JP2000353641A - Manufacture of solid electronic element - Google Patents

Manufacture of solid electronic element

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JP2000353641A
JP2000353641A JP11166188A JP16618899A JP2000353641A JP 2000353641 A JP2000353641 A JP 2000353641A JP 11166188 A JP11166188 A JP 11166188A JP 16618899 A JP16618899 A JP 16618899A JP 2000353641 A JP2000353641 A JP 2000353641A
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JP
Japan
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conductive polymer
solid
forming
oxide film
anode
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JP11166188A
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Japanese (ja)
Inventor
Kunihiko Shimizu
邦彦 清水
Toshihiko Nishiyama
利彦 西山
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a conductive polymer layer on an oxide film by electrolytic polymerization, which can reduce the time necessary for film formation and make the thickness of the polymer layer uniform. SOLUTION: An electrolytic polymerization solution containing pyrrole as the conductive polymer layer monomer is used, and when a conductive polymer (polypyrrole) layer is formed on a Ta(tantalum) sintered body 1, electrolytic polymerization is carried out as the Ta sintered body 1 when an anode member is being pulled up from the electrolytic polymerization solution 8. Thereby the polymerization reaction at a gas/liquid interface can be utilized, and film formation time can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、固体電解コンデン
サ等の固体電子素子の製造方法に関し、特に、導電性層
として導電性高分子材料を用いる固体電子素子の製造方
法に関するものである。
The present invention relates to a method for manufacturing a solid-state electronic device such as a solid electrolytic capacitor and, more particularly, to a method for manufacturing a solid-state electronic device using a conductive polymer material as a conductive layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、電極層が導電性高分子材料により
形成された固体電子素子が多く用いられている。導電性
高分子材料を用いて電極層を形成した固体電子素子の1
つに固体電解コンデンサがある。固体電解コンデンサ
は、該コンデンサの陽極体金属として、Ta(タンタ
ル)やAl(アルミニウム)を使うものが主流である。
図5は、製造工程途中段階にあるTa固体電解コンデン
サの断面図である。以下に、図5に示す構成を参照し
て、従来の一般的な、Ta固体電解コンデンサの製造方
法を説明する。
2. Description of the Related Art At present, solid-state electronic devices in which an electrode layer is formed of a conductive polymer material are widely used. 1 of solid-state electronic devices in which an electrode layer is formed using a conductive polymer material
One is a solid electrolytic capacitor. The mainstream of solid electrolytic capacitors uses Ta (tantalum) or Al (aluminum) as an anode metal of the capacitor.
FIG. 5 is a cross-sectional view of the Ta solid electrolytic capacitor in the middle of the manufacturing process. Hereinafter, a conventional general method for manufacturing a Ta solid electrolytic capacitor will be described with reference to the configuration shown in FIG.

【0003】(1)Ta素子の製造 プレス成形によりTa金属粉に陽極リード2を埋設した
成形体を作成し、真空焼結を行って、多孔質のTa焼結
体1を有する固体電解コンデンサ用Ta素子を作成す
る。ここで、Ta焼結体を多孔質に形成するのは、実効
表面積を広くするためである。
(1) Manufacture of a Ta element A molded body in which an anode lead 2 is embedded in Ta metal powder by press molding is prepared and vacuum-sintered to obtain a solid electrolytic capacitor having a porous Ta sintered body 1. A Ta element is created. Here, the reason why the Ta sintered body is made porous is to increase the effective surface area.

【0004】(2)酸化皮膜層の形成 次に、Ta焼結体をリン酸水溶液に浸漬し、陽極リード
に正電位、水溶液中に浸漬した対抗電極を負電位に保ち
通電することによりTa25 皮膜層3をTa焼結体表
面に形成する(陽極化成または陽極酸化と呼ばれる)。
実際には、多孔質状のTa焼結体の内部表面にもTa2
5 皮膜層3が形成されるのであるが、図5では、製造
工程の順番を分かりやすくするためにTa焼結体の側面
と底面にTa25 皮膜層が均一の厚さで形成されてい
るように簡単化して図示してある(後の工程において形
成されるプレコート層や導電性高分子層についても同様
である)。
[0004] (2) Formation of oxide layer was then immersed Ta sintered body in an aqueous solution phosphoric acid, Ta 2 by energizing maintaining a positive potential, the counter electrode immersed in an aqueous solution at the negative potential to the anode lead An O 5 film layer 3 is formed on the surface of the Ta sintered body (called anodization or anodic oxidation).
Actually, Ta 2 is also applied to the inner surface of the porous Ta sintered body.
The O 5 film layer 3 is formed. In FIG. 5, a Ta 2 O 5 film layer having a uniform thickness is formed on the side and bottom surfaces of the Ta sintered body in order to easily understand the order of the manufacturing process. (The same applies to a pre-coat layer and a conductive polymer layer formed in a later step).

【0005】(3)化学重合プレコート層の形成 酸化皮膜を形成したTa焼結体を酸化剤に浸漬し、乾燥
をした後、導電性高分子モノマーに浸漬し、乾燥を行い
化学重合による導電性高分子からなるプレコート層4を
形成する。Ta焼結体をリン酸水溶液に浸漬して電圧を
かけて再化成を行い、酸化皮膜層の修復を行う。
(3) Formation of Chemical Polymerization Precoat Layer A Ta sintered body having an oxide film formed thereon is immersed in an oxidizing agent, dried, then immersed in a conductive polymer monomer, and dried to obtain a conductive polymer by chemical polymerization. A precoat layer 4 made of a polymer is formed. The Ta sintered body is immersed in a phosphoric acid aqueous solution, a voltage is applied to perform re-chemical formation, and the oxide film layer is repaired.

