JP2001043520A - Manufacture of magnetic head and manufacture of slider bar - Google Patents

Manufacture of magnetic head and manufacture of slider bar

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JP2001043520A
JP2001043520A JP11219757A JP21975799A JP2001043520A JP 2001043520 A JP2001043520 A JP 2001043520A JP 11219757 A JP11219757 A JP 11219757A JP 21975799 A JP21975799 A JP 21975799A JP 2001043520 A JP2001043520 A JP 2001043520A
Authority
JP
Japan
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mask
facing
recording medium
slider
abrasive grains
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP11219757A
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Japanese (ja)
Inventor
Jun Iwasaki
純 岩崎
Hideaki Kobayashi
秀明 小林
Toshihiko Sato
俊彦 佐藤
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To control a damage to a recording medium and moreover to easily apply round shaped chamfering to the prescribed place with high accuracy without causing grain drop of crystal grain or the like e.g. in the state of a slider bar by especially chamfering the corner part and the side edge part of a slider into a round shape. SOLUTION: First, the part excepting at least the vicinity of the corner part F of the opposite surface to a slider 10 is covered with a mask, the vicinity of the corner part F which is not covered with the mask is ground by blasting abrasive grain, and whereby the chamfered surface 20 having a round shape is formed in the corner part F. Especially hereupon, the drop of grain from the chamfered surface 20 is prevented and the chamfered surface which is beautifully evened is formed by forming A, B and C surfaces by means of ion milling after chamfering.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばハードディ
スク装置などに搭載されるスライダを備えた磁気ヘッド
の製造方法、および前記磁気ヘッドを製造する前の段階
におけるスライダバーの製造方法に係り、特にスライダ
あるいはスライダバーの角部等に、加工精度良く面取り
加工を施すことができる磁気ヘッドの製造方法およびス
ライダバーの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head having a slider mounted on, for example, a hard disk drive, and a method of manufacturing a slider bar before manufacturing the magnetic head. Alternatively, the present invention relates to a magnetic head manufacturing method and a slider bar manufacturing method capable of chamfering a corner portion of a slider bar or the like with high processing accuracy.

【0002】[0002]

【従来の技術】図10は、ハードディスク装置などに搭
載される従来の磁気ヘッドを記録媒体との対向面を上向
きにして示した斜視図である。
2. Description of the Related Art FIG. 10 is a perspective view showing a conventional magnetic head mounted on a hard disk drive or the like with a surface facing a recording medium facing upward.

【0003】この磁気ヘッドでは、記録媒体の移動方向
に対して上流側Aがリーディング側と呼ばれ、下流側B
が、トレーリング側と呼ばれている。
In this magnetic head, the upstream side A is called a leading side with respect to the moving direction of the recording medium, and the downstream side B is called a leading side.
But it is called the trailing side.

【0004】図10に示す符号1はセラミック材料など
により形成されたスライダであり、前記スライダ1のト
レーリング側B端面には、磁気記録及び/又は再生用の
薄膜素子部6が設けられている。なお図示されていない
が、前記トレーリング側端面Bは、例えばアルミナ膜な
どで覆われ、前記薄膜素子部6が、前記アルミナ膜によ
って保護されている。
[0004] Reference numeral 1 shown in FIG. 10 denotes a slider formed of a ceramic material or the like, and a thin film element section 6 for magnetic recording and / or reproduction is provided on the trailing side B end face of the slider 1. . Although not shown, the trailing side end face B is covered with, for example, an alumina film, and the thin film element section 6 is protected by the alumina film.

【0005】図10に示すように、前記スライダ1の記
録媒体との対向面には、エアーグルーブ4が形成され、
前記エアーグルーブ4を囲むようにしてレール部5が形
成されている。前記レール部5の表面は、ABS面と呼
ばれ、例えばクラウン形成されている。
As shown in FIG. 10, an air groove 4 is formed on the surface of the slider 1 facing the recording medium.
A rail portion 5 is formed so as to surround the air groove 4. The surface of the rail portion 5 is called an ABS surface, and has a crown, for example.

【0006】図10に示す磁気ヘッドは、ロードビーム
(図示しない)の先端に固定されたフレキシャ(図示し
ない)に支持され、板ばねにより形成されたロードビー
ムの弾性力により、記録媒体に付勢されている。
The magnetic head shown in FIG. 10 is supported by a flexure (not shown) fixed to the tip of a load beam (not shown), and is urged against a recording medium by the elastic force of the load beam formed by a leaf spring. Have been.

【0007】この磁気ヘッドは、いわゆるCSS(コン
タクト・スタート・ストップ)方式、あるいはランプロ
ード方式のハードディスク装置などに使用される。
This magnetic head is used for a so-called CSS (contact start / stop) system or a ramp load system hard disk device.

【0008】磁気ヘッドの浮上姿勢では、リーディング
側Aがトレーリング側Bよりも記録媒体上に高く持ち上
がる傾斜した浮上姿勢となる。この浮上姿勢にて、図1
0に示す薄膜素子部6により記録媒体に記録信号が書込
まれたり、あるいは記録媒体からの磁気信号が検出され
る。
In the flying posture of the magnetic head, the leading side A has an inclined flying posture that is lifted above the recording medium higher than the trailing side B. In this floating posture, FIG.
A recording signal is written on the recording medium by the thin film element unit 6 indicated by “0”, or a magnetic signal from the recording medium is detected.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで図10に示す
従来の磁気ヘッドでは、スライダ1の記録媒体との対向
面の角部1dが鋭角形状であるために、磁気ヘッドの角
部1dが記録媒体に接触したときなどに、前記記録媒体
が損傷を受け易いといった問題があった。
In the conventional magnetic head shown in FIG. 10, the corner 1d of the surface of the slider 1 facing the recording medium has an acute angle. There is a problem that the recording medium is easily damaged when it comes into contact with the recording medium.

【0010】また図10に示す磁気ヘッドでは、スライ
ダ1の記録媒体との対向面と、リーディング側端面Aと
の縁部1c、トレーリング側端面Bとの縁部1b、およ
び前記スライダ1の両側側端面との縁部1aが、直角形
状であるために、前記縁部が、記録媒体と接触したとき
などにも、前記記録媒体に損傷を与えるといった問題が
発生する。
In the magnetic head shown in FIG. 10, an edge 1c between the surface of the slider 1 facing the recording medium and the leading end A, an edge 1b with the trailing end B, and both sides of the slider 1. Since the edge 1a with the side end face has a right angle, there is a problem that the recording medium is damaged even when the edge contacts the recording medium.

【0011】従来では、上記問題点を解決するために、
図10に示すスライダ1を製造後、前記スライダ1の角
部1dおよび縁部1a,1b,1cを、例えば機械加工
などによって面取り加工していた。
Conventionally, in order to solve the above problems,
After manufacturing the slider 1 shown in FIG. 10, the corner 1d and the edges 1a, 1b, 1c of the slider 1 are chamfered by, for example, machining.

【0012】しかしながらスライダ1を製造した後に、
個々のスライダ1に対して面取り加工を施さなければな
らないとすると、チップ化されたスライダ1に面取り加
工を施すのは非常に困難であり、よって加工作業が非常
に煩雑化し、スライダ1の製造効率を低下させる原因と
なる。また各スライダ1をすべて同じように面取り加工
するのは精度上、非常に困難であり、製品化された各ス
ライダ1の面取り形状に、ばらつきが発生し易いといっ
た問題もあった。
However, after manufacturing the slider 1,
If chamfering must be performed on each slider 1, it is very difficult to perform chamfering on the slider 1 that has been chipped, so that the processing operation becomes very complicated, and the manufacturing efficiency of the slider 1 is increased. Cause a decrease. Also, it is extremely difficult to chamfer all the sliders 1 in the same manner in terms of accuracy, and there is also a problem that the chamfered shapes of the manufactured sliders 1 are likely to vary.

【0013】そこで、複数のスライダ1が一体になって
形成された状態、つまりスライダバーの状態のときに、
各スライダ1の記録媒体との対向面に対して同時に、面
取り加工を行うようにすれば、製造効率を上げることが
でき、しかも面取り形状のばらつきも抑えることができ
ると考えられている。
Therefore, when a plurality of sliders 1 are integrally formed, that is, in a state of a slider bar,
It is considered that if the chamfering is performed on the surface of each slider 1 facing the recording medium at the same time, the manufacturing efficiency can be increased and the variation in the chamfered shape can be suppressed.

【0014】図11は、スライダバーの状態を示す部分
斜視図である。図11に示すスライダバー7は、例えば
アルミナ−チタンカーバイト(Al23−TiC)等の
セラミック材で形成されており、前記スライダバー7の
トレーリング側B端面には、複数の薄膜素子部6が設け
られている。さらに図示されていないが、前記薄膜素子
部6は、アルミナ膜で覆われている。
FIG. 11 is a partial perspective view showing the state of the slider bar. The slider bar 7 shown in FIG. 11 is formed of a ceramic material such as alumina-titanium carbide (Al 2 O 3 —TiC), and a plurality of thin film elements are provided on the trailing side B end surface of the slider bar 7. A part 6 is provided. Although not shown, the thin film element section 6 is covered with an alumina film.

