JP2001014880A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2001014880A
JP2001014880A JP18224799A JP18224799A JP2001014880A JP 2001014880 A JP2001014880 A JP 2001014880A JP 18224799 A JP18224799 A JP 18224799A JP 18224799 A JP18224799 A JP 18224799A JP 2001014880 A JP2001014880 A JP 2001014880A
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column
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裕征 柴山
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陽子 寺島
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory in which power consumption is reduced and operation is stabilized. SOLUTION: A memory cell array 1 is constituted by arranging a memory cell MC of a current pull-in type at an intersection part of a bit line BL and a word line WL. A row decoder 2 selecting a word line WL is an asynchronous type which is not clock-controlled, and a column decoder 3 is a synchronous type controlled by a clock ϕ11. The bit line BL is connected to a column selection gate 3b through a clamp circuit 20 consisting of NMOS transistors QN2 a gate of which is driven by bias voltage VB being lower than a power source. Bit line data are detected and amplified by a sense amplifier 5. A PMOS transistor QP being a bit line load is not connected directly, connected to a sense node SN, and connected to a bit line BL elected by a column selection gate 3b.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、電流引き込み型
のメモリセルを用いて構成される半導体記憶装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device using current draw type memory cells.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は、従来のマスクROMの要部構成
を示している。メモリセルアレイ1を構成するメモリセ
ルMCは、選択的なチャネルイオン注入や選択的なコン
タクト形成、ビア形成等を行うマスクプログラミングに
より、しきい値電圧の大小を二値データに対応させてデ
ータが書かれている。従って選択されたワード線WLに
より駆動されるメモリセルMCは二値データに応じて、
電流引き込みを行い、或いは電流引き込みを行わない。
この電流引き込みの有無により変化するビット線BLの
電位を検出することにより、データが読み出される。
2. Description of the Related Art FIG. 6 shows a main part of a conventional mask ROM. The memory cells MC forming the memory cell array 1 are written with data in which the magnitude of the threshold voltage corresponds to binary data by mask programming for performing selective channel ion implantation, selective contact formation, via formation, and the like. Has been. Therefore, the memory cell MC driven by the selected word line WL responds to the binary data.
The current is drawn or the current is not drawn.
Data is read by detecting the potential of the bit line BL that changes depending on whether or not the current is drawn.

【0003】ワード線WLは、ロウデコーダ2により選
択され、ビット線BLはカラムデコーダ3により選択さ
れる。カラムデコーダ3は、デコード部3aとこれによ
り駆動されるカラム選択ゲート3bとからなる。カラム
選択ゲート3bにより選択されたビット線は、センスア
ンプOPにより検知増幅される。ビット線データを差動
的に検知するために、参照メモリセルRMCを接続した
参照ビット線RBLが設けられている。参照ビット線R
BLはビット線BLと同時に選択されて、オペアンプO
Pに接続される。
A word line WL is selected by a row decoder 2 and a bit line BL is selected by a column decoder 3. The column decoder 3 includes a decoding unit 3a and a column selection gate 3b driven by the decoding unit 3a. The bit line selected by the column selection gate 3b is detected and amplified by the sense amplifier OP. In order to differentially detect bit line data, a reference bit line RBL connected to a reference memory cell RMC is provided. Reference bit line R
BL is selected at the same time as the bit line BL, and the operational amplifier O
Connected to P.

