JP2000351767A - Production of thioether and thiol - Google Patents

Production of thioether and thiol

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JP2000351767A
JP2000351767A JP11160469A JP16046999A JP2000351767A JP 2000351767 A JP2000351767 A JP 2000351767A JP 11160469 A JP11160469 A JP 11160469A JP 16046999 A JP16046999 A JP 16046999A JP 2000351767 A JP2000351767 A JP 2000351767A
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JP
Japan
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group
methyl
bis
naphthylmethyl
compound
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Withdrawn
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JP11160469A
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Japanese (ja)
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Eiji Takagi
英司 高城
Yuji Nakamura
勇二 中村
Katsumi Fujimoto
克巳 藤本
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Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain in high yield a thioether or thiol which has been usable to be synthesized or has been synthesized only in low yield, by carrying out a condensation reaction in the presence of a boron-contg. reducing agent. SOLUTION: (D) The compound of the formula R1-SR2 [e.g. 2-(phenylethylthio) pyridine] is obtained by reaction between (A) a compound of the formula R1-X (R1 is an N atom-contg. aromatic heterocyclic group; X is an eliminable group) (e.g. 2-bromopyridine) and (B) a compound of the formula R2S-Y (R2 is a lower alkyl, aryl or aralkyl; Y is H or SR2) (e.g. benzeneethanethiol) in the presence of (C) a boron-contg. reducing agent (pref. a metal borohydride, Selectride(R), Super-Hydride(R) or the like, e.g. K-Selectride(R)). The other objective compound of the formula R1-SH is obtained by eliminating the R2 group from the component D obtained above.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた収率を有す
る新規なチオエーテル類及びチオール類の製造方法に関
する。
[0001] The present invention relates to a novel method for producing thioethers and thiols having excellent yield.

【0002】[0002]

【従来の技術】チオエーテル類及びチオール類は、強力
な電子吸引基が、ハロゲン原子のオルト又はパラ位に結
合している原料を使用した場合には、メルカプト誘導体
と反応させて、合成できることが知られている(従っ
て、強力な電子吸引基が、チオ基のオルト又はパラ位に
結合している生成物しか合成できない)が(Memoli, K.
A. Tetrahedron Lett., 1996, 37, 3617(下図参照)
; "Halopyridines possessing strong electron withd
rawing groups at orth position were displaced by s
ulfur nucleophiles" Dunn, A.D., Norrie, R. J. Hete
rocyclic Chemistry,1987, 24, 85 ; Bradsher, C. K.,
McDonald J. Org. Chem., 1962, 27, 4482)、その他
の化合物については、合成できないか、又は、合成でき
たとしても、非常に収率が悪く、好ましい製造方法はな
かった。
2. Description of the Related Art It is known that thioethers and thiols can be synthesized by reacting with a mercapto derivative when a raw material having a strong electron-withdrawing group bonded to the ortho or para position of a halogen atom is used. (Thus, only products with strong electron withdrawing groups attached to the ortho or para position of the thio group can be synthesized) (Memoli, K. et al.
A. Tetrahedron Lett., 1996, 37, 3617 (see the figure below)
; "Halopyridines possessing strong electron withd
rawing groups at orth position were displaced by s
ulfur nucleophiles "Dunn, AD, Norrie, RJ Hete
rocyclic Chemistry, 1987, 24, 85; Bradsher, CK,
McDonald J. Org. Chem., 1962, 27, 4482) and other compounds could not be synthesized, or even if synthesized, the yield was very poor and there was no preferred production method.

【0003】[0003]

【化1】 Embedded image

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、チオエ
ーテル類及びチオール類の製造方法について、永年に亘
り鋭意研究を行なった結果、既知の方法とは相違し、硼
素を含有する還元剤の存在下に、縮合反応を行うことに
より、従来合成できなかった、又は、収率が低かったチ
オエーテル類及びチオール類の合成を、高収率で行うこ
とができることを見出し、本発明を完成した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention have conducted intensive studies on the production methods of thioethers and thiols for many years. The present inventors have found that by performing a condensation reaction in the presence of thioethers and thiols, which could not be conventionally synthesized, or which have a low yield, can be performed at a high yield, the present invention has been completed.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の新規なチオエー
テル類の製造方法は、一般式 R1−X を有する化合
物(式中、R1は、窒素原子を含む芳香族複素環基を示
し、Xは、脱離基を示す。)と、一般式 R2S−Y
を有する化合物[式中、R2は、低級アルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を示し、Yは、水素原子又は、
一般式 −SR2を有する基(式中、R2は、前記と同意
義を示す。)を示す。]とを、硼素を含有する還元剤の
存在下に反応させ、一般式 R1−SR2 を有する化合
物(式中、R1及びR2は、前記と同意義を示す。)を製
造する方法であり、好適には、上記において、(1)R
1が、窒素原子を含む6員芳香族複素環基である方法、
(2)R2が、アラルキル基である方法、及び、(3)
硼素を含有する還元剤が、水素化硼素金属類、セレクト
ライド類、スーパーハイドライド類である方法、を挙げ
ることができ、更に、本発明の新規なチオール類の製造
方法は、上記から選択されるいずれか一項において、更
に、製造された、一般式R1−SR2を有する化合物(式
中、R1及びR2は、前記と同意義を示す。)から、R2
基(式中、R2は、前記と同意義を示す。)を除去し、
一般式R1−SHを有する化合物(式中、R1は、前記と
同意義を示す。)を製造する方法である。
The process for producing the novel thioethers of the present invention comprises a compound having the general formula R 1 -X, wherein R 1 is an aromatic heterocyclic group containing a nitrogen atom, X represents a leaving group) and the general formula R 2 SY
Wherein R 2 represents a lower alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and Y is a hydrogen atom or
Group (wherein, R 2 is. Of the same significance as described above) having the general formula -SR 2 shows a. With R in the presence of a boron-containing reducing agent to produce a compound having the general formula R 1 -SR 2 (wherein R 1 and R 2 are as defined above). Preferably, in the above, (1) R
Wherein 1 is a 6-membered aromatic heterocyclic group containing a nitrogen atom,
(2) a method wherein R 2 is an aralkyl group, and (3)
The method in which the boron-containing reducing agent is a metal borohydride, a selectride, or a superhydride may be mentioned, and the method for producing a novel thiol of the present invention is selected from the above. in any one, further prepared from compounds having the general formula R 1 -SR 2 (wherein, R 1 and R 2 are as defined above.), R 2
Removing the group (wherein R 2 is as defined above);
This is a method for producing a compound having the general formula R 1 -SH (wherein R 1 has the same meaning as described above).

【0006】上記において、R1の定義における「窒素
原子を含む芳香族複素環基」とは、置換基を有していて
もよい、「窒素原子を含む芳香族複素環基」であり、
「窒素原子を含む芳香族複素環基」としては、窒素原子
を含む5乃至7員芳香族複素環基を示し、例えば、ピロ
リル、アゼピニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサ
ゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリ
ル、1,2,3−オキサジアゾリル、トリアゾリル、テ
トラゾリル、チアジアゾリル、ピラニル、 ピリジル、ピ
リダジニル、ピリミジニル、ピラジニルのような基を挙
げることができ、好適には、「窒素原子を含む6員芳香
族複素環基」であり、更に好適には、ピリジル基、ピラ
ジニル基及びピリミジニル基である。
In the above, the "aromatic heterocyclic group containing a nitrogen atom" in the definition of R 1 is an "aromatic heterocyclic group containing a nitrogen atom" which may have a substituent.
The "aromatic heterocyclic group containing a nitrogen atom" represents a 5- to 7-membered aromatic heterocyclic group containing a nitrogen atom, for example, pyrrolyl, azepinyl, pyrazolyl, imidazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, Examples include groups such as 2,3-oxadiazolyl, triazolyl, tetrazolyl, thiadiazolyl, pyranyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, and pyrazinyl, and preferably "a 6-membered aromatic heterocyclic group containing a nitrogen atom". And more preferably a pyridyl group, a pyrazinyl group and a pyrimidinyl group.

【0007】尚、上記「5乃至7員芳香族複素環基」
は、他の環式基と縮環していてもよく、例えば、ベンゾ
イミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、インドリジニル、
イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニ
ル、キノリジニル、キナリジニル、イソキノリル、キノ
リルのような基を挙げることができる。
The above "5- to 7-membered aromatic heterocyclic group"
May be condensed with another cyclic group, for example, benzimidazolyl, benzoxazolyl, indolizinyl,
Examples include groups such as isoindolyl, indolyl, indazolyl, purinyl, quinolizinyl, quinalidinyl, isoquinolyl, quinolyl.

