JP2001042313A - Production of substrate for liquid crystal display panel provided with color filter - Google Patents
Production of substrate for liquid crystal display panel provided with color filterInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はカラー表示の液晶表
示パネルに使用されるカラーフィルタを備えた液晶表示
パネル用基板の製造方法に関し、特に、混色の防止を図
ったカラーフィルタを備えた液晶表示パネル用基板の製
造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display panel substrate provided with a color filter used for a color liquid crystal display panel, and more particularly to a liquid crystal display provided with a color filter for preventing color mixture. The present invention relates to a method for manufacturing a panel substrate.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示パネル用のカラーフィルタの製
造方法には、種々のものがある。例えば、顔料分散法、
印刷法、染色法、電着法及びインクジェット法である。
この中でも、インクジェット法は、赤色(R)、緑色
(G)及び青色(B)のカラーフィルタを同時に形成す
ることができるため、工程が少ないこと及び材料の使用
量が少ないこと等の利点がある。2. Description of the Related Art There are various methods for manufacturing a color filter for a liquid crystal display panel. For example, pigment dispersion method,
Printing method, dyeing method, electrodeposition method and ink jet method.
Among them, the ink jet method can form red (R), green (G), and blue (B) color filters at the same time, and thus has advantages such as a small number of steps and a small amount of materials. .
【0003】インクジェット法を採用したカラーフィル
タの製造方法は、例えば特開平8−166507号公報
及び特開平9−230123号公報に記載されている。
特開平8−166507号公報に記載された従来の製造
方法においては、ブラックマトリクス形成用のレジスト
に撥インク性をもたせている。以下、このような従来の
製造方法を第1の従来例という。また、特開平9−23
0123号公報に記載された従来の製造方法において
は、ガラス基板の表面に親インク処理を施し、ブラック
マトリクスの表面に撥インク処理を施している。以下、
このような従来の製造方法を第2の従来例という。A method of manufacturing a color filter employing an ink jet method is described in, for example, JP-A-8-166507 and JP-A-9-230123.
In the conventional manufacturing method described in JP-A-8-166507, a resist for forming a black matrix has ink repellency. Hereinafter, such a conventional manufacturing method is referred to as a first conventional example. Also, JP-A-9-23
In the conventional manufacturing method described in Japanese Patent No. 0123, the surface of a glass substrate is subjected to an ink-philic treatment, and the surface of a black matrix is subjected to an ink-repellent treatment. Less than,
Such a conventional manufacturing method is referred to as a second conventional example.
【0004】図14(a)及び(b)は第1の従来例に
係るカラーフィルタの製造方法を工程順に示す断面図で
ある。FIGS. 14A and 14B are sectional views showing a method of manufacturing a color filter according to a first conventional example in the order of steps.
【0005】第1の従来例においては、図14(a)に
示すように、先ず、ガラス基板71上にCr膜又はMo
Ta膜等の金属膜を形成する。次いで、金属膜上に感光
性Si化合物を含有するレジスト膜を形成する。その
後、レジスト膜に露光及び現像を施すことにより、レジ
スト膜を所定形状にパターニングし、レジストパターン
73を形成する。続いて、レジストパターン73をマス
クとして金属膜をエッチングすることにより、ブラック
マトリクス72を形成する。次に、インクジェット法に
より、ブラックマトリクス72及びレジストパターン7
3により区画された領域内に、Rインク74、Gインク
75、及びBインク76の染料系インク又は顔料系イン
クを吐出する。In the first conventional example, as shown in FIG. 14A, first, a Cr film or a Mo film is formed on a glass substrate 71.
A metal film such as a Ta film is formed. Next, a resist film containing a photosensitive Si compound is formed on the metal film. Thereafter, by exposing and developing the resist film, the resist film is patterned into a predetermined shape, and a resist pattern 73 is formed. Subsequently, the black matrix 72 is formed by etching the metal film using the resist pattern 73 as a mask. Next, the black matrix 72 and the resist pattern 7 are formed by an inkjet method.
The dye-based ink or the pigment-based ink of the R ink 74, the G ink 75, and the B ink 76 is ejected into the area defined by 3.
【0006】その後、全体をプリベークすることによ
り、インク内の溶剤を蒸発させる。これにより、図14
(b)に示すように、ブラックマトリクス72と同等の
高さのRカラーフィルタ74a、Gカラーフィルタ75
a及びBカラーフィルタ76aが形成される。続いて、
レジストパターン73を剥離する。Thereafter, the solvent in the ink is evaporated by pre-baking the whole. As a result, FIG.
As shown in (b), an R color filter 74a and a G color filter 75 having the same height as the black matrix 72.
The a and B color filters 76a are formed. continue,
The resist pattern 73 is stripped.
【0007】このような第1の従来例によれば、インク
の吐出時に撥インク性を有するレジストパターン73が
存在しているので、隣り合うカラーフィルタ間での混色
が低減される。According to the first conventional example, since the resist pattern 73 having ink repellency exists at the time of ink ejection, color mixture between adjacent color filters is reduced.
【0008】図15(a)及び(b)は第2の従来例に
係るカラーフィルタの製造方法を工程順に示す断面図で
ある。FIGS. 15A and 15B are sectional views showing a method of manufacturing a color filter according to a second conventional example in the order of steps.
【0009】第2の従来例においては、図15(a)に
示すように、先ず、ガラス基板81上に親インク膜87
を形成する。次いで、親インク膜87上に所定形状のブ
ラックマトリクス82を形成する。次に、全面に撥イン
ク処理を施した後、ブラックマトリクス82により区画
された領域内の撥インク処理部を除去することにより、
ブラックマトリクス82の表面のみに撥インク処理部8
8を残存させる。続いて、インクジェット法により、ブ
ラックマトリクス82により区画された領域内に、Rイ
ンク84、Gインク85及びBインク86の染料系イン
ク又は顔料系インクを吐出する。In the second conventional example, first, as shown in FIG.
To form Next, a black matrix 82 having a predetermined shape is formed on the ink-philic film 87. Next, after performing the ink-repellent treatment on the entire surface, the ink-repellent portion in the region partitioned by the black matrix 82 is removed,
Only the surface of the black matrix 82 has the ink-repellent processing unit 8
8 remain. Subsequently, a dye-based ink or a pigment-based ink of the R ink 84, the G ink 85, and the B ink 86 is ejected into an area defined by the black matrix 82 by an inkjet method.
【0010】その後、全体をプリベークすることによ
り、インク内の溶剤を蒸発させる。これにより、図15
(b)に示すように、ブラックマトリクス82と同等の
高さのRカラーフィルタ84a、Gカラーフィルタ85
a及びBカラーフィルタ86aが形成される。Thereafter, the solvent in the ink is evaporated by pre-baking the whole. As a result, FIG.
As shown in (b), an R color filter 84a and a G color filter 85 having the same height as the black matrix 82.
The a and B color filters 86a are formed.
【0011】このような第2の従来例によれば、ブラッ
クマトリクス82の表面に撥インク処理が施されて撥イ
ンク処理部88が形成されているので、隣り合うカラー
フィルタ間の混色が低減される。According to the second conventional example, since the surface of the black matrix 82 is subjected to the ink-repellent treatment to form the ink-repellent portion 88, the color mixture between the adjacent color filters is reduced. You.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
第1の従来例によれば、それまでの撥インク処理等が施
されていないものと比較すれば混色が低減されている
が、ブラックマトリクス等からなりカラーフィルタが形
成される領域を区画する隔壁の高さが十分ではないた
め、混色は十分には防止されていないという問題点があ
る。However, according to the above-mentioned first conventional example, the color mixture is reduced as compared with the case where the ink repellent treatment or the like has not been performed. There is a problem that the color mixing is not sufficiently prevented because the height of the partition walls that define the region where the color filter is formed is not sufficient.
【0013】具体的には、ブラックマトリクスを構成す
る金属膜の厚さは0.1μm程度であり、レジストパタ
ーンを構成するレジスト膜の厚さは、厚くても3μm程
度である。レジスト膜の厚さが3μmを超えるような場
合には、膜厚むらによる露光不良が発生するため、金属
膜のパターニングを正確に行うことができなくなる。従
って、隔壁の厚さは、厚くても3.1μm程度となって
いる。Specifically, the thickness of the metal film constituting the black matrix is about 0.1 μm, and the thickness of the resist film constituting the resist pattern is at most about 3 μm. If the thickness of the resist film exceeds 3 μm, exposure failure due to unevenness of the film thickness occurs, so that the metal film cannot be accurately patterned. Therefore, the thickness of the partition is at most about 3.1 μm.
【0014】また、第2の従来例においては、全面に撥
インク処理をした後に、ブラックマトリクスにより区画
された領域の撥インク処理部を除去する必要があるの
で、工程数が多いという問題点がある。更に、カラーフ
ィルタを形成した後にもブラックマトリクスの表面には
撥インク処理部が残存しているので、IPS方式の液晶
表示パネルに適用する場合には、その上に設けられる配
向膜をもはじいてしまう虞がある。Further, in the second conventional example, it is necessary to remove the ink-repellent portion in the area defined by the black matrix after the entire surface is subjected to the ink-repellent process. is there. Further, since the ink-repellent portion remains on the surface of the black matrix even after the formation of the color filter, when applied to the IPS type liquid crystal display panel, the alignment film provided thereon is repelled. There is a possibility that it will end up.
【0015】更にまた、第1及び第2の従来例では、カ
ラーフィルタの原料となるインクは主に水系の染料イン
クであるので、色の選択の幅が狭い。Furthermore, in the first and second conventional examples, since the ink used as the raw material of the color filter is mainly a water-based dye ink, the range of color selection is narrow.