【0004】ビット線BL及び参照ビット線RBLに
は、負荷として、ダイオード接続されたPMOSトラン
ジスタQPが接続されている。データ読み出し時、選択
されたビット線の電位は、負荷PMOSトランジスタQ
Pによる充電能力と、メモリセルの電流引き込み能力の
バランスにより決まる。ロウデコーダ2はそのワード線
ドライブ段のゲートがクロックφ1により活性化され
る。またセンスアンプOPは、クロックφ2により活性
化される。これらのクロックφ1,φ2は、システムク
ロックに基づいて生成されるタイミングクロックであ
る。
A diode-connected PMOS transistor QP is connected as a load to the bit line BL and the reference bit line RBL. At the time of data reading, the potential of the selected bit line is changed to the load PMOS transistor Q
It is determined by the balance between the charging ability by P and the current drawing ability of the memory cell. Row decoder 2 has its word line drive stage gate activated by clock φ1. The sense amplifier OP is activated by the clock φ2. These clocks φ1 and φ2 are timing clocks generated based on the system clock.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述のように従来のR
OMでは、ロウデコーダ2はクロックφ1により活性化
される同期型としている。これは、メモリセルアレイ1
での貫通電流を防止するためである。即ちロウデコーダ
2は常にいずれか一つの出力が“H”となるから、クロ
ックφ1による活性、非活性の制御を行わない場合に
は、常時いずれかのワード線が選択状態となる。このと
き、選択されたメモリセルMCがオンであると、電流源
負荷トランジスタQPからビット線BLを介して電流が
流れる。この貫通電流は、クロックφ1によりロウデコ
ーダ2を制御することにより、抑えることが可能とな
る。しかし、ROMの大容量化に伴い、ロウデコーダ2
のワード線ドライバのゲート規模が大きくなると、クロ
ックφ1によるこれらのゲートの充放電には大きな消費
電力を要することになる。
As described above, the conventional R
In the OM, the row decoder 2 is of a synchronous type activated by a clock φ1. This is the memory cell array 1
This is to prevent a through current from occurring at the same time. That is, one of the outputs of the row decoder 2 is always at "H". Therefore, when the activation / inactivation control by the clock φ1 is not performed, one of the word lines is always in the selected state. At this time, when the selected memory cell MC is on, a current flows from the current source load transistor QP via the bit line BL. This through current can be suppressed by controlling the row decoder 2 by the clock φ1. However, as the capacity of the ROM increases, the row decoder 2
When the gate size of the word line driver increases, charging and discharging of these gates by the clock φ1 requires large power consumption.

【0006】また、ビット線負荷トランジスタQPはビ
ット線BLに直接接続されているため、カラムゲート3
bにより選択されていないビット線BLについても、ワ
ード線WLが駆動されることにより電流が流れる。これ
もROMの消費電力増大の原因となっている。更に従来
のROMは、ビット線負荷により、ビット線BLが電源
電位VCCまで上昇し得る構成となっている。この結果、
メモリセルの電流が大きく、またメモリセル電流が電源
電圧の変動やプロセス変動の影響を受けやすいため、動
作が不安定になる。
Further, since the bit line load transistor QP is directly connected to the bit line BL, the column gate 3
A current also flows to the bit line BL not selected by b by driving the word line WL. This also causes an increase in power consumption of the ROM. Further, the conventional ROM has a configuration in which the bit line BL can rise to the power supply potential VCC due to the bit line load. As a result,
The operation of the memory cell becomes unstable because the current of the memory cell is large and the memory cell current is easily affected by the fluctuation of the power supply voltage and the process fluctuation.

【0007】この発明は、上記事情を考慮してなされた
もので、消費電力の低減と動作の安定化を図った半導体
記憶装置を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a semiconductor memory device in which power consumption is reduced and operation is stabilized.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置は、ビット線とワード線の交差部に電流引き込み
型のメモリセルを配置して構成されるメモリセルアレイ
と、このメモリセルアレイのワード線を選択する非同期
型のロウデコーダと、前記メモリセルアレイのビット線
を選択する同期型のカラムデコーダと、このカラムデコ
ーダにより選択されたビット線のデータを検知増幅する
センスアンプと、このセンスアンプのセンスノードに接
続されたビット線負荷と、前記カラムデコーダの各カラ
ムゲートトランジスタと対応するビット線の間にそれぞ
れ介在させた、ビット線の電位上昇を抑制するためのク
ランプ回路とを有することを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a memory cell array in which current-carrying memory cells are arranged at intersections of bit lines and word lines, and word lines of the memory cell array. , A synchronous column decoder for selecting a bit line of the memory cell array, a sense amplifier for detecting and amplifying data of a bit line selected by the column decoder, and a sense amplifier for the sense amplifier. A bit line load connected to a node; and a clamp circuit interposed between each column gate transistor of the column decoder and a corresponding bit line, for suppressing a rise in potential of the bit line. I do.

