JP2001047593A - 感熱性融蝕可能画像形成要素の融蝕による平版印刷版の作製方法 - Google Patents
感熱性融蝕可能画像形成要素の融蝕による平版印刷版の作製方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶解処理を必要とせず、ポジティブ作用性で
あり、露光された領域において優れたインキ−吸収を示
し、非−露光領域においてトーニングを示さない平版印
刷版の作製のための融蝕性画像形成要素を提供するこ
と。 【解決手段】 本発明に従えば、 （１）光を熱に変換できる化合物及び熱の作用下でより
親水性になる化合物を含む感熱性コーティングを連続最
上層として平版親水性支持体上に含む画像形成要素を準
備し； （２）該画像形成感熱性組成物を、該感熱性組成物の表
面において少なくとも０．２ｍＷ／μｍ2の強度を有す
るレーザービームを発する高強度レーザーを用いて画像
通りに露光し、それにより前記感熱性組成物を少なくと
も部分的に除去して平版支持体を少なくとも部分的に露
出させる段階を含んでなる版印刷版の作製方法が提供さ
れる。
あり、露光された領域において優れたインキ−吸収を示
し、非−露光領域においてトーニングを示さない平版印
刷版の作製のための融蝕性画像形成要素を提供するこ
と。 【解決手段】 本発明に従えば、 （１）光を熱に変換できる化合物及び熱の作用下でより
親水性になる化合物を含む感熱性コーティングを連続最
上層として平版親水性支持体上に含む画像形成要素を準
備し； （２）該画像形成感熱性組成物を、該感熱性組成物の表
面において少なくとも０．２ｍＷ／μｍ2の強度を有す
るレーザービームを発する高強度レーザーを用いて画像
通りに露光し、それにより前記感熱性組成物を少なくと
も部分的に除去して平版支持体を少なくとも部分的に露
出させる段階を含んでなる版印刷版の作製方法が提供さ
れる。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は感熱性融蝕可能画像形成要素に
関する。
関する。
【０００２】さらに特定的には、本発明は溶解処理を必
要としない平版印刷版の作製のための感熱性融蝕可能画
像形成要素に関する。
要としない平版印刷版の作製のための感熱性融蝕可能画
像形成要素に関する。
【０００３】
【発明の背景】平版印刷は、そのいくらかの領域が平版
印刷インキを受容することができるが、他の領域は水で
湿らされるとインキを受容しない特別に作られた表面か
らの印刷の方法である。インキを受容する領域は印刷画
像領域を限定し、インキ−反発性領域は背景領域を限定
する。
印刷インキを受容することができるが、他の領域は水で
湿らされるとインキを受容しない特別に作られた表面か
らの印刷の方法である。インキを受容する領域は印刷画
像領域を限定し、インキ−反発性領域は背景領域を限定
する。
【０００４】写真平版印刷の技術分野の場合、写真材料
は、露光された領域において（ネガティブ−作用性）又
は非露光領域において（ポジティブ−作用性）、親水性
背景上で画像通りに油性又は脂性インキに対して受容性
とされる。
は、露光された領域において（ネガティブ−作用性）又
は非露光領域において（ポジティブ−作用性）、親水性
背景上で画像通りに油性又は脂性インキに対して受容性
とされる。
【０００５】表面平版印刷版（ｓｕｒｆａｃｅ ｌｉｔ
ｈｏ ｐｌａｔｅｓ）又はプラノグラフィ印刷版（ｐｌ
ａｎｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐｌａｔｅ
ｓ）とも呼ばれる通常の平版印刷版の作製の場合、水に
対して親和性を有するか又は化学的処理によりそのよう
な親和性を得る支持体に感光性組成物の薄層がコーティ
ングされる。その目的のためのコーティングには、ジア
ゾ化合物、ジクロム酸塩−増感親水性コロイド及び多様
な合成感光性樹脂を含有する感光性ポリマー層が含まれ
る。特にジアゾ−増感系が広く用いられる。
ｈｏ ｐｌａｔｅｓ）又はプラノグラフィ印刷版（ｐｌ
ａｎｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐｌａｔｅ
ｓ）とも呼ばれる通常の平版印刷版の作製の場合、水に
対して親和性を有するか又は化学的処理によりそのよう
な親和性を得る支持体に感光性組成物の薄層がコーティ
ングされる。その目的のためのコーティングには、ジア
ゾ化合物、ジクロム酸塩−増感親水性コロイド及び多様
な合成感光性樹脂を含有する感光性ポリマー層が含まれ
る。特にジアゾ−増感系が広く用いられる。
【０００６】感光層が画像通りに露光されると、露光さ
れた画像領域は不溶性となり、非露光領域は可溶性のま
ま残る。次いで版は適した液を用いて現像され、非露光
領域のジアゾニウム塩又はジアゾ樹脂が除去される。
れた画像領域は不溶性となり、非露光領域は可溶性のま
ま残る。次いで版は適した液を用いて現像され、非露光
領域のジアゾニウム塩又はジアゾ樹脂が除去される。
【０００７】別の場合、画像通りに露光されると露光さ
れた領域において可溶性とされる感光性コーティングを
含む印刷版が既知である。その場合、続く現像は露光さ
れた領域を除去する。そのような感光性コーティングの
典型的例はキノン−ジアジドに基づくコーティングであ
る。
れた領域において可溶性とされる感光性コーティングを
含む印刷版が既知である。その場合、続く現像は露光さ
れた領域を除去する。そのような感光性コーティングの
典型的例はキノン−ジアジドに基づくコーティングであ
る。
【０００８】典型的には、それから印刷版が作製される
上記の写真材料は、平版印刷法において再現されるべき
画像を含有する写真フィルムを介して接触して露光され
る。そのような作業法はやっかいであり、労働集約的で
ある。しかし他方、かくして得られる印刷版は優れた平
版印刷品質のものである。
上記の写真材料は、平版印刷法において再現されるべき
画像を含有する写真フィルムを介して接触して露光され
る。そのような作業法はやっかいであり、労働集約的で
ある。しかし他方、かくして得られる印刷版は優れた平
版印刷品質のものである。
【０００９】かくして上記の方法において写真フィルム
の必要を除き、特に再現されるべき画像を示すコンピュ
ーターデータから直接印刷版を得るための試みが成され
てきた。しかしながら、上記の感光性コーティングはレ
ーザーに直接露光されるのに十分に感受性ではない。従
って、感光性コーティングの上にハロゲン化銀層をコー
ティングすることが提案された。次いで、ハロゲン化銀
をコンピューターの制御下でレーザーを用いて直接露光
することができる。続いてハロゲン化銀層を現像して感
光性コーティングの上に銀画像を残す。次いでその銀画
像は感光性コーティングの全体的露光においてマスクと
して働く。全体的露光の後、銀画像は除去され、感光性
コーテイングが現像される。そのような方法は例えばＪ
Ｐ−Ａ−６０−６１ ７５２に開示されているが、複雑
な現像及びそれに伴う現像液が必要であるという欠点を
有する。
の必要を除き、特に再現されるべき画像を示すコンピュ
ーターデータから直接印刷版を得るための試みが成され
てきた。しかしながら、上記の感光性コーティングはレ
ーザーに直接露光されるのに十分に感受性ではない。従