【0006】(4)電解重合による導電性高分子層の形
成 図6に示すように、導電性高分子モノマーとして例えば
ピロールを含み、臨界ミセル濃度(CMC:critical m
icelle concentration)以上の界面活性剤を含む電解重
合溶液8の入った電解槽7内に、プレコート層4まで形
成されたTa焼結体1を浸漬し、電源5の正側端子を陽
極リード2に、負側端子を電解重合溶液8中の対抗電極
にあたる陰極6に接続して電解重合を行う。このとき、
電解重合溶液8において、気体−液体と、陽極−液体界
面には、界面活性剤がそれぞれ分子膜9、10を形成す
る。この分子膜内に疎水性の導電性高分子モノマーが高
密度に濃縮されるため、ピロール濃度(以下、Py濃度
という)が高くなり重合効率が高くなる。この電解重合
により、Ta焼結体の酸化皮膜上に導電性高分子(ポリ
ピロール)層が形成される。このとき、気体−液体界面
近傍で形成される導電性高分子層11は、気体−液体界
面でのPy濃度が高いところで形成されるため、陽極−
液体界面で形成される導電性高分子層12よりも厚くな
り、Ta焼結体1の側面の上部とそれ以外で導電性高分
子層の膜厚が不均一となる。
(4) Formation of Conductive Polymer Layer by Electropolymerization As shown in FIG. 6, the conductive polymer monomer contains, for example, pyrrole and has a critical micelle concentration (CMC).
The Ta sintered body 1 formed up to the precoat layer 4 is immersed in the electrolytic bath 7 containing the electrolytic polymerization solution 8 containing a surfactant having an icelle concentration or more, and the positive terminal of the power supply 5 is connected to the anode lead 2. Then, the negative terminal is connected to the cathode 6 corresponding to the counter electrode in the electrolytic polymerization solution 8 to perform the electrolytic polymerization. At this time,
In the electrolytic polymerization solution 8, a surfactant forms molecular films 9 and 10 at the gas-liquid and anode-liquid interfaces, respectively. Since the hydrophobic conductive polymer monomer is concentrated in the molecular film at a high density, the pyrrole concentration (hereinafter, referred to as Py concentration) increases, and the polymerization efficiency increases. By this electrolytic polymerization, a conductive polymer (polypyrrole) layer is formed on the oxide film of the Ta sintered body. At this time, the conductive polymer layer 11 formed near the gas-liquid interface is formed at a high Py concentration at the gas-liquid interface.
The thickness becomes larger than the conductive polymer layer 12 formed at the liquid interface, and the thickness of the conductive polymer layer becomes uneven at the upper portion of the side surface of the Ta sintered body 1 and other portions.

【0007】(5)外装 酸化皮膜上に形成した導電性高分子層上にグラファイト
ペースト、銀ペーストによる導電体層を形成し、これに
陰極引き出しリードを接続した後、以上のように構成さ
れた素子を樹脂モールド等により外装することにより固
体電解コンデンサを得る。図7は、上記従来の方法によ
り、グラファイト層14までを形成した固体電解コンデ
ンサの製造途中での概略断面図である。図7に示すよう
に、Ta焼結体1の側面と底面のプレコート層4上に、
陽極−液体界面で形成された導電性高分子層12aと側
面上部に厚手の気体−液体界面で形成された導電性高分
子層11aが形成されている。
(5) Exterior A conductor layer made of graphite paste or silver paste is formed on the conductive polymer layer formed on the oxide film, and a cathode lead is connected to the conductor layer. A solid electrolytic capacitor is obtained by packaging the element with a resin mold or the like. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a solid electrolytic capacitor in which the graphite layer 14 has been formed by the above-described conventional method, in the course of manufacturing. As shown in FIG. 7, on the pre-coat layer 4 on the side and bottom surfaces of the Ta sintered body 1,
The conductive polymer layer 12a formed at the anode-liquid interface and the conductive polymer layer 11a formed at the thick gas-liquid interface are formed on the upper side surface.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の製造方
法では、上記(4)の電解重合による導電性高分子層の
形成工程において、Ta焼結体1の側面での電解重合の
ほとんどは陽極−液体界面において行われ、ここでは重
合反応速度を決定する重要な因子であるPy濃度が比較
的小さいるため、重合速度を速めることが困難であり、
導電性高分子の形成時間を短くすることが困難であっ
た。
In the conventional manufacturing method described above, in the step (4) of forming the conductive polymer layer by electrolytic polymerization, most of the electrolytic polymerization on the side surface of the Ta sintered body 1 is performed by the anode. -It is performed at the liquid interface, where it is difficult to increase the polymerization rate because the Py concentration, which is an important factor determining the polymerization reaction rate, is relatively small;
It was difficult to shorten the time for forming the conductive polymer.

