Referring to FIG. 7, tracking-controlled light spot 56b moves along virtual track center line 23 such that the detection signals (reflected light amounts) at wobble marks 24 and 25 have the same magnitude. That is, in this case, since the light spot 56b is asymmetric, the center of the light spot 56b moves a position slightly shifted from the virtual track center line 23. The center of the asymmetric light spot 56 is the virtual track center line 2
When passing through the wobble marks 52 to 55 slightly deviated from the wobble mark 52, as in the case of FIG.
And the wobble mark 53 have different detection signal magnitudes. Similarly, the magnitude of the detection signal is different between the wobble mark 54 and the wobble mark 55. As described above, by adjusting the angle between the optical axis of the light spot and the optical disk so that the detection signals at the pair of wobble marks 52 and 53 and the pair of wobble marks 54 and 45 are substantially equal, the warpage of the optical disk is adjusted. Can be suppressed.

【0095】学習領域51を利用して光ディスクの反り
の影響を防止する実施形態3の方法は、磁界変調記録に
よって記録膜に磁気記録を行う場合(たとえば特開平8
−227542号公報)には、特に効果的である。すな
わち、磁界変調記録によって記録膜に磁気記録を行う場
合には、磁気ヘッドを用いて磁界を光ディスクに印加す
るが、この磁気ヘッドはスライダーと呼ばれる部品に取
り付けられており、このスライダーを光ディスクに一定
の力で押しつけることによって磁気ヘッドの位置決めを
行っている。このとき、スライダーを押しつける力によ
って、光ディスクの反りが変化するため、実施形態3で
説明した光ディスクの反りの影響を抑制する方法は、よ
り効果的に機能する。
The method of Embodiment 3 for preventing the influence of the warp of the optical disk by using the learning area 51 is the case where the magnetic recording is performed on the recording film by the magnetic field modulation recording (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. H08-208,1992).
-227542) is particularly effective. That is, when magnetic recording is performed on a recording film by magnetic field modulation recording, a magnetic field is applied to an optical disk using a magnetic head. The magnetic head is attached to a component called a slider, and the slider is fixed to the optical disk. The position of the magnetic head is determined by pressing the magnetic head with the force. At this time, since the warp of the optical disc changes depending on the force pressing the slider, the method of suppressing the influence of the warp of the optical disc described in the third embodiment functions more effectively.

【0096】上記実施形態3の光ディスクによれば、実
施形態1の光ディスクと同様の効果が得られる。さらに
実施形態3の光ディスクでは、学習領域51を利用する
ことによって、光ディスクの反りの影響を抑制すること
ができる。
According to the optical disk of the third embodiment, the same effects as those of the optical disk of the first embodiment can be obtained. Further, in the optical disc according to the third embodiment, by using the learning area 51, the influence of the warp of the optical disc can be suppressed.

【0097】なお、実施形態3では、光スポットの位置
ずれを修正する方法として光スポットの光軸と光ディス
クとの角度を調整する一例を説明したが、その他の方
法、たとえばトラッキング補正にオフセットを与え、光
スポットが走行する位置をずらす方法、あるいはフォー
カス補正にオフセットを与え、光スポットが合焦点する
位置をずらす方法を用いてもよい。
In the third embodiment, an example of adjusting the angle between the optical axis of the light spot and the optical disk has been described as a method of correcting the positional deviation of the light spot. However, other methods, for example, an offset is applied to the tracking correction. Alternatively, a method of shifting the position where the light spot travels, or a method of giving an offset to the focus correction and shifting the position where the light spot is focused may be used.

【0098】また、上記実施形態3では、制御用マーク
27と指標マーク50とがそれぞれ単一のマークからな
る場合を示したが、これらは複数のマークによって構成
されるものであってもよい。同様に、学習領域51内の
ウオブルマーク52〜55も一例であり、光ディスクの
反りが検出できるものであれば他の構成を用いてもよ
い。
In the third embodiment, the case where the control mark 27 and the index mark 50 are each formed of a single mark has been described. However, these may be formed of a plurality of marks. Similarly, the wobble marks 52 to 55 in the learning area 51 are also examples, and other configurations may be used as long as the warp of the optical disc can be detected.

【0099】(実施形態4)実施形態4では、本発明の
光ディスクのその他の一例について説明する。なお、上
記実施形態と同様の部分については、重複する説明を省
略する。
(Embodiment 4) In Embodiment 4, another example of the optical disc of the present invention will be described. The same parts as those in the above embodiment will not be described repeatedly.