【0016】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、工程数を増加させることなく隣り合うカラ
ーフィルタ間での混色を防止することができるカラーフ
ィルタを備えた液晶表示パネル用基板の製造方法を提供
することを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and has been made in view of the above-mentioned problems, and is a substrate for a liquid crystal display panel provided with a color filter capable of preventing color mixture between adjacent color filters without increasing the number of steps. It is an object of the present invention to provide a method for producing the same.
【0017】[0017]
【課題を解決するための手段】本発明に係るカラーフィ
ルタを備えた液晶表示パネル用基板の製造方法は、透明
基板上にブラックマトリクスとなる黒色樹脂膜を形成す
る工程と、前記黒色樹脂膜上にレジスト膜を形成する工
程と、前記レジスト膜のカラーフィルタが設けられる位
置に開口部を設けることによりレジストパターンを形成
する工程と、前記レジストパターンをマスクとして前記
黒色樹脂膜をエッチングすることによりブラックマトリ
クスを形成する工程と、前記ブラックマトリクス位置に
おける前記レジスト膜及び前記黒色樹脂膜を隔壁として
区画された領域内にカラーフィルタをインクジェット法
により形成する工程と、を有することを特徴とする。According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel having a color filter, comprising the steps of: forming a black resin film serving as a black matrix on a transparent substrate; Forming a resist film on the resist film, forming a resist pattern by providing an opening at a position where the color filter of the resist film is provided, and etching the black resin film using the resist pattern as a mask to form a black film. A step of forming a matrix, and a step of forming a color filter by an inkjet method in a region defined by the resist film and the black resin film as a partition at the black matrix position.
【0018】本発明においては、前記黒色樹脂膜を形成
する工程の前に前記透明基板に前記カラーフィルタの原
料となるインクがなじみやすくなる親インク処理を施す
工程を有してもよい。In the present invention, before the step of forming the black resin film, the method may further include a step of subjecting the transparent substrate to an ink-philic treatment for facilitating the ink used as a raw material of the color filter.
【0019】本発明に係る他のカラーフィルタを備えた
液晶表示パネル用基板の製造方法は、透明基板上に薄膜
トランジスタを形成する工程と、前記透明基板上に前記
薄膜トランジスタを覆う平坦化膜を形成する工程と、前
記平坦化膜上にブラックマトリクスとなる黒色樹脂膜を
形成する工程と、前記黒色樹脂膜上にレジスト膜を形成
する工程と、前記レジスト膜のカラーフィルタが設けら
れる位置に開口部を設けることによりレジストパターン
を形成する工程と、前記レジストパターンをマスクとし
て前記黒色樹脂膜をエッチングすることによりブラック
マトリクスを形成する工程と、前記ブラックマトリクス
位置における前記レジスト膜及び前記黒色樹脂膜を隔壁
として区画された領域内にカラーフィルタをインクジェ
ット法により形成する工程と、を有することを特徴とす
る。According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel having a color filter, wherein a thin film transistor is formed on a transparent substrate, and a flattening film covering the thin film transistor is formed on the transparent substrate. A step of forming a black resin film serving as a black matrix on the flattening film, a step of forming a resist film on the black resin film, and forming an opening at a position of the resist film where a color filter is provided. A step of forming a resist pattern by providing, a step of forming a black matrix by etching the black resin film using the resist pattern as a mask, and using the resist film and the black resin film at the black matrix position as partition walls Form color filters by ink-jet method in partitioned areas And having a that step.
【0020】本発明においては、前記黒色樹脂膜を形成
する工程の前に前記平坦化膜に前記カラーフィルタの原
料となるインクがなじみやすくなる親インク処理を施す
工程を有してもよい。In the present invention, the method may further include, before the step of forming the black resin film, a step of subjecting the flattening film to an ink-philic treatment for facilitating the adaptation of the ink used as the raw material of the color filter.
【0021】また、前記レジスト膜及び/又は前記黒色
樹脂膜には、前記カラーフィルタの原料となるインクを
はじきやすくする撥インク処理が施されていてもよい。Further, the resist film and / or the black resin film may be subjected to an ink-repellent treatment for facilitating repelling of an ink which is a raw material of the color filter.
【0022】更に、前記黒色樹脂膜の厚さは、1乃至3
μmであることが好ましく、前記カラーフィルタの原料
として顔料系インクを使用することが好ましい。Further, the thickness of the black resin film is 1 to 3
It is preferable to use a pigment-based ink as a raw material of the color filter.
【0023】本発明においては、ブラックマトリクスに
より区画された領域内にカラーフィルタをインクジェッ
ト法により形成する際に、ブラックマトリクス及びレジ
ストパターンからなる高い隔壁が存在しているので、隣
り合うカラーフィルタ間での混色が防止される。In the present invention, when a color filter is formed in an area defined by a black matrix by an ink-jet method, a high partition wall composed of a black matrix and a resist pattern exists. Color mixing is prevented.
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係るカラ
ーフィルタを備えた液晶表示パネル用基板の製造方法に
ついて、添付の図面を参照して具体的に説明する。図1
(a)乃至(c)は本発明の第1の実施例に係るカラー
フィルタを備えた液晶表示パネル用基板の製造方法を工
程順に示す断面図であり、図2(a)乃至(c)は、同
じく本発明の第1の実施例を示す図であって、図1
(a)乃至(c)に示す工程の次工程を工程順に示す断
面図であり、図3(a)乃至(c)は、同じく本発明の
第1の実施例を示す図であって、図2(a)乃至(c)
に示す工程の次工程を工程順に示す断面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method for manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel having a color filter according to an embodiment of the present invention will be specifically described below with reference to the accompanying drawings. FIG.
2A to 2C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display panel substrate having a color filter according to a first embodiment of the present invention in the order of steps, and FIGS. FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention, and FIG.
FIGS. 3A to 3C are cross-sectional views illustrating steps subsequent to the steps illustrated in FIGS. 3A to 3C in the order of the steps. FIGS. 3A to 3C are views illustrating a first embodiment of the present invention. 2 (a) to (c)
5 is a cross-sectional view showing a next process of the process shown in FIG.
【0025】第1の実施例においては、図1(a)に示
すように、先ず、ガラス基板1上に黒色樹脂膜2を形成
する。ガラス基板1は、例えば厚さが0.7又は1.1
mmの無アルカリガラス基板であり、黒色樹脂膜2は、
例えばフッ素系界面活性剤を含有するポリイミド系分散
着色樹脂からなる。この樹脂には、赤色の顔料種、紫色
の顔料種、青色の顔料種及び黄色の顔料種が分散されて
いる。黒色樹脂膜2の膜厚は例えば1乃至3μm、その
光学濃度(OD値)は例えば3以上、そのシート抵抗は
例えば1010Ω/□以上、その粘度は例えば3乃至10
cPである。また、フッ素系界面活性剤の添加量は、例
えば0.1乃至0.5重量%である。フッ素系界面活性
剤としては、例えば住友3M社製のFC−430及びF
C−431が使用可能であるが、これらに限定されるも
のではない。また、フッ素系界面活性剤の替わりにシラ
ン系界面活性剤を含有させてもよい。フッ素系界面活性
剤及びシラン系界面活性剤は、撥インク性を有してい
る。In the first embodiment, a black resin film 2 is first formed on a glass substrate 1 as shown in FIG. The glass substrate 1 has, for example, a thickness of 0.7 or 1.1.
mm non-alkali glass substrate, and the black resin film 2
For example, it is made of a polyimide-based dispersed coloring resin containing a fluorine-based surfactant. In this resin, a red pigment type, a purple pigment type, a blue pigment type, and a yellow pigment type are dispersed. The thickness of the black resin film 2 is, for example, 1 to 3 μm, its optical density (OD value) is, for example, 3 or more, its sheet resistance is, for example, 10 10 Ω / □ or more, and its viscosity is, for example, 3 to 10
cP. The addition amount of the fluorine-based surfactant is, for example, 0.1 to 0.5% by weight. As the fluorinated surfactant, for example, FC-430 and F manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.
C-431 can be used, but is not limited thereto. Further, a silane-based surfactant may be contained instead of the fluorine-based surfactant. The fluorinated surfactant and the silane-based surfactant have ink repellency.
【0026】黒色樹脂膜2の膜厚が1μm未満である
と、カラーフィルタ形成時の隔壁の高さが不足して混色
が生じる虞がある。一方、その膜厚が3μmを超える
と、後に形成されるレジスト膜の膜厚の均一性が損なわ
れてパターン精度が低下する虞がある。If the thickness of the black resin film 2 is less than 1 μm, the height of the partition walls at the time of forming the color filter is insufficient, and there is a possibility that color mixing may occur. On the other hand, if the film thickness exceeds 3 μm, the uniformity of the film thickness of the resist film formed later may be impaired, and the pattern accuracy may be reduced.
【0027】黒色樹脂膜2を形成した後、図1(b)に
示すように、黒色樹脂膜2上にポジ型レジスト膜3を形
成する。ポジ型レジスト膜3の膜厚は、例えば3乃至4
μmである。ポジ型レジスト膜にも、黒色樹脂膜2に添
加されているのと同様のフッ素系界面活性剤又はシラン
系界面活性剤が添加されている。After the black resin film 2 is formed, a positive resist film 3 is formed on the black resin film 2 as shown in FIG. The thickness of the positive resist film 3 is, for example, 3 to 4
μm. The same fluorine-based surfactant or silane-based surfactant as that added to the black resin film 2 is also added to the positive resist film.