【0015】また図11に示すように、各薄膜素子部6
間には、溝部9が形成されており、この溝部9間に挟ま
れたスライダバー7の表面8が、図10に示すスライダ
1の記録媒体との対向面となるべき面である。
Further, as shown in FIG.
A groove 9 is formed between the grooves 9, and the surface 8 of the slider bar 7 sandwiched between the grooves 9 is the surface to be the surface of the slider 1 shown in FIG. 10 that faces the recording medium.

【0016】従来では、スライダバー7に形成された各
対向面8の角部や側縁部9aを、例えばCF4ガスによ
るプラズマエッチングにより、面取り加工を施してい
た。このようにプラズマエッチングによって形成された
面取り加工面は傾斜面(テーパ面)に形成される。
Conventionally, the corners and side edges 9a of the opposing surfaces 8 formed on the slider bar 7 are chamfered by, for example, plasma etching using CF 4 gas. The chamfered surface formed by the plasma etching as described above is formed as an inclined surface (taper surface).

【0017】しかしながら、面取り加工にプラズマエッ
チングを使用すると、表面が面荒れを起し、記録媒体に
損傷を与えるといった問題があった。また前記プラズマ
エッチングによって、アルミナチタンカーバイトで形成
されているスライダバー7側の加工面に面荒れが発生す
ると、前記プラズマエッチングによって、面荒れ等を起
すことなくきれいに加工されるトレーリング側B端面に
形成されたアルミナ膜(図示しない)側の加工面との間
で、段差が発生し易くなり、磁気ヘッドの浮上特性が低
下したり、記録媒体に対し損傷を与え易くなる。
However, when plasma etching is used for chamfering, there is a problem that the surface is roughened and the recording medium is damaged. Further, when the plasma etching causes a roughened surface to be formed on the slider bar 7 side formed of alumina titanium carbide, the trailing side B end surface which is cleanly processed by the plasma etching without causing surface roughening or the like. A step is likely to occur between the surface and the processing surface on the side of the alumina film (not shown) formed, and the flying characteristics of the magnetic head are lowered and the recording medium is easily damaged.

【0018】また、プラズマエッチングを使用した場合
には、高価な設備が必要となるといった問題もあった。
Further, when plasma etching is used, there is another problem that expensive equipment is required.

【0019】本発明は、上記従来の課題を解決するため
のものであり、特に、スライダの角部や側縁部をR形状
に面取り加工することで、記録媒体へ与える損傷を抑制
でき、さらに、前記R形状の面取り加工を、例えばスラ
イダバーの状態にて、容易にしかも結晶粒子の脱粒等の
発生もなく所定箇所に精度良く施すことが可能な磁気ヘ
ッドの製造方法およびスライダバーの製造方法を提供す
ることを目的としている。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and in particular, it is possible to suppress damage to a recording medium by chamfering corners and side edges of a slider into an R shape, and furthermore, A method of manufacturing a magnetic head and a method of manufacturing a slider bar, wherein the R-shaped chamfering process can be easily and accurately performed at a predetermined location in a state of a slider bar, for example, without occurrence of crystal particle shedding. It is intended to provide.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明は、スライダと、
このスライダのトレーリング側端面に設けられた磁気記
録および/または再生用の素子部とを有する磁気ヘッド
の製造方法において、前記スライダの記録媒体との対向
面上に、少なくとも前記対向面の角部以外の部分を、マ
スクによって覆う工程と、前記スライダの記録媒体との
対向面上に、砥粒を噴き付けて、前記マスクに覆われて
いない前記対向面の角部を、R形状に面取り加工する工
程と、前記マスクを除去する工程と、を有することを特
徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a slider,
In the method of manufacturing a magnetic head having a magnetic recording and / or reproducing element provided on a trailing side end surface of the slider, at least a corner of the opposing surface is provided on a surface of the slider opposing a recording medium. Covering the other part with a mask, and spraying abrasive grains on the surface of the slider facing the recording medium, thereby chamfering the corner of the facing surface not covered with the mask into an R shape. And a step of removing the mask.

【0021】本発明では、特にスライダの記録媒体との
対向面の角部が、記録媒体に衝突し、前記記録媒体に損
傷を与え易いことに鑑み、少なくとも前記スライダの記
録媒体との対向面の角部をR形状に面取り加工し、これ
により、記録媒体への損傷を、効果的に抑制することが
可能になっている。
In the present invention, in particular, in view of the fact that the corner of the slider facing the recording medium collides with the recording medium and easily damages the recording medium, at least the slider facing the recording medium may be damaged. The corners are chamfered into an R shape, thereby making it possible to effectively suppress damage to the recording medium.

【0022】上記のように本発明では面取り加工を、砥
粒の噴き付けによって行っている。この砥粒の噴き付け
によって、角張った角部が、まず優先的に加工されてい
き、前記対向面の角部付近がR形状に面取り加工され
る。
As described above, in the present invention, chamfering is performed by spraying abrasive grains. By the spraying of the abrasive grains, the angular corners are first preferentially machined, and the corners of the opposing surface are chamfered into an R shape.

【0023】また本発明では、前記記録媒体との対向面
上であって、リーディング側端面との縁部付近を、前記
マスクによって覆わないようにし、砥粒を噴き付けるこ
とで、前記縁部をR形状に面取り加工することが好まし
く、あるいは、前記記録媒体との対向面上であって、全
ての側端面との縁部付近を、前記マスクによって覆わな
いようにし、砥粒を噴き付けることで、前記縁部をR形
状に面取り加工することが好ましい。
Further, in the present invention, the edge on the surface facing the recording medium and near the edge with the leading end is not covered with the mask, and the abrasive is sprayed, so that the edge is formed. It is preferable to perform chamfering into an R shape, or by spraying abrasive grains so as not to cover the vicinity of the edge with all the side end surfaces on the surface facing the recording medium with the mask. Preferably, the edge is chamfered into an R shape.

【0024】このように、スライダの対向面の角部とと
もに、側端面との縁部をもR形状に面取り加工すること
で、より効果的に、記録媒体への損傷を抑制することが
可能になっている。なお本発明では、前記マスクは、ド
ライフィルムであることが好ましい。
As described above, by chamfering both the corner of the facing surface of the slider and the edge with the side end surface into an R shape, it is possible to more effectively suppress damage to the recording medium. Has become. In the present invention, the mask is preferably a dry film.

【0025】また本発明では、記録媒体との対向面上の
所定箇所をマスクで覆って、砥粒の噴き付けを行った
後、前記記録媒体との対向面に、イオンミリングによっ
て、ABS面を形成することが好ましい。
According to the present invention, after a predetermined location on the surface facing the recording medium is covered with a mask and abrasive grains are sprayed, the ABS facing the surface facing the recording medium is ion-milled. Preferably, it is formed.

【0026】上記のように、砥粒の噴き付けによって、
スライダの対向面の所定箇所をR形状に面取り加工した
後に、イオンミーリングによって、ABS面を形成する
ことで、前記面取り加工面もイオンミーリングされる。
As described above, by spraying the abrasive grains,
After chamfering a predetermined portion of the opposing surface of the slider into an R shape, the ABS surface is formed by ion milling, so that the chamfered surface is also ion milled.

【0027】砥粒の噴き付けによって加工される表面
は、面荒れを起し易く、記録媒体への損傷の問題が懸念
されるが、本発明では面取り加工を施した後にイオンミ
リングにより、再度、前記加工面を削ることで、前記加
工面を、きれいに均すことができ、上記記録媒体への損
傷の問題を解消することができる。
The surface processed by spraying the abrasive grains is apt to cause surface roughness, and there is a concern that the recording medium may be damaged. However, in the present invention, after the chamfering process is performed, ion milling is performed again. By shaving the processing surface, the processing surface can be cleanly leveled, and the problem of damage to the recording medium can be solved.

【0028】特に砥粒の噴き付けによる加工面の面荒れ
の問題は、アルミナチタンカーバイトで形成されている
スライダの加工面に発生し易い。本発明では、砥粒噴き
付けの後に、イオンミーリングを行うことで、アルミナ
チタンカーバイトで形成されているスライダの面取り加
工面から結晶粒子の脱粒の発生を適切に防止でき、前記
スライダのトレーリング側端面に設けられている薄膜素
子部を覆うアルミナ膜側と同じように、面荒れ等のない
きれいなR形状の面取り加工面を形成することが可能に
なる。
In particular, the problem of surface roughness of the machined surface due to spraying of abrasive grains is likely to occur on the machined surface of the slider formed of alumina titanium carbide. According to the present invention, by performing ion milling after the abrasive grains are sprayed, it is possible to appropriately prevent crystal grains from falling off the chamfered surface of the slider formed of alumina titanium carbide, and to perform trailing of the slider. As in the case of the alumina film covering the thin film element provided on the side end surface, it is possible to form a clean R-shaped chamfered surface without surface roughness.

【0029】また本発明では、トレーリング側端面に複
数の素子部が形成されたスライダバーを形成し、各素子
部間であって前記スライダバーの記録媒体との対向面
に、溝部を形成した後に、前記溝部間における各対向面
上の所定箇所をマスクで覆って、砥粒を噴き付ける工程
を有し、最終製造工程で、前記スライダバーを各素子部
間から切断して、個々の磁気ヘッドを形成することが好
ましい。
In the present invention, a slider bar having a plurality of element portions formed on the trailing side end surface is formed, and a groove is formed between the element portions on a surface of the slider bar facing the recording medium. Thereafter, a step of covering a predetermined portion on each of the opposed surfaces between the grooves with a mask and spraying abrasive grains is performed, and in a final manufacturing process, the slider bar is cut from between the element portions to form individual magnetic elements. Preferably, a head is formed.

