JP2000347164A - Channel substrate for plasma addressed liquid crystal panel and its manufacture - Google Patents

Channel substrate for plasma addressed liquid crystal panel and its manufacture

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JP2000347164A
JP2000347164A JP2000131136A JP2000131136A JP2000347164A JP 2000347164 A JP2000347164 A JP 2000347164A JP 2000131136 A JP2000131136 A JP 2000131136A JP 2000131136 A JP2000131136 A JP 2000131136A JP 2000347164 A JP2000347164 A JP 2000347164A
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channel
helium
substrate
glass substrate
liquid crystal
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Japanese (ja)
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Kevin J Ilcisin
ケビン・ジェー・イルシシン
Thomas S Buzak
トーマス・エス・ブザック
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent voltage necessary for generating plasma from being elevated due to lowering of helium pressure in channels caused by penetration of helium in a channel substrate in the plasma addressed liquid crystal(PALC). SOLUTION: In this channel substrate, in the case of using a channel surface of a glass substrate with helium as a PALC panel, sufficient partial pressure due to helium, which is an ionizable gas, is added to the channel surface of the glass substrate 4 so as to make helium be consumed from the channel with much lower rate than the case in which the helium pressure is not added to the channel surface.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、一般に、プラズマ
・アドレス液晶(PALC)パネル内のヘリウムの圧力
を維持する機構に関し、特に、かかる点を考慮したPA
LCパネル用チャネル基板及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates generally to a mechanism for maintaining helium pressure in a plasma addressed liquid crystal (PALC) panel, and more particularly to a mechanism for maintaining such pressure.
The present invention relates to a channel substrate for an LC panel and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】アメリカ合衆国特許第5077553号
(日本特許第2601713号に対応)は、データ蓄積
要素をアドレス指定する装置を記載している。このアメ
リカ合衆国特許第5077553号に開示された装置を
実際に実施したPALC表示パネルの断面を図2に示
す。なお、図を明瞭にするため、断面を示す斜線は省略
している。
2. Description of the Related Art U.S. Pat. No. 5,077,553 (corresponding to Japanese Patent No. 2,601,713) describes an apparatus for addressing data storage elements. FIG. 2 shows a cross section of a PALC display panel in which the apparatus disclosed in U.S. Pat. No. 5,077,553 is actually implemented. Note that, for the sake of clarity, hatched lines indicating cross sections are omitted.

【0003】図2に示すPALC表示パネルは、下側か
ら順番に、偏光子2と、ガラス製チャネル部材(チャネ
ル基板、又はガラス基板とも呼ぶ)4と、ガラス・カバ
ー・シート(マイクロシートとして一般的に知られてい
る)6と、電気光学材料層10と、平行で透明なデータ
駆動電極12の配列(図2の場合、12で示す1個のみ
のデータ駆動電極が見える)と、データ駆動電極を支持
する上側基板14と、上側偏光子16とを具えている。
PALC表示パネルがカラー表示パネルの場合、このパ
ネルは、電気光学材料層10及び上側基板14の間にカ
ラー・フィルタ(図示せず)を含んでいる。このPAL
C表示パネルは、視野角度を改善する層や他の目的の層
を含んでもよい。チャネル部材4は、典型的には、ガラ
スで作られており、その上側主面に多数の平行なプラズ
マ・チャネル20が形成されている。複数のチャネル2
0は、リブ22で分離されており、ヘリウムなどのイオ
ン化可能なガスが充填されている。陽極24及び陰極2
6がチャネル20の各々に設けられている。これら陽極
及び陰極は、チャネル電極であり、例えば、陽極を接地
電圧とし、チャネル電極ドライバにより、陰極の電圧を
変化させて、電極間電圧を可変できる。チャネル20
は、(パネルに対して垂直に見た場合)データ駆動電極
12と直交しており、データ駆動電極12がチャネル2
0と交差する領域が、個別のパネル要素28を形成す
る。各パネル要素28は、電気光学材料層10と、上側
偏光子16と、下側偏光子2とを含んでいるとみなせ
る。パネル要素28の境界となる表示パネルの上側面の
領域は、表示パネルの単一ピクセル30を構成する。な
お、参照番号32は、観察者の視点を示す。
[0003] The PALC display panel shown in FIG. 2 includes, in order from the bottom, a polarizer 2, a glass channel member (also called a channel substrate or a glass substrate) 4, and a glass cover sheet (generally a microsheet). 6), an electro-optic material layer 10, an array of parallel and transparent data drive electrodes 12 (only one data drive electrode indicated by 12 is visible in FIG. 2), and data drive An upper substrate 14 for supporting electrodes and an upper polarizer 16 are provided.
When the PALC display panel is a color display panel, the panel includes a color filter (not shown) between the electro-optic material layer 10 and the upper substrate 14. This PAL
The C display panel may include a layer for improving a viewing angle or a layer for another purpose. The channel member 4 is typically made of glass, and has a number of parallel plasma channels 20 formed on an upper main surface thereof. Multiple channels 2
Numerals 0 are separated by ribs 22 and are filled with an ionizable gas such as helium. Anode 24 and cathode 2
6 are provided for each of the channels 20. The anode and the cathode are channel electrodes. For example, the voltage between the electrodes can be varied by changing the voltage of the cathode by using a channel electrode driver and setting the anode to the ground voltage. Channel 20
Is perpendicular to the data drive electrodes 12 (when viewed perpendicular to the panel) and the data drive electrodes 12
The areas that intersect zero form individual panel elements 28. Each panel element 28 can be considered to include the electro-optic material layer 10, the upper polarizer 16, and the lower polarizer 2. The area of the upper surface of the display panel that bounds the panel elements 28 constitutes a single pixel 30 of the display panel. Reference numeral 32 indicates the viewpoint of the observer.