って、感光性コーティングの上にハロゲン化銀層をコー
ティングすることが提案された。次いで、ハロゲン化銀
をコンピューターの制御下でレーザーを用いて直接露光
することができる。続いてハロゲン化銀層を現像して感
光性コーティングの上に銀画像を残す。次いでその銀画
像は感光性コーティングの全体的露光においてマスクと
して働く。全体的露光の後、銀画像は除去され、感光性
コーテイングが現像される。そのような方法は例えばＪ
Ｐ−Ａ−６０−６１ ７５２に開示されているが、複雑
な現像及びそれに伴う現像液が必要であるという欠点を
有する。
【００１０】ＧＢ−１ ４９２ ０７０は、金属層又は
カーボンブラックを含有する層を感光性コーティング上
に設ける方法を開示している。次いでこの金属層をレー
ザーを用いて融蝕し、感光層上の画像マスクを得る。次
いで感光層を画像マスクを介してＵＶ−光により全体的
に露光する。画像マスクの除去の後、感光層を現像して
印刷版を得る。しかしながら、この方法は感光層の現像
の前にやっかいな処理により画像マスクを除去しなけれ
ばならないという欠点をまだ有している。
カーボンブラックを含有する層を感光性コーティング上
に設ける方法を開示している。次いでこの金属層をレー
ザーを用いて融蝕し、感光層上の画像マスクを得る。次
いで感光層を画像マスクを介してＵＶ−光により全体的
に露光する。画像マスクの除去の後、感光層を現像して
印刷版を得る。しかしながら、この方法は感光層の現像
の前にやっかいな処理により画像マスクを除去しなけれ
ばならないという欠点をまだ有している。
【００１１】さらに、感光性ではなく感熱性である画像
形成要素の使用を含んでなる印刷版の作製方法は既知で
ある。印刷版の作製のための上記のような感光性画像形
成要素の特別な欠点は、それを光から遮蔽しなければな
らないことである。さらに、それらは保存安定性の観点
で感度の問題を有し、それらは比較的低いドット鮮鋭度
（ｄｏｔ ｃｒｉｓｐｎｅｓｓ）を示す。明らかに市場
で、ヒートモード印刷版前駆体に向かう傾向が見られ
る。
形成要素の使用を含んでなる印刷版の作製方法は既知で
ある。印刷版の作製のための上記のような感光性画像形
成要素の特別な欠点は、それを光から遮蔽しなければな
らないことである。さらに、それらは保存安定性の観点
で感度の問題を有し、それらは比較的低いドット鮮鋭度
（ｄｏｔ ｃｒｉｓｐｎｅｓｓ）を示す。明らかに市場
で、ヒートモード印刷版前駆体に向かう傾向が見られ
る。
【００１２】ＥＰ−Ａ−４４４ ７８６、ＪＰ−６３−
２０８０３６及びＪＰ−６３−２７４５９２は、近ＩＲ
に対して増感されている感光性樹脂レジストを開示して
いる。これまでいずれも商業的に生き残れることが証明
されず、すべてが非露光領域を洗い落とすための湿式現
像を必要とする。ＥＰ−Ａ−５１４ １４５は、レーザ
ー露光により発生する熱が版のコーティング中の粒子を
融解させて凝集させ、従ってその溶解特性を変化させる
レーザーアドレスされる（ｌａｓｅｒ ａｄｄｒｅｓｓ
ｅｄ）版を記載している。この場合も、湿式現像が必要
である。
２０８０３６及びＪＰ−６３−２７４５９２は、近ＩＲ
に対して増感されている感光性樹脂レジストを開示して
いる。これまでいずれも商業的に生き残れることが証明
されず、すべてが非露光領域を洗い落とすための湿式現
像を必要とする。ＥＰ−Ａ−５１４ １４５は、レーザ
ー露光により発生する熱が版のコーティング中の粒子を
融解させて凝集させ、従ってその溶解特性を変化させる
レーザーアドレスされる（ｌａｓｅｒ ａｄｄｒｅｓｓ
ｅｄ）版を記載している。この場合も、湿式現像が必要
である。
【００１３】ＵＳ−Ｐ−５ ６０５ ７８０は、陽極酸
化されたアルミニウム支持体及び前記支持体上に載せら
れた画像形成層を含む平版印刷版を開示しており；前記
画像形成層はフィルム−形成ポリマー性結合剤中に分散
されたＩＲ吸収剤を含み；前記フィルム形成ポリマー性
結合剤はシアノアクリレートポリマーであり、その中に
前記ＩＲ−吸収剤が、前記画像形成層をその露光された
領域において完全に除去し、それにより前記下の支持体
を露出させるレーザー誘起熱融蝕によって前記画像形成
層を画像形成させるのに十分な量で分散されている。こ
の方法は、カブリのない（ｆｏｇ−ｆｒｅｅ）アルミニ
ウム支持体を得るのが該方法では非常に困難であるとい
う欠点を有する。融蝕により作製される版をスカム形成
なしで印刷することはできない。
化されたアルミニウム支持体及び前記支持体上に載せら
れた画像形成層を含む平版印刷版を開示しており；前記
画像形成層はフィルム−形成ポリマー性結合剤中に分散
されたＩＲ吸収剤を含み；前記フィルム形成ポリマー性
結合剤はシアノアクリレートポリマーであり、その中に
前記ＩＲ−吸収剤が、前記画像形成層をその露光された
領域において完全に除去し、それにより前記下の支持体
を露出させるレーザー誘起熱融蝕によって前記画像形成
層を画像形成させるのに十分な量で分散されている。こ
の方法は、カブリのない（ｆｏｇ−ｆｒｅｅ）アルミニ
ウム支持体を得るのが該方法では非常に困難であるとい
う欠点を有する。融蝕により作製される版をスカム形成
なしで印刷することはできない。
【００１４】ＥＰ−Ａ−６５２ ４８３は、溶解処理を
必要としない平版印刷版を開示しており、それは光熱変
換物質を含有する感熱性コーティングを有する基質を含
み、そのコーティングは熱の作用下で相対的により親水
性となる。この原理は、平版寛容度が非常に狭く、それ
により露光された領域で非常に急速トーニング（ｔｏｎ
ｉｎｇ）が起こるという欠点を有する。
必要としない平版印刷版を開示しており、それは光熱変
換物質を含有する感熱性コーティングを有する基質を含
み、そのコーティングは熱の作用下で相対的により親水
性となる。この原理は、平版寛容度が非常に狭く、それ
により露光された領域で非常に急速トーニング（ｔｏｎ
ｉｎｇ）が起こるという欠点を有する。
【００１５】
【発明の目的】本発明の目的は、溶解処理を必要とせ
ず、ポジティブ作用性である平版印刷版の作製のための
融蝕性画像形成要素を提供することである。
ず、ポジティブ作用性である平版印刷版の作製のための
融蝕性画像形成要素を提供することである。
【００１６】本発明の目的はまた、溶解処理を必要とせ
ず、露光領域において優れたインキ−吸収を示し且つ非
−露光領域においてトーニングを示さない平版印刷版の
作製のための融蝕性画像形成要素を提供することであ
る。
ず、露光領域において優れたインキ−吸収を示し且つ非
−露光領域においてトーニングを示さない平版印刷版の
作製のための融蝕性画像形成要素を提供することであ
る。
【００１７】
【発明の概略】本発明に従えば、 （１）光を熱に変換できる化合物及び熱の作用下でより
親水性になる化合物を含んでなる感熱性コーティングを
連続最上層として平版親水性支持体上に含んでなる画像
形成要素を準備し； （２）該画像形成感熱性組成物を、該感熱性組成物の表
面において少なくとも０．２ｍＷ／μｍ2の強度を有す
るレーザービームを発する高強度レーザーを用いて画像
通りに露光し、それにより該感熱性組成物を少なくとも
部分的に除去して平版支持体を少なくとも部分的に露出
させる段階を含んでなる平版印刷版の作製方法が提供さ
れる。
親水性になる化合物を含んでなる感熱性コーティングを