【0100】実施形態4の光ディスク10aの平面図を
図8(a)に、一部断面図を図8(b)に模式的に示
す。
FIG. 8A is a schematic plan view of the optical disc 10a according to the fourth embodiment, and FIG.

【0101】図8(b)を参照して、光ディスク10a
は、樹脂成形基板11と、樹脂成形基板11上に積層さ
れた誘電体薄膜からなるエンハンス膜12、再生膜8
1、制御膜82、記録膜13、保護膜83および保護コ
ート16とを備える。樹脂成形基板11は、実施形態1
で説明したものと同様である。樹脂成形基板11は、た
とえば、厚さが略0.6mmで直径が略60mmであ
り、ポリカーボネートからなる。エンハンス膜12に
は、たとえば、厚さが50nmのSiN膜を用いること
ができる。記録膜13には、たとえば、厚さが80nm
のTbFeCo垂直磁化膜を用いることができる。記録
膜13のキュリー温度は、再生膜81のキュリー温度よ
りも高く、たとえば約300℃である。保護コート16
には、たとえば厚さが10μmの紫外線硬化樹脂を用い
ることができる。
Referring to FIG. 8B, the optical disk 10a
Are a resin molded substrate 11, an enhancement film 12 made of a dielectric thin film laminated on the resin molded substrate 11, and a reproduction film 8.
1, a control film 82, a recording film 13, a protective film 83, and a protective coat 16. The resin molded substrate 11 is the same as that of the first embodiment.
This is the same as that described above. The resin molded substrate 11 has a thickness of about 0.6 mm and a diameter of about 60 mm, for example, and is made of polycarbonate. As the enhance film 12, for example, a SiN film having a thickness of 50 nm can be used. The recording film 13 has a thickness of, for example, 80 nm.
TbFeCo perpendicular magnetization film can be used. The Curie temperature of the recording film 13 is higher than the Curie temperature of the reproducing film 81, for example, about 300 ° C. Protective coat 16
For example, an ultraviolet curable resin having a thickness of 10 μm can be used.

【0102】再生膜81は、光スポットを照射して光磁
気信号を再生するための膜であり、磁性体薄膜からな
る。再生膜81には、たとえば、厚さが50nmのGd
FeCo磁性膜を用いることができる。再生膜81のキ
ュリー温度は、記録膜13のキュリー温度よりも低く、
たとえば略230℃である。
The reproducing film 81 is a film for reproducing a magneto-optical signal by irradiating a light spot, and is made of a magnetic thin film. The reproducing film 81 has, for example, Gd having a thickness of 50 nm.
An FeCo magnetic film can be used. The Curie temperature of the reproducing film 81 is lower than the Curie temperature of the recording film 13,
For example, it is approximately 230 ° C.

【0103】制御膜82は、所定温度(たとえば、略2
30℃)以下の温度で記録膜13の磁区情報を再生膜8
1に転写し、所定温度(たとえば、略230℃)以上の
温度で記録膜13と再生膜81の磁気転写をなくし、再
生膜81の磁壁の動きを容易にするための膜であり、磁
性体からなる。制御膜82には、たとえば、厚さが10
nmのTbFe膜を用いることができる。制御膜82の
キュリー温度は、再生膜81のキュリー温度および記録
膜13のキュリー温度よりも低く、たとえば約150℃
である。
The control film 82 has a predetermined temperature (for example, approximately 2 ° C.).
The magnetic domain information of the recording film 13 is read at a temperature of 30 ° C. or less.
1 is a film for eliminating the magnetic transfer between the recording film 13 and the reproducing film 81 at a temperature higher than a predetermined temperature (for example, approximately 230 ° C.) and facilitating the movement of the domain wall of the reproducing film 81. Consists of The control film 82 has, for example, a thickness of 10
nm TbFe film can be used. The Curie temperature of the control film 82 is lower than the Curie temperature of the reproducing film 81 and the Curie temperature of the recording film 13, for example, about 150 ° C.
It is.

【0104】保護膜83は、記録膜13、再生膜81お
よび制御膜82などを水蒸気や酸素などから保護するた
めの膜であり、たとえば、厚さが100nmのSiN膜
を用いることができる。
The protective film 83 is a film for protecting the recording film 13, the reproducing film 81, the control film 82, and the like from water vapor, oxygen, and the like. For example, an SiN film having a thickness of 100 nm can be used.

