JP2000348489A - Semiconductor memory device and its driving method - Google Patents

Semiconductor memory device and its driving method

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JP2000348489A
JP2000348489A JP11162308A JP16230899A JP2000348489A JP 2000348489 A JP2000348489 A JP 2000348489A JP 11162308 A JP11162308 A JP 11162308A JP 16230899 A JP16230899 A JP 16230899A JP 2000348489 A JP2000348489 A JP 2000348489A
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JP
Japan
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data
data bus
write
level
control signal
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JP11162308A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Tanaka
吉洋 田中
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NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make preventable an erroneous read operation caused by a precharging shortage generated at a time when the speed of a cycle used to perform a read operation in succession to a write operation is made high, the breakdown of data and the reliability of write data from being dropped, in a semiconductor memory which is constituted in such a way that a data bus and a data bus which are identical are used, that the data is changed into a complementary signal so as to be transmitted and that the write operation and the read operation are performed. SOLUTION: An auxiliary precharging circuit 10 is installed with respect to a memory cell array part 1, a precharging circuit 4, in which an I/O data bus T and an I/O data bus B as well as a data bus are charged to a VDD level, a write buffer 5, and a read buffer 6. During write operation, before an intrinsic precharging operation by the precharging circuit 4, the data bus T and the data bus B are supplementaly precharged in advance to a level of VDD-q×VTN which is lower than the precharging level VDD. Since the amount of an electric charge to be supplied to the data bus T and the data bus B is small in an intrinsic precharging operation by the precharging circuit 4, this semiconductor memory device can be charged to the VDD level in a short time.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置及
びその書込み方法に関し、特に、同一のデータバスを使
用し、データを相補信号化して伝送することにより読出
し及び書込みを行う構成の半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and a method for writing the same, and more particularly, to a semiconductor memory device having a structure in which data is read and written by using the same data bus and transmitting data as complementary signals. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の半導体メモリとして、例えばダ
イナミック・ランダム・アクセスメモリ(DRAM)が
ある。図6に、DRAMにおけるリード、ライト時のデ
ータ伝送経路の構成の一例を、概略的に示す。図6を参
照して、この図に示す半導体メモリは、メモリセルアレ
イ部1、カラムスイッチ部2、I/0バス部3、プリチ
ャージ回路4、ライトバッファ5及びリードバッファ6
を備えている。
2. Description of the Related Art As a semiconductor memory of this type, for example, there is a dynamic random access memory (DRAM). FIG. 6 schematically shows an example of the configuration of a data transmission path at the time of reading and writing in a DRAM. Referring to FIG. 6, the semiconductor memory shown in FIG. 6 includes a memory cell array unit 1, a column switch unit 2, an I / O bus unit 3, a precharge circuit 4, a write buffer 5, and a read buffer 6.
It has.

【0003】メモリセルアレイ部1は、情報を記憶する
m×n個のメモリセルC11,C1n,‥‥,Cm1,
Cmnをm行、n列に配置したメモリセルアレイと、メ
モリセルアレイの各列毎に設けられた相補のディジット
線対(D1,▽D1),‥‥,(Dn,▽Dn)(▽
は、反転を意味する上バーの代用。以下、同じ)と、メ
モリセルアレイの中から1つの行を選択するためのm本
のワード線WL1,‥‥,WLmと、各ディジット線対
毎に設けられたn個のセンスアンプSA1,‥‥,SA
nとからなる。尚、メモリセルは、図6中に示すよう
に、1つのnMOSトランジスタと1つのキャパシタと
からなる、所謂1トランジスタ1キャパシタ構成のもの
であって、各ワード線WL1,‥‥,WLmは、対応す
る行内の各nMOSトランジスタのゲート電極に接続さ
れている。そして、通常、メモリセルに電源電圧VDD
レベルの書込みを行うために、行選択時のワード線WL
1,‥‥,WLmのハイレベルは、少なくとも電源電圧
VDD+nMOSトランジスタのしきい値電圧VTN以
上のレベルにする。
The memory cell array section 1 has m × n memory cells C11, C1n,..., Cm1,
A memory cell array in which Cmn are arranged in m rows and n columns, and complementary digit line pairs (D1, $ D1), $, (Dn, $ Dn) ($) provided for each column of the memory cell array.
Is a substitute for the upper bar which means inversion. The same applies hereinafter), m word lines WL1,..., WLm for selecting one row from the memory cell array, and n sense amplifiers SA1,. , SA
n. The memory cell has a so-called one-transistor, one-capacitor configuration including one nMOS transistor and one capacitor, as shown in FIG. 6, and each word line WL1,. Connected to the gate electrode of each nMOS transistor in the row. Then, usually, the power supply voltage VDD is applied to the memory cell.
To perform level writing, select the word line WL
The high levels of 1,..., WLm are at least equal to the power supply voltage VDD + the threshold voltage VTN of the nMOS transistor.

【0004】カラムスイッチ部2は、各センスアンプS
A1,‥‥,SAnの相補の出力点とI/Oバス部3の
相補のデータバスT,Bとの間に電流経路をなすように
設けられた2n個のnMOSトランジスタからなる。各
nMOSトランジスタには、メモリセルアレイの各列毎
に与えられるカラムスイッチ制御信号φc1,‥‥,φ
cnがゲート電極に与えられている。リード又はライト
動作のときは、いずれか1つのカラムスイッチ制御信号
φc1,‥‥,φcnをハイレベルにすることによっ
て、n個のセンスアンプSA1,‥‥,SAnから1つ
のセンスアンプを選択してI/Oバス部3と接続し、デ
ィジット線対の相補のデータをデータバスT,Bに伝送
し又はデータバスT,Bの相補のデータをディジット線
対に伝送する。
[0004] The column switch section 2 is connected to each sense amplifier S
It is composed of 2n nMOS transistors provided so as to form a current path between complementary output points of A1,..., SAn and complementary data buses T and B of the I / O bus unit 3. Each nMOS transistor has a column switch control signal φc1,..., Φ applied to each column of the memory cell array.
cn is given to the gate electrode. During a read or write operation, one of the n sense amplifiers SA1,..., SAn is selected by setting any one of the column switch control signals φc1,. It is connected to the I / O bus unit 3 to transmit complementary data of the digit line pair to the data buses T and B or to transmit complementary data of the data buses T and B to the digit line pair.

【0005】ライトバッファ5はライト制御信号φwに
より活性化されて、指定されたメモリセルに書き込むべ
きライトデータDWを外部より取り込み、相補の信号と
してI/Oバス部3のデータバスT,Bに送出する。
The write buffer 5 is activated by a write control signal φw to take in write data DW to be written to a designated memory cell from the outside, and as a complementary signal to the data buses T and B of the I / O bus unit 3. Send out.

【0006】リードバッファ6は、指定されたメモリセ
ルから読み出されディジット線からデータバスT,Bに
伝送されてくる相補のデータを、リードデータDRとし
て外部に送出する。
The read buffer 6 sends out complementary data read from the designated memory cell and transmitted from the digit line to the data buses T and B as read data DR.

【0007】プリチャージ回路4は、電源電圧供給線
(電圧=VDD)7とデータバスTとの間及び電源電圧
供給線とデータバスBとの間に1つづつ電流経路をなす
ように接続された2つのpMOSトランジスタからな
る。各pMOSトランジスタは、ゲート電極に共通に入
力されるプリチャージ制御信号φpがロウレベルである
期間オン状態になって、各データバスT,Bを電源電圧
VDDのレベルに充電(プリチャージ)する。
The precharge circuit 4 is connected so as to form a current path between the power supply voltage supply line (voltage = VDD) 7 and the data bus T and between the power supply voltage supply line and the data bus B one by one. And two pMOS transistors. Each pMOS transistor is turned on while the precharge control signal φp commonly input to the gate electrode is at the low level, and charges (precharges) each data bus T, B to the level of the power supply voltage VDD.