連続最上層として平版親水性支持体上に含んでなる画像
形成要素を準備し； （２）該画像形成感熱性組成物を、該感熱性組成物の表
面において少なくとも０．２ｍＷ／μｍ2の強度を有す
るレーザービームを発する高強度レーザーを用いて画像
通りに露光し、それにより該感熱性組成物を少なくとも
部分的に除去して平版支持体を少なくとも部分的に露出
させる段階を含んでなる平版印刷版の作製方法が提供さ
れる。
【００１８】
【発明の詳細な記述】熱の影響下でより親水性となる感
熱層もしくは画像形成層である最上層はスイッチ可能な
結合剤及び光を熱に変換できる化合物を含んでなる。ス
イッチ可能な結合剤は熱及び／又は酸の影響下で親水性
から疎水性又はその逆に極性が移行するポリマー又はコ
ポリマーである。本発明に従うと、加熱により及び／又
は酸の影響下で、より親水性となるスイッチ可能な結合
剤が用いられる。「より親水性」により、実質的に中性
のｐＨ（すなわち４〜１０のｐＨ範囲内）の水溶液によ
るコーティングの湿潤性における向上を意味し、コーテ
ィングはその構造的一体性を保持している。向上した湿
潤性は、コーティングと水溶液の間に形成される接触角
の減少により証明される。この表面極性の差は、古典的
オフセット印刷版の作製には十分である。しかしなが
ら、平版寛容度は制限される。
熱層もしくは画像形成層である最上層はスイッチ可能な
結合剤及び光を熱に変換できる化合物を含んでなる。ス
イッチ可能な結合剤は熱及び／又は酸の影響下で親水性
から疎水性又はその逆に極性が移行するポリマー又はコ
ポリマーである。本発明に従うと、加熱により及び／又
は酸の影響下で、より親水性となるスイッチ可能な結合
剤が用いられる。「より親水性」により、実質的に中性
のｐＨ（すなわち４〜１０のｐＨ範囲内）の水溶液によ
るコーティングの湿潤性における向上を意味し、コーテ
ィングはその構造的一体性を保持している。向上した湿
潤性は、コーティングと水溶液の間に形成される接触角
の減少により証明される。この表面極性の差は、古典的
オフセット印刷版の作製には十分である。しかしなが
ら、平版寛容度は制限される。
【００１９】本発明に従うスイッチ可能な結合剤は、好
ましくは、熱及び／又は酸の作用下で反応し、もっと極
性の親水性基を形成することができる側鎖（ｐｅｎｄａ
ｎｔ）極性官能基を含有するポリマーもしくはコポリマ
ーである。このように挙動する基の例には、ｔ−アルキ
ルカルボキシレート、例えばＥＰ−Ａ−２４９１３９に
開示されているようなｔ−ブチルエステル、ｔ−アルキ
ルカーボネート、例えばｐｏｌｙｍｅｒ ｂｕｌｌｅｔ
ｉｎ，１７，１−６（１９８７）に開示されているよう
なｔ−ブチルカーボネート、ベンジルカルボキシレー
ト、例えばＵＳ−Ｐ−４ ９６３ ４６３に開示されて
いるようなニトロベンジルもしくはシアノベンジルエス
テル、及びＰｏｌｙｍ．Ｍａｔ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．１９
８９，６０，１４２に開示されているようなジメチルベ
ンジルエステル、ならびにＷＯ ９２／０９９３４に開
示されているようなアルコキシアルキルエステルが含ま
れる。後者が好ましく、それは式（Ｉ）
ましくは、熱及び／又は酸の作用下で反応し、もっと極
性の親水性基を形成することができる側鎖（ｐｅｎｄａ
ｎｔ）極性官能基を含有するポリマーもしくはコポリマ
ーである。このように挙動する基の例には、ｔ−アルキ
ルカルボキシレート、例えばＥＰ−Ａ−２４９１３９に
開示されているようなｔ−ブチルエステル、ｔ−アルキ
ルカーボネート、例えばｐｏｌｙｍｅｒ ｂｕｌｌｅｔ
ｉｎ，１７，１−６（１９８７）に開示されているよう
なｔ−ブチルカーボネート、ベンジルカルボキシレー
ト、例えばＵＳ−Ｐ−４ ９６３ ４６３に開示されて
いるようなニトロベンジルもしくはシアノベンジルエス
テル、及びＰｏｌｙｍ．Ｍａｔ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．１９
８９，６０，１４２に開示されているようなジメチルベ
ンジルエステル、ならびにＷＯ ９２／０９９３４に開
示されているようなアルコキシアルキルエステルが含ま
れる。後者が好ましく、それは式（Ｉ）
【００２０】
【化２】
【００２１】［式中：Ｒ1及びＲ2の一方は水素であり、
他方は水素又は炭素数が最高で１８のアルキル基であ
り、Ｒ3は炭素数が最高で１８のアルキル基を示すか；
あるいはＲ1、Ｒ2及びＲ3のいずれか２つは一緒になっ
て炭素環式もしくは複素環式環を形成することができ、
Ｔはポリマー主鎖に結合している２価の結合基を示す］
により示され得る。Ｔ及びポリマー主鎖のための適した
同定（ｉｄｅｎｔｉｔｉｅｓ）に関するさらなる詳細は
ＷＯ ９２／０９９３４に開示されている。好ましく
は、Ｒ1は水素であり、Ｒ2及びＲ3は一緒になって５−
もしくは６−員環を完成する。
他方は水素又は炭素数が最高で１８のアルキル基であ
り、Ｒ3は炭素数が最高で１８のアルキル基を示すか；
あるいはＲ1、Ｒ2及びＲ3のいずれか２つは一緒になっ
て炭素環式もしくは複素環式環を形成することができ、
Ｔはポリマー主鎖に結合している２価の結合基を示す］
により示され得る。Ｔ及びポリマー主鎖のための適した
同定（ｉｄｅｎｔｉｔｉｅｓ）に関するさらなる詳細は
ＷＯ ９２／０９９３４に開示されている。好ましく
は、Ｒ1は水素であり、Ｒ2及びＲ3は一緒になって５−
もしくは６−員環を完成する。
【００２２】好ましくは、ポリマーはテトラヒドロピラ
ニルメタクリレート（ＴＨＰＭ）から誘導され、式（Ｉ
Ｉ）
ニルメタクリレート（ＴＨＰＭ）から誘導され、式（Ｉ
Ｉ）
【００２３】
【化３】
【００２４】の繰り返し単位を有する。
【００２５】式（ＩＩ）の単位中の環状アセタールエス
テル基は比較的疎水性であり、中性もしくはアルカリ性
条件下で周囲温度において安定である。高められた温度
では、開裂反応が起こり、極性且つ親水性である対応す
るカルボン酸を生成すると思われる。
テル基は比較的疎水性であり、中性もしくはアルカリ性
条件下で周囲温度において安定である。高められた温度
では、開裂反応が起こり、極性且つ親水性である対応す
るカルボン酸を生成すると思われる。
【００２６】
【化４】
【００２７】前記過程は酸の存在により非常に助長さ
れ、溶解現像の必要なく平版印刷面を作製することを可
能にし、それは関連するポリマーのコーティング内にお
ける熱及び／又は酸の画像通りの生成が、対応する親水
性（インキ−反発性）及び疎水性（インキ−受容性）領
域のパターンを画像形成要素上に生ずるからである。
れ、溶解現像の必要なく平版印刷面を作製することを可
能にし、それは関連するポリマーのコーティング内にお
ける熱及び／又は酸の画像通りの生成が、対応する親水
性（インキ−反発性）及び疎水性（インキ−受容性）領
域のパターンを画像形成要素上に生ずるからである。
【００２８】ＷＯ ９２／０９９３４に記載されている
通り、他のポリマーと配合することにより反応性ポリマ
ーの性質を強化することができる。この目的のために無
水マレイン酸のポリマー及びコポリマーが特に適してお
り、それはコーティングの最高で９０重量％を構成する
ことができるが、好ましくは５０重量％以下である。得
られるブレンドは向上した耐久性及び湿潤性における分