【0105】光ディスク10aについて、要部の模式的
な拡大図を図9に示す。図9を参照して、光ディスク1
0aは、樹脂成形基板11の一主面がわに、ディスク周
方向に交互に配置されたサーボ領域21とデータ領域2
2aとを備える。サーボ領域21は、実施形態1で説明
したものと同様である。
FIG. 9 is a schematic enlarged view of a main part of the optical disk 10a. Referring to FIG.
Numeral 0a denotes a servo area 21 and a data area 2 which are alternately arranged in the disk circumferential direction, with one main surface of the resin molded substrate 11 being alligated.
2a. The servo area 21 is the same as that described in the first embodiment.

【0106】データ領域22aは、記録マーク91が記
録される領域であり、記録不可領域92を備える。
The data area 22a is an area where the recording mark 91 is recorded, and has a non-recordable area 92.

【0107】記録マーク91は、データ領域22aに記
録され、再生される磁気データである。記録不可領域9
2は、磁気信号が記録できない領域である。
The recording mark 91 is magnetic data recorded in the data area 22a and reproduced. Non-recordable area 9
Reference numeral 2 denotes an area where a magnetic signal cannot be recorded.

【0108】記録不可領域92がない従来の光ディスク
のデータ領域の一例について、図14に示す。図14に
示すように、記録不可領域92がない従来の光ディスク
のデータ領域6では、隣接トラックの記録マーク7がつ
ながり、クロストークが発生するなどの問題があった。
FIG. 14 shows an example of a data area of a conventional optical disk having no non-recordable area 92. As shown in FIG. 14, in the data area 6 of the conventional optical disc without the non-recordable area 92, recording marks 7 on adjacent tracks are connected, and there is a problem that crosstalk occurs.

【0109】光ディスク10aは、図9に示すように、
データ領域22a中の仮想トラック中心ライン23間に
記録不可領域92を備える。このような構成にすること
によって、記録マーク91は各トラックで分離されて読
み出されることとなり、光スポットの端部に紛れ込む隣
接トラックからの読み取り信号を防止でき、クロストー
クの少ない光ディスクが実現できる。
The optical disk 10a is, as shown in FIG.
A non-recordable area 92 is provided between the virtual track center lines 23 in the data area 22a. With such a configuration, the recording marks 91 are read separately from each other in the tracks, so that a read signal from an adjacent track that enters the end of the light spot can be prevented, and an optical disc with less crosstalk can be realized.

【0110】記録不可領域92は、再生膜81の磁気的
な性質を、記録不可領域92の部分と他の部分とで変え
ることによって形成される。すなわち、記録不可領域9
2以外の部分では、磁気スピンが膜面に対して垂直方向
に磁化されるように再生膜81を形成し、記録不可領域
92の部分では再生膜81の磁気スピンが膜面に対して
常に平行な方向に向くように再生膜81を形成する。こ
れによって、垂直磁化の方向として記録される記録マー
ク91の磁気情報信号が、記録不可領域92では表示さ
れなくなる。
The non-recordable area 92 is formed by changing the magnetic properties of the reproducing film 81 between the non-recordable area 92 and other parts. That is, the non-recordable area 9
The reproducing film 81 is formed so that the magnetic spins are magnetized in a direction perpendicular to the film surface in the portions other than the region 2, and the magnetic spin of the reproducing film 81 is always parallel to the film surface in the non-recordable region 92. The reproduction film 81 is formed so as to face in a desired direction. As a result, the magnetic information signal of the recording mark 91 recorded as the direction of the perpendicular magnetization is not displayed in the non-recordable area 92.

【0111】具体的には、記録不可領域92は、この部
分に記録パワーを超えるような大きなパワーのレーザを
照射して、再生膜81の磁化を部分的にエージング(大
きく)することによって形成する。たとえば、ウオブル
マーク24および25を利用してトラッキング制御を行
い、光スポットを走査すればよい。記録不可領域92の
幅は、トラックピッチに比べると小さく、その大きさは
トラックピッチの3分の1程度あるいはそれ以下が好ま
しいと考えられる。この場合、ウオブルマーク24およ
び25によるトラッキング性を考慮すると、記録不可領
域92を形成するレーザの波長は、記録再生に用いるレ
ーザ波長(実施形態4の場合は、たとえば780nm)
の3分の2程度以下の波長が適している。このため、光
ディスク10aは、樹脂成形基板11側から光を照射し
たときに、記録再生波長の略3分の2の波長領域におけ
る反射率が、記録再生波長の波長領域における反射率よ
りも低いことが好ましい。
More specifically, the non-recordable area 92 is formed by irradiating a laser having a large power exceeding the recording power to this part to partially age (increase) the magnetization of the reproduction film 81. . For example, tracking control may be performed using the wobble marks 24 and 25 to scan the light spot. It is considered that the width of the non-recordable area 92 is smaller than the track pitch, and its size is preferably about one third of the track pitch or less. In this case, in consideration of the tracking properties of the wobble marks 24 and 25, the wavelength of the laser forming the non-recordable area 92 is the laser wavelength used for recording and reproduction (for example, 780 nm in the case of the fourth embodiment).
A wavelength of about two thirds or less is suitable. For this reason, when the optical disk 10a is irradiated with light from the resin molded substrate 11, the reflectance in the wavelength region of approximately two thirds of the recording / reproducing wavelength is lower than the reflectance in the wavelength region of the recording / reproducing wavelength. Is preferred.

