JP2000342602A - Pollutant adhesion suppressing material and manufacture thereof - Google Patents
Pollutant adhesion suppressing material and manufacture thereofInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な汚濁物質付
着抑制材およびその製造方法に関するものであり、さら
に詳しくは、歯冠などといった歯科材料などの表面にヤ
ニや歯垢などの汚濁物質の付着を著しく抑制することを
可能とする新しい表面処理技術に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel contaminant adhering material and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to a method for removing contaminants such as tar and plaque on a surface of a dental material such as a crown. The present invention relates to a new surface treatment technology capable of significantly suppressing adhesion.
【０００２】[0002]
【従来の技術】歯の修復部分あるいは義歯の汚れは、食
品や嗜好品中の色素、および細菌性のプラーク（歯垢）
の代謝由来の色素に起因する。好野らは、義歯などの歯
科関連材料表面の汚濁を防止するために、フッ化炭素鎖
を有するシランカップリング剤を用いてそれらの基材表
面を改質した（化学と工業、１９９３年４６巻第１２
号）。得られた表面は処理した基材により異なるが、１
００〜１１５°の高いはっ水性を有し、汚濁物質の付着
が抑制された。2. Description of the Related Art Stain on tooth restorations or dentures is caused by pigments in foods and luxury goods, and bacterial plaque (plaque).
Attributable to the metabolic pigment. Yoshino et al. Modified the surface of a dental-related material such as a denture using a silane coupling agent having a fluorocarbon chain to prevent contamination of the surface of the dental-related material (Chemistry and Industry, 46, 1993). Vol. 12
issue). The surface obtained depends on the substrate treated,
It had a high water repellency of 00 to 115 °, and the adhesion of pollutants was suppressed.
【０００３】我が国は急激な高齢化による、老齢者人口
の増加が深刻な社会問題となっている。歯の磨けない寝
たきり老人をはじめ、義歯使用者にとって、義歯などへ
の汚濁物質付着抑制処理は、口腔の清浄化、健康維持に
役立つことが期待される。ところが、従来の方法では、
水滴接触角はたかだか１００〜１１５°であった。この
程度の接触角では、水滴と表面が30％程度接触している
ことになるため、長期間の使用過程で汚濁物質の付着が
生じ、初期性能が低下する問題があった。また、処理過
程が多く、大量の水、有機溶媒を使用するなど、決して
環境に優しい処理プロセスではなかった。[0003] In Japan, the rapid aging of the population has led to a serious social problem with an increase in the elderly population. For denture users, including bedridden elderly who cannot brush their teeth, it is expected that the treatment to prevent contaminants from adhering to dentures will help to clean the oral cavity and maintain health. However, in the conventional method,
The water droplet contact angle was at most 100-115 °. At such a contact angle, water droplets and the surface are in contact with each other by about 30%, so that a pollutant adheres during a long-term use process, and there is a problem that initial performance is reduced. In addition, there are many processing steps, and a large amount of water and organic solvents are used.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】このような状況に鑑み
て、本発明者らは鋭意研究を進めた結果、材料表面に、
エッチング、ＰＶＤ、メッキ、ＣＶＤなどにより、人工
的に凸凹を形成した後、その表面にフッ化炭素鎖や長鎖
アルキル鎖などを導入すると、はっ水性が著しく向上
し、汚濁物質の付着が著しく抑制されることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。本発明は、歯冠などに
優れた耐汚濁物質付着性を付与した歯科用材料などとし
て特に有用な新規な汚濁物質付着抑制材およびその製造
方法を提供するものである。In view of such a situation, the present inventors have conducted intensive research and as a result,
After forming irregularities artificially by etching, PVD, plating, CVD, etc., introduction of fluorocarbon chains or long-chain alkyl chains on the surface will significantly improve water repellency and significantly contaminate pollutants. They have found that it is suppressed, and have completed the present invention. The present invention provides a novel contaminant adhesion-suppressing material which is particularly useful as a dental material having excellent contaminant-adhesiveness imparted to a crown or the like, and a method for producing the same.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明は、以下の技術的手段から構成される。 （１）基材と該基材表面に形成された汚濁物質付着抑制
膜とからなる材料であって、該基材は高分子、セラミッ
クス、金属などのいずれの材質においても、その表面
は、５０ｎｍ以上の凸凹差を有することを特徴とする汚
濁物質付着抑制材。 （２）基材にフッ化炭素鎖や長鎖アルキル鎖などを有す
るシランカップリング剤を固定化したことを特徴とする
前記（１）記載の汚濁物質付着抑制材。 （３）基材に予め５０ｎｍ以上の凸凹差を有する表面を
形成し、真空紫外光などにより、該基材表面を光洗浄し
た後に、フッ化炭素鎖や長鎖アルキル鎖などを有するシ
ランカップリング剤を該基材表面に固定化することを特
徴とする汚濁物質付着抑制材の製造方法。 （４）基材の表面に凸凹のある被覆層を形成する前記
（３）記載の方法。The present invention for solving the above problems comprises the following technical means. (1) A material composed of a base material and a pollutant adhesion suppressing film formed on the surface of the base material. The base material may be made of any material such as a polymer, a ceramic, and a metal. A contaminant adhesion control material having the above-mentioned unevenness. (2) The contaminant adhesion-suppressing material according to (1), wherein a silane coupling agent having a fluorocarbon chain, a long-chain alkyl chain, or the like is immobilized on the base material. (3) A silane coupling having a fluorocarbon chain, a long alkyl chain, etc., after previously forming a surface having a difference of 50 nm or more on the substrate and optically cleaning the surface of the substrate with vacuum ultraviolet light or the like. A method for producing a pollutant adhesion control material, comprising immobilizing an agent on the surface of the substrate. (4) The method according to the above (3), wherein an uneven coating layer is formed on the surface of the substrate.