【0008】ここで、上述の半導体メモリにおいて、セ
ンスアンプSA1,‥‥,SAnには、例えば、図7
(a)に示すような、回路が用いられる。すなわち、p
MOSトランジスタとnMOSトランジスタとを直列接
続してなるCMOSインバータを2つ、互いに自己の入
力点と相手の出力点とが接続されるように組み合わせ、
それぞれのインバータの入力点(節点N1,N2)を相
補のディジット線D,▽Dに接続する。そして、2つの
pMOSトランジスタの共通接続されたソース電極8P
には、センスアンプ活性化信号SAPを入力し、2つの
nMOSトランジスタの共通接続されたソース電極8N
には、センスアンプ活性化信号SANを与える。2つの
センスアンプ活性化信号SAP,SANは、図7(b)
の上段の波形図に示すように、ライト又はリード動作の
際にセンスアンプを活性化するときは、信号SAPを電
源電圧VDDのレベルに、信号SANをグランドレベル
にする。それ以外の、センスアンプを非活性状態にする
ときは、両方の信号SAP,SANともVDD/2のレ
ベルにする。従って、図7(b)の下段の波形図に示す
ように、ワード線がロウレベルでセンスアンプが非活性
状態にあるとき、つまりセンスアンプ活性化信号SA
P,SANのレベルがSAP=SAN=VDD/2のと
きは、対をなすディジット線D,▽Dは共にVDD/2
のレベルになっている。一方、ワード線がハイレベルに
なると共に、センスアンプ活性化信号SAPがVDDレ
ベルにされ、もう一方のセンスアンプ活性化信号SAN
がグランドレベルにされると、相補のディジット線D,
▽Dの間にメモリセルに蓄積されている電荷に相当する
分の電位差が生じ、センスアンプの相補の入力点(接続
節点N1、N2)の間にディジット線D,▽D間の電位
差に応じた電位差が生じる。そして、その節点N1,N
2の電位差がセンスアンプによって増幅されて、センス
アンプの一方の入力点はVDDレベルに他方の入力点は
グランドレベルに駆動される。
Here, in the above-described semiconductor memory, the sense amplifiers SA1,.
A circuit as shown in FIG. That is, p
Combining two CMOS inverters each having a MOS transistor and an nMOS transistor connected in series so that their own input point and the other's output point are connected to each other;
The input points (nodes N1 and N2) of each inverter are connected to complementary digit lines D and .DELTA.D. Then, the source electrodes 8P commonly connected to the two pMOS transistors
, A sense amplifier activation signal SAP is input, and the source electrodes 8N of the two nMOS transistors connected in common are connected to each other.
Supplies a sense amplifier activation signal SAN. The two sense amplifier activation signals SAP and SAN are shown in FIG.
As shown in the upper waveform diagram, when the sense amplifier is activated at the time of the write or read operation, the signal SAP is set to the level of the power supply voltage VDD and the signal SAN is set to the ground level. To deactivate the other sense amplifiers, both signals SAP and SAN are set to the level of VDD / 2. Therefore, as shown in the lower waveform diagram of FIG. 7B, when the word line is at the low level and the sense amplifier is inactive, that is, the sense amplifier activation signal SA
When the levels of P and SAN are SAP = SAN = VDD / 2, the paired digit lines D and .DELTA.D are both VDD / 2.
Level. On the other hand, when the word line goes high, the sense amplifier activation signal SAP goes to the VDD level, and the other sense amplifier activation signal SAN
Are brought to the ground level, the complementary digit lines D,
A potential difference corresponding to the charge stored in the memory cell is generated during the period ▽ D, and the potential difference between the digit lines D and ▽ D between the complementary input points (connection nodes N1 and N2) of the sense amplifier is generated. A potential difference occurs. And the nodes N1, N
The potential difference of 2 is amplified by the sense amplifier, and one input point of the sense amplifier is driven to the VDD level and the other input point is driven to the ground level.

【0009】このとき、カラムスイッチ制御信号φc
1,‥‥,φcnがロウレベルでセンスアンプとデータ
バスT,Bとの間が切断されているときは、センスアン
プの相補の入力点(節点N1,N2)にはディジット線
D,▽Dの電位がそのまま与えられる。一方、カラムス
イッチ制御信号φc1,‥‥,φcnがハイレベルでセ
ンスアンプとデータバスT,Bとの間が接続されている
ときは、センスアンプの相補の入力点N1,N2の電位
は、各データバスT,Bに蓄積されている電荷と各ディ
ジット線D,▽Dに蓄積されている電荷とがデータバス
T,Bの容量とディジット線D,▽Dの容量とに応じて
再配分されることによって決まる電位になる。
At this time, the column switch control signal φc
When 1,..., Φcn are at low level and the sense amplifier is disconnected from the data buses T and B, the complementary input points (nodes N1 and N2) of the sense amplifier are connected to the digit lines D and. The potential is applied as it is. On the other hand, when the column switch control signals φc1,..., Φcn are at a high level and the sense amplifier is connected to the data buses T and B, the potentials of the complementary input points N1 and N2 of the sense amplifier are The electric charge stored in the data buses T and B and the electric charge stored in each of the digit lines D and #D are redistributed according to the capacitance of the data buses T and B and the capacitance of the digit lines D and #D. To a potential determined by the

【0010】以上のセンスアンプの説明は、1つのセン
スアンプに関するものであるが、図1に示す半導体メモ
リにおいてリード又はライトの動作を行う場合は、先
ず、m本のワード線の中から1本を選択し、選択したワ
ード線のレベルをVDD+VTN(VDDは電源電圧、
VTNはメモリセルのnMOSトランジスタのしきい値
電圧)にする。仮に第1行目のワード線WL1を選択し
たとすると、ワード線WL1に接続されているn個のメ
モリセルC11,‥‥,C1nが蓄えている情報に応じ
た電荷が、予めVDD/2のレベルにされている各ディ
ジット線対(D1,▽D1),‥‥,(Dn,▽Dn)
に読み出される。これにより、各ディジット線D1と▽
D1との間‥‥Dnと▽Dnとの間に、移動した電荷量
に応じた微小な電位差が生じる。
The above description of the sense amplifier relates to one sense amplifier. When a read or write operation is performed in the semiconductor memory shown in FIG. 1, first, one of m word lines is read out. And the level of the selected word line is set to VDD + VTN (VDD is the power supply voltage,
VTN is set to the threshold voltage of the nMOS transistor of the memory cell). Assuming that the word line WL1 in the first row is selected, the charge corresponding to the information stored in the n memory cells C11,..., C1n connected to the word line WL1 is previously set to VDD / 2. Digit line pairs (D1, $ D1), $, (Dn, $ Dn)
Is read out. Thereby, each digit line D1 and ▽
A small potential difference is generated between ΔDn and ΔDn between D1 and D1 in accordance with the amount of moved electric charge.

【0011】次いで、センスアンプSA1,‥‥,SA
nが活性化される。活性化されたセンスアンプは、ディ
ジット線の電荷量及び容量とデータバスT,Bの電荷量
及び容量に応じてセンスアンプの相補の入力点N1,N
2間に生じる電位差をセンスし、増幅して、一方のディ
ジット線及びデータバスをVDDレベルに、他方のディ
ジット線及びデータバスをグランドレベルに駆動する。
Next, sense amplifiers SA1,.
n is activated. The activated sense amplifiers have complementary input points N1 and N1 of the sense amplifier according to the charge amount and capacitance of the digit line and the charge amounts and capacitance of the data buses T and B.
The potential difference between the two is sensed and amplified, and one digit line and data bus are driven to VDD level and the other digit line and data bus are driven to ground level.

【0012】以上のセンスアンプの動作を踏まえて、以
下に、図6に示すDRAMにおけるリード、ライトの動
作を説明する。尚、以下においては、本発明の理解を容
易にするために、始めにメモリセルC11に書込みを行
い、その直後に同じワード線に接続するメモリセルC1
nの記憶データを読み出すという一連の動作について説
明を行う。また、この一連の動作において、当初、メモ
リセルC11の記憶データは”0”(ワード線WL1が
選択されたとき、ディジット線D1がロウレベルに、デ
ィジット線▽D1がハイレベルとなる)であり、メモリ
セルC1nの記憶データも”0”(同、ディジット線D
nがロウレベル、ディジット線▽Dnがハイレベル)で
あるものとし、メモリセルC11の記憶データ”0”を
ライトデータDW=”1”に書き換える(同、ディジッ
ト線D1をVDDレベルに、ディジット線▽D1をグラ
ンドレベルに切り替える)ものとする。
Based on the above operation of the sense amplifier, read and write operations in the DRAM shown in FIG. 6 will be described below. In the following, in order to facilitate understanding of the present invention, first, writing to the memory cell C11 is performed, and immediately thereafter, the memory cell C1 connected to the same word line is written.
A series of operations for reading the stored data of n will be described. Further, in this series of operations, initially, the storage data of the memory cell C11 is "0" (when the word line WL1 is selected, the digit line D1 is at a low level and the digit line # D1 is at a high level), The storage data of the memory cell C1n is also “0” (the same as the digit line D).
n is at a low level and the digit line #Dn is at a high level), and the stored data "0" of the memory cell C11 is rewritten to the write data DW = "1" (similarly, the digit line D1 is set to the VDD level, and D1 is switched to the ground level).

【0013】上述の、メモリセルC11への書込み→メ
モリセルC1nからの読出しの一連の動作におけるタイ
ミングチャートを、図8に示す。図6及び図8を参照し
て、先ず、第1行目のワード線WL1を選択し、上に述
べたようにしてセンスアンプSA1,‥‥,SAnを活
性化させる。これにより、第1行目のメモリセルC1
1,‥‥,C1nに記憶されているデータに応じた電荷
が各ディジット線対(D1,▽D1),‥‥,(Dn,
▽Dn)に移動し、各センスアンプにより増幅されて、
各ディジット線はそれぞれVDDレベル又はグランドレ
ベルに駆動される。その結果、ディジット線対(D1,
▽D1)では、ディジット線D1がグランドレベルに、
ディジット線▽D1はVDDレベルに駆動される。同様
に、ディジット線対(Dn,▽Dn)では、ディジット
線Dnがグランドレベルに、ディジット線▽DnはVD
Dレベルに駆動される。
FIG. 8 is a timing chart showing a series of operations of the above-described writing from the memory cell C11 to reading from the memory cell C1n. Referring to FIGS. 6 and 8, first, word line WL1 in the first row is selected, and sense amplifiers SA1,..., SAn are activated as described above. Thereby, the memory cells C1 in the first row
1,..., C1n are charged according to the data stored in each digit line pair (D1,... D1),.
▽ Dn), amplified by each sense amplifier,
Each digit line is driven to a VDD level or a ground level, respectively. As a result, the digit line pair (D1,
▽ D1), the digit line D1 is at the ground level,
Digit line # D1 is driven to the VDD level. Similarly, in digit line pair (Dn, ▽ Dn), digit line Dn is at ground level and digit line 、 Dn is VD
Driven to D level.

【0014】次に、メモリセルC11にライトデータD
W=”1”を書き込むために、時刻T0 に、プリチャー
ジ制御信号φpをロウレベルからハイレベルに切り替え
る。これにより、プリチャージ回路4中の2つのpMO
Sトランジスタは共にオン状態からオフ状態に切り替わ
り、それまでデータバスT,Bを電源電圧VDDに充電
していたプリチャージが停止する。
Next, the write data D is stored in the memory cell C11.
At time T 0 , the precharge control signal φp is switched from a low level to a high level in order to write W = “1”. Thereby, the two pMOs in the precharge circuit 4
Both the S transistors are switched from the on state to the off state, and the precharge that has been charging the data buses T and B to the power supply voltage VDD is stopped.