【0112】実施形態4の光ディスク10aに対して、
樹脂成形基板11側から光を照射したときの反射率の波
長依存性について、一例を図10に示す。図10におい
て、縦軸は反射率、横軸は照射した光の波長を示す。図
10に示すように、記録再生波長の略3分の2の波長領
域(たとえば、520nm)の反射率が低いほど、レー
ザ光の吸収が良くなり、低いレーザパワーで効率的に、
あるいは大きなレーザパワーでは短時間に記録不可領域
92を形成できる。
For the optical disc 10a of the fourth embodiment,
FIG. 10 shows an example of the wavelength dependence of the reflectance when light is irradiated from the resin molded substrate 11 side. In FIG. 10, the vertical axis indicates the reflectance, and the horizontal axis indicates the wavelength of the irradiated light. As shown in FIG. 10, the lower the reflectivity in the wavelength region (for example, 520 nm) of about two thirds of the recording / reproducing wavelength, the better the absorption of the laser light, and the more efficiently the laser light with low laser power.
Alternatively, the non-recordable area 92 can be formed in a short time with a large laser power.

【0113】次に、光ディスク10aについて、データ
信号の記録再生動作の一例を述べる。データ信号の記録
は、光ディスクドライブ装置などに設置された光ピック
アップなどを利用して、集光したレーザ光(たとえば、
波長780nm)を、樹脂成形基板11およびエンハン
ス膜12を通じて再生膜81に光スポットとして照射し
ながら走査することによって行う。このとき、光スポッ
トが照射された再生膜81に対応する位置の記録膜13
の温度が、そのキュリー温度(約300℃)以上になる
ように、照射するレーザ光のパワーや照射時間を調整す
る。レーザ光を照射すると同時に光ディスクドライブ装
置などに設置された磁気ヘッドから適切な外部磁界を与
えることによって、温度降下時に記録膜13の磁化方向
が外部磁界の方向に従い、記録が行われる。
Next, an example of the operation of recording and reproducing a data signal on the optical disk 10a will be described. The recording of the data signal is performed by using a focused laser beam (for example, using an optical pickup installed in an optical disk drive or the like).
(Wavelength: 780 nm) by scanning while irradiating the reproduction film 81 as a light spot through the resin molded substrate 11 and the enhancement film 12. At this time, the recording film 13 at a position corresponding to the reproducing film 81 irradiated with the light spot
The power and irradiation time of the laser light to be irradiated are adjusted so that the temperature of the laser beam becomes equal to or higher than the Curie temperature (about 300 ° C.). By applying an appropriate external magnetic field from a magnetic head installed in an optical disk drive or the like at the same time as irradiating the laser beam, recording is performed according to the magnetization direction of the recording film 13 according to the direction of the external magnetic field when the temperature drops.