【0009】また、電解重合の際、Ta焼結体側面上端
部においては、Py濃度の高い分子膜9により導電性高
分子層が形成されるため、図7に示されるように、Ta
焼結体1側面上に、気体−液体界面で形成された導電性
高分子層11aと、陽極−液体界面で形成された導電性
高分子層12aとで厚さの不均一を生じる。この厚さの
不均一は、後の外装の工程を困難にしたり、完成後の固
体電解コンデンサの使用中に、コンデンサ内の不均衡な
熱分布を生じさせ、製品の劣化を招くことがある。本発
明の課題は、上述した従来技術の問題点を解決すること
であって、その目的は、導電性高分子層を形成する重合
反応速度を速め、且つ、均一な導電性高分子層を形成す
ることができるようにすることである。
At the time of electrolytic polymerization, a conductive polymer layer is formed at the upper end portion of the side surface of the Ta sintered body by the molecular film 9 having a high Py concentration. As shown in FIG.
On the side surface of the sintered body 1, the conductive polymer layer 11a formed at the gas-liquid interface and the conductive polymer layer 12a formed at the anode-liquid interface have a non-uniform thickness. This non-uniform thickness may make subsequent packaging steps difficult or may cause uneven heat distribution in the completed solid electrolytic capacitor during use, resulting in product degradation. An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to increase a polymerization reaction rate for forming a conductive polymer layer and form a uniform conductive polymer layer. Is to be able to do that.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の固体電子素子の
製造方法は、(1)陽極となる金属体とこれに電気的に
接続された陽極リードとを備える陽極素子を形成する工
程と、(2)導電性高分子モノマーと界面活性剤を含む
電解重合液を用い、重合反応を利用して前記金属体上に
導電性高分子層を形成する工程と、を有するものであっ
て、前記第(2)の工程においては、電界を印加しつ
つ、前記陽極素子をゆっくりと前記電解重合液中より引
き上げることにより、若しくは、ゆっくりと前記電解重
合液中に引き下ろすことにより、気体−液体界面の重合
反応を利用して導電性高分子層を形成することを特徴と
している。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a solid-state electronic device, comprising the steps of (1) forming an anode element including a metal body serving as an anode and an anode lead electrically connected to the metal body; (2) using an electrolytic polymerization solution containing a conductive polymer monomer and a surfactant, and forming a conductive polymer layer on the metal body by using a polymerization reaction; In the step (2), the gas-liquid interface is formed by slowly pulling up the anode element from the electrolytic polymerization solution while applying an electric field, or by slowly lowering the anode element into the electrolytic polymerization solution. The conductive polymer layer is formed by utilizing the polymerization reaction of (1).

【0011】そして、好ましくは、前記金属体は、多孔
質金属焼結体である。また、前記第(1)の工程の後前
記第(2)の工程に先立って、前記金属体の表面に酸化
皮膜を形成する工程が付加される。また、前記第(1)
の工程の後前記第(2)の工程に先立って、若しくは、
前記酸化皮膜を形成する工程の後前記第(2)の工程に
先立って、前記金属体の表面または前記酸化皮膜の表面
に導電性高分子膜からなる予備電極層を形成する工程が
付加される。
Preferably, the metal body is a porous metal sintered body. Further, after the step (1) and before the step (2), a step of forming an oxide film on the surface of the metal body is added. In addition, the (1)
After the step and prior to the step (2), or
After the step of forming the oxide film, prior to the step (2), a step of forming a preliminary electrode layer made of a conductive polymer film on the surface of the metal body or the surface of the oxide film is added. .

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の第1の実施の形
態における導電性高分子層を形成する方法を説明する図
である。図1中の図1(a)は本発明の方法による第1
段階の図であり、図1(b)は本発明の方法の第2段階
の実行中の図である。導電性高分子層を形成する以前
の、陽極リード2付きのTa焼結体1を形成する工程か
らプレコート層4を形成するまでの工程は、従来の技術
で説明した工程と同じであるので説明を省略する。ま
た、図1(a)に示す各部の構成は、従来の技術の説明
で参照した図6に示した構成と同様であるので、重複す
る説明は省略する。
FIG. 1 is a diagram for explaining a method for forming a conductive polymer layer according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1 (a) in FIG. 1 shows a first method according to the method of the present invention.
FIG. 1 (b) is a diagram of a stage during execution of the second stage of the method of the present invention. The steps from the step of forming the Ta sintered body 1 with the anode lead 2 to the step of forming the precoat layer 4 before the formation of the conductive polymer layer are the same as the steps described in the related art, and therefore will be described. Is omitted. Further, the configuration of each unit shown in FIG. 1A is the same as the configuration shown in FIG. 6 referred to in the description of the conventional technique, and a duplicate description will be omitted.

【0013】本発明による固体電解コンデンサの製造方
法では、図1(a)で示した構成で電解重合を行ない、
最初に第1段階として、従来の技術のように、気体−液
体界面での導電性高分子層11と、陽極−液体界面での
導電性高分子層12を形成する。この状態で適当な時間
電解重合を行った後、第2段階として、図1(b)に示
すように、電圧をかけ続けた状態で、Ta焼結体1をゆ
っくり引き上げる。引き上げる途中でTa焼結体1の側
面と底面は、電解重合溶液8中の、Py濃度の高い気体
−液体界面での分子膜9の層を通過する。このことによ
り、陽極−液体界面の分子膜10による重合反応に加え
て気体−液体界面の分子膜9での重合反応を利用するこ
とができるので、より重合速度の高い電解重合が行うこ
とができる。また、Ta焼結体1側面に形成される導電
性高分子層は、全側面にわたって均一の膜厚になる。
In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to the present invention, electrolytic polymerization is performed with the configuration shown in FIG.
First, as a first step, a conductive polymer layer 11 at a gas-liquid interface and a conductive polymer layer 12 at an anode-liquid interface are formed as in the prior art. After performing electropolymerization for an appropriate time in this state, as a second stage, as shown in FIG. 1B, the Ta sintered body 1 is slowly pulled up while voltage is continuously applied. During the lifting, the side and bottom surfaces of the Ta sintered body 1 pass through the layer of the molecular film 9 at the gas-liquid interface in the electrolytic polymerization solution 8 where the Py concentration is high. Thereby, in addition to the polymerization reaction by the molecular film 10 at the anode-liquid interface, the polymerization reaction at the molecular film 9 at the gas-liquid interface can be used, so that electrolytic polymerization at a higher polymerization rate can be performed. . Further, the conductive polymer layer formed on the side surface of the Ta sintered body 1 has a uniform film thickness over all side surfaces.