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】次に、本発明についてさらに詳細
に説明する。本発明は、様々な基材の表面に、ＰＶＤ、
メッキ、ＣＶＤなどにより、５０ｎｍ以上の凸凹差を有
する被覆層を形成するか、あるいはドライエッチング、
化学エッチングなどにより、５０ｎｍ以上の凸凹差を有
する表面層を形成し、必要により、被覆層を形成した
後、該処理基材の表面上に、フッ化炭素鎖や長鎖アルキ
ル鎖などを有するシランカップリング剤を化学反応（脱
水縮合反応）により強固に固定化し、基材表面に汚濁物
質付着抑制膜を形成して、該処理基材の汚濁物質付着性
を著しく抑制させる点に最大の特徴を有する。Next, the present invention will be described in more detail. The present invention provides PVD,
A coating layer having a difference of 50 nm or more is formed by plating, CVD, or the like, or dry etching,
Forming a surface layer having an unevenness of 50 nm or more by chemical etching or the like and, if necessary, forming a coating layer, and then forming a silane having a fluorocarbon chain or a long alkyl chain on the surface of the treated substrate. The greatest feature is that the coupling agent is firmly immobilized by a chemical reaction (dehydration condensation reaction), and a pollutant adhesion control film is formed on the surface of the substrate, thereby significantly suppressing the pollutant adhesion of the treated substrate. Have.
【０００７】本発明では、様々な基材が用いられるが、
本発明で使用しうる基材としては、例えば、金属、セラ
ミックス、ガラス、プラスチックス、高分子素材などの
適宜の材料を任意に使用することができる。基材の具体
例としては、例えば、歯冠、人工歯などの歯科材料など
が好適なものとして例示されるが、これらに限らず、耐
汚濁物質付着性が求められる適宜の材料、製品がその対
象とされる。また、５０ｎｍ以上の凸凹差を有する被覆
層の形成には、任意の材料を使用することが可能であ
り、その種類は制限されないが、好適な例をあげれば、
例えば、アルミナ、サファイア、ジルコニア、酸化シリ
コンなどのセラミックスを用いることができる。また、
凸凹のある被覆層を形成する方法は、例えば、スパッタ
リング、プラズマＣＶＤ、蒸着、分散メッキ、電着塗装
法、粉末を用いた複合メッキ、プラズマ溶射などを任意
に使用することができる。具体的には、例えば、基材に
スパッタリングなどを用いて酸化シリコンなどの皮膜を
形成した後、ドライエッチングなどを用いて凸凹差を形
成する。また、凸凹差を有する表面層を形成する方法
は、例えば、ドライエッチング、化学エッチングなどを
任意に使用することができる。凸凹差を有する表面層を
形成した後、上記被覆層を形成してもよい。In the present invention, various substrates are used.
As the substrate that can be used in the present invention, for example, any appropriate material such as metal, ceramics, glass, plastics, and polymer material can be used. Specific examples of the base material include, for example, dental materials such as crowns and artificial teeth, which are suitable, but are not limited thereto. It is targeted. In addition, any material can be used to form the coating layer having a difference in roughness of 50 nm or more, and the type thereof is not limited.