【0009】この発明においては、ロウデコーダはクロ
ック制御されない非同期型とし、カラムデコーダはクロ
ック制御される同期型としている。このため、ロウデコ
ーダをクロック制御する場合のゲート充放電に要する消
費電力が必要なくなる。カムデコーダはクロック制御さ
れるが、通常カラムデコーダのゲート規模はロウデコー
ダに比べると十分に小さく、ここでの消費電力は問題に
ならない。
In the present invention, the row decoder is of an asynchronous type without clock control, and the column decoder is of a synchronous type with clock control. This eliminates the need for power consumption required for gate charging and discharging when the row decoder is clocked. Although the cam decoder is clock-controlled, the gate size of the column decoder is usually sufficiently smaller than that of the row decoder, and the power consumption here does not matter.

【0010】従来は、ロウデコーダを非同期型として常
時活性に保つと、メモリセルアレイでの貫通電流が問題
になった。しかしこの発明では、ビット線負荷はビット
線には直接接続されず、カラムデコーダのメモリセルア
レイ側とは反対側にあるセンスアンプのセンスノードに
接続されるようにしている。このため、ロウデコーダの
いずれか一つが常に選択状態にあっても、カラムデコー
ダにより選択されないビットには電流は流れない。ま
た、カラムデコーダを同期型としてクロック制御される
ようにしているから、常時いずれかのカラムデコード出
力によりビット線が選択されているという事態がない。
以上により、消費電力の低減が図られる。
Conventionally, when a row decoder is always kept active as an asynchronous type, a through current in a memory cell array has been a problem. However, in the present invention, the bit line load is not directly connected to the bit line, but is connected to the sense node of the sense amplifier on the opposite side of the column decoder from the memory cell array side. For this reason, even if any one of the row decoders is always in the selected state, no current flows through the bits not selected by the column decoder. In addition, since the column decoder is clocked by using a synchronous type, there is no situation in which a bit line is always selected by one of the column decode outputs.
As described above, power consumption can be reduced.

【0011】またこの発明では、各ビット線とカラムデ
コーダの間にビット線の電位上昇を抑制するためのクラ
ンプ回路を介在させている。これにより、ビット線が電
源電位まで上昇することによる消費電流の増大と動作の
不安定性が解消される。
Further, in the present invention, a clamp circuit is interposed between each bit line and the column decoder for suppressing a rise in the potential of the bit line. This eliminates an increase in current consumption and instability of operation due to the bit line rising to the power supply potential.

【0012】この発明において、ビット線負荷は好まし
くは、ゲートとドレインがセンスノードに接続され、ソ
ースが電源に接続されたPMOSトランジスタにより構
成される。また、クランプ回路は例えば、ソースがビッ
ト線に接続され、ドレインがカラムゲートトランジスタ
に接続され、ゲートに電源電圧より低い正の直流バイア
ス電圧が与えられたNMOSトランジスタにより構成さ
れる。
In the present invention, the bit line load is preferably constituted by a PMOS transistor having a gate and a drain connected to a sense node and a source connected to a power supply. The clamp circuit includes, for example, an NMOS transistor having a source connected to a bit line, a drain connected to a column gate transistor, and a gate supplied with a positive DC bias voltage lower than a power supply voltage.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態を説明する。図1は、この発明の実施の形
態によるマスクROMのブロック構成を示している。図
示のように、メモリセルアレイ1と、そのワード線、ビ
ット線をそれぞれ選択するロウデコーダ2、カラムデコ
ーダ3を有する。アドレスはアドレスバッファ4により
取り込まれて、ロウデコーダ2及びカラムデコーダ3に
供給される。センスアンプ5は、カラムデコーダ3によ
り選択されたビット線のデータを検知増幅する。読出し
データは、データバッファ6を介してデータ端子Dou
tに出力される。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a block configuration of a mask ROM according to an embodiment of the present invention. 1, a memory cell array 1 and a row decoder 2 and a column decoder 3 for respectively selecting a word line and a bit line thereof are provided. The address is taken in by the address buffer 4 and supplied to the row decoder 2 and the column decoder 3. The sense amplifier 5 detects and amplifies data on the bit line selected by the column decoder 3. The read data is sent to the data terminal Dou via the data buffer 6.
t.

