JP2001044090A - Semiconductor production facility and maintenance method therefor - Google Patents

Semiconductor production facility and maintenance method therefor

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JP2001044090A
JP2001044090A JP11219850A JP21985099A JP2001044090A JP 2001044090 A JP2001044090 A JP 2001044090A JP 11219850 A JP11219850 A JP 11219850A JP 21985099 A JP21985099 A JP 21985099A JP 2001044090 A JP2001044090 A JP 2001044090A
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Japan
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semiconductor manufacturing
maintenance
manufacturing apparatus
cassette
maintenance information
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JP11219850A
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Osamu Morita
修 守田
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Hitachi Kokusai Electric Inc
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Hitachi Kokusai Electric Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance maintenance work efficiency of the entire facility by an arrangement, wherein individual control sections collect the maintenance information item count of respective semiconductor production systems and deliver the count to a main control section where the maintenance timing of the semiconductor production system is set, based on the received maintenance information item count. SOLUTION: Individual control sections 24a, 24b, 24c, 24d, etc., record the number of execution times of a processing program and the record count concerning the cassette of the processing program for respective semiconductor production systems, collect and store the counts concerning maintenance information items and delivers the counts to a main control section 20. The main control section 20 acquires the counts concerning maintenance information items in real time and stores them in a storage section 23. Based on the received counts concerning maintenance information items, the main control section 20 sets the maintenance timing for a plurality of semiconductor production systems.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は複数の半導体製造装
置が設備された半導体製造設備に於いて、各半導体製造
装置の稼働率を所定値以下とならない様に、各半導体製
造装置の保守状況を管理する半導体製造設備及び半導体
製造設備の保守方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing facility equipped with a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses, and the maintenance status of each semiconductor manufacturing apparatus is controlled so that the operation rate of each semiconductor manufacturing apparatus does not fall below a predetermined value. The present invention relates to a semiconductor manufacturing facility to be managed and a maintenance method for the semiconductor manufacturing facility.

【0002】[0002]

【従来の技術】先ず、半導体素子を製造する半導体製造
装置を説明する。半導体製造装置には、所要枚数をバッ
チ処理する半導体製造装置と、1枚或は複数枚を処理す
る枚葉式の半導体製造装置とがある。図6はバッチ式の
半導体製造装置を示している。
2. Description of the Related Art First, a semiconductor manufacturing apparatus for manufacturing a semiconductor device will be described. Semiconductor manufacturing apparatuses include a semiconductor manufacturing apparatus that batch processes a required number of sheets and a single-wafer type semiconductor manufacturing apparatus that processes one or a plurality of sheets. FIG. 6 shows a batch type semiconductor manufacturing apparatus.

【0003】筐体1内部前面側にはカセット授受部2が
設けられ、カセット搬送部3を挾み前記カセット授受部
2に対向して第1カセット収納棚4が設けられている。
該第1カセット収納棚4の上方に第2カセット収納棚5
が設けられ、該第2カセット収納棚5に対向して予備カ
セット収納棚13が設けられている。前記第1カセット
収納棚4の後方にはウェーハ移載部6が設けられ、該ウ
ェーハ移載部6の更に後方にはボートエレベータ7が設
けられ、該ボートエレベータ7にはウェーハ8が水平姿
勢で多段に装填される石英製のボート9が立設される。
A cassette transfer section 2 is provided on the front side inside the housing 1, and a first cassette storage shelf 4 is provided opposite the cassette transfer section 2 with the cassette transfer section 3 interposed therebetween.
A second cassette storage shelf 5 is located above the first cassette storage shelf 4.
Is provided, and a spare cassette storage shelf 13 is provided so as to face the second cassette storage shelf 5. A wafer transfer unit 6 is provided behind the first cassette storage shelf 4, and a boat elevator 7 is provided further behind the wafer transfer unit 6, and the wafer 8 is mounted on the boat elevator 7 in a horizontal posture. A quartz boat 9 loaded in multiple stages is erected.

【0004】前記第2カセット収納棚5の後方には反応
炉10が設けられ、該反応炉10は石英製の反応管11
と該反応管11の周囲に設けられたヒータユニット12
から構成される。前記ボートエレベータ7は前記ボート
9を前記反応管11内に装入、引出しする。
A reaction furnace 10 is provided behind the second cassette storage shelf 5, and the reaction furnace 10 includes a reaction tube 11 made of quartz.
And a heater unit 12 provided around the reaction tube 11
Consists of The boat elevator 7 loads the boat 9 into and out of the reaction tube 11.

【0005】処理の対象となる製品用ウェーハはカセッ
ト15に装填された状態で搬送及び保管される。外部搬
送装置から搬送された該カセット15は前記カセット授
受部2に搬入され、更に前記カセット搬送部3により前
記第1カセット収納棚4、第2カセット収納棚5、予備
カセット収納棚13に移載される。
A product wafer to be processed is transported and stored in a state loaded in a cassette 15. The cassette 15 transported from the external transport device is carried into the cassette transfer unit 2 and further transferred by the cassette transport unit 3 to the first cassette storage shelf 4, the second cassette storage shelf 5, and the spare cassette storage shelf 13. Is done.

【0006】第1カセット収納棚4、第2カセット収納
棚5、予備カセット収納棚13内に保管されたカセット
15には、前述した製品用のウェーハが装填されたカセ
ット(製品用カセット15a)の他にダミー用のウェー
ハが装填されたダミーカセット15bとがある。
The cassettes 15 stored in the first cassette storage shelf 4, the second cassette storage shelf 5, and the spare cassette storage shelf 13 are the same as the cassettes (product cassettes 15a) loaded with the above-described product wafers. Another example is a dummy cassette 15b in which dummy wafers are loaded.