【0028】次に、図1(c)に示すように、ポジ型レ
ジスト膜3に露光及び現像を施してパターニングするこ
とにより、カラーフィルタが設けられる領域に開口部を
有するレジストパターン3aを形成する。ポジ型レジス
ト膜3の現像液としては、例えばテトラメチルアンモニ
ウムハイドロオキサイド(TMAH)系アルカリ現像液
が使用可能である。Next, as shown in FIG. 1C, the positive resist film 3 is exposed and developed and patterned to form a resist pattern 3a having an opening in a region where a color filter is provided. . As the developer for the positive resist film 3, for example, a tetramethylammonium hydroxide (TMAH) -based alkali developer can be used.
【0029】その後、図2(a)に示すように、レジス
トパターン3aをマスクとして黒色樹脂膜2をエッチン
グすることにより、ブラックマトリクス2aを形成す
る。Thereafter, as shown in FIG. 2A, the black resin film 2 is etched using the resist pattern 3a as a mask to form a black matrix 2a.
【0030】続いて、図2(b)及び(c)に示すよう
に、インクジェット法により、ブラックマトリクス2a
及びレジストパターン3aにより区画された領域内に、
赤色インク4、緑色インク5及び青色インク6を吐出す
る。赤色インク4、緑色インク5及び青色インク6は、
例えば粘度が3乃至10cPのアクリル系顔料分散イン
クである。Subsequently, as shown in FIGS. 2B and 2C, the black matrix 2a is formed by the ink jet method.
And within the area defined by the resist pattern 3a,
The red ink 4, the green ink 5, and the blue ink 6 are ejected. The red ink 4, the green ink 5, and the blue ink 6
For example, it is an acrylic pigment-dispersed ink having a viscosity of 3 to 10 cP.
【0031】次いで、全体をプリベークすることによ
り、インク4乃至6内の溶剤を蒸発させる。これによ
り、図3(a)に示すように、厚さが例えば1.0乃至
1.5μm程度の赤色カラーフィルタ4a、緑色カラー
フィルタ5a及び青色カラーフィルタ6aが形成され
る。これらの高さは、ブラックマトリクス2aのそれと
ほぼ同等である。Next, the solvent in the inks 4 to 6 is evaporated by prebaking the whole. Thus, as shown in FIG. 3A, a red color filter 4a, a green color filter 5a, and a blue color filter 6a having a thickness of, for example, about 1.0 to 1.5 μm are formed. These heights are almost equal to those of the black matrix 2a.
【0032】次に、図3(b)に示すように、レジスト
パターン3aを剥離する。Next, as shown in FIG. 3B, the resist pattern 3a is peeled off.
【0033】そして、図3(c)に示すように、全面に
配向膜7を形成する。配向膜7は、例えばポリイミド系
配向剤を含有し、その膜厚は、例えば300乃至600
Åである。例えば、日産化学社製配向膜サンエバーシリ
ーズ及びJSR社製オプトマーALシリーズが使用可能
であるが、これに限定されるものではない。Then, as shown in FIG. 3C, an alignment film 7 is formed on the entire surface. The alignment film 7 contains, for example, a polyimide-based alignment agent, and has a thickness of, for example, 300 to 600.
Å. For example, an alignment film Sanever series manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. and an Optmer AL series manufactured by JSR Corporation can be used, but the present invention is not limited thereto.
【0034】第1の実施例においては、インクジェット
法により赤色インク4、緑色インク5及び青色インク6
を吐出する際には、ブラックマトリクス2a及びレジス
トパターン3aからなる隔壁が存在している。この隔壁
の高さは、例えば4乃至7μm程度であり、従来のもの
と比して30%以上も高い。また、ブラックマトリクス
2a及びレジストパターン3a中に分散されているフッ
素系界面活性剤は撥インク性を有している。In the first embodiment, the red ink 4, the green ink 5, and the blue ink 6
Is discharged, there is a partition composed of the black matrix 2a and the resist pattern 3a. The height of this partition is, for example, about 4 to 7 μm, which is 30% or more higher than that of the conventional one. Further, the fluorine-based surfactant dispersed in the black matrix 2a and the resist pattern 3a has ink repellency.
【0035】従って、インクの吐出の際にその一部が飛
散したとしても、飛沫が隣り合うカラーフィルタまで到
達することはない。これにより、混色が防止される。Therefore, even if a part of the ink is scattered during the ejection of the ink, the mist does not reach the adjacent color filters. This prevents color mixing.
【0036】なお、高い撥インク性を確保するため、ブ
ラックマトリクス及びレジストパターンの水に対する接
触角は100゜以上であることが好ましい。In order to ensure high ink repellency, the contact angle of the black matrix and the resist pattern with water is preferably 100 ° or more.
【0037】また、第1の実施例において、ガラス基板
1上に黒色樹脂膜2を形成する前にガラス基板1に親イ
ンク処理を施してもよい。例えば、ヘキサメチルジシラ
ザン(HMDS)等をガラス基板1の表面に塗布する
か、又はHMDSの蒸気をガラス基板1の表面に付着さ
せればよい。Further, in the first embodiment, before forming the black resin film 2 on the glass substrate 1, the glass substrate 1 may be subjected to an ink-philic treatment. For example, hexamethyldisilazane (HMDS) or the like may be applied to the surface of the glass substrate 1, or HMDS vapor may be attached to the surface of the glass substrate 1.
【0038】次に、上述のような第1の実施例により製
造されたカラーフィルタ基板を備えた液晶表示パネルに
ついて説明する。図4は本発明の第1の実施例により製
造されたカラーフィルタ基板を備えたTN(twisted n
ematic)方式の液晶表示パネルの構造を示す断面図であ
り、図5は、同じくTN方式の液晶表示パネルの構造を
示す模式的平面図である。Next, a liquid crystal display panel having the color filter substrate manufactured according to the first embodiment as described above will be described. FIG. 4 shows a TN (twisted n) having a color filter substrate manufactured according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of an ematic) liquid crystal display panel, and FIG. 5 is a schematic plan view showing the structure of a TN liquid crystal display panel.
【0039】本発明の第1の実施例により製造されたカ
ラーフィルタ基板を備えたTN方式の液晶表示パネルに
おいては、第1及び第2の透明基板101及び102間
に液晶層103が設けられている。以下、第1及び第2
の透明基板101及び102の液晶層103側を内側、
その反対側を外側という。第2の透明基板102は図1
乃至3における基板1に該当する。液晶層103は、例
えばフッ素系化合物を含有している。例えば、チッソ石
油化学社製LIXONシリーズが使用可能であるが、こ
れに限定されるものではない。In a TN type liquid crystal display panel provided with a color filter substrate manufactured according to the first embodiment of the present invention, a liquid crystal layer 103 is provided between first and second transparent substrates 101 and 102. I have. Hereinafter, the first and second
The liquid crystal layer 103 side of the transparent substrates 101 and 102 inside,
The opposite side is called the outside. The second transparent substrate 102 is shown in FIG.
3 corresponds to the substrate 1. The liquid crystal layer 103 contains, for example, a fluorine compound. For example, a LIXON series manufactured by Chisso Petrochemical Company can be used, but the present invention is not limited to this.
【0040】ブラックマトリクス2a及びカラーフィル
タ4a乃至6a並びに配向膜7が第2の透明基板102
の内側表面上に設けられている。配向膜7の表面は、例
えばビスコースレーヨン等の導電性合成繊維を使用して
ラビング処理されている。また、この液晶表示パネルは
TN方式であるため、ブラックマトリクス2a並びにカ
ラーフィルタ4a乃至6aと配向膜7との間には、透明
共通電極104が設けられている。透明共通電極104
は、例えばITO(Indium-tin-oxide)からなり、その
膜厚は、例えば800乃至1500Å、そのシート抵抗
は、例えば20乃至40Ω/□である。第2の透明基板
102の外側表面上には偏光板105が設けられてい
る。偏光板105は、例えばヨウ素系偏光フィルムから
なり、例えば日東電工社製NPFシリーズ及び住友化学
社製スミカランシリーズが使用可能であるが、これに限
定されるものではない。なお、図4には、カラーフィル
タとして赤色カラーフィルタ4aのみを示しているが、
緑色カラーフィルタ5a及び青色カラーフィルタ6a
は、他の領域(図示せず)に形成されている。The black matrix 2a, the color filters 4a to 6a and the alignment film 7 are formed on the second transparent substrate 102.
Provided on the inner surface of the. The surface of the alignment film 7 is rubbed using a conductive synthetic fiber such as viscose rayon. Since the liquid crystal display panel is of the TN type, a transparent common electrode 104 is provided between the alignment film 7 and the black matrix 2a and the color filters 4a to 6a. Transparent common electrode 104
Is made of, for example, ITO (Indium-tin-oxide), its film thickness is, for example, 800 to 1500 °, and its sheet resistance is, for example, 20 to 40Ω / □. A polarizing plate 105 is provided on the outer surface of the second transparent substrate 102. The polarizing plate 105 is made of, for example, an iodine-based polarizing film. For example, an NPF series manufactured by Nitto Denko Corporation and a Sumikaran series manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. can be used, but the present invention is not limited thereto. FIG. 4 shows only the red color filter 4a as a color filter,
Green color filter 5a and blue color filter 6a
Are formed in other regions (not shown).