【0014】図2は、図1の要部の具体的な構成を示し
ている。メモリセルアレイ1は、複数本ずつのビット線
BL(BL0,BL1,…)とワード線WL(WL0,
WL1,…)が交差して配設され、それらの各交差部に
メモリセルMCを配置して構成される。メモリセルMC
はこの実施の形態の場合、マスクプログラミングされる
MOSトランジスタである。具体的にメモリセルMC
は、例えば、しきい値電圧の高い状態(例えば、Eタイ
プ状態)をデータ“0”、しきい値電圧の低い状態(例
えば、Dタイプ状態)をデータ“1”として、二値デー
タを固定的に記憶する。或いは、コンタクト形成、ビア
形成をマスクプログラミングすることによってデータを
書き込む方式でもよい。
FIG. 2 shows a specific configuration of a main part of FIG. The memory cell array 1 includes a plurality of bit lines BL (BL0, BL1,...) And word lines WL (WL0,
WL1,...) Are arranged to cross each other, and memory cells MC are arranged at the respective intersections. Memory cell MC
Is a MOS transistor to be mask-programmed in this embodiment. Specifically, the memory cell MC
Is, for example, binary data is fixed by setting a high threshold voltage state (for example, E type state) as data “0” and a low threshold voltage state (for example, D type state) as data “1”. To remember. Alternatively, a method of writing data by mask programming of contact formation and via formation may be used.

【0015】メモリセルアレイ1には、参照ワード線R
WLにより駆動されて参照ビット線RBLにデータを出
力する参照セルRMCが設けられている。参照セルRM
Cは、その電流引き込み能力が、メモリセルMCの
“1”データ状態より小さく、“0”データ状態より大
きくなるように、サイズ等が設計されている。これによ
り、参照ビット線RBLには、選択されたビット線BL
の“0”,“1”データの間の電位が発生するようにし
ている。
The memory cell array 1 has a reference word line R
A reference cell RMC driven by WL and outputting data to the reference bit line RBL is provided. Reference cell RM
C is designed to have a size and the like such that its current drawing capability is smaller than the “1” data state of the memory cell MC and larger than the “0” data state. As a result, the selected bit line BL is added to the reference bit line RBL.
Is generated between "0" and "1" data.

【0016】ビット線BLと参照ビット線RBLは、カ
ラムデコーダ3のカラム選択ゲート3bにより選択され
て、センスアンプ5を構成するオペアンプOPのセンス
ノードSNと参照ノードRNにそれぞれ接続されるが、
カラム選択ゲート3bとビット線BL及び参照ビット線
RBLの間には、ビット線電位の上昇をあるレベルに抑
圧するためのクランプ回路20が設けられている。クラ
ンプ回路20は具体的に、各ビット線BL及び参照ビッ
ト線RBLとカラム選択ゲート3bの選択NMOSトラ
ンジスタQN11との間に挿入されたNMOSトランジ
スタQN2により構成されている。NMOSトランジス
タQN2のゲートには、電源電圧VCCより低い正のバイ
アス電圧VBが与えられる。
The bit line BL and the reference bit line RBL are selected by the column selection gate 3b of the column decoder 3 and connected to the sense node SN and the reference node RN of the operational amplifier OP forming the sense amplifier 5, respectively.
Between the column selection gate 3b, the bit line BL and the reference bit line RBL, a clamp circuit 20 for suppressing a rise in bit line potential to a certain level is provided. Specifically, the clamp circuit 20 is configured by an NMOS transistor QN2 inserted between each bit line BL and reference bit line RBL and the selection NMOS transistor QN11 of the column selection gate 3b. A positive bias voltage VB lower than the power supply voltage VCC is applied to the gate of the NMOS transistor QN2.