【0007】下降状態の前記ボート9との間で前記ウェ
ーハ移載部6による前記ウェーハ8の移載が行われる。
The transfer of the wafer 8 by the wafer transfer section 6 is performed between the boat 8 and the boat 9 in the lowered state.

【0008】バッチ処理される製品用ウェーハ8aは前
記ヒータユニット12の均熱範囲に、或は処理プログラ
ムで設定された枚数だけ前記ウェーハ移載部6により前
記ボート9に移載される。該ボート9の上部、下部につ
いてはダミーウェーハ8bが移載される。
The product wafers 8a to be batch-processed are transferred to the boat 9 by the wafer transfer unit 6 within the uniform heating range of the heater unit 12 or the number of wafers set by a processing program. Dummy wafers 8b are transferred to the upper and lower portions of the boat 9.

【0009】前記ウェーハ8が装填された前記ボート9
は前記ボートエレベータ7により前記反応管11内に装
入され、成膜等所要の処理がなされる。処理後、前記ボ
ートエレベータ7により、前記ボート9が引出され、前
記ウェーハ移載部6により、製品用ウェーハ8aは前記
製品用カセット15aに、又ダミーウェーハ8bはダミ
ーカセット15bに戻される。製品用カセット15aは
前記カセット搬送部3により前記カセット授受部2に移
載され、外部搬送装置(図示せず)により搬出される。
前記ダミーカセット15bについては前記第1カセット
収納棚4、第2カセット収納棚5、予備カセット収納棚
13に保管され、繰返し使用される。
The boat 9 loaded with the wafer 8
Is charged into the reaction tube 11 by the boat elevator 7 and required processing such as film formation is performed. After the processing, the boat 9 is pulled out by the boat elevator 7, and the product transfer unit 6 returns the product wafer 8a to the product cassette 15a and the dummy wafer 8b to the dummy cassette 15b. The product cassette 15a is transferred to the cassette transfer section 2 by the cassette transfer section 3, and is unloaded by an external transfer device (not shown).
The dummy cassette 15b is stored in the first cassette storage shelf 4, the second cassette storage shelf 5, and the spare cassette storage shelf 13, and is used repeatedly.

【0010】例えばウェーハに対し成膜処理を行うと、
反応物質はウェーハ表面だけでなく、前記反応管11の
内面、ボート等反応ガスに接する部分にも付着堆積す
る。付着堆積した反応物質が剥離した場合は、パーティ
クルとなって前記反応管11内に浮遊し、一部はウェー
ハに付着してウェーハを汚染する。ウェーハがパーティ
クルに汚染されると製品品質、歩留りが低下するので、
所定の処理実行回数或は所定の処理実行時間毎に前記ボ
ート9、前記反応管11は洗浄処理される。前記反応管
11等の洗浄は洗浄ガスを流して洗浄処理する場合もあ
り、又前記反応管11等を取外し洗浄する場合もある。
For example, when a film is formed on a wafer,
The reactant adheres and deposits not only on the wafer surface but also on the inner surface of the reaction tube 11, a portion such as a boat, which is in contact with the reaction gas. When the adhered and deposited reactant peels off, it floats in the reaction tube 11 as particles, and a part of the reactant adheres to the wafer and contaminates the wafer. If the wafer is contaminated with particles, the product quality and yield will decrease.
The boat 9 and the reaction tube 11 are subjected to a cleaning process at a predetermined process execution frequency or at a predetermined process execution time. The reaction tube 11 and the like may be washed by flowing a cleaning gas, or the reaction tube 11 and the like may be removed and washed.

【0011】又、前記ダミーウェーハ8bには繰返し使
用されることで、反応物質が成膜され、或は酸化膜が成
膜される。該ダミーウェーハ8bに成膜された膜の厚み
が厚くなるとひび割れする等の現象が発生し、ひび割れ
時に発生する微細な粉塵はウェーハに対する汚染物質と
なるので、該ダミーウェーハ8bの繰返し使用回数が所
定回数に達した場合、又は該ダミーウェーハ8bの前記
筐体1内での滞在時間が所定時間に達した場合、該当ダ
ミーウェーハ8bを収納するダミーカセット15bは前
記カセット搬送部3を介して前記筐体1外へ搬出され、
新たなダミーカセット15bが補充される。前記ダミー
ウェーハ8bの繰返し使用回数、筐体1内での滞在時間
は、ダミーカセット15b単位で管理される。
The dummy wafer 8b is repeatedly used to form a reactive substance or an oxide film. When the thickness of the film formed on the dummy wafer 8b is increased, a phenomenon such as cracking occurs, and fine dust generated at the time of cracking becomes a contaminant to the wafer. When the number of times reaches, or when the stay time of the dummy wafer 8b in the housing 1 reaches a predetermined time, the dummy cassette 15b for storing the corresponding dummy wafer 8b is transferred via the cassette transfer unit 3 to the housing. Taken out of the body 1,
A new dummy cassette 15b is replenished. The number of times the dummy wafer 8b is used repeatedly and the length of stay in the housing 1 are managed in units of the dummy cassette 15b.

