JP2000345266A - Stamper for molding optical disk, and substrate for producing the stamper - Google Patents

Stamper for molding optical disk, and substrate for producing the stamper

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JP2000345266A
JP2000345266A JP11162199A JP16219999A JP2000345266A JP 2000345266 A JP2000345266 A JP 2000345266A JP 11162199 A JP11162199 A JP 11162199A JP 16219999 A JP16219999 A JP 16219999A JP 2000345266 A JP2000345266 A JP 2000345266A
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JP
Japan
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stamper
base alloy
optical disk
substrate
metal
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Withdrawn
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JP11162199A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Kitamura
英男 北村
Kazuhiko Tabei
和彦 田部井
Hirochika Ueno
博規 上野
Masaaki Kato
公明 加藤
Takashi Sasaki
尚 佐々木
Takumi Shibuya
巧 渋谷
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the number of optical disks capable of being injection molded by a piece of molding stamper by producing a molding stamper with an Ni base alloy contg. a specified ratio of Al. SOLUTION: This stamper is produced by an Ni base alloy contg., be weight, 2.5 to 8.0% Al, and the balance Ni with inevitable impurities. The use of an Ni base alloy added with 0.10 to 5.0% Ti is also preferable. The molten metal obtd. by melting an Ni base alloy in a vacuum is cast into a mold and is cast into an ingot, e.g. of 300 mm height, 200 mm width and 2,000 mm length. The ingot is subjected to solution heat treatment at 1,100 deg.C for 5 hr, is thereafter hot-forget at 950 deg.C, is hot-rolled at 900 deg.C and is moreover cold-rolled at ordinary temp. to form into an Ni base alloy sheet material of 1 mm thickness. The Ni base alloy sheet material is held at 920 deg.C for 20 min, is subjected to annealing treatment under water cooling, is held at 590 deg.C for 16 hr, is thereafter cooled in a furnace at 8 deg.C/h, is subjected to heat aging treatment at 480 deg.C for 5 hr, is subsequently cut into a disk of 150 mm and is polished to obtain a substrate for a stamper.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】 この発明は、各種光ディスクを
製造するためのスタンパおよびそのスタンパを作製する
ための基板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stamper for manufacturing various optical disks and a substrate for manufacturing the stamper.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、高密度に情報を蓄積できる光記録
媒体として、光ディスクの製造が盛んに行われている。
これら光ディスクは、表面にランドおよびグルーブが形
成された光ディスク盤の上に追記型媒体、相変化媒体、
もしくは光磁気記録媒体などの記録膜を成膜し、さらに
保護膜を成膜して製造される。情報は光ディスク盤のラ
ンドまたはグルーブのどちらかに記録され、これらラン
ドおよびグルーブを有する光ディスク盤は、通常、熱可
塑性樹脂を微小凹凸の情報信号が形成された金属製母型
(以下、金属スタンパという)をセットした金型内に高
温で注入し、金属スタンパの微小凹凸を熱可塑性樹脂表
面に転写してランドおよびグルーブを形成した後、冷却
し硬化させることにより作製する。前記金属スタンパ
は、従来、電鋳法で作製されていたが、この方法による
金属スタンパの製造には大型の電鋳装置を必要とし、さ
らに大きな電力を得るための配電設備や広いクリーンル
ームを必要とし、さらに、電鋳を行った後、スタンパ内
外周のトリミング、研磨、打抜きなどの後処理工程を必
要とすることなどから製造コストが高くなるという問題
点があった。
2. Description of the Related Art In recent years, optical disks have been actively manufactured as optical recording media capable of storing information at high density.
These optical discs have a write-once medium, a phase change medium,
Alternatively, it is manufactured by forming a recording film such as a magneto-optical recording medium and then forming a protective film. Information is recorded on either a land or a groove of an optical disk, and an optical disk having these lands and grooves is usually made of a thermoplastic resin formed of a metal matrix (hereinafter referred to as a metal stamper) on which information signals of minute irregularities are formed. ) Is injected at a high temperature into a mold in which lands have been set, and lands and grooves are formed by transferring the fine irregularities of the metal stamper to the surface of the thermoplastic resin, followed by cooling and curing. Conventionally, the metal stamper has been manufactured by an electroforming method.However, the production of the metal stamper by this method requires a large electroforming apparatus, and further requires power distribution equipment and a large clean room for obtaining a larger power. Further, after electroforming, a post-process such as trimming, polishing, and punching of the inner and outer periphery of the stamper is required.