【0114】一方、再生は、記録に用いたレーザ光より
も低いパワーのレーザ光を用いて行う。室温において
は、記録膜13に磁化の方向として記録された情報は磁
気交換結合によって制御膜82に転写され、さらに制御
膜82の情報は再生膜81に転写されている。レーザ光
が集光された光スポットは、再生膜81に照射される
が、このとき、光スポットの中心付近の温度が、制御膜
82のキュリー温度以上で再生膜81のキュリー温度よ
り低い温度となるように、レーザ光のパワーを調整す
る。このようにすると、制御膜82の磁化が消失するた
め、再生膜81の磁化は制御膜82からの磁気的な結合
をほとんど受けない状態となる。さらに、再生膜81と
記録不可領域92との磁気的な結合も強くないため、再
生膜81の磁化は比較的動き易い。このため、光スポッ
トの中心付近の外側で制御膜82を介して再生膜81に
転写された記録膜13の磁化の方向が、再生膜81に照
射される光スポットの中心付近でも反映されて再生され
る。このように、制御膜82のキュリー温度より低い温
度領域の記録膜13の磁化の情報が、制御膜82のキュ
リー温度より高い温度領域にまで広がって転写されるこ
ととなり、光スポットの外周部に相当する記録膜13の
情報が再生膜81においては光スポット全域に広がりな
がら再生される。したがって、光ディスク10aの構成
によれば、光スポットの大きさに比べて小さい記録マー
ク91の読み出しができる。
On the other hand, reproduction is performed using laser light having a lower power than the laser light used for recording. At room temperature, the information recorded on the recording film 13 as the direction of magnetization is transferred to the control film 82 by magnetic exchange coupling, and the information of the control film 82 is transferred to the reproducing film 81. The light spot where the laser light is focused is irradiated on the reproducing film 81. At this time, the temperature near the center of the light spot is higher than the Curie temperature of the control film 82 and lower than the Curie temperature of the reproducing film 81. The power of the laser beam is adjusted so as to be as follows. In this case, since the magnetization of the control film 82 disappears, the magnetization of the reproduction film 81 is hardly affected by the magnetic coupling from the control film 82. Further, since the magnetic coupling between the reproduction film 81 and the non-recordable region 92 is not strong, the magnetization of the reproduction film 81 is relatively easy to move. Therefore, the direction of magnetization of the recording film 13 transferred to the reproducing film 81 via the control film 82 outside the vicinity of the center of the light spot is also reflected near the center of the light spot irradiated on the reproducing film 81 for reproduction. Is done. As described above, the information of the magnetization of the recording film 13 in the temperature region lower than the Curie temperature of the control film 82 is spread and transferred to the temperature region higher than the Curie temperature of the control film 82, and is transferred to the outer peripheral portion of the light spot. The corresponding information on the recording film 13 is reproduced on the reproduction film 81 while spreading over the entire light spot. Therefore, according to the configuration of the optical disk 10a, it is possible to read the recording mark 91 which is smaller than the size of the light spot.

【0115】実施形態4の光ディスク10aにおいて、
光スポットの有効径をたとえば750nm程度とした場
合、記録マーク91の大きさが150nmより短くなる
と読み取りのエラーが増加し始め、80nmより短いと
急激に読み取りのエラーが増える。このため、記録マー
ク91の長さは、光スポットの有効径の10%以上、よ
り正確な再生を行う場合には光スポットの有効径の20
%以上の長さであることが好ましい。
In the optical disc 10a of the fourth embodiment,
When the effective diameter of the light spot is, for example, about 750 nm, the reading error starts increasing when the size of the recording mark 91 is shorter than 150 nm, and the reading error rapidly increases when the size of the recording mark 91 is shorter than 80 nm. Therefore, the length of the recording mark 91 is 10% or more of the effective diameter of the light spot, and 20% of the effective diameter of the light spot for more accurate reproduction.
% Or more.

【0116】上記実施形態4の光ディスク10aによれ
ば、実施形態1の光ディスクと同様の効果が得られる。
さらに、光ディスク10aによれば、信頼性よく記録マ
ーク91の記録・再生ができる。
According to the optical disc 10a of the fourth embodiment, the same effects as those of the optical disc of the first embodiment can be obtained.
Further, according to the optical disk 10a, the recording / reproduction of the recording mark 91 can be performed with high reliability.

【0117】なお、実施形態4では、記録不可領域92
がデータ領域22aにのみ存在する場合を示したが、記
録不可領域92はサーボ領域21に形成してもよい。ま
た、記録・再生に使用するレーザ光は、反射率の波長依
存性を適切に調整することによりさまざまな波長のレー
ザ光を利用できる。記録波長が620nm〜650nm
の場合、記録不可領域92の形成波長を400nm〜4
50nmとすることができる。
In the fourth embodiment, the non-recordable area 92
Is shown only in the data area 22a, but the non-recordable area 92 may be formed in the servo area 21. Laser light of various wavelengths can be used as the laser light used for recording / reproducing by appropriately adjusting the wavelength dependence of the reflectance. Recording wavelength of 620 nm to 650 nm
, The formation wavelength of the non-recordable region 92 is
It can be 50 nm.

【0118】また、記録不可領域92は磁気交換結合の
結合力を弱めるという効果も有り、記録不可領域92を
形成することによって、磁壁の発生および磁壁の移動時
に磁壁エネルギーに変化が少なく読み出しが容易な再生
膜81が得られるという効果もある。
The non-recordable area 92 also has the effect of weakening the coupling force of the magnetic exchange coupling. By forming the non-recordable area 92, the magnetic domain wall energy is less changed when the magnetic domain wall is generated and the magnetic domain wall is moved, and reading is easy. There is also an effect that a proper reproduction film 81 can be obtained.