【0030】複数のスライダが一体化されたスライダバ
ーの状態で、上記した砥粒の噴き付けによって、記録媒
体との対向面の角部や側縁部を、R形状に面取り加工
し、好ましくは、前記砥粒噴き付け工程の後に、イオン
ミーリングによるABS面の形成を行うことで、各スラ
イダに均一な加工精度の良い面取り加工面を形成でき、
製造効率を向上させることができる。
In the state of a slider bar in which a plurality of sliders are integrated, the corners and side edges of the surface facing the recording medium are chamfered into an R shape by spraying the above-mentioned abrasive grains. After the abrasive grain spraying step, by forming the ABS surface by ion milling, it is possible to form a uniform chamfered surface with high processing accuracy on each slider,
Manufacturing efficiency can be improved.

【0031】また本発明は、トレーリング側端面に、磁
気記録および/または再生用の複数の素子部を有するス
ライダバーの製造方法において、各素子部間であって前
記スライダバーの記録媒体との対向面に、溝部を形成す
る工程と、前記溝部間における各対向面上に、少なくと
も前記対向面の角部以外の部分を、マスクによって覆う
工程と、前記対向面上に、砥粒を噴き付けて、前記マス
クに覆われていない前記対向面の角部を、R形状に面取
り加工する工程と、を有することを特徴とするものであ
る。
The present invention also relates to a method of manufacturing a slider bar having a plurality of element sections for magnetic recording and / or reproduction on the trailing side end face. Forming a groove on the opposing surface, covering the opposing surface between the grooves with a mask on at least a portion other than the corner of the opposing surface, and spraying abrasive grains on the opposing surface And chamfering a corner of the facing surface that is not covered with the mask into an R shape.

【0032】また本発明では、前記溝部間における各記
録媒体との対向面上であって、リーディング側端面との
縁部付近を、前記マスクによって覆わないようにし、砥
粒を噴き付けることで、前記縁部をR形状に面取り加工
することが好ましく、あるいは、前記溝部間における各
記録媒体との対向面上であって、全ての側端面との縁部
付近を、前記マスクによって覆わないようにし、砥粒を
噴き付けることで、前記縁部をR形状に面取り加工する
ことが好ましい。これによって、複数のスライダが一体
化されたスライダバーの各スライダの記録媒体との対向
面の角部や側縁部に、R形状にされた均一な加工精度の
良い面取り加工面を形成でき、製造効率を向上させるこ
とが可能である。なお本発明では、前記マスクは、ドラ
イフィルムであることが好ましい。
In the present invention, the mask is used to prevent the mask from covering the vicinity of the edge between the groove portion and the surface facing each recording medium and the edge on the leading side. Preferably, the edge is chamfered into an R shape.Alternatively, on the surface facing each recording medium between the grooves, the vicinity of the edge with all side end surfaces is not covered with the mask. Preferably, the edge is chamfered into an R shape by spraying abrasive grains. This makes it possible to form an R-shaped chamfered surface with uniform processing accuracy at corners and side edges of a surface of the slider bar in which a plurality of sliders are integrated with each slider facing the recording medium, It is possible to improve manufacturing efficiency. In the present invention, the mask is preferably a dry film.

【0033】さらに本発明では、溝部間における各記録
媒体との対向面上の所定箇所をマスクで覆って、砥粒の
噴き付けを行った後、前記記録媒体との対向面に、イオ
ンミリングによって、ABS面を形成することが好まし
い。
Further, according to the present invention, after a predetermined portion on the surface facing each recording medium between the grooves is covered with a mask and abrasive grains are sprayed, the surface facing the recording medium is ion milled. , ABS surface is preferably formed.

【0034】これにより、アルミナチタンカーバイトで
形成されるスライダバーに形成された面取り加工面を面
荒れ等のないきれいなR形状に加工することができ、前
記加工面から結晶粒子の脱粒等の発生を抑制することが
できる。
Thus, the chamfered surface formed on the slider bar made of alumina titanium carbide can be machined into a clean R shape without surface roughness, and the generation of crystal particles from the machined surface can occur. Can be suppressed.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】図1は、ハードディスクなどに搭
載される本発明の実施形態の磁気ヘッドを記録媒体との
対向面を上向きにして示した斜視図、図2は、図1に示
す2−2線の断面図、図3は、図1に示す3−3線の断
面図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a magnetic head mounted on a hard disk or the like according to an embodiment of the present invention with a surface facing a recording medium facing upward, and FIG. 2 is a perspective view showing a magnetic head shown in FIG. FIG. 3 is a sectional view taken along line 3-3 shown in FIG. 1.

【0036】図1に示した磁気ヘッドのスライダ10
は、アルミナ・チタンカーバイト、またはSi(シリコ
ン)などのセラミック材料により形成されており、記録
媒体との対向面11にエアグルーブ12が形成され、さ
らに前記エアグルーブ12を囲むようにしてレール部1
3が形成されている。前記レール部の表面13はABS
面と呼ばれ、クラウン形成されていることが好ましい。
前記レール部13は、後述するように、例えばイオンミ
リング等で形成される。
The slider 10 of the magnetic head shown in FIG.
Is formed of a ceramic material such as alumina / titanium carbide or Si (silicon), an air groove 12 is formed on a surface 11 facing a recording medium, and a rail portion 1 surrounds the air groove 12.
3 are formed. The surface 13 of the rail is made of ABS
It is called a surface and is preferably crowned.
The rail portion 13 is formed by, for example, ion milling or the like, as described later.

【0037】図1に示すように、スライダ10のトレー
リング側Bの端面(端部)には、薄膜素子部14が設け
られている。そして前記薄膜素子部14は、例えばアル
ミナ(Al2O3)などによる絶縁性の保護膜22によっ
て覆われている。
As shown in FIG. 1, a thin film element section 14 is provided on an end surface (end) of the slider 10 on the trailing side B. The thin film element portion 14 is covered with an insulating protective film 22 made of, for example, alumina (Al2O3).

【0038】前記薄膜素子部14は、再生用ヘッドとし
てのMRヘッド及び/又は記録用ヘッドとしてのインダ
クティブヘッドとで形成された薄膜磁気素子15と、こ
の薄膜磁気素子15内に形成されているコイル層あるい
は電極層と導通接続される電極部16とで構成されてい
る。
The thin film element section 14 includes a thin film magnetic element 15 formed by an MR head as a reproducing head and / or an inductive head as a recording head, and a coil formed in the thin film magnetic element 15. It is composed of a layer or an electrode layer and an electrode portion 16 which is conductively connected.

【0039】次に、スライダ10における対向面11の
周囲の形状について、以下に説明する。まず前述したよ
うに、スライダ10の対向面11には、レール部13が
形成されており、このレール部13の回りには、前記レ
ール部13よりも一段低く形成された平坦面21が形成
されている。
Next, the shape of the periphery of the opposing surface 11 of the slider 10 will be described below. First, as described above, the rail portion 13 is formed on the facing surface 11 of the slider 10, and a flat surface 21 formed one step lower than the rail portion 13 is formed around the rail portion 13. ing.

【0040】そしてこの平坦面21の周辺から、スライ
ダ10の側端面方向にかけて、面取り加工面20が形成
されている。
A chamfered surface 20 is formed from the periphery of the flat surface 21 to the side end surface of the slider 10.

【0041】図1に示す点線C,D,Eは、スライダ1
0に面取り加工を施す前の前記スライダ10の形体を示
している。本発明では、例えば、面取り加工を施す前の
対向面11とトレーリング側B端面との縁部(点線
D)、リーディング側A端面との縁部(点線C)、左側
側端面19との縁部(点線E)、および右側側端面18
との縁部(点線E)に対して、グリーンカーボン等によ
る砥粒を噴き付けて、前記縁部(点線C,D,E)を徐
々に削り加工していき、本発明では最終的に、図1に示
すように前記スライダ10の対向面11の周囲には、面
取り加工面20が形成される。上記のように、スライダ
11の縁部を、砥粒の噴き付けによって、削り加工する
ことで、前記スライダ11の角部Fも削られていき、図
1に示すように、鋭角状の角部Fが除去される。
Dotted lines C, D and E shown in FIG.
2 shows the shape of the slider 10 before chamfering is performed on the slider 10. In the present invention, for example, an edge (dotted line D) between the facing surface 11 and the trailing side B end surface before the chamfering is performed, an edge portion (dotted line C) with the leading side A end surface (dotted line C), and an edge with the left side end surface 19 (Dotted line E) and right end face 18
Abrasive particles of green carbon or the like are sprayed on the edge (dotted line E), and the edge (dotted line C, D, E) is gradually cut. In the present invention, finally, As shown in FIG. 1, a chamfered surface 20 is formed around the opposing surface 11 of the slider 10. As described above, the edge of the slider 11 is shaved by spraying abrasive grains, so that the corner F of the slider 11 is also shaved, and as shown in FIG. F is removed.