【0012】各半導体製造装置は処理プログラムによっ
て前記カセット15の搬送、ウェーハの移載、ウェーハ
の成膜処理等一連の処理を行っており、半導体製造装置
の制御部16(後述)は処理プログラムの実行回数、処
理プログラムのカセットに関する履歴を記録すること
で、各ダミーカセット15bそれぞれの使用回数、筐体
1内での滞在時間を管理する。
Each semiconductor manufacturing apparatus performs a series of processes such as transporting the cassette 15, transferring a wafer, and forming a film on a wafer according to a processing program. A control unit 16 (described later) of the semiconductor manufacturing apparatus executes the processing program. By recording the number of executions and the history of the processing program cassette, the number of times of use of each dummy cassette 15b and the length of stay in the housing 1 are managed.

【0013】図7、図8を参照して半導体製造装置の保
守管理について説明する。半導体製造装置の保守管理は
各半導体製造装置単体で行われる。
With reference to FIGS. 7 and 8, maintenance management of the semiconductor manufacturing apparatus will be described. Maintenance management of the semiconductor manufacturing apparatus is performed by each semiconductor manufacturing apparatus alone.

【0014】各半導体製造装置の操作部17から作業者
が保守情報項目を半導体製造装置の制御部16に入力す
る。入力された保守情報項目は記憶部18に記憶され
る。該記憶部18には前記処理プログラム等、半導体製
造装置が可動する為に必要なプログラムが入力されてい
ると共に、稼働中半導体製造装置の各種センサを基に得
られる稼働状態に関する履歴情報が記憶される。前記制
御部16は前記記憶部18に記憶された処理プログラム
に従い、機構駆動部19を制御する。
An operator inputs maintenance information items to the control unit 16 of the semiconductor manufacturing apparatus from the operation unit 17 of each semiconductor manufacturing apparatus. The input maintenance information item is stored in the storage unit 18. The storage unit 18 stores a program necessary for operating the semiconductor manufacturing apparatus, such as the processing program, and also stores history information regarding an operating state obtained based on various sensors of the semiconductor manufacturing apparatus in operation. You. The control unit 16 controls a mechanism driving unit 19 according to a processing program stored in the storage unit 18.

【0015】保守情報項目の設定後、処理が開始され
る。処理の進行と共に前記制御部16が保守情報項目に
該当するカウント値、即ちダミーカセット15bの使用
回数、ダミーカセット15bの筐体1内での滞在時間、
製品用ウェーハ8aの処理実行回数、処理実行時間等を
カウント値として収集し、カウントアップする。前記制
御部16は保守情報項目の個々について入力した設定値
と比較し、半導体製造装置が保守情報項目のいずれか1
つに該当するに至った場合、保守時期に該当したと判断
してブザーの発音、警告灯の点灯等の告知作動と共に処
理の禁止が行われる。その後、使用済のダミーカセット
15bと新たなダミーカセット15bの交換、或は反応
管の洗浄等のメンテナンスレシピの実行等、或は各項目
に対応した保守作動が実行される。
After setting the maintenance information items, the process is started. As the processing proceeds, the control unit 16 determines that the count value corresponding to the maintenance information item, that is, the number of times the dummy cassette 15b has been used, the length of time the dummy cassette 15b has stayed in the housing 1,
The number of process executions, the process execution time, and the like of the product wafer 8a are collected as a count value and counted up. The control unit 16 compares the set value input for each of the maintenance information items with each other, and determines whether the semiconductor manufacturing apparatus has any one of the maintenance information items.
In the case where the condition is satisfied, it is determined that the maintenance time has been met, and the process is prohibited along with a notification operation such as sounding of a buzzer and lighting of a warning lamp. Thereafter, replacement of the used dummy cassette 15b and a new dummy cassette 15b, execution of a maintenance recipe such as cleaning of the reaction tube, and the like, or maintenance operation corresponding to each item is performed.

【0016】保守が実行された項目については初期化が
行われ、新たなカウントアップがスタートされる。
The items for which maintenance has been performed are initialized, and a new count-up is started.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】上述した様に半導体製
造装置に対して保守作業が必要であるが、従来の保守作
業は各半導体製造装置単位で行われ、保守情報項目は各
半導体製造装置毎に作業者が設定入力するという方式を
とっている。
As described above, the maintenance work is required for the semiconductor manufacturing equipment, but the conventional maintenance work is performed for each semiconductor manufacturing equipment, and the maintenance information item is provided for each semiconductor manufacturing equipment. In this method, the operator inputs settings.

【0018】この為、同一の保守情報項目の入力作業を
設備された半導体製造装置の台数分繰返し行わなければ
ならず、入力ミスが発生する可能性がある。半導体製造
設備はホストコンピュータで制御管理されるが、保守作
業については半導体製造装置単位で行われている為、ホ
ストコンピュータが半導体製造設備全体の保守作業スケ
ジュールを管理できない。この為、各半導体製造装置の
保守作業が重複することがあり、保守作業の待ち時間が
発生し、半導体製造設備全体の稼働率が低下するという
問題があった。
For this reason, the input operation of the same maintenance information item must be repeated as many times as the number of the installed semiconductor manufacturing apparatuses, and an input error may occur. Although the semiconductor manufacturing equipment is controlled and managed by the host computer, the maintenance work is performed in units of the semiconductor manufacturing equipment, so that the host computer cannot manage the maintenance work schedule of the entire semiconductor manufacturing equipment. For this reason, the maintenance work of each semiconductor manufacturing apparatus may be duplicated, a waiting time for the maintenance work occurs, and the operation rate of the entire semiconductor manufacturing equipment is reduced.