【0014】上記の実施の形態では、所定の時間静止状
態を保持した後、ゆっくりと引き上げるものであった
が、この重合開始時の静止状態は必ずしも設ける必要は
ない。また、引き上げるのに代えて、Ta焼結体を電解
重合溶液中にゆっくりと引き下ろしながら電解重合を行
うようにしてもよい。また、引き上げ速度(または引き
下げ速度)は、Ta焼結体1の上部が分子膜9を通過す
る速度の方が下部が分子膜9の部分を通過するときの速
度より小さくすることが望ましい。すなわち、Ta焼結
体1を引き上げながら導電性高分子層を形成する場合に
は、最初はゆっくりと引き上げ徐々に引き上げ速度を高
めるようにする。また、Ta焼結体1を引き下ろしなが
ら導電性高分子層を形成する場合には、最初は比較的高
速度で引き下げ始め徐々に引き下げ速度を下げるように
する。
In the above-described embodiment, the stationary state is maintained for a predetermined time and then slowly raised, but the stationary state at the start of the polymerization is not always required. Instead of pulling up, the Ta-based sintered body may be electrolytically polymerized while being slowly pulled down into the electrolytic polymerization solution. Further, it is desirable that the speed at which the upper portion of the Ta sintered body 1 passes through the molecular film 9 is lower than the speed at which the lower portion passes through the molecular film 9. That is, when the conductive polymer layer is formed while pulling up the Ta sintered body 1, the pulling speed is initially increased slowly and gradually. When the conductive polymer layer is formed while the Ta sintered body 1 is being pulled down, the pulling is started at a relatively high speed at first and then gradually lowered.

【0015】また、図1に示した電解重合方法は、電源
5の正側を陽極リード2に接続して電解重合を行うもの
であったが、この方法に代えてあるいはこれと併用し
て、電源5の正側に接続された外部給電端子をTa焼結
体1の近傍に配置してこの外部給電端子と電解重合溶液
中の陰極との間に電圧をかけて電解重合を行うようにし
てもよい(実施例2および図4参照)。また、本発明に
おいて、陽極金属体となる金属は必ずしもTaである必
要はなく、Al(アルミニウム)、W(タングステ
ン)、Nb(ニオブ)などの他の弁作用金属であっても
よい。さらに、多孔質の金属焼結体に代えて、表面が平
坦な若しくはエッチングにより表面に凹凸が形成された
金属板を陽極体として用いることもできる。
In the electrolytic polymerization method shown in FIG. 1, the positive side of the power supply 5 is connected to the anode lead 2 to perform the electrolytic polymerization. Instead of this method or in combination with this method, An external power supply terminal connected to the positive side of the power supply 5 is arranged near the Ta sintered body 1 so that a voltage is applied between the external power supply terminal and the cathode in the electrolytic polymerization solution to perform electrolytic polymerization. (See Example 2 and FIG. 4). Further, in the present invention, the metal serving as the anode metal body does not necessarily need to be Ta, and may be another valve action metal such as Al (aluminum), W (tungsten), or Nb (niobium). Further, instead of the porous metal sintered body, a metal plate having a flat surface or an uneven surface formed by etching may be used as the anode body.

【0016】図2は、本発明の第2の実施の形態を説明
する電解重合状態を示す図である。図2(a)は、電解
重合溶液中にTa焼結体全体を浸漬して導電性高分子層
を形成している状態を示す図で、各部の構成は、図1
(a)と同じであるので、その説明は省略する。電解重
合を行いながら、陽極体としてのTa焼結体を第1の実
施の形態と同じようにゆっくりと引き上げる。Ta焼結
体1の浸漬位置を図2に示すTa焼結体底部まで上げて
停止する。この後、電解重合を行ないながらゆっくり下
げて、図2(a)の位置まで戻す。この工程を繰り返
し、複数回(例えば3回)往復させる。上記の第1、第
2の実施の形態によれば、Ta焼結体1の浸漬位置を移
動させて、重合効率のより大きい気体−液体界面での反
応を焼結体全体で利用することができ、より短時間で、
均一な導電性高分子層を形成することができる。
FIG. 2 is a diagram showing an electrolytic polymerization state for explaining a second embodiment of the present invention. FIG. 2A shows a state in which the entire Ta sintered body is immersed in an electrolytic polymerization solution to form a conductive polymer layer.
Since it is the same as (a), the description is omitted. While performing the electrolytic polymerization, the Ta sintered body as the anode body is slowly pulled up as in the first embodiment. The immersion position of the Ta sintered body 1 is raised to the bottom of the Ta sintered body shown in FIG. 2 and stopped. Thereafter, it is lowered slowly while performing electrolytic polymerization, and returned to the position shown in FIG. This step is repeated, and reciprocated a plurality of times (for example, three times). According to the first and second embodiments, it is possible to move the immersion position of the Ta sintered body 1 and use the reaction at the gas-liquid interface having a higher polymerization efficiency in the entire sintered body. And in a shorter time,
A uniform conductive polymer layer can be formed.