【0042】特に本発明では、上記した砥粒の噴き付け
による面取り加工により、角張った角部Fや側縁部(点
線C,D,E)が優先的に削れていき、前記面取り加工
面20をR形状に形成することができる。
In particular, in the present invention, the angular corners F and side edges (dotted lines C, D, E) are preferentially shaved by the chamfering process by spraying the abrasive grains, and the chamfered surface 20 Can be formed in an R shape.

【0043】図2に示すように、対向面11に形成され
たレール部13間のエアーグルーブ12および前記レー
ル部13の外側端面13a,13aから前記スライダ1
0の左側端面19および右側端面18方向には、所定の
幅寸法を有する平坦面21が形成され、この平坦面21
の外側縁部から、左側端面19および右側端面18にか
けてR形状にされた面取り加工面20が形成される。
As shown in FIG. 2, the slider 1 is moved from the air groove 12 between the rails 13 formed on the facing surface 11 and the outer end surfaces 13a, 13a of the rails 13.
0, a flat surface 21 having a predetermined width dimension is formed in the direction of the left end surface 19 and the right end surface 18.
, An R-shaped chamfered surface 20 is formed from the outer edge to the left end surface 19 and the right end surface 18.

【0044】また図3に示すように、対向面11に形成
されたレール部13の外側端面13bからリーディング
側Aにかけて、所定の幅寸法を有する平坦面21が形成
され、この平坦面21の外側縁部から、リーディング側
A端面にかけてR形状にされた面取り加工面20が形成
されている。
As shown in FIG. 3, a flat surface 21 having a predetermined width is formed from the outer end surface 13b of the rail portion 13 formed on the facing surface 11 to the leading side A. An R-shaped chamfered surface 20 is formed from the edge to the leading end A.

【0045】さらに図3に示すように、対向面11に形
成されたレール部13の外側端面13cからトレーリン
グ側B端面にかけて、R形状にされた面取り加工面20
が形成されている。なおこの実施例では、前記レール部
13の外側端面13cよりもトレーリング側Bに、平坦
面21が形成されておらず、前記外側端面13cから、
トレーリング側B端面にかけて、R形状の面取り加工面
20が形成されているが、前記レール部13の外側端面
13cからトレーリング側Bにかけて、所定の幅寸法を
有する平坦面21が形成され、この平坦面21の外側縁
部からトレーリング側B端面にかけてR形状の面取り加
工面20が形成された構造であってもよい。
Further, as shown in FIG. 3, an R-shaped chamfered surface 20 extends from the outer end surface 13c of the rail portion 13 formed on the facing surface 11 to the trailing side B end surface.
Are formed. In this embodiment, the flat surface 21 is not formed on the trailing side B than the outer end surface 13c of the rail portion 13, and from the outer end surface 13c,
An R-shaped chamfered surface 20 is formed on the trailing side B end surface, and a flat surface 21 having a predetermined width is formed from the outer end surface 13c of the rail portion 13 to the trailing side B. A structure in which an R-shaped chamfered surface 20 is formed from the outer edge of the flat surface 21 to the end surface of the trailing side B may be employed.

【0046】なお図1に示す実施例では、記録媒体との
対向面11の角部Fと、さらに前記対向面11と全側端
面との縁部(点線C,D,E)に対して面取り加工を施
しているが、本発明では少なくとも前記対向面11の角
部Fに対して砥粒の噴き付けを行い、前記角部FにR形
状に面取り加工面20を形成すればよい。
In the embodiment shown in FIG. 1, the corner F of the surface 11 facing the recording medium and the edges (dotted lines C, D, E) between the surface 11 and all the end surfaces are chamfered. Although processing is performed, in the present invention, at least a corner F of the facing surface 11 is sprayed with abrasive grains, and the chamfered surface 20 is formed in the corner F in an R shape.

【0047】前記対向面11の角部Fは、特に記録媒体
に接触し易い部分であり、少なくとも前記角部FをR形
状に面取り加工することで、従来における磁気ヘッドに
比べて、効果的に記録媒体への損傷を抑制することが可
能になる。
The corner portion F of the facing surface 11 is a portion which is particularly easy to come into contact with the recording medium. By chamfering at least the corner portion F into an R shape, the corner portion F can be more effectively formed than a conventional magnetic head. Damage to the recording medium can be suppressed.

【0048】また本発明では、前記角部Fに加えて、前
記対向面11とリーディング側A端面との縁部(点線
C)を、R形状に面取り加工することが好ましく、これ
により、さらに効果的に記録媒体への損傷を抑制するこ
とができる。
In the present invention, in addition to the corner F, the edge (dotted line C) between the facing surface 11 and the end face A on the leading side is preferably chamfered into an R-shape, thereby further improving the effect. Thus, damage to the recording medium can be suppressed.

【0049】なお図1に示すように、対向面11の角部
Fと、さらに対向面11と全側端面との縁部(点線C,
D,E)に、R形状にされた面取り加工面20を形成す
ることにより、前記対向面11の周囲全体に、角張った
部分が全く無くなり、最も効果的に記録媒体への損傷を
抑制することができる。
As shown in FIG. 1, a corner portion F of the facing surface 11 and an edge portion between the facing surface 11 and the end surface on all sides (dotted lines C,
By forming the chamfered surface 20 having an R shape in (D, E), the entire periphery of the opposing surface 11 has no angular portion at all, and the damage to the recording medium can be suppressed most effectively. Can be.

【0050】ただし、図1に示すようにトレーリング側
B端面には、薄膜素子部14が設けらているので、仮に
前記薄膜素子部14が面取り加工によって削られると、
前記薄膜素子部14の記録および/または再生特性が低
下して好ましくない。
However, since the thin film element portion 14 is provided on the trailing side B end face as shown in FIG. 1, if the thin film element portion 14 is cut off by chamfering,
The recording and / or reproduction characteristics of the thin film element section 14 are undesirably deteriorated.

【0051】特に図1または図3に示すように、MRヘ
ッドやインダクティブヘッドで構成される薄膜磁気素子
15は、記録媒体との対向面11にまで延びて形成され
るので、仮に、前記薄膜磁気素子15が形成されている
前記対向面11上を、面取り加工してしまうと、前記薄
膜磁気素子15は損傷を受けて、特性の低下に繋がる。
In particular, as shown in FIG. 1 or FIG. 3, the thin-film magnetic element 15 composed of an MR head or an inductive head is formed to extend to the surface 11 facing the recording medium. If the opposing surface 11 on which the element 15 is formed is chamfered, the thin-film magnetic element 15 is damaged, leading to deterioration in characteristics.

【0052】このため本発明では、砥粒噴き付けを行っ
て面取り加工を施す前に、少なくとも前記トレーリング
側B端面に設けられている薄膜磁気素子15上の対向面
11をマスクで覆って前記薄膜磁気素子15が面取り加
工されないようにしておく必要がある。
For this reason, in the present invention, the opposing surface 11 on at least the thin-film magnetic element 15 provided on the trailing side B end face is covered with a mask before the chamfering is performed by spraying abrasive grains. It is necessary to prevent the thin film magnetic element 15 from being chamfered.

【0053】図1または図3に示すように、スライダ1
0のトレーリング側B端面に設けられた薄膜磁気素子1
5は、例えばアルミナ膜などの保護膜22によって覆わ
れており、前記薄膜磁気素子15が形成されている対向
面11上には、レール部13が形成されている。このレ
ール部13は、前記薄膜磁気素子15よりもさらにトレ
ーリング側Bにまで延びて保護膜22上にも形成され
る。
As shown in FIG. 1 or FIG.
0 thin-film magnetic element 1 provided on the trailing side B end face
Numeral 5 is covered with a protective film 22 such as an alumina film, and a rail portion 13 is formed on the facing surface 11 on which the thin-film magnetic element 15 is formed. The rail 13 extends further to the trailing side B than the thin-film magnetic element 15 and is also formed on the protective film 22.

【0054】図1または図3に示すように、前記保護膜
22上に形成されたレール部13の外側端面13cより
も、さらにトレーリング側Bにおける保護膜22の対向
面11上には、R形状にされた面取り加工面20が形成
されている。このように、少なくとも前記薄膜磁気素子
15が形成されている対向面11上には、面取り加工面
20が形成されておらず、前記薄膜磁気素子15の形成
位置よりも、トレーリング側Bに位置する保護膜22上
に、R形状の面取り加工面20が形成されるようにして
いる。
As shown in FIG. 1 or 3, the outer end face 13 c of the rail portion 13 formed on the protective film 22 is further positioned on the surface 11 facing the protective film 22 on the trailing side B. A chamfered surface 20 having a shape is formed. As described above, at least the chamfered surface 20 is not formed on the facing surface 11 where the thin-film magnetic element 15 is formed, and the chamfered surface 20 is located on the trailing side B with respect to the position where the thin-film magnetic element 15 is formed. An R-shaped chamfered surface 20 is formed on the protective film 22 to be formed.

【0055】また上記のように、薄膜磁気素子15が形
成されている対向面11には、レール部13が形成され
ているが、このレール部13の形成は、例えばイオンミ
リング等の方法によって形成される。
As described above, the rail 13 is formed on the facing surface 11 on which the thin-film magnetic element 15 is formed. The rail 13 is formed by, for example, ion milling. Is done.