【0019】本発明は斯かる実情に鑑み、複数台の半導
体製造装置を具備する半導体製造設備に於いて、各半導
体製造装置の保守スケジュールを統合して管理し、半導
体製造装置間での保守作業の重複を防止し、半導体製造
設備全体の保守作業効率を向上し、半導体製造設備の稼
働率を向上しようとするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and in a semiconductor manufacturing facility having a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses, a maintenance schedule of each semiconductor manufacturing apparatus is integrated and managed, and maintenance work between the semiconductor manufacturing apparatuses is performed. The purpose of the present invention is to prevent duplication of data, improve the maintenance work efficiency of the entire semiconductor manufacturing equipment, and improve the operation rate of the semiconductor manufacturing equipment.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明は、複数の半導体
製造装置を具備する半導体製造設備に於いて、前記複数
の半導体製造装置を統合管理する主制御部と、各半導体
製造装置に設けられた個別制御部とを具備し、前記個別
制御部は従属する半導体製造装置の保守情報項目カウン
ト値をそれぞれ収集し、前記主制御部に送出し、前記主
制御部は送出された保守情報項目カウント値に基づき前
記複数の半導体製造装置の保守時期を設定する様制御す
る半導体製造設備に係り、又複数の半導体製造装置を具
備する半導体製造設備に於いて、各半導体製造装置から
保守情報を収集し、得られた保守情報に基づき各半導体
製造装置の保守時期を設定する様にした半導体製造設備
の保守方法に係るものであり、保守実行時に各半導体製
造装置の待ち時間を解消し、各半導体製造装置の稼働率
の低下を防止し、半導体製造設備全体としての稼働率を
向上させる。
According to the present invention, in a semiconductor manufacturing facility having a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses, a main control section for integrally managing the plurality of semiconductor manufacturing apparatuses and each semiconductor manufacturing apparatus are provided. The individual control unit collects the maintenance information item count values of the subordinate semiconductor manufacturing equipment, and sends them to the main control unit, and the main control unit sends the transmitted maintenance information item counts. The present invention relates to a semiconductor manufacturing facility that controls to set a maintenance time of the plurality of semiconductor manufacturing apparatuses based on a value, and collects maintenance information from each semiconductor manufacturing apparatus in a semiconductor manufacturing facility including a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses. The maintenance time of each semiconductor manufacturing apparatus based on the obtained maintenance information. Eliminated to prevent deterioration in the working rate of each of the semiconductor manufacturing device, to improve the utilization rate of the entire semiconductor manufacturing facility.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0022】図1に於いて、20は半導体製造設備を統
合して制御する主制御部であり、該主制御部20には主
入力部21、主表示部22、記憶部23が接続されてい
る。又、前記主制御部20には個々の半導体製造装置の
個別制御部24a,24b,24c,24d,…が接続
され、該個別制御部24a,24b,24c,24d,
…は機構駆動部25a,25b,25c,25d,…を
独立して制御する。
In FIG. 1, reference numeral 20 denotes a main control unit for integrally controlling semiconductor manufacturing equipment, and a main input unit 21, a main display unit 22, and a storage unit 23 are connected to the main control unit 20. I have. Further, the main control unit 20 is connected to individual control units 24a, 24b, 24c, 24d,... Of the individual semiconductor manufacturing apparatuses, and the individual control units 24a, 24b, 24c, 24d,.
... independently control the mechanism driving units 25a, 25b, 25c, 25d,.

【0023】各半導体製造装置及び個別制御部24a,
24b,24c,24d,…ついては図6、図7で示し
た半導体製造装置及び制御部16と同様である。
Each semiconductor manufacturing apparatus and individual control unit 24a,
24b, 24c, 24d,... Are the same as those of the semiconductor manufacturing apparatus and the control unit 16 shown in FIGS.

【0024】前記個別制御部24a,24b,24c,
24d,…は機構駆動部25a,25b,25c,25
d,…を処理プログラムに従い個々に制御し、各半導体
製造装置で独立してウェーハの処理を行うものであり、
ウェーハ処理に関する機構駆動部25a,25b,25
c,25d,…の制御については前述した制御部16に
よる制御と同様である。
The individual control units 24a, 24b, 24c,
24d,... Are mechanism drive units 25a, 25b, 25c, 25
d,... are individually controlled according to a processing program, and each semiconductor manufacturing apparatus independently processes a wafer.
Mechanism drive units 25a, 25b, 25 for wafer processing
The control of c, 25d,... is the same as the control by the control unit 16 described above.

【0025】又、前記主入力部21は前記主制御部20
を介し前記個別制御部24a,24b,24c,24
d,…に個別に保守情報項目を設定入力できる様になっ
ており、前記主制御部20は該個別制御部24a,24
b,24c,24d,…に設定された保守情報項目を呼
込める様になっていると共に前記個別制御部24a,2
4b,24c,24d,…に設定した保守情報項目の書
換えが可能となっている。又、前記個別制御部24a,
24b,24c,24d,…には個別操作部26a,2
6b,26c,26d,…から個別に入力設定も可能と
なっている。
Further, the main input section 21 is connected to the main control section 20.
Through the individual control units 24a, 24b, 24c, 24
The main control unit 20 can set and input the maintenance information items individually in d,.
, 24c, 24d,..., and the individual control units 24a, 2
4b, 24c, 24d,... Can be rewritten. In addition, the individual control units 24a,
24b, 24c, 24d,...
6b, 26c, 26d,... Can be individually set.