【0004】1個のチャネル20内の陽極24に基準電
位が供給され、適切でより負の電圧がこのチャネル内の
陰極26に供給されると、そのチャネル内のガスがプラ
ズマを生成し、このプラズマがガラス・カバー・シート
6の下側面に対して基準電位源への導電路を形成する。
データ駆動電極12が基準電位ならば、このデータ駆動
電極12がチャネル20と交差する電気光学材料層10
のボリューム要素(ある量から成る要素)には実質的な
電界が存在せず、パネル要素28はオフとみなせる。こ
れとは反対に、データ駆動電極12が基準電位と実質的
に異なる電位ならば、電気光学材料層10のボリューム
要素内に実質的な電界が生じ、パネル要素28はオンと
みなせる。
When a reference potential is applied to the anode 24 in one channel 20 and a suitable, more negative voltage is applied to the cathode 26 in this channel, the gas in that channel creates a plasma which The plasma forms a conductive path to the reference potential source on the lower surface of the glass cover sheet 6.
If the data drive electrode 12 is at the reference potential, the data drive electrode 12
Has no substantial electric field, and the panel element 28 can be considered to be off. Conversely, if the potential of the data driving electrode 12 is substantially different from the reference potential, a substantial electric field is generated in the volume element of the electro-optic material layer 10, and the panel element 28 can be considered to be on.

【0005】以下の説明においては、本発明の要旨を制
限するものではないが、下側偏光子2は、線形偏光子で
あり、その偏光面は、基準面に対して0度の如く任意に
でき、上側偏光子16は、90度の偏光面を有する線形
偏光子であると仮定する。また、電気光学材料層10の
材料は、そこを通過する線形に偏光された光の偏光面
を、電気光学材料の電界の関数である角度だけ回転させ
る。パネル要素がオフのとき、回転角は90度であり、
パネル要素がオンのとき、回転角は0度である。
In the following description, although not limiting the gist of the present invention, the lower polarizer 2 is a linear polarizer, and its polarization plane is arbitrarily set at 0 degree with respect to a reference plane. It is assumed that the upper polarizer 16 is a linear polarizer having a 90-degree polarization plane. The material of the electro-optic material layer 10 also rotates the plane of polarization of linearly polarized light passing therethrough by an angle that is a function of the electric field of the electro-optic material. When the panel element is off, the rotation angle is 90 degrees,
When the panel element is on, the rotation angle is 0 degrees.

【0006】偏光されない白色光を放射する幅広な光源
34により、このパネルを下側から照明する。パネルを
均一に照明するために、散乱面を有する背面ガラス・デ
ィフーザー(すりガラス)18を光源34及びパネルの
間に配置してもよい。光源34から所定のパネル要素2
8に入射する光は、下側偏光子2により0度に線形偏光
され、チャネル部材4、チャネル20、カバー・シート
6、電気光学材料のボリューム要素を順次通過して、上
側偏光子16及び観察者32に向かう。パネル要素がオ
フならば、電気光学材料のボリューム要素を通過する線
形に偏光された光の偏光面は90度回転するので、上側
偏光子16への入射光の偏光面は90度である。この光
は、上側偏光子16を通過し、ピクセルを照明する。一
方、パネル要素がオンならば、線形に偏光された光の偏
光面は、液晶材料のボリューム要素を通過しても変化し
ない。上側偏光子16の入射光の偏光面は0度なので、
この光は、上側偏光子16により阻止され、ピクセルは
暗い。液晶材料内の電界が、パネル要素28のオフ及び
オンに関連した値の中間ならば、この光は、上側偏光子
16を通過するが、その輝度は電界により決まり、グレ
ー・スケール(中間調)を表示できる。
The panel is illuminated from below by a broad light source 34 which emits unpolarized white light. In order to uniformly illuminate the panel, a back glass diffuser (ground glass) 18 having a scattering surface may be placed between the light source 34 and the panel. A predetermined panel element 2 from the light source 34
8 is linearly polarized at 0 degrees by the lower polarizer 2, passes through the channel member 4, the channel 20, the cover sheet 6, and the volume element of the electro-optical material in order, and passes through the upper polarizer 16 and the observation element. Head to person 32. If the panel element is off, the plane of polarization of linearly polarized light passing through the volume element of the electro-optic material rotates 90 degrees, so the plane of polarization of light incident on the upper polarizer 16 is 90 degrees. This light passes through the upper polarizer 16 and illuminates the pixels. On the other hand, if the panel element is on, the plane of polarization of the linearly polarized light does not change when passing through the volume element of the liquid crystal material. Since the polarization plane of the incident light of the upper polarizer 16 is 0 degree,
This light is blocked by the upper polarizer 16 and the pixels are dark. If the electric field in the liquid crystal material is between the values associated with turning off and on the panel element 28, this light will pass through the upper polarizer 16, but its brightness will be determined by the electric field and will be gray scale (halftone). Can be displayed.