【0008】かかる置換基としては、通常、反応に関与
しない置換基であれば特に限定は無く、例えば、後記
「低級アルキル基」;例えば、エテニル、1−プロペニ
ル、2−プロペニル、1−メチル−2−プロペニル、1
−メチル−1−プロペニル、2−メチル−1−プロペニ
ル、2−メチル−2−プロペニル、2−エチル−2−プ
ロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、1−メチル−
2−ブテニル、1−メチル−1−ブテニル、3−メチル
−2−ブテニル、1−エチル−2−ブテニル、3−ブテ
ニル、1−メチル−3−ブテニル、2−メチル−3−ブ
テニル、1−エチル−3−ブテニル、1−ペンテニル、
2−ペンテニル、1−メチル−2−ペンテニル、2−メ
チル−2−ペンテニル、3−ペンテニル、1−メチル−
3−ペンテニル、2−メチル−3−ペンテニル、4−ペ
ンテニル、1−メチル−4−ペンテニル、2−メチル−
4−ペンテニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3
−ヘキセニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニルのよう
な炭素数2乃至6個の直鎖又は分枝鎖「アルケニル
基」;後記「アリール基」;後記「アラルキル基」;例
えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロ
ポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、s−ブトキシ、
tert−ブトキシ、n−ペントキシ、イソペントキシ、2
−メチルブトキシ、ネオペントキシ、n−ヘキシルオキ
シ、4−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、2
−メチルペントキシ、3,3−ジメチルブトキシ、2,
2−ジメチルブトキシ、1,1−ジメチルブトキシ、
1,2−ジメチルブトキシ、1,3−ジメチルブトキ
シ、2,3−ジメチルブトキシのような後記「低級アル
キル基」が酸素原子に結合した、「低級アルコキシ
基」;例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、n−プロ
ピルアミノ、イソプロピルアミノ、n−ブチルアミノ、
イソブチルアミノ、s−ブチルアミノ、tert−ブチルア
ミノ、n−ペンチルアミノ、イソペンチルアミノ、2−
メチルブチルアミノ、ネオペンチルアミノ、1−エチル
プロピルアミノ、n−ヘキシルアミノ、イソヘキシルア
ミノ、4−メチルペンチルアミノ、3−メチルペンチル
アミノ、2−メチルペンチルアミノ、1−メチルペンチ
ルアミノ、3,3−ジメチルブチルアミノ、2,2−ジ
メチルブチルアミノ、1,1−ジメチルブチルアミノ、
1,2−ジメチルブチルアミノ、1,3−ジメチルブチ
ルアミノ、2,3−ジメチルブチルアミノ、2−エチル
ブチルアミノのような、後記「低級アルキル基」がアミ
ノ基に結合した、「低級アルキルアミノ基」;前記「低
級アルコキシ基」がカルボニル基に結合した「低級アル
コキシカルボニル基基」;ニトリル基;及びニトロ基を
挙げることができる。
The substituent is not particularly limited as long as it is not usually involved in the reaction, and is, for example, a “lower alkyl group” described below; for example, ethenyl, 1-propenyl, 2-propenyl, 1-methyl- 2-propenyl, 1
-Methyl-1-propenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methyl-2-propenyl, 2-ethyl-2-propenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 1-methyl-
2-butenyl, 1-methyl-1-butenyl, 3-methyl-2-butenyl, 1-ethyl-2-butenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-butenyl, 2-methyl-3-butenyl, 1- Ethyl-3-butenyl, 1-pentenyl,
2-pentenyl, 1-methyl-2-pentenyl, 2-methyl-2-pentenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-
3-pentenyl, 2-methyl-3-pentenyl, 4-pentenyl, 1-methyl-4-pentenyl, 2-methyl-
4-pentenyl, 1-hexenyl, 2-hexenyl, 3
A straight-chain or branched-chain “alkenyl group” having 2 to 6 carbon atoms, such as -hexenyl, 4-hexenyl and 5-hexenyl; an “aryl group” described below; an “aralkyl group” described later; for example, methoxy, ethoxy, n -Propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, s-butoxy,
tert-butoxy, n-pentoxy, isopentoxy, 2
-Methylbutoxy, neopentoxy, n-hexyloxy, 4-methylpentoxy, 3-methylpentoxy,
-Methylpentoxy, 3,3-dimethylbutoxy, 2,
2-dimethylbutoxy, 1,1-dimethylbutoxy,
A "lower alkoxy group" in which a "lower alkyl group" described below such as 1,2-dimethylbutoxy, 1,3-dimethylbutoxy, 2,3-dimethylbutoxy is bonded to an oxygen atom; for example, methylamino, ethylamino, n-propylamino, isopropylamino, n-butylamino,
Isobutylamino, s-butylamino, tert-butylamino, n-pentylamino, isopentylamino, 2-
Methylbutylamino, neopentylamino, 1-ethylpropylamino, n-hexylamino, isohexylamino, 4-methylpentylamino, 3-methylpentylamino, 2-methylpentylamino, 1-methylpentylamino, 3,3 -Dimethylbutylamino, 2,2-dimethylbutylamino, 1,1-dimethylbutylamino,
"Lower alkylamino" in which a "lower alkyl group" described below, such as 1,2-dimethylbutylamino, 1,3-dimethylbutylamino, 2,3-dimethylbutylamino, or 2-ethylbutylamino, is bonded to an amino group. A "lower alkoxycarbonyl group" in which the above "lower alkoxy group" is bonded to a carbonyl group; a nitrile group; and a nitro group.

【0009】Xの定義における「脱離基」とは、通常、
求核残基として脱離する基であれば特に限定はないが、
好適には、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子;ク
ロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリク
ロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシのよ
うなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基、メトキシ
アセチルオキシのような低級アルコキシアルキルカルボ
ニルオキシ基等の脂肪族アシルオキシ基;トリクロロメ
チルオキシのようなトリハロゲノメチルオキシ基;メタ
ンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような
低級アルカンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタン
スルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオ
キシのようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ
基;ベンゼンスルホニルオキシ、4−トルエンスルホニ
ルオキシ、4−ニトロベンゼンスルホニルオキシのよう
なアリ−ルスルホニルオキシ基を挙げることができ、更
に好適には、ハロゲン原子、4−トルエンスルホニルオ
キシ、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ基である。
The "leaving group" in the definition of X is usually
There is no particular limitation as long as it is a group leaving as a nucleophilic residue,
Preferably, a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine; a halogenated alkylcarbonyloxy group such as chloroacetyloxy, dichloroacetyloxy, trichloroacetyloxy or trifluoroacetyloxy, or a lower alkoxyalkyl such as methoxyacetyloxy. Aliphatic acyloxy group such as carbonyloxy group; trihalogenomethyloxy group such as trichloromethyloxy; lower alkanesulfonyloxy group such as methanesulfonyloxy and ethanesulfonyloxy; such as trifluoromethanesulfonyloxy and pentafluoroethanesulfonyloxy Halogeno lower alkanesulfonyloxy group; arylsulfonyl such as benzenesulfonyloxy, 4-toluenesulfonyloxy and 4-nitrobenzenesulfonyloxy It can be mentioned oxy group, more preferably a halogen atom, 4-toluenesulfonyloxy, methanesulfonyloxy, trifluoromethanesulfonyloxy group.

【0010】R2の定義における「低級アルキル基」と
は、置換基を有していてもよい「低級アルキル基」であ
り、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、tert−ブ
チル、n−ペンチル、イソペンチル、2−メチルブチ
ル、ネオペンチル、1−エチルプロピル、n−ヘキシ
ル、イソヘキシル、4−メチルペンチル、3−メチルペ
ンチル、2−メチルペンチル、1−メチルペンチル、
3,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、
1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、
1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、2
−エチルブチルのような炭素数1乃至6個の直鎖又は分
枝鎖アルキル基を示し、好適には炭素数1乃至4個の直
鎖又は分枝鎖アルキル基である。かかる置換基として
は、通常、反応に関与しない置換基であれば特に限定は
無く、例えば、「アルケニル基」;「カルバモイル
基」;「低級アルコキシ基」;「低級アルキルアミノ
基」;「低級アルコキシカルボニル基」;「ニトリル
基」及び「ハロゲン原子」を挙げることができる。
The "lower alkyl group" in the definition of R 2 is a "lower alkyl group" which may have a substituent, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl , S-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, neopentyl, 1-ethylpropyl, n-hexyl, isohexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 1-methyl Pentyl,
3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl,
1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl,
1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 2
A straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as -ethylbutyl, preferably a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The substituent is not particularly limited as long as it does not normally participate in the reaction. For example, "alkenyl group";"carbamoylgroup";"lower alkoxy group";"lower alkylamino group"; Carbonyl group ";" nitrile group "and" halogen atom ".

【0011】R2の定義における「アリール基」とは、
アリ−ル基の環上に、1乃至4個の置換基を有していて
もよい「アリール基」であり、例えば、フェニル、イン
デニル、ナフチル、フェナンスレニル、アントラセニル
のような炭素数5乃至14個の芳香族炭化水素基を挙げ
ることができ、好適にはフェニル基である。尚、「アリ
ール基」は、炭素数3乃至10個のシクロアルキル基と
縮環していてもよく、例えば、2−インダニルのような
基を挙げることができる。
An "aryl group" in the definition of R 2 is
An "aryl group" which may have 1 to 4 substituents on the ring of the aryl group, for example, having 5 to 14 carbon atoms such as phenyl, indenyl, naphthyl, phenanthrenyl and anthracenyl; And a phenyl group is preferred. The “aryl group” may be condensed with a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a group such as 2-indanyl.