【0015】次いで、ライトデータDW=”1”をライ
トバッファ5に入力すると共に、時刻T1 にライト制御
信号φwをロウレベルからハイレベルへ変化させて、ラ
イトバッファ5を活性化させる。これにより、ライトデ
ータDW=”1”が相補化され、増幅されてI/Oバス
部3に送出され、データバスTはVDDレベルに、バス
Bはグランドレベルにそれぞれ駆動される。
[0015] Then, inputs the write data DW = "1" in the write buffer 5, at time T 1 by changing the write control signal φw from the low level to the high level to activate the write buffer 5. As a result, the write data DW = "1" is complemented, amplified and sent to the I / O bus unit 3, and the data bus T is driven to the VDD level and the bus B is driven to the ground level.

【0016】その後、時刻T2 に第1列目に対するカラ
ムスイッチ制御信号φc1をロウレベルからハイレベル
に変化させ、ディジット線対(D1,▽D1)とI/O
バス部3との間の2つのnMOSトランジスタを導通さ
せて、ディジット線D1とデータバスTとを接続し、デ
ィジット線▽D1とデータバスBとを接続する。このと
き、データバスTはVDDレベルでありディジット線D
1はグランドレベルであるので、ディジット線D1のレ
ベルがグランドレベルから上昇する。一方、データバス
Bはグランドレベルでありディジット線▽D1はVDD
レベルであるので、ディジット線▽D1のレベルがVD
Dレベルから低下する。その結果、ディジット線D1の
レベルとディジット線▽D1のレベルが反転する。そし
て、レベル反転したディジット線D1,▽D1間の電位
差がセンスアンプSA1によってセンス、増幅されて、
ディジット線D1はVDDレベルに、ディジット線▽D
1はグランドレベルに駆動される。これにより、メモリ
セルC11にデータ”1”が書き込まれる。すなわち、
これまでの動作で、外部より入力されたライトデータD
W=”1”が相補化され、データバスT,B→センスア
ンプSA1→ディジット線対(D1,▽D1)の経路
で、メモリセルアレイC11にライトデータDW=”
1”が書き込まれる。
Thereafter, at time T 2 , the column switch control signal φc 1 for the first column is changed from the low level to the high level, and the digit line pair (D 1 ▽ D 1) and the I / O
The two nMOS transistors between the bus unit 3 are made conductive, the digit line D1 is connected to the data bus T, and the digit line # D1 is connected to the data bus B. At this time, the data bus T is at the VDD level and the digit line D
Since 1 is the ground level, the level of the digit line D1 rises from the ground level. On the other hand, the data bus B is at the ground level and the digit line # D1 is at VDD.
Level, so that the level of digit line # D1 is VD
Decrease from D level. As a result, the level of digit line D1 and the level of digit line # D1 are inverted. Then, the potential difference between the digit lines D1 and # D1 whose levels have been inverted is sensed and amplified by the sense amplifier SA1, and
Digit line D1 is at VDD level and digit line ▽ D
1 is driven to ground level. As a result, data “1” is written to the memory cell C11. That is,
The write data D input from the outside
W = "1" is complemented, and the write data DW = "" is written to the memory cell array C11 via the data bus T, B → sense amplifier SA1 → digit line pair (D1, $ D1).
1 "is written.

【0017】この後、時刻T3 にカラムスイッチ制御信
号φc1をハイレベルからロウレベルに変化させ、カラ
ムスイッチ部2のnMOSトランジスタをオフ状態にし
て、ディジット線対(D1,▽D1)とI/Oバス部3
とを切断する。同時に、ライト制御信号φwをハイレベ
ルからロウレベルに変化させて、ライトバッファ5を非
活性状態にする。その後、時刻T4 にプリチャージ制御
信号φpをハイレベルからロウレベルに切り替えてデー
タバスT,Bに対するプリチャージを始め、データバス
T,BがVDDレベルに充電されたのち、メモリセルC
1nに対するリード動作を開始する。
[0017] After this, at time T 3 to change the column switch control signal φc1 from the high level to the low level, and the nMOS transistor of the column switch unit 2 in an off state, the digit line pairs (D1, ▽ D1) and I / O Bus part 3
And disconnect. At the same time, the write control signal φw is changed from the high level to the low level, and the write buffer 5 is deactivated. Then, start the precharge on the data bus T, B precharge control signal φp at time T 4 from the high level to switch to the low level, after the data bus T, B is charged to the VDD level, the memory cell C
The read operation for 1n is started.

【0018】リード動作を行うには、先ず、外部より与
えられるリード動作の指令に基づいて、第1行目のワー
ド線WL1を選択すると共に第n列目のセンスアンプS
Anを活性化させ、メモリセルC1nの記憶データ”
0”をディジット線対(Dn,▽Dn)に読み出して、
センスアンプSAnによってディジット線Dnをグラン
ドレベルに、ディジット線▽DnをVDDレベルに駆動
する。
In order to perform the read operation, first, the word line WL1 in the first row is selected and the sense amplifier S in the n-th column is selected based on an external read operation command.
An is activated to store the data stored in the memory cell C1n.
0 "is read out to the digit line pair (Dn, ▽ Dn),
The digit line Dn is driven to the ground level and the digit line 、 Dn is driven to the VDD level by the sense amplifier SAn.

【0019】次いで、時刻T5 にプリチャージ制御信号
φpをロウレベルからハイレベルに変化させて、データ
バスT,Bに対するプリチャージを停止させる。このと
き、データバスT,Bは既に十分にプリチャージされ
て、共にVDDレベルに達している。次に、時刻T6
に、第n列目に対するカラムスイッチ制御信号φcnを
ロウレベルからハイレベルに変化させ、カラムスイッチ
部2内の2つのnMOSトランジスタをオン状態にし
て、ディジット線対(Dn,▽Dn)とI/Oバス部3
とを接続する。これにより、既にグランドレベルに駆動
されているディジット線DnとVDDレベルの電荷を蓄
積しているデータバスTとが接続され、又、VDDレベ
ルに駆動されているディジット線▽DnとVDDレベル
の電荷を蓄積しているデータバスBとが接続される。そ
の結果、データバスBはVDDレベルを保つのに対しデ
ータバスTはVDDレベルから低下して、データバス
T、Bの間に、バスTのレベル<バスBのレベルの電位
差が生じる。このデータバスT,B間の電位差がセンス
アンプSAnによってセンスされ、増幅されて、データ
バスTはグランドレベルに、データバスBはVDDにそ
れぞれ駆動される。これにより、メモリセルC1nの記
憶データ”0”がデータバスT,Bに伝送され、リード
バッファ6からリードデータDRとして出力される。
[0019] Then, at time T 5 by the precharge control signal φp is changed from the low level to the high level, the data bus T, and stops the pre-charge against B. At this time, the data buses T and B have already been sufficiently precharged and both have reached the VDD level. Next, at time T 6
Next, the column switch control signal φcn for the n-th column is changed from the low level to the high level, and the two nMOS transistors in the column switch unit 2 are turned on, and the digit line pair (Dn, ▽ Dn) and the I / O Bus part 3
And connect. As a result, the digit line Dn already driven to the ground level is connected to the data bus T storing the charge at the VDD level, and the digit line ▽ Dn driven to the VDD level and the charge at the VDD level are connected. Is connected to the data bus B storing the data. As a result, while the data bus B keeps the VDD level, the data bus T falls from the VDD level, and a potential difference of the level of the bus T <the level of the bus B occurs between the data buses T and B. The potential difference between the data buses T and B is sensed and amplified by the sense amplifier SAn, and the data bus T is driven to the ground level and the data bus B is driven to VDD. As a result, the storage data "0" of the memory cell C1n is transmitted to the data buses T and B, and is output from the read buffer 6 as read data DR.

【0020】その後、時刻T7 に第n列目に対するカラ
ムスイッチ制御信号φcnをハイレベルからロウレベル
に変化させ、ディジット線対(Dn,▽Dn)とデータ
バス部3とを切断した後、時刻T8 にプリチャージ制御
信号φpをハイレベルからロウレベルに切り替えてデー
タバスT,BをVDDレベルにプリチャージし、その後
のリード又はライト動作の指令を待つ。
[0020] Then, at time T 7 to change the column switch control signal φcn for the n-th column from the high level to the low level, the digit line pair (Dn, ▽ Dn) and was cut and a data bus 3, a time T 8 , the precharge control signal φp is switched from the high level to the low level to precharge the data buses T and B to the VDD level, and waits for a subsequent read or write operation command.

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】近年、半導体メモリの
高速化に対する要求は強く、その要求を満たすための一
つの考え方として、例えばシンクロナスDRAMなどの
ように、全ての入出力情報をシステムクロックに同期さ
せてチップの入出力部のラッチで取り込む、いわゆる同
期動作で制御すると共に、パイプライン方式で複数の回
路ブロックを並列動作させるなど、それまでとは違った
制御方法を採用することによって高速化するという技術
思想がある。しかし、そのような新しい考え方によるD
RAMであっても、ライト、リードの動作サイクルを短
縮すれば更に高速化することが可能である。このこと
は、シンクロナスDRAMに限らず、これまでのDRA
Mにも同じことがいえる。
In recent years, there has been a strong demand for higher speeds of semiconductor memories. One way to satisfy the demand is to use all the input / output information as a system clock, such as in a synchronous DRAM. Speed up by adopting a different control method, such as controlling by synchronous operation, which is taken in by the latch of the chip's input / output unit, so-called synchronous operation, and operating multiple circuit blocks in parallel by pipeline method. There is a technical philosophy of doing. However, D by such a new idea
Even in the case of a RAM, it is possible to further increase the speed by shortening the write and read operation cycles. This is not limited to synchronous DRAM,
The same is true for M.