【0007】PALC表示パネルの実施においては、チ
ャネルを形成する領域の付近で、チャネル部材4をエッ
チングして、台部(プラトー)36を設けて、この台部
内にチャネル20を形成する。台部の周辺部付近に延び
るラベット(さねはぎ)40内のエンドレス・フリット
・ビーズ38により、カバー・シート6をチャネル部材
4に固定(密閉)する。上側基板14及びそこに支持さ
れたデータ駆動電極12を含む上側基板アセンブリを、
接着用ビーズ42によりチャネル部材4に取り付ける。
In the implementation of the PALC display panel, the channel member 4 is etched near a region where a channel is to be formed, and a base (plateau) 36 is provided. The channel 20 is formed in the base. The cover sheet 6 is fixed (closed) to the channel member 4 by endless frit beads 38 in a lavet (tongue) 40 extending near the periphery of the base. An upper substrate assembly including the upper substrate 14 and the data driving electrodes 12 supported thereon;
It is attached to the channel member 4 by the bonding beads 42.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】プラズマがチャネル内
に存在するとき、チャネル内の荷電された分子が高レベ
ル運動エネルギーで加速される。これら分子のいくつか
は、チャネル表面(チャネル基板の表面と、チャネルに
固定されたカバー・シートの表面)と衝突するので、チ
ャネル表面が加熱される。なお、チャネル基板とは、チ
ャネルが形成されたガラス基板のことであり、チャネル
基板アセンブリとは、チャネル基板と、このチャネル基
板に取り付けたカバー・シートとの組み合わせである。
When a plasma is present in a channel, charged molecules in the channel are accelerated with high levels of kinetic energy. Some of these molecules collide with the channel surface (the surface of the channel substrate and the surface of the cover sheet secured to the channel), causing the channel surface to heat up. The channel substrate is a glass substrate on which a channel is formed, and the channel substrate assembly is a combination of a channel substrate and a cover sheet attached to the channel substrate.

【0009】ガラスへのヘリウムの浸透レート(割合)
は、ガラスの温度に非常に依存することが知られてい
る。例えば、PALCパネルのチャネル表面の組み立て
にて従来使用する種類のガラスに対するヘリウムの15
0℃における浸透レートは、約18℃の場合の約100
倍である。よって、プラズマが作用し、チャネル基板の
チャネル表面が加熱されたとき、ヘリウムは、チャネル
基板の熱いチャネル表面に高速に浸透して、プラズマが
除去された後、チャネル基板の大部分が冷却されてい
く。
Helium penetration rate (ratio) into glass
Is known to be very dependent on the temperature of the glass. For example, helium 15 vs. glass of the type conventionally used in assembling channel surfaces of PALC panels.
The penetration rate at 0 ° C. is about 100 at about 18 ° C.
It is twice. Thus, when the plasma is activated and the channel surface of the channel substrate is heated, helium rapidly penetrates the hot channel surface of the channel substrate, and after the plasma is removed, most of the channel substrate is cooled. Go.