【0012】かかる置換基としては、通常、反応に関与
しない置換基であれば特に限定は無く、例えば、無置換
の「アリール基」;ニトロ基;カルバモイル基;メチル
カルバモイル、エチルカルバモイル、n−プロピルカル
バモイル、イソプロピルカルバモイル、n−ブチルカル
バモイル、イソブチルカルバモイル、s−ブチルカルバ
モイル、tert−ブチルカルバモイル、n−ペンチルカル
バモイル、イソペンチルカルバモイル、2−メチルブチ
ルカルバモイル、ネオペンチルカルバモイル、n−ヘキ
シルカルバモイル、4−メチルペンチルカルバモイル、
3−メチルペンチルカルバモイル、2−メチルペンチル
カルバモイル、3,3−ジメチルブチルカルバモイル、
2,2−ジメチルブチルカルバモイル、1,1−ジメチ
ルブチルカルバモイル、1,2−ジメチルブチルカルバ
モイル、1,3−ジメチルブチルカルバモイル、2,3
−ジメチルブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイ
ル、ジエチルカルバモイル、ジ−n−プロピルカルバモ
イル、ジイソプロピルカルバモイル、ジ−n−ブチルカ
ルバモイル、ジイソブチルカルバモイル、ジ−s−ブチ
ルカルバモイル、ジ−tert−ブチルカルバモイルのよう
な炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基が置換
した低級アルキル置換カルバモイル基(好適には炭素数
1乃至4個のアルキル基が置換したカルバモイル基、更
に好適には、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイ
ルである。);弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原
子のようなハロゲン原子;前記「低級アルキル基」;メ
トキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、
n−ブトキシ、イソブトキシ、s−ブトキシ、tert−ブ
トキシ、n−ペントキシ、イソペントキシ、2−メチル
ブトキシ、ネオペントキシ、n−ヘキシルオキシ、4−
メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、2−メチル
ペントキシ、3,3−ジメチルブトキシ、2,2−ジメ
チルブトキシ、1,1−ジメチルブトキシ、1,2−ジ
メチルブトキシ、1,3−ジメチルブトキシ、2,3−
ジメチルブトキシのような低級アルコキシ基;トリフル
オロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、ジ
クロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、2,
2,2−トリクロロエチル、2,2,2−トリフルオロ
エチル、2−ブロモエチル、2−クロロエチル、2−フ
ルオロエチル、2,2−ジブロモエチルのようなハロゲ
ノ低級アルキル基;及びメチレンジオキシ、エチレンジ
オキシ、プロピレンジオキシのような炭素数1乃至4個
のアルキレンジオキシ基を挙げることができ、好適に
は、「低級アルキル基」及び「低級アルコキシ基」を挙
げることができる。
The substituent is not particularly limited as long as it does not normally participate in the reaction, and examples thereof include an unsubstituted "aryl group"; a nitro group; a carbamoyl group; methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, and n-propyl. Carbamoyl, isopropylcarbamoyl, n-butylcarbamoyl, isobutylcarbamoyl, s-butylcarbamoyl, tert-butylcarbamoyl, n-pentylcarbamoyl, isopentylcarbamoyl, 2-methylbutylcarbamoyl, neopentylcarbamoyl, n-hexylcarbamoyl, 4-methyl Pentyl carbamoyl,
3-methylpentylcarbamoyl, 2-methylpentylcarbamoyl, 3,3-dimethylbutylcarbamoyl,
2,2-dimethylbutylcarbamoyl, 1,1-dimethylbutylcarbamoyl, 1,2-dimethylbutylcarbamoyl, 1,3-dimethylbutylcarbamoyl, 2,3
1 carbon atom such as dimethylbutylcarbamoyl, dimethylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, di-n-propylcarbamoyl, diisopropylcarbamoyl, di-n-butylcarbamoyl, diisobutylcarbamoyl, di-s-butylcarbamoyl, di-tert-butylcarbamoyl A lower alkyl-substituted carbamoyl group substituted with from 6 to 6 linear or branched alkyl groups (preferably a carbamoyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methylcarbamoyl or dimethylcarbamoyl group) A halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom; the above "lower alkyl group"; methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy,
n-butoxy, isobutoxy, s-butoxy, tert-butoxy, n-pentoxy, isopentoxy, 2-methylbutoxy, neopentoxy, n-hexyloxy, 4-
Methylpentoxy, 3-methylpentoxy, 2-methylpentoxy, 3,3-dimethylbutoxy, 2,2-dimethylbutoxy, 1,1-dimethylbutoxy, 1,2-dimethylbutoxy, 1,3-dimethylbutoxy , 2,3-
Lower alkoxy groups such as dimethylbutoxy; trifluoromethyl, trichloromethyl, difluoromethyl, dichloromethyl, dibromomethyl, fluoromethyl, 2,
Halogeno lower alkyl groups such as 2,2-trichloroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 2-bromoethyl, 2-chloroethyl, 2-fluoroethyl, 2,2-dibromoethyl; and methylenedioxy, ethylene Examples thereof include an alkylenedioxy group having 1 to 4 carbon atoms such as dioxy and propylenedioxy, and preferably include a "lower alkyl group" and a "lower alkoxy group".