【0119】[0119]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ディス
クでは、樹脂成形基板の厚さが0.7mm以下であるた
め、サンプルサーボトラッキング方式を用いた光ディス
クにおいて、マークずれや二重転写、ゴーストが少ない
光ディスクが得られる。
As described above, in the optical disk of the present invention, since the thickness of the resin-molded substrate is 0.7 mm or less, in the optical disk using the sample servo tracking method, mark shift, double transfer, ghost, etc. An optical disk with less noise can be obtained.

【0120】また、本発明の光ディスクの製造方法によ
れば、厚さが0.7mm以下の樹脂成形基板を射出成形
によって形成するため、スタンパの凹凸形状の転写エラ
ーを防止することができる。
Further, according to the optical disk manufacturing method of the present invention, since a resin molded substrate having a thickness of 0.7 mm or less is formed by injection molding, it is possible to prevent a transfer error of the concavo-convex shape of the stamper.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の光ディスクについて、一例の(a)
模式平面図および(b)模式断面図である。
FIG. 1 shows an example (a) of an optical disc according to the present invention.
It is a schematic plan view and (b) a schematic sectional view.

【図2】 本発明の光ディスクについて、一例の要部を
示す模式拡大図である。
FIG. 2 is a schematic enlarged view showing an example of a main part of the optical disc of the present invention.

【図3】 本発明の光ディスクについて、転写エラーの
発生頻度を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the frequency of occurrence of transfer errors for the optical disc of the present invention.

【図4】 本発明の光ディスクを製造するための射出成
形装置について、一例を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic view showing an example of an injection molding apparatus for manufacturing the optical disc of the present invention.

【図5】 本発明の光ディスクについて、サーボ領域お
よび学習領域と検出信号の一例を示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of a servo area, a learning area, and a detection signal in the optical disc of the present invention.

【図6】 本発明の光ディスクについて、サーボ領域お
よび学習領域と検出信号の他の一例を示す模式図であ
る。
FIG. 6 is a schematic diagram showing another example of a servo area, a learning area, and a detection signal for the optical disc of the present invention.

【図7】 本発明の光ディスクについて、サーボ領域お
よび学習領域と検出信号のその他の一例を示す模式図で
ある。
FIG. 7 is a schematic diagram showing another example of a servo area, a learning area, and a detection signal in the optical disc of the present invention.

【図8】 本発明の光ディスクについて、他の一例の
(a)模式平面図および(b)模式断面図である。
8A and 8B are a schematic plan view and a schematic cross-sectional view of another example of the optical disc of the present invention.

【図9】 本発明の光ディスクについて、サーボ領域お
よびデータ領域のその他の一例を示す模式図である。
FIG. 9 is a schematic diagram showing another example of a servo area and a data area in the optical disc of the present invention.

【図10】 本発明の光ディスクについて、反射率の波
長依存性の一例を示すグラフである。
FIG. 10 is a graph showing an example of the wavelength dependence of the reflectance of the optical disc of the present invention.

【図11】 従来の光ディスクについて、サーボ領域の
一例を示す模式図である。
FIG. 11 is a schematic diagram showing an example of a servo area for a conventional optical disc.

【図12】 従来の光ディスクについて、2重転写の状
況を示す模式図である。
FIG. 12 is a schematic diagram showing a state of double transfer of a conventional optical disc.

【図13】 従来の光ディスクについて、転写エラーの
発生頻度を示すグラフである。
FIG. 13 is a graph showing the frequency of occurrence of transfer errors in a conventional optical disc.

【図14】 従来の光ディスクについて、データ領域の
一例を示す模式図である。
FIG. 14 is a schematic diagram showing an example of a data area of a conventional optical disc.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 樹脂成形基板 12 エンハンス膜 13 記録膜 14 断熱膜 15 反射膜 16 保護コート 21、21a サーボ領域 22、22a データ領域 23 仮想トラック中心ライン 24、25、52、53、54、55 ウオブルマーク 26 クロックマーク 27 制御用マーク 40 射出成形装置 41 スタンパ 50 指標マーク 51 学習領域 56、56a、56b 光スポット 81 再生膜 82 制御膜 83 保護膜 91 記録マーク 92 記録不可領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Resin molding board 12 Enhancement film 13 Recording film 14 Heat insulation film 15 Reflection film 16 Protective coat 21, 21a Servo area 22, 22a Data area 23 Virtual track center line 24, 25, 52, 53, 54, 55 Wobble mark 26 Clock mark 27 Control Mark 40 Injection Molding Device 41 Stamper 50 Index Mark 51 Learning Area 56, 56a, 56b Light Spot 81 Reproduction Film 82 Control Film 83 Protective Film 91 Recording Mark 92 Non-Recordable Area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村上 元良 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5D029 JB04 JB18 JC02 KA07 KA15 KB14 LA05 LB02 MA13 5D090 AA01 BB10 CC14 DD03 DD05 FF03 GG03 GG27 HH01 HH08 KK03 5D121 AA01 AA02 DD05 EE13  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Motoyoshi Murakami 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 5D029 JB04 JB18 JC02 KA07 KA15 KB14 LA05 LB02 MA13 5D090 AA01 BB10 CC14 DD03 DD05 FF03 GG03 GG27 HH01 HH08 KK03 5D121 AA01 AA02 DD05 EE13