【0017】[0017]

【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。 実施例1 (1)Ta焼結体の製造 プレス成形によりTa金属粉に陽極リードを埋設した成
形体を作成し、高真空槽(10-4〜10-6mmHg)中
で約2000℃に加熱し30〜60分間程度焼結を行っ
て多孔質のTa焼結体を有する固体電解コンデンサ用T
a陽極素子を作成した。 (2)酸化皮膜層の形成 次に、Ta焼結体をリン酸水溶液(0.6wt%)に浸
漬し、陽極リードに正電位、水溶液中に浸漬した対抗電
極を負電位として通電を行ってTa25 皮膜層をTa
焼結体表面に形成する。このとき陽極体−対抗電極間の
電位差(化成電圧)を18Vにして酸化皮膜層の形成を
行った。 (3)化学重合プレコート層の形成 酸化皮膜を形成したTa焼結体を、酸化剤としてp(パ
ラ)−トルエンスルフォン酸鉄塩を30wt%含む水溶
液に5分間浸漬し、乾燥をした後、エチレンジオキシチ
オフェンモノマー(導電性高分子モノマー)溶液に1分
間浸漬し、乾燥を行い化学重合による導電性高分子プレ
コート層をTa焼結体多孔質内部に形成した。Ta焼結
体をリン酸水溶液(0.002wt%)に浸漬して18
Vで再化成を行い、酸化皮膜層の修復を行った。
Next, an embodiment of the present invention will be described. Example 1 (1) Production of Ta sintered body A molded body in which an anode lead was embedded in Ta metal powder was prepared by press molding, and heated to about 2000 ° C. in a high vacuum chamber (10 −4 to 10 −6 mmHg). Sintering for about 30 to 60 minutes to obtain a solid electrolytic capacitor T having a porous Ta sintered body.
a An anode element was prepared. (2) Formation of Oxide Film Layer Next, the Ta sintered body was immersed in a phosphoric acid aqueous solution (0.6 wt%), and a current was applied to the anode lead with a positive potential and the counter electrode immersed in the aqueous solution with a negative potential. Ta 2 O 5 coating layer
Formed on the surface of the sintered body. At this time, the potential difference (formation voltage) between the anode body and the counter electrode was set to 18 V to form an oxide film layer. (3) Formation of Chemical Polymerization Precoat Layer The Ta sintered body on which the oxide film was formed was immersed in an aqueous solution containing 30 wt% of p (para) -toluenesulfonic acid iron salt as an oxidizing agent for 5 minutes, dried, and then dried. It was immersed in a dioxythiophene monomer (conductive polymer monomer) solution for 1 minute and dried to form a conductive polymer precoat layer by chemical polymerization inside the porous Ta sintered body. The Ta sintered body is immersed in a phosphoric acid aqueous solution (0.002 wt%) to be 18
Re-chemical conversion was performed with V to repair the oxide film layer.

【0018】(4)電解重合による導電性高分子層の形
成 導電性高分子モノマーとしてピロール0.1mol/
l、界面活性剤・支持電解質・導電性高分子のドーパン
トを兼ねたドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムを
0.025mol/l含む水溶媒の電解重合溶液にTa
焼結体を浸漬し、陽極リードと電解重合液中の対抗電極
間に15Vを印加して電解重合を8時間行った。このと
きTa焼結体をゆっくり引き上げることにより、30μ
mの均一な膜厚のポリピロール層を陽極体の酸化皮膜上
に得た。 (5)外装 グラファイトペースト、銀ペーストによる導電層を成膜
したポリピロール層上に形成し、陰極引き出しリードを
接続し、以上のように構成された素子を樹脂モールド等
により外装して固体電解コンデンサを得た。
(4) Formation of conductive polymer layer by electrolytic polymerization Pyrrole 0.1 mol /
l, an aqueous polymer solution containing 0.025 mol / l of sodium dodecylbenzenesulfonate, which also serves as a surfactant, a supporting electrolyte, and a conductive polymer dopant;
The sintered body was immersed, and electrolytic polymerization was performed for 8 hours by applying 15 V between the anode lead and the counter electrode in the electrolytic polymerization solution. At this time, by slowly pulling the Ta sintered body, 30 μm
A polypyrrole layer having a uniform thickness of m was obtained on the oxide film of the anode body. (5) Exterior A solid electrolytic capacitor is formed by forming a conductive layer of a graphite paste or a silver paste on a polypyrrole layer on which a film is formed, connecting a cathode lead, and externally covering the element configured as described above with a resin mold or the like. Obtained.