【0056】本発明では、前記イオンミリングからも前
記薄膜磁気素子15を保護するために、前記レール部1
3の形成の際に、前記レール部13のパターンとなるマ
スクを前記薄膜磁気素子15が形成される対向面11上
に形成して、前記薄膜磁気素子15が前記イオンミリン
グから影響を受けないようにし、前記薄膜磁気素子15
が存在する対向面11上にレール部13が形成されるよ
うにしている。
In the present invention, in order to protect the thin-film magnetic element 15 also from the ion milling, the rail 1
At the time of forming 3, a mask serving as a pattern of the rail portion 13 is formed on the opposing surface 11 on which the thin-film magnetic element 15 is formed so that the thin-film magnetic element 15 is not affected by the ion milling. And the thin-film magnetic element 15
The rail portion 13 is formed on the opposing surface 11 where there is.

【0057】また前記薄膜磁気素子15と導通接続され
る電極部16もまた、面取り加工の際に行われる砥粒の
噴き付けの影響を受けないようにしなければならない。
The electrode portion 16 electrically connected to the thin-film magnetic element 15 must also be protected from the influence of the abrasive particles sprayed during the chamfering process.

【0058】図1に示すように、前記電極部16は、保
護膜22内に埋められて形成されるが、砥粒の噴き付け
によって、スライダ10のトレーリング側Bの角部F
を、あまり削りすぎると、面取り加工が前記電極部16
にまで達して、前記電極部16までもが削れる危険性が
あるので、特にトレーリング側B端面における削り量を
適正に調整する必要がある。
As shown in FIG. 1, the electrode portion 16 is formed by being buried in the protective film 22. By spraying abrasive grains, a corner portion F of the slider 10 on the trailing side B is formed.
Too much, the chamfering process is
Therefore, there is a risk that even the electrode portion 16 may be shaved, so it is necessary to appropriately adjust the shaving amount especially on the trailing side B end face.

【0059】また後で製造方法について詳述するが、本
発明では、まず砥粒の噴き付けによる面取り加工を行っ
てから、図1に示す対向面11に、レール部13形成等
のABS面加工を行うことが好ましい。
Although the manufacturing method will be described later in detail, according to the present invention, chamfering by spraying abrasive grains is first performed, and then ABS surface processing such as formation of a rail portion 13 is performed on the facing surface 11 shown in FIG. Is preferably performed.

【0060】まず砥粒の噴き付けによって、スライダ1
0における対向面11の角部Fや、必要に応じて、各側
端面の縁部(点線C,D,E)を、面取り加工するが、
特にアルミナチタンカーバイトで形成されているスライ
ダ10が面取り加工されると、その加工表面は面荒れを
起し易く、結晶粒子の脱粒やクラック(ひび割れ)等の
問題が発生し易い。
First, the slider 1 is sprayed with abrasive grains.
The chamfering process is performed on the corner F of the opposing surface 11 at 0 and, if necessary, the edges (dotted lines C, D, and E) of the side end surfaces.
In particular, when the slider 10 formed of alumina titanium carbide is chamfered, the processed surface is liable to be roughened, and problems such as falling of crystal grains and cracks are liable to occur.

【0061】しかしながら、前記砥粒の噴き付け工程の
後、ABS面の形成を行うために、イオンミリングを使
用すると、面荒れを起している加工表面が、イオンミリ
ングによって、きれいに均され、前記加工表面から結晶
粒子の脱粒等が起こらなくなるのである。
However, if the ion milling is used to form the ABS after the step of spraying the abrasive grains, the roughened work surface is finely leveled by the ion milling. This prevents crystal grains from falling off the processed surface.

【0062】本発明では、砥粒の噴き付けによる面取り
加工を施した後、イオンミリングによるABS面の形成
工程を行うことで、アルミナチタンカーバイトで形成さ
れているスライダ10側の加工面から結晶粒子の脱粒等
の発生がなく、前記加工面をきれいな表面に仕上げるこ
とができ、前記スライダ側の加工面を、前記スライダ1
0のトレーリング側B端面に形成されたアルミナ膜等で
形成されている保護膜22側の加工面とほぼ同程度の面
荒れを起してない表面に加工することができる。
In the present invention, after a chamfering process is performed by spraying abrasive grains, a process of forming an ABS surface by ion milling is performed, so that a crystal is formed from the processed surface on the slider 10 side formed of alumina titanium carbide. The processing surface can be finished to a clean surface without occurrence of particles dropping or the like, and the processing surface on the slider side can be
The surface can be machined to a surface that is substantially free of surface roughness that is substantially the same as the machined surface on the side of the protective film 22 formed of an alumina film or the like formed on the end surface of the trailing side B.

【0063】なお上記したように本発明における磁気ヘ
ッドは、少なくとも前記磁気ヘッドの角部Fに、R形状
にされた面取り加工面20が形成されていればよく、例
えば、記録媒体との対向面11上に形成されるレール部
13等の形状は、いかなる形状であってもよい。
As described above, in the magnetic head of the present invention, the chamfered surface 20 having an R shape may be formed at least at the corner portion F of the magnetic head. The shape of the rail portion 13 and the like formed on the 11 may be any shape.

【0064】また本発明では、複数のスライダ10が一
体に形成された、いわゆるスライダバーの状態から、個
々のスライダ10に切断された後に、各スライダ10に
対して、面取り加工を施してもよいが、各スライダ10
に、均一な加工精度の良い面取り加工面を形成すること
ができ、製造効率を向上させるために、本発明では、以
下に説明するように、スライダバーの状態で、面取り加
工を施している。
Further, in the present invention, after a plurality of sliders 10 are cut into individual sliders 10 from a so-called slider bar in which the sliders 10 are integrally formed, each slider 10 may be chamfered. But each slider 10
In addition, in order to form a uniform chamfered surface with high machining accuracy and improve manufacturing efficiency, the present invention performs chamfering in the state of the slider bar as described below.

【0065】図4から図9には、本発明における磁気ヘ
ッド(あるいはスライダバー)の製造方法に関する工程
図が示されている。
FIGS. 4 to 9 show process diagrams relating to a method of manufacturing a magnetic head (or slider bar) according to the present invention.

【0066】まず図4に示すように、アルミナチタンカ
ーバイトから成る細長形状のスライダバー25を形成す
る。なおこのスライダバー25のトレーリング側B端面
には、複数の薄膜素子部14が一列に形成されており、
さらに前記薄膜素子部14のトレーリング側B端面に
は、例えばアルミナ膜などの絶縁材料で形成された保護
膜26が形成されている。
First, as shown in FIG. 4, an elongated slider bar 25 made of alumina titanium carbide is formed. A plurality of thin film element portions 14 are formed in a row on the trailing side B end surface of the slider bar 25,
Further, a protective film 26 made of an insulating material such as an alumina film is formed on the trailing side B end face of the thin film element portion 14.

【0067】そして図4に示すように、各薄膜素子部1
4間であって、記録媒体との対向面27に、溝部28を
形成する。この溝部28の形成によって形成された側縁
部28aが、各スライダ10の側縁部となる部分であ
る。
Then, as shown in FIG.
A groove 28 is formed on the surface 27 facing the recording medium between the four spaces. The side edge 28a formed by the formation of the groove 28 is a portion to be the side edge of each slider 10.

【0068】なお以下に説明する図5ないし図9に示す
工程図には、図4に示す最も左側に形成されているスラ
イダの部分のみが拡大して図示されているが、以下の各
工程は、図4に示す最も左側に形成されているスライダ
のみならず、他のスライダ部分にも同様にして行なわれ
る。
In the process diagrams shown in FIGS. 5 to 9 described below, only the leftmost slider shown in FIG. 4 is shown in an enlarged manner. The same operation is performed not only on the leftmost slider shown in FIG. 4 but also on other slider portions.

【0069】図5に示すように、各記録媒体との対向面
27上に、面取り加工を施すためのマスク29を設け
る。このマスク29は、例えばドライフィルムであるこ
とが好ましい。あるいはレジストなどであってもよい。
As shown in FIG. 5, a mask 29 for chamfering is provided on the surface 27 facing each recording medium. This mask 29 is preferably, for example, a dry film. Alternatively, it may be a resist or the like.

【0070】図5に示すように、前記対向面27上に設
けられたマスク29の下面の面積は、対向面27の面積
に比べて小さく形成されるので、前記対向面27の側縁
部付近には、前記マスク29に覆われていない領域29
aが形成される。
As shown in FIG. 5, the area of the lower surface of the mask 29 provided on the opposing surface 27 is smaller than the area of the opposing surface 27. The region 29 not covered by the mask 29
a is formed.

【0071】ただし本発明では、少なくとも対向面27
の各角部27a付近が、前記マスク29によって覆われ
ていなければよく、従って、前記角部27a付近の対向
面27が前記マスク29によって覆われないようにすれ
ば、前記マスク29の形状も図5に示すような四角形状
でなくてもよい。各角部27a付近以外をマスク29で
覆うことで、次の工程での砥粒の噴き付けによって、前
記角部27aの部分のみが適切に面取り加工される。
However, in the present invention, at least the facing surface 27
It is sufficient that the vicinity of each corner 27a is not covered by the mask 29. Therefore, if the opposing surface 27 near the corner 27a is not covered by the mask 29, the shape of the mask 29 can be improved. The shape need not be a square as shown in FIG. By covering the area other than the vicinity of each corner 27a with the mask 29, only the corner 27a is appropriately chamfered by spraying abrasive grains in the next step.