【0010】プラズマが除去されると、チャネル基板の
チャネル表面の熱が冷め、チャネル基板に既に浸透した
ヘリウムのいくらかは、チャネルに戻っていく。チャネ
ル基板のチャネル表面は、熱が迅速に冷めるので、プラ
ズマがオフになったときにチャネル基板の大部分からチ
ャネルに戻るヘリウムの浸透レートは、プラズマが動作
期間中にチャネル基板の大部分に浸透した速度よりも非
常に低い。したがって、ヘリウムは、チャネル表面に捕
捉される。すなわち、チャネル内のヘリウムが消耗され
る。充分なヘリウムがチャネル表面に捕捉されて、チャ
ネル内に残るヘリウムの圧力を係数が約2だけ低下させ
ると、プラズマを形成するのに必要な電圧が上昇する。
駆動回路の能力を越えた範囲にまで電圧が高くなると、
PALCパネルが動作できなくなる。
When the plasma is removed, the heat on the channel surface of the channel substrate cools down, and some of the helium that has already penetrated the channel substrate returns to the channel. As the channel surface of the channel substrate cools down quickly, the helium penetration rate back into the channel from the majority of the channel substrate when the plasma is turned off will cause the plasma to penetrate the majority of the channel substrate during operation. Very low speed. Thus, helium is trapped on the channel surface. That is, helium in the channel is consumed. As enough helium is trapped on the channel surface, reducing the pressure of helium remaining in the channel by a factor of about two, the voltage required to form a plasma increases.
If the voltage rises to a range beyond the capability of the drive circuit,
The PALC panel cannot operate.

【0011】従って、本発明の目的は、PALCパネル
の動作期間中にヘリウムがチャネル基板に更に浸透して
チャネルにおけるヘリウムの圧力が低下して、チャネル
内のヘリウムが消耗されることにより、プラズマ形成に
必要な電圧が上昇するのを防止するPALCパネル用チ
ャネル基板及びその製造方法を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to reduce the pressure of helium in a channel during the operation of a PALC panel by the further penetration of helium into the channel substrate, thereby depleting the helium in the channel and thereby forming a plasma. To provide a channel substrate for a PALC panel and a method of manufacturing the same, which prevent a voltage required for the panel from rising.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の観点によ
れば、本発明のPALCパネル用チャネル基板は、チャ
ネル20が形成されたガラス基板4を具え;イオン化可
能なガスであるヘリウムによる充分な部分圧力がガラス
基板4のチャネル表面に加えられ;ヘリウムと共にガラ
ス基板4のチャネル表面をプラズマ・アドレス液晶パネ
ルとして用いた際に、チャネル表面にヘリウムによる圧
力が加わっていない場合よりも非常に低いレートでヘリ
ウムがチャネル20から消耗されることを特徴としてい
る。
According to a first aspect of the present invention, a channel substrate for a PALC panel according to the present invention comprises a glass substrate 4 in which channels 20 are formed; Sufficient partial pressure is applied to the channel surface of the glass substrate 4; when using the channel surface of the glass substrate 4 with helium as a plasma-addressed liquid crystal panel, it is much more evident than without helium pressure on the channel surface. The helium is depleted from the channel 20 at a low rate.

【0013】本発明の第2の観点によれば、本発明のP
ALCパネル用チャネル基板アセンブリは、チャネル2
0が形成されたガラス基板4と;このガラス基板に取り
付けられたガラス・カバー・シート6とを具えており;
イオン化可能なガスであるヘリウムによる充分な部分圧
力がチャネル基板アセンブリのチャネル表面に加えら
れ;ヘリウムと共にガラス基板のチャネル表面をプラズ
マ・アドレス液晶パネルとして用いた際に、チャネル表
面にヘリウムによる圧力が加わっていない場合よりも非
常に低いレートでヘリウムがチャネルから消耗されるこ
とを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, the P
Channel substrate assembly for ALC panel is channel 2
A glass substrate 4 on which a "0" is formed; and a glass cover sheet 6 attached to the glass substrate.
A sufficient partial pressure of helium, an ionizable gas, is applied to the channel surface of the channel substrate assembly; helium pressure is applied to the channel surface when the channel surface of the glass substrate is used together with helium as a plasma addressed liquid crystal panel. Helium is depleted from the channel at a much lower rate than without.

【0014】本発明の第3の観点によれば、本発明のP
ALCパネル用チャネル基板は、チャネル20が形成さ
れたガラス基板4を具えており;ガラス基板4よりもヘ
リウムに対して浸透レートが低くガラス基板4よりも融
点が高いコーティング46がガラス基板4の表面に被覆
され;イオン化可能なガスであるヘリウムと共に、被覆
されたチャネル基板をプラズマ・アドレス液晶パネルに
用いた際、基板が被覆されない場合よりも非常に低いレ
ートでヘリウムがチャネルから消耗されることを特徴と
している。
According to a third aspect of the present invention, the P
The channel substrate for the ALC panel includes a glass substrate 4 in which a channel 20 is formed; a coating 46 having a lower helium penetration rate than the glass substrate 4 and a higher melting point than the glass substrate 4 is provided on the surface of the glass substrate 4. The use of a coated channel substrate in a plasma addressed liquid crystal panel with helium, an ionizable gas, causes helium to be depleted from the channel at a much lower rate than when the substrate is not coated. Features.