【0013】R2の定義における「アラルキル基」と
は、置換基を有していてもよい「アラルキル基」であ
り、上記「アリール基」が前記「低級アルキル基」に結
合した基をいい、例えば、ベンジル、インデニルメチ
ル、フェナンスレニルメチル、アントラセニルメチル、
α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニル
メチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニル
メチル、9−アンスリルメチル、ピペロニル、1−フェ
ネチル、2−フェネチル、1−ナフチルエチル、2−ナ
フチルエチル、1−フェニルプロピル、2−フェニルプ
ロピル、3−フェニルプロピル、1−ナフチルプロピ
ル、2−ナフチルプロピル、3−ナフチルプロピル、1
−フェニルブチル、2−フェニルブチル、3−フェニル
ブチル、4−フェニルブチル、1−ナフチルブチル、2
−ナフチルブチル、3−ナフチルブチル、4−ナフチル
ブチル、1−フェニルペンチル、2−フェニルペンチ
ル、3−フェニルペンチル、4−フェニルペンチル、5
−フェニルペンチル、1−ナフチルペンチル、2−ナフ
チルペンチル、3−ナフチルペンチル、4−ナフチルペ
ンチル、5−ナフチルペンチル、1−フェニルヘキシ
ル、2−フェニルヘキシル、3−フェニルヘキシル、4
−フェニルヘキシル、5−フェニルヘキシル、6−フェ
ニルヘキシル、1−ナフチルヘキシル、2−ナフチルヘ
キシル、3−ナフチルヘキシル、4−ナフチルヘキシ
ル、5−ナフチルヘキシル、6−ナフチルヘキシルのよ
うな無置換のアラルキル基;2−フルオロベンジル、3
−フルオロベンジル、4−フルオロベンジル、2−クロ
ロベンジル、3−クロロベンジル、4−クロロベンジ
ル、2−ブロモベンジル、3−ブロモベンジル、4−ブ
ロモベンジル、3,5−ジフルオロベンジル、2,5−
ジフルオロフェネチル、2,6−ジフルオロベンジル、
2,4−ジフルオロフェネチル、3,5−ジブロモベン
ジル、2,5−ジブロモフェネチル、2,6−ジクロロ
ベンジル、2,4−ジクロロフェネチル、2,3,6−
トリフルオロベンジル、2,3,4−トリフルオロフェ
ネチル、3,4,5−トリフルオロベンジル、2,5,
6−トリフルオロフェネチル、2,4,6−トリフルオ
ロベンジル、2,3,6−トリブロモフェネチル、2,
3,4−トリブロモベンジル、3,4,5−トリブロモ
フェネチル、2,5,6−トリクロロベンジル、2,
4,6−トリクロロフェネチル、1−フルオロ−2−ナ
フチルメチル、2−フルオロ−1−ナフチルエチル、3
−フルオロ−1−ナフチルメチル、1−クロロ−2−ナ
フチルエチル、2−クロロ−1−ナフチルメチル、3−
ブロモ−1−ナフチルエチル、3,8−ジフルオロ−1
−ナフチルメチル、2,3−ジフルオロ−1−ナフチル
エチル、4,8−ジフルオロ−1−ナフチルメチル、
5,6−ジフルオロ−1−ナフチルエチル、3,8−ジ
クロロ−1−ナフチルメチル、2,3−ジクロロ−1−
ナフチルエチル、4,8−ジブロモ−1−ナフチルメチ
ル、5,6−ジブロモ−1−ナフチルエチル、2,3,
6−トリフルオロ−1−ナフチルメチル、2,3,4−
トリフルオロ−1−ナフチルエチル、3,4,5−トリ
フルオロ−1−ナフチルメチル、4,5,6−トリフル
オロ−1−ナフチルエチル、2,4,8−トリフルオロ
−1−ナフチルメチル、ビス(2−フルオロフェニル)
メチル、3−フルオロフェニルフェニルメチル、ビス
(4−フルオロフェニル)メチル、4−フルオロフェニ
ルフェニルメチル、ビス(2−クロロフェニル)メチ
ル、ビス(3−クロロフェニル)メチル、ビス(4−ク
ロロフェニル)メチル、4−クロロフェニルフェニルメ
チル、2−ブロモフェニルフェニルメチル、3−ブロモ
フェニルフェニルメチル、ビス(4−ブロモフェニル)
メチル、ビス(3,5−ジフルオロフェニル)メチル、
ビス(2,5−ジフルオロフェニル)メチル、ビス
(2,6−ジフルオロフェニル)メチル、2,4−ジフ
ルオロフェニルフェニルメチル、ビス(3,5−ジブロ
モフェニル)メチル、2,5−ジブロモフェニルフェニ
ルメチル、2,6−ジクロロフェニルフェニルメチル、
ビス(2,4−ジクロロフェニル)メチル、ビス(2,
3,6−トリフルオロフェニル)メチルのようなハロゲ
ン原子で置換されたアラルキル基;2−トリフルオロメ
チルベンジル、3−トリフルオロメチルフェネチル、4
−トリフルオロメチルベンジル、2−トリクロロメチル
フェネチル、3−ジクロロメチルベンジル、4−トリク
ロロメチルフェネチル、2−トリブロモメチルベンジ
ル、3−ジブロモメチルフェネチル、4−ジブロモメチ
ルベンジル、3,5−ビストリフルオロメチルフェネチ
ル、2,5−ビストリフルオロメチルベンジル、2,6
−ビストリフルオロメチルフェネチル、2,4−ビスト
リフルオロメチルベンジル、3,5−ビストリブロモメ
チルフェネチル、2,5−ビスジブロモメチルベンジ
ル、2,6−ビスジクロロメチルメチルフェネチル、
2,4−ビスジクロロメチルベンジル、2,3,6−ト
リストリフルオロメチルフェネチル、2,3,4−トリ
ストリフルオロメチルベンジル、3,4,5−トリスト
リフルオロメチルフェネチル、2,5,6−トリストリ
フルオロメチルベンジル、2,4,6−トリストリフル
オロメチルフェネチル、2,3,6−トリストリブロモ
メチルベンジル、2,3,4−トリスジブロモメチルフ
ェネチル、3,4,5−トリストリブロモメチルベンジ
ル、2,5,6−トリスジクロロメチルメチルフェネチ
ル、2,4,6−トリスジクロロメチルベンジル、1−
トリフルオロメチル−2−ナフチルエチル、2−トリフ
ルオロメチル−1−ナフチルメチル、3−トリフルオロ
メチル−1−ナフチルエチル、1−トリクロロメチル−
2−ナフチルメチル、2−ジクロロメチル−1−ナフチ
ルエチル、3−トリブロモメチル−1−ナフチルメチ
ル、3,8−ビストリフルオロメチル−1−ナフチルエ
チル、2,3−ビストリフルオロメチル−1−ナフチル
メチル、4,8−ビストリフルオロメチル−1−ナフチ
ルエチル、5,6−ビストリフルオロメチル−1−ナフ
チルメチル、3,8−ビストリクロロメチル−1−ナフ
チルエチル、2,3−ビスジクロロメチル−1−ナフチ
ルメチル、4,8−ビスジブロモメチル−1−ナフチル
エチル、5,6−ビストリブロモメチル−1−ナフチル
メチル、2,3,6−トリストリフルオロメチル−1−
ナフチルエチル、2,3,4−トリストリフルオロメチ
ル−1−ナフチルメチル、3,4,5−トリストリフル
オロメチル−1−ナフチルエチル、4,5,6−トリス
トリフルオロメチル−1−ナフチルメチル、2,4,8
−トリストリフルオロメチル−1−ナフチルメチル、ビ
ス(4−トリフルオロメチルフェニル)メチル、4−ト
リフルオロメチルフェニルフェニルメチル、ビス(2−
トリクロロメチルフェニル)メチル、ビス(3−トリク
ロロメチルフェニル)メチル、ビス(4−トリクロロメ
チルフェニル)メチル、2−トリブロモメチルフェニル
フェニルメチル、3−トリブロモメチルフェニルフェニ
ルメチル、ビス(4−トリブロモメチルフェニル)メチ
ル、ビス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)
メチル、ビス(2,5−ビストリフルオロメチルフェニ
ル)メチル、ビス(2,6−ビストリフルオロメチルフ
ェニル)メチル、2,4−ビストリフルオロメチルフェ
ニルフェニルメチル、ビス(3,5−ビストリブロモメ
チルフェニル)メチル、2,5−ビストリブロモメチル
フェニルフェニルメチル、2,6−ビストリクロロメチ
ルフェニルフェニルメチル、ビス(2,4−ビストリク
ロロメチルフェニル)メチル、ビス(2,3,6−トリ
ストリフルオロメチルフェニル)メチルのようなハロゲ
ノ低級アルキル基で置換されたアラルキル基;2−メチ
ルベンジル、3−メチルベンジル、4−メチルベンジ
ル、2−メチルフェネチル、4−メチルフェネチル、2
−エチルベンジル、3−プロピルフェネチル、4−エチ
ルベンジル、2−ブチルフェネチル、3−ペンチルベン
ジル、4−ペンチルフェネチル、3,5−ジメチルベン
ジル、2,5−ジメチルフェネチル、2,6−ジメチル
ベンジル、2,4−ジメチルフェネチル、3,5−ジブ
チルベンジル、2,5−ジペンチルフェネチル、2,6
−ジプロピルベンジル、2,4−ジプロピルフェネチ
ル、2,3,6−トリメチルベンジル、2,3,4−ト
リメチルフェネチル、3,4,5−トリメチルベンジ
ル、2,4,6−トリメチルベンジル、2,5,6−ト
リメチルフェネチル、2,3,6−トリブチルフェネチ
ル、2,3,4−トリペンチルベンジル、3,4,5−
トリブチルフェネチル、2,5,6−トリプロピルベン
ジル、2,4,6−トリプロピルフェネチル、1−メチ
ル−2−ナフチルメチル、2−メチル−1−ナフチルエ
チル、3−メチル−1−ナフチルメチル、1−エチル−
2−ナフチルエチル、2−プロピル−1−ナフチルメチ
ル、3−ブチル−1−ナフチルエチル、3,8−ジメチ
ル−1−ナフチルメチル、2,3−ジメチル−1−ナフ
チルエチル、4,8−ジメチル−1−ナフチルメチル、
5,6−ジメチル−1−ナフチルエチル、3,8−ジエ
チル−1−ナフチルメチル、2,3−ジプロピル−1−
ナフチルメチル、4,8−ジペンチル−1−ナフチルエ
チル、5,6−ジブチル−1−ナフチルメチル、2,
3,6−トリメチル−1−ナフチルメチル、2,3,4
−トリメチル−1−ナフチルエチル、3,4,5−トリ
メチル−1−ナフチルメチル、4,5,6−トリメチル
−1−ナフチルメチル、2,4,8−トリメチル−1−
ナフチルメチル、ビス(2−メチルフェニル)メチル、
3−メチルフェニルフェニルメチル、ビス(4−メチル
フェニル)メチル、4−メチルフェニルフェニルメチ
ル、ビス(2−エチルフェニル)メチル、ビス(3−エ
チルフェニル)メチル、ビス(4−エチルフェニル)メ
チル、2−プロピルフェニルフェニルメチル、3−プロ
ピルフェニルフェニルメチル、ビス(4−プロピルフェ
ニル)メチル、ビス(3,5−ジメチルフェニル)メチ
ル、ビス(2,5−ジメチルフェニル)メチル、ビス
(2,6−ジメチルフェニル)メチル、2,4−ジメチ
ルフェニルフェニルメチル、ビス(3,5−ジプロピル
フェニル)メチル、2,5−ジプロピルフェニルフェニ
ルメチル、2,6−ジエチルフェニルフェニルメチル、
ビス(2,4−ジエチルフェニル)メチル、ビス(2,
3,6−トリメチルフェニル)メチルのような低級アル
キル基で置換されたアラルキル基;2−メトキシベンジ
ル、3−メトキシベンジル、4−メトキシベンジル、3
−メトキシフェネチル、2−エトキシフェネチル、3−
プロポキシベンジル、4−エトキシフェネチル、2−ブ
トキシベンジル、3−ペントキシフェネチル、4−ペン
トキシベンジル、3,5−ジメトキシフェネチル、2,
5−ジメトキシベンジル、2,6−ジメトキシフェネチ
ル、2,4−ジメトキシベンジル、3,5−ジブトキシ
フェネチル、2,5−ジペントキシベンジル、2,6−
ジプロポキシフェネチル、2,4−ジプロポキシベンジ
ル、2,3,6−トリメトキシフェネチル、2,3,4
−トリメトキシベンジル、3,4,5−トリメトキシフ
ェネチル、2,5,6−トリメトキシベンジル、2,
4,6−トリメトキシフェネチル、2,3,6−トリブ
トキシベンジル、2,3,4−トリペントキシフェネチ
ル、3,4,5−トリブトキシベンジル、2,5,6−
トリプロポキシフェネチル、2,4,6−トリプロポキ
シベンジル、1−メトキシ−2−ナフチルメチル、2−
メトキシ−1−ナフチルメチル、3−メトキシ−1−ナ
フチルエチル、1−エトキシ−2−ナフチルメチル、2
−プロポキシ−1−ナフチルメチル、3−ブトキシ−1
−ナフチルエチル、3,8−ジメトキシ−1−ナフチル
メチル、2,3−ジメトキシ−1−ナフチルメチル、
4,8−ジメトキシ−1−ナフチルエチル、5,6−ジ
メトキシ−1−ナフチルメチル、3,8−ジエトキシ−
1−ナフチルメチル、2,3−ジプロポキシ−1−ナフ
チルエチル、4,8−ジペントキシ−1−ナフチルメチ
ル、5,6−ジブトキシ−1−ナフチルメチル、2,
3,6−トリメトキシ−1−ナフチルエチル、2,3,
4−トリメトキシ−1−ナフチルメチル、3,4,5−
トリメトキシ−1−ナフチルメチル、4,5,6−トリ
メトキシ−1−ナフチルエチル、2,4,8−トリメト
キシ−1−ナフチルメチル、ビス(2−メトキシフェニ
ル)メチル、3−メトキシフェニルフェニルメチル、ビ
ス(4−メトキシフェニル)メチル、4−メトキシフェ
ニルフェニルメチル、ビス(2−エトキシフェニル)メ
チル、ビス(3−エトキシフェニル)メチル、ビス(4
−エトキシフェニル)メチル、2−プロポキシフェニル
フェニルメチル、3−プロポキシフェニルフェニルメチ
ル、ビス(4−プロポキシフェニル)メチル、ビス
(3,5−ジメトキシフェニル)メチル、ビス(2,5
−ジメトキシフェニル)メチル、ビス(2,6−ジメト
キシフェニル)メチル、2,4−ジメトキシフェニルフ
ェニルメチル、ビス(3,5−ジプロポキシフェニル)
メチル、2,5−ジプロポキシフェニルフェニルメチ
ル、2,6−ジエトキシフェニルフェニルメチル、ビス
(2,4−ジエトキシフェニル)メチル、ビス(2,
3,6−トリメトキシフェニル)メチルのような低級ア
ルコキシ基で置換されたアラルキル基;2−ニトロフェ
ネチル、3−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4
−ニトロフェネチル、3,5−ジニトロベンジル、2,
5−ジニトロフェネチル、2,6−ジニトロベンジル、
2,4−ジニトロフェネチル、2,3,6−トリニトロ
ベンジル、2,3,4−トリニトロフェネチル、3,
4,5−トリニトロベンジル、2,5,6−トリニトロ
フェネチル、2,4,6−トリニトロベンジル、1−ニ
トロ−2−ナフチルメチル、2−ニトロ−1−ナフチル
エチル、3−ニトロ−1−ナフチルメチル、3,8−ジ
ニトロ−1−ナフチルメチル、2,3−ジニトロ−1−
ナフチルエチル、4,8−ジニトロ−1−ナフチルメチ
ル、5,6−ジニトロ−1−ナフチルメチル、2,3,
6−トリニトロ−1−ナフチルエチル、2,3,4−ト
リニトロ−1−ナフチルメチル、3,4,5−トリニト
ロ−1−ナフチルメチル、4,5,6−トリニトロ−1
−ナフチルエチル、2,4,8−トリニトロ−1−ナフ
チルメチル、ビス(2−ニトロフェニル)メチル、3−ニ
トロフェニルフェニルメチル、ビス(4−ニトロフェニ
ル)メチル、4−ニトロフェニルフェニルメチル、ビス
(3,5−ジニトロフェニル)メチル、ビス(2,5−
ジニトロフェニル)メチル、ビス(2,6−ジニトロフ
ェニル)メチル、2,4−ジニトロフェニルフェニルメ
チル、ビス(2,3,6−トリニトロフェニル)メチル
のようなニトロ基で置換されたアラルキル基;2−カル
バモイルベンジル、3−カルバモイルフェネチル、4−
カルバモイルベンジル、3,5−ジカルバモイルフェネ
チル、2,5−ジカルバモイルベンジル、2,6−ジカ
ルバモイルフェネチル、2,4−ジカルバモイルベンジ
ル、ビス(2−カルバモイルフェニル)メチル、3−カ
ルバモイルフェニルフェニルメチル、ビス(4−カルバ
モイルフェニル)メチル、4−カルバモイルフェニルフ
ェニルメチル、ビス(3,5−ジカルバモイルフェニ
ル)メチル、ビス(2,5−ジカルバモイルフェニル)
メチル、ビス(2,6−ジカルバモイルフェニル)メチ
ル、2,4−ジカルバモイルフェニルフェニルメチル、
ビス(2,3,6−トリカルバモイルフェニル)メチル
のようなカルバモイル基で置換されたアラルキル基及び
3,4−メチレンジオキシベンジル、3,4−メチレン
ジオキシフェネチル、ビス(3,4−メチレンジオキシ
フェニル)メチル、3,4−メチレンジオキシフェニル
フェニルメチルのようなアルキレンジオキシ基で置換さ
れたアラルキル基を挙げることができ、好適には、「無
置換のアラルキル基」、「低級アルコキシ基で置換され
たアラルキル基」及び「ニトロ基で置換されたアラルキ
ル基」であり、更に好適には、「ベンジル基」、「フェ
ネチル基」、「4−メトキシベンジル基」及び「4−ニ
トロベンジル基」である。
The “aralkyl group” in the definition of R 2 is an “aralkyl group” which may have a substituent, and is a group in which the above “aryl group” is bonded to the above “lower alkyl group”, For example, benzyl, indenylmethyl, phenanthrenylmethyl, anthracenylmethyl,
α-naphthylmethyl, β-naphthylmethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, α-naphthyldiphenylmethyl, 9-anthrylmethyl, piperonyl, 1-phenethyl, 2-phenethyl, 1-naphthylethyl, 2-naphthylethyl, 1 -Phenylpropyl, 2-phenylpropyl, 3-phenylpropyl, 1-naphthylpropyl, 2-naphthylpropyl, 3-naphthylpropyl,
-Phenylbutyl, 2-phenylbutyl, 3-phenylbutyl, 4-phenylbutyl, 1-naphthylbutyl, 2
-Naphthylbutyl, 3-naphthylbutyl, 4-naphthylbutyl, 1-phenylpentyl, 2-phenylpentyl, 3-phenylpentyl, 4-phenylpentyl, 5
-Phenylpentyl, 1-naphthylpentyl, 2-naphthylpentyl, 3-naphthylpentyl, 4-naphthylpentyl, 5-naphthylpentyl, 1-phenylhexyl, 2-phenylhexyl, 3-phenylhexyl, 4
Unsubstituted aralkyls such as -phenylhexyl, 5-phenylhexyl, 6-phenylhexyl, 1-naphthylhexyl, 2-naphthylhexyl, 3-naphthylhexyl, 4-naphthylhexyl, 5-naphthylhexyl, 6-naphthylhexyl Groups; 2-fluorobenzyl, 3
-Fluorobenzyl, 4-fluorobenzyl, 2-chlorobenzyl, 3-chlorobenzyl, 4-chlorobenzyl, 2-bromobenzyl, 3-bromobenzyl, 4-bromobenzyl, 3,5-difluorobenzyl, 2,5-
Difluorophenethyl, 2,6-difluorobenzyl,
2,4-difluorophenethyl, 3,5-dibromobenzyl, 2,5-dibromophenethyl, 2,6-dichlorobenzyl, 2,4-dichlorophenethyl, 2,3,6-
Trifluorobenzyl, 2,3,4-trifluorophenethyl, 3,4,5-trifluorobenzyl, 2,5
6-trifluorophenethyl, 2,4,6-trifluorobenzyl, 2,3,6-tribromophenethyl, 2,
3,4-tribromobenzyl, 3,4,5-tribromophenethyl, 2,5,6-trichlorobenzyl, 2,
4,6-trichlorophenethyl, 1-fluoro-2-naphthylmethyl, 2-fluoro-1-naphthylethyl, 3
-Fluoro-1-naphthylmethyl, 1-chloro-2-naphthylethyl, 2-chloro-1-naphthylmethyl, 3-
Bromo-1-naphthylethyl, 3,8-difluoro-1
-Naphthylmethyl, 2,3-difluoro-1-naphthylethyl, 4,8-difluoro-1-naphthylmethyl,
5,6-difluoro-1-naphthylethyl, 3,8-dichloro-1-naphthylmethyl, 2,3-dichloro-1-
Naphthylethyl, 4,8-dibromo-1-naphthylmethyl, 5,6-dibromo-1-naphthylethyl, 2,3
6-trifluoro-1-naphthylmethyl, 2,3,4-
Trifluoro-1-naphthylethyl, 3,4,5-trifluoro-1-naphthylmethyl, 4,5,6-trifluoro-1-naphthylethyl, 2,4,8-trifluoro-1-naphthylmethyl, Bis (2-fluorophenyl)
Methyl, 3-fluorophenylphenylmethyl, bis (4-fluorophenyl) methyl, 4-fluorophenylphenylmethyl, bis (2-chlorophenyl) methyl, bis (3-chlorophenyl) methyl, bis (4-chlorophenyl) methyl, -Chlorophenylphenylmethyl, 2-bromophenylphenylmethyl, 3-bromophenylphenylmethyl, bis (4-bromophenyl)
Methyl, bis (3,5-difluorophenyl) methyl,
Bis (2,5-difluorophenyl) methyl, bis (2,6-difluorophenyl) methyl, 2,4-difluorophenylphenylmethyl, bis (3,5-dibromophenyl) methyl, 2,5-dibromophenylphenylmethyl , 2,6-dichlorophenylphenylmethyl,
Bis (2,4-dichlorophenyl) methyl, bis (2
Aralkyl groups substituted by halogen atoms such as 3,6-trifluorophenyl) methyl; 2-trifluoromethylbenzyl, 3-trifluoromethylphenethyl,
-Trifluoromethylbenzyl, 2-trichloromethylphenethyl, 3-dichloromethylbenzyl, 4-trichloromethylphenethyl, 2-tribromomethylbenzyl, 3-dibromomethylphenethyl, 4-dibromomethylbenzyl, 3,5-bistrifluoromethyl Phenethyl, 2,5-bistrifluoromethylbenzyl, 2,6
-Bistrifluoromethylphenethyl, 2,4-bistrifluoromethylbenzyl, 3,5-bistribromomethylphenethyl, 2,5-bisdibromomethylbenzyl, 2,6-bisdichloromethylmethylphenethyl,
2,4-bisdichloromethylbenzyl, 2,3,6-tristrifluoromethylphenethyl, 2,3,4-tristrifluoromethylbenzyl, 3,4,5-tristrifluoromethylphenethyl, 2,5,6 -Tristrifluoromethylbenzyl, 2,4,6-tristrifluoromethylphenethyl, 2,3,6-tristribromobromobenzyl, 2,3,4-trisdibromomethylphenethyl, 3,4,5-tristri Bromomethylbenzyl, 2,5,6-trisdichloromethylmethylphenethyl, 2,4,6-trisdichloromethylbenzyl, 1-
Trifluoromethyl-2-naphthylethyl, 2-trifluoromethyl-1-naphthylmethyl, 3-trifluoromethyl-1-naphthylethyl, 1-trichloromethyl-
2-naphthylmethyl, 2-dichloromethyl-1-naphthylethyl, 3-tribromomethyl-1-naphthylmethyl, 3,8-bistrifluoromethyl-1-naphthylethyl, 2,3-bistrifluoromethyl-1-naphthyl Methyl, 4,8-bistrifluoromethyl-1-naphthylethyl, 5,6-bistrifluoromethyl-1-naphthylmethyl, 3,8-bistrichloromethyl-1-naphthylethyl, 2,3-bisdichloromethyl-1 -Naphthylmethyl, 4,8-bisdibromomethyl-1-naphthylethyl, 5,6-bistribromomethyl-1-naphthylmethyl, 2,3,6-tristrifluoromethyl-1-
Naphthylethyl, 2,3,4-tristrifluoromethyl-1-naphthylmethyl, 3,4,5-tristrifluoromethyl-1-naphthylethyl, 4,5,6-tristrifluoromethyl-1-naphthylmethyl , 2,4,8
-Tristrifluoromethyl-1-naphthylmethyl, bis (4-trifluoromethylphenyl) methyl, 4-trifluoromethylphenylphenylmethyl, bis (2-
Trichloromethylphenyl) methyl, bis (3-trichloromethylphenyl) methyl, bis (4-trichloromethylphenyl) methyl, 2-tribromomethylphenylphenylmethyl, 3-tribromomethylphenylphenylmethyl, bis (4-tribromo Methylphenyl) methyl, bis (3,5-bistrifluoromethylphenyl)
Methyl, bis (2,5-bistrifluoromethylphenyl) methyl, bis (2,6-bistrifluoromethylphenyl) methyl, 2,4-bistrifluoromethylphenylphenylmethyl, bis (3,5-bistrifluorobromophenyl) Methyl, 2,5-bistribromomethylphenylphenylmethyl, 2,6-bistrichloromethylphenylphenylmethyl, bis (2,4-bistrichloromethylphenyl) methyl, bis (2,3,6-tristrifluoromethylphenyl) ) Aralkyl groups substituted with halogeno lower alkyl groups such as methyl; 2-methylbenzyl, 3-methylbenzyl, 4-methylbenzyl, 2-methylphenethyl, 4-methylphenethyl,
-Ethylbenzyl, 3-propylphenethyl, 4-ethylbenzyl, 2-butylphenethyl, 3-pentylbenzyl, 4-pentylphenethyl, 3,5-dimethylbenzyl, 2,5-dimethylphenethyl, 2,6-dimethylbenzyl, 2,4-dimethylphenethyl, 3,5-dibutylbenzyl, 2,5-dipentylphenethyl, 2,6
-Dipropylbenzyl, 2,4-dipropylphenethyl, 2,3,6-trimethylbenzyl, 2,3,4-trimethylphenethyl, 3,4,5-trimethylbenzyl, 2,4,6-trimethylbenzyl, , 5,6-trimethylphenethyl, 2,3,6-tributylphenethyl, 2,3,4-tripentylbenzyl, 3,4,5-
Tributylphenethyl, 2,5,6-tripropylbenzyl, 2,4,6-tripropylphenethyl, 1-methyl-2-naphthylmethyl, 2-methyl-1-naphthylethyl, 3-methyl-1-naphthylmethyl, 1-ethyl-
2-naphthylethyl, 2-propyl-1-naphthylmethyl, 3-butyl-1-naphthylethyl, 3,8-dimethyl-1-naphthylmethyl, 2,3-dimethyl-1-naphthylethyl, 4,8-dimethyl -1-naphthylmethyl,
5,6-dimethyl-1-naphthylethyl, 3,8-diethyl-1-naphthylmethyl, 2,3-dipropyl-1-
Naphthylmethyl, 4,8-dipentyl-1-naphthylethyl, 5,6-dibutyl-1-naphthylmethyl, 2,
3,6-trimethyl-1-naphthylmethyl, 2,3,4
-Trimethyl-1-naphthylethyl, 3,4,5-trimethyl-1-naphthylmethyl, 4,5,6-trimethyl-1-naphthylmethyl, 2,4,8-trimethyl-1-
Naphthylmethyl, bis (2-methylphenyl) methyl,
3-methylphenylphenylmethyl, bis (4-methylphenyl) methyl, 4-methylphenylphenylmethyl, bis (2-ethylphenyl) methyl, bis (3-ethylphenyl) methyl, bis (4-ethylphenyl) methyl, 2-propylphenylphenylmethyl, 3-propylphenylphenylmethyl, bis (4-propylphenyl) methyl, bis (3,5-dimethylphenyl) methyl, bis (2,5-dimethylphenyl) methyl, bis (2,6 -Dimethylphenyl) methyl, 2,4-dimethylphenylphenylmethyl, bis (3,5-dipropylphenyl) methyl, 2,5-dipropylphenylphenylmethyl, 2,6-diethylphenylphenylmethyl,
Bis (2,4-diethylphenyl) methyl, bis (2
An aralkyl group substituted with a lower alkyl group such as 3,6-trimethylphenyl) methyl; 2-methoxybenzyl, 3-methoxybenzyl, 4-methoxybenzyl,
-Methoxyphenethyl, 2-ethoxyphenethyl, 3-
Propoxybenzyl, 4-ethoxyphenethyl, 2-butoxybenzyl, 3-pentoxyphenethyl, 4-pentoxybenzyl, 3,5-dimethoxyphenethyl, 2,
5-dimethoxybenzyl, 2,6-dimethoxyphenethyl, 2,4-dimethoxybenzyl, 3,5-dibutoxyphenethyl, 2,5-dipentoxybenzyl, 2,6-
Dipropoxyphenethyl, 2,4-dipropoxybenzyl, 2,3,6-trimethoxyphenethyl, 2,3,4
-Trimethoxybenzyl, 3,4,5-trimethoxyphenethyl, 2,5,6-trimethoxybenzyl, 2,
4,6-trimethoxyphenethyl, 2,3,6-tributoxybenzyl, 2,3,4-tripentoxyphenethyl, 3,4,5-tributoxybenzyl, 2,5,6-
Tripropoxyphenethyl, 2,4,6-tripropoxybenzyl, 1-methoxy-2-naphthylmethyl, 2-
Methoxy-1-naphthylmethyl, 3-methoxy-1-naphthylethyl, 1-ethoxy-2-naphthylmethyl, 2
-Propoxy-1-naphthylmethyl, 3-butoxy-1
-Naphthylethyl, 3,8-dimethoxy-1-naphthylmethyl, 2,3-dimethoxy-1-naphthylmethyl,
4,8-dimethoxy-1-naphthylethyl, 5,6-dimethoxy-1-naphthylmethyl, 3,8-diethoxy-
1-naphthylmethyl, 2,3-dipropoxy-1-naphthylethyl, 4,8-dipentoxy-1-naphthylmethyl, 5,6-dibutoxy-1-naphthylmethyl, 2,
3,6-trimethoxy-1-naphthylethyl, 2,3
4-trimethoxy-1-naphthylmethyl, 3,4,5-
Trimethoxy-1-naphthylmethyl, 4,5,6-trimethoxy-1-naphthylethyl, 2,4,8-trimethoxy-1-naphthylmethyl, bis (2-methoxyphenyl) methyl, 3-methoxyphenylphenylmethyl, bis (4-methoxyphenyl) methyl, 4-methoxyphenylphenylmethyl, bis (2-ethoxyphenyl) methyl, bis (3-ethoxyphenyl) methyl, bis (4
-Ethoxyphenyl) methyl, 2-propoxyphenylphenylmethyl, 3-propoxyphenylphenylmethyl, bis (4-propoxyphenyl) methyl, bis (3,5-dimethoxyphenyl) methyl, bis (2,5
-Dimethoxyphenyl) methyl, bis (2,6-dimethoxyphenyl) methyl, 2,4-dimethoxyphenylphenylmethyl, bis (3,5-dipropoxyphenyl)
Methyl, 2,5-dipropoxyphenylphenylmethyl, 2,6-diethoxyphenylphenylmethyl, bis (2,4-diethoxyphenyl) methyl, bis (2
An aralkyl group substituted with a lower alkoxy group such as 3,6-trimethoxyphenyl) methyl; 2-nitrophenethyl, 3-nitrobenzyl, 4-nitrobenzyl,
-Nitrophenethyl, 3,5-dinitrobenzyl, 2,
5-dinitrophenethyl, 2,6-dinitrobenzyl,
2,4-dinitrophenethyl, 2,3,6-trinitrobenzyl, 2,3,4-trinitrophenethyl, 3,
4,5-trinitrobenzyl, 2,5,6-trinitrophenethyl, 2,4,6-trinitrobenzyl, 1-nitro-2-naphthylmethyl, 2-nitro-1-naphthylethyl, 3-nitro- 1-naphthylmethyl, 3,8-dinitro-1-naphthylmethyl, 2,3-dinitro-1-
Naphthylethyl, 4,8-dinitro-1-naphthylmethyl, 5,6-dinitro-1-naphthylmethyl, 2,3
6-trinitro-1-naphthylethyl, 2,3,4-trinitro-1-naphthylmethyl, 3,4,5-trinitro-1-naphthylmethyl, 4,5,6-trinitro-1
-Naphthylethyl, 2,4,8-trinitro-1-naphthylmethyl, bis (2-nitrophenyl) methyl, 3-nitrophenylphenylmethyl, bis (4-nitrophenyl) methyl, 4-nitrophenylphenylmethyl, bis (3,5-dinitrophenyl) methyl, bis (2,5-
An aralkyl group substituted with a nitro group such as dinitrophenyl) methyl, bis (2,6-dinitrophenyl) methyl, 2,4-dinitrophenylphenylmethyl, bis (2,3,6-trinitrophenyl) methyl; 2-carbamoylbenzyl, 3-carbamoylphenethyl, 4-
Carbamoylbenzyl, 3,5-dicarbamoylphenethyl, 2,5-dicarbamoylbenzyl, 2,6-dicarbamoylphenethyl, 2,4-dicarbamoylbenzyl, bis (2-carbamoylphenyl) methyl, 3-carbamoylphenylphenylmethyl , Bis (4-carbamoylphenyl) methyl, 4-carbamoylphenylphenylmethyl, bis (3,5-dicarbamoylphenyl) methyl, bis (2,5-dicarbamoylphenyl)
Methyl, bis (2,6-dicarbamoylphenyl) methyl, 2,4-dicarbamoylphenylphenylmethyl,
An aralkyl group substituted with a carbamoyl group such as bis (2,3,6-tricarbamoylphenyl) methyl and 3,4-methylenedioxybenzyl, 3,4-methylenedioxyphenethyl, bis (3,4-methylene Examples thereof include an aralkyl group substituted with an alkylenedioxy group such as dioxyphenyl) methyl and 3,4-methylenedioxyphenylphenylmethyl, and preferably an "unsubstituted aralkyl group" or "lower alkoxy group". An aralkyl group substituted with a nitro group and an aralkyl group substituted with a nitro group, more preferably a benzyl group, a phenethyl group, a 4-methoxybenzyl group, and a 4-nitrobenzyl group. Group ".