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂成形基板を含み、ディスク周方向に
交互に配置された複数のサーボ領域と複数のデータ領域
とを備える光ディスクであって、 前記サーボ領域は、仮想トラック中心ラインに沿って配
置されたクロックマークと、前記仮想トラック中心ライ
ンに沿って蛇行配列されたウオブルマークとを備え、 前記樹脂成形基板の厚さが0.7mm以下であることを
特徴とする光ディスク。
1. An optical disc including a resin molded substrate and having a plurality of servo areas and a plurality of data areas alternately arranged in a circumferential direction of the disc, wherein the servo areas are arranged along a virtual track center line. An optical disk, comprising: a clock mark formed thereon; and wobble marks arranged in a meandering manner along the virtual track center line, wherein the thickness of the resin molded substrate is 0.7 mm or less.
【請求項2】 前記樹脂成形基板が射出成形によって形
成された基板である請求項1に記載の光ディスク。
2. The optical disk according to claim 1, wherein the resin molded substrate is a substrate formed by injection molding.
【請求項3】 前記樹脂成形基板の一主面の上方に形成
された磁性材料からなる記録膜をさらに備える請求項1
または2に記載の光ディスク。
3. A recording film comprising a magnetic material formed above one main surface of the resin molded substrate.
Or the optical disc according to 2.
【請求項4】 隣接する前記仮想トラック中心ライン間
の距離が、前記ウオブルマークの径方向の幅の2倍より
も小さい請求項3に記載の光ディスク。
4. The optical disc according to claim 3, wherein a distance between adjacent virtual track center lines is smaller than twice a radial width of the wobble mark.
【請求項5】 前記ウオブルマークは、隣接する前記仮
想トラック中心ライン毎に蛇行の方向が異なる請求項4
に記載の光ディスク。
5. The wobble mark has a meandering direction different for each adjacent virtual track center line.
An optical disk according to claim 1.
【請求項6】 複数のアドレスマークからなるアドレス
マーク列を備え、前記アドレスマーク列が複数のサーボ
領域にわたって分散して配置されている請求項3に記載
の光ディスク。
6. The optical disc according to claim 3, further comprising an address mark sequence including a plurality of address marks, wherein the address mark sequence is distributed over a plurality of servo areas.
【請求項7】 前記複数のサーボ領域の全てまたは一部
のサーボ領域にひきつづき、前記樹脂成形基板の反りを
検出するための学習領域を備え、 前記学習領域は、複数のウオブルマークを備える請求項
3に記載の光ディスク。
7. A learning area for detecting warpage of the resin-molded substrate following all or a part of the plurality of servo areas, wherein the learning area includes a plurality of wobble marks. 4. The optical disc according to 3.
【請求項8】 前記サーボ領域は、前記学習領域の存在
を示す指標マークを備える請求項7に記載の光ディス
ク。
8. The optical disk according to claim 7, wherein the servo area includes an index mark indicating the existence of the learning area.
【請求項9】 制御情報をさらに含み、前記制御情報が
外周部に形成されている請求項3に記載の光ディスク。
9. The optical disk according to claim 3, further comprising control information, wherein the control information is formed on an outer peripheral portion.
【請求項10】 前記樹脂成形基板と前記記録膜との間
に、前記樹脂成形基板側から順次積層された誘電体薄膜
と磁性体薄膜とを備え、 前記データ領域は、前記樹脂成形基板側から光を照射し
たときに、記録再生波長の略3分の2の波長領域におけ
る反射率が記録再生波長の波長領域における反射率より
も低い請求項3に記載の光ディスク。
10. A semiconductor device comprising: a dielectric thin film and a magnetic thin film sequentially laminated from the resin molded substrate side between the resin molded substrate and the recording film; and the data area is arranged from the resin molded substrate side. 4. The optical disk according to claim 3, wherein, when irradiated with light, the reflectance in a wavelength region of approximately two thirds of the recording / reproducing wavelength is lower than the reflectance in a wavelength region of the recording / reproducing wavelength.
【請求項11】 前記磁性体薄膜と前記記録膜との間に
磁性体からなる制御膜をさらに備え、 前記制御膜のキュリー温度が、前記磁性体膜のキュリー
温度および前記記録膜のキュリー温度よりも低い請求項
10に記載の光ディスク。
11. A control film comprising a magnetic material between the magnetic thin film and the recording film, wherein the Curie temperature of the control film is higher than the Curie temperature of the magnetic film and the Curie temperature of the recording film. 11. The optical disk according to claim 10, wherein the optical disk is also low.
【請求項12】 前記データ領域に記録される記録マー
クの長さが、データ領域に記録されたデータを再生する
ために照射される光スポットの有効径の10%以上であ
る請求項3に記載の光ディスク。
12. The recording mark according to claim 3, wherein a length of the recording mark recorded in the data area is 10% or more of an effective diameter of a light spot irradiated for reproducing data recorded in the data area. Optical disk.
【請求項13】 前記樹脂成形基板がポリカーボネート
樹脂からなる請求項3に記載の光ディスク。
13. The optical disk according to claim 3, wherein said resin molded substrate is made of a polycarbonate resin.
【請求項14】 樹脂成形基板を含みサンプルサーボト
ラッキング方式を用いた光ディスクの製造方法であっ
て、 凹凸形状を有するスタンパを備える成形キャビティに樹
脂を射出することによって、厚さが0.7mm以下の前
記樹脂成形基板を形成する工程を含むことを特徴とする
光ディスクの製造方法。
14. A method of manufacturing an optical disk including a resin molded substrate and using a sample servo tracking method, wherein a resin having a thickness of 0.7 mm or less is injected into a molding cavity provided with a stamper having an uneven shape. A method for manufacturing an optical disk, comprising a step of forming the resin molded substrate.
【請求項15】 前記スタンパがニッケルからなり、前
記樹脂がポリカーボネート樹脂である請求項14に記載
の光ディスクの製造方法。
15. The method according to claim 14, wherein the stamper is made of nickel, and the resin is a polycarbonate resin.
JP11225313A 1999-08-09 1999-08-09 Optical disk and its manufacture Pending JP2001052343A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11225313A JP2001052343A (en) 1999-08-09 1999-08-09 Optical disk and its manufacture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11225313A JP2001052343A (en) 1999-08-09 1999-08-09 Optical disk and its manufacture