【0072】また、前記対向面27の各角部27a付近
と、さらに前記対向面27とリーディング側A端面との
縁部27b付近にマスク29が形成されないようにし、
それ以外の対向面27上にマスク29が形成されるよう
にしてもよい。これにより、次の工程での砥粒の噴き付
けによって、前記角部27aと縁部27bが、適切に面
取り加工される。
Further, the mask 29 is prevented from being formed near each corner 27a of the facing surface 27 and near the edge 27b between the facing surface 27 and the end surface on the leading side A.
The mask 29 may be formed on the other facing surface 27. Thereby, the corner 27a and the edge 27b are appropriately chamfered by spraying abrasive grains in the next step.

【0073】また図5に示すように、少なくとも、スラ
イダバー25のトレーリング側B端面に設けられている
薄膜磁気素子15上の対向面27を、前記マスク29に
よって覆う必要がある。これは、次の工程での砥粒の噴
き付けによって、前記薄膜磁気素子15部分が、削られ
ないようにするためである。なお、前記薄膜磁気素子1
5上をマスク29によって覆う必要があることから、ト
レーリング側Bにおけるマスク29は、前記薄膜磁気素
子15を覆う保護膜26上にまで延びて形成されること
が好ましい。
As shown in FIG. 5, it is necessary to cover at least the opposing surface 27 on the thin-film magnetic element 15 provided on the trailing side B end surface of the slider bar 25 with the mask 29. This is to prevent the thin film magnetic element 15 from being scraped by the spraying of abrasive grains in the next step. The thin-film magnetic element 1
Since it is necessary to cover the top of the thin film magnetic element 15 with the mask 29, it is preferable that the mask 29 on the trailing side B be formed to extend over the protective film 26 covering the thin-film magnetic element 15.

【0074】次に図6に示すように、前記記録媒体との
対向面27に、例えば矢印G方向から砥粒を噴き付け
て、前記マスク29に覆われてない対向面27の表面
を、面取り加工する。なお前記砥粒には、例えばグリー
ンカーボン等を用いることができる。
Next, as shown in FIG. 6, abrasive grains are sprayed onto the surface 27 facing the recording medium, for example, in the direction of arrow G, so that the surface of the opposite surface 27 not covered with the mask 29 is chamfered. Process. For the abrasive grains, for example, green carbon or the like can be used.

【0075】前記砥粒の噴き付け(パウダービーム)に
よって、図5に示す対向面27の角部27aや、さらに
は側端面との縁部など、角張った部分が優先的に削り取
られていき、図6に示すように、マスク29に覆われて
ない対向面27にR形状の面取り加工面20が形成され
る。
By the spraying of the abrasive grains (powder beam), the angular portion 27a of the facing surface 27 shown in FIG. 5 and the edge with the side end surface are preferentially scraped off. As shown in FIG. 6, an R-shaped chamfered surface 20 is formed on the opposing surface 27 that is not covered by the mask 29.

【0076】また前述したように、本発明では、少なく
とも対向面27の角部27a(図5参照)付近をマスク
29によって覆われないようにしていればよく、これに
より、砥粒の噴き付けによって、前記角部27aが優先
的に削り取られ、前記角部27aの部分に、R形状の面
取り加工面20が形成される。
As described above, in the present invention, it is sufficient that at least the vicinity of the corner 27a (see FIG. 5) of the opposing surface 27 is not covered by the mask 29. The corner 27a is preferentially scraped off, and an R-shaped chamfered surface 20 is formed at the corner 27a.

【0077】さらに本発明では、少なくともトレーリン
グ側B端面に形成された薄膜磁気素子15上の対向面2
7を、マスク29で覆う必要があり、前記薄膜磁気素子
15上がマスク29で覆われることにより、前記薄膜磁
気素子15は、前記砥粒の噴き付けの影響を受けること
なく、前記薄膜磁気素子15が、損傷を受けるといった
問題も発生しない。
Further, according to the present invention, the facing surface 2 on the thin-film magnetic element 15 formed at least on the trailing side B end face.
7 must be covered with a mask 29, and the thin film magnetic element 15 is covered with the mask 29, so that the thin film magnetic element 15 is not affected by the spray of the abrasive grains. There is no problem that the F.15 is damaged.

【0078】そして図7に示すように、前記対向面27
上に設けられたマスク29を除去すると、マスク29が
形成されていた対向面27の部分には、前記砥粒の噴き
付けの影響を全く受けてない平坦面30が残される。
Then, as shown in FIG.
When the mask 29 provided on the upper surface is removed, a flat surface 30 which is not affected at all by the spraying of the abrasive grains is left on the portion of the facing surface 27 where the mask 29 is formed.

【0079】次に図8に示すように、前記平坦面30上
に、ABS面形成のためのパターン31を形成する。こ
のパターン31は、例えばレジストや、あるいはドライ
フィルム等で形成される。
Next, as shown in FIG. 8, a pattern 31 for forming an ABS is formed on the flat surface 30. This pattern 31 is formed of, for example, a resist or a dry film.

【0080】なお図8に示すように、前記パターン31
は、薄膜磁気素子15が形成されている対向面27上に
まで延ばされて形成される必要がある。次の工程で行な
われるイオンミリングから前記薄膜磁気素子15を効果
的に保護するためである。なお前記パターン31の形状
は、いかなる形状であってもよい。
Note that, as shown in FIG.
Needs to be formed so as to extend over the opposing surface 27 on which the thin-film magnetic element 15 is formed. This is to effectively protect the thin-film magnetic element 15 from ion milling performed in the next step. The shape of the pattern 31 may be any shape.

【0081】そして図9に示すように、前記対向面27
に対して、イオンミリングを行う。前記イオンミリング
により、パターン31の形成されていない対向面27、
すなわち平坦面30や面取り加工面20が、前記イオン
ミリングの影響を受けて、ほぼ相似形で削り取られてい
く。
Then, as shown in FIG.
Is subjected to ion milling. By the ion milling, the opposing surface 27 where the pattern 31 is not formed,
That is, the flat surface 30 and the chamfered surface 20 are cut off in a substantially similar shape under the influence of the ion milling.

【0082】このように、パターン31の形成されてい
ない対向面27が、イオンミリングにより削り取られる
ことにより、前記パターン31の下側には、前記パター
ン31と同等の形体が残され、前記形体が、図1に示す
レール部13となる部分である。
As described above, the opposing surface 27 on which the pattern 31 is not formed is scraped off by ion milling, so that a form equivalent to the pattern 31 is left below the pattern 31 and the form is removed. , A portion to be the rail portion 13 shown in FIG.

【0083】また前述したように、パターン31に覆わ
れていない部分が、ほぼ相似形で削り取られることで、
図9に示すように、パターン31下に形成されたレール
部13の側端面からは、図8に示す平坦面30とほぼ同
形状の平坦面30が新たに形成され、また図9に示す前
記平坦面30の外側縁部からは、図8に示す面取り加工
面20とほぼ同形状の面取り加工面20が新たに形成さ
れる。
As described above, the part not covered by the pattern 31 is cut off in a substantially similar shape,
As shown in FIG. 9, a flat surface 30 having substantially the same shape as the flat surface 30 shown in FIG. 8 is newly formed from the side end surface of the rail portion 13 formed below the pattern 31. A chamfered surface 20 having substantially the same shape as the chamfered surface 20 shown in FIG. 8 is newly formed from the outer edge of the flat surface 30.

【0084】さらに本発明では、図6の工程で説明した
砥粒噴き付けによる面取り加工を施した後、図9の工程
で説明したイオンミリングによるABS面形成工程を行
うことで、イオンミリングが施された面取り加工面20
の表面が、結晶粒子の脱粒等の発生しないきれいな面に
均されるのである。
Further, according to the present invention, after the chamfering process by spraying the abrasive grains described in the step of FIG. 6 is performed, and the ABS surface forming step by ion milling described in the step of FIG. 9 is performed, the ion milling is performed. Chamfered surface 20
Is smoothed to a clean surface where crystal grains do not fall off.

【0085】まず本発明では、砥粒噴き付けによる面取
り加工を施すことによりR形状の面取り加工面20を形
成するが、前記砥粒が噴き付けられた表面は、面荒れを
起し易く、前記表面からは、結晶粒子の脱粒やクラック
(ひび割れ)等の問題が発生し易い。
First, in the present invention, an R-shaped chamfered surface 20 is formed by performing chamfering by abrasive grain spraying. The surface onto which the abrasive grains have been sprayed is liable to be roughened. From the surface, problems such as falling of crystal grains and cracks (cracks) are likely to occur.

【0086】しかしながら、前記砥粒噴き付けの後に、
ABS面形成のためのイオンミリングを行うことで、前
記面荒れを起している表面が、イオンミリングによりき
れいに均されて、結晶粒子の脱粒等が起こらなくなり、
製品化された磁気ヘッドを駆動させている際などに、前
記結晶粒子の脱粒等により、記録媒体を傷付けるといっ
た問題が解消される。
However, after spraying the abrasive grains,
By performing the ion milling for the ABS surface formation, the surface having the surface roughened is finely leveled by the ion milling, and the crystal grains do not fall off.
When the commercialized magnetic head is driven, the problem that the recording medium is damaged due to the shedding of the crystal grains or the like is solved.

