JP2001035160A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2001035160A
JP2001035160A JP11356089A JP35608999A JP2001035160A JP 2001035160 A JP2001035160 A JP 2001035160A JP 11356089 A JP11356089 A JP 11356089A JP 35608999 A JP35608999 A JP 35608999A JP 2001035160 A JP2001035160 A JP 2001035160A
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隆司 河野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an internal potential generating circuit capable of reducing power consumption while maintaining high-speed operation. SOLUTION: First and second buffer circuits 2042 and 2052 generate first and second reference potentials Vref1B and Vref2B. While sense operation is not performed, the level of a reference potential VrefM is turned into potential Vref1B by a switching circuit 2100 and while sense operation is performed, that level is turned into lower potential Vref2B. The buffer circuits 2042 and 2052 are controlled by a signal PUM so as to increase a through current just for a prescribed period when starting and ending the sense operation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、外部電源電位を
受けて、内部電源電位を発生する内部電位発生回路を備
える半導体装置の構成に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having an internal potential generating circuit for generating an internal power potential in response to an external power potential.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯型情報端末等の普及が著しい
結果、これらの機器に搭載される記憶素子には、バッテ
リ駆動で長時間動作可能なことが要求される。
2. Description of the Related Art In recent years, as portable information terminals and the like have become remarkably widespread, storage elements mounted on these devices are required to be able to operate for a long time on a battery.

【0003】ビット単価が低いことから、このような記
憶素子としては、ダイナミック型ランダムアクセスメモ
リ(以下、DRAMと呼ぶ)が、携帯型情報端末装置に
搭載される場合が多い。しかしながら、このDRAMに
書込まれたデータは、放置されると次第に失われていく
ために、リフレッシュ動作と呼ばれるデータ保持のため
の動作が必要となる。
[0003] Because of the low bit unit cost, a dynamic random access memory (hereinafter referred to as DRAM) is often mounted on a portable information terminal device as such a storage element. However, since the data written in the DRAM is gradually lost if left unattended, an operation for data retention called a refresh operation is required.

【0004】リフレッシュ動作時に、DRAMにおいて
消費される電流Iccsrを低減するための方法の1つ
として、定常的に電流が流れる回路部分の設計を最適化
することにより、この回路部分に流れる定常的な貫通電
流を削減することが挙げられる。また、いわゆる待機時
電流Iccsも低いことが好ましく、この場合も、上述
したような定常的貫通電流の削減が重要になる。以下で
は、DRAMにおいて、このような定常電流が流れる回
路として、DRAMの内部電位を発生する内部電位生成
回路を例にとって説明していくことにする。
One of the methods for reducing the current Iccsr consumed in a DRAM during a refresh operation is to optimize the design of a circuit portion through which a constant current flows so as to reduce a constant current flowing through the circuit portion. Reducing the through current may be mentioned. Further, the so-called standby current Iccs is also preferably low. In this case as well, it is important to reduce the steady-state through current as described above. In the following, a description will be given of an internal potential generation circuit that generates an internal potential of a DRAM as an example of a circuit in which such a steady current flows in a DRAM.

【0005】内部電位生成回路は、外部電源電圧より低
い一定電位をDRAMの内部回路に供給するために、D
RAMの動作時電流の削減に大きく寄与する。特に、リ
フレッシュ動作時に消費される電流Iccsrを削減す
るという意味で、内部電位生成回路から出力される内部
電源電位Vddsをより低く設定することは重要であ
る。
The internal potential generation circuit supplies a constant potential lower than the external power supply voltage to the internal circuit of the DRAM.
This greatly contributes to a reduction in the operating current of the RAM. In particular, in order to reduce the current Iccsr consumed during the refresh operation, it is important to set the internal power supply potential Vdds output from the internal potential generation circuit lower.

【0006】図17は、DRAMのセンスアンプ回路S
/Aに内部電源電位Vddsを供給するためのセンス用
電圧変換回路8040を含む従来の内部電位生成回路8
000の構成を説明するための概略ブロック図である。
FIG. 17 shows a sense amplifier circuit S of a DRAM.
/ A including internal voltage generator 8040 for supplying internal power supply potential Vdds to / A.
000 is a schematic block diagram for explaining the configuration of the 000.

【0007】従来の内部電位生成回路8000は、外部
電源電位Vccと接地電位Vssとを受けて動作し、こ
の内部電位生成回路8000の貫通電流値を規定するた
めのバイアス電位VBHおよびVBLを生成する定電流
源8010と、外部電源電位Vccと接地電位Vssと
を受けて動作し、バイアス電位VBHに応じて内部電源
電位Vddsを生成するための参照電位Vrefを生成
するVref発生回路8020と、バイアス電位VBL
および参照電位Vrefとを受けて、内部電源電位Vd
dsを生成するための基準電位VrefMを生成するバ
ッファ回路8030と、基準電位VrefMを受けて、
信号QONにより活性化され、内部電源電位Vddsを
出力する電圧変換回路8040とを備える。
Conventional internal potential generation circuit 8000 operates in response to external power supply potential Vcc and ground potential Vss, and generates bias potentials VBH and VBL for defining a through current value of internal potential generation circuit 8000. A constant current source 8010, a Vref generating circuit 8020 which operates in response to external power supply potential Vcc and ground potential Vss, generates reference potential Vref for generating internal power supply potential Vdds in accordance with bias potential VBH, and bias potential VBL
Receiving the internal power supply potential Vd
a buffer circuit 8030 that generates a reference potential VrefM for generating ds, and a buffer circuit 8030 that receives the reference potential VrefM,
A voltage conversion circuit 8040 which is activated by the signal QON and outputs the internal power supply potential Vdds.

【0008】図17に示した例においては、センスアン
プS/Aは、信号ZS0Pにより制御されるpチャネル
MOSトランジスタTP0を介して内部電源電位Vdd
sが供給され、信号S0Nにより制御されるnチャネル
MOSトランジスタTN0を介して接地電位Vssが供
給される。
In the example shown in FIG. 17, sense amplifier S / A supplies internal power supply potential Vdd via p-channel MOS transistor TP0 controlled by signal ZS0P.
s is supplied, and the ground potential Vss is supplied via an n-channel MOS transistor TN0 controlled by the signal S0N.

【0009】センスアンプS/Aはビット線対BLおよ
び/BLを介して、複数のメモリセルMCと接続してい
る。図17においては、例示として、センスアンプS/
Aとビット線BLを介して接続するメモリセルMCのみ
を示している。ビット線対BLおよび/BLとの間に
は、信号BLEQに応じて、ビット線対BLおよび/B
Lの電位レベルをイコライズし、かつプリチャージ電位
レベルとするためのプリチャージ/イコライズ回路81
00が設けられている。
The sense amplifier S / A is connected to a plurality of memory cells MC via a pair of bit lines BL and / BL. In FIG. 17, as an example, the sense amplifier S /
Only the memory cell MC connected to A via the bit line BL is shown. Bit line pair BL and / B is provided between bit line pair BL and / BL according to signal BLEQ.
A precharge / equalize circuit 81 for equalizing the L potential level and attaining the precharge potential level
00 is provided.

【0010】ビット線対BLと接続するメモリセルMC
は、ワード線WLの電位レベルに応じて開閉するメモリ
セルトランジスタTMと、一方端がセルプレート電位V
CPと結合し、他方端がトランジスタTMを介してビッ
ト線対BLと結合可能なメモリセルキャパシタCsとを
含む。ここで、セルプレート電位は、一般には、メモリ
セルキャパシタに蓄えられる“H”レベルデータに対応
する電位の1/2の値とされる。
Memory cell MC connected to bit line pair BL
Is a memory cell transistor TM that opens and closes according to the potential level of the word line WL, and a cell plate potential V
A memory cell capacitor Cs coupled to CP and having the other end coupled to bit line pair BL via transistor TM is included. Here, the cell plate potential is generally set to a value of 1 / of the potential corresponding to “H” level data stored in the memory cell capacitor.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】図17に示したような
構成では、上述したとおり、外部電源電位よりも低い内
部電源電位VddsがセンスアンプS/Aに供給される
ために、動作時電流の削減が達成される。
In the configuration shown in FIG. 17, as described above, since the internal power supply potential Vdds lower than the external power supply potential is supplied to the sense amplifier S / A, the current during operation is reduced. Reduction is achieved.

【0012】しかしながら、センス動作の開始時におい
て、内部電源電位Vddsのレベルが低いことは、セン
スアンプS/Aを構成するトランジスタのゲート−ソー
ス間電位Vgsを小さくすることになる。このことは、
センスアンプS/Aによるセンス動作の遅延をもたら
す。
However, the low level of the internal power supply potential Vdds at the start of the sensing operation reduces the potential Vgs between the gate and the source of the transistor constituting the sense amplifier S / A. This means
This causes a delay in the sensing operation by the sense amplifier S / A.

【0013】また、チップ面積が小さくなるにつれて、
電圧変換回路8040からセンスアンプS/Aに至る配
線上に存在するデカップル容量Cpbと、センス動作を
行なう際にビット線BLおよび/BLにおいて充放電さ
れる容量Cbとの比Cpb/Cbは小さくなる傾向にあ
る。すなわち、センス動作の開始前において、上記容量
Cpbには内部電源電位Vddsの電位レベルが保持さ
れている。このような状態のもと、センス動作の開始か
ら実際に電圧変換回路8040が、所定レベルの内部電
源電位Vddsを供給し始めるまでの期間においては、
容量Cpbから充放電容量Cbに電荷が供給されること
になる。このため、容量比Cpb/Cbが小さくなると
いうことは、センスアンプS/Aに供給される内部電源
電位Vddsレベルの所望レベルからの過渡的な低下の
割合が大きくなることを意味する。
As the chip area becomes smaller,
The ratio Cpb / Cb of the decoupling capacitance Cpb existing on the wiring from the voltage conversion circuit 8040 to the sense amplifier S / A to the capacitance Cb charged and discharged in the bit lines BL and / BL when performing the sensing operation is reduced. There is a tendency. That is, before the start of the sensing operation, the potential level of the internal power supply potential Vdds is held in the capacitor Cpb. Under such a state, during the period from the start of the sensing operation to the time when the voltage conversion circuit 8040 actually starts to supply the internal power supply potential Vdds at a predetermined level,
Charge is supplied from the capacitance Cpb to the charge / discharge capacitance Cb. Therefore, a decrease in the capacitance ratio Cpb / Cb means that the ratio of the level of the internal power supply potential Vdds supplied to the sense amplifier S / A to the transient level from the desired level increases.

【0014】このような内部電源電位Vddsレベルの
過渡的な低下が大きくなることは、上述のようにセンス
動作の遅延が大きくなることを意味する。そこで、この
ようなセンス動作の遅延を抑制するために、内部電源電
位Vddsが過渡的に低下している期間を短くしようと
すると、内部電位生成回路8000の電流供給能力を、
上記のような過渡的期間においても高める必要がある。
このことは、内部内部電位生成回路8000の待機時電
流値の増加に繋がってしまうという問題点があった。
An increase in such a transient decrease in the level of the internal power supply potential Vdds means an increase in the delay of the sensing operation as described above. In order to suppress such a delay in the sensing operation, if the period during which the internal power supply potential Vdds is transiently reduced is to be shortened, the current supply capability of the internal potential generation circuit 8000 is reduced.
It is necessary to increase even in the above-mentioned transition period.
This leads to an increase in the standby current value of the internal internal potential generation circuit 8000.

【0015】この発明は、上記のような問題点を解決す
るためになされたものであって、その目的は、内部降圧
回路から出力される内部電源電位レベルの過渡的な変動
を抑制しつつ、待機時電流値を抑制することが可能な内
部電位発生回路を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to suppress the transient fluctuation of the internal power supply potential level output from the internal voltage down converter while suppressing the fluctuation. An object of the present invention is to provide an internal potential generating circuit capable of suppressing a standby current value.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の半導体装
置は、電源電位を受けて、複数の基準電位のうちのいず
れか一つを選択的に、動作モードに応じて切換えて出力
する基準電位生成回路を備え、基準電位生成回路は、複
数の基準電位をそれぞれ生成し、かつ、動作モードの切
換えに応じて少なくとも所定期間電流駆動能力を増加さ
せる複数の電位発生回路と、複数の電位発生回路の出力
を受けて、動作モードに応じて切換えて出力する切換回
路とを含み、基準電位生成回路の出力に基づいて動作す
る内部回路をさらに備える。
According to a first aspect of the present invention, a semiconductor device receives a power supply potential and selectively outputs any one of a plurality of reference potentials in accordance with an operation mode. A plurality of potential generation circuits, each of which generates a plurality of reference potentials and increases current driving capability for at least a predetermined period according to switching of an operation mode; and a plurality of potential generation circuits. A switching circuit for receiving an output of the circuit and switching the output according to an operation mode, and further comprising an internal circuit that operates based on an output of the reference potential generation circuit.