【0017】ビット線BL及び参照ビット線RBLに接
続されるべき負荷のPMOSトランジスタQPは、これ
らに直接接続されず、カラム選択ゲート3bの外側、即
ちセンスアンプ5側においてそれぞれセンスノードS
N、参照ノードRNに接続されている。PMOSトラン
ジスタQPは、ゲートとドレインが共通にセンスノード
SN及び参照ノードRNに接続され、ソースに電源電圧
VCCが与えられている。
The PMOS transistor QP of the load to be connected to the bit line BL and the reference bit line RBL is not directly connected to these, and is provided outside the column select gate 3b, that is, on the sense amplifier 5 side.
N, connected to the reference node RN. The PMOS transistor QP has a gate and a drain commonly connected to the sense node SN and the reference node RN, and a source supplied with the power supply voltage VCC.

【0018】この実施の形態の場合、ロウデコーダ2は
非同期型であり、ワード線ドライブ段ゲートG10,G
11,…にはクロックは入らない。一方、カラムデコー
ダ3は同期型であり、そのデコード部3aにおいては、
そのカラム選択線ドライブ段ゲートG21,G22,…
に活性化するためのクロックφ11が入る。センスアン
プ5にも、これを同期的に活性化するためのクロックφ
12が入る。
In this embodiment, the row decoder 2 is of an asynchronous type, and has word line drive stage gates G10, G
No clock is input to 11,. On the other hand, the column decoder 3 is of a synchronous type, and its decoding unit 3a has:
The column selection line drive stage gates G21, G22,.
Clock φ11 for activation. The sense amplifier 5 also has a clock φ for synchronously activating it.
12 enters.

【0019】この実施の形態によるROMのデータ読み
出し動作を、図3を参照して次に説明する。例えば、選
択ワード線WLが時刻t1に立ち上がり、これに遅れて
時刻t2に選択されたカラム選択線CSLが立ち上がる
ものとする。カラム選択線CSLが立ち上がるまで、セ
ンスノードSN及び参照ノードRNは、負荷PMOSト
ランジスタQPによって、VCCに充電されている。ま
た、ビット線BL及び参照ビット線RBLは、図では、
VSSにリセット(プリチャージ)されてるものとして示
してある。
The operation of reading data from the ROM according to this embodiment will now be described with reference to FIG. For example, it is assumed that the selected word line WL rises at time t1, and the column selection line CSL selected at time t2 rises later. Until the column selection line CSL rises, the sense node SN and the reference node RN are charged to VCC by the load PMOS transistor QP. Further, the bit line BL and the reference bit line RBL are
It is shown as being reset (precharged) to VSS.

【0020】選択されたカラム選択線CSLが立ち上が
ると、負荷PMOSトランジスタQPは選択されたビッ
ト線BLに接続され、ワード線WLにより選択されてい
るメモリセルMCにつながる。これにより、メモリセル
データがデータ“0”の場合には、ビット線BLは電位
上昇し、データ“1”の場合は電流引き込みによりビッ
ト線電位は上昇しない。参照ビット線RBLでは、
“0”データのビット線電位変化と“1”データのビッ
ト線電位変化の中間的な変化を示す。ここで、“0”デ
ータのビット線の電位上昇は、クランプ用NMOSトラ
ンジスタQN2により制限される。即ち、NMOSトラ
ンジスタQN2のしきい値電圧をVthとして、ビット線
電位がVB−Vthまで上昇すると、NMOSトランジス
タQN2はオフになるから、これ以上は上昇しない。
When the selected column selection line CSL rises, the load PMOS transistor QP is connected to the selected bit line BL and connected to the memory cell MC selected by the word line WL. Thus, when the memory cell data is data "0", the potential of the bit line BL rises, and when the data is "1", the bit line potential does not rise due to current draw. In the reference bit line RBL,
It shows an intermediate change between a bit line potential change of “0” data and a bit line potential change of “1” data. Here, the rise in the potential of the bit line for the “0” data is limited by the clamping NMOS transistor QN2. That is, when the threshold voltage of the NMOS transistor QN2 is set to Vth and the bit line potential rises to VB-Vth, the NMOS transistor QN2 is turned off and does not further rise.