【0087】なおスライダバー25側の加工面にのみ、
砥粒噴き付けによる面荒れが発生していると、面荒れを
起していない保護膜26側の加工面との間で、段差等が
発生し、このような状態で製品化された磁気ヘッドで
は、記録媒体に損傷を与え易く、また浮上特性の低下に
も繋がる。
Only the processing surface on the slider bar 25 side is
If the surface is roughened by spraying the abrasive grains, a step or the like is generated between the roughened surface and the processed surface on the side of the protective film 26, and the magnetic head commercialized in such a state is generated. In this case, the recording medium is easily damaged, and the flying characteristics are reduced.

【0088】これに対し本発明では、砥粒噴き付けを行
った後、ABS面形成のためのイオンミリングを行うこ
とで、スライダバー25側の加工面がきれいに均される
ので、各スライダに加工精度の良い面取り加工面20を
形成することができる。
On the other hand, in the present invention, after the abrasive grains are sprayed, ion milling for forming the ABS is performed, so that the processed surface on the slider bar 25 side is leveled cleanly. A highly accurate chamfered surface 20 can be formed.

【0089】また前述したように、スライダバー25の
トレーリング側B端面に形成されている薄膜磁気素子1
5上の対向面27は、前記パターン31によって覆われ
ているから、前記薄膜磁気素子15が、前記イオンミリ
ングの影響を受けることはなく、前記薄膜磁気素子15
が、前記イオンミリングによって削られる心配はない。
なお前記薄膜磁気素子15上に、パターン31が形成さ
れることで、前記薄膜磁気素子15上の対向面27に
は、レール部13が形成されることになる。
As described above, the thin-film magnetic element 1 formed on the trailing side B end face of the slider bar 25
5 is covered with the pattern 31, the thin-film magnetic element 15 is not affected by the ion milling, and the thin-film magnetic element 15 is not affected by the ion milling.
However, there is no fear of being cut by the ion milling.
By forming the pattern 31 on the thin-film magnetic element 15, the rail portion 13 is formed on the facing surface 27 on the thin-film magnetic element 15.

【0090】そして最終的に図9に示すパターン31を
除去することにより、R形状にされた面取り加工面20
と、対向面27にABS面(レール部13)が形成され
た複数のスライダを有するスライダバー25が完成す
る。
Finally, by removing the pattern 31 shown in FIG.
Then, a slider bar 25 having a plurality of sliders having the ABS (rail portion 13) formed on the facing surface 27 is completed.

【0091】また図9に示すスライダバー25から図1
に示すスライダ10を得るには、図9に示す一点鎖点H
の部分から各スライダを切断することにより得ることが
できる。
Also, the slider bar 25 shown in FIG.
In order to obtain the slider 10 shown in FIG.
Can be obtained by cutting each slider from the portion.

【0092】このように複数のスライダが一体化された
スライダバー25の状態で、砥粒の噴き付けによる面取
り加工を施すことで、各スライダに対して同時に、均一
な加工精度の良い面取り加工面20を形成することがで
き、製造効率を向上させることができる。
By performing chamfering by spraying abrasive grains in the state of the slider bar 25 in which a plurality of sliders are integrated as described above, a chamfered surface with uniform processing accuracy can be simultaneously applied to each slider. 20 can be formed, and the manufacturing efficiency can be improved.

【0093】また従来のように、プラズマエッチング等
を使用する場合に比べ、安価に製造可能である。
Further, as compared with the conventional case using plasma etching or the like, it can be manufactured at lower cost.

【0094】以上のように本発明では、スライダ10の
少なくとも角部F(図1参照)以外の部分をマスクで覆
い、砥粒を噴き付けることで、前記角部FにR形状の面
取り加工面20を施すものであり、これにより、記録媒
体への損傷を低減させることが可能になる。
As described above, according to the present invention, at least a portion other than the corner portion F (see FIG. 1) of the slider 10 is covered with a mask, and abrasive grains are sprayed, so that the R-shaped chamfered surface is formed on the corner portion F. 20. This makes it possible to reduce damage to the recording medium.

【0095】なお本発明では、前記スライダ10に対し
て砥粒噴き付けによる面取り加工面20を形成した後
に、前記スライダ10の対向面27に、イオンミリング
によるABS面の加工を施すことが好ましく、これによ
り、前記面取り加工面20がきれいに面取りされる。な
お前記イオンミリングにより前記面取り加工面20の形
成時に発生した前記加工面20表面のクラック(ひび割
れ)や結晶粒子等の脱粒の問題が解消される。ただし本
発明では、まず先にイオンミリングによるABS面の形
成を行い、次に、砥粒の噴き付けによる面取り加工を施
してもよい。
In the present invention, it is preferable that after forming the chamfered surface 20 by spraying abrasive grains on the slider 10, the opposing surface 27 of the slider 10 is subjected to the ABS surface processing by ion milling. Thus, the chamfered surface 20 is chamfered neatly. The problem of cracks (cracks) on the surface of the processing surface 20 and the shedding of crystal particles, etc., which are generated when the chamfered processing surface 20 is formed by the ion milling, is solved. However, in the present invention, the ABS may be formed first by ion milling, and then chamfering may be performed by spraying abrasive grains.

【0096】また本発明では図1に示す面取り加工面2
0を有するスライダ10を形成するには、複数のスライ
ダが一体形成されたスライダバー25の状態のときに、
各スライダに対して前記面取り加工20を施すことが好
ましい。これにより、各スライダにおいて加工精度のば
らつきを抑えることができ、また、生産効率を向上させ
ることが可能である。ただし本発明では、図4に示すス
ライダバー25を形成した後に、前記スライダバー25
を個々のスライダに切断し、切断された個々のスライダ
に対し図5ないし図9に示す面取り加工およびABS面
加工を行ってもよい。
In the present invention, the chamfered surface 2 shown in FIG.
In order to form the slider 10 having zero, when the slider bar 25 in which a plurality of sliders are integrally formed,
It is preferable to perform the chamfering processing 20 on each slider. As a result, it is possible to suppress variations in processing accuracy in each slider, and it is possible to improve production efficiency. However, in the present invention, after forming the slider bar 25 shown in FIG.
May be cut into individual sliders, and the cut individual sliders may be subjected to chamfering and ABS surface processing shown in FIGS. 5 to 9.

【0097】[0097]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、ス
ライダの記録媒体との対向面の少なくとも角部付近以外
の部分にマスクを形成し、砥粒の噴き付けによって、前
記マスクに覆われていない前記角部付近をR形状に面取
り加工することで、記録媒体への損傷を低減させること
ができる。
As described above in detail, according to the present invention, a mask is formed on at least a portion of the surface of the slider facing the recording medium other than near the corners, and the mask is covered with the abrasive by spraying abrasive grains. By chamfering the vicinity of the uncornered corner into an R shape, damage to the recording medium can be reduced.

【0098】特に本発明では、前記面取り加工を施した
後、イオンミリングによるABS面加工を施すことで、
適切に面粗れを防止することができる。また前記イオン
ミリングにより結晶粒子の脱粒等が発生しない、きれい
に均された加工面を形成することができる。
In particular, in the present invention, after the chamfering, the ABS surface processing by ion milling is performed.
Surface roughness can be appropriately prevented. In addition, it is possible to form a clean and leveled processed surface in which crystal grains do not fall out due to the ion milling.

【0099】また本発明では、複数のスライダが一体に
なって形成されたスライダバーの状態で、上記面取り加
工を施すことが好ましく、これにより各スライダに、均
一な加工精度の良い面取り加工面を形成することが可能
であり、製造効率を向上させることができる。
In the present invention, it is preferable that the above chamfering is performed in a state of a slider bar in which a plurality of sliders are integrally formed, whereby each slider is provided with a chamfered surface with uniform processing accuracy. It can be formed, and manufacturing efficiency can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ハードディスクなどに搭載される本発明の実施
形態の磁気ヘッドを記録媒体との対向面を上向きにして
示した斜視図、
FIG. 1 is a perspective view showing a magnetic head mounted on a hard disk or the like according to an embodiment of the present invention with a surface facing a recording medium facing upward;

【図2】図1に示す2−2線の断面図、FIG. 2 is a sectional view taken along line 2-2 shown in FIG. 1;

【図3】図1に示す3−3線の断面図、FIG. 3 is a sectional view taken along line 3-3 shown in FIG. 1;

【図4】本発明における磁気ヘッドの製造工程を示すス
ライダバーの部分斜視図、
FIG. 4 is a partial perspective view of a slider bar showing a process of manufacturing a magnetic head according to the present invention.