【0014】「硼素を含有する還元剤」とは、通常の還
元において使用される水素化硼素化合物であれば特に限
定はないが、好適には、水素化硼素ナトリウム、水素化
硼素カリウムのような水素化硼素金属類、水素化トリセ
カンダリーブチル硼素カリウム(K−セレクトライ
ド)、水素化トリセカンダリーブチル硼素リチウム(L
−セレクトライド)、水素化トリシアミル硼素カリウム
(KS−セレクトライド)、水素化トリシアミル硼素リ
チウム(LS−セレクトライド)のようなセレクトライ
ド類、及び、水素化トリエチル硼素リチウム(スーパー
ハイドライド類)等の水素化トリアルキル硼素金属類で
ある。
The "boron-containing reducing agent" is not particularly limited as long as it is a borohydride compound used in ordinary reduction, but is preferably a compound such as sodium borohydride or potassium borohydride. Metal borohydride, potassium tri-secondary butyl borohydride (K-selectride), lithium tri-secondary butyl borohydride (L
-Selectrides), selectides such as potassium trisiamylborohydride (KS-selectride), lithium trithiamylborohydride (LS-selectride), and hydrogen such as lithium triethylborohydride (superhydrides) Metal trialkylborides.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明の、新規なチオエーテル類
及びチオール類の製造方法は、以下に記載する方法によ
って実施することができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method for producing novel thioethers and thiols according to the present invention can be carried out by the methods described below.