【0015】本発明の第4の観点によれば、本発明のP
ALCパネル用チャネル基板の製造方法は、チャネル2
0が形成されたガラス基板4を設け;ヘリウムによりガ
ラス基板のチャネル表面に圧力を加え;その後、チャネ
ル20をヘリウムで満たして、チャネル20を密閉する
ことを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, the P
The manufacturing method of the channel substrate for the ALC panel is as follows.
Providing a glass substrate 4 on which 0 is formed; applying pressure to the channel surface of the glass substrate with helium; thereafter, filling the channel 20 with helium and sealing the channel 20.

【0016】本発明の第5の観点によれば、本発明は、
チャネル20が形成されたガラス基板4と、チャネル2
0を覆ってガラス基板に取り付けられたカバー・シート
6とを具えたプラズマ・アドレス液晶パネル用チャネル
基板アセンブリの処理方法であって;チャネル基板アセ
ンブリを加熱して温度を上昇させ;ガラス基板のチャネ
ル内のヘリウムに部分圧力を生じさせ;チャネルを密閉
することを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided:
A glass substrate 4 on which a channel 20 is formed;
A method of processing a channel substrate assembly for a plasma addressed liquid crystal panel comprising: a cover sheet 6 attached to a glass substrate over a glass substrate; heating the channel substrate assembly to increase the temperature; A partial pressure is created in the helium therein; it is characterized by a closed channel.

【0017】本発明の第6の観点によれば、本発明のプ
ラズマ・アドレス液晶パネル用チャネル基板の製造方法
は、チャネル20が形成されたガラス基板4を設けるス
テップと;このガラス基板4の表面にコーティング46
を形成するステップとを具え;コーティング46の材料
は、ヘリウムに対する浸透レートがガラス基板よりも低
く、融点がガラス基板よりも高いことを特徴としてい
る。
According to a sixth aspect of the present invention, a method of manufacturing a channel substrate for a plasma addressed liquid crystal panel according to the present invention comprises the steps of providing a glass substrate 4 having a channel 20 formed thereon; Coating 46
The material of the coating 46 is characterized by a lower helium penetration rate than the glass substrate and a higher melting point than the glass substrate.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、添付図を参照して本発明の
好適実施例を説明する。添付図において、対応する素子
は同じ参照符号で示す。本明細書において、上及び下な
どの相対的な方向及び位置を示す単語は、図面に対する
方向及び位置を示すものであり、絶対的な意味に限定す
るものではない。よって、本明細書において、上側と表
現した面は、本発明の特定実施例において、下側面に対
応する場合もあるし、上側でも下側でもない垂直面に対
応する場合もある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the accompanying drawings, corresponding elements are denoted by the same reference numerals. In this specification, words indicating relative directions and positions such as up and down indicate directions and positions with respect to the drawings, and are not limited to absolute meanings. Thus, in this specification, the surface described as upper may, in certain embodiments of the present invention, correspond to the lower surface or may correspond to a vertical surface that is neither upper nor lower.

【0019】ガラスの表面が境界となった空間からこの
ガラスにヘリウムが浸透するレートは、ガラスの温度に
依存するだけではなく、ガラス内のヘリウムの部分圧力
(partial pressure)と、ガラスが境界となった空間内
のヘリウムの部分圧力にも依存する。
The rate at which helium penetrates into the glass from the space bounded by the surface of the glass depends not only on the temperature of the glass, but also on the partial pressure of helium in the glass, It also depends on the partial pressure of helium in the empty space.

【0020】本発明によれば、PALC(表示)パネル
のチャネル表面には、ヘリウムにより予め圧力がかかっ
ている。よって、チャネル基板4の大部分でのヘリウム
の部分圧力が増加して、チャネル内のヘリウムの部分圧
力と、チャネル部材の大部分でのヘリウムの部分圧力と
の差が減少していき、チャネルからチャネル部材の大部
分へのヘリウムの浸透レートが低下する。よって、チャ
ネル内でのヘリウムの消耗が減る。
According to the present invention, the channel surface of the PALC (display) panel is pre-pressed with helium. Therefore, the partial pressure of helium in most of the channel substrate 4 increases, and the difference between the partial pressure of helium in the channel and the partial pressure of helium in most of the channel members decreases, and the difference from the channel decreases. The rate of helium penetration into most of the channel members is reduced. Therefore, the consumption of helium in the channel is reduced.

【0021】上昇した温度と圧力の下で、パネルをヘリ
ウムで満たし、密閉することにより、チャネル表面をヘ
リウムで予め圧力を加えておくことができる。従来は、
圧力が約100〜約500ヘクトパスカルの範囲で、温
度が約20〜50℃の範囲で、パネルをヘリウムで満た
し、密閉していた。上昇させた圧力と温度(200〜9
00ヘクトパスカルで、250〜400℃)でパネルを
ヘリウムで満たし、密閉すると、ヘリウムがガラスに浸
透する。浸透した後にチャネル内に残るヘリウムは、パ
ネルの動作に対して充分な部分圧力を有する。
At elevated temperatures and pressures, the channel surface can be pre-pressurized with helium by filling and sealing the panel with helium. conventionally,
The panel was filled with helium and sealed at a pressure in the range of about 100 to about 500 hectopascals and a temperature in the range of about 20 to 50 ° C. Increased pressure and temperature (200-9
Fill the panel with helium at 00 hectopascals (250-400 ° C.) and seal, allowing helium to penetrate the glass. Helium remaining in the channel after permeation has sufficient partial pressure for panel operation.