【0041】一方、第1の透明基板101の内側表面に
は、格子状にゲート電極106が形成されており、ゲー
ト電極106を覆うようにゲート絶縁膜107が形成さ
れている。ゲート絶縁膜107は、例えばSiOx膜と
SiNx膜との積層膜であり、その総膜厚は、例えば1
000乃至2000Åである。ゲート絶縁膜107の内
側表面上で各ゲート電極106に整合する位置には、半
導体層108が形成されており、この半導体層108を
挟むようにドレイン電極109及びソース電極110が
形成されている。ゲート電極106、ドレイン電極10
9及びソース電極110は、例えば膜厚が1000乃至
4000ÅのAl膜、Mo膜又はCr膜等である。半導
体層108は、例えば膜厚が4000Å程度のアモルフ
ァスシリコン層であり、電界効果トランジスタのチャネ
ルとして機能する。また、ゲート絶縁膜107の内側表
面上には、ソース電極110に接続された画素電極11
1が形成されている。画素電極111は、例えば膜厚が
600乃至1200ÅのITO膜からなる。On the other hand, on the inner surface of the first transparent substrate 101, a gate electrode 106 is formed in a grid pattern, and a gate insulating film 107 is formed so as to cover the gate electrode 106. The gate insulating film 107 is, for example, a laminated film of a SiO x film and a SiN x film, and the total thickness thereof is, for example, 1
2,000 to 2,000Å. A semiconductor layer 108 is formed at a position on the inner surface of the gate insulating film 107 that matches each gate electrode 106, and a drain electrode 109 and a source electrode 110 are formed so as to sandwich the semiconductor layer 108. Gate electrode 106, drain electrode 10
9 and the source electrode 110 are, for example, an Al film, a Mo film, a Cr film, or the like having a thickness of 1000 to 4000 °. The semiconductor layer 108 is, for example, an amorphous silicon layer having a thickness of about 4000 ° and functions as a channel of a field-effect transistor. The pixel electrode 11 connected to the source electrode 110 is formed on the inner surface of the gate insulating film 107.
1 is formed. The pixel electrode 111 is made of, for example, an ITO film having a thickness of 600 to 1200 °.
【0042】そして、画素電極111上に配向膜112
が形成されている。配向膜112は配向膜7と同様のも
のである。なお、配向膜112と半導体層108、ドレ
イン電極109及びソース電極110との間には、パッ
シベーション膜113が形成されている。パッシベーシ
ョン膜113は、例えば膜厚が1000乃至2000Å
のSiNx膜である。第1の透明基板101の外側表面
上には偏光板114が設けられている。偏光板114は
偏光板105と同様のものである。また、第1の透明電
極101の内側表面でシール材116の4隅に、例え
ば、銀粉末を含むエポキシ樹脂からなるトランスファ
(図示せず)を形成している。更に、外側には引出し端
子115が設けられている。Then, an alignment film 112 is formed on the pixel electrode 111.
Are formed. The alignment film 112 is similar to the alignment film 7. Note that a passivation film 113 is formed between the alignment film 112 and the semiconductor layer 108, the drain electrode 109, and the source electrode 110. The passivation film 113 has a thickness of, for example, 1000 to 2000 Å.
This is a SiN x film. On the outer surface of the first transparent substrate 101, a polarizing plate 114 is provided. The polarizing plate 114 is similar to the polarizing plate 105. Further, a transfer (not shown) made of, for example, an epoxy resin containing silver powder is formed at four corners of the sealing material 116 on the inner surface of the first transparent electrode 101. Further, a lead terminal 115 is provided on the outside.
【0043】第1及び第2の透明基板101及び102
間には、液晶層103を包囲するシール材116が設け
られている。シール材116は、例えばエポキシ系樹脂
接着剤からなり、例えば三井化学社製ストラクトボンド
シリーズが使用可能であるが、これに限定されるもので
はない。また、シール材116には、図5に示すよう
に、液晶注入用の孔116aが設けられており、この孔
116aは封孔剤118により封止されている。封孔剤
118は、例えば紫外線(UV)硬化型アクリレート系
樹脂剤である。更に、液晶層103中には面内スペーサ
117が分散し、シール材116中には、周辺スペーサ
(図示せず)が分散している。面内スペーサ(ミクロパ
ール)117は、例えば径が4.5乃至5.5μmのジ
ビニルベンゼン系架橋重合体からなり、周辺スペーサ
(マイクロロッド)は、例えば径が5乃至7μmのガラ
スファイバからなる。図5に示すように、ブラックマト
リクス2aには、赤色開口部119R、緑色開口部11
9G及び青色開口部119Rが設けられている。First and second transparent substrates 101 and 102
A seal member 116 surrounding the liquid crystal layer 103 is provided between them. The sealing material 116 is made of, for example, an epoxy-based resin adhesive, and for example, a Struct Bond series manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. can be used, but is not limited thereto. Further, as shown in FIG. 5, a hole 116 a for injecting liquid crystal is provided in the sealing material 116, and the hole 116 a is sealed with a sealing agent 118. The sealing agent 118 is, for example, an ultraviolet (UV) curable acrylate-based resin agent. Further, in-plane spacers 117 are dispersed in the liquid crystal layer 103, and peripheral spacers (not shown) are dispersed in the sealant 116. The in-plane spacer (micropearl) 117 is made of, for example, a divinylbenzene-based crosslinked polymer having a diameter of 4.5 to 5.5 μm, and the peripheral spacer (microrod) is made of, for example, a glass fiber having a diameter of 5 to 7 μm. As shown in FIG. 5, a red opening 119R and a green opening 11 are provided in the black matrix 2a.
9G and a blue opening 119R are provided.
【0044】このように構成されたTN方式の液晶表示
パネルにおいては、透明共通電極104とソース電極1
10に接続された画素電極111との間にパネルの厚さ
方向の電界が発生し、この電界により画像の制御が行わ
れる。In the TN type liquid crystal display panel thus configured, the transparent common electrode 104 and the source electrode 1
An electric field is generated in the thickness direction of the panel between the pixel electrode 111 and the pixel electrode 111, and the electric field controls an image.
【0045】次に、第1の実施例をIPS(in plane
switching)方式の液晶表示パネルに適用した場合に
ついて説明する。図6は本発明の第1の実施例により製
造されたカラーフィルタ基板を備えたIPS方式の液晶
表示パネルの構造を示す断面図である。なお、図6に示
すIPS方式の液晶表示パネルにおいて、図4に示すT
N方式の液晶表示パネルと同一の構成要素には、同一符
号を付してその詳細な説明は省略する。Next, the IPS (in plane)
A case where the present invention is applied to a liquid crystal display panel of the (switching) type will be described. FIG. 6 is a sectional view showing the structure of an IPS type liquid crystal display panel having a color filter substrate manufactured according to the first embodiment of the present invention. In the IPS type liquid crystal display panel shown in FIG.
The same components as those of the N-type liquid crystal display panel are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
【0046】本発明の第1の実施例により製造されたカ
ラーフィルタ基板を備えたIPS方式の液晶表示パネル
の第2の透明基板102側においては、ブラックマトリ
クス2a及びカラーフィルタ4a乃至6a上に配向膜7
が直接形成されている。On the side of the second transparent substrate 102 of the IPS type liquid crystal display panel provided with the color filter substrate manufactured according to the first embodiment of the present invention, the alignment is performed on the black matrix 2a and the color filters 4a to 6a. Membrane 7
Are formed directly.
【0047】また、第1の透明基板101側において
は、第1の透明基板101の内側表面上にゲート電極1
06だけでなく図6に示す断面に垂直な方向に延びる透
明共通電極124が設けられている。ゲート絶縁膜10
7上には、透明共通電極124と同方向に延びる画素電
極131が設けられている。画素電極131は、図6に
示さない領域においてソース電極110に接続されてい
る。更に、ゲート絶縁膜107上には、半導体層10
8、ドレイン電極109、ソース電極110及び画素電
極131を覆うパッシベーション膜133が形成されて
いる。そして、パッシベーション膜133上に配向膜1
12が設けられている。On the first transparent substrate 101 side, the gate electrode 1 is formed on the inner surface of the first transparent substrate 101.
6, a transparent common electrode 124 extending in a direction perpendicular to the cross section shown in FIG. 6 is provided. Gate insulating film 10
On 7, a pixel electrode 131 extending in the same direction as the transparent common electrode 124 is provided. The pixel electrode 131 is connected to the source electrode 110 in a region not shown in FIG. Further, on the gate insulating film 107, the semiconductor layer 10
8, a passivation film 133 covering the drain electrode 109, the source electrode 110, and the pixel electrode 131 is formed. Then, the alignment film 1 is formed on the passivation film 133.
12 are provided.
【0048】このように構成されたIPS方式の液晶表
示パネルにおいては、透明共通電極124とソース電極
110に接続された画素電極131との間にパネルの表
面に平行な電界が発生し、この電界により画像の制御が
行われる。In the IPS mode liquid crystal display panel thus configured, an electric field parallel to the surface of the panel is generated between the transparent common electrode 124 and the pixel electrode 131 connected to the source electrode 110. Controls the image.
【0049】なお、第1の実施例においては、ブラック
マトリクス2aとなる黒色樹脂膜2及びレジストパター
ン3aとなるレジスト膜3の両方に撥インク剤として界
面活性剤が含有されているが、本発明はこれに限定され
るものではなく、撥インク剤を添加しなくてもよい。例
えば、IPS方式の液晶表示パネルに適用される場合、
図6に示すように、ブラックマトリクス2a上に配向膜
7が設けられるので、配向膜7もインクにはじかれる虞
がある。但し、配向膜7がインクにはじかれることを防
止するためにブラックマトリクス表面に親インク処理を
施すと、レジストとの界面にインクが流れ込んでしまう
虞がある。従って、TN方式の液晶表示パネルに適用す
る場合には、黒色樹脂膜及びレジスト膜の両方に撥イン
ク処理が施されていることが好ましい。In the first embodiment, both the black resin film 2 serving as the black matrix 2a and the resist film 3 serving as the resist pattern 3a contain a surfactant as an ink repellent. Is not limited to this, and the ink repellent agent may not be added. For example, when applied to an IPS liquid crystal display panel,
As shown in FIG. 6, since the alignment film 7 is provided on the black matrix 2a, the alignment film 7 may be repelled by the ink. However, if the black matrix surface is subjected to an ink-philic treatment in order to prevent the alignment film 7 from being repelled by the ink, the ink may flow into the interface with the resist. Therefore, when applied to a TN liquid crystal display panel, it is preferable that both the black resin film and the resist film have been subjected to an ink-repellent treatment.