【0017】請求項2記載の半導体装置は、請求項1記
載の半導体装置の構成に加えて、電位発生回路の各々
は、生成する基準電位に対応する参照電位を発生する参
照電位生成回路と、参照電位に応じて、基準電位を出力
するバッファ回路とを含み、バッファ回路は、出力ノー
ドと、電源電位を受けて、参照電位に応じて、出力ノー
ドの電位レベルを参照電位レベルに駆動する駆動回路
と、動作モードの切換りに応じて、活性状態である駆動
回路を流れる電流値を少なくとも所定期間切換える電流
制御回路とを有する。
According to a second aspect of the present invention, in addition to the configuration of the semiconductor device of the first aspect, each of the potential generating circuits includes a reference potential generating circuit for generating a reference potential corresponding to the generated reference potential; A buffer circuit that outputs a reference potential according to the reference potential, wherein the buffer circuit receives the output node and the power supply potential, and drives the potential level of the output node to the reference potential level according to the reference potential A current control circuit for switching a current value flowing through the drive circuit in an active state for at least a predetermined period in accordance with the switching of the operation mode.

【0018】請求項3記載の半導体装置は、請求項2記
載の半導体装置の構成に加えて、駆動回路を流れる電流
の経路は、互いに並列な第1および第2の経路を含み、
電流制御回路は、動作モードの切換わりに応じて、所定
期間活性状態となるパルス信号を生成するパルス信号生
成回路と、第2の経路上に設けられ、パルス信号の活性
化に応じて導通状態となるスイッチ回路を有する。
According to a third aspect of the present invention, in addition to the configuration of the semiconductor device of the second aspect, a path of a current flowing through the drive circuit includes first and second paths parallel to each other.
The current control circuit is provided on a second path for generating a pulse signal that is in an active state for a predetermined period in accordance with the switching of the operation mode, and is turned on in response to the activation of the pulse signal. Switch circuit.

【0019】請求項4記載の半導体装置は、請求項2記
載の半導体装置の構成に加えて、駆動回路を流れる電流
の経路は、互いに並列な第1および第2の経路を含み、
電流制御回路は、動作モードに応じて、モード指定信号
を生成するモード信号生成回路と、第2の経路上に設け
られ、モード指定信号の活性化に応じて導通状態となる
スイッチ回路を有する。
According to a fourth aspect of the present invention, in addition to the configuration of the semiconductor device of the second aspect, a path of a current flowing through the drive circuit includes first and second paths parallel to each other.
The current control circuit includes a mode signal generation circuit that generates a mode designation signal according to an operation mode, and a switch circuit provided on the second path and that is turned on in response to activation of the mode designation signal.

【0020】請求項5記載の半導体装置は、内部電位に
より駆動される内部回路と、内部電位を内部回路に伝達
する配線と、電源電位を受けて、第1の電位および第1
の電位よりも高い第2の電位のうちのいずれか一方を選
択的に内部電位として、内部回路の動作モードに応じて
切換えて配線に出力する内部電位発生回路とを備え、内
部電位発生回路は、第1および第2の電位にそれぞれ対
応する第1および第2の基準電位を、動作モードに応じ
て切換えて出力し、かつ、動作モードの切換えに応じて
少なくとも所定期間電流駆動能力を増加させる基準電位
生成回路と、基準電位生成回路の出力を入力ノードに受
け、内部電位を生成する電圧変換回路とを含み、電圧変
換回路は、ゲートが入力ノードと結合するMOSトラン
ジスタを有する。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device driven by an internal potential, a wiring transmitting the internal potential to the internal circuit, and a first potential and a first potential received by a power supply potential.
An internal potential generating circuit that selectively outputs one of the second potentials higher than the internal potential to the wiring by selectively switching the potential to an internal potential according to the operation mode of the internal circuit. , The first and second reference potentials respectively corresponding to the first and second potentials are switched and output according to the operation mode, and the current drivability is increased for at least a predetermined period according to the switching of the operation mode. It includes a reference potential generation circuit and a voltage conversion circuit that receives an output of the reference potential generation circuit at an input node and generates an internal potential. The voltage conversion circuit has a MOS transistor whose gate is coupled to the input node.

【0021】請求項6記載の半導体装置は、請求項5記
載の半導体装置の構成に加えて、基準電位生成回路は、
第1の基準電位に対応する第1の参照電位を発生する第
1の参照電位生成回路と、第2の基準電位に対応する第
2の参照電位を発生する第2の参照電位生成回路と、第
1の参照電位に応じて、第1の基準電位を出力する第1
のバッファ回路と、第2の参照電位に応じて、第2の基
準電位を出力する第2のバッファ回路とを含み、第1の
バッファ回路および第2のバッファ回路の各々は、出力
ノードと、電源電位を受けて、活性状態において自身を
流れる電流値を動作モードの遷移後の少なくとも所定期
間増加させることにより、第1および第2の参照電位の
うち対応する一方の電位に応じて、出力ノードの電位レ
ベルを第1および第2の基準電位のうち対応する一方の
電位レベルに駆動する駆動回路とを有し、第1および第
2のバッファ回路の出力を受けて、動作モードに応じて
いずれか一方を選択的に出力する切換回路をさらに含
む。
According to a sixth aspect of the present invention, in addition to the configuration of the semiconductor device of the fifth aspect, the reference potential generating circuit further comprises:
A first reference potential generation circuit for generating a first reference potential corresponding to the first reference potential, a second reference potential generation circuit for generating a second reference potential corresponding to the second reference potential, A first output of a first reference potential according to the first reference potential;
And a second buffer circuit that outputs a second reference potential according to a second reference potential. Each of the first buffer circuit and the second buffer circuit includes an output node, In response to the power supply potential, the value of the current flowing in the active state in the active state is increased for at least a predetermined period after the transition of the operation mode, so that the output node is set in accordance with one of the first and second reference potentials. And a driving circuit for driving the potential level of one of the first and second reference potentials to a corresponding one of the first and second reference potentials. And a switching circuit for selectively outputting one of them.

【0022】請求項7記載の半導体装置は、請求項6記
載の半導体装置の構成に加えて、駆動回路を流れる電流
の経路は、互いに並列な第1および第2の経路を含み、
駆動回路は、記第2の経路上に設けられ、動作モードの
遷移後の所定期間において活性状態を維持するパルス信
号の活性化に応じて導通状態となるスイッチ回路を有す
る。
According to a seventh aspect of the present invention, in addition to the configuration of the semiconductor device of the sixth aspect, a path of a current flowing through the drive circuit includes first and second paths parallel to each other.
The drive circuit includes a switch circuit provided on the second path, which is turned on in response to activation of a pulse signal that maintains an active state for a predetermined period after a transition of an operation mode.

【0023】請求項8記載の半導体装置は、請求項6記
載の半導体装置の構成に加えて、駆動回路を流れる電流
の経路は、互いに並列な第1および第2の経路を含み、
電流制御回路は、第2の経路上に設けられ、動作モード
を指定するモード指定信号の活性化に応じて導通状態と
なるスイッチ回路を有する。
In the semiconductor device according to the eighth aspect, in addition to the configuration of the semiconductor device according to the sixth aspect, a path of a current flowing through the drive circuit includes first and second paths parallel to each other,
The current control circuit includes a switch circuit that is provided on the second path and that is turned on in response to activation of a mode designation signal that designates an operation mode.

【0024】請求項9記載の半導体装置は、請求項5記
載の半導体装置の構成に加えて、電圧変換回路は、動作
モードの切換わりに先だって、不活性状態から活性状態
となる。
According to a ninth aspect of the present invention, in addition to the configuration of the semiconductor device of the fifth aspect, the voltage conversion circuit is changed from an inactive state to an active state before switching the operation mode.

【0025】請求項10記載の半導体装置は、請求項5
記載の半導体装置の構成に加えて、内部回路は、与えら
れる制御信号に応じて、内部回路の動作を制御する制御
回路と、行列上に配置される複数のダイナミック型メモ
リセルを含むメモリセルアレイと、メモリセルの列に対
応して設けられる複数のビット線対と、アドレス信号に
応じて、メモリセルを選択するメモリセル選択回路と、
選択されたメモリセルに保持されるデータに応じて、選
択されたメモリセルの結合するビット線対の電位を増幅
する複数のセンスアンプと、制御回路に制御されて、セ
ンスアンプへの内部電位の供給を制御するセンスアンプ
駆動回路とを含み、動作モードの切換わりは、センスア
ンプによるセンス動作が活性・不活性に切換わることに
対応する。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device according to the fifth aspect.
In addition to the configuration of the described semiconductor device, the internal circuit includes a control circuit that controls the operation of the internal circuit in accordance with a given control signal, and a memory cell array including a plurality of dynamic memory cells arranged in a matrix. A plurality of bit line pairs provided corresponding to the columns of the memory cells, a memory cell selection circuit for selecting a memory cell according to an address signal,
A plurality of sense amplifiers that amplify the potential of the bit line pair coupled to the selected memory cell in accordance with the data held in the selected memory cell; and a control circuit that controls the internal potential of the sense amplifier. And a sense amplifier driving circuit for controlling the supply. Switching of the operation mode corresponds to switching of the sensing operation by the sense amplifier between active and inactive.

【0026】請求項11記載の半導体装置は、請求項5
記載の半導体装置の構成に加えて、基準電位生成回路
は、第1の基準電位に対応する第1の参照電位を発生す
る第1の参照電位生成回路と、第2の基準電位に対応す
る第2の参照電位を発生する第2の参照電位生成回路
と、第1の参照電位に応じて、第1の基準電位を出力す
る第1のバッファ回路と、第2の参照電位に応じて、第
2の基準電位を出力する第2のバッファ回路とを含み、
第1のバッファ回路および第2のバッファ回路の各々
は、出力ノードと、電源電位を受けて、自身を流れる電
流値をセルフリフレッシュモードが指定されることに応
じて、減少させることにより、第1および第2の参照電
位のうち対応する一方の電位に応じて、出力ノードの電
位レベルを第1および第2の基準電位のうち対応する一
方の電位レベルに駆動する駆動回路とを有し、第1およ
び第2のバッファ回路の出力を受けて、動作モードに応
じていずれか一方を選択的に出力する切換回路をさらに
含み、内部回路は、与えられる制御信号に応じて、内部
回路の動作を制御する制御回路と、行列上に配置される
複数のダイナミック型メモリセルを含むメモリセルアレ
イと、メモリセルの列に対応して設けられる複数のビッ
ト線対と、アドレス信号に応じて、メモリセルを選択す
るメモリセル選択回路と、選択されたメモリセルに保持
されるデータに応じて、選択されたメモリセルの結合す
るビット線対の電位を増幅する複数のセンスアンプと、
制御回路に制御されて、センスアンプへの内部電位の供
給を制御するセンスアンプ駆動回路とを含む。
The semiconductor device according to the eleventh aspect is the fifth aspect.
In addition to the configuration of the semiconductor device described above, the reference potential generation circuit includes a first reference potential generation circuit that generates a first reference potential corresponding to the first reference potential, and a first reference potential generation circuit that generates a first reference potential corresponding to the second reference potential. A second reference potential generating circuit for generating a second reference potential, a first buffer circuit for outputting a first reference potential in accordance with the first reference potential, and a second reference potential in response to a second reference potential. A second buffer circuit that outputs two reference potentials,
Each of the first buffer circuit and the second buffer circuit receives the output node and the power supply potential, and reduces the value of the current flowing through the first buffer circuit and the second buffer circuit according to the designation of the self-refresh mode. And a drive circuit for driving the potential level of the output node to the corresponding one of the first and second reference potentials according to the corresponding one of the second reference potentials. A switching circuit that receives the outputs of the first and second buffer circuits and selectively outputs one of them according to an operation mode, wherein the internal circuit controls the operation of the internal circuit in response to a given control signal; A control circuit for controlling, a memory cell array including a plurality of dynamic memory cells arranged in a matrix, a plurality of bit line pairs provided corresponding to the columns of the memory cells, and an address. And a plurality of sense amplifiers that amplify the potential of a bit line pair coupled to the selected memory cell in accordance with data held in the selected memory cell. When,
A sense amplifier driving circuit controlled by the control circuit to control supply of the internal potential to the sense amplifier.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】[実施の形態1]図1は、本発明
の実施の形態1のDRAM1000の全体構成を示す概
略ブロック図である。
[First Embodiment] FIG. 1 is a schematic block diagram showing an entire configuration of a DRAM 1000 according to a first embodiment of the present invention.

【0028】なお、以下の説明で明らかとなるように、
本発明に係る内部電位発生回路は、図1に示したような
DRAM1000に搭載される場合に限定されることな
く、より一般に、外部電源電圧Vccに基づいて、内部
電源電位を生成する内部電源電位生成回路を備える半導
体装置に適用することが可能である。さらに、内部電位
発生回路としては、以下の説明で例示する降圧回路に限
られることなく、より一般に、昇圧回路であってもよ
い。たとえば、昇圧回路等のレベル検知回路を有する内
部電位発生回路において、検知レベルにヒステリシスを
持たせるために基準電位を切換え、出力する内部電位レ
ベルを切換える場合などに適用することも可能である。
As will be apparent from the following description,
The internal potential generating circuit according to the present invention is not limited to the case where the internal potential generating circuit is mounted on the DRAM 1000 as shown in FIG. 1, and more generally generates an internal power supply potential based on an external power supply voltage Vcc. The present invention can be applied to a semiconductor device including a generation circuit. Further, the internal potential generating circuit is not limited to the step-down circuit exemplified in the following description, but may be a booster circuit in general. For example, in an internal potential generation circuit having a level detection circuit such as a booster circuit, the present invention can be applied to a case where a reference potential is switched to give a hysteresis to a detection level and an output internal potential level is switched.