【0019】実施例2 図4は、実施例2の導電性高分子層の形成工程を示す図
であって、図1、図2に示した部分と同等の部分には共
通する参照番号が付せられているので、重複する説明は
省略する。実施例2は、導電性高分子層の形成時の電界
のかけかたが実施例1と異なるのみで他は実施例1と同
じである。本実施例においては、陽極体としてのTa焼
結体1近傍に電源5の正端子に接続された外部給電端子
13を近づけて電解重合を行う。この場合、外部給電端
子13に形成されるポリピロールがTa陽極素子に接触
して陽極体酸化皮膜上にポリピロール層が形成される。
具体的な導電性高分子層の形成方法は以下の通りであ
る。外部給電端子13と陰極6との間に1.8Vの電圧
を印加し、Ta焼結体全体を液温10℃の電解重合溶液
に浸漬した状態で10分間電解重合を行い、その後7時
間50分かけてゆっくり引き上げることにより、厚さ3
0μmの均一な膜厚のポリピロール層をTa陽極体の酸
化皮膜上に得た。本実施例においては、形成された導電
性高分子ポリピロール層によって陰極6との間の導通が
とれるため、外部給電端子13を浸漬し続けなくても重
合ができる。
Embodiment 2 FIG. 4 is a view showing a step of forming a conductive polymer layer according to Embodiment 2, and portions equivalent to those shown in FIGS. 1 and 2 are denoted by common reference numerals. Therefore, duplicate description will be omitted. The second embodiment is the same as the first embodiment except that the method of applying an electric field when forming the conductive polymer layer is different from the first embodiment. In this embodiment, electrolytic polymerization is performed by bringing the external power supply terminal 13 connected to the positive terminal of the power supply 5 close to the Ta sintered body 1 as the anode body. In this case, the polypyrrole formed on the external power supply terminal 13 contacts the Ta anode element, and a polypyrrole layer is formed on the anode oxide film.
A specific method for forming the conductive polymer layer is as follows. A voltage of 1.8 V is applied between the external power supply terminal 13 and the cathode 6, electrolytic polymerization is performed for 10 minutes while the entire Ta sintered body is immersed in an electrolytic polymerization solution at a liquid temperature of 10 ° C., and then 50 hours for 50 hours. Thickness 3
A polypyrrole layer having a uniform thickness of 0 μm was obtained on the oxide film of the Ta anode body. In the present embodiment, since the conductive polymer polypyrrole layer formed allows conduction with the cathode 6, polymerization can be performed without continuing to immerse the external power supply terminal 13.

【0020】実施例3 実施例3は、実施例1と同じ電解重合溶液中に同様に作
成した陽極体を浸漬し、引き上げと引き下ろしを3往復
させて8時間の電解重合を行い、30μmの厚さの導電
性高分子層を陽極体酸化皮膜上に形成した。
Example 3 In Example 3, an anode body similarly prepared was immersed in the same electrolytic polymerization solution as in Example 1, and was subjected to 8 hours of electrolytic polymerization by reciprocating up and down 3 times to obtain a 30 μm thick film. A conductive polymer layer was formed on the anodic oxide film.

【0021】実施例4 実施例4は、実施例1の電解重合溶液中の導電性高分子
モノマーが異なるのみで他は同様である。本実施例で
は、導電性高分子モノマーとしてエチレンジオキシチオ
フェン0.1mol/l、ドデシルベンゼンスルフォン
酸ナトリウム0.025mol/lを含む電解重合水溶
液にTa焼結体を浸漬し、以下実施例1と同様に電解重
合を行い、導電性高分子層としてポリエチレンジオキシ
チオフェンを陽極体酸化皮膜上に形成した。
Example 4 Example 4 is the same except that the conductive polymer monomer in the electrolytic polymerization solution of Example 1 is different. In this example, a Ta sintered body was immersed in an electrolytic polymerization aqueous solution containing 0.1 mol / l of ethylenedioxythiophene and 0.025 mol / l of sodium dodecylbenzenesulfonate as conductive polymer monomers. Similarly, electrolytic polymerization was performed to form polyethylenedioxythiophene as a conductive polymer layer on the anodic oxide film.

【0022】実施例5 本実施例は、実施例1とプレコートの材料が異なるのみ
で他は同様である。本実施例においては、ピロールモノ
マー溶液に5分間浸漬し、化学重合によりプレコート層
を形成した後、実施例1と同様に電解重合を行った。こ
の方法によれば、用意する導電性高分子モノマー溶液の
種類を減らし、製造を簡素化できる。
Embodiment 5 This embodiment is the same as Embodiment 1 except that the material of the precoat is different. In this example, after immersion in a pyrrole monomer solution for 5 minutes to form a precoat layer by chemical polymerization, electrolytic polymerization was performed in the same manner as in Example 1. According to this method, the types of the conductive polymer monomer solution to be prepared can be reduced, and the production can be simplified.

【0023】実施例6 Ta板に陽極リードを溶接により取り付けて陽極素子を
作成し、陽極化成によりTa板の表面にTa25 皮膜
層を形成した。酸化皮膜上にプレコート層を形成するこ
となく電解重合を行い、実施例1と同様な導電性高分子
層を陽極体酸化皮膜上に形成した。この方法によれば、
より製造を簡素化できる。
Example 6 An anode element was prepared by attaching an anode lead to a Ta plate by welding, and a Ta 2 O 5 coating layer was formed on the surface of the Ta plate by anodization. Electrolytic polymerization was performed without forming a precoat layer on the oxide film, and a conductive polymer layer similar to that in Example 1 was formed on the anodic oxide film. According to this method,
Manufacturing can be further simplified.