【0022】上述の代わりの方法として、チャネルをヘ
リウムで満たし密閉する前であるが、チャネル基板アセ
ンブリの組み立てに要求される高温処理を完了した後
に、ヘリウム雰囲気内の基板を加熱して、基板のチャネ
ル表面に予め圧力をかけることができる。この場合、チ
ャネル基板は、550℃付近にまで加熱できる。この温
度は、ガラスの軟化点付近である。
As an alternative to the above, before the channel is filled with helium and sealed, but after completing the high temperature processing required for the assembly of the channel substrate assembly, the substrate in a helium atmosphere is heated to Pressure can be pre-applied to the channel surface. In this case, the channel substrate can be heated to around 550 ° C. This temperature is near the softening point of the glass.

【0023】第3の方法は、チャネル基板アセンブリ
(チャネル基板4及びカバー・シート6)をRF(高周
波)ヘリウム・プラズマの下に置く。チャネルをヘリウ
ムで満たし、密閉する操作の前に、チャネル基板アセン
ブリをキャビティ(空胴)内に配置するが、このキャビ
ティ内はヘリウムを含んでいる。ここで、ヘリウムをイ
オン化するのに適するRF電界を発生させる。この方法
によってプラズマを作ることにより、ヘリウムが表面層
内に浸透するが、プラズマを除去すると、ヘリウムが捕
捉される。チャネル基板アセンブリがヘリウムで満たさ
れ、密閉されるとき、温度は充分に低く、圧力は高いの
で、ヘリウムがガラス内に捕獲されたままになる。
A third method places the channel substrate assembly (channel substrate 4 and cover sheet 6) under an RF (high frequency) helium plasma. Prior to the operation of filling and sealing the channel with helium, the channel substrate assembly is placed in a cavity, which contains helium. Here, an RF electric field suitable for ionizing helium is generated. By creating a plasma by this method, helium penetrates into the surface layer, but when the plasma is removed, helium is captured. When the channel substrate assembly is filled and sealed with helium, the temperature is low enough and the pressure is high so that the helium remains trapped in the glass.

【0024】ガラスにヘリウムが浸透する問題を避ける
他の方法では、PALC表示パネルの製造に従来用いて
いる形式のガラスへのヘリウム浸透レートよりも、ガラ
ス内へのヘリウムの浸透レートが充分に低くなるよう
に、ガラスにコーティングである表面障壁(バリア)を
設けると共に、ガラスの種類を選択する。
Another method of avoiding the problem of helium penetration into glass is that the rate of helium penetration into the glass is sufficiently lower than the rate of helium penetration into glass of the type conventionally used in the manufacture of PALC display panels. In order to achieve this, a surface barrier (barrier) as a coating is provided on the glass, and the type of the glass is selected.

【0025】PALC表示パネルの組み立てに従来用い
ていたガラスは、D263という名称でショット・ガラ
ス(Schott Glass)から販売されているガラスのよう
に、典型的には、ホウ珪酸ガラスである。AF45とい
う名称でショット・ガラスから販売されているアルカリ
・フリー・ホウ珪酸ガラスの如き他のガラスは、高濃度
酸化バリウム及び酸化アルミニウムであり、PALC表
示パネルの組み立てに適すると共に、必要とする温度範
囲にてヘリウムに対する浸透レートが大幅に低い。
The glass conventionally used for assembling PALC display panels is typically borosilicate glass, such as the glass sold by Schott Glass under the name D263. Other glasses, such as alkali-free borosilicate glass sold by Schott Glass under the name AF45, are high-concentration barium oxide and aluminum oxide, suitable for assembling PALC display panels and in the required temperature range. , The helium penetration rate is significantly lower.

【0026】PALC表示パネルの組み立てに従来用い
たホウ珪酸ガラスよりも、ヘリウムに対する浸透レート
が低く融点が高い材料で真空メッキを行うことにより、
適切な表面障壁(コーティング)が得られる。
By performing vacuum plating with a material having a lower helium penetration rate and a higher melting point than borosilicate glass conventionally used for assembling a PALC display panel,
A suitable surface barrier (coating) is obtained.