【0003】そこで、近年、金属スタンパは金属基板の
表面にArイオンを照射してエッチングするドライエッ
チング法により製造することが盛んに行われるようにな
ってきた。このArイオンを照射するドライエッチング
法は一般にイオンミリング法と呼ばれており、このイオ
ンミリング法による金属スタンパの製造方法を図1
(a)〜(f)の断面図により説明する。まず、図1
(a)に示される金属基板1を用意する。この金属基板
1はステンレス鋼(例えばSUS303)またはNiの
金属板が用いられている。この金属基板1の上に図1
(b)に示されるようにフォトレジストを塗布してフォ
トレジスト層2を形成する。次に、図1(c)に示され
るようにフォトレジスト層2に情報に対応するレーザ光
(Arレーザ光)を照射してフォトレジスト層2を記録
露光し、露光レジスト層21および非露光レジスト層2
2からなるフォトレジスト層2を形成する。この記録露
光されたフォトレジスト層2を現像処理して図1(d)
に示されるように非露光レジスト層22を除去し、金属
基板1の表面に露光レジスト層21を残して金属基板1
の一部表面を露出させる。かかる一部表面が露出した金
属基板1にArイオンを照射すると、図1(e)に示さ
れるように金属基板1の一部表面が露出した部分がエッ
チングされて凹部3が形成され、その後、露光レジスト
層21を除去することにより図1(f)に示されるよう
な凸部4および凹部3を有する金属スタンパ5が作られ
る。前記金属基板1にArイオン照射してエッチングす
ることにより凹部を形成したりカッティングしたりする
ことを一般にイオンミリングと称している。
Therefore, in recent years, the production of metal stampers by the dry etching method of irradiating the surface of a metal substrate with Ar ions for etching has been actively performed. This dry etching method of irradiating with Ar ions is generally called an ion milling method. A method of manufacturing a metal stamper by this ion milling method is shown in FIG.
This will be described with reference to cross-sectional views (a) to (f). First, FIG.
A metal substrate 1 shown in (a) is prepared. The metal substrate 1 is a stainless steel (for example, SUS303) or Ni metal plate. On this metal substrate 1, FIG.
A photoresist is applied to form a photoresist layer 2 as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 1 (c), the photoresist layer 2 is irradiated with a laser beam (Ar laser beam) corresponding to information to record and expose the photoresist layer 2, and the exposed resist layer 21 and the non-exposed resist are exposed. Layer 2
2 is formed. The recorded and exposed photoresist layer 2 is developed and processed as shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the non-exposed resist layer 22 is removed, and the exposed resist layer 21 is left on the surface of the metal substrate 1 to remove the metal substrate 1.
To expose a part of the surface. When the metal substrate 1 with the partially exposed surface is irradiated with Ar ions, the portion of the metal substrate 1 where the partial surface is exposed is etched to form a concave portion 3 as shown in FIG. By removing the exposure resist layer 21, a metal stamper 5 having a convex portion 4 and a concave portion 3 as shown in FIG. Forming or cutting a concave portion by irradiating the metal substrate 1 with Ar ions for etching is generally called ion milling.