【0016】即ち、本発明の、新規なチオエーテル類の
製造方法は、一般式R1−SR2を有するチオエーテル類
(式中、R1及びR2は、前記と同意義を示す。)を製造
するために、一般式R1−Xを有する化合物(式中、R1
及びXは、前記と同意義を示す。)と、一般式R2S−
Yを有する化合物(式中、R2及びYは、前記と同意義
を示す。)とを、溶媒中(使用される溶剤としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類;メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、tert-ブ
タノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコー
ル、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、
メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類;アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルム
アミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
を挙げることができる。)、硼素を含有する還元剤の存
在下に、−50℃乃至100℃(好適には、−10℃乃
至40℃)で、1時間乃至24時間(好適には、2時間
乃至10時間)、反応させることによる。
That is, the process for producing the novel thioethers of the present invention produces thioethers having the general formula R 1 -SR 2 (wherein R 1 and R 2 have the same meanings as described above). to compound having the general formula R 1 -X (in the formula, R 1
And X have the same meaning as described above. ) And the general formula R 2 S-
A compound having Y (wherein R 2 and Y have the same meanings as described above) is mixed with a solvent (a solvent that does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent). If not particularly limited, preferably, hexane, heptane,
Aliphatic hydrocarbons such as ligroin and petroleum ether;
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n- Propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol,
Alcohols such as methyl cellosolve; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; and amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide and hexamethylphosphorotriamide. ) In the presence of a boron-containing reducing agent at -50 ° C to 100 ° C (preferably -10 ° C to 40 ° C) for 1 hour to 24 hours (preferably 2 hours to 10 hours); By reacting.