【0024】本発明の実施例では、固体電解コンデンサ
の陰極の導電性高分子層の製造方法について述べてきた
が、本発明は、固体電解コンデンサに限定されず、重合
反応を利用した導電性高分子層を用いる他の固体電子素
子の製造にも適用できる。また、本発明の実施の形態及
び実施例では、陽極体上に酸化皮膜を形成して誘電体を
形成したが、本発明は、誘電体に限定されず、導体上に
導電性高分子層を形成する場合にも適用することが可能
である。また、本発明の実施例では、導電性高分子モノ
マーとしてピロールを用いたが、それに限定されずチオ
フェンでもよい。または、ピロール、チオフェンの誘導
体、特にチオフェンの誘導体としてのエチレンジオキシ
チオフェンを用いても良い。また、本発明の実施例で
は、界面活性剤として、ドデシルベンゼンスルフォン酸
ナトリウムを用いたが、それに限定されず、他のアルキ
ルベンゼンスルフォン酸塩を用いても、あるいはアルキ
ルナフタレンスルフォン酸塩を用いても良い。
In the embodiments of the present invention, the method for producing the conductive polymer layer of the cathode of the solid electrolytic capacitor has been described. However, the present invention is not limited to the solid electrolytic capacitor, and the conductive polymer layer utilizing a polymerization reaction is used. It can be applied to the manufacture of other solid-state electronic devices using a molecular layer. In the embodiments and examples of the present invention, an oxide film is formed on an anode body to form a dielectric, but the present invention is not limited to a dielectric, and a conductive polymer layer may be formed on a conductor. It can be applied to the case of forming. Further, in the embodiments of the present invention, pyrrole is used as the conductive polymer monomer, but is not limited thereto, and may be thiophene. Alternatively, a derivative of pyrrole or thiophene, in particular, ethylenedioxythiophene as a thiophene derivative may be used. Further, in the examples of the present invention, sodium dodecylbenzenesulfonate was used as the surfactant, but the surfactant is not limited thereto. good.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の固体電子
素子の製造方法は、陽極金属体を電解重合溶液から引き
上げながら若しくは溶液中へ引き下ろしながら電解重合
を行うものであるので、導電性高分子モノマー濃度の高
い気体−液体界面の分子膜を利用して導電性高分子層を
成膜することができる。したがって、本発明によれば、
酸化皮膜上に導電性高分子層を短時間で均一の膜厚に形
成することができる。そして、素子側面の導電性高分子
層の厚さの不均一性がなくなったことにより、外装工程
が困難になったり、完成後の固体電解コンデンサの使用
中に不均衡な熱分布を生じたりする問題を解決すること
ができ、量産化とともに高品質化を図ることができる。
また、本発明の製造方法は、固体電解コンデンサ以外の
固体電子素子にも適用でき、その場合にも上述した製造
時間の短縮、高品質化を図ることができる。
As described above, in the method of manufacturing a solid-state electronic device according to the present invention, since the electrolytic polymerization is performed while pulling the anode metal body out of the electrolytic polymerization solution or pulling it down into the solution, high conductivity is obtained. A conductive polymer layer can be formed using a molecular film at a gas-liquid interface having a high molecular monomer concentration. Thus, according to the present invention,
The conductive polymer layer can be formed on the oxide film in a short time to a uniform film thickness. The non-uniformity of the thickness of the conductive polymer layer on the side surface of the element eliminates the need for an exterior process, or causes an unbalanced heat distribution during use of the completed solid electrolytic capacitor. Problems can be solved, and high quality can be achieved along with mass production.
Further, the manufacturing method of the present invention can be applied to solid-state electronic elements other than the solid electrolytic capacitor, and in such a case, the above-described manufacturing time can be reduced and quality can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態における導電性高分
子層の形成工程を示す図。
FIG. 1 is a view showing a step of forming a conductive polymer layer according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態における導電性高分
子層の形成工程を示す図。
FIG. 2 is a view showing a step of forming a conductive polymer layer according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1、第2の実施の形態により途中ま
で形成された固体電解コンデンサの概略断面図。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a solid electrolytic capacitor partially formed according to the first and second embodiments of the present invention.

【図4】本発明の実施例2における導電性高分子層の形
成工程を示す図。
FIG. 4 is a view showing a step of forming a conductive polymer layer in Example 2 of the present invention.

【図5】従来例を説明するための、プレコート層形成後
のTa固体電解コンデンサの断面図。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a Ta solid electrolytic capacitor after a precoat layer is formed, for explaining a conventional example.

【図6】従来例での導電性高分子層の形成工程を示す
図。
FIG. 6 is a view showing a step of forming a conductive polymer layer in a conventional example.

【図7】従来の方法により途中まで形成された固体電解
コンデンサの概略断面図。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a solid electrolytic capacitor partially formed by a conventional method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 Ta焼結体 2 陽極リード 3 Ta25 皮膜層 4 プレコート層 5 電源 6 陰極 7 電解槽 8 電解重合溶液 9 気体−液体界面での分子膜 10 陽極−液体界面での分子膜 11、11a 気体−液体界面にて形成された導電性高
分子層 12、12a 陽極−液体界面にて形成された導電性高
分子層 13 外部給電端子 14 グラファイト層
Reference Signs List 1 Ta sintered body 2 Anode lead 3 Ta 2 O 5 coating layer 4 Precoat layer 5 Power supply 6 Cathode 7 Electrolyzer 8 Electropolymerization solution 9 Molecular film at gas-liquid interface 10 Molecular film at anode-liquid interface 11, 11a Conductive polymer layer formed at gas-liquid interface 12, 12a Conductive polymer layer formed at anode-liquid interface 13 External power supply terminal 14 Graphite layer