【図5】図4に示す最も左側に形成されたスライダの部
分を示す斜視図であり、図4に示す製造工程の次に行な
われる工程図、
5 is a perspective view showing a portion of a slider formed on the leftmost side shown in FIG. 4, and is a process diagram performed after the manufacturing process shown in FIG. 4;

【図6】図5に示す製造工程の次に行なわれる工程図、FIG. 6 is a process chart performed after the manufacturing process shown in FIG. 5;

【図7】図6に示す製造工程の次に行なわれる工程図、7 is a process drawing performed after the manufacturing process shown in FIG. 6,

【図8】図7に示す製造工程の次に行なわれる工程図、FIG. 8 is a process chart performed after the manufacturing process shown in FIG. 7;

【図9】図8に示す製造工程の次に行なわれる工程図、FIG. 9 is a process chart performed after the manufacturing process shown in FIG. 8;

【図10】ハードディスクなどに搭載される従来の磁気
ヘッドを記録媒体との対向面を上向きにして示した斜視
図、
FIG. 10 is a perspective view showing a conventional magnetic head mounted on a hard disk or the like with a surface facing a recording medium facing upward;

【図11】面取り加工を施す際のスライダバーの部分斜
視図、
FIG. 11 is a partial perspective view of a slider bar when chamfering is performed;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 スライダ 11、27 記録媒体との対向面 13 レール部 14 薄膜素子部 15 薄膜磁気素子 16 電極部 18 右側端面 19 左側端面 20 面取り加工面 21、30 平坦面 22、26 保護膜 25 スライダバー 28 溝部 29 マスク 31 パターン A リーディング側 B トレーリング側 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Slider 11, 27 Facing surface with recording medium 13 Rail part 14 Thin film element part 15 Thin film magnetic element 16 Electrode part 18 Right end face 19 Left end face 20 Chamfered surface 21, 30 Flat surface 22, 26 Protective film 25 Slider bar 28 Groove 29 Mask 31 Pattern A Leading side B Trailing side

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 俊彦 東京都大田区雪谷大塚町1番7号 アルプ ス電気株式会社内 Fターム(参考) 5D042 NA02 PA01 PA05 PA09 QA02 QA03 RA02 RA04  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Toshihiko Sato 1-7 Yukitani Otsuka-cho, Ota-ku, Tokyo Alps Electric Co., Ltd. F-term (reference) 5D042 NA02 PA01 PA05 PA09 QA02 QA03 RA02 RA04

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スライダと、このスライダのトレーリン
グ側端面に設けられた磁気記録および/または再生用の
素子部とを有する磁気ヘッドの製造方法において、 前記スライダの記録媒体との対向面上に、少なくとも前
記対向面の角部以外の部分を、マスクによって覆う工程
と、 前記スライダの記録媒体との対向面上に、砥粒を噴き付
けて、前記マスクに覆われていない前記対向面の角部
を、R形状に面取り加工する工程と、 前記マスクを除去する工程と、 を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
1. A method for manufacturing a magnetic head having a slider and a magnetic recording and / or reproducing element provided on an end surface of the slider on a trailing side, wherein the slider has a surface facing a recording medium. A step of covering at least a portion other than a corner of the facing surface with a mask; and spraying abrasive grains on a surface of the slider facing the recording medium to form a corner of the facing surface not covered by the mask. A step of chamfering a portion into an R shape, and a step of removing the mask.
【請求項2】 前記記録媒体との対向面上であって、リ
ーディング側端面との縁部付近を、前記マスクによって
覆わないようにし、砥粒を噴き付けることで、前記縁部
をR形状に面取り加工する請求項1記載の磁気ヘッドの
製造方法。
2. An edge on the surface facing the recording medium and near the edge with the leading end is not covered with the mask, and the edge is formed into an R shape by spraying abrasive grains. 2. The method for manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein chamfering is performed.
【請求項3】 前記記録媒体との対向面上であって、全
ての側端面との縁部付近を、前記マスクによって覆わな
いようにし、砥粒を噴き付けることで、前記縁部をR形
状に面取り加工する請求項1記載の磁気ヘッドの製造方
法。
3. An edge shape is formed by spraying abrasive grains so as not to cover the vicinity of the edge with all the side end faces on the surface facing the recording medium and spraying abrasive grains. 2. The method for manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein chamfering is performed.
【請求項4】 少なくとも、トレーリング側端面に設け
られた素子部上を、前記マスクによって覆い、砥粒噴き
付けによって、前記素子部の部分が面取り加工されない
ようにする請求項1ないし3のいずれかに記載の磁気ヘ
ッドの製造方法。
4. The device according to claim 1, wherein at least the element portion provided on the trailing side end surface is covered with the mask, and the part of the element portion is not chamfered by spraying abrasive grains. Or a method for manufacturing a magnetic head.
【請求項5】 前記マスクは、ドライフィルムである請
求項1ないし4のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方
法。
5. The method according to claim 1, wherein the mask is a dry film.
【請求項6】 記録媒体との対向面上の所定箇所をマス
クで覆って、砥粒の噴き付けを行った後、前記記録媒体
との対向面に、イオンミリングによって、ABS面を形
成する請求項1ないし5のいずれかに記載の磁気ヘッド
の製造方法。
6. A method according to claim 1, wherein a predetermined portion on a surface facing the recording medium is covered with a mask and abrasive particles are sprayed, and then an ABS is formed on the surface facing the recording medium by ion milling. Item 6. The method for manufacturing a magnetic head according to any one of Items 1 to 5.
【請求項7】 トレーリング側端面に複数の素子部が形
成されたスライダバーを形成し、各素子部間であって前
記スライダバーの記録媒体との対向面に、溝部を形成し
た後に、 前記溝部間における各対向面上の所定箇所をマスクで覆
って、砥粒を噴き付ける工程を有し、 最終製造工程で、前記スライダバーを各素子部間から切
断して、個々の磁気ヘッドを形成する請求項1ないし6
のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法。
7. A slider bar having a plurality of element portions formed on an end surface on a trailing side, and after forming a groove portion between each element portion and on a surface of the slider bar facing a recording medium, A step of covering predetermined portions on each of the opposing surfaces between the grooves with a mask and spraying abrasive grains, and in a final manufacturing step, cutting the slider bar from between the element portions to form individual magnetic heads Claims 1 to 6
The method for manufacturing a magnetic head according to any one of the above.
【請求項8】 トレーリング側端面に、磁気記録および
/または再生用の複数の素子部を有するスライダバーの
製造方法において、 各素子部間であって前記スライダバーの記録媒体との対
向面に、溝部を形成する工程と、 前記溝部間における各対向面上に、少なくとも前記対向
面の角部以外の部分を、マスクによって覆う工程と、 前記対向面上に、砥粒を噴き付けて、前記マスクに覆わ
れていない前記対向面の角部を、R形状に面取り加工す
る工程と、 を有することを特徴とするスライダバーの製造方法。
8. A method of manufacturing a slider bar having a plurality of element portions for magnetic recording and / or reproduction on an end surface on a trailing side, wherein a slider bar is provided between the element portions and on a surface of the slider bar facing a recording medium. Forming a groove, and covering at least a portion other than a corner of the facing surface with a mask on each of the facing surfaces between the grooves, spraying abrasive grains on the facing surface, A step of chamfering a corner of the opposing surface not covered with a mask into an R shape.
【請求項9】 前記溝部間における各記録媒体との対向
面上であって、リーディング側端面との縁部付近を、前
記マスクによって覆わないようにし、砥粒を噴き付ける
ことで、前記縁部をR形状に面取り加工する請求項8記
載のスライダバーの製造方法。
9. The method according to claim 1, wherein the mask is arranged so as not to cover the vicinity of the edge between the groove portion and the recording medium and the edge with the leading end surface, and the abrasive is sprayed onto the edge portion. 9. The method for manufacturing a slider bar according to claim 8, wherein chamfering is performed into an R shape.
【請求項10】 前記溝部間における各記録媒体との対
向面上であって、全ての側端面との縁部付近を、前記マ
スクによって覆わないようにし、砥粒を噴き付けること
で、前記縁部をR形状に面取り加工する請求項8または
9に記載のスライダバーの製造方法。
10. A method according to claim 1, wherein the mask does not cover the vicinity of the edge between all the side faces on the surface facing each recording medium between the grooves, and sprays abrasive grains to the edge. The method for manufacturing a slider bar according to claim 8, wherein the portion is chamfered into an R shape.
【請求項11】 少なくとも、トレーリング側端面に設
けられた素子部上を、前記マスクによって覆い、砥粒噴
き付けによって、前記素子部の部分が面取り加工されな
いようにする請求項8ないし10のいずれかに記載のス
ライダバーの製造方法。
11. The device according to claim 8, wherein at least the element portion provided on the trailing-side end surface is covered with the mask, and a part of the element portion is not chamfered by spraying abrasive grains. Or a method for manufacturing a slider bar.
【請求項12】 前記マスクは、ドライフィルムである
請求項8ないし11のいずれかに記載のスライダバーの
製造方法。
12. The method according to claim 8, wherein the mask is a dry film.
【請求項13】 溝部間における各記録媒体との対向面
上の所定箇所をマスクで覆って、砥粒の噴き付けを行っ
た後、前記記録媒体との対向面に、イオンミリングによ
って、ABS面を形成する請求項8ないし12のいずれ
かに記載のスライダバーの製造方法。
13. A method according to claim 11, wherein a predetermined portion on the surface facing each recording medium between the grooves is covered with a mask and abrasive grains are sprayed, and then the ABS facing the recording medium is ion-milled. The method of manufacturing a slider bar according to claim 8, wherein the slider bar is formed.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8339742B1 (en) * 2008-08-19 2012-12-25 Western Digital (Fremont), Llc Slider with leading edge blend and conformal step features

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