【0050】また、ブラックマトリクスの側面に親イン
ク処理を施してもよい。Further, the side surface of the black matrix may be subjected to an ink-friendly process.
【0051】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。第2の実施例においては、薄膜トランジスタ(T
FT)基板に本発明を適用したものであり、以下、第2
の実施例により製造された液晶表示パネル用基板をCF
オンTFT基板という。図7(a)乃至(c)は本発明
の第2の実施例に係るCFオンTFT基板の製造方法を
工程順に示す断面図であり、図8(a)乃至(c)は、
同じく本発明の第2の実施例を示す図であって、図7
(a)乃至(c)に示す工程の次工程を工程順に示す断
面図であり、図9(a)及び(b)は、同じく本発明の
第2の実施例を示す図であって、図8(a)乃至(c)
に示す工程の次工程を工程順に示す断面図であり、図1
0(a)及び(b)は、同じく本発明の第2の実施例を
示す図であって、図9(a)及び(b)に示す工程の次
工程を工程順に示す断面図である。図10(a)及び
(b)には、CFオンTFT基板を製造した後に、それ
を液晶表示パネルに組み込む工程も示している。Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the second embodiment, a thin film transistor (T
FT) substrate to which the present invention is applied.
The substrate for a liquid crystal display panel manufactured by the embodiment of
On-TFT substrate. FIGS. 7A to 7C are cross-sectional views showing a method of manufacturing a CF-on-TFT substrate according to a second embodiment of the present invention in the order of steps. FIGS.
FIG. 7 is a view showing a second embodiment of the present invention, similarly to FIG.
9A to 9C are cross-sectional views showing steps subsequent to the steps shown in FIGS. 9A to 9C in the order of the steps. FIGS. 9A and 9B are views showing a second embodiment of the present invention. 8 (a) to (c)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the next step after the step shown in FIG.
FIGS. 0 (a) and (b) are views showing a second embodiment of the present invention, and are cross-sectional views showing steps subsequent to the steps shown in FIGS. 9 (a) and (b) in the order of steps. FIGS. 10A and 10B also show a process of manufacturing a CF-on-TFT substrate and then incorporating it into a liquid crystal display panel.
【0052】第2の実施例においては、図7(a)に示
すように、先ず、ガラス基板11上にゲート電極16、
ゲート絶縁膜17、半導体層18、ドレイン電極19及
びソース電極20を有するTFT、ソース電極20上に
開口部を有するパッシベーション膜23並びに引出し端
子25を形成する。ガラス基板11は、例えば厚さが
0.7又は1.1mmの無アルカリガラス基板である。
ゲート電極16、ドレイン電極19及びソース電極20
は、例えば膜厚が1000乃至4000ÅのAl膜、M
o膜又はCr膜等である。半導体層18は、例えば膜厚
が4000Å程度のアモルファスシリコン層であり、T
FTのチャネルとして機能する。パッシベーション膜2
3は、例えば膜厚が1000乃至2000ÅのSiNx
膜である。In the second embodiment, as shown in FIG. 7A, first, a gate electrode 16 is formed on a glass substrate 11.
A gate insulating film 17, a semiconductor layer 18, a TFT having a drain electrode 19 and a source electrode 20, a passivation film 23 having an opening on the source electrode 20, and a lead terminal 25 are formed. The glass substrate 11 is, for example, a non-alkali glass substrate having a thickness of 0.7 or 1.1 mm.
Gate electrode 16, drain electrode 19 and source electrode 20
Is, for example, an Al film having a thickness of 1000 to 4000 °, M
o film or Cr film. The semiconductor layer 18 is, for example, an amorphous silicon layer having a thickness of about 4000
Functions as an FT channel. Passivation film 2
3 is, for example, a SiN x film having a thickness of 1000 to 2000 °.
It is a membrane.
【0053】次に、図7(b)に示すように、パッシベ
ーション膜23と同一の位置に開口部を有する平坦化膜
26をパッシベーション膜23上に形成する。平坦化膜
は、例えば膜厚が2.5乃至3.5μmのポジ型感光性
ノボラック系レジストからなり、例えばJSR社製オプ
トマーPCシリーズが使用可能であるが、これに限定さ
れるものではない。Next, as shown in FIG. 7B, a planarizing film 26 having an opening at the same position as the passivation film 23 is formed on the passivation film 23. The flattening film is made of, for example, a positive photosensitive novolak-based resist having a thickness of 2.5 to 3.5 μm. For example, an Optmer PC series manufactured by JSR Corporation can be used, but the invention is not limited thereto.
【0054】次いで、平坦化膜26上に黒色樹脂膜を形
成する。黒色樹脂膜は、例えばフッ素系界面活性剤を含
有するポリイミド系分散着色樹脂からなる。この樹脂に
は、赤色の顔料種、紫色の顔料種、青色の顔料種及び黄
色の顔料種が分散されている。黒色樹脂膜の膜厚は例え
ば1乃至3μm、その光学濃度(OD値)は例えば3以
上、そのシート抵抗は例えば1010Ω/□以上、その粘
度は例えば3乃至10cPである。また、フッ素系界面
活性剤の添加量は、例えば0.1乃至0.5重量%であ
る。フッ素系界面活性剤としては、例えば住友3M社製
のFC−430及びFC−431が使用可能である。ま
た、フッ素系界面活性剤の替わりにシラン系界面活性剤
を含有させてもよい。Next, a black resin film is formed on the flattening film 26. The black resin film is made of, for example, a polyimide-based dispersed coloring resin containing a fluorine-based surfactant. In this resin, a red pigment type, a purple pigment type, a blue pigment type, and a yellow pigment type are dispersed. The thickness of the black resin film is, for example, 1 to 3 μm, its optical density (OD value) is, for example, 3 or more, its sheet resistance is, for example, 10 10 Ω / □ or more, and its viscosity is, for example, 3 to 10 cP. The addition amount of the fluorine-based surfactant is, for example, 0.1 to 0.5% by weight. As the fluorinated surfactant, for example, FC-430 and FC-431 manufactured by Sumitomo 3M can be used. Further, a silane-based surfactant may be contained instead of the fluorine-based surfactant.
【0055】黒色樹脂膜を形成した後、黒色樹脂膜上に
ポジ型レジスト膜を形成する。ポジ型レジスト膜の膜厚
は、例えば3乃至4μmである。ポジ型レジスト膜に
も、黒色樹脂膜に添加されているのと同様のフッ素系界
面活性剤又はシラン系界面活性剤が添加されている。After forming the black resin film, a positive resist film is formed on the black resin film. The thickness of the positive resist film is, for example, 3 to 4 μm. The same fluorine-based surfactant or silane-based surfactant as that added to the black resin film is also added to the positive resist film.
【0056】その後、ポジ型レジスト膜に露光及び現像
を施してパターニングすることにより、図7(c)に示
すように、カラーフィルタが設けられる領域に開口部を
有するレジストパターン27を形成する。ポジ型レジス
ト膜の現像液としては、例えばテトラメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド(TMAH)系アルカリ現像液が
使用可能である。続いて、レジストパターン27マスク
として黒色樹脂膜をエッチングすることにより、ブラッ
クマトリクス28及び額縁ブラックマトリクス28aを
形成する。Thereafter, by exposing and developing the positive resist film and patterning, a resist pattern 27 having an opening in a region where a color filter is provided is formed as shown in FIG. 7C. As the developer for the positive resist film, for example, a tetramethylammonium hydroxide (TMAH) -based alkali developer can be used. Subsequently, a black matrix 28 and a frame black matrix 28a are formed by etching the black resin film as a resist pattern 27 mask.
【0057】続いて、図8(a)及び(b)に示すよう
に、インクジェット法により、ブラックマトリクス28
及び額縁ブラックマトリクス28a並びにレジストパタ
ーン27により区画された領域内に、赤色インク29、
緑色インク及び青色インクを吐出する。赤色インク2
9、緑色インク及び青色インクは、例えば粘度が3乃至
10cPのアクリル系顔料分散インクである。なお、図
8(a)乃至9(b)においては、便宜上赤色インクが
吐出される領域のみを示しているが、緑色インク及び青
色インクは、図示しない領域に吐出している。Subsequently, as shown in FIGS. 8A and 8B, the black matrix 28 is formed by the ink jet method.
And a red ink 29 in a region defined by the frame black matrix 28a and the resist pattern 27.
Discharges green ink and blue ink. Red ink 2
9. The green ink and the blue ink are, for example, acrylic pigment-dispersed inks having a viscosity of 3 to 10 cP. 8 (a) to 9 (b) show only the area where the red ink is ejected for convenience, the green ink and the blue ink are ejected to an area not shown.