【0022】ところが、これまで述べたライト、リード
の動作において、動作サイクルを短縮すると、記憶デー
タの破壊或いは誤ったデータの読出しが発生したり、書
き込んだデータの保持時間が短くなる或いは正常に書き
込めないなどのライト動作の信頼性低下が生じることが
ある。以下に、その説明を行う。
However, in the above-described write and read operations, if the operation cycle is shortened, the stored data is destroyed or erroneous data is read, the retention time of the written data is shortened, or the data cannot be written normally. In some cases, the reliability of the write operation may be degraded. The description is given below.

【0023】上述したように、図6に示す半導体メモリ
においてメモリセルに対してライト動作を行った直後に
リード動作を行う場合は、図8中の時刻T4 から時刻T
5 迄の期間のように、ライト動作が終わった後、データ
バスT,Bをプリチャージし、双方のデータバスが同じ
プリチャージレベル(この例の場合は、電源電圧VD
D)になるまで十分に充電してからリード動作を始めな
ければならない。そして、その場合のライト動作開始
(時刻T0 )からリード動作終了(時刻T8 )までの時
間は、第n列目に対するカラムスイッチ制御信号φcn
がロウレベルからハイレベルに切り替わる時刻T6 によ
ってほぼ決まることになる。
[0023] As described above, in a read operation immediately after the write operation to the memory cell in the semiconductor memory shown in FIG. 6, the time T from the time T 4 in FIG. 8
After the write operation is completed as in the period up to 5 , the data buses T and B are precharged, and both data buses are set to the same precharge level (in this case, the power supply voltage VD
The read operation must be started after sufficiently charging until D). In this case, the time from the start of the write operation (time T 0 ) to the end of the read operation (time T 8 ) is the column switch control signal φcn for the n-th column.
There will be substantially determined by the time T 6 is switched from the low level to the high level.

【0024】そこで、図8において、時刻T0 〜T8
での動作サイクルの時間を短縮するために、ライト動作
終了後に次のリード動作を開始するタイミングを早める
ものとする。すなわち、図8に示すタイミングチャート
において、第n列目のディジット線対(Dn,▽Dn)
とI/Oバス部3とを接続するタイミング(カラムスイ
ッチ制御信号φcnをロウレベルからハイレベルに切り
替えるタイミング)を、図9に示すように、本来の時刻
6 から時刻T16に早めるものとする。この早めたタイ
ミングは、ライト動作終了後のデータバスT,Bに対す
るプリチャージが開始された直後であって、時刻T16
時点では、プリチャージ制御信号φpはそれ以前の時刻
4 にロウレベルに切り替わっているので、データバス
T,Bに対するプリチャージは行われている。しかしそ
のプリチャージは十分ではなく、データバスBはグラン
ドレベルに近い低いレベルに留まっている。この状態
で、I/Oバス部3とディジット線対(Dn,▽Dn)
とが接続されると、VDDレベルのデータバスTとグラ
ンドレベルのディジット線Dnとが接続され、又、グラ
ンドレベルに近い低いレベルのデータバスBとVDDレ
ベルのディジット線▽Dnとが接続されることになる。
その結果、データバスTがVDDレベルから低下しディ
ジット線Dnがグランドレベルから浮き上がると同時
に、ディジット線▽Dnは、データバスBが完全にVD
Dレベルに充電されている場合に比べて大きくVDDレ
ベルから低下する。また、データバスBのレベルは時刻
16までに充電されていたレベルから上昇してデータバ
スTのレベルに近づき、ディジット線Dn,▽Dn間及
びデータバスT,B間の電位差が小さくなる。
Therefore, in FIG. 8, in order to shorten the operation cycle time from time T 0 to T 8 , the timing at which the next read operation is started after the end of the write operation is advanced. That is, in the timing chart shown in FIG. 8, the digit line pair (Dn, .DELTA.Dn) in the n-th column
The timing for connecting the I / O bus unit 3 (the timing for switching the column switch control signal φcn from the low level to the high level), as shown in FIG. 9, it is assumed to accelerate at the time T 16 from the original time T 6 . The early was timing data bus T after the write operation is completed, a right after the precharge is started for B, and the time of the time T 16, the low level to the precharge control signal φp earlier it time T 4 Since the switching has been performed, the data buses T and B are precharged. However, the precharge is not sufficient, and the data bus B remains at a low level close to the ground level. In this state, the I / O bus unit 3 and the digit line pair (Dn, ▽ Dn)
Are connected, the VDD level data bus T and the ground level digit line Dn are connected, and the low level data bus B close to the ground level is connected to the VDD level digit line ▽ Dn. Will be.
As a result, the data bus T drops from the VDD level and the digit line Dn rises from the ground level, and at the same time, the digit line ▽ Dn connects the data bus B to the VDD line completely.
The voltage drops significantly from the VDD level as compared with the case where the battery is charged to the D level. The level of the data bus B approaches the level of the data bus T rises from the level that has been charged by time T 16, digit lines Dn, ▽ Dn and between data bus T, the potential difference between B decreases.

【0025】上記のデータバスT,B間及びディジット
線Dn,▽Dn間の電位差の大きさは、時刻T16までに
プリチャージによってデータバスT,Bにされている電
荷量及びディジット線Dn,▽Dnに蓄積されている電
荷量が、データバスT,Bの容量及びディジット線D
n,▽Dnの容量によって再配分されることによってほ
ぼ決まるのであるが、データバスT,B及びディジット
線Dn,▽Dnにおける線間の電位差がセンスアンプS
Anの感度以下になると、データバスT及びディジット
線DnとデータバスB及びディジット線▽Dnのどちら
がVDDレベルに駆動され、どちらがグランドレベルに
駆動されるかが一義的に定まらなくなる。その結果、図
9中の第5段目に示すI/OバスT,Bの波形及び最下
段に示すリードディジットDn,▽Dnの波形のよう
に、本来グランドレベルに駆動されるべきデータバスT
及びディジット線DnがVDDレベルに駆動され、一
方、VDDレベルに駆動されるべきデータバスB及びデ
ィジット線▽Dnがグランドレベルに駆動されて、メモ
リセルC1nの記憶データは”0”であるにも拘らず、
これを逆の”1”と読む誤リードが生じ、またデータ”
1”に書き換えてしまう所謂データ破壊が起こる。
The above data bus T, B, and between the digit lines Dn, ▽ magnitude of the potential difference between Dn, the data bus by the precharge by time T 16 T, the charge amount is B and digit lines Dn,電荷 The amount of charge stored in Dn is equal to the capacitance of data buses T and B and the digit line D
The potential difference between the data buses T, B and the digit lines Dn,.
When the sensitivity is lower than the sensitivity of An, which of the data bus T and the digit line Dn and the data bus B and the digit line #Dn is driven to the VDD level and which is driven to the ground level cannot be uniquely determined. As a result, like the waveforms of the I / O buses T and B shown at the fifth stage in FIG. 9 and the waveforms of the read digits Dn and.
And the digit line Dn is driven to the VDD level, while the data bus B to be driven to the VDD level and the digit line #Dn are driven to the ground level, and the data stored in the memory cell C1n is "0". Regardless,
An erroneous read that reads this as the opposite "1" occurs, and the data "
A so-called data destruction of rewriting to 1 "occurs.

【0026】このように、図6に示す半導体メモリにお
いて、単にライト動作後のリード動作開始のタイミング
を早めるだけでは、記憶データの破壊或いは誤リードが
発生することがある。そこで、ライト、リード動作を高
速化する他の方法として、図8に示すタイミングチャー
トにおいて、始めにメモリセルC11にデータ”1”を
書き込む際に、第1列目に対するカラムスイッチ制御信
号φc1をハイレベルにしている期間(時刻T2 〜T3
の期間)を短くすることが考えられる。しかし、このよ
うにすると、ディジット線D1がVDDレベルに、ディ
ジット線▽D1がグランドレベルに十分駆動されない可
能性が生じる。このように、メモリセルC11に書き込
んだデータのレベルが十分にVDDになっていない場合
は、書き込んだデータの保持時間が短くなってしまう、
或いは最悪の場合は、書き換えたはずのデータがライト
動作前と同じになる所謂ライト不可が生じてしまうな
ど、ライト動作の信頼性が損なわれてしまう。
As described above, in the semiconductor memory shown in FIG. 6, if the timing of starting the read operation after the write operation is simply advanced, the stored data may be destroyed or an erroneous read may occur. Therefore, as another method for speeding up the write and read operations, in the timing chart shown in FIG. 8, when writing data “1” to the memory cell C11 first, the column switch control signal φc1 for the first column is set to high. During the level (time T 2 to T 3
) Can be shortened. However, in this case, the digit line D1 may not be sufficiently driven to the VDD level and the digit line # D1 may not be sufficiently driven to the ground level. As described above, when the level of the data written in the memory cell C11 is not sufficiently VDD, the retention time of the written data is shortened.
In the worst case, the reliability of the write operation is impaired, for example, a so-called write-disable occurs in which the data to be rewritten becomes the same as before the write operation.

【0027】従って、本発明は、同一のデータバスを使
用し、データを相補信号化して伝送することにより書込
み及び読出しを行う構成の半導体メモリにおいて、ライ
ト動作の後にリード動作を行なうサイクルを高速で行っ
ても記憶データの破壊、誤ったデータの読出し或いはラ
イトデータの信頼性低下が生じないようにすることを目
的とするものである。
Therefore, according to the present invention, in a semiconductor memory having a configuration in which writing and reading are performed by using the same data bus and converting data into complementary signals for transmission, a cycle of performing a read operation after a write operation can be performed at a high speed. An object of the present invention is to prevent the destruction of stored data, the reading of erroneous data, or the deterioration of the reliability of write data, even if performed.