【0004】前記金属基板1として、ステンレス鋼(例
えばSUS303)またはNiの金属板が用いられてい
るが、ステンレス板で作製した金属スタンパは、ステン
レスの熱膨脹係数が大きいために、Arイオンを照射し
てイオンミリングを行うと、ステンレス板が加熱されて
大きく膨脹し、そのため正確な寸法の凹部および凸部を
形成することができないという欠点があった。したがっ
て、現在ではステンレス板よりも熱膨張係数の小さいN
i板で作製した金属スタンパが多く用いられている。
A metal plate made of stainless steel (for example, SUS303) or Ni is used as the metal substrate 1. However, a metal stamper made of a stainless steel plate is irradiated with Ar ions due to the large thermal expansion coefficient of stainless steel. When the ion milling is performed, the stainless steel plate is heated and greatly expanded, so that there is a disadvantage that a concave portion and a convex portion having accurate dimensions cannot be formed. Therefore, at present, N has a smaller coefficient of thermal expansion than the stainless steel plate.
A metal stamper made of an i-plate is often used.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】近年、光ディスクに蓄
積される情報はますます高密度化すると共に正確さを要
求され、また一方で光ディスクの製造コストの削減が求
められている。このため光ディスク盤のランドやグルー
ブの形状を一層精密に形成すると共に、一枚の金属スタ
ンパで一層多くの光ディスクを射出成形することが求め
られている。かかる要求に対して、Niは熱膨脹係数が
比較的小さいところから、Ni板で作製した金属スタン
パは正確な寸法の凹部および凸部が形成されるが、Ni
は一般に硬さが低く、加工または熱処理しても十分に硬
度を高めることができないところから、Ni板で作製し
た金属スタンパを用いて光ディスク盤を射出成形する
と、光ディスク盤の製造枚数が増加するにつれて金属ス
タンパの凹部および凸部の端部が摩耗し、光ディスク盤
に形成されるランドおよびグルーブの精度が低下する。
そのため、Ni板で作製した金属スタンパを用いて光デ
ィスク盤を射出成形できる枚数は5万枚が限度であると
いわれており、Ni板で作製した1枚の金属スタンパを
用いてそれ以上に光ディスク盤の作製枚数を増やすこと
ができないためにコスト高となる欠点があった。
In recent years, information stored on an optical disk has been required to have higher density and higher accuracy, and on the other hand, there has been a demand for a reduction in the manufacturing cost of the optical disk. For this reason, it is required that the shapes of the lands and grooves of the optical disk be formed more precisely, and that more optical disks be injection-molded with one metal stamper. In response to such demands, since Ni has a relatively small coefficient of thermal expansion, a metal stamper made of a Ni plate has concaves and convexes of accurate dimensions, but Ni
Since the hardness is generally low and the hardness cannot be sufficiently increased even by processing or heat treatment, injection molding of an optical disc using a metal stamper made of a Ni plate causes an increase in the number of manufactured optical discs. The ends of the concave and convex portions of the metal stamper are worn, and the accuracy of the lands and grooves formed on the optical disc is reduced.
Therefore, it is said that the number of optical disk disks that can be injection-molded using a metal stamper made of a Ni plate is limited to 50,000. However, there is a disadvantage that the cost is increased because the number of sheets manufactured cannot be increased.

【0006】[0006]

【課題を解決する手段】本発明者らはこれら従来の金属
スタンパの課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、
(a)NiにAlを2.5〜8.0重量%添加したNi
基合金は、塑性加工および熱処理により硬度を高くする
ことができ、熱膨脹係数もNiとほぼ同じ程度に低く、
さらに離型性も良くなるところから、このAlを含有し
たNi基合金板で作製した金属スタンパを用いて光ディ
スク盤を作製すると、1枚の金属スタンパを用いて射出
成形できる光ディスク盤を大幅に増やすことができる、
(b)NiにAlを2.5〜8.0重量%添加し、さら
にTiを0.10〜5.0重量%添加したNi基合金
は、硬度が高く、熱膨脹係数が低く、さらに射出成形し
た樹脂の離型性が良くなるので一層好ましい、という知
見を得たのである。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the problems of the conventional metal stamper, and as a result,
(A) Ni in which 2.5 to 8.0% by weight of Al is added to Ni
The base alloy can be increased in hardness by plastic working and heat treatment, and has a coefficient of thermal expansion almost as low as Ni,
Further, since the mold releasability is improved, when an optical disk is manufactured using a metal stamper made of the Ni-based alloy plate containing Al, the number of optical disks that can be injection-molded using one metal stamper is greatly increased. be able to,
(B) A Ni-based alloy obtained by adding 2.5 to 8.0% by weight of Al to Ni and further adding 0.10 to 5.0% by weight of Ti has high hardness, low coefficient of thermal expansion, and injection molding. It has been found that it is more preferable because the releasability of the obtained resin is improved.