【0021】センスノードSN及び参照ノードRNは、
カラム選択線CSLの立ち上がりにより、一旦ビット線
BL及び参照ビット線RBLに引かれてアンダーシュー
トする。“0”データのビット線につながるセンスノー
ドSNはVCCに復帰し、“1”データにつながるセンス
ノードSNはビット線BLに“0”データに比べて低い
電位に安定する。参照ノードRNは、センスノードSN
の“0”,“1”の場合の電位変化の中間の電位変化を
示す。そして、センスノードSNと参照ノードRNの電
位差が一定レベルに達する時刻t3で、センス出力SA
OUTが得られる。カラム選択線CSLが“L”になっ
た後、図示しないプリチャージ回路によりビット線BL
及び参照ビット線RBLはVSSに収束する。
The sense node SN and the reference node RN are:
At the rise of the column selection line CSL, the bit line BL and the reference bit line RBL are once drawn and undershoot. The sense node SN connected to the "0" data bit line returns to VCC, and the sense node SN connected to the "1" data stabilizes at a lower potential on the bit line BL than the "0" data. The reference node RN is the sense node SN
5 shows an intermediate potential change between the potential changes in the case of “0” and “1”. Then, at time t3 when the potential difference between the sense node SN and the reference node RN reaches a certain level, the sense output SA
OUT is obtained. After the column selection line CSL becomes “L”, the bit line BL is
And the reference bit line RBL converges to VSS.

【0022】この実施の形態によると、ロウデコーダ2
にクロックを用いないから、従来多数のロウデコーダの
ゲートをクロック制御する場合に消費していた無駄な電
力がなくなる。ロウデコーダをクロック制御しないた
め、常時いずれかのワード線が選択状態になるが、この
実施の形態ではビット線負荷がビット線に直接接続され
ておらず、カラムゲートにより選択されたビット線にの
みビット線負荷が接続されるようにしている。従って、
カラムゲートがオンしない限りビット線負荷からビット
線に電流が流れることはなく、メモリセルアレイでの無
駄な消費電流も抑圧されている。
According to this embodiment, the row decoder 2
Since no clock is used, unnecessary power that has conventionally been consumed when clock-controlling the gates of many row decoders is eliminated. Since the row decoder is not clocked, one of the word lines is always in the selected state. However, in this embodiment, the bit line load is not directly connected to the bit line, and is applied only to the bit line selected by the column gate. A bit line load is connected. Therefore,
As long as the column gate is not turned on, current does not flow from the bit line load to the bit line, and unnecessary current consumption in the memory cell array is suppressed.

【0023】また、ビット線の充電電位はクランプ回路
により電源電圧より低いレベルに抑えられている。この
結果、メモリセルでの電流が少なくなり、また電源電圧
やプロセスのバラツキによるメモリセル電流への影響が
相対的に小さくなり、安定したデータ読み出し動作が可
能になる。
The charging potential of the bit line is suppressed to a level lower than the power supply voltage by a clamp circuit. As a result, the current in the memory cell is reduced, and the influence on the memory cell current due to the power supply voltage and the variation in the process is relatively reduced, so that a stable data reading operation can be performed.

【0024】この発明は上記実施の形態に限られない。
例えば、メモリセルは電流引き込みの有無により二値デ
ータを記憶するものであればよい。従って、図4に示す
ようなデュアルポートSRAMセルを用いたSRAM、
或いは図5に示すような3トランジスタ型のDRAMセ
ルを用いたDRAMにも同様にこの発明を適用すること
ができる。
The present invention is not limited to the above embodiment.
For example, the memory cell may be one that stores binary data depending on whether or not current is drawn. Therefore, an SRAM using a dual-port SRAM cell as shown in FIG.
Alternatively, the present invention can be similarly applied to a DRAM using a three-transistor DRAM cell as shown in FIG.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上述べたようにこの発明による半導体
記憶装置では、ビット線負荷をカラム選択ゲートの外側
に設けて選択的にビット線に接続されるようにして、ロ
ウデコーダはクロック制御せず、カラムデコーダをクロ
ック制御することにより、消費電力の削減を図ることが
できる。また、ビット線とカラム選択ゲートの間にはク
ランプ回路を設けてビット線の電位上昇を抑制してお
り、これにより動作の安定化が図られる。
As described above, in the semiconductor memory device according to the present invention, the bit line load is provided outside the column selection gate and selectively connected to the bit line, and the row decoder does not perform clock control. By controlling the clock of the column decoder, power consumption can be reduced. Further, a clamp circuit is provided between the bit line and the column selection gate to suppress a rise in the potential of the bit line, thereby stabilizing the operation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の形態によるマスクROMのブ
ロック構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a block configuration of a mask ROM according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態のマスクROMの要部の具体構成
を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a specific configuration of a main part of the mask ROM of the embodiment.