【0028】[0028]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、データを記憶するメモリセルを行、列に配置したメ
モリセルアレイと、前記メモリセルアレイの行を選択す
るためのワード線と、前記メモリセルアレイの列毎に設
けられて、メモリセルが記憶しているデータ又はメモリ
セルに記憶させるデータを伝送する、相補のディジット
線と、前記メモリセルアレイの列毎に設けられて、前記
相補のディジット線間の電位差を増幅するセンスアンプ
と、前記ディジット線にカラムスイッチを介して接続さ
れる、入出力用の一対の相補のデータバスと、ライト制
御信号に応じて活性化されて、外部より入力された前記
メモリセルに書き込まれるべきライトデータを取り込
み、前記データバスに相補の信号として伝送するライト
バッファと、前記データバスを所定の第1の電位に充電
する第1のプリチャージ回路と、ライト動作の期間に前
記データバスを前記第1の電位より低位の第2の電位に
充電する第2のプリチャージ回路とを少なくとも備えて
いる。
According to the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising: a memory cell array in which memory cells for storing data are arranged in rows and columns; a word line for selecting a row of the memory cell array; Complementary digit lines provided for each column of the cell array and transmitting data stored in the memory cells or data to be stored in the memory cells, and the complementary digit lines provided for each column of the memory cell array. A sense amplifier that amplifies a potential difference between the two, a pair of complementary data buses for input / output connected to the digit line via a column switch, and activated in response to a write control signal and input from the outside. A write buffer for receiving write data to be written to the memory cell and transmitting the write data as a complementary signal to the data bus; A first precharge circuit for charging the tabus to a predetermined first potential, and a second precharge circuit for charging the data bus to a second potential lower than the first potential during a write operation. At least.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。図1に、本発明の第1の
実施の形態に係る半導体メモリにおける、リード、ライ
ト時のデータ伝送経路の構成を概略的に示す。図1を参
照して、この図に示す半導体メモリが図6に示す従来の
半導体メモリと異なるのは、補助プリチャージ回路10
を備えていることである。補助プリチャージ回路は、電
源電圧供給線7とデータバスBとの間に設けられた充電
回路12Bと、電源電圧供給線7とデータバスTとの間
に設けられた充電回路12Tと、補助プリチャージ制御
信号発生回路11とからなる。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 schematically shows a configuration of a data transmission path at the time of reading and writing in the semiconductor memory according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the semiconductor memory shown in FIG. 1 is different from the conventional semiconductor memory shown in FIG.
It is to have. The auxiliary precharge circuit includes: a charging circuit 12B provided between the power supply voltage supply line 7 and the data bus B; a charging circuit 12T provided between the power supply voltage supply line 7 and the data bus T; And a charge control signal generation circuit 11.

【0030】補助プリチャージ制御信号発生回路11
は、ライト制御信号φwを取り込み、ライト制御信号φ
wより所定の時間td1だけ遅れてロウレベルからハイ
レベルに立ち上る、ハイレベル幅がtd2の補助プリチ
ャージ制御信号φwdを発生する(図4の最上段の波形
及び第2段目の波形参照)。補助プリチャージ制御信号
発生回路11の一例の回路図を図2に示す。図2を参照
して、この補助プリチャージ制御信号発生回路は、ライ
ト制御信号φwを入力して時間td1だけ遅延を加える
第1遅延回路13と、第1遅延回路13の出力信号に時
間td2だけ遅延を加えて反転させる第2遅延回路14
及びインバータ15と、第1遅延回路13の出力信号と
インバータ15の出力信号とのAND論理信号を生成し
て補助プリチャージ制御信号φwdとして出力するAN
Dゲート16とからなる。
Auxiliary precharge control signal generation circuit 11
Captures the write control signal φw and outputs the write control signal φ
An auxiliary precharge control signal φwd having a high level width of td2, which rises from a low level to a high level with a delay of a predetermined time td1 from w, is generated (see the uppermost waveform and the second waveform in FIG. 4). FIG. 2 shows a circuit diagram of an example of the auxiliary precharge control signal generation circuit 11. Referring to FIG. 2, the auxiliary precharge control signal generating circuit receives a write control signal φw and delays it by a time td1, and an output signal of the first delay circuit 13 by a time td2. Second delay circuit 14 for adding delay and inverting
And an inverter 15 that generates an AND logic signal of the output signal of the first delay circuit 13 and the output signal of the inverter 15 and outputs the AND logic signal as the auxiliary precharge control signal φwd.
And a D gate 16.

【0031】充電回路12Bは、電源電圧供給線7とデ
ータバスBとの間に直列に挿入されたk個のnMOSト
ランジスタQB1〜QBkと、各nMOSトランジスタ
のドレイン・ソース間に並列に接続されたk−1個のフ
ューズFB2〜FBkとからなる。尚、データバスBに
最も近いトランジスタQB1だけは、フューズを設けら
れていない。全てのフューズが連結している状態でも、
電源電圧供給線7とデータバスBとの間にnMOSトラ
ンジスタが少なくとも1つは挿入されているようにする
ためである。充電回路12Tも、充電回路12Bにおけ
ると同様に、直列接続されたk個のnMOSトランジス
タQT1〜QTkと、k−1個のフューズFT2〜FT
kとからなる。充電回路12B,12T内の各nMOS
トランジスタのゲート電極には、補助プリチャージ制御
信号発生回路11の出力信号φwdが共通に入力されて
いる。
The charging circuit 12B has k nMOS transistors QB1 to QBk inserted in series between the power supply voltage supply line 7 and the data bus B, and is connected in parallel between the drain and source of each nMOS transistor. It consists of k-1 fuses FB2 to FBk. Note that only the transistor QB1 closest to the data bus B is not provided with a fuse. Even when all fuses are connected,
This is because at least one nMOS transistor is inserted between the power supply voltage supply line 7 and the data bus B. Similarly to the charging circuit 12B, the charging circuit 12T includes k serially connected nMOS transistors QT1 to QTk and k-1 fuses FT2 to FT.
k. Each nMOS in the charging circuits 12B and 12T
The output signal φwd of the auxiliary precharge control signal generation circuit 11 is commonly input to the gate electrode of the transistor.

【0032】以下に、本実施の形態に係る半導体メモリ
のライト動作及びそれに続くリード動作について、図4
に示すタイミングチャートを用いて説明する。図4は、
メモリセルC11にライトデータDW=”1”を書き込
んだ後に、同一行のメモリセルC1nの記憶データを読
み出す動作を行うときのタイミングチャートを示す。
尚、メモリセルC11,C1nの当初の記憶データは、
共に”0”であるものとする。図1及び図4を参照し
て、先ず、第1行目のワード線WL1を選択し、従来の
半導体メモリにおけると同様にして、センスアンプSA
1,‥‥,SAnを活性化させ、ディジット線D1をグ
ランドレベルに、ディジット線▽D1をVDDレベルに
駆動する。
The write operation and the subsequent read operation of the semiconductor memory according to this embodiment will be described below with reference to FIG.
This will be described with reference to the timing chart shown in FIG. FIG.
7 shows a timing chart when an operation of reading storage data of the memory cell C1n in the same row is performed after writing the write data DW = "1" to the memory cell C11.
The initial storage data of the memory cells C11 and C1n is
It is assumed that both are "0". Referring to FIGS. 1 and 4, first, a word line WL1 in the first row is selected, and the sense amplifier SA is set in the same manner as in the conventional semiconductor memory.
Activate 1,..., SAn to drive digit line D1 to ground level and digit line # D1 to VDD level.

【0033】次に、時刻T0 にプリチャージ制御信号φ
pをロウレベルからハイレベルに切り替え、データバス
T,Bに対するプリチャージ動作を停止させる。
Next, at time T 0 , the precharge control signal φ
The signal p is switched from the low level to the high level, and the precharge operation for the data buses T and B is stopped.

【0034】次いで、ライトデータDW=”1”をライ
トバッファ5に入力すると共に、時刻T1 にライト制御
信号φwをロウレベルからハイレベルへ変化させ、ライ
トバッファ5を活性化させてライトデータDW=”1”
を相補化し、データバスTをVDDレベルに、データバ
スBをグランドレベルに駆動する。
[0034] Then, inputs the write data DW = "1" in the write buffer 5, a write control signal φw to time T 1 is changed from the low level to the high level, the write by activating the write buffer 5 data DW = "1"
To drive the data bus T to the VDD level and the data bus B to the ground level.

【0035】そして、時刻T2 に第1列目に対するカラ
ムスイッチ制御信号φc1をロウレベルからハイレベル
に変化させてディジット線D1とデータバスTとを接続
し、ディジット線▽D1とデータバスBとを接続する。
これにより、ディジット線D1をVDDレベルに、ディ
ジット線▽D1をグランドレベルに駆動し、メモリセル
C11にライトデータDW=”1”を書き込む。ここま
での書込み動作は、従来の半導体メモリにおける書込み
動作と同じである。
Then, at time T 2 , the column switch control signal φc 1 for the first column is changed from low level to high level to connect the digit line D 1 to the data bus T, and to connect the digit line ΔD 1 and the data bus B to each other. Connecting.
As a result, the digit line D1 is driven to the VDD level, the digit line # D1 is driven to the ground level, and the write data DW = "1" is written to the memory cell C11. The writing operation so far is the same as the writing operation in the conventional semiconductor memory.