【0017】後処理は、例えば、反応を、1規定水酸化
ナトリウム水溶液により停止し、又、不溶物が存在する
場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのよう
な混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含
む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、
溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化
合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はク
ロマトグラフィ−等によって更に精製できる。
In the post-treatment, for example, the reaction is stopped with a 1N aqueous solution of sodium hydroxide, and if insolubles are present, they are removed by filtration, and then a water-immiscible organic solvent such as ethyl acetate is added. In addition, after washing with water, the organic layer containing the target compound is separated and dried over anhydrous magnesium sulfate, etc.
It is obtained by distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0018】一方、本発明の、新規なチオール類の製造
方法は、一般式R1−SHを有するチオール類(式中、
1は、前記と同意義を示す。)を製造するために、製
造された、一般式R1−SR2を有する化合物(式中、R
1及びR2は、前記と同意義を示す。)から、常法(例え
ば、ベンジル基の除去は、弗化水素をアニソール中、ま
たは、90%弗化水素を5%クレゾール若しくは5%チ
オクレゾール中、25℃で1時間作用させる。4−メト
キシベンジル基の除去は、酢酸水銀をトリフルオロ酢酸
中、0℃で10乃至30分間作用させるか、トリフルオ
ロ酢酸水銀を含水酢酸中、20℃で2乃至3時間作用さ
せ、その後硫化水素又は2−メルカプトエタノールを作
用させるか、トリフルオロ酢酸水銀を、トリフルオロ酢
酸及びアニソール中で作用させるか、トリフルオロ酢酸
中で還流するか、或いは、無水弗化水素をアニソール
中、25℃で1時間作用させる。)に従って、R2
(式中、R2は、前記と同意義を示す。)を除去するこ
とによる。
On the other hand, the novel method for producing thiols of the present invention relates to a thiol having the general formula R 1 -SH (wherein
R 1 has the same meaning as described above. ) To produce a compound having the general formula R 1 -SR 2 , wherein R
1 and R 2 are as defined above. ), A conventional method (for example, removal of a benzyl group is effected by reacting hydrogen fluoride in anisole or 90% hydrogen fluoride in 5% cresol or 5% thiocresol at 25 ° C. for 1 hour). The benzyl group can be removed by reacting mercury acetate in trifluoroacetic acid at 0 ° C. for 10 to 30 minutes, or mercury trifluoroacetate in aqueous acetic acid at 20 ° C. for 2 to 3 hours, and then hydrogen sulfide or 2-hydrogen. Acting with mercaptoethanol, mercury trifluoroacetate in trifluoroacetic acid and anisole, refluxing in trifluoroacetic acid, or anhydrous hydrogen fluoride in anisole at 25 ° C. for 1 hour By removing the R 2 group (wherein R 2 has the same meaning as described above).

【0019】以下に、実施例を挙げて本発明を更に具体
的に説明する。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

【0020】[0020]

【実施例1】2−(フェニルエチルチオ)ピリジン
(1)の製造 2−ブロモピリジン(175mg,1.11mmol)
と、ベンゼンエタンチオール(300mg,2.12m
mol)の1,2−ジメトキシエタン溶液(4ml)
に、0℃で、K−セレクトライド(1規定のテトラヒド
ロフラン溶液,3.5ml)を加え、室温まで昇温後、
同じ温度で3時間撹拌した。1規定水酸化ナトリウム水
溶液で反応を終了させた後、酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を分離した後、有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、
残査をPTLC(へキサン/酢酸エチル=9/1)で精
製することにより、標記化合物(1)を、122mg
(51%)得た。1 H−NMR(CDCl3) δ ppm 3.01(t,2H,J=8.0Hz),3.42
(t,2H,J=8.0Hz),6.94−6.98
(m,1H),7.41−7.37(m,6H),7.
42−7.53(m,1H),8.43−8.45
(m,1H), HRMS(m/z) 実測値:215.0767 計算値:215.0769(C1313NS,M+とし
て)
Example 1 2- (phenylethylthio) pyridine
Preparation of (1) 2-bromopyridine (175 mg, 1.11 mmol)
And benzeneethanethiol (300 mg, 2.12 m
mol) in 1,2-dimethoxyethane (4 ml)
At 0 ° C., K-selectride (1 N tetrahydrofuran solution, 3.5 ml) was added, and the mixture was heated to room temperature.
Stir at the same temperature for 3 hours. After terminating the reaction with a 1N aqueous sodium hydroxide solution, the mixture was extracted with ethyl acetate. After separating the ethyl acetate layer, the organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate. Concentrate under reduced pressure,
The residue was purified by PTLC (hexane / ethyl acetate = 9/1) to give 122 mg of the title compound (1).
(51%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm 3.01 (t, 2H, J = 8.0 Hz), 3.42
(T, 2H, J = 8.0 Hz), 6.94-6.98
(M, 1H), 7.41-7.37 (m, 6H), 7.
42-7.53 (m, 1H), 8.43-8.45
(M, 1H), HRMS (m / z) Observed: 215.0767 Calculated: 215.0699 (as C 13 H 13 NS, M + )

【0021】[0021]

【実施例2】3−(フェニルエチルチオ)ピリジン
(2)の製造 (1)の合成法と同様にして、2−ブロモピリジンの代
わりに、3−ブロモピリジンを使用して、標記化合物
(2)(58%)を得た。1 H−NMR(CDCl3) δ ppm 2.92(t,2H,J=8.2Hz),3.17
(t,2H,J=8.2Hz),7.13−7.32
(m,6H),7.60−7.66(m,1H),8.
42(dd,1H,J=4.8 & 1.2Hz),
8.58(d,1H,J=2.3Hz). HRMS(m/z) 実測値:215.0771 計算値:215.0769(C1313NS,M+とし
て)
Example 2 3- (phenylethylthio) pyridine
Production of (2) In the same manner as in the synthesis method of (1), 3-bromopyridine was used instead of 2-bromopyridine to obtain the title compound (2) (58%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm 2.92 (t, 2H, J = 8.2 Hz), 3.17
(T, 2H, J = 8.2 Hz), 7.13-7.32
(M, 6H), 7.60-7.66 (m, 1H), 8.
42 (dd, 1H, J = 4.8 & 1.2 Hz),
8.58 (d, 1H, J = 2.3 Hz). HRMS (m / z) Obtained: 215.0771 Calculated: 215.0699 (as C 13 H 13 NS, M + )

【0022】[0022]

【実施例3】4−(フェニルエチルチオ)ピリジン
(3)の製造 (1)の合成法と同様にして、2−ブロモピリジンの代
わりに、4−ブロモピリジンを使用して、標記化合物
(3)(69%)を得た。1 H−NMR(CDCl3) δ ppm 2.99(t,2H,J=8.2Hz),3.21
(t,2H,J=8.2Hz),7.10(dd,2
H,J=4.8 & 1.7Hz),7.21−7.2
7(m,3H),7.30−7.35(m,2H),
8.38(dd,2H,J=4.8 & 1.7H
z). HRMS(m/z) 実測値:215.0763 計算値:215.0769(C1313NS,M+とし
て)
Example 3 4- (phenylethylthio) pyridine
Production of (3) In the same manner as in the synthesis method of (1), 4-bromopyridine was used instead of 2-bromopyridine to obtain the title compound (3) (69%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm 2.99 (t, 2H, J = 8.2 Hz), 3.21
(T, 2H, J = 8.2 Hz), 7.10 (dd, 2
H, J = 4.8 & 1.7 Hz), 7.21-7.2.
7 (m, 3H), 7.30-7.35 (m, 2H),
8.38 (dd, 2H, J = 4.8 & 1.7H
z). HRMS (m / z) Found: 215.0763 Calculated: 215.0769 (C 13 H 13 NS , as M +)

【0023】[0023]

【実施例4】2−(フェニルエチルチオ)ピラジン
(4)の製造 (1)の合成法と同様にして、2−ブロモピリジンの代
わりに、2−ブロモピラジンを使用して、標記化合物
(4)(41%)を得た。1 H−NMR(CDCl3) δ ppm 3.01(t,2H,J=8.0Hz),3.43
(t,2H,J=8.0Hz),7.20−7.36
(m,5H),8.19(d,1H,J=1.5H
z),8.39(dd,1H,J=2.7 & 1.5
Hz),8.43(d,1H,J=1.5Hz). HRMS(m/z) 実測値:216.0707 計算値:216.0722(C12122S,M+とし
て)
Example 4 2- (phenylethylthio) pyrazine
Production of (4) In the same manner as in the synthesis method of (1), 2-bromopyrazine was used instead of 2-bromopyridine to obtain the title compound (4) (41%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm 3.01 (t, 2H, J = 8.0 Hz), 3.43
(T, 2H, J = 8.0 Hz), 7.20-7.36
(M, 5H), 8.19 (d, 1H, J = 1.5H
z), 8.39 (dd, 1H, J = 2.7 & 1.5
Hz), 8.43 (d, 1H, J = 1.5 Hz). HRMS (m / z) Found: 216.0707 Calculated: 216.0722 (C 12 H 12 N 2 S, as M +)