【0058】次いで、全体をプリベークすることによ
り、赤色インク29等のインク内の溶剤を蒸発させる。
これにより、図8(c)に示すように、厚さが例えば
1.0乃至1.5μm程度の赤色カラーフィルタ29
a、緑色カラーフィルタ及び青色カラーフィルタが形成
される。これらの高さは、ブラックマトリクス28及び
額縁ブラックマトリクス28aのそれとほぼ同等であ
る。カラーフィルタを形成した後で平坦化膜26に開口
部を形成する場合には、その間の熱処理によりカラーフ
ィルタが劣化する虞があるが、本第2実施例では、カラ
ーフィルタの形成時には、既に平坦化膜26に開口部が
形成されているので、その虞がない。Next, the solvent in the ink such as the red ink 29 is evaporated by prebaking the whole.
Thereby, as shown in FIG. 8C, the red color filter 29 having a thickness of, for example, about 1.0 to 1.5 μm.
a, A green color filter and a blue color filter are formed. These heights are almost the same as those of the black matrix 28 and the frame black matrix 28a. When an opening is formed in the flattening film 26 after the formation of the color filter, there is a risk that the heat treatment during the opening may cause the deterioration of the color filter. Since the opening is formed in the oxide film 26, there is no danger.
【0059】次に、図9(a)に示すように、レジスト
パターン27を剥離する。Next, as shown in FIG. 9A, the resist pattern 27 is peeled off.
【0060】その後、図9(b)に示すように、ソース
電極20に接続する画素電極31をブラックマトリクス
28並びに赤色カラーフィルタ29a、緑色カラーフィ
ルタ及び青色カラーフィルタ上に形成する。画素電極3
1は、例えば膜厚が600乃至1200ÅのITO膜か
らなる。ソース電極20上の開口部がコンタクトスルー
ホール43となっている。Thereafter, as shown in FIG. 9B, a pixel electrode 31 connected to the source electrode 20 is formed on the black matrix 28, the red color filter 29a, the green color filter and the blue color filter. Pixel electrode 3
1 is formed of, for example, an ITO film having a thickness of 600 to 1200 °. The opening on the source electrode 20 is a contact through hole 43.
【0061】次いで、図10(a)に示すように、画素
電極31上に配向膜32を形成する。配向膜32は、例
えばポリイミド系配向剤を含有し、その膜厚は、例えば
300乃至600Åである。例えば、日産化学社製配向
膜サンエバーシリーズ及びJSR社製オプトマーALシ
リーズが使用可能である。Next, as shown in FIG. 10A, an alignment film 32 is formed on the pixel electrode 31. The alignment film 32 contains, for example, a polyimide alignment agent, and has a thickness of, for example, 300 to 600 °. For example, Nissan Chemical's alignment film Sanever series and JSR's Optmer AL series can be used.
【0062】第2の実施例においても、インクジェット
法により赤色インク29、緑色インク及び青色インクを
吐出する際には、ブラックマトリクス28又は額縁ブラ
ックマトリクス28a及びレジストパターン27からな
る隔壁が存在している。この隔壁の高さは、例えば4乃
至7μm程度であり、従来のものと比して30%以上も
高い。また、ブラックマトリクス28又は額縁マトリク
ス28a及びレジストパターン27中に分散されている
フッ素系界面活性剤は撥インク性を有している。Also in the second embodiment, when the red ink 29, the green ink, and the blue ink are ejected by the ink-jet method, the partition wall composed of the black matrix 28 or the frame black matrix 28a and the resist pattern 27 is present. . The height of this partition is, for example, about 4 to 7 μm, which is 30% or more higher than that of the conventional one. The fluorine-based surfactant dispersed in the black matrix 28 or the frame matrix 28a and the resist pattern 27 has ink repellency.
【0063】従って、第2の実施例においても、インク
の吐出の際にその一部が飛散したとしても、飛沫が隣り
合うカラーフィルタまで到達することはない。これによ
り、混色が防止される。Therefore, also in the second embodiment, even if a part of the ink is scattered during the ejection of the ink, the mist does not reach the adjacent color filters. This prevents color mixing.
【0064】このようにして製造されたCFオンTFT
基板を液晶表示パネルに組み込む場合、配向膜32を形
成した後、図10(a)に示すように、ブラックマトリ
クス28及び額縁ブラックマトリクス28aを包囲する
シール材36を平坦化膜26上に形成する。シール材3
6は、例えばエポキシ系樹脂接着剤からなり、例えば三
井化学社製ストラクトボンドシリーズが使用可能であ
る。また、シール材36には、液晶注入用の孔(図示せ
ず)が設けられている。The CF on TFT thus manufactured
When the substrate is incorporated in the liquid crystal display panel, after forming the alignment film 32, a sealing material 36 surrounding the black matrix 28 and the frame black matrix 28a is formed on the flattening film 26 as shown in FIG. . Seal material 3
6 is made of, for example, an epoxy resin adhesive, and for example, a Struct Bond series manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. can be used. Further, the sealing material 36 is provided with a hole (not shown) for injecting liquid crystal.
【0065】その後、図10(b)に示すように、一方
の表面上に透明共通電極33及び配向膜34が形成され
たガラス基板35を透明共通電極33及び配向膜34が
配向膜32を対向するようにしてシール材36により接
着する。透明共通電極33は、例えばITO(Indium-t
in-oxide)からなり、その膜厚は、例えば800乃至1
500Å、そのシート抵抗は、例えば20乃至40Ω/
□である。配向膜34は、例えばポリイミド系配向剤を
含有し、その膜厚は、例えば300乃至600Åであ
る。例えば、日産化学社製配向膜サンエバーシリーズ及
びJSR社製オプトマーALシリーズが使用可能であ
る。ガラス基板35は、例えば厚さが0.7又は1.1
mmの無アルカリガラス基板である。なお、ガラス基板
35の内側表面には、カップリング処理剤としてのシラ
ン系表面処理剤により処理されていてもよい。その場
合、シラン系表面処理剤としては、例えば東レ社製AP
−400が使用可能である。Thereafter, as shown in FIG. 10B, the glass substrate 35 having the transparent common electrode 33 and the alignment film 34 formed on one surface thereof is opposed to the transparent common electrode 33 and the alignment film 34 which face the alignment film 32. Then, they are adhered by the seal material 36. The transparent common electrode 33 is made of, for example, ITO (Indium-t
in-oxide), and the film thickness is, for example, 800 to 1
500 °, and the sheet resistance is, for example, 20 to 40Ω /
□. The alignment film 34 contains, for example, a polyimide-based alignment agent, and has a thickness of, for example, 300 to 600 °. For example, Nissan Chemical's alignment film Sanever series and JSR's Optmer AL series can be used. The glass substrate 35 has, for example, a thickness of 0.7 or 1.1.
mm non-alkali glass substrate. The inner surface of the glass substrate 35 may be treated with a silane-based surface treatment agent as a coupling treatment agent. In that case, examples of the silane-based surface treatment agent include AP manufactured by Toray Industries, Inc.
-400 can be used.
【0066】続いて、シール材36の孔からその内部に
液晶を注入することにより、液晶層38を形成する。液
晶層38中には面内スペーサ37が分散し、シール材3
6中には、周辺スペーサ(図示せず)が分散している。
面内スペーサ(ミクロパール)37は、例えば径が4.
5乃至5.5μmのジビニルベンゼン系架橋重合体から
なり、周辺スペーサ(マイクロロッド)は、例えば径が
5乃至7μmのガラスファイバからなる。液晶層38
は、例えばフッ素系化合物を含有している。例えば、チ
ッソ石油化学社製LIXONシリーズが使用可能であ
る。液晶を注入した後、シール材36の孔を封孔剤によ
り封止する。封孔剤としては、例えば紫外線(UV)硬
化型アクリレート系樹脂剤が使用可能である。Subsequently, liquid crystal is injected into the inside of the hole of the sealing material 36 to form a liquid crystal layer 38. In-plane spacers 37 are dispersed in the liquid crystal layer 38, and the sealing material 3
In 6, peripheral spacers (not shown) are dispersed.
The in-plane spacer (micropearl) 37 has, for example, a diameter of 4.
The peripheral spacer (micro rod) is made of a glass fiber having a diameter of 5 to 7 μm, for example, made of a divinylbenzene-based crosslinked polymer having a diameter of 5 to 5.5 μm. Liquid crystal layer 38
Contains, for example, a fluorine-based compound. For example, LIXON series manufactured by Chisso Petrochemical Co., Ltd. can be used. After injecting the liquid crystal, the holes of the sealing material 36 are sealed with a sealing agent. As the sealing agent, for example, an ultraviolet (UV) curable acrylate-based resin agent can be used.
【0067】その後、両ガラス基板11及び35の液晶
層38とは反対側の表面上に偏光板を貼り付けることに
より、液晶表示パネルを完成させる。図11は本発明の
第2の実施例により製造されたCFオンTFT基板を備
えた液晶表示パネルの構造を示す断面図であり、図12
はCFオンTFT基板を備えた液晶表示パネルの画素部
におけるカラーフィルタとブラックマトリクスとの位置
関係を示す模式的平面図である。なお、図11は図12
のA−A線の位置の断面を1画素分図示したものであ
る。Thereafter, a polarizing plate is attached to the surfaces of the glass substrates 11 and 35 opposite to the liquid crystal layer 38 to complete the liquid crystal display panel. FIG. 11 is a sectional view showing the structure of a liquid crystal display panel provided with a CF-on TFT substrate manufactured according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic plan view showing a positional relationship between a color filter and a black matrix in a pixel portion of a liquid crystal display panel including a CF-on TFT substrate. FIG. 11 is the same as FIG.
Is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.