【0026】前記個別制御部24a,24b,24c,
24d,…はそれぞれの半導体製造装置について処理プ
ログラムの実行回数、処理プログラムのカセットに関す
る履歴カウント値を記録することで、各ダミーカセット
15bそれぞれの使用回数、筐体1内での滞在時間等の
保守情報項目に関するカウント値を収集し、記憶すると
共に前記主制御部20に送出する様になっている。
The individual control units 24a, 24b, 24c,
24d,... Record the number of executions of the processing program and the history count value of the processing program regarding the cassette for each semiconductor manufacturing apparatus, and maintain the number of times of use of each dummy cassette 15b, the stay time in the housing 1, and the like. A count value relating to the information item is collected, stored, and sent to the main control unit 20.

【0027】該主制御部20は前記個別制御部24a,
24b,24c,24d,…から保守情報項目に関する
カウント値が送出されることで保守情報項目に関するカ
ウント値をリアルタイムで取得し、前記記憶部23に記
録する。該記憶部23には保守スケジュール作成用のプ
ログラムが入力されており、各半導体製造装置について
の保守情報項目、保守情報項目に関するカウント値を基
に全ての半導体製造装置についての保守スケジュールを
作成する。
The main control unit 20 includes the individual control units 24a,
By sending the count value related to the maintenance information item from 24b, 24c, 24d,..., The count value related to the maintenance information item is acquired in real time and recorded in the storage unit 23. A program for creating a maintenance schedule is input to the storage unit 23, and creates a maintenance schedule for all the semiconductor manufacturing devices based on the maintenance information items for each semiconductor manufacturing device and the count value for the maintenance information items.

【0028】図2を参照して、半導体製造設備の保守管
理について説明する。
With reference to FIG. 2, the maintenance management of the semiconductor manufacturing equipment will be described.

【0029】STEP1 :前記主制御部20は、前記
個別制御部24a,24b,24c,24d,…からそ
れぞれの半導体製造装置についての保守情報項目を呼込
み取得する。
STEP 1: The main control unit 20 calls and acquires maintenance information items for each semiconductor manufacturing apparatus from the individual control units 24a, 24b, 24c, 24d,.

【0030】STEP2 :保守情報項目の取得に基づ
き、各個別制御部24a,24b,24c,24d,…
に保守情報項目が設定されているかどうかが判別され
る。全ての個別制御部24a,24b,24c,24
d,…に保守設定項目が設定されている場合は、STE
P4に進み、いずれか1つでも設定されていない場合
は、STEP3に進む。
STEP 2: Based on the acquisition of the maintenance information items, the individual control units 24a, 24b, 24c, 24d,.
Is determined whether or not the maintenance information item is set in the. All individual control units 24a, 24b, 24c, 24
If the maintenance setting item is set in d,.
Proceed to P4, and if any one is not set, proceed to STEP3.

【0031】STEP3 :保守情報項目が設定されて
いない個別制御部24に対して前記主制御部20より保
守情報項目の設定が行われる。全ての個別制御部24
a,24b,24c,24d,…に保守設定項目が設定
されている場合、主制御部20より個別制御部24a,
24b,24c,24d,…への保守情報項目の設定が
完了した場合、各半導体製造装置がウェーハの処理を開
始する。各半導体製造装置のウェーハ処理過程での保守
設定項目の収集については、従来と同様に行われる(図
8参照)。尚、各半導体製造装置がウェーハの処理を開
始する時点は、後述するSTEP8が完了した後でもよ
い。
STEP 3: The main control unit 20 sets the maintenance information item for the individual control unit 24 in which the maintenance information item is not set. All individual control units 24
When the maintenance setting items are set in a, 24b, 24c, 24d,...
When the setting of the maintenance information items in 24b, 24c, 24d,... Is completed, each semiconductor manufacturing apparatus starts processing the wafer. Collection of the maintenance setting items in the wafer processing process of each semiconductor manufacturing apparatus is performed in the same manner as in the related art (see FIG. 8). The time when each semiconductor manufacturing apparatus starts processing a wafer may be after the completion of STEP 8 described later.

【0032】STEP4 :個別制御部24a,24
b,24c,24d,…よりカウント値をリアルタイム
で取得する。
STEP 4: Individual control units 24a, 24
The count value is obtained in real time from b, 24c, 24d,.

【0033】STEP5 :取得したカウント値に基づ
き各半導体製造装置の仮保守スケジュールを前記保守ス
ケジュール作成用のプログラムにより作成する。
STEP 5: A tentative maintenance schedule for each semiconductor manufacturing apparatus is created based on the acquired count value by the maintenance schedule creation program.

【0034】STEP6 :作成された仮保守スケジュ
ールで各半導体製造装置間で保守時期が重複するかどう
かが判断される。重複しないと判断されると前記仮保守
スケジュールは実行保守スケジュールとされ、該実行保
守スケジュールに基づき各半導体製造装置について保守
管理がなされる。
STEP 6: It is determined whether or not the maintenance times overlap among the respective semiconductor manufacturing apparatuses in the created temporary maintenance schedule. If it is determined that they do not overlap, the provisional maintenance schedule is set as an execution maintenance schedule, and maintenance management is performed for each semiconductor manufacturing apparatus based on the execution maintenance schedule.

【0035】STEP7 :作成された仮保守スケジュ
ールで各半導体製造装置間で保守時期が重複する場合
は、重複を避ける様な実行保守スケジュールが再作成さ
れる。
STEP 7: When the maintenance times overlap between the semiconductor manufacturing apparatuses in the created temporary maintenance schedule, an execution maintenance schedule that avoids the overlap is recreated.