【0029】図1を参照して、DRAM1000は、外
部クロック信号ext.CLK、行アドレスストローブ
信号/RAS、列アドレスストローブ信号/CAS、ラ
イトイネーブル信号/WE、チップイネーブル信号/C
S、クロックイネーブル信号CKE等の制御信号を受け
る制御信号入力端子群11と、アドレス信号A0〜Ai
(i:自然数)を受けるアドレス入力端子群13と、デ
ータの入出力を行なうデータ入出力端子群15と、外部
電源電位Vccを受けるVcc端子18と接地電位Vs
sを受けるVss端子19とを備える。
Referring to FIG. 1, DRAM 1000 has an external clock signal ext. CLK, row address strobe signal / RAS, column address strobe signal / CAS, write enable signal / WE, chip enable signal / C
S, a control signal input terminal group 11 for receiving control signals such as a clock enable signal CKE, and address signals A0 to Ai
(I: natural number), a data input / output terminal group 15 for inputting / outputting data, a Vcc terminal 18 for receiving an external power supply potential Vcc, and a ground potential Vs
and a Vss terminal 19 for receiving s.

【0030】制御信号入力端子群11に与えられる信号
/CSは、チップへの制御信号の入力を可能とすること
を指示するための信号である。信号CKEは、チップへ
の外部クロック信号ext.CLKの入力を可能とする
ことを指示するための信号である。
Signal / CS applied to control signal input terminal group 11 is a signal for instructing that a control signal can be input to the chip. The signal CKE is an external clock signal ext. This signal indicates that input of CLK is enabled.

【0031】DRAM1000は、さらに、制御信号に
応じてDRAM1000全体の動作を制御する内部制御
信号を発生するコントロール回路26と、内部制御信号
を伝達する内部制御信号バス72と、アドレス入力端子
群13から外部アドレス信号を受けて、内部アドレス信
号を発生するアドレスバッファ30と、行列状に配置さ
れた複数のメモリセルMCを有するメモリセルアレイ1
00とを備える。
DRAM 1000 further includes a control circuit 26 for generating an internal control signal for controlling the entire operation of DRAM 1000 in accordance with the control signal, an internal control signal bus 72 for transmitting the internal control signal, and a group of address input terminals 13. An address buffer 30 that receives an external address signal and generates an internal address signal, and a memory cell array 1 having a plurality of memory cells MC arranged in a matrix
00.

【0032】メモリセルMCは、データを保持するため
のキャパシタと、各行に対応するワード線WLに接続さ
れたゲートを有するアクセストランジスタTMとによっ
て構成される(図示せず)。
Each memory cell MC includes a capacitor for holding data and an access transistor TM having a gate connected to a word line WL corresponding to each row (not shown).

【0033】メモリセルアレイ100においては、メモ
リセルの各行に対してワード線WLが設けられ、メモリ
セルの各列に対してビット線BL,/BLが設けられ
る。
In memory cell array 100, a word line WL is provided for each row of memory cells, and bit lines BL and / BL are provided for each column of memory cells.

【0034】アドレスバス74によって伝達される内部
アドレス信号に応じて、行デコーダ40および列デコー
ダ50によってメモリセルの行および列が選択される。
Row and column of memory cells are selected by row decoder 40 and column decoder 50 according to an internal address signal transmitted by address bus 74.

【0035】行デコーダ40の出力に応じて、ワード線
ドライバ45によって、対応するワード線WLが選択的
に活性化される。列デコーダ50によってコラム選択信
号が活性化される。コラム選択信号は、コラム選択線5
2によって列選択ゲート200に与えられる。列選択ゲ
ート200は、コラム選択信号に応じて、ビット線対B
L,/BLのデータを増幅するセンスアンプ60とI/
O線76とを選択的に接続する。I/O線76は、読出
アンプ/書込ドライバ80および入出力バッファ85を
介して、データ入出力端子15との間で記憶データの伝
達を行なう。これにより、データ入出力端子15とメモ
リセルMCとの間で記憶データの授受が行なわれる。
According to the output of row decoder 40, corresponding word line WL is selectively activated by word line driver 45. The column selection signal is activated by the column decoder 50. The column selection signal is applied to the column selection line 5
2 to the column select gate 200. The column selection gate 200 responds to a column selection signal to
The sense amplifier 60 for amplifying L / BL data and I /
The O line 76 is selectively connected. I / O line 76 transmits stored data to and from data input / output terminal 15 via read amplifier / write driver 80 and input / output buffer 85. Thereby, storage data is transmitted and received between data input / output terminal 15 and memory cell MC.

【0036】コントロール回路は、たとえば、外部制御
信号の組合せによりセルフリフレッシュモードが指定さ
れている場合は、動作モードがセルフリフレッシュモー
ドであることを内部回路に指示するための信号ZSRM
を出力し、セルリフレッシュ動作を行なうための内部ア
ドレスの生成等をおこなって、DRAM1000のセル
フリフレッシュモード動作を制御する。
When the self-refresh mode is designated by a combination of external control signals, control circuit provides signal ZSRM for instructing the internal circuit that the operation mode is the self-refresh mode, for example.
To generate an internal address for performing the cell refresh operation, etc., and control the self-refresh mode operation of the DRAM 1000.

【0037】DRAM1000は、さらに、ビット線対
の“H”レベル電位に対応し、センスアンプ60に供給
される内部電源電位Vddsを発生する内部電位発生回
路2000を備える。
DRAM 1000 further includes an internal potential generating circuit 2000 for generating an internal power supply potential Vdds supplied to sense amplifier 60, corresponding to the "H" level potential of the bit line pair.

【0038】前述したとおり、図1に示したようなDR
AM1000の構成において、内部電位発生回路200
0から供給される内部電源電位Vddsが、センス動作
の開始時に、過渡的に低下することで、センス動作が遅
延するという問題点を解決するためには、まず、内部電
位発生回路2000から、センスアンプS/Aに内部電
源電位を供給する配線上に存在するデカップル容量Cp
bを、予めメモリセルに“H”データとして書込まれる
電位以上にプリチャージしておく構成が考えられる。
As described above, the DR shown in FIG.
In the configuration of AM1000, internal potential generating circuit 200
In order to solve the problem that the internal power supply potential Vdds supplied from 0 drops transiently at the start of the sensing operation, the sensing operation is delayed. Decoupling capacitance Cp existing on the wiring for supplying the internal power supply potential to amplifier S / A
A configuration is considered in which b is precharged to a potential higher than the potential written as "H" data in the memory cell in advance.

【0039】図2は、このようなプリブースト型内部電
位発生回路2000の構成を示す概略ブロック図であ
る。
FIG. 2 is a schematic block diagram showing a configuration of such a preboost type internal potential generating circuit 2000.

【0040】図17に示した従来の内部電位発生回路8
000の構成と異なる点は、基準電位VrefMのレベ
ルが固定値ではなく、動作モードに応じて2つの電位レ
ベルVref1Bと電位Vref2Bのいずれかに切換
わる構成となっていることである。
Conventional internal potential generating circuit 8 shown in FIG.
The difference from the configuration of 000 is that the level of the reference potential VrefM is not a fixed value, but is switched to one of two potential levels Vref1B and Vref2B according to the operation mode.

【0041】図2を参照して、内部電位発生回路200
0は、外部電源電位Vccと接地電位Vssとを受け
て、2つのバイアス電位VBHおよびVBLを生成する
定電流源2010と、バイアス電位VBHを受けて、第
1の参照電位Vref1を発生する第1のVref発生
回路2020と、バイアス電位VBHを受けて、第2の
参照電位Vref2を生成する第2のVref発生回路
2030と、バイアス電位VBLと、第1の参照電位V
ref1とを受けて、第1の基準電位Vref1Bを生
成するバッファ回路2040と、バイアス電位VBL
と、第2の参照電位Vref2とを受けて、第2の基準
電位Vref2Bを生成するバッファ回路2050と、
第1および第2の基準電位Vref1BおよびVref
2Bとを受けて、コントロール回路26により生成され
るモード選択信号CHGに応じて、いずれか一方を基準
電位VrefMとして出力する切換回路2100と、基
準電位VrefMを受けて、センスアンプS/Aに供給
する内部電源電位Vddsを発生する電圧変換回路22
00とを備える。
Referring to FIG. 2, internal potential generating circuit 200
0 is a constant current source 2010 which receives the external power supply potential Vcc and the ground potential Vss and generates two bias potentials VBH and VBL, and a first which generates the first reference potential Vref1 by receiving the bias potential VBH. Vref generation circuit 2020, a second Vref generation circuit 2030 that receives the bias potential VBH and generates a second reference potential Vref2, a bias potential VBL, and a first reference potential V
ref1 and a buffer circuit 2040 that generates a first reference potential Vref1B, and a bias potential VBL
And a buffer circuit 2050 that receives the second reference potential Vref2 and generates a second reference potential Vref2B.
First and second reference potentials Vref1B and Vref
2B in response to the mode selection signal CHG generated by the control circuit 26, the switching circuit 2100 outputs one of them as the reference potential VrefM, and receives the reference potential VrefM and supplies it to the sense amplifier S / A. Voltage conversion circuit 22 for generating internal power supply potential Vdds
00.

【0042】切換回路2100は、信号CHGを受けて
反転信号を生成するインバータ2110と、信号CHG
およびインバータ2110の出力により制御され、第1
の基準電位Vref1Bを受けて、信号CHGが“H”
レベルのときに導通状態となって、基準電位VrefM
として出力するトランスミッションゲート2120と、
信号CHGおよびインバータ2110の出力により制御
され、第2の基準電位Vref2Bを受けて、信号CH
Gが“L”レベルのときに導通状態となって、基準電位
VrefMとして出力するトランスミッションゲート2
130とを含む。
Switching circuit 2100 includes an inverter 2110 that receives signal CHG and generates an inverted signal, and a signal CHG.
And the output of the inverter 2110, the first
Receiving the reference potential Vref1B, the signal CHG becomes “H”.
At the level, and becomes conductive when the reference potential VrefM
A transmission gate 2120 that outputs as
Controlled by signal CHG and the output of inverter 2110, receiving second reference potential Vref2B and receiving signal CHG
Transmission gate 2 which is rendered conductive when G is at "L" level and outputs as reference potential VrefM
130.

【0043】電圧変換回路2200は、内部ノードn1
1と電源電位Vccとの間に直列に接続されるpチャネ
ルMOSトランジスタTP11およびnチャネルMOS
トランジスタTN11と、電源電位Vccと内部ノード
n11との間に直列に接続されるpチャネルMOSトラ
ンジスタTP12およびnチャネルMOSトランジスタ
TN12と、内部ノードn11と接地電位Vssとの間
に接続されるnチャネルMOSトランジスタTN13
と、電源電位VccとトランジスタTN12のゲートと
の間に接続され、トランジスタTP11およびTN11
の接続ノードの電位をゲートに受けるpチャネルMOS
トランジスタTP13とを含む。
Voltage conversion circuit 2200 is connected to internal node n1
P-channel MOS transistor TP11 and n-channel MOS
Transistor TN11, p-channel MOS transistor TP12 and n-channel MOS transistor TN12 connected in series between power supply potential Vcc and internal node n11, and n-channel MOS connected between internal node n11 and ground potential Vss Transistor TN13
And between the power supply potential Vcc and the gate of the transistor TN12, the transistors TP11 and TN11
P-channel MOS receiving at its gate the potential of the connection node of
And a transistor TP13.

【0044】トランジスタTP11およびTP12のゲ
ートは互いに接続され、かつ、トランジスタTP12の
ゲートは、トランジスタTP12のドレインと接続して
いる。
The gates of the transistors TP11 and TP12 are connected to each other, and the gate of the transistor TP12 is connected to the drain of the transistor TP12.

【0045】トランジスタTN11のゲートは、基準電
位VrefMを受け、トランジスタTN12のゲートの
電位レベルが、内部電源電位Vddsに相当する。
The gate of transistor TN11 receives reference potential VrefM, and the potential level of the gate of transistor TN12 corresponds to internal power supply potential Vdds.

【0046】トランジスタTN13は、電圧変換回路の
動作開始を指示する信号QONを受ける。
Transistor TN13 receives signal QON instructing the start of the operation of the voltage conversion circuit.

【0047】ここで、トランジスタTN12と基準電位
VrefMを受けるトランジスタTN11とは、ゲート
幅W0およびゲート長L0を有するものとする。
Here, it is assumed that transistor TN12 and transistor TN11 receiving reference potential VrefM have a gate width W0 and a gate length L0.