【0007】この発明は、かかる知見に基づいてなされ
たものであって、(1) 重量%で、Al:2.5〜
8.0%を含有し、残部がNiおよび不可避不純物から
なる組成を有するNi基合金からなる光ディスク成形用
スタンパ、(2) 重量%で、Al:2.5〜8.0
%、Ti:0.10〜5.0%を含有し、残部がNiお
よび不可避不純物からなる組成を有するNi基合金から
なる光ディスク成形用スタンパ、に特徴を有するもので
ある。
The present invention has been made based on such findings, and (1) Al: 2.5 to
An optical disk molding stamper containing 8.0% and a balance of Ni-based alloy having a composition of Ni and unavoidable impurities, (2) Al: 2.5 to 8.0% by weight.
%, Ti: 0.10 to 5.0%, and the balance is characterized by an optical disk molding stamper made of a Ni-based alloy having a composition of Ni and unavoidable impurities.

【0008】前記(1)および(2)記載の光ディスク
成形用スタンパは、Al:2.5〜8.0%を含有し、
残部がNiおよび不可避不純物からなる組成を有するN
i基合金板、およびAl:2.5〜8.0%、Ti:
0.10〜5.0%を含有し、残部がNiおよび不可避
不純物からなる組成を有するNi基合金板から作られ、
この発明は、前記(1)および(2)記載の組成を有す
るNi基合金板をも含むものである。
The stamper for molding an optical disk according to the above (1) or (2) contains 2.5 to 8.0% of Al.
N with the balance being Ni and unavoidable impurities
i-based alloy plate, and Al: 2.5 to 8.0%, Ti:
0.10-5.0%, the balance being made from a Ni-based alloy plate having a composition consisting of Ni and unavoidable impurities,
The present invention also includes a Ni-based alloy plate having the composition described in the above (1) and (2).

【0009】したがって、この発明は、前記(1)およ
び(2)記載のNi基合金からなるスタンパ製造用基
板、に特徴を有するものである。
Accordingly, the present invention is characterized in a stamper manufacturing substrate comprising the Ni-based alloy according to the above (1) and (2).

【0010】次に、この発明のNi基合金からなる光デ
ィスク成形用スタンパおよびそのスタンパを製造するた
めの基板の合金組成における各元素の限定理由について
詳述する。
Next, the reasons for limiting each element in the alloy composition of the optical disk molding stamper made of the Ni-based alloy of the present invention and the substrate for manufacturing the stamper will be described in detail.

【0011】Al Alは、熱処理によりNi合金素地中に非常に微細な析
出物が均一に分散することにより硬さを増加させること
ができ、さらに樹脂の型離れを良くする作用があるので
含有させるが、その含有量が2.5%未満では不十分で
あり、一方、8.0%を越えて添加すると加工性が低下
するので好ましくない。したがって、Alの含有量は
2.5〜8.0%に定めた。Al含有量の一層好ましい
範囲は4.0〜5.0%である。
Al Al is contained because the heat treatment makes it possible to increase the hardness by uniformly dispersing very fine precipitates in the Ni alloy base material and further has the effect of improving the mold release of the resin. However, if the content is less than 2.5%, the content is insufficient, and if it exceeds 8.0%, the workability is undesirably reduced. Therefore, the content of Al is determined to be 2.5 to 8.0%. A more preferable range of the Al content is 4.0 to 5.0%.

【0012】Ti Tiは、熱処理によりAlとの相乗作用でNi合金素地
中に非常に微細な析出物が均一に分散することにより硬
度を増加させ、さらに射出成形した樹脂の離型性を増す
作用を有するので、必要に応じて含有させるが、その含
有量が0.10%未満では不十分であり、一方、5.0
%を越えて添加すると加工性が低下するので好ましくな
い。したがって、Tiの含有量は0.10〜5.0%に
定めた。
Ti Ti acts to increase the hardness by uniformly dispersing very fine precipitates in the Ni alloy base by synergistic action with Al by heat treatment, and further to enhance the mold releasability of the injection molded resin. Is contained as necessary, but if the content is less than 0.10%, it is insufficient, while 5.0%
%, It is not preferable because the processability decreases. Therefore, the content of Ti is set to 0.10 to 5.0%.