【0036】実行保守スケジュールの作成について、図
3〜図5を参照して説明する。
The creation of the execution maintenance schedule will be described with reference to FIGS.

【0037】図4は仮保守スケジュール表であり、図5
は再作成された実行保守スケジュール表を示している。
保守情報項目としては、図4、図5に示される様にダミ
ーカセットの使用回数、ダミーカセットの滞在時間、処
理実行回数、処理実行時間、ダミーカセット交換実施予
定日、ボート/反応管洗浄実施予定日等がある。尚、図
4、図5中ダミーカセットの使用回数、ダミーカセット
の滞在時間、処理実行回数、処理実行時間の項に於い
て、分母は目標値、分子はカウント値を示している。
FIG. 4 is a temporary maintenance schedule table, and FIG.
Indicates a re-created execution maintenance schedule table.
As shown in FIG. 4 and FIG. 5, the maintenance information items include the number of times the dummy cassette is used, the staying time of the dummy cassette, the number of times the process is executed, the process execution time, the scheduled date of replacement of the dummy cassette, and the scheduled date of boat / reaction tube cleaning There are days. In FIGS. 4 and 5, in the items of the number of times the dummy cassette is used, the stay time of the dummy cassette, the number of times of execution of the process, and the time of execution of the process, the denominator indicates the target value and the numerator indicates the count value.

【0038】STEP21:仮保守スケジュール表に於
いて、ダミーカセット交換実施予定日が重複しているか
どうかが判断される。ダミーカセット交換実施予定日で
重複がある場合は、STEP22に進み、重複がない場
合はSTEP23に進む。
STEP 21: It is determined whether or not the dummy cassette replacement scheduled dates overlap in the temporary maintenance schedule table. If there is an overlap on the dummy cassette replacement scheduled execution date, the process proceeds to STEP22, and if there is no overlap, the process proceeds to STEP23.

【0039】STEP22:ダミーカセット交換実施予
定日で重複がある場合は、早く保守時期に到達する半導
体製造装置についてダミーカセット交換実施の保守時期
を早める。
STEP 22: If there is an overlap on the scheduled date of replacement of the dummy cassette, the maintenance time of replacement of the dummy cassette is advanced for the semiconductor manufacturing apparatus which reaches the maintenance time earlier.

【0040】STEP23:ボート/反応管洗浄実施予
定日で重複があるかどうかが判断される。ボート/反応
管洗浄実施予定日で重複がある場合は、STEP24に
進み、重複がない場合はSTEP21に戻る。
STEP 23: It is determined whether or not there is an overlap on the scheduled boat / reaction tube cleaning execution date. If there is an overlap on the boat / reaction tube cleaning scheduled execution date, the process proceeds to STEP 24, and if there is no overlap, the process returns to STEP 21.

【0041】STEP24:ボート/反応管洗浄実施予
定日で重複がある場合は、早く保守時期に到達する半導
体製造装置について反応管洗浄実施保守の時期を早め
る。
STEP 24: If there is an overlap between the scheduled boat / reaction tube cleaning execution dates, the reaction tube cleaning execution maintenance timing is advanced for the semiconductor manufacturing apparatus that reaches the maintenance time soon.

【0042】図4で示すスケジュール表では、半導体製
造装置Aと半導体製造装置Cのダミーカセット交換実施
予定日、ボート/反応管洗浄実施予定日が重複してい
る。保守情報項目の内、ダミーカセットの使用回数、ダ
ミーカセットの滞在時間、処理実行回数、処理実行時間
について半導体製造装置Aと半導体製造装置Cとを比較
すると半導体製造装置Aの方が早く保守時期に到達する
と判断され、半導体製造装置Aについて保守実施予定日
を早める。
In the schedule table shown in FIG. 4, the scheduled date for replacing the dummy cassette and the scheduled date for executing the boat / reaction tube cleaning for the semiconductor manufacturing apparatuses A and C overlap. When the semiconductor manufacturing apparatus A and the semiconductor manufacturing apparatus C are compared in the maintenance information items regarding the number of times the dummy cassette is used, the stay time of the dummy cassette, the number of times the processing is executed, and the processing execution time, the semiconductor manufacturing apparatus A is earlier in maintenance time. It is determined that the time has arrived, and the scheduled maintenance execution date of the semiconductor manufacturing apparatus A is advanced.

【0043】図5は再作成されたスケジュール表であ
り、半導体製造装置Aのダミーカセット交換実施予定
日、ボート/反応管洗浄実施予定日が早められている。
実行保守スケジュールの作成が完了すると図2に示すS
TEP8に進む。
FIG. 5 is a re-created schedule table in which the scheduled date for replacing the dummy cassette and the scheduled date for executing the boat / reaction tube cleaning of the semiconductor manufacturing apparatus A are advanced.
When the creation of the execution maintenance schedule is completed, S shown in FIG.
Proceed to TEP8.

【0044】STEP8 :再作成された実行保守スケ
ジュールに基づき保守時期が重複する半導体製造装置に
ついて保守情報項目の設定変更をする。
STEP 8: The setting of the maintenance information item is changed for the semiconductor manufacturing apparatus whose maintenance time overlaps based on the re-created execution maintenance schedule.