【0048】図3は、図2に示した定電流源2010の
構成を説明するための回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram for describing the configuration of constant current source 2010 shown in FIG.

【0049】定電流源2010は、電源電位Vccと接
地電位Vssとの間に直列に接続されるpチャネルMO
SトランジスタTP21およびnチャネルMOSトラン
ジスタTN21と、電源電位Vccと接地電位Vssと
の間に直列に接続される抵抗体R1、pチャネルMOS
トランジスタTP22およびnチャネルMOSトランジ
スタTN22とを含む。
Constant current source 2010 includes a p-channel MO connected in series between power supply potential Vcc and ground potential Vss.
S transistor TP21 and n-channel MOS transistor TN21, resistor R1 connected in series between power supply potential Vcc and ground potential Vss, p-channel MOS
A transistor TP22 and an n-channel MOS transistor TN22 are included.

【0050】トランジスタTP21とトランジスタTP
22のゲートとは共通に接続され、これらゲートの電位
レベルが、バイアス電位VBHとして出力される。一
方、トランジスタTN21とトランジスタTN22のゲ
ートも互いに接続され、これらゲートの電位レベルがバ
イアス電位VBLとして出力される。
Transistor TP21 and transistor TP
The gates 22 are commonly connected, and the potential levels of these gates are output as the bias potential VBH. On the other hand, the gates of the transistors TN21 and TN22 are also connected to each other, and the potential levels of these gates are output as the bias potential VBL.

【0051】ここで、トランジスタTN21およびTN
22は、ゲート幅W1およびゲート長L1を有するもの
とする。このとき、定電流源2010には、貫通電流I
cが常時流れている。
Here, the transistors TN21 and TN
22 has a gate width W1 and a gate length L1. At this time, the through current I is supplied to the constant current source 2010.
c is always flowing.

【0052】図4は、図2に示した第1のVref発生
回路2020の構成を説明するための回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram for describing a configuration of first Vref generation circuit 2020 shown in FIG.

【0053】なお、第2のVref発生回路2030
も、生成する参照電位レベルを変更するために、直列に
接続されるトランジスタ数が異なる以外は、基本的に
は、第1のVref発生回路2020と同様の構成を有
する。
The second Vref generation circuit 2030
Has the same configuration as the first Vref generation circuit 2020 except that the number of transistors connected in series is different in order to change the generated reference potential level.

【0054】第1のVref発生回路2020は、電源
電位Vccと接地電位Vssとの間に直列に接続される
pチャネルMOSトランジスタTP31、TP32、T
P33およびTP34を含む。
The first Vref generating circuit 2020 includes p-channel MOS transistors TP31, TP32, T connected in series between the power supply potential Vcc and the ground potential Vss.
P33 and TP34.

【0055】トランジスタTP31のゲートは、バイア
ス電位VBHを受け、トランジスタTP34のゲート
は、接地電位Vssを受ける。
The gate of transistor TP31 receives bias potential VBH, and the gate of transistor TP34 receives ground potential Vss.

【0056】また、トランジスタTP32およびTP3
3のゲートは、ともに、トランジスタTP33とTP3
4の接続ノードに接続される。
The transistors TP32 and TP3
3 are connected to transistors TP33 and TP3
4 connection nodes.

【0057】トランジスタTP31とトランジスタTP
32の接続ノードの電位レベルが、第1の参照電位Vr
ef1として出力される。
Transistor TP31 and transistor TP
The potential level of the connection node 32 is the first reference potential Vr
Output as ef1.

【0058】以上のような接続関係となっている結果、
トランジスタTP32およびTP33の部分では、チャ
ネル抵抗成分に起因する電圧降下が発生し、トランジス
タTP34においては、このトランジスタのしきい値電
圧分の電圧降下が生じている。
As a result of the above connection relationship,
In the transistors TP32 and TP33, a voltage drop due to the channel resistance component occurs, and in the transistor TP34, a voltage drop corresponding to the threshold voltage of the transistor occurs.

【0059】トランジスタTP31のゲートに、バイア
ス電位VBHが与えられることにより、トランジスタT
P31〜TP34には、定電流源2010に流れる貫通
電流ICと同じ値の貫通電流Icが流れている。
When the bias potential VBH is applied to the gate of the transistor TP31, the transistor T
A through current Ic having the same value as the through current IC flowing to the constant current source 2010 flows through P31 to TP34.

【0060】上述したとおり、第2のVref発生回路
2030においては、たとえば、第1の参照電位Vre
f1よりも小さな第2の参照電位Vref2を生成する
ために、図4に示した第1のVref発生回路2020
の構成において、トランジスタTP32〜TP34のよ
うに直列に接続されるトランジスタの数がより少なくな
るように構成されている。
As described above, in second Vref generation circuit 2030, for example, first reference potential Vre
In order to generate the second reference potential Vref2 smaller than f1, the first Vref generation circuit 2020 shown in FIG.
Is configured such that the number of transistors connected in series like the transistors TP32 to TP34 is further reduced.

【0061】図5は、図2に示した第1のバッファ回路
2040の構成を説明するための回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram for describing a configuration of first buffer circuit 2040 shown in FIG.

【0062】第2のバッファ回路2050の構成も、入
力される参照電位と出力される基準電位の電位レベルが
異なるのみで、基本的にはその構成は同様である。
The configuration of the second buffer circuit 2050 is basically the same as that of the second buffer circuit 2050, except that the potential levels of the input reference potential and the output reference potential are different.

【0063】図5を参照して、第1のバッファ回路20
40は、電源電位Vccと内部ノードn41との間に直
列に接続されるpチャネルMOSトランジスタTP41
およびnチャネルMOSトランジスタTN41と、電源
電位Vccと内部ノードn41との間に直列に接続され
るpチャネルMOSトランジスタTP42およびnチャ
ネルMOSトランジスタTN42と、内部ノードn41
と接地電位Vssとの間に接続されるトランジスタTN
43とを含む。
Referring to FIG. 5, first buffer circuit 20
40 is a p-channel MOS transistor TP41 connected in series between the power supply potential Vcc and the internal node n41.
And n-channel MOS transistor TN41, p-channel MOS transistor TP42 and n-channel MOS transistor TN42 connected in series between power supply potential Vcc and internal node n41, and internal node n41
TN connected between the power supply and ground potential Vss
43.

【0064】トランジスタTP41およびTP42のゲ
ートは互いに接続され、これらゲートは、トランジスタ
TP41およびTN41の接続ノードと接続されてい
る。
The gates of transistors TP41 and TP42 are connected to each other, and these gates are connected to the connection node between transistors TP41 and TN41.

【0065】トランジスタTN41のゲートは、第1の
参照電位Vref1を受ける。トランジスタTN42の
ゲートは、トランジスタTN42のドレインと接続さ
れ、このゲートの電位レベルが、第1の参照電位Ver
fB1として出力される。
The gate of transistor TN41 receives first reference potential Vref1. The gate of the transistor TN42 is connected to the drain of the transistor TN42, and the potential level of the gate is set to the first reference potential Ver.
Output as fB1.

【0066】トランジスタTN43のゲートは、第2の
バイアス電位VBLを受ける。ここで、トランジスタT
N43は、ゲート幅W2とゲート長L2とを有する。こ
のとき、バッファ回路2040には、貫通電流Ibが流
れている。
The gate of the transistor TN43 receives the second bias potential VBL. Here, the transistor T
N43 has a gate width W2 and a gate length L2. At this time, the through current Ib flows through the buffer circuit 2040.

【0067】すなわち、定電流源2010で発生された
電流と同じ大きさの電流Icが、第1および第2のVr
ef発生回路2020および2030に流れる。第1お
よび第2のVref発生回路2020および2030に
おいては、それぞれ直列に接続されるトランジスタの数
を変更することで、チャネル抵抗分の電圧降下の値を変
え、2つの参照電位Vref1およびVref2をそれ
ぞれ発生する。この参照電位Vref1およびVref
2をそれぞれ元にして、さらに第1および第2のバッフ
ァ回路2040および2050において、基準電位Vr
ef1BおよびVref2Bが生成される。
That is, the current Ic having the same magnitude as the current generated by the constant current source 2010 is applied to the first and second Vr.
ef generation circuits 2020 and 2030. In the first and second Vref generation circuits 2020 and 2030, by changing the number of transistors connected in series, respectively, the value of the voltage drop corresponding to the channel resistance is changed, and the two reference potentials Vref1 and Vref2 are respectively changed. appear. These reference potentials Vref1 and Vref
2 respectively, in the first and second buffer circuits 2040 and 2050, the reference potential Vr
ef1B and Vref2B are generated.

【0068】ここで、第1の基準電位Vref1Bの値
は、第1の参照電位Vref1の値に等しく、第2の基
準電位Vref2Bの値は、第2の参照電位Vref2
の値と等しい。
Here, the value of the first reference potential Vref1B is equal to the value of the first reference potential Vref1, and the value of the second reference potential Vref2B is equal to the value of the second reference potential Vref2.
Is equal to the value of

【0069】バッファ回路2040の貫通電流Ibは、
以下の式(1)により与えられる。 Ib=(W2/L2)/(W1/L1)×Ic …(1) したがって、式(1)における、(W2/L2)/(W
1/L1)の比の値を大きくすることで、バッファ回路
の出力を安定に保つことができる。
The through current Ib of the buffer circuit 2040 is
It is given by the following equation (1). Ib = (W2 / L2) / (W1 / L1) × Ic (1) Therefore, in equation (1), (W2 / L2) / (W
By increasing the value of the ratio (1 / L1), the output of the buffer circuit can be kept stable.

【0070】なお、第1の基準電位Vref1Bと第2
の基準電位Vref2Bとの間には、以下の式(2)が
成り立つものとする。
Note that the first reference potential Vref1B and the second
Equation (2) below holds between the reference potential Vref2B and the reference potential Vref2B.

【0071】 Vref1B>Vref2B …(2) ここで、メモリセルに“H”データとして書込まれる電
位は電位Vref2Bに等しいものとする。
Vref1B> Vref2B (2) Here, the potential written as “H” data in the memory cell is assumed to be equal to the potential Vref2B.

【0072】図6は、図2に示した降圧回路2000を
用いたDRAM1000において、センス動作を説明す
るためのタイミングチャートである。
FIG. 6 is a timing chart for explaining a sensing operation in DRAM 1000 using voltage down converter 2000 shown in FIG.

【0073】時刻t1において、ビット線対のイコライ
ズ動作が停止され、信号BLEQが“H”レベルから
“L”レベルへと変化する。
At time t1, the equalizing operation of the bit line pair is stopped, and signal BLEQ changes from "H" level to "L" level.

【0074】続いて時刻t2において、外部から与えら
れるアドレス信号に応じてワード線WLが選択され、選
択されたワード線WLの電位レベルが活性状態へと変化
する。
Subsequently, at time t2, word line WL is selected according to an externally applied address signal, and the potential level of the selected word line WL changes to an active state.

【0075】ワード線WLの活性化に伴って、時刻t3
においてビット線対BLおよび/BLに選択されたメモ
リセルに保持されるデータ対応した電位差が発生する。
With the activation of word line WL, time t3
, A potential difference corresponding to the data held in the memory cell selected by bit line pair BL and / BL occurs.

【0076】時刻t4において、センスアンプの動作の
開始が指示され、信号S0Nおよび信号QONが“H”
レベルへと変化する。一方、信号ZS0Pおよび信号C
HGは“H”レベルから“L”レベルへと変化する。
At time t4, the start of the operation of the sense amplifier is instructed, and signal SON and signal QON are set to "H".
Change to level. On the other hand, signal ZS0P and signal C
HG changes from “H” level to “L” level.

【0077】信号CHGの変化に伴って、基準電位Vr
efMのレベルは、電位Vref1Bのレベルから電位
Vref2Bのレベルへと変化する。
With the change of the signal CHG, the reference potential Vr
The level of efM changes from the level of potential Vref1B to the level of potential Vref2B.

【0078】したがって、センス動作が開始されるまで
の期間においては、信号S0Nは“L”レベルであり、
信号ZS0Pは“H”レベルであって、基準電位Vre
fMは第1の基準電位Vref1Bとなっている。つま
り、デカップリング容量Cpbには、センス開始までの
期間において、基準電位VrefMがVref2Bであ
る場合よりも、以下の式(3)で表わされるだけ、より
多くの電荷が貯えられることになる。
Therefore, during the period before the start of the sensing operation, signal SON is at "L" level,
The signal ZS0P is at "H" level, and the reference potential Vre
fM is the first reference potential Vref1B. In other words, more charge is stored in the decoupling capacitor Cpb by the amount represented by the following equation (3) than in the case where the reference potential VrefM is Vref2B, before the start of sensing.