【0027】図1は、本発明によるPALCパネル用チ
ャネル基板の好適実施例の部分的断面図であり、図2の
チャネル20の部分に相当し、他の部分の構成は、図2
の場合と同様である。チャネル電極をデポジション(付
着)させる前に、上述の材料の障壁層(コーティング)
46をチャネル基板4のチャネル境界の表面上に設け
る。障壁層46を設けることにより、基板のチャネル表
面の相対温度が、チャネルの境界をホウ珪酸ガラスにし
た場合よりも低くなる。ヘリウムに対する浸透レートが
ホウ珪酸ガラスよりも低く、融点がホウ珪酸ガラスより
も高い材料の1つは、サファイアである。ガラス表面上
にサファイアの層をデポジションする技術は、既知であ
る。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a preferred embodiment of a channel substrate for a PALC panel according to the present invention, which corresponds to the portion of the channel 20 in FIG.
Is the same as Before depositing the channel electrode, a barrier layer (coating) of the above material
46 is provided on the surface of the channel boundary of the channel substrate 4. By providing the barrier layer 46, the relative temperature of the channel surface of the substrate becomes lower than when the channel boundary is made of borosilicate glass. One material that has a lower helium penetration rate than borosilicate glass and a higher melting point than borosilicate glass is sapphire. Techniques for depositing a layer of sapphire on a glass surface are known.

【0028】本発明の好適実施例について上述したが、
本発明の要旨を逸脱することなく種々の変形変更が可能
である。
Having described the preferred embodiment of the present invention,
Various modifications and changes are possible without departing from the spirit of the present invention.

【0029】[0029]

【発明の効果】上述の如く、本発明によれば、PALC
パネルの動作中にヘリウムがチャネル基板に更に浸透し
てチャネルにおけるヘリウムの圧力が低下することによ
り、プラズマ形成に必要な電圧が上昇するのを防止でき
る。
As described above, according to the present invention, PALC
As the helium further penetrates into the channel substrate during the operation of the panel and the pressure of helium in the channel decreases, it is possible to prevent the voltage required for plasma formation from increasing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるPALCパネル用チャネル基板の
好適実施例の部分的断面図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a preferred embodiment of a channel substrate for a PALC panel according to the present invention.

【図2】従来のPALCパネルの部分的断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view of a conventional PALC panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 下側偏光子 4 チャネル部材(チャネル基板、ガラス基板) 6 ガラス・カバー・シート 10 電気光学材料層 12 データ駆動電極 14 上側基板 16 上側偏光子 18 背面ガラス・ディフーザー 20 プラズマ・チャネル 22 リブ 24 陽極 26 陰極 28 パネル要素 30 ピクセル 32 観察者の視点 34 光源 38 フリット・シール 46 障壁層(コーティング) 2 Lower polarizer 4 Channel member (channel substrate, glass substrate) 6 Glass cover sheet 10 Electro-optical material layer 12 Data drive electrode 14 Upper substrate 16 Upper polarizer 18 Back glass diffuser 20 Plasma channel 22 Rib 24 Anode 26 cathode 28 panel element 30 pixel 32 observer's viewpoint 34 light source 38 frit seal 46 barrier layer (coating)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ケビン・ジェー・イルシシン アメリカ合衆国 オレゴン州 97007 ビ ーバートン サウス・ウェスト ムールデ ィア・ドライブ 8650 (72)発明者 トーマス・エス・ブザック アメリカ合衆国 オレゴン州 97007 ビ ーバートン サウス・ウェスト ストーン クリーク・ドライブ 9755 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kevin J. Ilsicine 97007 Beaverton, Oregon United States 8650 Beaverton Southwest Moulder Drive 8650 (72) Inventor Thomas S. Bezack United States 97007 Beaverton South, Oregon West Stone Creek Drive 9755