【0045】STEP9 :個別制御部24a,24
b,24c,24d,…が保守情報項目の設定完了を確
認すると、前記機構駆動部25a,25b,25c,2
5d,…を制御し、ウェーハの処理を開始する。尚、既
にウェーハ処理が行われている場合は、各半導体製造装
置についての保守設定項目のカウント値をリアルタイム
で収集する(図8参照)。保守設定項目のカウント値が
目標値に達したかどうかは、各個別制御部24a,24
b,24c,24d,…により判断され、目標値に達し
た場合は、目標値に達した個別制御部24より前記主制
御部20に保守時期到達の信号が送出される。該主制御
部20ではどの半導体製造装置が保守時期に達したかを
判断する。
STEP 9: Individual control units 24a, 24
When b, 24c, 24d,... confirm that the setting of the maintenance information item is completed, the mechanism driving units 25a, 25b, 25c, 2
.. Are controlled to start processing of the wafer. If wafer processing has already been performed, the count values of the maintenance setting items for each semiconductor manufacturing apparatus are collected in real time (see FIG. 8). Whether the count value of the maintenance setting item has reached the target value is determined by each of the individual control units 24a and 24a.
When the target value has been reached, the individual control unit 24 that has reached the target value sends a signal indicating that the maintenance time has arrived to the main control unit 20. The main controller 20 determines which semiconductor manufacturing apparatus has reached the maintenance time.

【0046】STEP10:前記主表示部22に保守時
期に達した半導体製造装置の表示を行うと共に対象とな
る半導体製造装置が保守中であることを表示する。
STEP 10: The main display section 22 displays the semiconductor manufacturing apparatus which has reached the maintenance time, and indicates that the target semiconductor manufacturing apparatus is under maintenance.

【0047】STEP11:該当する半導体製造装置の
個別制御部24a,24b,24c,24d,…に保守
作業開始の指令が送出され、該当する半導体製造装置で
の保守作業が開始される。該当する個別制御部24a,
24b,24c,24d,…から保守完了の信号が送出
される迄、前記主表示部22には対象となる半導体製造
装置が保守中であることが表示される。該当する個別制
御部24a,24b,24c,24d,…から保守完了
信号、例えば図8に於ける保守情報項目カウント値初期
化信号が入力されると保守完了が判断され、STEP4
に戻り保守完了した半導体製造装置からのカウント値の
収集が開始される。
STEP11: A maintenance work start command is sent to the individual control units 24a, 24b, 24c, 24d,... Of the corresponding semiconductor manufacturing equipment, and the maintenance work in the corresponding semiconductor manufacturing equipment is started. The corresponding individual control unit 24a,
Until the maintenance completion signal is transmitted from 24b, 24c, 24d,..., The main display section 22 indicates that the target semiconductor manufacturing apparatus is under maintenance. When a maintenance completion signal, for example, a maintenance information item count value initialization signal in FIG. 8 is input from the corresponding individual control unit 24a, 24b, 24c, 24d,...
And the collection of the count value from the semiconductor manufacturing apparatus whose maintenance has been completed is started.

【0048】各半導体製造装置での保守作業が完了した
都度、前記保守スケジュールが作成され、各半導体製造
装置での保守時期が重複するかどうかが確認され、保守
時期が重複する場合は、重複しない様な保守スケジュー
ルが再作成され、各半導体製造装置での保守情報項目の
再設定がなされ、半導体製造設備全体の保守管理がなさ
れる。
Each time the maintenance work is completed in each semiconductor manufacturing apparatus, the maintenance schedule is created, and it is confirmed whether or not the maintenance times in each semiconductor manufacturing apparatus are overlapped. Such a maintenance schedule is recreated, maintenance information items are reset in each semiconductor manufacturing apparatus, and maintenance management of the entire semiconductor manufacturing equipment is performed.

【0049】而して、各半導体製造装置について保守時
期が重複することが避けられ、保守を実行する場合の待
ち時間がなくなり、各半導体製造装置の最大稼働率が確
保されるので、半導体製造設備としては各半導体製造装
置を最大稼働率で可動した場合に得られる総合稼働率が
得られる。又、各半導体製造装置での保守情報項目の設
定ミスがあったとしても、主制御部で修正が行われるの
で、設定ミスに基づく稼働率の低下が防止できる。
Thus, the maintenance time is not duplicated for each semiconductor manufacturing apparatus, the waiting time for performing the maintenance is eliminated, and the maximum operation rate of each semiconductor manufacturing apparatus is ensured. As a result, an overall operation rate obtained when each semiconductor manufacturing apparatus is operated at the maximum operation rate can be obtained. Further, even if there is a setting error of the maintenance information item in each semiconductor manufacturing apparatus, the main control unit corrects the setting, so that it is possible to prevent a decrease in the operation rate due to the setting error.

【0050】尚、上記実施の形態ではバッチ式の半導体
製造装置により構成される半導体製造設備について述べ
たが、枚葉式半導体製造装置により構成される半導体製
造設備に対しても実施可能であることは言う迄もない。
In the above embodiment, the semiconductor manufacturing equipment constituted by a batch type semiconductor manufacturing apparatus has been described. However, the present invention can be applied to a semiconductor manufacturing equipment constituted by a single wafer type semiconductor manufacturing apparatus. Needless to say.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、複数の
半導体製造装置を具備する半導体製造設備に於いて、前
記複数の半導体製造装置を統合管理する主制御部と、各
半導体製造装置に設けられた個別制御部とを具備し、前
記個別制御部は従属する半導体製造装置の保守情報項目
カウント値をそれぞれ収集し、前記主制御部に送出し、
前記主制御部は送出された保守情報項目カウント値に基
づき前記複数の半導体製造装置の保守時期を設定する様
制御する構成を有し、保守時期が重複しない様前記複数
の半導体製造装置の保守時期が管理することができ、保
守を実行する場合に待ち時間が解消され、各半導体製造
装置の稼働率が向上され、即ち半導体製造設備の稼働率
の向上が図られる。
As described above, according to the present invention, in a semiconductor manufacturing facility having a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses, a main control unit for integrally managing the plurality of semiconductor manufacturing apparatuses, and Provided with an individual control unit provided, wherein the individual control unit collects the maintenance information item count value of the subordinate semiconductor manufacturing equipment, and sends it to the main control unit,
The main control unit has a configuration for performing control so as to set a maintenance time of the plurality of semiconductor manufacturing apparatuses based on the sent maintenance information item count value, and a maintenance time of the plurality of semiconductor manufacturing apparatuses so that maintenance times do not overlap. Can be managed, the waiting time is reduced when maintenance is performed, and the operation rate of each semiconductor manufacturing apparatus is improved, that is, the operation rate of the semiconductor manufacturing equipment is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】該実施の形態のフローチャート図である。FIG. 2 is a flowchart of the embodiment.