【0079】 Cpb×(Vref1B−Vref2B) …(3) 時刻t4において、信号S0Nが“H”レベルとなり、
信号ZS0Pが“L”レベルとなって、センス動作の開
始が指示されると、デカップリング容量Cpbに貯えら
れていた電荷がビット線対に存在する充放電容量Cbの
充電を開始する。
Cpb × (Vref1B−Vref2B) (3) At time t4, the signal S0N becomes “H” level,
When the signal ZS0P becomes "L" level and the start of the sensing operation is instructed, the charge stored in the decoupling capacitance Cpb starts charging the charge / discharge capacitance Cb existing in the bit line pair.

【0080】時刻t4においてセンス動作が開始された
後は、上述の式(3)に示した分だけより多くの電荷が
デカップリング容量Cpbに存在するため、センス開始
初期の内部電源電位Vddsレベルの過渡的な低下は抑
制されることになる。
After the start of the sensing operation at time t4, since more charge exists in the decoupling capacitance Cpb by the amount shown in the above equation (3), the level of the internal power supply potential Vdds level at the beginning of the sensing starts. The transitional drop is suppressed.

【0081】また、時刻t4以降においては、基準電位
VrefMの値は、第2の基準電位Vref2Bとなっ
ている。このため、電圧変換回路2200は、内部電源
電位Vddsのレベルが電位Vref2Bのレベルと同
じになるように、センスアンプS/Aに電荷を供給する
ことになる。
After time t4, the value of reference potential VrefM is the second reference potential Vref2B. Therefore, voltage conversion circuit 2200 supplies charges to sense amplifier S / A such that the level of internal power supply potential Vdds becomes the same as the level of potential Vref2B.

【0082】時刻t5においてワード線が不活性化さ
れ、その後、センスアンプ駆動信号S0N、/S0Pも
不活性化する。これに応じて、信号CHGも“H”レベ
ルに復帰し、基準電圧VrefMの値は、再び、第1の
基準電位Vref1Bとなる。
At time t5, the word line is deactivated, and thereafter, the sense amplifier drive signals S0N and / S0P are also deactivated. In response, signal CHG also returns to the “H” level, and the value of reference voltage VrefM becomes first reference potential Vref1B again.

【0083】時刻t6において、信号BLEQが活性化
して、ビット線対のイコライズが開始される。
At time t6, signal BLEQ is activated, and equalization of the bit line pair is started.

【0084】時刻t7において、次のサイクルが開始さ
れる。この場合、時刻t1から時刻t7までの時間が、
サイクル時間tRCとなる。
At time t7, the next cycle starts. In this case, the time from time t1 to time t7 is
The cycle time becomes tRC.

【0085】上述のとおり、メモリセルに書込まれる
“H”データのレベルは、電位Vref2Bに等しいた
め、以上のような動作で、メモリセルには、基準電位が
2段階に切換わった場合でも、所望のレベルを有する
“H”レベルのデータが書込まれることになる。
As described above, since the level of "H" data written in the memory cell is equal to potential Vref2B, the above operation allows the memory cell to operate even when the reference potential is switched in two stages. , "H" level data having a desired level is written.

【0086】さらに、内部電源電位Vddsの過渡的な
低下が少なくなったことによって、内部電位発生回路2
000が最終的に内部電源電位Vddsのレベルを、基
準電位Vref2Bに等しくなるまで上昇させるための
時間も短縮されることになる。
Further, since the transient lowering of the internal power supply potential Vdds is reduced, the internal potential generating circuit 2
000 finally raises the level of the internal power supply potential Vdds until it becomes equal to the reference potential Vref2B.

【0087】ここで、図2で構成される内部電位発生回
路2000に流れる貫通電流Ipaを見積もってみると
以下のとおりである。
Here, the through current Ipa flowing through the internal potential generating circuit 2000 shown in FIG. 2 is estimated as follows.

【0088】まず、定電流源2010において2×Ic
の貫通電流が発生し、第1および第2のVref発生回
路2020および2030において、2×Icの貫通電
流が発生し、第1および第2のバッファ回路2040お
よび2050において、2×Ibの貫通電流が発生す
る。
First, in the constant current source 2010, 2 × Ic
, A 2 × Ic through current is generated in the first and second Vref generating circuits 2020 and 2030, and a 2 × Ib through current is generated in the first and second buffer circuits 2040 and 2050. Occurs.

【0089】したがって、合計では以下の式(4)だけ
の貫通電流が発生していることになる。
Therefore, a through current of only the following equation (4) is generated in total.

【0090】 Ipa=2×Ib+4×Ic …(4) 言いかえると、上記式(4)は、信号QONが“L”レ
ベルであって、内部電位発生回路2000がオフ状態で
ある間の内部電位発生回路2000を流れる電流Ipa
を表している。
Ipa = 2 × Ib + 4 × Ic (4) In other words, the above equation (4) indicates that the internal potential while the signal QON is at the “L” level and the internal potential generating circuit 2000 is off is Current Ipa flowing through generation circuit 2000
Is represented.

【0091】上述したとおり、リフレッシュ動作時に消
費される電流Iccsrと待機時電流Iccsとを低減
させるためには、貫通電流Ipaはできるだけ小さいこ
とが望ましい。
As described above, in order to reduce the current Iccsr consumed during the refresh operation and the standby current Iccs, it is desirable that the through current Ipa is as small as possible.

【0092】その結果、バッファ回路で流れる電流Ib
は、電源投入直後に、バッファ回路の出力ノードに存在
する寄生容量Cdを所定時間内に充電できる程度の値に
設定される。ここで、具体的には、たとえばバッファ回
路における貫通電流Ibの値は数μA程度となるように
設計されている。
As a result, the current Ib flowing through the buffer circuit
Is set to a value such that the parasitic capacitance Cd present at the output node of the buffer circuit can be charged within a predetermined time immediately after power-on. Here, specifically, for example, the value of the through current Ib in the buffer circuit is designed to be about several μA.

【0093】図2で説明したとおり、基準電位Vref
Mが切換わることにより、バッファ回路2040および
2050は、電圧変換回路2200内の基準電位Vre
fMを受けるトランジスタ(トランジスタTN11)の
ゲート容量を充放電しなければならない。
As described with reference to FIG. 2, reference potential Vref
Switching of M causes buffer circuits 2040 and 2050 to operate at reference potential Vre in voltage conversion circuit 2200.
The gate capacitance of the transistor receiving fM (transistor TN11) must be charged and discharged.

【0094】一定のサイクル時間tRCでセンス動作が
行なわれる場合、充放電電流Icdは、以下の式(5)
で表わされる。 Icd=C0×W0×L0×(Vref1B−Vref2B)/tRC…(5) ここで、C0は単位面積あたりのゲート容量を意味す
る。一般に基準電位VrefMを受ける電位変換回路2
200内のトランジスタTN11のゲート面積W0×L
0は大きな値に設定されている。さらに、シンクロナス
DRAM(以下、SDRAM)に代表される高速動作可
能なDRAMでは、サイクル時間tRCが従来よりも短
いため、充放電電流Icdは無視できない値となる。
When the sensing operation is performed for a fixed cycle time tRC, the charge / discharge current Icd is calculated by the following equation (5).
Is represented by Icd = C0 × W0 × L0 × (Vref1B−Vref2B) / tRC (5) Here, C0 means a gate capacitance per unit area. Potential conversion circuit 2 generally receiving reference potential VrefM
The gate area W0 × L of the transistor TN11 in 200
0 is set to a large value. Furthermore, in a DRAM capable of high-speed operation represented by a synchronous DRAM (hereinafter, SDRAM), the charge / discharge current Icd is a value that cannot be ignored because the cycle time tRC is shorter than in the conventional DRAM.

【0095】図7は、このような充放電電流Icdによ
り、基準電位VrefMに生じる過渡的な変化を説明す
るための図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining a transient change in the reference potential VrefM caused by such a charge / discharge current Icd.

【0096】図7を参照して、第1の基準電位Vref
1Bおよび第2の基準電位Vref2Bは、充放電電流
Icdとバッファ回路2040および2050の電流駆
動力が釣り合うまで、次第にそのレベルが変化する。し
たがって、第1の基準電位Vref1Bは所望の値Vr
ef1よりも小さな値となり、一方、第2の基準電位V
ref2Bは所望の値Vref2よりも大きな値となっ
てしまう。
Referring to FIG. 7, first reference potential Vref
The levels of 1B and the second reference potential Vref2B gradually change until the charge / discharge current Icd and the current driving power of the buffer circuits 2040 and 2050 are balanced. Therefore, the first reference potential Vref1B becomes the desired value Vr
ef1 and a value smaller than the second reference potential V
ref2B becomes a value larger than the desired value Vref2.

【0097】サイクル時間tRCが十分に短い場合は、
図7に示したとおり、所望の電位レベルから基準電位V
ref2Bは、電圧偏差dVだけずれた値で定常状態と
なってしまう。基準電位Vref1Bについても同様で
ある。
If the cycle time tRC is sufficiently short,
As shown in FIG. 7, from the desired potential level to the reference potential V
ref2B becomes a steady state at a value shifted by the voltage deviation dV. The same applies to the reference potential Vref1B.

【0098】このようなバッファ回路2040および2
050から出力される基準電位Vref1BおよびVr
ef2Bのレベルが変動してしまうことを抑えるため
に、定常的にバッファ回路2040および2050で発
生する貫通電流Ibを大きく設定しておくことも可能で
ある。しかしながら、このような貫通電流Ibの設定と
することは、電流IccsrおよびIccsを低減する
という観点からは好ましくない。
Such buffer circuits 2040 and 2
Reference potentials Vref1B and Vr output from 050
In order to prevent the level of ef2B from fluctuating, it is also possible to set the through current Ib generated in the buffer circuits 2040 and 2050 constantly to be large. However, such setting of the through current Ib is not preferable from the viewpoint of reducing the currents Iccsr and Iccs.

【0099】結局のところ、電流IccsrおよびIc
csの設定値からすると、許容される最大値に貫通電流
Ibの値を設定しておかざるを得ないことになる。
After all, the currents Iccsr and Ic
Based on the set value of cs, the value of the through current Ib must be set to the maximum allowable value.

【0100】したがって、内部電位発生回路2000か
らの出力電位Vddsの過渡状態における電位レベルの
低下を抑制しつつかつ電流IccsrおよびIccsを
低減させるためには、図2に示した構成だけでは不十分
ということになる。
Therefore, the structure shown in FIG. 2 alone is not sufficient to suppress a decrease in the potential level in the transient state of output potential Vdds from internal potential generating circuit 2000 and to reduce currents Iccsr and Iccs. Will be.

【0101】図8は、上述したような電流Iccsrお
よびIccsの低減を可能とする内部電位発生回路24
00の構成を説明するための概略ブロック図である。
FIG. 8 shows an internal potential generating circuit 24 capable of reducing currents Iccsr and Iccs as described above.
FIG. 2 is a schematic block diagram for explaining a configuration of the 00.

【0102】内部電位発生回路2400の構成が、図2
に示した内部電位発生回路2000の構成と異なる点
は、バッファ回路2042および2052が信号PUM
で制御される構成となっている点である。その他の点は
図2に示した構成と同様であるので、同一部分には同一
符号を付してその説明は繰返さない。
The structure of internal potential generating circuit 2400 is similar to that of FIG.
Is different from the configuration of internal potential generating circuit 2000 shown in FIG.
This is a configuration controlled by The other points are the same as those in the configuration shown in FIG. 2, and therefore, the same portions are denoted by the same reference characters and description thereof will not be repeated.

【0103】図9は、図8に示した第1のバッファ回路
2042の構成を説明するための回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram for describing a configuration of first buffer circuit 2042 shown in FIG.

【0104】第2のバッファ回路2052の構成も、入
力される電位および出力する電位が異なるのみで、その
基本的な構成は同様である。
The basic configuration of the second buffer circuit 2052 is also the same except that the input potential and the output potential are different.

【0105】第1のバッファ回路2042は、電源電位
Vccと内部ノードn51との間に直列に接続されるp
チャネルMOSトランジスタTP51およびnチャネル
MOSトランジスタTN51と、電源電位Vccと内部
ノードn51との間に直列に接続されるpチャネルMO
SトランジスタTP52およびnチャネルMOSトラン
ジスタTN52と、内部ノードn51と接地電位Vss
との間に接続されゲートにバイアス電位VBLを受ける
nチャネルMOSトランジスタTN53と、内部ノード
n51と接地電位Vssとの間に接続され、ゲートに信
号PUMを受けるnチャネルMOSトランジスタTN5
4とを含む。
First buffer circuit 2042 is connected between power supply potential Vcc and internal node n51 in series by p.
A channel MOS transistor TP51 and an n-channel MOS transistor TN51, and a p-channel MO connected in series between power supply potential Vcc and internal node n51.
S transistor TP52 and n channel MOS transistor TN52, internal node n51 and ground potential Vss
And an n-channel MOS transistor TN5 connected between internal node n51 and ground potential Vss and receiving signal PUM at its gate.
4 is included.

【0106】トランジスタTP51およびTP52のゲ
ートは互いに接続され、これらのゲートは、トランジス
タTP51とトランジスタTN51との接続ノードに接
続されている。
The gates of transistors TP51 and TP52 are connected to each other, and these gates are connected to a connection node between transistor TP51 and transistor TN51.