【0036】この後、時刻T1 におけるライト制御信号
φwの立上がりから時間td1だけ遅れて、時刻T29
補助プリチャージ制御信号φwdがロウレベルからハイ
レベルに立ち上がる。これにより、補助プリチャージ回
路10内のnMOSトランジスタQB1〜QBk,QT
1〜QTkがオフ状態からオン状態に変化し、電源電圧
供給線7から充電回路12T,12Bを通してデータバ
スT,Bに電荷が供給される(補助プリチャージ)の
で、図4中の第6段目に示すI/OバスT,Bの波形の
ように、データバスBの電位がVDDレベルに向かって
上昇し始める。このデータバスT,Bに対する補助プリ
チャージは、補助プリチャージ制御信号φwdがハイレ
ベルにある時間td2だけ続く。ここで、第1遅延回路
13の遅延時間td1は、ディジット線D1がVDDレ
ベルに、ディジット線▽D1がグランドレベルに十分増
幅されて、ライトデータDW=”1”がメモリセルC1
1に確実に書き込まれた後の時刻t29に補助プリチャー
ジが始まるように調整する。又、この実施の形態におけ
る補助プリチャージレベルはVDD−q×VTN(q
は、フューズが切断された後に電源電圧供給線7とデー
タバスT,Bとの間に直列に挿入されるnMOSトラン
ジスタの数)となるので、この補助プリチャージレベル
と電源電圧VDDとの差(=q×VTN)がセンスアン
プの感度以下にならないように、切断するフューズの数
を調節する。メモリセルC11にデータ破壊が生じない
ようにするためである。
[0036] Then, with a delay of the rise from the time td1 of the write control signal φw at time T 1, the time T 29 is an auxiliary pre-charge control signal φwd rises from the low level to the high level. Thereby, nMOS transistors QB1-QBk, QT in auxiliary precharge circuit 10
1 to QTk change from the OFF state to the ON state, and electric charges are supplied from the power supply voltage supply line 7 to the data buses T and B through the charging circuits 12T and 12B (auxiliary precharge). As shown by the waveforms of the I / O buses T and B, the potential of the data bus B starts to rise toward the VDD level. The auxiliary precharge for the data buses T and B continues for a time td2 when the auxiliary precharge control signal φwd is at the high level. Here, the delay time td1 of the first delay circuit 13 is such that the digit line D1 is sufficiently amplified to the VDD level and the digit line # D1 is sufficiently amplified to the ground level, and the write data DW = "1" is stored in the memory cell C1.
Surely written auxiliary precharge time t 29 after which is adjusted to begin to 1. The auxiliary precharge level in this embodiment is VDD-q × VTN (q
Is the number of nMOS transistors inserted in series between the power supply voltage supply line 7 and the data buses T and B after the fuse is cut off. Therefore, the difference between the auxiliary precharge level and the power supply voltage VDD ( = Q × VTN) is adjusted so that the number of fuses to be cut does not fall below the sensitivity of the sense amplifier. This is for preventing data destruction from occurring in the memory cell C11.

【0037】次いで、時刻T3 にカラムスイッチ制御信
号φc1をハイレベルからロウレベルに変化させて、デ
ィジット線対(D1,▽D1)とI/Oバス部3とを切
断する。同時に、ライト制御信号φwをハイレベルから
ロウレベルに変化させて、ライトバッファ5を非活性状
態にする。
[0037] Then, at time T 3 the column switch control signal φc1 from the high level is changed to the low level, the digit line pair (D1, ▽ D1) to cut the the I / O bus unit 3. At the same time, the write control signal φw is changed from the high level to the low level, and the write buffer 5 is deactivated.

【0038】その後、時刻T4 にプリチャージ制御信号
φpをハイレベルからロウレベルに切り替えてデータバ
スT,Bに対するプリチャージを開始する。その場合、
データバスBは補助プリチャージによって既にVDD−
q×VTNまで充電されているので、時刻T4 以降のプ
リチャージは、電位差q×VTNに相当する分の電荷を
充電するだけでよい。従って、図6に示す従来の半導体
メモリにおけるよりも短時間でVDDレベルに充電する
ことができ、時刻T16にプリチャージ制御信号φpをロ
ウレベルからハイレベルに切り替えてプリチャージを停
止させると同時に、第n列目に対するカラムスイッチ制
御信号φcnをロウレベルからハイレベルに切り替えて
ディジット線対(Dn,▽Dn)とデータバスT,Bと
を接続し、メモリセルC1nの記憶データを読み出すと
きは既に、データバスT,Bは共に十分VDDレベルに
達している。従って、メモリセルC1nにおけるプリチ
ャージ不足が原因の誤リード或いはデータ破壊は生じな
い。
[0038] Then, to start the precharge on the data bus T, B at time T 4 the precharge control signal φp from the high level to switch to the low level. In that case,
The data bus B is already supplied with VDD-
Since the battery has been charged up to q × VTN, the precharge after time T 4 only needs to charge the charge corresponding to the potential difference q × VTN. Therefore, it is possible to charge to the VDD level in a shorter time than in the conventional semiconductor memory shown in FIG. 6, at time T 16 the precharge control signal φp from low when stopping the precharge switch to the high level at the same time, When the column switch control signal φcn for the n-th column is switched from low level to high level to connect the digit line pair (Dn, ▽ Dn) to the data buses T and B and read the data stored in the memory cell C1n, Both data buses T and B have sufficiently reached the VDD level. Therefore, erroneous reading or data destruction due to insufficient precharge in the memory cell C1n does not occur.

【0039】その後、時刻T17にカラムスイッチ制御信
号φcnをハイレベルからロウレベルに変化させ、ディ
ジット線対(Dn,▽Dn)とデータバス部3とを切断
した後、時刻T18にプリチャージ制御信号φpをハイレ
ベルからロウレベルに切り替えてデータバスT,BをV
DDレベルにプリチャージし、その後のリード又はライ
ト動作の指令を待つ。
[0039] Then, at time T 17 to change the column switch control signal φcn from the high level to the low level, the digit line pair (Dn, ▽ Dn) and was cut and a data bus 3, the precharge control at time T 18 The signal φp is switched from the high level to the low level, and the data buses T and B are set at V level.
It is precharged to the DD level and waits for a subsequent read or write command.

【0040】本実施の形態においては、メモリセルC1
1に対するライト動作中の時刻T29にデータバスT,B
に対する補助プリチャージを行わせ、時刻T4 から始ま
る本来のプリチャージでデータバスT,Bに供給すべき
電荷量を減らし、これにより従来より短時間でデータバ
スT,BをVDDレベルに充電している。従って、カラ
ムスイッチ制御信号φcnをロウレベルからハイレベル
に切り替えるタイミングT16を早めてもプリチャージ不
足が原因の誤リードやデータ破壊が生じることはなく、
ライト、リード動作を高速化することができる。尚、本
実施の形態においては、プリチャージ停止時刻T16に同
時に補助プリチャージも停止するようにしている。その
設定は、補助プリチャージ制御信号発生回路11内の第
2遅延回路14の遅延時間td2を調整することにより
行なう。
In the present embodiment, the memory cell C1
Data bus T to time T 29 in write operation to 1, B
To perform auxiliary precharge for the data bus T in the original precharge starting at time T 4, reducing the amount of charge to be supplied to B, thereby charging the data bus T, B to VDD level in a short time as compared with conventional ing. Thus, the column switch control signal φcn never precharge lack read or data destruction erroneous cause occurs even earlier timing T 16 to switch to the high level from the low level,
Write and read operations can be sped up. In the present embodiment, at the same time the auxiliary precharged to the precharge stop time T 16 is to stop. The setting is performed by adjusting the delay time td2 of the second delay circuit 14 in the auxiliary precharge control signal generation circuit 11.

【0041】次に、本発明の第2の実施の形態について
説明する。本実施の形態が第1の実施の形態と異なるの
は、補助プリチャージ制御信号φwdである。本実施の
形態におけるライト、リード動作のタイミングチャート
を、図5に示す。本実施の形態においては、図5の第2
段目の波形に示すように、補助プリチャージ制御信号φ
wdとして、ライト制御信号φwの遅延信号を用いる。
本実施の形態における補助プリチャージ制御信号発生回
路11は、図3に示すように、第1遅延回路13だけか
らなる。遅延時間は、第1の実施の形態におけると同じ
く、td1に設定する。補助プリチャージ制御信号φw
dのハイレベル幅Wは、ライト制御信号のハイレベル幅
と同じである。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. This embodiment is different from the first embodiment in the auxiliary precharge control signal φwd. FIG. 5 shows a timing chart of the write and read operations in the present embodiment. In the present embodiment, the second
As shown in the waveform at the second stage, the auxiliary precharge control signal φ
As wd, a delay signal of the write control signal φw is used.
The auxiliary precharge control signal generation circuit 11 according to the present embodiment includes only a first delay circuit 13, as shown in FIG. The delay time is set to td1 as in the first embodiment. Auxiliary precharge control signal φw
The high-level width W of d is the same as the high-level width of the write control signal.

【0042】本実施の形態においては、時刻T16にカラ
ムスイッチ制御信号φcnがロウレベルからハイレベル
に切り替わり、またプリチャージ制御信号φpがロウレ
ベルからハイレベルに変わってデータバスT,Bに対す
るプリチャージが停止した後でも、補助プリチャージが
続いている。従って、時刻T16〜T30迄のI/Oバス
T,Bの波形に示すように、時刻T30に補助プリチャー
ジが終了するまでの間、I/OバスTは補助プリチャー
ジレベルであるVDD−q×VTNまでしか低下せず、
時刻T30にデータバスT,Bに対する補助プリチャージ
電荷の供給が停止した後、グランドレベルにフルスイン
グしている。しかし、その場合でも、電源電圧VDDと
補助プリチャージレベルVDD−q×VTNとの電位差
q×VTNはセンスアンプの感度より大きく設定されて
いるので、メモリセルC1nにおける誤リード或いはデ
ータ破壊が生じることはない。
[0042] In this embodiment, the column switch control signal φcn switches from the low level to the high level at time T 16, and the data bus T precharge control signal φp is changed from the low level to the high level, the precharge for the B Even after stopping, the auxiliary precharge continues. Thus, the I / O bus T until time T 16 through T 30, as shown in the waveform of B, until the auxiliary precharge time T 30 is completed, the I / O bus T is an auxiliary pre-charge level It drops only to VDD-q × VTN,
After time T 30 to a data bus T, the supply of the auxiliary pre-charge the charge on B is stopped, and a full swing to ground level. However, even in this case, since the potential difference q × VTN between the power supply voltage VDD and the auxiliary precharge level VDD−q × VTN is set to be larger than the sensitivity of the sense amplifier, erroneous reading or data destruction may occur in the memory cell C1n. There is no.