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001052343A true JP2001052343A (en) 2001-02-23

Family

ID=16827405

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11225313A Pending JP2001052343A (en) 1999-08-09 1999-08-09 Optical disk and its manufacture

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001052343A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002086882A1 (en) * 2001-04-19 2002-10-31 Canon Kabushiki Kaisha Magneto-optic record medium

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002086882A1 (en) * 2001-04-19 2002-10-31 Canon Kabushiki Kaisha Magneto-optic record medium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6160769A (en) Optical recording medium and optical recording device
US7454771B2 (en) Optical recording medium and disc cartridge
US6611491B2 (en) Optical recording medium having dual recording layers
US6987725B2 (en) Optical recording medium with high density track pitch and optical disk drive for recording and playback of the same
JP2002170279A (en) Optical recording medium, its manufacturing method and injection molding machine
US5477528A (en) Magneto-optical disk and the reproducing method thereof
US6333900B1 (en) Optical recording medium, optical head, and optical recording device
EP0474050A2 (en) Magnetic optical disc
US6731589B2 (en) Substrate for optical recording media, optical recording medium, manufacturing process for optical recording media, and optical recording/reproducing method
US5856969A (en) Optical disk which reduces cross erasure of data recorded on lands and grooves
JP2001052343A (en) Optical disk and its manufacture
JPH09282727A (en) Magneto-optical recording and reproducing device, and reproducing method
JP2000298882A (en) Optical recording medium
JP3895221B2 (en) Optical information recording medium and method for manufacturing optical information recording medium
US5662979A (en) Substrate for optical disc
JP2000322767A (en) Optical disk
JPH08147779A (en) Information recording medium and reproducing method therefor
JPWO2002089129A1 (en) Optical recording medium, method for manufacturing optical recording medium, optical recording method and optical reproducing method for optical recording medium
KR100699632B1 (en) Optical Recording Media And Methods OF Fabricating The Same
JP2003109258A (en) Optical recording medium
JP2000235734A (en) Optical recording medium and its production
JP2002163842A (en) Optical recording medium of surface-reproduction type
JPH02246031A (en) Optical disk
JPH0969244A (en) Magneto-optical disk
JPH07272318A (en) Optical disk substrate