【0024】[0024]

【実施例5】2−(フェニルエチルチオ)ピリミジン
(5)の製造 (1)の合成法と同様にして、2−ブロモピリジンの代
わりに、2−ブロモピリミジンを使用して、標記化合物
(5)(59%)を得た。1 H−NMR(CDCl3) δ ppm 3.02−3.08(m,2H),3.36−3.42
(m,2H),6.94(dd,1H,J=4.8H
z),7.20−7.34(m,5H),8.50−
8.53(m,2H). HRMS(m/z) 実測値:216.0716 計算値:216.0722(C12122S,M+とし
て)
Example 5 2- (phenylethylthio) pyrimidine
Production of (5) In the same manner as in the synthesis method of (1), 2-bromopyrimidine was used instead of 2-bromopyridine to obtain the title compound (5) (59%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm 3.02-3.08 (m, 2H), 3.36-3.42
(M, 2H), 6.94 (dd, 1H, J = 4.8H)
z), 7.20-7.34 (m, 5H), 8.50-
8.53 (m, 2H). HRMS (m / z) Found: 216.0716 Calculated: 216.0722 (C 12 H 12 N 2 S, as M +)

【0025】[0025]

【実施例6】5−(フェニルエチルチオ)ピリミジン
(6)の製造 (1)の合成法と同様にして、2−ブロモピリジンの代
わりに、5−ブロモピリミジンを使用して、標記化合物
(6)(10%)を得た。1 H−NMR(CDCl3) δ ppm 2.95(t,2H,J=8.0Hz),3.19−
3.25(m,2H),7.17−7.35(m,5
H),8.66(s,2H),9.02(s,1H). HRMS(m/z) 実測値:216.0741 計算値:216.0721(C12122S,M+とし
て)
Example 6 5- (phenylethylthio) pyrimidine
Production of (6) In the same manner as in the synthesis method of (1), 5-bromopyrimidine was used instead of 2-bromopyridine to obtain the title compound (6) (10%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm 2.95 (t, 2H, J = 8.0 Hz), 3.19−
3.25 (m, 2H), 7.17-7.35 (m, 5
H), 8.66 (s, 2H), 9.02 (s, 1H). HRMS (m / z) Found: 216.0741 Calculated: 216.0721 (C 12 H 12 N 2 S, as M +)

【0026】[0026]

【実施例7】4−(フェニルエチルチオ)キナリジン
(7)の製造 (1)の合成法と同様にして、2−ブロモピリジンの代
わりに、4−ブロモキナリジンを使用して、標記化合物
(7)(30%)を得た。1 H−NMR(CDCl3) δ ppm 3.09(t,2H,J=8.2Hz),3.35
(t,2H,J=8.2Hz),7.07(s,1
H),7.24−7.29(m,3H),7.30−
7.37(m,2H),7.48(ddd,1H,J=
8.4,6.9 & 1.2Hz),7.67(dd
d,1H,J=8.4,6.9 & 1.2Hz),
7.99(d,1H,J=8.4Hz),8.08(d
d,1H,J=8.4 & 1.2Hz). HRMS(m/z) 実測値:279.1085 計算値:279.1082(C1817NS,M+とし
て)
Example 7 4- (phenylethylthio) quinaridine
Production of (7) The title compound (7) (30%) was obtained in the same manner as in the synthesis method of (1), except that 4-bromoquinalidine was used instead of 2-bromopyridine. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm 3.09 (t, 2H, J = 8.2 Hz), 3.35
(T, 2H, J = 8.2 Hz), 7.07 (s, 1
H), 7.24-7.29 (m, 3H), 7.30-
7.37 (m, 2H), 7.48 (ddd, 1H, J =
8.4, 6.9 & 1.2 Hz), 7.67 (dd
d, 1H, J = 8.4, 6.9 & 1.2 Hz),
7.99 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 8.08 (d
d, 1H, J = 8.4 & 1.2 Hz). HRMS (m / z) Found: 279.1085 Calculated: 279.1082 (as C 18 H 17 NS, M + )

【0027】[0027]

【実施例8】(2−ベンジルチオ)ピリジン(8)の製
ジベンジルジスルフィド(260mg,1.1mmo
l)及び2−ブロモピリジン(171mg,1.1mm
ol)の1,2−ジメトキシエタン溶液(4mL)に、
氷冷下、K−セレクトライドのテトラヒドロフラン溶液
(1規定、2.5mL)を加え、すぐ室温まで昇温し
た。12時間攪拌した後に、1規定の水酸化ナトリウム
水溶液で反応を停止し、生成物を酢酸エチルで抽出し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、溶媒
を減圧留去し、得られた残渣を分取シリカゲル薄層クロ
マトグラフィーで精製し、表記の化合物159mg(収
率75%)を得た。1 H−NMR(CDCl3) δ ppm 4.44(s,2H),6.95−6.99(m,1
H),7.15(d,1H,J=8.1Hz),7.2
0−7.36(m,3H),7.39−7.55(m,
3H),8.44−8.46(m,1H).
Example 8 Preparation of (2-benzylthio) pyridine (8)
Concrete dibenzyl disulfide (260mg, 1.1mmo
l) and 2-bromopyridine (171 mg, 1.1 mm)
ol) in 1,2-dimethoxyethane solution (4 mL),
Under ice-cooling, a tetrahydrofuran solution of K-selectride (1 N, 2.5 mL) was added, and the temperature was immediately raised to room temperature. After stirring for 12 hours, the reaction was stopped with a 1N aqueous solution of sodium hydroxide, and the product was extracted with ethyl acetate. After the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by preparative silica gel thin-layer chromatography to obtain the title compound (159 mg, yield 75%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm 4.44 (s, 2H), 6.95-6.99 (m, 1
H), 7.15 (d, 1H, J = 8.1 Hz), 7.2
0-7.36 (m, 3H), 7.39-7.55 (m,
3H), 8.44-8.46 (m, 1H).

【0028】[0028]

【実施例9】2−メルカプトピリジンの製造 化合物(8)を用い、アニソール中で、弗化水素を、或
いは、5%クレゾール又は5%チオクレゾール中で、9
0%弗化水素を、25℃で、1時間作用させることによ
り、ベンジル基を除去し、表記の化合物を得た。
Example 9 Preparation of 2-mercaptopyridine Using compound (8), hydrogen fluoride in anisole or 5% cresol or 5% thiocresol was used.
The benzyl group was removed by reacting with 0% hydrogen fluoride at 25 ° C. for 1 hour to obtain the title compound.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上のように、本発明の方法、即ち、硼
素を含有する還元剤の存在下に、縮合反応を行う方法、
により、従来合成できなかった、又は、収率が低かっ
た、チオエーテル類及びチオール類の合成を、高収率で
行うことができる。
As described above, the method of the present invention, that is, a method of performing a condensation reaction in the presence of a reducing agent containing boron,
Thus, the synthesis of thioethers and thiols, which could not be conventionally synthesized or the yield was low, can be performed in high yield.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤本 克巳 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 Fターム(参考) 4C031 HA01 4C055 AA01 BA01 BA02 BA47 BB01 BB02 CA01 CA02 CA47 CB01 CB02 DA01 DA47 DB01 DB02 FA13 FA31 FA37  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Katsumi Fujimoto 1-258 Hiromachi, Shinagawa-ku, Tokyo Sankyo Co., Ltd. F-term (reference) 4C031 HA01 4C055 AA01 BA01 BA02 BA47 BB01 BB02 CA01 CA02 CA47 CB01 CB02 DA01 DA47 DB01 DB02 FA13 FA31 FA37

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式 R1−X を有する化合物(式
中、R1は、窒素原子を含む芳香族複素環基を示し、X
は、脱離基を示す。)と、 一般式 R2S−Y を有する化合物[式中、R2は、低
級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、Y
は、水素原子又は、一般式 −SR2を有する基(式
中、R2は、前記と同意義を示す。)を示す。]とを、
硼素を含有する還元剤の存在下に反応させ、 一般式 R1−SR2 を有する化合物(式中、R1及びR
2は、前記と同意義を示す。)を製造する方法。
1. A compound having the general formula R 1 -X, wherein R 1 is an aromatic heterocyclic group containing a nitrogen atom,
Represents a leaving group. ) And a compound having the general formula R 2 S—Y wherein R 2 represents a lower alkyl group, an aryl group or an aralkyl group;
It is a hydrogen atom or a group (wherein, R 2 is. Of the same significance as described above) having the general formula -SR 2 shows a. And
Reacting in the presence of a boron-containing reducing agent to form a compound having the general formula R 1 -SR 2 (wherein R 1 and R
2 has the same meaning as described above. A) manufacturing method.
【請求項2】請求項1において、R1が、窒素原子を含
む6員芳香族複素環基である方法。
2. The method according to claim 1, wherein R 1 is a 6-membered aromatic heterocyclic group containing a nitrogen atom.
【請求項3】請求項1において、R2が、アラルキル基
である方法。
3. The method according to claim 1, wherein R 2 is an aralkyl group.
【請求項4】請求項1において、硼素を含有する還元剤
が、水素化硼素金属類、セレクトライド類、スーパーハ
イドライド類である方法。
4. The method according to claim 1, wherein the boron-containing reducing agent is a metal borohydride, a selectride, or a superhydride.
【請求項5】請求項1乃至4から選択されるいずれか一
項において、更に、製造された、一般式R1−SR2を有
する化合物(式中、R1及びR2は、前記と同意義を示
す。)から、R2基(式中、R2は、前記と同意義を示
す。)を除去し、一般式R1−SHを有する化合物(式
中、R1は、前記と同意義を示す。)を製造する方法。
5. The compound according to any one of claims 1 to 4, further comprising a compound having the general formula R 1 -SR 2 wherein R 1 and R 2 are the same as defined above. from shows the significance.), R 2 group (wherein, R 2 is as defined above.) is removed and the general formula R 1 a compound having a -SH (wherein, R 1, the same The meaning is shown.)
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WO2015000900A2 (en) 2013-07-01 2015-01-08 Givaudan Sa Organic compounds
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