【0013】なお、この発明の光ディスク成形用スタン
パを構成するNi基合金の不可避不純物は、Fe:2.
0%未満、C:0.01%未満、S:0.01%未満で
あることが好ましい。
The unavoidable impurities of the Ni-based alloy constituting the optical disk molding stamper of the present invention are Fe: 2.
Preferably, it is less than 0%, C: less than 0.01%, and S: less than 0.01%.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】表1に示される成分組成を有する
Ni基合金を真空溶解し、得られた溶湯を鋳型に鋳込ん
で縦:300mm、横:200mm、長さ:2000m
mのインゴットに鋳造し、得られたインゴットを温度:
1100℃、5時間保持の溶体化熱処理した後、さらに
温度:950℃で熱間鍛造し、その後、温度:900℃
で熱間圧延し、さらに常温で冷間圧延することにより厚
さ:1mmのNi基合金板材に加工した。このNi基合
金板材に温度:920℃、20分間保持したのち水冷の
焼鈍処理を施し、さらに温度:590℃、16時間保持
したのち、8℃/hの速度で炉内冷却し、さらに温度:
480℃、5時間保持の時効熱処理を施した。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A Ni-based alloy having the component composition shown in Table 1 is vacuum-melted, and the obtained molten metal is cast into a mold, and the length: 300 mm, the width: 200 mm, and the length: 2000 m
m ingot and cast the resulting ingot at a temperature of:
After the solution heat treatment at 1100 ° C. for 5 hours, hot forging is further performed at a temperature of 950 ° C., and then a temperature of 900 ° C.
, And cold-rolled at room temperature to form a Ni-based alloy sheet having a thickness of 1 mm. This Ni-based alloy sheet is kept at a temperature of 920 ° C. for 20 minutes, subjected to a water-cooled annealing treatment, further kept at a temperature of 590 ° C. for 16 hours, and then cooled in a furnace at a rate of 8 ° C./h.
An aging heat treatment was performed at 480 ° C. for 5 hours.

【0015】このようにして得られたNi基合金板材か
ら直径:150mmの円板を切りだし、この円板の表裏
両面を両面砥石ラップ盤によりラッピングし、その後、
表面のみを片面ポリッシング機で研磨し、Rmax:
0.02μm以下の鏡面に仕上げることによりスタンパ
用基板を作製した。さらに、厚さ:1mmの純Ni板か
ら同様にしてRmax:0.02μm以下の鏡面に仕上
げたスタンパ用基板を作製した。
A disk having a diameter of 150 mm is cut out from the Ni-based alloy plate material thus obtained, and both sides of the disk are wrapped with a double-sided grindstone lapping machine.
Polish only the surface with a single-side polishing machine, Rmax:
A stamper substrate was manufactured by finishing the mirror surface to 0.02 μm or less. Further, a stamper substrate having a mirror finish of Rmax: 0.02 μm or less was similarly manufactured from a pure Ni plate having a thickness of 1 mm.

【0016】これらスタンパ用基板の表面にフォトレジ
スト層を0.4μmの厚さに均一にコーティングした。
このフォトレジスト層の上から記録すべき情報に対応す
るArレーザービームを照射してフォトレジスト層を露
光し、現像してArレーザービームの照射された領域以
外のフォトレジスト層を除去し、基板表面の一部を露出
させた後、焼き付けを行った。
A photoresist layer was uniformly coated on the surface of the stamper substrate to a thickness of 0.4 μm.
The photoresist layer is exposed by irradiating an Ar laser beam corresponding to information to be recorded from above the photoresist layer, and is developed to remove the photoresist layer other than the region irradiated with the Ar laser beam. After exposing a part of the film, baking was performed.