化の強化を示す。
通り、他のポリマーと配合することにより反応性ポリマ
ーの性質を強化することができる。この目的のために無
水マレイン酸のポリマー及びコポリマーが特に適してお
り、それはコーティングの最高で９０重量％を構成する
ことができるが、好ましくは５０重量％以下である。得
られるブレンドは向上した耐久性及び湿潤性における分
化の強化を示す。
【００２９】反応性ポリマーは感熱性基を含有していな
い１種もしくはそれより多いコモノマーから誘導される
繰り返し単位を含んでいることができる。例えば、ＴＨ
ＰＭ（又は類似のモノマー）を通常のアクレートもしく
はメタクリレート又は他のビニルモノマーのいずれかと
共重合させ、種々の物理的性質を有するポリマーを製造
することができ、但し、前記コモノマーは反応性基の望
ましくない開裂を引き起こし得る強力に酸性の基（カル
ボン酸、スルホン酸のような）を含有しない。好ましい
コモノマーには反応性ポリマーの最高で５０モル％の量
におけるビニル−官能基性トリアルコキシシラン、例え
ばメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン
（ＭＰＴＳ）が含まれる。好ましいコポリマーは９０モ
ル％のＴＨＰＭ及び１０モル％のＭＰＴＳを含む。
い１種もしくはそれより多いコモノマーから誘導される
繰り返し単位を含んでいることができる。例えば、ＴＨ
ＰＭ（又は類似のモノマー）を通常のアクレートもしく
はメタクリレート又は他のビニルモノマーのいずれかと
共重合させ、種々の物理的性質を有するポリマーを製造
することができ、但し、前記コモノマーは反応性基の望
ましくない開裂を引き起こし得る強力に酸性の基（カル
ボン酸、スルホン酸のような）を含有しない。好ましい
コモノマーには反応性ポリマーの最高で５０モル％の量
におけるビニル−官能基性トリアルコキシシラン、例え
ばメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン
（ＭＰＴＳ）が含まれる。好ましいコポリマーは９０モ
ル％のＴＨＰＭ及び１０モル％のＭＰＴＳを含む。
【００３０】画像形成層は１種より多いスイッチ可能な
ポリマーを含むことができるが、それは好ましくはな
い。
ポリマーを含むことができるが、それは好ましくはな
い。
【００３１】画像形成層は光を熱に変換できる化合物を
含む。光を熱に変換できる適した化合物は好ましくは赤
外吸収性成分であるが、用いられる化合物の吸光が画像
通りの露光に用いられる光源の波長領域内にあれば、吸
収波長は特に重要ではない。特に有用な化合物は、例え
ば染料そして特に赤外吸収性染料ならびに顔料そして特
に赤外吸収性顔料である。赤外吸収性染料の例はＥＰ−
Ａ−９７ ２０３ １３１．４に開示されている。赤外
吸収性顔料の例は、カーボンブラック、金属炭化物、ホ
ウ化物、窒化物、炭化窒化物、ブロンズ−構造酸化物及
び構造的にブロンズ群に関連するがＡ成分がない酸化
物、例えばＷＯ2.9である。導電性ポリマー分散液、例
えばポリピロール又はポリアニリンに基づく導電性ポリ
マー分散液を用いることもできる。前記光を熱に変換で
きる化合物は好ましくは最上層中に存在するが、下の層
に含まれることもできる。
含む。光を熱に変換できる適した化合物は好ましくは赤
外吸収性成分であるが、用いられる化合物の吸光が画像
通りの露光に用いられる光源の波長領域内にあれば、吸
収波長は特に重要ではない。特に有用な化合物は、例え
ば染料そして特に赤外吸収性染料ならびに顔料そして特
に赤外吸収性顔料である。赤外吸収性染料の例はＥＰ−
Ａ−９７ ２０３ １３１．４に開示されている。赤外
吸収性顔料の例は、カーボンブラック、金属炭化物、ホ
ウ化物、窒化物、炭化窒化物、ブロンズ−構造酸化物及
び構造的にブロンズ群に関連するがＡ成分がない酸化
物、例えばＷＯ2.9である。導電性ポリマー分散液、例
えばポリピロール又はポリアニリンに基づく導電性ポリ
マー分散液を用いることもできる。前記光を熱に変換で
きる化合物は好ましくは最上層中に存在するが、下の層
に含まれることもできる。
【００３２】前記光を熱に変換できる化合物は、好まし
くは、画像形成層の合計重量の１〜２５重量％の量、よ
り好ましくは画像形成層の合計重量の２〜２０重量％の
量で画像形成要素中に存在する。光を熱に変換できる化
合物は最も好ましくは８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長
において少なくとも０．３５の光学濃度を与える量で画
像形成要素中に存在する。
くは、画像形成層の合計重量の１〜２５重量％の量、よ
り好ましくは画像形成層の合計重量の２〜２０重量％の
量で画像形成要素中に存在する。光を熱に変換できる化
合物は最も好ましくは８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長
において少なくとも０．３５の光学濃度を与える量で画
像形成要素中に存在する。
【００３３】場合により画像形成層は熱性酸（ｔｈｅｒ
ｍａｌ ａｃｉｄ）を含む。「熱性酸」という用語は、
加熱により酸を放出する非−酸化合物に関する。
ｍａｌ ａｃｉｄ）を含む。「熱性酸」という用語は、
加熱により酸を放出する非−酸化合物に関する。
【００３４】本発明で用いるためにはイオン性熱性酸が
適している。これらの例にはオニウム塩、特にヨードニ
ウム、スルホニウム、ホスホニウム、セレノニウム、ジ
アゾニウム及びアルソニウム塩が含まれる。
適している。これらの例にはオニウム塩、特にヨードニ
ウム、スルホニウム、ホスホニウム、セレノニウム、ジ
アゾニウム及びアルソニウム塩が含まれる。
【００３５】有用なイオン性熱性酸には式： Ｘ+Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4 Ｗ- により示されるものが含まれる。
【００３６】Ｘがヨウ素の場合、Ｒ3及びＲ4は孤立電子
対であり、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立してアリールもし
くは置換アリール基である。ＸがＳ又はＳｅの場合、Ｒ
4は孤立電子対であり、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立
してアリール基、置換アリール基、脂肪族基又は置換脂
肪族基であることができる。ＸがＰ又はＡｓである場
合、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立してアリール
基、置換アリール基、脂肪族基又は置換脂肪族基である
ことができる。ＷはＢＦ4、ＣＦ3ＳＯ3、ＳｂＦ6、ＣＣ
ｌ3ＣＯ2、ＣｌＯ4、ＡｓＦ6、ＰＦ6又はそのｐＫａが
３未満のいずれかの対応する酸であることができる。
対であり、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立してアリールもし
くは置換アリール基である。ＸがＳ又はＳｅの場合、Ｒ
4は孤立電子対であり、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立
してアリール基、置換アリール基、脂肪族基又は置換脂
肪族基であることができる。ＸがＰ又はＡｓである場