【図3】同実施の形態のマスクROMの動作を説明する
ためのタイミング図である。
FIG. 3 is a timing chart for explaining the operation of the mask ROM of the embodiment.

【図4】他の実施の形態に用いられるデュアルポートS
RAMセルを示す図である。
FIG. 4 shows a dual port S used in another embodiment.
FIG. 3 is a diagram illustrating a RAM cell.

【図5】他の実施の形態に用いられる3トランジスタD
RAMセルを示す図である。
FIG. 5 shows a three-transistor D used in another embodiment.
FIG. 3 is a diagram illustrating a RAM cell.

【図6】従来のマスクROMの構成を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a conventional mask ROM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…メモリセルアレイ、2…ロウデコーダ、3…カラム
デコーダ、4…アドレスバッファ、5…センスアンプ、
6…データバッファ、20…クランプ回路、MC…メモ
リセル、RMC…参照セル、QP…PMOSトランジス
タ(ビット線負荷)。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... memory cell array, 2 ... row decoder, 3 ... column decoder, 4 ... address buffer, 5 ... sense amplifier,
6 data buffer, 20 clamp circuit, MC memory cell, RMC reference cell, QP PMOS transistor (bit line load).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小泉 正幸 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 Fターム(参考) 5B003 AA05 AB03 AC07 AC08 AD02 AD05 5B015 HH04 JJ04 JJ12 KA09 KA32 KA35 KB13 KB44 KB50 QQ03 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Masayuki Koizumi F-term (reference) 5B003 AA05 AB03 AC07 AC08 AD02 AD05 5B015 HH04 JJ04 in the Toshiba Microelectronics Center, No. 1, Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa JJ12 KA09 KA32 KA35 KB13 KB44 KB50 QQ03

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビット線とワード線の交差部に電流引き
込み型のメモリセルを配置して構成されるメモリセルア
レイと、 このメモリセルアレイのワード線を選択する非同期型の
ロウデコーダと、 前記メモリセルアレイのビット線を選択する同期型のカ
ラムデコーダと、 このカラムデコーダにより選択されたビット線のデータ
を検知増幅するセンスアンプと、 このセンスアンプのセンスノードに接続されたビット線
負荷と、 前記カラムデコーダの各カラムゲートトランジスタと対
応するビット線の間にそれぞれ介在させた、ビット線の
電位上昇を抑制するためのクランプ回路とを有すること
を特徴とする半導体記憶装置。
1. A memory cell array configured by arranging a current drawing type memory cell at an intersection of a bit line and a word line, an asynchronous row decoder for selecting a word line of the memory cell array, and the memory cell array A synchronous column decoder for selecting a bit line of the same; a sense amplifier for detecting and amplifying data of the bit line selected by the column decoder; a bit line load connected to a sense node of the sense amplifier; And a clamp circuit interposed between each of the column gate transistors and the corresponding bit line for suppressing a rise in the potential of the bit line.
【請求項2】 前記ビット線負荷は、ゲートとドレイン
がセンスノードに接続され、ソースが電源に接続された
PMOSトランジスタであることを特徴とする請求項1
記載の半導体記憶装置。
2. The bit line load is a PMOS transistor having a gate and a drain connected to a sense node and a source connected to a power supply.
13. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項3】 前記クランプ回路は、ソースがビット線
に接続され、ドレインがカラムゲートトランジスタに接
続され、ゲートに電源電圧より低い正の直流バイアス電
圧が与えられたNMOSトランジスタであることを特徴
とする請求項1記載の半導体記憶装置。
3. The clamp circuit is an NMOS transistor having a source connected to a bit line, a drain connected to a column gate transistor, and a gate supplied with a positive DC bias voltage lower than a power supply voltage. The semiconductor memory device according to claim 1.
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