【図3】該実施の形態に於ける再スケジュール表作成の
フローチャート図である。
FIG. 3 is a flow chart for creating a reschedule table in the embodiment.

【図4】該実施の形態に於いて作成された仮スケジュー
ル表である。
FIG. 4 is a tentative schedule table created in the embodiment.

【図5】該実施の形態に於いて作成された再スケジュー
ル表である。
FIG. 5 is a reschedule table created in the embodiment.

【図6】半導体製造装置の概略を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory view schematically showing a semiconductor manufacturing apparatus.

【図7】該半導体製造装置のブロック図である。FIG. 7 is a block diagram of the semiconductor manufacturing apparatus.

【図8】該半導体製造装置に於ける保守管理のフローチ
ャート図である。
FIG. 8 is a flowchart of maintenance management in the semiconductor manufacturing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 筐体 3 カセット搬送部 4 第1カセット収納棚 5 第2カセット収納棚 6 ウェーハ移載部 8 ウェーハ 9 ボート 11 反応管 15 カセット 20 主制御部 21 主入力部 22 主表示部 23 記憶部 24 個別制御部 25 機構駆動部 26 個別操作部 Reference Signs List 1 housing 3 cassette transport unit 4 first cassette storage shelf 5 second cassette storage shelf 6 wafer transfer unit 8 wafer 9 boat 11 reaction tube 15 cassette 20 main control unit 21 main input unit 22 main display unit 23 storage unit 24 individual Control unit 25 Mechanism drive unit 26 Individual operation unit

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年9月9日(1999.9.9)[Submission date] September 9, 1999 (September 9, 1999)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0044[Correction target item name] 0044

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0044】STEP8 :保守時期が重複する半導体
製造装置について、再作成された実行保守スケジュール
の設定をする
STEP 8: Semiconductors whose maintenance time overlaps
Execution maintenance schedule recreated for manufacturing equipment
Make the settings .

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の半導体製造装置を具備する半導体
製造設備に於いて、前記複数の半導体製造装置を統合管
理する主制御部と、各半導体製造装置に設けられた個別
制御部とを具備し、前記個別制御部は従属する半導体製
造装置の保守情報項目カウント値をそれぞれ収集し、前
記主制御部に送出し、前記主制御部は送出された保守情
報項目カウント値に基づき前記複数の半導体製造装置の
保守時期を設定する様制御することを特徴とする半導体
製造設備。
1. A semiconductor manufacturing facility having a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses, comprising: a main control section for integrally managing the plurality of semiconductor manufacturing apparatuses; and an individual control section provided for each semiconductor manufacturing apparatus. The individual control unit collects the maintenance information item count values of the subordinate semiconductor manufacturing apparatus, and sends the collected information items to the main control unit. The main control unit sends the plurality of semiconductor manufacturing items based on the sent maintenance information item count values. A semiconductor manufacturing facility characterized in that control is performed so as to set the maintenance time of the device.
【請求項2】 複数の半導体製造装置を具備する半導体
製造設備に於いて、各半導体製造装置から保守情報を収
集し、得られた保守情報に基づき各半導体製造装置の保
守時期を設定する様にしたことを特徴とする半導体製造
設備の保守方法。
2. In a semiconductor manufacturing facility having a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses, maintenance information is collected from each semiconductor manufacturing apparatus, and a maintenance time of each semiconductor manufacturing apparatus is set based on the obtained maintenance information. A method for maintaining semiconductor manufacturing equipment, characterized in that:
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006121030A (en) * 2004-03-05 2006-05-11 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus, substrate processing method, and program
JP2010129669A (en) * 2008-11-26 2010-06-10 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate treatment system
JP2013065736A (en) * 2011-09-19 2013-04-11 Denso Corp Manufacturing system
JP2013207013A (en) * 2012-03-28 2013-10-07 Hitachi High-Technologies Corp Vacuum processing apparatus
US8785216B2 (en) 2004-03-05 2014-07-22 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus, substrate processing method, and program for implementing the method

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006121030A (en) * 2004-03-05 2006-05-11 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus, substrate processing method, and program
US8785216B2 (en) 2004-03-05 2014-07-22 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus, substrate processing method, and program for implementing the method
JP2010129669A (en) * 2008-11-26 2010-06-10 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate treatment system
JP2013065736A (en) * 2011-09-19 2013-04-11 Denso Corp Manufacturing system
JP2013207013A (en) * 2012-03-28 2013-10-07 Hitachi High-Technologies Corp Vacuum processing apparatus

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