合、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立してアリール
基、置換アリール基、脂肪族基又は置換脂肪族基である
ことができる。ＷはＢＦ4、ＣＦ3ＳＯ3、ＳｂＦ6、ＣＣ
ｌ3ＣＯ2、ＣｌＯ4、ＡｓＦ6、ＰＦ6又はそのｐＫａが
３未満のいずれかの対応する酸であることができる。
【００３７】ＵＳ−Ｐ−４ ７０８ ９２５に記載され
ているオニウム塩のいずれも本発明における熱性酸とし
て用いることができる。これらにはヨードニウム、スル
ホニウム、ホスホニウム、ブロモニウム、クロロニウ
ム、オキシスルホキソニウム、オキシスルホニウム、ス
ルホキソニウム、セレノニウム、テルロニウム及びアル
ソニウム塩が含まれる。
ているオニウム塩のいずれも本発明における熱性酸とし
て用いることができる。これらにはヨードニウム、スル
ホニウム、ホスホニウム、ブロモニウム、クロロニウ
ム、オキシスルホキソニウム、オキシスルホニウム、ス
ルホキソニウム、セレノニウム、テルロニウム及びアル
ソニウム塩が含まれる。
【００３８】熱性酸としてジアゾニウム塩を用いるのは
本発明において特に好ましい。
本発明において特に好ましい。
【００３９】特に有用なオニウム塩の特定の例には：ジ
フェニルヨウドニウム ヘキサフルオロホスフェート、
トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート、フェニルメチル−オルト−シアノベンジルスルホ
ニウム トリフルオロメタンスルホネート、及び２−メ
トキシ−４−アミノフェニル ジアゾニウム ヘキサフ
ルオロホスフェートが含まれる。
フェニルヨウドニウム ヘキサフルオロホスフェート、
トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート、フェニルメチル−オルト−シアノベンジルスルホ
ニウム トリフルオロメタンスルホネート、及び２−メ
トキシ−４−アミノフェニル ジアゾニウム ヘキサフ
ルオロホスフェートが含まれる。
【００４０】非−イオン性熱性酸も本発明で用いるため
に適している。これらの例には式： ＲＣＨ2Ｘ、ＲＣＨＸ2、ＲＣＸ3、Ｒ（ＣＨ2Ｘ）2及び
Ｒ（ＣＨ2Ｘ）3 ［式中、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｆ又はＣＦ3ＳＯ3であり、Ｒ
は芳香族基又は脂肪族基である］の化合物が含まれる。
に適している。これらの例には式： ＲＣＨ2Ｘ、ＲＣＨＸ2、ＲＣＸ3、Ｒ（ＣＨ2Ｘ）2及び
Ｒ（ＣＨ2Ｘ）3 ［式中、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｆ又はＣＦ3ＳＯ3であり、Ｒ
は芳香族基又は脂肪族基である］の化合物が含まれる。
【００４１】さらに別の適した非−イオン性熱性酸は、
ＥＰ−Ａ−６７２ ９５４に開示されているようなハロ
アルキル−置換ｓ−トリアジン、Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅ
ｔａｌによりＰｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，２５，５７３
（１９８７）に記載されているようなｏ−ニトロベンジ
ル型保護基を有するフォト酸（ｐｈｏｔｏ ａｃｉｄ）
生成剤であるｏ−キノンジアジド；Ｍ．Ｔｕｎｏｏｋａ
ｅｔ ａｌによりＰｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔ
ｓ Ｊａｐａｎ，３５（８）に記載されているイミノス
ルホネート、ＪＰ−Ｐｉ ６１−１６６５４４に記載さ
れているジスルホン化合物、それらの製造が文献におい
て周知であるａ−スルホニルオキシケトン、ａ−ヒドロ
キシメチルベンゾインスルホネート、ニトロベンジルス
ルホネート、ａ−スルホニル アセトフェノン及びスル
ホニルイミドを代表とする光分解に供されてスルホン酸
を生成する化合物；Ｍ．Ｒｕｂｉｎｓｔｅｉｎ ｅｔａ
ｌによりＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１
７，１４４５（１９７５）に記載されているニトロベン
ジルホスフェート又はホスホネート、Ｍ．Ｐｉｒｒｕｎ
ｇ ａｎｄ Ｓ．ＳｈｕｅｙによりＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．５９，３８９０（１９９４）に記載されているベン
ゾインホスフェート又はホスホネート、それらの製造が
文献において周知であるピレンメチルホスフェート又は
ホスホネート、イミノホスフェート又はホスホネートな
らびにイミドホスフェート又はホスホネートを代表とす
る光分解に供されてホスホン酸、部分的エステル化リン
酸又はリン酸を生成する化合物である。
ＥＰ−Ａ−６７２ ９５４に開示されているようなハロ
アルキル−置換ｓ−トリアジン、Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅ
ｔａｌによりＰｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，２５，５７３
（１９８７）に記載されているようなｏ−ニトロベンジ
ル型保護基を有するフォト酸（ｐｈｏｔｏ ａｃｉｄ）
生成剤であるｏ−キノンジアジド；Ｍ．Ｔｕｎｏｏｋａ
ｅｔ ａｌによりＰｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔ
ｓ Ｊａｐａｎ，３５（８）に記載されているイミノス
ルホネート、ＪＰ−Ｐｉ ６１−１６６５４４に記載さ
れているジスルホン化合物、それらの製造が文献におい
て周知であるａ−スルホニルオキシケトン、ａ−ヒドロ
キシメチルベンゾインスルホネート、ニトロベンジルス
ルホネート、ａ−スルホニル アセトフェノン及びスル
ホニルイミドを代表とする光分解に供されてスルホン酸
を生成する化合物；Ｍ．Ｒｕｂｉｎｓｔｅｉｎ ｅｔａ
ｌによりＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１
７，１４４５（１９７５）に記載されているニトロベン
ジルホスフェート又はホスホネート、Ｍ．Ｐｉｒｒｕｎ
ｇ ａｎｄ Ｓ．ＳｈｕｅｙによりＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．５９，３８９０（１９９４）に記載されているベン
ゾインホスフェート又はホスホネート、それらの製造が
文献において周知であるピレンメチルホスフェート又は
ホスホネート、イミノホスフェート又はホスホネートな
らびにイミドホスフェート又はホスホネートを代表とす
る光分解に供されてホスホン酸、部分的エステル化リン
酸又はリン酸を生成する化合物である。
【００４２】さらに、上記の熱性酸がポリマーの主鎖又
は側鎖中に導入されている化合物を用いることができ
る。その例には例えばＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，
１０４，５５８６（１９８２）においてＭ．Ｅ．Ｗｏｏ
ｄｈｏｕｓｅ ｅｔ ａｌにより；Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ
Ｓｃｉ．，３０（５），２１８（１９８６）において
Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ ｅｔ ａｌにより記載されてい
る化合物などが含まれる。
は側鎖中に導入されている化合物を用いることができ
る。その例には例えばＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，
１０４，５５８６（１９８２）においてＭ．Ｅ．Ｗｏｏ
ｄｈｏｕｓｅ ｅｔ ａｌにより；Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ
Ｓｃｉ．，３０（５），２１８（１９８６）において
Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ ｅｔ ａｌにより記載されてい
る化合物などが含まれる。
【００４３】さらにこのＩＲ−感受性層は好ましくは可
視光−及びＵＶ−光減感層である。この好適に可視光−
もしくはＵＶ−光減感された層は２５０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍの波長領域内で吸光するジアゾ化合物、フォト酸、光
開始剤、キノンジアジド、増感剤などのような感光性成
分を含まない。この方法で昼光安定性の印刷版を得るこ
とができる。
視光−及びＵＶ−光減感層である。この好適に可視光−
もしくはＵＶ−光減感された層は２５０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍの波長領域内で吸光するジアゾ化合物、フォト酸、光
開始剤、キノンジアジド、増感剤などのような感光性成
分を含まない。この方法で昼光安定性の印刷版を得るこ
とができる。
【００４４】画像形成層は好ましくは０．１〜１０ｇ／
ｍ2の量、より好ましくは０．５〜５ｇ／ｍ2の量で適用
される。
ｍ2の量、より好ましくは０．５〜５ｇ／ｍ2の量で適用
される。
【００４５】親水性平版支持体は柔軟性支持体であるこ
とができると同様に剛性支持体であることができる。
とができると同様に剛性支持体であることができる。
【００４６】本発明に従う画像形成要素において、支持
体は陽極酸化されたアルミニウムであることができる。
特に好ましい支持体は電気化学的に研磨され、陽極酸化
されたアルミニウム支持体である。
体は陽極酸化されたアルミニウムであることができる。
特に好ましい支持体は電気化学的に研磨され、陽極酸化
されたアルミニウム支持体である。
【００４７】本発明と関連する他の実施態様に従うと、
前記親水性平版ベースは柔軟性支持体上にコーティング
された親水性結合剤及び硬膜剤を含有する硬膜された親
水性層であることができる。
前記親水性平版ベースは柔軟性支持体上にコーティング
された親水性結合剤及び硬膜剤を含有する硬膜された親
水性層であることができる。
【００４８】そのような親水性結合剤は例えばＥＰ−Ａ
−４５０ １９９に開示されており、従ってその記載事
項は引用することにより本明細書の内容となる。好まし
い硬膜された親水性層は、引用することによりその記載
事項が本明細書の内容となるＥＰ−Ａ−５１４ ９９０
に開示されているようなアルデヒドを用いて硬膜された
部分的改質デキストラン又はプルランを含む。より好ま
しい親水性層は、引用することによりその記載事項が本
明細書の内容となる、例えば、ＧＢ−Ｐ １４１９ ５
１２、ＦＲ−Ｐ−２ ３００ ３５４、ＵＳ−Ｐ−３
９７１ ６６０、ＵＳ−Ｐ−４ ２８４ ７０５、ＥＰ
−Ａ−４０５ ０１６及びＥＰ−Ａ−４５０ １９９に
開示されているような、テトラアルキルオルトシリケー
トを用いて硬膜され、好ましくはＳｉＯ2及び／又はＴ
ｉＯ2を含有するポリビニルアルコールの層であり、こ
こで該ポリビニルアルコール対該テトラアルキルオルト
シリケートの間の重量比は０．５〜５である。
−４５０ １９９に開示されており、従ってその記載事
項は引用することにより本明細書の内容となる。好まし
い硬膜された親水性層は、引用することによりその記載
事項が本明細書の内容となるＥＰ−Ａ−５１４ ９９０
に開示されているようなアルデヒドを用いて硬膜された
部分的改質デキストラン又はプルランを含む。より好ま
しい親水性層は、引用することによりその記載事項が本
明細書の内容となる、例えば、ＧＢ−Ｐ １４１９ ５
１２、ＦＲ−Ｐ−２ ３００ ３５４、ＵＳ−Ｐ−３
９７１ ６６０、ＵＳ−Ｐ−４ ２８４ ７０５、ＥＰ
−Ａ−４０５ ０１６及びＥＰ−Ａ−４５０ １９９に
開示されているような、テトラアルキルオルトシリケー
トを用いて硬膜され、好ましくはＳｉＯ2及び／又はＴ
ｉＯ2を含有するポリビニルアルコールの層であり、こ
こで該ポリビニルアルコール対該テトラアルキルオルト
シリケートの間の重量比は０．５〜５である。
【００４９】柔軟性支持体は不透明もしくは透明の例え
ば紙支持体もしくは樹脂支持体であることができる。紙
支持体が用いられる場合、片面もしくは両面においてア
ルファ−オレフィンポリマーがコーティングされたもの
が好ましい。有機樹脂支持体、例えばポリ（エチレンテ
レフタレート）フィルム又はポリ−アルファ−オレフィ
ンフィルムを用いることもできる。そのような有機樹脂
フィルムの厚さは好ましくは０．０７〜０．３５ｍｍに
含まれる。これらの有機樹脂支持体は好ましくは親水性
接着層がコーティングされており、それは水に不溶性の
粒子、例えばシリカ又は二酸化チタンを含有することが
できる。
ば紙支持体もしくは樹脂支持体であることができる。紙
支持体が用いられる場合、片面もしくは両面においてア
ルファ−オレフィンポリマーがコーティングされたもの
が好ましい。有機樹脂支持体、例えばポリ（エチレンテ
レフタレート）フィルム又はポリ−アルファ−オレフィ
ンフィルムを用いることもできる。そのような有機樹脂
フィルムの厚さは好ましくは０．０７〜０．３５ｍｍに
含まれる。これらの有機樹脂支持体は好ましくは親水性
接着層がコーティングされており、それは水に不溶性の
粒子、例えばシリカ又は二酸化チタンを含有することが
できる。
【００５０】いずれかの既知の方法に従って種々の層を
適用することにより画像形成要素を製造することができ
る。別の場合、すでに印刷機上にある支持体を用い、印
刷機のすぐ近くに置かれたコーターにより、前記画像形
成要素を印刷機上で製造することができる。
適用することにより画像形成要素を製造することができ
る。別の場合、すでに印刷機上にある支持体を用い、印
刷機のすぐ近くに置かれたコーターにより、前記画像形
成要素を印刷機上で製造することができる。
【００５１】本発明と関連する画像形成は、レーザー又
はＬＥＤ、より好ましくは赤外もしくは近赤外、すなわ
ち７００〜１５００ｎｍの波長領域内で働くレーザーも
しくはＬＥＤの使用を含む画像通りの走査露光により行
われ得る。最も好ましいのは近赤外内で発光するレーザ
ーダイオードである。短い画素滞留時間を有するレーザ
ーならびに長い画素滞留時間を有するレーザーを用いて
画像形成要素の露光を行うことができる。好ましいのは
０．００５μ秒〜２０μ秒の画素滞留時間を有するレー
ザーである。
はＬＥＤ、より好ましくは赤外もしくは近赤外、すなわ