【0107】トランジスタTN51のゲートは、第1の
参照電位Vref1を受け、トランジスタTN52のゲ
ートは、トランジスタTP52のドレインと接続してい
る。トランジスタTN52のゲート電位が、第1の基準
電位VrefB1として出力される。
The gate of the transistor TN51 receives the first reference potential Vref1, and the gate of the transistor TN52 is connected to the drain of the transistor TP52. The gate potential of the transistor TN52 is output as the first reference potential VrefB1.

【0108】ここで、トランジスタTN53は、ゲート
幅W2とゲート長L2を有しているものとする。
Here, it is assumed that the transistor TN53 has a gate width W2 and a gate length L2.

【0109】一方、トランジスタTN54は、ゲート幅
W3およびゲート長L3を有する。図9に示したような
構成とすることで、信号PUMにより、バッファ回路2
040を流れる貫通電流Ibの値を制御することが可能
となる。
On the other hand, transistor TN54 has a gate width W3 and a gate length L3. With the configuration as shown in FIG. 9, the buffer circuit 2
040 can be controlled.

【0110】図10は、図9に示した信号PUMを生成
するためのPUM信号発生回路3000の構成を示す概
略ブロック図である。PUM信号発生回路3000は、
たとえば、図1に示したコントロール回路26に含まれ
る。
FIG. 10 is a schematic block diagram showing a configuration of PUM signal generation circuit 3000 for generating signal PUM shown in FIG. The PUM signal generation circuit 3000
For example, it is included in the control circuit 26 shown in FIG.

【0111】図10を参照して、PUM発生回路300
0は、信号S0Nを受ける遅延回路3010と、遅延回
路3010の出力を受けて反転するインバータ3020
と、信号S0Nおよびインバータ3020の出力を受け
るNAND回路3030と、信号ZS0Pを受ける遅延
回路3050と、遅延回路3050の出力を受けて反転
するインバータ3060と、信号ZS0Pおよびインバ
ータ3060の出力を受けるNAND回路3070と、
NAND回路3030および3070の出力を受けて、
信号PUMを出力するNAND回路3100とを含む。
Referring to FIG. 10, PUM generating circuit 300
0 is a delay circuit 3010 receiving the signal SON, and an inverter 3020 receiving and inverting the output of the delay circuit 3010.
, NAND circuit 3030 receiving signal S0N and the output of inverter 3020, delay circuit 3050 receiving signal ZS0P, inverter 3060 receiving and inverting the output of delay circuit 3050, and NAND circuit receiving signal ZS0P and the output of inverter 3060 3070,
Upon receiving outputs of NAND circuits 3030 and 3070,
And a NAND circuit 3100 that outputs signal PUM.

【0112】図10に示したようなPUM発生回路30
00の構成とすることで、センス開始時および終了時を
基点に、遅延回路3010および3050で決まる期間
だけ信号PUMが“H”レベルとなることになる。これ
に応じて、図9で示したバッファ回路2040ならびに
バッファ回路2050の貫通電流Ibが増加してバッフ
ァの駆動能力が高まる。その結果、基準電位Vref1
BとVref2Bとの間の切換えにより発生する充放電
電流Icdが、バッファの駆動能力の範囲内に収まり、
基準電位Vref1Bおよび基準電位Vref2Bのレ
ベル変動を抑制できることになる。
PUM generation circuit 30 as shown in FIG.
With the configuration of 00, the signal PUM goes to the “H” level for a period determined by the delay circuits 3010 and 3050 based on the start and end of sensing. Accordingly, through current Ib of buffer circuit 2040 and buffer circuit 2050 shown in FIG. 9 increases, and the driving capability of the buffer increases. As a result, the reference potential Vref1
The charge / discharge current Icd generated by switching between B and Vref2B falls within the range of the driving capability of the buffer,
Level fluctuations of the reference potential Vref1B and the reference potential Vref2B can be suppressed.

【0113】図11は、図8に示した内部電位生成回路
2400の基準電位の生成動作を説明するためのタイミ
ングチャートである。
FIG. 11 is a timing chart for describing the operation of generating the reference potential of internal potential generating circuit 2400 shown in FIG.

【0114】時刻t1において、信号BLEQが不活性
状態となった後、時刻t2において、信号S0Nおよび
信号ZS0Pがそれぞれ活性状態へと変化する。一方、
基準電位VrefMは、第1の基準電位Vref1Bか
ら第2の基準電位Vref2Bへと変化する。
At time t1, signal BLEQ attains an inactive state, and at time t2, signal S0N and signal ZS0P each change to the active state. on the other hand,
The reference potential VrefM changes from the first reference potential Vref1B to the second reference potential Vref2B.

【0115】これに応じて、信号PUMも、所定の期間
だけ活性状態となり、この信号PUMが活性である期間
だけバッファ回路2040および2050における貫通
電流Ibの値は、電流量Iblから電流量Ibhまで上
昇する。
In response, signal PUM is also activated for a predetermined period, and the value of through current Ib in buffer circuits 2040 and 2050 from current amount Ibl to current amount Ibh only during a period in which signal PUM is active. To rise.

【0116】さらに、時刻t3において、信号S0Nお
よび信号ZS0Pが不活性状態となるのに応じて、信号
PUMは再び所定の時間だけ活性状態となる。
Further, at time t3, in response to signal S0N and signal ZS0P being inactivated, signal PUM is again activated for a predetermined time.

【0117】一方、基準電位VrefMは、第2の基準
電位Vref2Bから第1の基準電位Vref1Bへと
変化する。
On the other hand, reference potential VrefM changes from second reference potential Vref2B to first reference potential Vref1B.

【0118】このとき、基準電位VrefMの切換わり
の期間において、バッファ回路2040および2050
の貫通電流Ibは、レベルIblからレベルIbhまで
上昇することになる。
At this time, buffer circuits 2040 and 2050 are in the switching period of reference potential VrefM.
Through current Ib rises from level Ibl to level Ibh.

【0119】信号PUMが“L”レベルである期間の貫
通電流Ibを、電源投入時における寄生容量Cdの充電
に必要な最低限の値Iblに絞っておくことで、信号P
UMによりバッファ回路を制御しない場合に比べて、貫
通電流Ibの値を低めに設定することができる。この結
果、特にサイクル時間tRCが長い場合に、ほとんどの
時間においては、バッファ回路2040および2050
の貫通電流IbはレベルIblとなるため、平均的な貫
通電流Ibの値は抑制されることになる。
By reducing the through current Ib during the period when the signal PUM is at the “L” level to the minimum value Ibl necessary for charging the parasitic capacitance Cd at the time of power-on, the signal PUM is reduced.
The value of the through current Ib can be set lower than when the buffer circuit is not controlled by the UM. As a result, especially when cycle time tRC is long, buffer circuits 2040 and 2050 are almost always used.
Is at the level Ibl, the average value of the through current Ib is suppressed.

【0120】したがって、図8に示したような構成によ
り、電流IccsrおよびIccsの低減が可能とな
る。
Therefore, with the configuration shown in FIG. 8, currents Iccsr and Iccs can be reduced.

【0121】なお、信号PUMが“H”レベルとなって
いる期間を決める信号は、上記の例においては、センス
アンプの活性化信号S0NおよびZS0Pとしたが、こ
れ以外のロウ系の動作にかかわるさまざまな信号を用い
ることが可能である。
In the above example, the signals for determining the period during which signal PUM is at the "H" level are activation signals S0N and ZS0P of the sense amplifier. However, other signals related to row-related operations are used. Various signals can be used.

【0122】たとえば、外部から与えられるロウ系の回
路の活性化に繋がる制御信号/コマンドに直接対応する
内部信号であったり、あるいは、センスアンプが不活性
な期間は活性状態となっているビット線イコライズ信号
BLEQなどを用いることも可能である。
For example, a bit line which is an internal signal directly corresponding to a control signal / command externally applied to activate a row-related circuit, or which is active while a sense amplifier is inactive. It is also possible to use an equalizing signal BLEQ or the like.

【0123】[実施の形態2]実施の形態2の内部電位
発生回路の構成は、基本的には図8に示した実施の形態
1の内部電位発生回路の構成と同様である。
[Second Embodiment] The configuration of an internal potential generating circuit of the second embodiment is basically the same as the configuration of the internal potential generating circuit of the first embodiment shown in FIG.

【0124】ただし、信号PUMが活性となるタイミン
グが異なる。図8〜図10に示した実施の形態1の内部
電位発生回路2000の構成においては、電圧変換回路
2200の活性化を指示する信号QONが“H”レベル
となるタイミングと、センスアンプの活性化を指示する
信号S0Nの活性化のタイミングが同期していた。
However, the timing at which signal PUM becomes active is different. In the configuration of internal potential generating circuit 2000 of the first embodiment shown in FIGS. 8 to 10, the timing at which signal QON instructing activation of voltage conversion circuit 2200 attains “H” level, and activation of sense amplifiers Are activated in synchronization with the activation timing of the signal S0N instructing.

【0125】しかしながら、一般には、電圧変換回路2
200が活性化してから、実際に正規動作を行なうよう
になるまでは少し時間がかかる。そのために、センス開
始以前に信号QON活性状態(“H”レベル)とする場
合がある。
However, generally, the voltage conversion circuit 2
It takes a little time from the activation of 200 to the actual operation. Therefore, the signal QON may be activated ("H" level) before the start of sensing.

【0126】実施の形態2のPUM信号発生回路400
0においては、信号PUMが発生するタイミングを信号
QONと同期させることで、基準電位VrefMが切換
わるよりも以前のタイミングにおいて、信号PUMを活
性状態とする構成としている。
PUM Signal Generating Circuit 400 of Second Embodiment
At 0, the timing at which the signal PUM is generated is synchronized with the signal QON, so that the signal PUM is activated at a timing before the reference potential VrefM is switched.

【0127】図12は、本発明の実施の形態2のPUM
信号発生回路4000の構成を示す概略ブロック図であ
る。図10に示した実施の形態1のPUM信号発生回路
3000の構成と異なる点は、信号S0Nが信号QON
となっている点であり、その他の構成は同様であるの
で、同一部分には同一符号を付してその説明は繰返さな
い。
FIG. 12 shows a PUM according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a signal generation circuit 4000. The difference from the configuration of the PUM signal generation circuit 3000 of the first embodiment shown in FIG.
Since other configurations are the same, the same portions are denoted by the same reference characters and description thereof will not be repeated.

【0128】図13は、図12に示したようなPUM信
号発生回路4000を使用した場合の内部電位発生回路
の動作を説明するためのタイミングチャートである。
FIG. 13 is a timing chart for explaining the operation of the internal potential generating circuit when PUM signal generating circuit 4000 as shown in FIG. 12 is used.

【0129】時刻t1において、信号BLEQが不活性
化し、時刻t2において、信号QONが活性状態となっ
て、電圧変換回路2200が活性化される。時刻t2に
おいて、信号CHGが“L”レベルに遷移し、基準電位
VrefMも、第1の基準電位Vrer1Bから第2の
基準電位Vref2Bに切換わる。これに応じて、信号
PUMも所定期間活性状態となって、バッファ回路20
40および2050における貫通電流Ibの値も、レベ
ルIblからレベルIbhへと高められる。その後、時
刻t3において、信号S0Nおよび信号ZS0Pが活性
状態となることで、センス動作が活性化される。
At time t1, signal BLEQ is inactivated, and at time t2, signal QON is activated and voltage conversion circuit 2200 is activated. At time t2, signal CHG transitions to the “L” level, and reference potential VrefM also switches from first reference potential Vrer1B to second reference potential Vref2B. In response, signal PUM is also activated for a predetermined period, and buffer circuit 20
The values of through current Ib at 40 and 2050 are also increased from level Ibl to level Ibh. Thereafter, at time t3, signal S0N and signal ZS0P are activated to activate the sensing operation.

【0130】このような構成とすることで、複数の基準
電位が生成される回路構成において、基準電位間の干渉
による電位変動を抑制することが可能となる。
With this configuration, in a circuit configuration in which a plurality of reference potentials are generated, it is possible to suppress potential fluctuation due to interference between the reference potentials.

【0131】したがって、たとえば、実施の形態2の内
部電位発生回路をDRAMのセンスアンプへの駆動電位
供給に用いた場合、センス動作において、センスアンプ
により内部電源電位Vddsの消費が開始された時点に
おいては、既に電圧変換回路2200は正規動作を開始
しているため、電圧変換回路2200が、内部電源電位
Vddsが第2の基準電位Vref2Bと一致するよう
に電荷供給を開始するまでの所要時間が低減される。こ
の結果、実施の形態1で述べた効果に加えて、電源電位
Vddsレベルの過渡的な変動がより一層抑制され、セ
ンス時間の短縮が可能となる。
Therefore, for example, when the internal potential generating circuit of the second embodiment is used for supplying a drive potential to a sense amplifier of a DRAM, the sense amplifier starts consumption of internal power supply potential Vdds in the sense operation. Since the voltage conversion circuit 2200 has already started normal operation, the time required for the voltage conversion circuit 2200 to start charge supply so that the internal power supply potential Vdds matches the second reference potential Vref2B is reduced. Is done. As a result, in addition to the effects described in the first embodiment, the transient fluctuation of the power supply potential Vdds level is further suppressed, and the sensing time can be reduced.