【0068】第2の実施例により製造されたCFオンT
FT基板を備えた液晶表示パネルにおいては、図11に
示すように、両ガラス基板11及び35の液晶層38と
は反対側の表面上に夫々偏光板39及び40が貼り付け
られている。The CF on T manufactured according to the second embodiment
In a liquid crystal display panel provided with an FT substrate, as shown in FIG. 11, polarizing plates 39 and 40 are attached to the surfaces of both glass substrates 11 and 35 opposite to the liquid crystal layer 38, respectively.
【0069】図12に示すように、赤色カラーフィルタ
29a、緑色カラーフィルタ42及び青色カラーフィル
タ41はブラックマトリクス28により区画されてい
る。そして、区画されたカラーフィルタ毎に画素電極と
TFTのソース電極とを接続するためのコンタクトスル
ーホール43が設けられている。As shown in FIG. 12, the red color filter 29a, the green color filter 42 and the blue color filter 41 are partitioned by the black matrix 28. A contact through hole 43 for connecting the pixel electrode and the source electrode of the TFT is provided for each of the divided color filters.
【0070】なお、第2の実施例においては、ブラック
マトリクス28及び額縁ブラックマトリクス28a並び
にレジストパターン27に撥インク剤として界面活性剤
が含有されているが、本発明はこれに限定されるもので
はない。なお、ブラックマトリクス28上に形成された
配向膜32がインクにはじかれることを防止するために
ブラックマトリクス28の表面に親インク処理を施す
と、黒色樹脂膜とレジストとの界面にインクが流れ込ん
でしまう虞があるので、CFオンTFT基板に適用する
場合には、黒色樹脂膜及びレジスト膜の両方に撥インク
処理が施されていることが好ましい。In the second embodiment, the black matrix 28, the frame black matrix 28a and the resist pattern 27 contain a surfactant as an ink repellent, but the present invention is not limited to this. Absent. When the surface of the black matrix 28 is subjected to an ink-philic treatment in order to prevent the alignment film 32 formed on the black matrix 28 from being repelled by the ink, the ink flows into the interface between the black resin film and the resist. When applied to a CF-on-TFT substrate, it is preferable that both the black resin film and the resist film have been subjected to an ink-repellent treatment.
【0071】また、平坦化膜26を形成した後で黒色樹
脂膜を形成する前に、平坦化膜26に親インク処理を施
してもよい。第1の実施例と同様に、例えば、ヘキサメ
チルジシラザン(HMDS)等を平坦化膜26の表面に
塗布又は付着させればよい。Further, after forming the flattening film 26 and before forming the black resin film, the flattening film 26 may be subjected to an ink-philic treatment. As in the first embodiment, for example, hexamethyldisilazane (HMDS) or the like may be applied or adhered to the surface of the flattening film 26.
【0072】次に、本発明の実施例による混色の防止の
効果について、従来例と比較して説明する。図13
(a)は本発明の第1の実施例により製造された液晶表
示パネル用基板を示す模式図、(b)は従来の方法によ
り製造された液晶表示パネル用基板を示す模式図であ
る。Next, the effect of preventing color mixing according to the embodiment of the present invention will be described in comparison with a conventional example. FIG.
(A) is a schematic diagram showing a liquid crystal display panel substrate manufactured by the first embodiment of the present invention, and (b) is a schematic diagram showing a liquid crystal display panel substrate manufactured by a conventional method.
【0073】図13(a)に示すように、第1の実施例
により製造された基板においては、緑色カラーフィルタ
51、赤色カラーフィルタ52及び青色カラーフィルタ
53の間でどこにも混色は発生しなかったが、従来の方
法により製造された基板においては、図13(b)に示
すように、緑色カラーフィルタ61と赤色カラーフィル
タ62との間で混色が発生し、混色部61a及び62a
が観察された。なお、青色カラーフィルタ63には、混
色はなかった。As shown in FIG. 13A, in the substrate manufactured according to the first embodiment, no color mixture occurs between the green color filter 51, the red color filter 52 and the blue color filter 53 anywhere. However, in the substrate manufactured by the conventional method, as shown in FIG. 13B, color mixture occurs between the green color filter 61 and the red color filter 62, and the color mixture portions 61a and 62a
Was observed. The blue color filter 63 had no color mixture.
【0074】[0074]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
ブラックマトリクスにより区画された領域内にカラーフ
ィルタをインクジェット法により形成する際に、ブラッ
クマトリクス位置におけるレジスト膜及び黒色樹脂膜か
らなる高い隔壁が存在しているので、隣り合うカラーフ
ィルタ間での混色を防止することができる。また、レジ
ストパターンに予め撥インク処理を施しておくことによ
り、その効果を高めることができる。更に、ブラックマ
トリクスに予め撥インク処理を施しておくことにより、
カラーフィルタの原料となるインクの拡がり具合を良好
なものにすることができる。更にまた、カラーフィルタ
の原料として顔料系のインクを使用することにより、色
の選択の幅を広げることができる。As described in detail above, according to the present invention,
When a color filter is formed in an area defined by a black matrix by an inkjet method, a high partition wall made of a resist film and a black resin film at a black matrix position is present, so that color mixing between adjacent color filters is performed. Can be prevented. In addition, the effect can be enhanced by performing an ink-repellent treatment on the resist pattern in advance. Furthermore, by performing the ink repellent treatment on the black matrix in advance,
It is possible to improve the spread of the ink serving as the raw material of the color filter. Furthermore, by using a pigment-based ink as a raw material for a color filter, the range of color selection can be expanded.
【0075】また、レジストパターン及びブラックマト
リクスに予め撥インク処理を施しておくことにより、レ
ジスト膜とブラックマトリクスとの界面にインクが流れ
込むことを防止することができる。Further, by performing the ink repellent treatment on the resist pattern and the black matrix in advance, it is possible to prevent the ink from flowing into the interface between the resist film and the black matrix.
【図1】(a)乃至(c)は本発明の第1の実施例に係
るカラーフィルタを備えた液晶表示パネル用基板の製造
方法を工程順に示す断面図である。FIGS. 1A to 1C are sectional views showing a method for manufacturing a liquid crystal display panel substrate having a color filter according to a first embodiment of the present invention in the order of steps.
【図2】(a)乃至(c)は、同じく本発明の第1の実
施例を示す図であって、図1(a)乃至(c)に示す工
程の次工程を工程順に示す断面図である。FIGS. 2 (a) to 2 (c) are views showing a first embodiment of the present invention, and are cross-sectional views showing steps subsequent to the steps shown in FIGS. 1 (a) to 1 (c) in the order of steps; It is.
【図3】(a)乃至(c)は、同じく本発明の第1の実
施例を示す図であって、図2(a)乃至(c)に示す工
程の次工程を工程順に示す断面図である。FIGS. 3A to 3C are views showing a first embodiment of the present invention, and are cross-sectional views showing the steps subsequent to the steps shown in FIGS. 2A to 2C in the order of steps; It is.
【図4】本発明の第1の実施例により製造されたカラー
フィルタ基板を備えたTN方式の液晶表示パネルの構造
を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a structure of a TN type liquid crystal display panel including a color filter substrate manufactured according to the first embodiment of the present invention.
【図5】同じくTN方式の液晶表示パネルの構造を示す
模式的平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view showing the structure of a TN mode liquid crystal display panel.
【図6】本発明の第1の実施例により製造されたカラー
フィルタ基板を備えたIPS方式の液晶表示パネルの構
造を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a structure of an IPS type liquid crystal display panel including a color filter substrate manufactured according to the first embodiment of the present invention.
【図7】(a)乃至(c)は本発明の第2の実施例に係
るCFオンTFT基板の製造方法を工程順に示す断面図
である。FIGS. 7A to 7C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a CF on TFT substrate according to a second embodiment of the present invention in the order of steps.
【図8】(a)乃至(c)は、同じく本発明の第2の実
施例を示す図であって、図7(a)乃至(c)に示す工
程の次工程を工程順に示す断面図である。FIGS. 8A to 8C are views showing a second embodiment of the present invention, and are cross-sectional views showing the steps subsequent to the steps shown in FIGS. 7A to 7C in the order of steps; It is.
【図9】(a)及び(b)は、同じく本発明の第2の実
施例を示す図であって、図8(a)乃至(c)に示す工
程の次工程を工程順に示す断面図である。FIGS. 9 (a) and 9 (b) are views showing a second embodiment of the present invention, and are cross-sectional views showing steps subsequent to the steps shown in FIGS. 8 (a) to 8 (c) in the order of steps. It is.
【図10】(a)及び(b)は、同じく本発明の第2の
実施例を示す図であって、図9(a)及び(b)に示す
工程の次工程を工程順に示す断面図である。FIGS. 10 (a) and (b) are views showing a second embodiment of the present invention, and are cross-sectional views showing steps subsequent to the steps shown in FIGS. 9 (a) and (b) in the order of steps; It is.
【図11】本発明の第2の実施例により製造されたCF
オンTFT基板を備えた液晶表示パネルの構造を示す断
面図である。FIG. 11 shows a CF manufactured according to the second embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal display panel provided with the ON TFT substrate.
【図12】CFオンTFT基板を備えた液晶表示パネル
の画素部におけるカラーフィルタとブラックマトリクス
との位置関係を示す模式的平面図である。FIG. 12 is a schematic plan view showing a positional relationship between a color filter and a black matrix in a pixel portion of a liquid crystal display panel including a CF-on TFT substrate.
【図13】(a)は本発明の第1の実施例により製造さ
れた液晶表示パネル用基板を示す模式図、(b)は従来
の方法により製造された液晶表示パネル用基板を示す模
式図である。13A is a schematic diagram showing a liquid crystal display panel substrate manufactured according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 13B is a schematic diagram showing a liquid crystal display panel substrate manufactured by a conventional method. It is.