ち７００〜１５００ｎｍの波長領域内で働くレーザーも
しくはＬＥＤの使用を含む画像通りの走査露光により行
われ得る。最も好ましいのは近赤外内で発光するレーザ
ーダイオードである。短い画素滞留時間を有するレーザ
ーならびに長い画素滞留時間を有するレーザーを用いて
画像形成要素の露光を行うことができる。好ましいのは
０．００５μ秒〜２０μ秒の画素滞留時間を有するレー
ザーである。
【００５２】前記感熱性組成物の表面におけるレーザー
もしくはＬＥＤの強度は、露光された領域において感熱
性組成物を融蝕するために少なくとも０．２ｍＷ／ｃｍ
2、より好ましくは少なくとも０．４ｍＷ／ｃｍ2であ
る。融蝕されなかった感熱性組成物の残りは親水性とな
っており、従って前記残りは露光された領域の親水性を
損なわず、スカムを引き起こさない。
もしくはＬＥＤの強度は、露光された領域において感熱
性組成物を融蝕するために少なくとも０．２ｍＷ／ｃｍ
2、より好ましくは少なくとも０．４ｍＷ／ｃｍ2であ
る。融蝕されなかった感熱性組成物の残りは親水性とな
っており、従って前記残りは露光された領域の親水性を
損なわず、スカムを引き起こさない。
【００５３】露光の後、画像形成要素は平版印刷版とし
て用いられるための準備ができている。
て用いられるための準備ができている。
【００５４】本発明の別の実施態様において、すでに印
刷機上にある画像形成要素を用いて画像形成要素の露光
を行うことができる。コンピューター又は他の情報源が
リード線を介してレーザーもしくはＬＥＤにグラフィッ
ク及び文字の情報を供給する。
刷機上にある画像形成要素を用いて画像形成要素の露光
を行うことができる。コンピューター又は他の情報源が
リード線を介してレーザーもしくはＬＥＤにグラフィッ
ク及び文字の情報を供給する。
【００５５】本発明の印刷版を印刷法においてシームレ
ススリーブ印刷版として用いることもできる。古典的に
作製された印刷版を古典的方法で適用する代わりに、直
径として印刷胴の直径を有するこの円筒状印刷版を印刷
胴上で滑らせる。スリーブに関するさらなる詳細は“Ｇ
ｒａｆｉｓｃｈ Ｎｉｅｕｗｓ” ｅｄ．Ｋｅｅｓｉｎ
ｇ，１５，１９９５，ｐａｇｅ ４〜６に示されてい
る。
ススリーブ印刷版として用いることもできる。古典的に
作製された印刷版を古典的方法で適用する代わりに、直
径として印刷胴の直径を有するこの円筒状印刷版を印刷
胴上で滑らせる。スリーブに関するさらなる詳細は“Ｇ
ｒａｆｉｓｃｈ Ｎｉｅｕｗｓ” ｅｄ．Ｋｅｅｓｉｎ
ｇ，１５，１９９５，ｐａｇｅ ４〜６に示されてい
る。
【００５６】以下の実施例は、本発明をそれに制限する
ことなく本発明を例示するものである。すべての部及び
パーセンテージは、特に規定しない限り、重量による。
ことなく本発明を例示するものである。すべての部及び
パーセンテージは、特に規定しない限り、重量による。
【００５７】
【実施例】実施例１ 研磨され、陽極酸化された表面を有する１８０μｍの厚
さのアルミニウムシートに、メチルエチルケトン中の９
０／１０のモノマーモル比におけるスイッチ可能なコポ
リマー（テトラヒドロピラニルメタクリレート／メタク
リルオキシプロピル−トリメトキシシラン）（０．３５
ｇ）及びＩＲ−吸収性染料ＩＲ−１（０．０３６５ｇ）
の溶液をコーティングし、１．８ｇ／ｍ2の乾燥層厚さ
を有する感熱層を得ることにより、画像形成要素Ｉを製
造した。光学濃度は０．４９であった。参照として、ス
イッチ可能なポリマーをＣｌａｒｉａｎｔ，Ｇｅｒｍａ
ｎｙにより販売されているノボラック結合剤Ａｌｎｏｖ
ｏｌ ＳＰＮ４５２TMで置き換える以外は画像形成要素
Ｉと同じ感熱性層を用いて画像形成要素ＩＩを製造し
た。光学濃度は０．２５であった。１／ｅ2点において
１１ｘ１１μｍ2のレーザー点を有するダイオードレー
ザー（８３０ｎｍ）が備えられたＩＳＯＭＥＴ試験台
（ｔｅｓｔｂｅｄ）上で版を露光した。版は３．２ｍ／
秒のドラムスピードにおいて種々の画像面出力設定で露
光された。露光された領域の光学濃度を測定し（Ｍａｃ
ｂｅｔｈ ＲＤ ９１８ＳＢTM−青フィルター）、ＩＲ
−露光により除去された材料を定量した。結果を表１に
まとめる。
さのアルミニウムシートに、メチルエチルケトン中の９
０／１０のモノマーモル比におけるスイッチ可能なコポ
リマー（テトラヒドロピラニルメタクリレート／メタク
リルオキシプロピル−トリメトキシシラン）（０．３５
ｇ）及びＩＲ−吸収性染料ＩＲ−１（０．０３６５ｇ）
の溶液をコーティングし、１．８ｇ／ｍ2の乾燥層厚さ
を有する感熱層を得ることにより、画像形成要素Ｉを製
造した。光学濃度は０．４９であった。参照として、ス
イッチ可能なポリマーをＣｌａｒｉａｎｔ，Ｇｅｒｍａ
ｎｙにより販売されているノボラック結合剤Ａｌｎｏｖ
ｏｌ ＳＰＮ４５２TMで置き換える以外は画像形成要素
Ｉと同じ感熱性層を用いて画像形成要素ＩＩを製造し
た。光学濃度は０．２５であった。１／ｅ2点において
１１ｘ１１μｍ2のレーザー点を有するダイオードレー
ザー（８３０ｎｍ）が備えられたＩＳＯＭＥＴ試験台
（ｔｅｓｔｂｅｄ）上で版を露光した。版は３．２ｍ／
秒のドラムスピードにおいて種々の画像面出力設定で露
光された。露光された領域の光学濃度を測定し（Ｍａｃ
ｂｅｔｈ ＲＤ ９１８ＳＢTM−青フィルター）、ＩＲ
−露光により除去された材料を定量した。結果を表１に
まとめる。
【００５８】画像形成の後、ＡＢＤｉｃｋ ３６０TM印
刷機上でＫ＋Ｅ ８００TMインキ及び湿し液として水＋
５％ Ｇ６４８TM（Ａｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔからのシ
リカ含有湿し液）を用いて版を印刷した。表１におい
て、調色なしで印刷することができたシートの最大数を
報告する。
刷機上でＫ＋Ｅ ８００TMインキ及び湿し液として水＋
５％ Ｇ６４８TM（Ａｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔからのシ
リカ含有湿し液）を用いて版を印刷した。表１におい
て、調色なしで印刷することができたシートの最大数を
報告する。
【００５９】
【表１】
【００６０】これらの結果から、熱スイッチ可能なポリ
マーを含有しないＩＲ−感受性層の融蝕は有用な印刷版
を与えないことが明らかである（プリントの最大数は０
である）。熱スイッチ可能なＩＲ−感受性層の非−融蝕
性露光は限られた平版寛容度を有する印刷版を生ずる
（プリントの最大数は４００である）。熱スイッチ可能
なＩＲ−感受性層の融蝕性露光は向上した許容され得る
平版寛容度を有する印刷版を生ずる（プリントの最大数
は７０００より多い）。
マーを含有しないＩＲ−感受性層の融蝕は有用な印刷版
を与えないことが明らかである（プリントの最大数は０
である）。熱スイッチ可能なＩＲ−感受性層の非−融蝕
性露光は限られた平版寛容度を有する印刷版を生ずる
（プリントの最大数は４００である）。熱スイッチ可能
なＩＲ−感受性層の融蝕性露光は向上した許容され得る
平版寛容度を有する印刷版を生ずる（プリントの最大数
は７０００より多い）。
【００６１】融蝕性露光は、１／ｅ2の点における１１
ｘ１１μｍ2のレーザー点の場合に３．２ｍ／秒におい
て、＞＝２４０ｍＷの出力設定で起こる。これは２４０
ｍＷ／（１１ｘ１１）μｍ2＝０．２μＷ／μｍ2の強度