【0017】このようにして基板表面の一部が露出しか
つ基板表面に残存フォトレジスト層を有するスタンパ用
基板の上からArイオンを照射し、残存フォトレジスト
層をマスクとしてイオンミリングを行い、スタンパ用基
板の表面に深さ:0.1μmの凹部を形成したのち、前
記残存フォトレジスト層を除去することにより本発明ス
タンパ1〜8および従来スタンパ1を製造した。
In this manner, Ar ions are irradiated from above the stamper substrate having a part of the substrate surface exposed and having the remaining photoresist layer on the substrate surface, and ion milling is performed using the remaining photoresist layer as a mask. After forming a concave portion having a depth of 0.1 μm on the surface of the substrate for use, the remaining photoresist layer was removed to manufacture Stampers 1 to 8 of the present invention and Conventional Stamper 1.

【0018】このようにして得られた本発明スタンパ1
〜8および従来スタンパ1を光ディスク盤の射出成形機
の金型内にセットし、ポリカーボネート樹脂を射出成形
して光ディスク盤を10万枚作製した。最後の10万枚
目に作製した光ディスク盤の表面にそれぞれ窒化シリコ
ン(Si34 )誘電体層、TbFeCo光磁気記録
層、窒化シリコン(Si34 )誘電体層の順に成膜す
ることにより光ディスクを作製した。
The stamper 1 of the present invention thus obtained
To 8 and the conventional stamper 1 were set in a mold of an injection molding machine for an optical disc, and 100,000 optical discs were produced by injection molding a polycarbonate resin. Forming a silicon nitride (Si 3 N 4 ) dielectric layer, a TbFeCo magneto-optical recording layer, and a silicon nitride (Si 3 N 4 ) dielectric layer in this order on the surface of the last 100,000-th optical disk; The optical disk was produced by the following.

【0019】このようにして作製した光ディスクを、 波長:830nm、 NA:0.55、 ケラレ係数:0.1、 波面収差:0.03λ(rms値)、 偏向状態:直線偏光、 の条件でガイド溝に対して平行となる方向のピックアッ
プにより再生し、反射光量信号出力をスペクトラムアナ
ライザーに入力し、ランド部およびグルーブ部のノイズ
レベルの測定し、その結果を表1に示した。
The optical disk manufactured in this manner is guided under the following conditions: wavelength: 830 nm, NA: 0.55, vignetting coefficient: 0.1, wavefront aberration: 0.03λ (rms value), deflection state: linearly polarized light. The signal was reproduced by a pickup in a direction parallel to the groove, the reflected light amount signal output was input to a spectrum analyzer, and the noise level of the land portion and the groove portion was measured. The results are shown in Table 1.

【0020】[0020]

【表1】 [Table 1]

【0021】表1に示される結果から、本発明スタンパ
1〜8を用いて作製した10万枚目の光ディスク盤にそ
れぞれ誘電体層および光磁気記録層を塗布した光ディス
クのランド部およびグルーブ部のノイズレベルは、従来
スタンパ1を用いて作製した10万枚目の光ディスク盤
に誘電体層および光磁気記録層を塗布した光ディスクの
ランド部およびグルーブ部のノイズレベルに比べて低い
ところから、表1に示されるNi基合金からなる本発明
スタンパ1〜8は、純Niからなる従来スタンパ1より
も格段に多くの光ディスク盤を作製することができる。
From the results shown in Table 1, it can be seen that the land and groove portions of an optical disk in which a dielectric layer and a magneto-optical recording layer were respectively applied to the 100,000-th optical disk disk manufactured using the stampers 1 to 8 of the present invention. The noise level was lower than the noise level of the land and groove portions of the optical disk in which the dielectric layer and the magneto-optical recording layer were applied to the 100,000th optical disk manufactured using the conventional stamper 1. The stampers 1 to 8 of the present invention made of a Ni-based alloy shown in (1) can produce much more optical discs than the conventional stamper 1 made of pure Ni.