【0043】第1の実施の形態においては、補助プリチ
ャージと本来のプリチャージとを同時に停止させている
ので、時刻T16にカラムスイッチ制御信号φcnがロウ
レベルからハイレベルになると、データバスTは直ちに
グランドレベルにフルスイングする。従って、カラムス
イッチ制御信号φcnのハイレベル幅を狭めて(タイミ
ングT17を早めて)リード動作を安定的により高速化す
ることができるが、補助プリチャージ制御信号φwdの
発生回路の構成が複雑になる。これに対し、本実施の形
態は、補助プリチャージ制御信号発生回路10を簡略化
することができるという利点がある。
[0043] In the first embodiment, since the auxiliary precharging and original precharge are simultaneously stopped, the column switch control signal φcn at time T 16 is changed from the low level to the high level, the data bus T is Immediately swing to the ground level. Therefore, narrowing the high-level width of the column switch control signal Faicn (by advancing the timing T 17) is a read operation speed can be increased by stable, is complicated configuration of the generation circuit of the auxiliary pre-charge control signal φwd Become. On the other hand, the present embodiment has an advantage that the auxiliary precharge control signal generation circuit 10 can be simplified.

【0044】尚、これまでの第1、第2の実施の形態で
は、理解を容易にするために、同一のワード線WL1に
属するメモリセルC11,C1nに対してライト、リー
ド動作を連続して行なう場合を取り上げ、そのとき、補
助プリチャージレベルVDD−qVTNは、データ線T
のレベル(=VDD)とデータ線Bのレベル(=補助プ
リチャージレベル)との差(=VTN)がセンスアンプ
の感度以下にならないように設定する例について述べた
が、一般的には、補助プリチャージレベルは第1,第2
の実施の形態におけるより低いレベルにすることが、書
き込んだデータの信頼性確保の点で望ましい。すなわ
ち、半導体メモリにおいては、第1,第2の実施の形態
におけるような、或るメモリセルに対してライト動作を
行なった後に同一のワード線に属する他のメモリセルに
対してリードを行なうという動作シーケンス、つまりメ
モリセルへの書込みの後にワード線の切替えを行なう必
要のない動作シーケンスの外に、或るメモリセルに対し
てライト動作を行なった後、別のワード線に属するメモ
リセルにライト又はリードを行なうという動作シーケン
スがある。この動作シーケンスの場合は、例えばメモリ
セルC11への書込みの直後に、ワード線をWL1から
他のワード線WLi(iは、第1行目以外のワード線を
あらわす添え字)に切り替える必要があり、メモリセル
C11への書込み直後にワード線WL1が閉じる(非選
択になる)。このとき、補助プリチャージレベルを第
1,第2の実施の形態におけると同じレベルに設定して
おくと、リストア(ワード線が閉じる直前のデータバス
T,Bのレベル)が不足して、メモリセルC11へのラ
イトデータの書込みが保証できない可能性がある。そこ
で、一般的には、補助プリチャージのレベルは、時刻T
3に第1列目に対するカラムスイッチ制御信号φc1が
ロウレベルになってデータバスT,Bとディジット線対
(D1,▽D1)とが切断されてからワード線WL1が
閉じるまでの間に、メモリセルC11に書き込んだデー
タをセンスアンプがVDDレベル又はグランドレベルに
駆動できるレベルに設定するのが好ましい。このよう
に、補助プリチャージレベルは適当なレベルに調整する
必要があるが、そのレベル調整は、補助プリチャージ回
路中の充電回路12B,12Tにおけるフューズの切断
数を調整することによって可能である。
In the first and second embodiments, to facilitate understanding, the write and read operations are continuously performed on the memory cells C11 and C1n belonging to the same word line WL1. In this case, the auxiliary precharge level VDD-qVTN is set to the data line T
Has been described so that the difference (= VTN) between the level (= VDD) and the level of the data line B (= auxiliary precharge level) does not fall below the sensitivity of the sense amplifier. Precharge level is 1st, 2nd
It is desirable that the level be lower than that in the embodiment described above in order to ensure the reliability of the written data. That is, in a semiconductor memory, a write operation is performed on a certain memory cell and then a read is performed on another memory cell belonging to the same word line as in the first and second embodiments. In addition to the operation sequence in which a word line does not need to be switched after writing to a memory cell, a write operation is performed on a certain memory cell, and then a write operation is performed on a memory cell belonging to another word line. Alternatively, there is an operation sequence of performing a read. In the case of this operation sequence, for example, immediately after writing to the memory cell C11, it is necessary to switch the word line from WL1 to another word line WLi (i is a suffix representing a word line other than the first row). The word line WL1 is closed (deselected) immediately after writing to the memory cell C11. At this time, if the auxiliary precharge level is set to the same level as in the first and second embodiments, the restoration (the levels of the data buses T and B immediately before the word line is closed) becomes insufficient, and There is a possibility that writing of write data to the cell C11 cannot be guaranteed. Therefore, generally, the level of the auxiliary precharge is set at the time T
Third, the memory cell is connected between the time when the column switch control signal φc1 for the first column goes low and the data buses T and B and the digit line pair (D1,... D1) are disconnected and before the word line WL1 is closed. It is preferable that the data written in C11 be set to a level at which the sense amplifier can be driven to the VDD level or the ground level. As described above, the auxiliary precharge level needs to be adjusted to an appropriate level, but the level can be adjusted by adjusting the number of blown fuses in the charging circuits 12B and 12T in the auxiliary precharge circuit.

【0045】尚また、第1,第2の実施の形態では、デ
ータバスT,Bを電源電圧VDDのレベルにプリチャー
ジする構成のDRAMを例にしたが、このプリチャージ
レベルは特に電源電圧でなくてもかまわない。2つのデ
ータバスT,Bを同一のレベルにできればVDD/2で
も良く、或いは他のレベルでも構わない。
In the first and second embodiments, a DRAM having a configuration in which the data buses T and B are precharged to the level of the power supply voltage VDD has been described as an example. You don't have to. As long as the two data buses T and B can be at the same level, VDD / 2 may be used, or another level may be used.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、メモリセルに対するライト動作中にI/Oバス部に
対して所定レベルまでの補助プリチャージを行なわせ、
本来のプリチャージでデータバスに供給すべき電荷量を
減らしている。
As described above, according to the present invention, the auxiliary precharge to the predetermined level is performed on the I / O bus portion during the write operation on the memory cell,
The charge amount to be supplied to the data bus in the original precharge is reduced.

【0047】これにより本発明によれば、従来より短時
間でデータバスをプリチャージレベルに充電することが
できるので、ライト動作に続くリード動作の際に、プリ
チャージ不足が原因の誤ったデータの読出しや記憶デー
タの破壊なしに、ディジット線対とI/Oバス部とを接
続するタイミングを早めることができ、ライト、リード
動作を高速化することができる。ライト、リード動作の
高速化にあたって、ライト動作中のディジット線とI/
Oバス部とを接続している時間を短縮する必要がないの
で、書込みデータのレベル低下延いては書込みデータの
信頼性低下も生じない。
As a result, according to the present invention, the data bus can be charged to the precharge level in a shorter time than in the prior art. Therefore, during the read operation following the write operation, erroneous data due to insufficient precharge can be obtained. The timing for connecting the digit line pair to the I / O bus portion can be advanced without destruction of reading or storage data, and the writing and reading operations can be speeded up. In order to speed up the write and read operations, the digit line during write operation and I / O
Since it is not necessary to reduce the time for connecting to the O bus unit, the level of the write data does not decrease and the reliability of the write data does not decrease.

【0048】本発明は、シンクロなすDRAMなどの高
速化が要求される半導体メモリに適用して、特に顕著な
効果を奏する。
The present invention has a particularly remarkable effect when applied to a semiconductor memory such as a synchronized DRAM which requires a high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施の形態に係る半導体メモリにおけ
る、リード、ライト時のデータ伝送経路の構成を概略的
に示す図である。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a data transmission path at the time of reading and writing in a semiconductor memory according to a first embodiment.

【図2】第1の実施の形態における補助プリチャージ制
御信号発生回路の一例の回路図を示す図である。
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an example of an auxiliary precharge control signal generation circuit according to the first embodiment;

【図3】第2の実施の形態における補助プリチャージ制
御信号発生回路の一例の回路図を示す図である。
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an example of an auxiliary precharge control signal generation circuit according to a second embodiment;

【図4】第1の実施の形態におけるライト、リード動作
時のタイミングチャートを示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a timing chart at the time of write and read operations in the first embodiment.

【図5】第2の実施の形態におけるライト、リード動作
時のタイミングチャートを示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a timing chart at the time of write and read operations in the second embodiment.

【図6】従来の技術による半導体メモリにおける、リー
ド、ライト時のデータ伝送経路の構成を概略的に示す図
である。
FIG. 6 is a diagram schematically showing a configuration of a data transmission path at the time of reading and writing in a conventional semiconductor memory.