【0132】[実施の形態3]実施の形態1および2で
示した構成においては、内部電位発生回路をDRAMに
用いた場合、通常モードにおける待機状態でもセルフリ
フレッシュモードでも系の貫通電流を抑制することが可
能である。
[Third Embodiment] In the structure shown in the first and second embodiments, when the internal potential generating circuit is used in a DRAM, the through current of the system is suppressed in both the standby state in the normal mode and the self-refresh mode. It is possible.

【0133】しかしながら、通常モード時には他で消費
する電流成分に紛れて貫通電流Ipaが全体の消費電力
に対しては重要でない場合がある。一方、セルフリフレ
ッシュモードでは、サイクルタイムtRCが十分に長
く、充放電電流Icdが十分小さいため、バッファ能力
を高める必要がない場合がある。
However, in the normal mode, there is a case where the through current Ipa is not important to the whole power consumption because of the current components consumed by other components. On the other hand, in the self-refresh mode, the cycle time tRC is sufficiently long and the charge / discharge current Icd is sufficiently small, so that it may not be necessary to increase the buffer capacity.

【0134】したがって、DRAMがセルフリフレッシ
ュモードに入っているかどうかでバッファ能力を制御す
ることも可能である。
Therefore, it is possible to control the buffer capacity depending on whether the DRAM is in the self-refresh mode.

【0135】図14は、本発明の実施の形態3の内部電
位生成回路2600の構成を示す概略ブロック図であ
る。
FIG. 14 is a schematic block diagram showing a configuration of an internal potential generating circuit 2600 according to the third embodiment of the present invention.

【0136】図8に示した実施の形態1の基準電位生成
回路2400の構成とは、バッファ回路2044および
2054が、セルフリフレッシュモードが指定されてい
ることを示す信号ZSRMにより制御される構成となっ
ていることであり、その他の点は図8に示した構成と同
様であるので、同一部分には同一符号を付してその説明
は繰返さない。
The structure of reference potential generating circuit 2400 of the first embodiment shown in FIG. 8 is such that buffer circuits 2044 and 2054 are controlled by signal ZSRM indicating that the self-refresh mode is designated. In other respects, the configuration is the same as that shown in FIG. 8, so that the same portions are denoted by the same reference characters and description thereof will not be repeated.

【0137】図15は、本発明の実施の形態3のバッフ
ァ回路2044の構成を説明するための回路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram for illustrating a configuration of buffer circuit 2044 according to the third embodiment of the present invention.

【0138】図9に示した実施の形態1のバッファ回路
の構成と異なる点は、トランジスタTN54のゲートが
信号PUMではなく信号ZSRMにより制御される構成
となっている点のみであるので、同一部分には同一符号
を付してその説明を繰返さない。
The only difference from the structure of the buffer circuit of the first embodiment shown in FIG. 9 is that the gate of transistor TN54 is controlled not by signal PUM but by signal ZSRM. Have the same reference characters allotted, and description thereof will not be repeated.

【0139】図16は本発明の実施の形態3の内部電圧
発生回路の動作を説明するためのタイミングチャートで
ある。通常動作モードにおいては信号ZSRMが“H”
レベルであって、バッファ回路2044および2054
における貫通電流Ibは大きなレベルIbhに制御され
ている。
FIG. 16 is a timing chart for explaining the operation of the internal voltage generating circuit according to the third embodiment of the present invention. In the normal operation mode, the signal ZSRM is "H".
Level and buffer circuits 2044 and 2054
Is controlled to a large level Ibh.

【0140】セルフリフレッシュモードに入ると信号Z
SRMは“L”レベルとなり、バッファ回路2040お
よび2050における貫通電流Ibは低いレベルIbl
に制御される。
When the self-refresh mode is entered, signal Z
SRM attains the “L” level, and through current Ib in buffer circuits 2040 and 2050 is at low level Ibl.
Is controlled.

【0141】このような構成は、待機時電流Iccsの
値に対するシステムの要求が厳しくない場合には特に有
効である。
Such a configuration is particularly effective when the system requirements for the value of the standby current Iccs are not severe.

【0142】以上の説明では、本願発明をDRAMの回
路構成において、センスアンプS/Aに内部電源電位を
供給する内部電位発生回路の構成として説明したが、こ
のような構成はより一般的に拡張することが可能であ
る。つまり、本願に係る内部電位発生回路または基準電
位を生成する構成は、内部電位として2つのレベルの電
位を生成する内部電位発生回路の構成に限定されない。
In the above description, the present invention has been described as a configuration of an internal potential generating circuit for supplying an internal power supply potential to the sense amplifier S / A in the circuit configuration of the DRAM, but such a configuration is more generally extended. It is possible to That is, the configuration of the internal potential generation circuit or the configuration for generating the reference potential according to the present application is not limited to the configuration of the internal potential generation circuit that generates two levels of potentials as the internal potential.

【0143】たとえば、複数の中間電位を切換えて生成
する内部電位発生回路からの出力信号を、ある回路中の
MOSトランジスタのゲートに受けて使う系において、
切換動作による中間電位自身が変動してしまうことを抑
制し、かつ内部電位発生回路または基準電位を生成する
構成での貫通電流を抑制することに、以上説明した本願
発明を適用することが可能である。
For example, in a system in which an output signal from an internal potential generating circuit, which is generated by switching a plurality of intermediate potentials, is received by the gate of a MOS transistor in a certain circuit,
The present invention described above can be applied to suppressing the fluctuation of the intermediate potential itself due to the switching operation and suppressing the through current in the internal potential generating circuit or the configuration for generating the reference potential. is there.

【0144】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
The embodiments disclosed this time are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

【0145】[0145]

【発明の効果】請求項1ないし2記載の半導体装置は、
基準電位生成回路の出力する基準電位のレベルが動作モ
ードに応じて切換わった場合でも、この基準電位間の干
渉による電位変動を抑制することが可能である。
According to the semiconductor device of the present invention,
Even when the level of the reference potential output from the reference potential generation circuit is switched according to the operation mode, it is possible to suppress the potential fluctuation due to the interference between the reference potentials.

【0146】請求項3および4記載の半導体装置は、動
作モードの切換わりの都度に内部回路に供給される電位
が過渡的に所望値からずれることを抑制でき、かつ、消
費電力の増大を抑制できる。
In the semiconductor device according to the third and fourth aspects, the potential supplied to the internal circuit can be prevented from transiently deviating from a desired value every time the operation mode is switched, and the increase in power consumption can be suppressed. it can.

【0147】請求項5ないし9記載の半導体装置は、内
部電位発生回路から出力される出力レベルが動作モード
に応じて切換わった場合でも、出力レベルが過渡的に所
望値からずれることを抑制でき、かつ、消費電力の増大
を抑制できる。
In the semiconductor device according to the fifth to ninth aspects, even when the output level output from the internal potential generating circuit is switched according to the operation mode, the output level can be prevented from being transiently deviated from a desired value. In addition, an increase in power consumption can be suppressed.

【0148】請求項10記載の半導体装置は、ダイナミ
ック型半導体記憶装置において、センスアンプの活性・
不活性が切換わる際の駆動電位が過渡的に所望値からず
れることを抑制でき、かつ、消費電力の増大を抑制でき
る。
According to a tenth aspect of the present invention, in the dynamic semiconductor memory device, an active state of the sense amplifier is controlled.
It is possible to suppress a transient shift of the drive potential from the desired value when the inactivity is switched, and to suppress an increase in power consumption.

【0149】請求項11記載の半導体装置は、セルフリ
フレッシュモードでの消費電力を低減することが可能で
ある。
The semiconductor device according to the eleventh aspect can reduce power consumption in the self-refresh mode.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1のDRAM1000の
全体構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram showing an overall configuration of a DRAM 1000 according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 プリブースト型内部電位発生回路2000の
構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 2 is a schematic block diagram showing a configuration of a preboost type internal potential generation circuit 2000.

【図3】 図2に示した定電流源2010の構成を説明
するための回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram for describing a configuration of constant current source 2010 shown in FIG.

【図4】 図2に示した第1のVref発生回路202
0の構成を説明するための回路図である。
FIG. 4 is a diagram showing a first Vref generation circuit 202 shown in FIG. 2;
FIG. 3 is a circuit diagram for explaining a configuration of a zero.

【図5】 図2に示した第1のバッファ回路2040の
構成を説明するための回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram for describing a configuration of first buffer circuit 2040 shown in FIG.

【図6】 図2に示した降圧回路2000を用いたDR
AM1000において、センス動作を説明するためのタ
イミングチャートである。
FIG. 6 shows a DR using the step-down circuit 2000 shown in FIG. 2;
6 is a timing chart for explaining a sensing operation in AM1000.

【図7】 充放電電流Icdにより、基準電位Vref
Mに生じる過渡的な変化を説明するための図である。
FIG. 7 shows a reference potential Vref based on a charge / discharge current Icd.
FIG. 9 is a diagram for explaining a transient change occurring in M.

【図8】 内部電位発生回路2400の構成を説明する
ための概略ブロック図である。
FIG. 8 is a schematic block diagram for describing a configuration of internal potential generation circuit 2400.

【図9】 第1のバッファ回路2042の構成を説明す
るための回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram illustrating a configuration of a first buffer circuit 2042.

【図10】 PUM信号発生回路3000の構成を示す
概略ブロック図である。
FIG. 10 is a schematic block diagram showing a configuration of a PUM signal generation circuit 3000.

【図11】 内部電位生成回路2400の基準電位の生
成動作を説明するためのタイミングチャートである。
FIG. 11 is a timing chart for describing a generation operation of a reference potential of an internal potential generation circuit 2400.

【図12】 本発明の実施の形態2のPUM信号発生回
路4000の構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 12 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a PUM signal generation circuit 4000 according to the second embodiment of the present invention.

【図13】 PUM信号発生回路4000を使用した場
合の内部電位発生回路の動作を説明するためのタイミン
グチャートである。
FIG. 13 is a timing chart for explaining the operation of the internal potential generation circuit when the PUM signal generation circuit 4000 is used.

【図14】 本発明の実施の形態3の内部電位生成回路
2600の構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 14 is a schematic block diagram showing a configuration of an internal potential generation circuit 2600 according to a third embodiment of the present invention.

【図15】 本発明の実施の形態3のバッファ回路20
44の構成を説明するための回路図である。
FIG. 15 shows a buffer circuit 20 according to the third embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a circuit diagram for explaining a configuration of the control unit.

【図16】 本発明の実施の形態3の内部電圧発生回路
の動作を説明するためのタイミングチャートである。
FIG. 16 is a timing chart for explaining an operation of the internal voltage generation circuit according to the third embodiment of the present invention.