【0022】[0022]

【発明の効果】上述のように、この発明の光ディスク成
形用スタンパは、正確な寸法のランドおよびグルーブを
有する光ディスク盤を従来よりも大量に製造できるとこ
ろから光ディスク盤の単価を下げることができ、光ディ
スク盤に誘電体層および光磁気記録層を塗布して得られ
る光ディスクのコストを下げることができて光記録媒体
産業の発展に大いに貢献し得るものである。
As described above, the optical disk molding stamper of the present invention can reduce the unit price of the optical disk disk because it can manufacture optical disk disks having lands and grooves with accurate dimensions in larger quantities than before. The present invention can reduce the cost of an optical disk obtained by coating a dielectric layer and a magneto-optical recording layer on an optical disk, and can greatly contribute to the development of the optical recording medium industry.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の金属スタンパの製造方法を説明するため
の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a conventional method for manufacturing a metal stamper.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金属基板 2 フォトレジスト層 21 露光レジスト層 22 非露光レジスト層 3 凹部 4 凸部 5 金属スタンパ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal substrate 2 Photoresist layer 21 Exposed resist layer 22 Non-exposed resist layer 3 Concave part 4 Convex part 5 Metal stamper

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上野 博規 埼玉県桶川市上日出谷1230 三菱マテリア ル株式会社桶川製作所内 (72)発明者 加藤 公明 埼玉県桶川市上日出谷1230 三菱マテリア ル株式会社桶川製作所内 (72)発明者 佐々木 尚 埼玉県桶川市上日出谷1230 三菱マテリア ル株式会社桶川製作所内 (72)発明者 渋谷 巧 埼玉県桶川市上日出谷1230 三菱マテリア ル株式会社桶川製作所内 Fターム(参考) 5D121 AA02 CA07 GG04 GG07 GG22 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hironori Ueno 1230 Kamideya, Okegawa-shi, Saitama Prefecture Mitsubishi Materials Corporation (72) Inventor Kimiaki Kato 1230 Kamideya, Okegawa-shi, Saitama Mitsubishi Materials Corporation Inside the Okegawa Works (72) Inventor Takashi Sasaki 1230 Kamideya, Okegawa City, Saitama Prefecture Mitsubishi Materials Corp.Okegawa Works (72) Inventor Takumi Shibuya 1230, Kamideya, Okegawa City, Saitama Prefecture Mitsubishi Materials Corporation Terms (Reference) 5D121 AA02 CA07 GG04 GG07 GG22

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 重量%で、Al:2.5〜8.0%を含
有し、残部がNiおよび不可避不純物からなる組成を有
するNi基合金からなることを特徴とする光ディスク成
形用スタンパ。
1. A stamper for molding an optical disk, characterized in that it contains 2.5 to 8.0% of Al by weight and the balance is made of a Ni-based alloy having a composition of Ni and unavoidable impurities.
【請求項2】 重量%で、Al:2.5〜8.0%、T
i:0.10〜5.0%を含有し、残部がNiおよび不
可避不純物からなる組成を有するNi基合金からなるこ
とを特徴とする光ディスク成形用スタンパ。
2. Al: 2.5-8.0% by weight, T
i: a stamper for molding an optical disk, characterized in that it contains 0.10 to 5.0% and the balance consists of a Ni-based alloy having a composition of Ni and unavoidable impurities.
【請求項3】 請求項1または2記載のNi基合金から
なることを特徴とするスタンパ製造用基板。
3. A stamper manufacturing substrate comprising the Ni-based alloy according to claim 1 or 2.
JP11162199A 1999-06-09 1999-06-09 Stamper for molding optical disk, and substrate for producing the stamper Withdrawn JP2000345266A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7641169B2 (en) * 2003-05-29 2010-01-05 Sumitomo Metal Industries, Ltd. Substrate for a stamper
CN113802028A (en) * 2020-06-12 2021-12-17 江苏立新合金实业总公司 Nickel-aluminum-titanium alloy welding wire and preparation method thereof
CN115852283A (en) * 2023-03-08 2023-03-28 太原科技大学 High-strength plastic nickel-based alloy plate with double-peak structure and preparation method thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7641169B2 (en) * 2003-05-29 2010-01-05 Sumitomo Metal Industries, Ltd. Substrate for a stamper
CN113802028A (en) * 2020-06-12 2021-12-17 江苏立新合金实业总公司 Nickel-aluminum-titanium alloy welding wire and preparation method thereof
CN115852283A (en) * 2023-03-08 2023-03-28 太原科技大学 High-strength plastic nickel-based alloy plate with double-peak structure and preparation method thereof

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