【図14】(a)及び(b)は第1の従来例に係るカラ
ーフィルタの製造方法を工程順に示す断面図である。14A and 14B are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a color filter according to a first conventional example in the order of steps.
【図15】(a)及び(b)は第2の従来例に係るカラ
ーフィルタの製造方法を工程順に示す断面図である。FIGS. 15A and 15B are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a color filter according to a second conventional example in the order of steps.
1;ガラス基板 2;黒色樹脂膜 2a;ブラックマトリクス 3;レジスト膜 3a;レジストパターン 4;赤色インク 4a;赤色カラーフィルタ 5;緑色インク 5a;緑色カラーフィルタ 6;青色インク 6a;青色カラーフィルタ 7;配向膜 11、35;ガラス基板 16;ゲート電極 17;ゲート絶縁膜 18;半導体層 19;ドレイン電極 20;ソース電極 23;パッシベーション膜 25;引出し端子 26;平坦化膜 27;レジストパターン 28、28a;ブラックマトリクス 29;赤色インク 29a、52、62;赤色カラーフィルタ 31;画素電極 32、34;配向膜 33;透明共通電極 36;シール材 37;スペーサ 38;液晶層 39、40;偏光板 41、53、63;青色カラーフィルタ 42、51、61;緑色カラーフィルタ 43;コンタクトスルーホール 61a、61b;混色部 71、81;ガラス基板 72、82;ブラックマトリクス 73;レジストパターン 74、75、76、84、85、86;インク 74a、75a、76a、84a、85a、86a;カ
ラーフィルタ 87;親インク膜 88;撥インク処理部 101、102;透明基板 103;液晶層 104、124;透明共通電極 105、114;偏光板 106;ゲート電極 107;ゲート絶縁膜 108;半導体層 109;ドレイン電極 110;ソース電極 111、131;画素電極 112;配向膜 113、133;パッシベーション膜 115;引出し端子 116;シール材 116a;孔 117;スペーサ 118;封孔剤 119R、119G、119B;開口部Reference Signs List 1: glass substrate 2: black resin film 2a; black matrix 3: resist film 3a; resist pattern 4: red ink 4a; red color filter 5; green ink 5a; green color filter 6; blue ink 6a; Alignment film 11, 35; glass substrate 16; gate electrode 17; gate insulating film 18; semiconductor layer 19; drain electrode 20; source electrode 23; passivation film 25; extraction terminal 26; flattening film 27; resist pattern 28, 28a; Black matrix 29; Red ink 29a, 52, 62; Red color filter 31; Pixel electrodes 32, 34; Alignment film 33; Transparent common electrode 36; Sealing material 37; Spacer 38; Liquid crystal layer 39, 40; Polarizing plates 41, 53 , 63; blue color filters 42, 51, 61; green Color filters 43; contact through holes 61a, 61b; mixed color portions 71, 81; glass substrates 72, 82; black matrix 73; resist patterns 74, 75, 76, 84, 85, 86; inks 74a, 75a, 76a, 84a; 85a, 86a; color filter 87; ink-philic film 88; ink-repellent processing units 101, 102; transparent substrate 103; liquid crystal layers 104, 124; transparent common electrodes 105, 114; polarizing plate 106; gate electrode 107; A semiconductor layer 109; a drain electrode 110; a source electrode 111, 131; a pixel electrode 112; an alignment film 113, 133; a passivation film 115; a lead terminal 116; a sealing material 116a; a hole 117; a spacer 118; a sealing agent 119R, 119G; 119B; opening
フロントページの続き (72)発明者 坂本 道昭 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA64 BB02 BB13 BB14 BB23 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FB06 FB08 FC01 FC26 LA15 LA16 Continuation of front page (72) Inventor Michiaki Sakamoto 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo F-term in NEC Corporation (reference) 2H048 BA64 BB02 BB13 BB14 BB23 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FB06 FB08 FC01 FC26 LA15 LA16
Claims (8)
黒色樹脂膜を形成する工程と、前記黒色樹脂膜上にレジ
スト膜を形成する工程と、前記レジスト膜のカラーフィ
ルタが設けられる位置に開口部を設けることによりレジ
ストパターンを形成する工程と、前記レジストパターン
をマスクとして前記黒色樹脂膜をエッチングすることに
よりブラックマトリクスを形成する工程と、前記ブラッ
クマトリクス位置における前記レジスト膜及び前記黒色
樹脂膜を隔壁として区画された領域内にカラーフィルタ
をインクジェット法により形成する工程と、を有するこ
とを特徴とするカラーフィルタを備えた液晶表示パネル
用基板の製造方法。A step of forming a black resin film serving as a black matrix on a transparent substrate; a step of forming a resist film on the black resin film; and forming an opening in the resist film at a position where a color filter is provided. A step of forming a resist pattern by providing, a step of forming a black matrix by etching the black resin film using the resist pattern as a mask, and using the resist film and the black resin film at the black matrix position as partition walls Forming a color filter in the partitioned area by an ink-jet method. A method for manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel provided with a color filter.
記透明基板に前記カラーフィルタの原料となるインクが
なじみやすくなる親インク処理を施す工程を有すること
を特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタを備えた
液晶表示パネル用基板の製造方法。2. The method according to claim 1, further comprising, before the step of forming the black resin film, a step of performing an ink-philic treatment on the transparent substrate so that the ink as a raw material of the color filter can be easily applied. A method for manufacturing a liquid crystal display panel substrate provided with the color filter of the above.
る工程と、前記透明基板上に前記薄膜トランジスタを覆
う平坦化膜を形成する工程と、前記平坦化膜上にブラッ
クマトリクスとなる黒色樹脂膜を形成する工程と、前記
黒色樹脂膜上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジ
スト膜のカラーフィルタが設けられる位置に開口部を設
けることによりレジストパターンを形成する工程と、前
記レジストパターンをマスクとして前記黒色樹脂膜をエ
ッチングすることによりブラックマトリクスを形成する
工程と、前記ブラックマトリクス位置における前記レジ
スト膜及び前記黒色樹脂膜を隔壁として区画された領域
内にカラーフィルタをインクジェット法により形成する
工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタを備
えた液晶表示パネル用基板の製造方法。3. A step of forming a thin film transistor on a transparent substrate, a step of forming a flattening film covering the thin film transistor on the transparent substrate, and forming a black resin film serving as a black matrix on the flattening film. A step of forming a resist film on the black resin film, a step of forming a resist pattern by providing an opening in the resist film at a position where a color filter is provided, and the step of forming the resist pattern as a mask using the black Forming a black matrix by etching a resin film, and forming a color filter by an inkjet method in a region defined by the resist film and the black resin film as a partition at the black matrix position. Liquid crystal display panel having a color filter characterized by the following: Of manufacturing substrates for
記平坦化膜に前記カラーフィルタの原料となるインクが
なじみやすくなる親インク処理を施す工程を有すること
を特徴とする請求項3に記載のカラーフィルタを備えた
液晶表示パネル用基板の製造方法。4. The method according to claim 3, further comprising, before the step of forming the black resin film, a step of subjecting the flattening film to an ink-philic treatment for facilitating the ink used as the raw material of the color filter. A method for manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel provided with the color filter described above.
タの原料となるインクをはじきやすくする撥インク処理
が施されていることを特徴とする請求項1又は2に記載
のカラーフィルタを備えた液晶表示パネル用基板の製造
方法。5. The liquid crystal having a color filter according to claim 1, wherein the resist film is subjected to an ink-repellent treatment for facilitating repelling of an ink serving as a material of the color filter. A method for manufacturing a display panel substrate.
タの原料となるインクをはじきやすくする撥インク処理
が施されていることを特徴とする請求項1乃至3のいず
れか1項に記載のカラーフィルタを備えた液晶表示パネ
ル用基板の製造方法。6. The black resin film according to claim 1, wherein the black resin film is subjected to an ink-repellent treatment for facilitating repelling of an ink used as a raw material of the color filter. A method for manufacturing a liquid crystal display panel substrate provided with a color filter.
であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項
に記載のカラーフィルタを備えた液晶表示パネル用基板
の製造方法。7. The black resin film has a thickness of 1 to 3 μm.
A method for manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel having a color filter according to any one of claims 1 to 6.
インクを使用することを特徴とする請求項1乃至7のい
ずれか1項に記載のカラーフィルタを備えた液晶表示パ
ネル用基板の製造方法。8. The method for manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel having a color filter according to claim 1, wherein a pigment-based ink is used as a raw material of the color filter.
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JP2007156073A (en) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Seiko Epson Corp | Manufacturing method of color filter substrate, color filter substrate, electrooptical device and electronic equipment |
JP2007188086A (en) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Icf Technology Co Ltd | Color filter partition, method for producing the same and color filter |
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Cited By (14)
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---|---|---|---|---|
JP2002341128A (en) * | 2001-05-15 | 2002-11-27 | Toray Ind Inc | Method for manufacturing color filter and liquid crystal display element |
KR100459393B1 (en) * | 2001-10-24 | 2004-12-03 | 엘지전자 주식회사 | Color filter for lcd and manufacturing method thereof |
KR20030044663A (en) * | 2001-11-30 | 2003-06-09 | 주식회사 엘지이아이 | Color filter for lcd and manufacturing method thereof |
JP2003315829A (en) * | 2002-04-22 | 2003-11-06 | Seiko Epson Corp | Production method of device, device and electronic appliance |
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JP2007156073A (en) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Seiko Epson Corp | Manufacturing method of color filter substrate, color filter substrate, electrooptical device and electronic equipment |
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