に相当する。
ｘ１１μｍ2のレーザー点の場合に３．２ｍ／秒におい
て、＞＝２４０ｍＷの出力設定で起こる。これは２４０
ｍＷ／（１１ｘ１１）μｍ2＝０．２μＷ／μｍ2の強度
に相当する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 33/14 Ｃ０８Ｌ 33/14 Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ 7/20 ５０５ 7/20 ５０５ 7/36 7/36 (72)発明者 ペーター・ヘンドリクス ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内
Claims (9)
- 【請求項１】 （１）光を熱に変換できる化合物及び熱
の作用下でより親水性になる化合物を含んでなる感熱性
コーティングの連続最上層を平版親水性支持体上に含ん
でなる画像形成要素を準備し； （２）該画像形成感熱性組成物を、該感熱性組成物の表
面において少なくとも０．２ｍＷ／μｍ2の強度を有す
るレーザービームを発する高強度レーザーを用いて画像
通りに露光し、それにより該感熱性組成物を少なくとも
部分的に除去して平版支持体を少なくとも部分的に露出
させる段階を含んでなる平版印刷版の作製方法。 - 【請求項２】 前記強度が少なくとも０．４ｍＷ／μｍ
2である請求項１に従う平版印刷版の作製方法。 - 【請求項３】 感熱性コーティングが熱及び／又は酸の
作用下で反応して親水性基を形成する側鎖疎水性基を有
するポリマーを含んでなる請求項１又は２に従う平版印
刷版の作製方法。 - 【請求項４】 前記側鎖疎水性基がｔ−アルキルカルボ
キシレート、ｔ−アルキルカーボネート、ベンジルカル
ボキシレート及びアルコキシアルキルエステルから選ば
れる請求項３に従う平版印刷版の作製方法。 - 【請求項５】 前記側鎖疎水性基が次式（Ｉ） 【化１】 ［式中：Ｒ1及びＲ2の一方は水素であり、他方は水素又
は炭素数が最高で１８のアルキル基であり、Ｒ3は炭素
数が最高で１８のアルキル基を示すか；あるいはＲ1、
Ｒ2及びＲ3のいずれか２つは一緒になって炭素環式もし
くは複素環式環を形成することができ、Ｔはポリマー主
鎖に結合している２価の結合基を示す］を有する請求項
３に従う平版印刷版の作製方法。 - 【請求項６】 Ｒ1が水素であり、Ｒ2及びＲ3が一緒に
なって５−もしくは６−員環を完成する請求項５に従う
平版印刷版の作製方法。 - 【請求項７】 熱及び／又は酸の作用下で反応して親水
性基を形成する側鎖疎水性基を有するポリマーが感熱性
基を含まない１つもしくはそれより多くのコモノマーか
ら誘導される繰り返し単位を含んでなる請求項３〜６の
いずれかに従う平版印刷版の作製方法。 - 【請求項８】 熱及び／又は酸の作用下で反応して親水
性基を形成する側鎖疎水性基を有する前記ポリマーがテ
トラヒドロピラニルメタクリレート（ＴＨＰＭ）及びメ
タクリルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＭＰＴ
Ｓ）のコポリマーである請求項７に従う平版印刷版の作
製方法。 - 【請求項９】 感熱性コーティングが熱性酸（ｔｈｅｒ
ｍａｌ ａｃｉｄ）を含んでなる請求項１〜８のいずれ
かに従う平版印刷版の作製方法。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| EP19990201791 EP1057623B1 (en) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | A method for preparing a lithographic printing plate by laser ablation of a heat-sensitive imaging element |
| EP99201791.3 | 1999-06-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001047593A true JP2001047593A (ja) | 2001-02-20 |
| JP2001047593A5 JP2001047593A5 (ja) | 2007-07-05 |
Family
ID=8240280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000164491A Withdrawn JP2001047593A (ja) | 1999-06-04 | 2000-06-01 | 感熱性融蝕可能画像形成要素の融蝕による平版印刷版の作製方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1057623B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001047593A (ja) |
| DE (1) | DE69917004T2 (ja) |
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| US6814899B2 (en) | 2002-02-12 | 2004-11-09 | 3M Innovative Properties Company | Enhanced K-type polarizer |
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| US7087194B2 (en) | 2002-04-04 | 2006-08-08 | 3M Innovative Properties Company | K-type polarizer and preparation thereof |
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| DE19729067A1 (de) * | 1997-07-08 | 1999-01-14 | Agfa Gevaert Ag | Infrarot-bebilderbares Aufzeichnungsmaterial und daraus hergestellte Offsetdruckplatte |
| US6174646B1 (en) * | 1997-10-21 | 2001-01-16 | Konica Corporation | Image forming method |
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- 1999-06-04 DE DE69917004T patent/DE69917004T2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-06-01 JP JP2000164491A patent/JP2001047593A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| DE69917004D1 (de) | 2004-06-09 |
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