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (1)陽極となる金属体とこれに電気的
に接続された陽極リードとを備える陽極素子を形成する
工程と、 (2)導電性高分子モノマーと界面活性剤を含む電解重
合液を用い、重合反応を利用して前記金属体上に導電性
高分子層を形成する工程と、を有する固体電子素子の製
造方法において、前記第(2)の工程においては、電界
を印加しつつ、前記陽極素子をゆっくりと前記電解重合
液中より引き上げることにより、若しくは、ゆっくりと
前記電解重合液中に引き下ろすことにより、気体−液体
界面の重合反応を利用して導電性高分子層を形成するこ
とを特徴とする固体電子素子の製造方法。
(1) a step of forming an anode element including a metal body serving as an anode and an anode lead electrically connected to the metal body; and (2) electrolysis including a conductive polymer monomer and a surfactant. Forming a conductive polymer layer on the metal body using a polymerization reaction by using a polymerization solution; and (e) applying an electric field in the step (2). While slowly pulling up the anode element from the electropolymerization solution, or slowly pulling it down into the electropolymerization solution, a conductive polymer layer utilizing a polymerization reaction at a gas-liquid interface. Forming a solid-state electronic device.
【請求項2】 前記金属体が弁作用金属の多孔質金属焼
結体であることを特徴とする請求項1記載の固体電子素
子の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the metal body is a porous metal sintered body of a valve metal.
【請求項3】 前記第(1)の工程の後前記第(2)の
工程に先立って、弁作用金属により構成された前記金属
体の表面に酸化皮膜を形成する工程が付加されることを
特徴とする請求項1または2記載の固体電子素子の製造
方法。
3. A process for forming an oxide film on a surface of the metal body made of a valve metal after the step (1) and prior to the step (2) is added. The method for manufacturing a solid-state electronic device according to claim 1 or 2, wherein:
【請求項4】 前記第(1)の工程の後前記第(2)の
工程に先立って、若しくは、前記酸化皮膜の形成工程の
後前記第(2)の工程に先立って、前記金属体の表面ま
たは前記酸化皮膜の表面に導電性高分子膜からなる予備
電極層を形成する工程が付加されることを特徴とする請
求項1、2または3記載の固体電子素子の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein after the step (1), prior to the step (2), or after the step of forming the oxide film, prior to the step (2). 4. The method according to claim 1, wherein a step of forming a preliminary electrode layer made of a conductive polymer film on a surface or a surface of the oxide film is added.
【請求項5】 前記酸化皮膜の形成工程の後前記第
(2)の工程に先立って、前記酸化皮膜の表面に酸化剤
を含む溶液を塗布した後、若しくは、酸化皮膜の表面に
酸化剤を含む溶液を塗布しその上に導電性高分子膜から
なる予備電極層を形成した後、再度酸化処理を行って酸
化皮膜の修復を行う工程が付加されることを特徴とする
請求項3記載の固体電子素子の製造方法。
5. After the step of forming the oxide film, prior to the step (2), after applying a solution containing an oxidant to the surface of the oxide film, or applying the oxidant to the surface of the oxide film. 4. The method according to claim 3, further comprising the step of applying a solution containing the solution, forming a preliminary electrode layer made of a conductive polymer film thereon, and then performing an oxidation treatment again to repair the oxide film. A method for manufacturing a solid-state electronic device.
【請求項6】 電解重合液が、導電性高分子モノマーと
してピロール、チオフェンまたはそれらの誘導体のいず
れかを含んでいることを特徴とする請求項1、2または
3記載の固体電子素子の製造方法。
6. The method according to claim 1, wherein the electrolytic polymerization solution contains pyrrole, thiophene, or a derivative thereof as a conductive polymer monomer. .
【請求項7】 前記チオフェンの誘導体がエチレンジオ
キシチオフェンであることを特徴とする請求項6記載の
固体電子素子の製造方法。
7. The method according to claim 6, wherein the thiophene derivative is ethylenedioxythiophene.
【請求項8】 前記第(2)の工程においては、前記陽
極素子の引き上げと引き下ろしとを複数回繰り返すこと
を特徴とする請求項1、2または3記載の固体電子素子
の製造方法。
8. The method for manufacturing a solid-state electronic device according to claim 1, wherein in the step (2), the raising and lowering of the anode element is repeated a plurality of times.
【請求項9】 前記第(2)の工程においては、電源の
陽極側端子を、前記陽極リードに接触させるか、前記陽
極素子の近傍に位置させるか、のいずれか一方若しくは
双方を行うことにより電解重合を行うことを特徴とする
請求項1、2または3記載の固体電子素子の製造方法。
9. In the step (2), an anode terminal of a power supply is brought into contact with the anode lead or located near the anode element, or by performing one or both of them. 4. The method for producing a solid-state electronic device according to claim 1, wherein electrolytic polymerization is performed.
【請求項10】 前記電解重合液には、界面活性剤が臨
界ミセル濃度(CMC:critical micelle concentrati
on)以上に含まれていることを特徴とする請求項1、2
または3記載の固体電子素子の製造方法。
10. The electrolytic polymerization solution contains a surfactant in a critical micelle concentration (CMC).
on) or more.
4. A method for manufacturing a solid-state electronic device according to item 3.
【請求項11】 前記界面活性剤として、アルキルベン
ゼンスルフォン酸塩またはアルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩を用いることを特徴とする請求項1、2、3または
10記載の固体電子素子の製造方法。
11. The method for manufacturing a solid-state electronic device according to claim 1, wherein an alkylbenzene sulfonate or an alkylnaphthalene sulfonate is used as the surfactant.
【請求項12】 前記アルキルベンゼンスルフォン酸塩
がドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムであること
を特徴とする請求項11記載の固体電子素子の製造方
法。
12. The method according to claim 11, wherein the alkyl benzene sulfonate is sodium dodecyl benzene sulfonate.
【請求項13】 前記金属体の最上部の前記電解重合液
の液面での通過速度をその最下部の通過速度より低く設
定し、その間の速度が徐々に変化するようになされるこ
とを特徴とする請求項1、2、3または8記載の固体電
子素子の製造方法。
13. The method according to claim 13, wherein a passing speed of the uppermost portion of the metal body at the liquid surface of the electrolytic polymer solution is set lower than a passing speed of the lowermost portion thereof, and the speed between them is gradually changed. The method for manufacturing a solid-state electronic device according to claim 1, 2, 3, or 8.
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