【図17】 従来の内部電位生成回路8000の構成を
説明するための概略ブロック図である。
FIG. 17 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a conventional internal potential generation circuit 8000.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 制御信号入力端子群、13 アドレス信号入力端
子群、15 データ入出力端子群、18 外部電源端
子、19 外部接地端子、26 コントロール回路、3
0 アドレスバッファ、40 行デコーダ、45 ワー
ド線ドライバ、50 列デコーダ、52 コラム選択
線、60 センスアンプ、72 内部制御信号バス、7
4 アドレスバス、76 データバス、80 読出アン
プ/書込ドライバ、85 入出力バッファ、100 メ
モリセルアレイ、200 列選択回路、1000 DA
RM、2000 内部電位発生回路、2010 定電流
源、2020,2030 Vref発生回路、204
0,2042,2044,2050,2052,205
4 バッファ回路、2100 切換回路、2110 イ
ンバータ、2120,2130 トランスミッションゲ
ート、2200 電圧変換回路、3000,4000
PUM信号発生回路。
11 control signal input terminal group, 13 address signal input terminal group, 15 data input / output terminal group, 18 external power terminal, 19 external ground terminal, 26 control circuit, 3
0 address buffer, 40 row decoder, 45 word line driver, 50 column decoder, 52 column selection line, 60 sense amplifier, 72 internal control signal bus, 7
4 address bus, 76 data bus, 80 read amplifier / write driver, 85 input / output buffer, 100 memory cell array, 200 column selection circuit, 1000 DA
RM, 2000 internal potential generation circuit, 2010 constant current source, 2020, 2030 Vref generation circuit, 204
0, 2042, 2044, 2050, 2052, 205
4 Buffer circuit, 2100 switching circuit, 2110 inverter, 2120, 2130 transmission gate, 2200 voltage conversion circuit, 3000, 4000
PUM signal generation circuit.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体装置であって、 電源電位を受けて、複数の基準電位のうちのいずれか一
つを選択的に、動作モードに応じて切換えて出力する基
準電位生成回路を備え、 前記基準電位生成回路は、 前記複数の基準電位をそれぞれ生成し、かつ、前記動作
モードの切換えに応じて少なくとも所定期間電流駆動能
力を増加させる複数の電位発生回路と、 前記複数の電位発生回路の出力を受けて、前記動作モー
ドに応じて切換えて出力する切換回路とを含み、 前記基準電位生成回路の出力に基づいて動作する内部回
路をさらに備える、半導体装置。
1. A semiconductor device, comprising: a reference potential generation circuit receiving a power supply potential, selectively outputting one of a plurality of reference potentials according to an operation mode, and outputting the selected reference potential. A plurality of potential generation circuits for respectively generating the plurality of reference potentials and increasing a current driving capability for at least a predetermined period in accordance with the switching of the operation mode; and an output of the plurality of potential generation circuits. And a switching circuit that receives the reference potential generating circuit and outputs the signal in response to the operation mode. The internal circuit further operates based on the output of the reference potential generating circuit.
【請求項2】 前記電位発生回路の各々は、 生成する前記基準電位に対応する参照電位を発生する参
照電位生成回路と、 前記参照電位に応じて、前記基準電位を出力するバッフ
ァ回路とを含み、 前記バッファ回路は、 出力ノードと、 前記電源電位を受けて、前記参照電位に応じて、前記出
力ノードの電位レベルを前記参照電位レベルに駆動する
駆動回路と、 前記動作モードの切換りに応じて、活性状態である前記
駆動回路を流れる電流値を少なくとも前記所定期間切換
える電流制御回路とを有する、請求項1記載の半導体装
置。
2. Each of the potential generation circuits includes a reference potential generation circuit that generates a reference potential corresponding to the generated reference potential, and a buffer circuit that outputs the reference potential according to the reference potential. A buffer circuit that receives an output node, receives the power supply potential, and drives a potential level of the output node to the reference potential level in accordance with the reference potential; 2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising: a current control circuit that switches a current value flowing through the drive circuit in an active state for at least the predetermined period.
【請求項3】 前記駆動回路を流れる電流の経路は、互
いに並列な第1および第2の経路を含み、 前記電流制御回路は、 前記動作モードの切換わりに応じて、前記所定期間活性
状態となるパルス信号を生成するパルス信号生成回路
と、 前記第2の経路上に設けられ、前記パルス信号の活性化
に応じて導通状態となるスイッチ回路を有する、請求項
2記載の半導体装置。
3. A path of a current flowing through the drive circuit includes first and second paths parallel to each other, and the current control circuit is in an active state for the predetermined period according to switching of the operation mode. 3. The semiconductor device according to claim 2, further comprising: a pulse signal generation circuit configured to generate a pulse signal; and a switch circuit provided on the second path, which is turned on in response to activation of the pulse signal. 4.
【請求項4】 前記駆動回路を流れる電流の経路は、互
いに並列な第1および第2の経路を含み、 前記電流制御回路は、 前記動作モードに応じて、モード指定信号を生成するモ
ード信号生成回路と、 前記第2の経路上に設けられ、前記モード指定信号の活
性化に応じて導通状態となるスイッチ回路を有する、請
求項2記載の半導体装置。
4. A current signal flowing through the drive circuit includes a first path and a second path parallel to each other, and the current control circuit generates a mode signal according to the operation mode. 3. The semiconductor device according to claim 2, further comprising: a circuit; and a switch circuit provided on the second path, which is turned on in response to activation of the mode designation signal. 4.
【請求項5】 半導体装置であって、 内部電位により駆動される内部回路と、 前記内部電位を前記内部回路に伝達する配線と、 電源電位を受けて、第1の電位および前記第1の電位よ
りも高い第2の電位のうちのいずれか一方を選択的に内
部電位として、前記内部回路の動作モードに応じて切換
えて前記配線に出力する内部電位発生回路とを備え、 前記内部電位発生回路は、 前記第1および第2の電位にそれぞれ対応する第1およ
び第2の基準電位を、前記動作モードに応じて切換えて
出力し、かつ、前記動作モードの切換えに応じて少なく
とも所定期間電流駆動能力を増加させる基準電位生成回
路と、 前記基準電位生成回路の出力を入力ノードに受け、前記
内部電位を生成する電圧変換回路とを含み、 前記電圧変換回路は、ゲートが前記入力ノードと結合す
るMOSトランジスタを有する、半導体装置。
5. A semiconductor device, comprising: an internal circuit driven by an internal potential; a wiring for transmitting the internal potential to the internal circuit; and a first potential and a first potential receiving a power supply potential. An internal potential generating circuit that selectively switches one of the second potentials higher than the second potential to an internal potential and outputs the selected internal potential to the wiring according to an operation mode of the internal circuit; Switches and outputs first and second reference potentials corresponding to the first and second potentials, respectively, in accordance with the operation mode, and performs current drive for at least a predetermined period in accordance with the operation mode switching A reference potential generation circuit for increasing the capacity; and a voltage conversion circuit receiving an output of the reference potential generation circuit at an input node and generating the internal potential. Having a MOS transistor for coupling the input node, the semiconductor device.
【請求項6】 前記基準電位生成回路は、 前記第1の基準電位に対応する第1の参照電位を発生す
る第1の参照電位生成回路と、 前記第2の基準電位に対応する第2の参照電位を発生す
る第2の参照電位生成回路と、 前記第1の参照電位に応じて、前記第1の基準電位を出
力する第1のバッファ回路と、 前記第2の参照電位に応じて、前記第2の基準電位を出
力する第2のバッファ回路とを含み、 前記第1のバッファ回路および前記第2のバッファ回路
の各々は、 出力ノードと、 前記電源電位を受けて、活性状態において自身を流れる
電流値を前記動作モードの遷移後の少なくとも前記所定
期間増加させることにより、前記第1および第2の参照
電位のうち対応する一方の電位に応じて、前記出力ノー
ドの電位レベルを前記第1および第2の基準電位のうち
対応する一方の電位レベルに駆動する駆動回路とを有
し、 前記第1および第2のバッファ回路の出力を受けて、前
記動作モードに応じていずれか一方を選択的に出力する
切換回路をさらに含む、請求項5記載の半導体装置。
6. The reference potential generation circuit, comprising: a first reference potential generation circuit for generating a first reference potential corresponding to the first reference potential; and a second reference potential generation circuit for generating a second reference potential corresponding to the second reference potential. A second reference potential generation circuit that generates a reference potential, a first buffer circuit that outputs the first reference potential according to the first reference potential, and a second buffer according to the second reference potential. A second buffer circuit that outputs the second reference potential, wherein each of the first buffer circuit and the second buffer circuit receives an output node, and receives the power supply potential, and in the active state, Is increased at least for the predetermined period after the transition of the operation mode, whereby the potential level of the output node is set to the potential level of the output node according to the corresponding one of the first and second reference potentials. 1st and 1st And a drive circuit for driving to a corresponding one of the reference potentials, receiving an output of the first and second buffer circuits and selectively outputting one of them according to the operation mode. 6. The semiconductor device according to claim 5, further comprising a switching circuit that performs switching.
【請求項7】 前記駆動回路を流れる電流の経路は、互
いに並列な第1および第2の経路を含み、 前記駆動回路は、 前記第2の経路上に設けられ、前記動作モードの遷移後
の前記所定期間において活性状態を維持するパルス信号
の活性化に応じて導通状態となるスイッチ回路を有す
る、請求項6記載の半導体装置。
7. A path of a current flowing through the driving circuit includes first and second paths parallel to each other, wherein the driving circuit is provided on the second path, and after a transition of the operation mode. 7. The semiconductor device according to claim 6, further comprising a switch circuit that is turned on in response to activation of a pulse signal that maintains an active state during the predetermined period.
【請求項8】 前記駆動回路を流れる電流の経路は、互
いに並列な第1および第2の経路を含み、 前記電流制御回路は、 前記第2の経路上に設けられ、前記動作モードを指定す
るモード指定信号の活性化に応じて導通状態となるスイ
ッチ回路を有する、請求項6記載の半導体装置。
8. A path of a current flowing through the drive circuit includes first and second paths parallel to each other, and the current control circuit is provided on the second path and specifies the operation mode. 7. The semiconductor device according to claim 6, further comprising a switch circuit that is turned on in response to activation of the mode designation signal.
【請求項9】 前記電圧変換回路は、前記動作モードの
切換わりに先だって、不活性状態から活性状態となる、
請求項5記載の半導体装置。
9. The voltage conversion circuit changes from an inactive state to an active state prior to switching of the operation mode.
The semiconductor device according to claim 5.
【請求項10】 前記内部回路は、 与えられる制御信号に応じて、前記内部回路の動作を制
御する制御回路と、 行列上に配置される複数のダイナミック型メモリセルを
含むメモリセルアレイと、 前記メモリセルの列に対応して設けられる複数のビット
線対と、 アドレス信号に応じて、前記メモリセルを選択するメモ
リセル選択回路と、 前記選択されたメモリセルに保持されるデータに応じ
て、選択された前記メモリセルの結合するビット線対の
電位を増幅する複数のセンスアンプと、 前記制御回路に制御されて、前記センスアンプへの前記
内部電位の供給を制御するセンスアンプ駆動回路とを含
み、 前記動作モードの切換わりは、センスアンプによるセン
ス動作が活性・不活性に切換わることに対応する、請求
項5記載の半導体装置。
10. The internal circuit includes: a control circuit that controls an operation of the internal circuit in accordance with a control signal supplied; a memory cell array including a plurality of dynamic memory cells arranged in a matrix; A plurality of bit line pairs provided corresponding to a column of cells; a memory cell selection circuit for selecting the memory cell in accordance with an address signal; and a selection in accordance with data held in the selected memory cell. A plurality of sense amplifiers for amplifying the potential of the bit line pair coupled to the memory cell, and a sense amplifier drive circuit controlled by the control circuit to control supply of the internal potential to the sense amplifier. 6. The semiconductor device according to claim 5, wherein switching of the operation mode corresponds to switching of a sense operation by a sense amplifier between active and inactive.
【請求項11】 前記基準電位生成回路は、 前記第1の基準電位に対応する第1の参照電位を発生す
る第1の参照電位生成回路と、 前記第2の基準電位に対応する第2の参照電位を発生す
る第2の参照電位生成回路と、 前記第1の参照電位に応じて、前記第1の基準電位を出
力する第1のバッファ回路と、 前記第2の参照電位に応じて、前記第2の基準電位を出
力する第2のバッファ回路とを含み、 前記第1のバッファ回路および前記第2のバッファ回路
の各々は、 出力ノードと、 前記電源電位を受けて、自身を流れる電流値をセルフリ
フレッシュモードが指定されることに応じて、減少させ
ることにより、前記第1および第2の参照電位のうち対
応する一方の電位に応じて、前記出力ノードの電位レベ
ルを前記第1および第2の基準電位のうち対応する一方
の電位レベルに駆動する駆動回路とを有し、 前記第1および第2のバッファ回路の出力を受けて、前
記動作モードに応じていずれか一方を選択的に出力する
切換回路をさらに含み、 前記内部回路は、 与えられる制御信号に応じて、前記内部回路の動作を制
御する制御回路と、 行列上に配置される複数のダイナミック型メモリセルを
含むメモリセルアレイと、 前記メモリセルの列に対応して設けられる複数のビット
線対と、 アドレス信号に応じて、前記メモリセルを選択するメモ
リセル選択回路と、 前記選択されたメモリセルに保持されるデータに応じ
て、選択された前記メモリセルの結合するビット線対の
電位を増幅する複数のセンスアンプと、 前記制御回路に制御されて、前記センスアンプへの前記
内部電位の供給を制御するセンスアンプ駆動回路とを含
む、請求項5記載の半導体装置。
11. A reference potential generation circuit, comprising: a first reference potential generation circuit for generating a first reference potential corresponding to the first reference potential; and a second reference potential generation circuit for generating a second reference potential corresponding to the second reference potential. A second reference potential generation circuit that generates a reference potential, a first buffer circuit that outputs the first reference potential according to the first reference potential, and a second buffer according to the second reference potential. A second buffer circuit for outputting the second reference potential, wherein each of the first buffer circuit and the second buffer circuit receives an output node, and a current flowing therethrough upon receiving the power supply potential By reducing the value in response to the designation of the self-refresh mode, the potential level of the output node is increased in accordance with one of the first and second reference potentials corresponding to the corresponding one of the first and second reference potentials. Second reference phone And a drive circuit for driving to a corresponding one of the potential levels, and receiving the outputs of the first and second buffer circuits and selectively outputting one of them according to the operation mode. A control circuit that controls the operation of the internal circuit according to a control signal supplied thereto; a memory cell array including a plurality of dynamic memory cells arranged in a matrix; and the memory cell. A plurality of bit line pairs provided corresponding to the columns, a memory cell selection circuit for selecting the memory cell according to an address signal, and a memory cell selection circuit selected according to data held in the selected memory cell. A plurality of sense amplifiers for amplifying the potential of the bit line pair to which the memory cells are coupled; Controlling the and a sense amplifier drive circuit, a semiconductor device according to claim 5, wherein.
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