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 チャネルが形成されたガラス基板を具
え、 イオン化可能なガスであるヘリウムによる充分な部分圧
力が上記ガラス基板のチャネル表面に加えられ、 上記ヘリウムと共に上記ガラス基板のチャネル表面をプ
ラズマ・アドレス液晶パネルとして用いた際に、上記チ
ャネル表面にヘリウムによる圧力が加わっていない場合
よりも非常に低いレートで上記ヘリウムが上記チャネル
から消耗されることを特徴とするプラズマ・アドレス液
晶パネル用チャネル基板。
1. A glass substrate having a channel formed therein, wherein a sufficient partial pressure of helium, which is an ionizable gas, is applied to the channel surface of the glass substrate, and the channel surface of the glass substrate is plasma-coated with the helium. A channel substrate for a plasma-addressed liquid crystal panel, wherein when used as an address liquid crystal panel, the helium is consumed from the channel at a much lower rate than when no pressure is applied to the channel surface by helium. .
【請求項2】 チャネルが形成されたガラス基板と、 該ガラス基板に取り付けられたガラス・カバー・シート
とを具えたプラズマ・アドレス液晶パネル用チャネル基
板アセンブリであって、 イオン化可能なガスであるヘリウムによる充分な部分圧
力が上記チャネル基板アセンブリのチャネル表面に加え
られ、 上記ヘリウムと共に上記ガラス基板のチャネル表面をプ
ラズマ・アドレス液晶パネルとして用いた際に、上記チ
ャネル表面にヘリウムによる圧力が加わっていない場合
よりも非常に低いレートで上記ヘリウムが上記チャネル
から消耗されることを特徴とするプラズマ・アドレス液
晶パネル用チャネル基板アセンブリ。
2. A channel substrate assembly for a plasma addressed liquid crystal panel, comprising: a glass substrate having a channel formed therein; and a glass cover sheet attached to the glass substrate, the helium being an ionizable gas. Is applied to the channel surface of the channel substrate assembly, and when the channel surface of the glass substrate is used as a plasma-addressed liquid crystal panel together with the helium, no pressure is applied to the channel surface by helium. A channel substrate assembly for a plasma addressed liquid crystal panel, wherein said helium is depleted from said channel at a much lower rate than said channel.
【請求項3】 チャネルが形成されたガラス基板を具え
たプラズマ・アドレス液晶パネル用チャネル基板であっ
て、 上記ガラス基板よりもヘリウムに対して浸透レートが低
く上記ガラス基板よりも融点が高いコーティングが上記
ガラス基板の表面に被覆され、 イオン化可能なガスであるヘリウムと共に、上記被覆さ
れたチャネル基板を上記プラズマ・アドレス液晶パネル
に用いた際、上記基板が被覆されない場合よりも非常に
低いレートで上記ヘリウムが上記チャネルから消耗され
ることを特徴とするプラズマ・アドレス液晶パネル用チ
ャネル基板。
3. A channel substrate for a plasma addressed liquid crystal panel, comprising a glass substrate having a channel formed thereon, wherein the coating has a lower permeation rate for helium than the glass substrate and a higher melting point than the glass substrate. When the coated channel substrate is used for the plasma-addressed liquid crystal panel together with the ionizable gas helium, which is coated on the surface of the glass substrate, at a much lower rate than when the substrate is not coated. A channel substrate for a plasma addressed liquid crystal panel, wherein helium is consumed from the channel.
【請求項4】 チャネルが形成されたガラス基板を設
け、 ヘリウムにより上記ガラス基板のチャネル表面に圧力を
加え、 その後、上記チャネルを上記ヘリウムで満たして、上記
チャネルを密閉することを特徴とするプラズマ・アドレ
ス液晶パネル用チャネル基板の製造方法。
4. A plasma characterized by providing a glass substrate having a channel formed therein, applying pressure to the channel surface of the glass substrate with helium, and thereafter filling the channel with the helium and sealing the channel. -A method of manufacturing a channel substrate for an address liquid crystal panel.
【請求項5】 チャネルが形成されたガラス基板と、上
記チャネルを覆って上記ガラス基板に取り付けられたカ
バー・シートとを具えたプラズマ・アドレス液晶パネル
用チャネル基板アセンブリの処理方法であって、 上記チャネル基板アセンブリを加熱して温度を上昇さ
せ、 上記ガラス基板のチャネル内のヘリウムに部分圧力を生
じさせ、 上記チャネルを密閉する ことを特徴とするプラズマ・アドレス液晶パネル用チャ
ネル基板アセンブリの処理方法。
5. A method for processing a channel substrate assembly for a plasma addressed liquid crystal panel, comprising: a glass substrate having a channel formed therein; and a cover sheet covering the channel and attached to the glass substrate, A method of processing a channel substrate assembly for a plasma addressed liquid crystal panel, comprising: heating a channel substrate assembly to increase a temperature; generating a partial pressure in helium in the channel of the glass substrate; and sealing the channel.
【請求項6】 プラズマ・アドレス液晶パネル用チャネ
ル基板の製造方法であって、 チャネルが形成されたガラス基板を設けるステップと、 該ガラス基板の表面にコーティングを形成するステップ
とを具え、 上記コーティングの材料は、ヘリウムに対する浸透レー
トが上記ガラス基板よりも低く、融点が上記ガラス基板
よりも高いことを特徴とするプラズマ・アドレス液晶パ
ネル用チャネル基板の製造方法。
6. A method of manufacturing a channel substrate for a plasma addressed liquid crystal panel, comprising: providing a glass substrate having a channel formed thereon; and forming a coating on a surface of the glass substrate. A method of manufacturing a channel substrate for a plasma addressed liquid crystal panel, wherein the material has a lower helium penetration rate than the glass substrate and a higher melting point than the glass substrate.
JP2000131136A 1999-05-03 2000-04-28 Channel substrate for plasma addressed liquid crystal panel and its manufacture Pending JP2000347164A (en)

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