【図7】センスアンプの一例の回路図を示す図及び、セ
ンスアンプ動作時の信号波形を示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a circuit diagram of an example of a sense amplifier, and a diagram illustrating signal waveforms during operation of the sense amplifier.

【図8】従来の半導体メモリにおける通常のライト、リ
ード動作時のタイミングチャートを示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a timing chart at the time of normal write and read operations in a conventional semiconductor memory.

【図9】従来の半導体メモリにおいて、リード動作を高
速化した場合のライト、リード動作時のタイミングチャ
ートを示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a timing chart at the time of write and read operations in a conventional semiconductor memory when the read operation is accelerated.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ部 2 カラムスイッチ部 3 I/Oバス部 4 プリチャージ回路 5 ライトバッファ 6 リードバッファ 7 電源電圧供給線 8N,8P ソース電極 9 10 補助プリチャージ回路 11 補助プリチャージ制御信号発生回路 12B,12T 充電回路 13,14 遅延回路 15 インバータ 16 ANDゲート Reference Signs List 1 memory cell array section 2 column switch section 3 I / O bus section 4 precharge circuit 5 write buffer 6 read buffer 7 power supply voltage supply line 8N, 8P source electrode 9 10 auxiliary precharge circuit 11 auxiliary precharge control signal generation circuit 12B, 12T charging circuit 13,14 delay circuit 15 inverter 16 AND gate

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 データを記憶するメモリセルを行、列に
配置したメモリセルアレイと、 前記メモリセルアレイの行を選択するためのワード線
と、 前記メモリセルアレイの列毎に設けられて、メモリセル
が記憶しているデータ又はメモリセルに記憶させるデー
タを伝送する、相補のディジット線と、 前記メモリセルアレイの列毎に設けられて、前記相補の
ディジット線間の電位差を増幅するセンスアンプと、 前記ディジット線にカラムスイッチを介して接続され
る、入出力用の一対の相補のデータバスと、 ライト制御信号に応じて活性化されて、外部より入力さ
れた前記メモリセルに書き込まれるべきライトデータを
取り込み、前記データバスに相補の信号として伝送する
ライトバッファと、 前記データバスを所定の第1の電位に充電する第1のプ
リチャージ回路と、 ライト動作の期間に前記データバスを前記第1の電位よ
り低位の第2の電位に充電する第2のプリチャージ回路
とを少なくとも備える半導体記憶装置。
A memory cell array in which memory cells for storing data are arranged in rows and columns; a word line for selecting a row of the memory cell array; and a memory cell provided for each column of the memory cell array. A complementary digit line for transmitting stored data or data to be stored in a memory cell; a sense amplifier provided for each column of the memory cell array to amplify a potential difference between the complementary digit line; and the digit. A pair of complementary data buses for input and output, connected to the line via a column switch, and fetching write data to be written to the memory cell, which is activated in response to a write control signal and input from the outside; A write buffer for transmitting a signal complementary to the data bus, and a write buffer for charging the data bus to a predetermined first potential. 1. A semiconductor memory device comprising: at least one precharge circuit; and a second precharge circuit that charges the data bus to a second potential lower than the first potential during a write operation.
【請求項2】 前記第2のプリチャージ回路が、前記第
1の電位の供給線と各各の前記データバスとの間に直列
に接続された少なくとも一つ以上のMOS電界効果トラ
ンジスタと、前記ライト制御信号から前記MOS電界効
果トランジスタの導通状態を制御する二値の副プリチャ
ージ制御信号を生成する制御信号生成手段とを含んでな
ることを特徴とする、請求項1に記載の半導体記憶装
置。
2. The semiconductor device according to claim 2, wherein said second precharge circuit includes at least one or more MOS field effect transistors connected in series between said first potential supply line and each of said data buses. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising control signal generation means for generating a binary sub-precharge control signal for controlling a conduction state of said MOS field-effect transistor from a write control signal. .
【請求項3】 前記第2のプリチャージ回路が、半導体
記憶装置の製造の過程で前記第2の電位を調節可能であ
ることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の半
導体記憶装置。
3. The semiconductor memory according to claim 1, wherein the second precharge circuit is capable of adjusting the second potential in a process of manufacturing the semiconductor memory device. apparatus.
【請求項4】 前記第2のプリチャージ回路を構成する
各各のMOS電界効果トランジスタが、前記第1の電位
と前記第2の電位との電位差に応じて切断され又は残さ
れたヒューズを並列に備えていることを特徴とする、請
求項2に記載の半導体記憶装置。
4. Each of the MOS field-effect transistors constituting the second precharge circuit has a fuse cut or left in parallel according to a potential difference between the first potential and the second potential. 3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the semiconductor memory device is provided.
【請求項5】 前記制御信号生成手段が、前記ライト制
御信号を入力して所定時間の遅延を加えて出力する第1
の遅延手段と、前記第1の遅延手段の出力信号を入力し
て所定の遅延を加え反転させて出力する第2の遅延手段
と、前記第1の遅延手段と前記第2の遅延手段のAND
論理信号を生成して前記副プリチャージ信号として出力
するANDゲートとからなることを特徴とする、請求項
2に記載の半導体記憶装置。
5. A first control signal generating means for receiving the write control signal, outputting the write control signal after delaying the write control signal by a predetermined time.
A delay means, a second delay means for receiving an output signal of the first delay means, applying a predetermined delay thereto, inverting the output signal, and outputting the inverted signal, and an AND of the first delay means and the second delay means
3. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising: an AND gate that generates a logic signal and outputs the signal as the sub-precharge signal.
【請求項6】 前記制御信号生成手段が、前記ライト制
御信号を入力して所定時間の遅延を加えて出力する遅延
手段からなることを特徴とする、請求項2に記載の半導
体記憶装置。
6. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said control signal generating means comprises a delay means for inputting said write control signal, adding a delay of a predetermined time, and outputting it.
【請求項7】 前記第1の電位が、半導体記憶装置の電
源電圧の電位であることを特徴とする、請求項1に記載
の半導体記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the first potential is a potential of a power supply voltage of the semiconductor memory device.
【請求項8】 入出力用の一対のデータバスを予め所定
の第1の電位に充電する第1のプリチャージ過程と、前
記データバスにおける充電を停止した後メモリセルに書
き込むべきライトデータを相補化して前記データバスに
送出することにより前記メモリセルに書込みを行なう書
込み過程と、前記データバスを前記第1の電位に充電す
る第2のプリチャージ過程とを含む半導体記憶装置の駆
動方法において、 前記ライトデータの前記メモリセルへの書込み期間中
に、前記第2のプリチャージ過程に先立って、予め前記
データバスを前記第1の電位より低位の第2の電位に充
電する補助プリチャージ過程を設けたことを特徴とする
半導体記憶装置の駆動方法。
8. A first precharge step of previously charging a pair of input / output data buses to a predetermined first potential, and a write data to be written to a memory cell after charging on the data bus is stopped. And a second precharging step of charging the data bus to the first potential by writing the memory cell by sending the data bus to the data bus. During the period of writing the write data to the memory cells, prior to the second precharge step, an auxiliary precharge step of previously charging the data bus to a second potential lower than the first potential is performed. A method for driving a semiconductor memory device, comprising:
【請求項9】 前記補助プリチャージ過程におけるデー
タバスの充電を、前記第2のプリチャージ過程における
データバスの充電終了と同時に終了させることを特徴と
する、請求項8に記載の半導体記憶装置の駆動方法。
9. The semiconductor memory device according to claim 8, wherein the charging of the data bus in the auxiliary precharge step is terminated at the same time as the completion of the charging of the data bus in the second precharge step. Drive method.
【請求項10】 前記補助プリチャージ過程におけるデ
ータバスの充電を、前記第2のプリチャージ過程におけ
るデータバスの充電終了後の所定時刻まで継続させるこ
とを特徴とする、請求項8に記載の半導体記憶装置の駆
動方法。
10. The semiconductor according to claim 8, wherein the charging of the data bus in the auxiliary precharging step is continued until a predetermined time after the completion of the charging of the data bus in the second precharging step. A method for driving a storage device.
【請求項11】 請求項1に記載の半導体装置を駆動す
る方法であって、前記第1のプリチャージ回路により前
記データバスを前記第1の電位に充電する第1の過程
と、前記データバスの充電を停止した後、前記ライト制
御信号によって前記ライトバッファを活性化させ、前記
ライトデータを前記データバスに相補のデータとして伝
送する第2の過程と、前記カラムスイッチを導通させて
前記データバスと前記ディジット線とを接続し、前記ラ
イトデータを前記ディジット線に伝送して所定のメモリ
セルにライトデータの書込みを行う第3の過程と、前記
カラムスイッチを開放して前記ディジット線と前記デー
タバスとを分離すると共に前記ライト制御信号により前
記ライトバッファを非活性化させる第4の過程と、前記
第1のプリチャージ回路により前記データバスを前記第
1の電位に充電する第5の過程とを含む半導体記憶装置
の駆動方法において、 前記第3の過程におけるメモリセルへの書込みと並行し
て前記第2のプリチャージ回路により前記データバスを
前記第2の電位に充電する過程を設けたことを特徴とす
る半導体記憶装置の駆動方法。
11. The method for driving a semiconductor device according to claim 1, wherein a first step of charging said data bus to said first potential by said first precharge circuit; and said data bus. After the charging of the data bus is stopped, the write control signal activates the write buffer and transmits the write data to the data bus as complementary data. A third step of connecting the digit line and the digit line, transmitting the write data to the digit line and writing the write data to a predetermined memory cell, and opening the column switch to release the digit line and the data. A fourth step of separating the bus from the bus and deactivating the write buffer by the write control signal; A fifth step of charging the data bus to the first potential by a path, wherein the second precharge is performed in parallel with the writing to the memory cell in the third step. A method of charging the data bus to the second potential by a circuit.
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