For example, ceramics such as alumina, sapphire, zirconia, and silicon oxide can be used. Also,
As a method of forming the uneven coating layer, for example, sputtering, plasma CVD, vapor deposition, dispersion plating, electrodeposition coating, composite plating using powder, plasma spraying, or the like can be arbitrarily used. Specifically, for example, after a film of silicon oxide or the like is formed on the base material by sputtering or the like, the unevenness is formed by dry etching or the like. Further, as a method for forming the surface layer having the unevenness, for example, dry etching, chemical etching, or the like can be arbitrarily used. After forming the surface layer having the unevenness, the coating layer may be formed.
【０００８】次に、上記の通り、凸凹のある被覆層や表
面層を形成した基材表面を、紫外線、オゾン、プラズマ
などにより光洗浄し、表面の有機物を除去する。この場
合、好ましくは、波長の短い真空紫外光（１７２ｎｍの
エキシマランプ光）を使用する。続いて、被覆層表面の
水酸基とフッ化炭素鎖や長鎖アルキル鎖などを有するシ
ランカップリング剤中の水酸基間の脱水縮合反応を利用
して、処理表面にこれらのシランカップリング剤を強固
に固定化させる。処理表面の水酸基とフッ化炭素鎖や長
鎖アルキル鎖を有するシランカップリング剤を固定化す
る方法は特に限定されるものではないが、好ましくは、
高価な反応装置、長い処理時間、高い処理温度を必要と
せず、非常に少量の原料で処理が可能な化学気相反応法
を用いる。この場合、例えば、処理温度は１５０℃、処
理時間は３時間であることが望ましい。また、使用する
シランカップリング剤量は０．１ｃｃ程度で十分であ
る。Next, as described above, the surface of the substrate on which the uneven coating layer or surface layer is formed is optically washed with ultraviolet light, ozone, plasma, or the like to remove organic substances on the surface. In this case, preferably, vacuum ultraviolet light having a short wavelength (excimer lamp light of 172 nm) is used. Subsequently, using a dehydration condensation reaction between the hydroxyl groups on the surface of the coating layer and the hydroxyl groups in the silane coupling agent having a fluorocarbon chain or a long-chain alkyl chain, these silane coupling agents are firmly applied to the treated surface. Immobilize. The method of immobilizing the silane coupling agent having a hydroxyl group and a fluorocarbon chain or a long-chain alkyl chain on the treated surface is not particularly limited, but preferably,
It uses a chemical vapor reaction method which does not require an expensive reactor, a long processing time and a high processing temperature, and can be processed with a very small amount of raw materials. In this case, for example, it is preferable that the processing temperature is 150 ° C. and the processing time is 3 hours. The amount of the silane coupling agent used is about 0.1 cc.
【０００９】上記の処理による基材の表面改質により、
はっ水性が著しく向上し、汚濁物質の付着が著しく抑制
される、という作用効果が得られる。この現象は、表面
に人工的に凸凹を形成して表面積を増やし、非常に濡れ
にくい空気層を形成するという物理的な処理と、表面張
力の低い物質で表面を覆って基材表面の表面エネルギー
を下げるという化学的な処理との相乗効果によるもので
あって、これら両方の処理を組み合わせることによりは
じめて発現する。そして、上記物理的な処理による凸凹
は、５０ｎｍ以上の凸凹が望ましい。なぜなら、５０ｎ
ｍ未満では水滴が凸凹内に入り込み、空気層を十分に確
保できないため、はっ水性が向上しないからである。さ
らに、凸凹は５００ｎｍ未満であることが望ましい。な
ぜなら、５００ｎｍ以上では汚濁物がかえって凸凹に付
着しやすくなるためである。上記の処理基材が高い耐汚
濁物質付着性を示す理由は、上記の通り、上記物理的な
処理と化学的な処理の組み合わせによるものであって、
処理表面に固定化されたフッ化炭素鎖や長鎖アルキル鎖
による化学的な効果と、処理表面に存在する凸凹による
物理的な効果の相乗効果により発現するものと推定され
る。本発明の上記汚濁物質付着抑制処理により、基材へ
の汚濁物質の付着を抑制し、使用過程における基材の変
質、変色、初期性能の低下などを確実に防止することが
できる。[0009] By the surface modification of the substrate by the above treatment,
The effect that the water repellency is remarkably improved and the adhesion of pollutants is significantly suppressed is obtained. This phenomenon involves the physical treatment of artificially forming irregularities on the surface to increase the surface area and forming an air layer that is very difficult to wet, and the surface energy of the substrate surface by covering the surface with a material with low surface tension This is due to a synergistic effect with the chemical treatment of lowering the concentration, and it appears only when these two treatments are combined. The unevenness due to the physical processing is desirably 50 nm or more. Because 50n
If it is less than m, water droplets enter into the unevenness and a sufficient air layer cannot be secured, so that water repellency is not improved. Further, the unevenness is desirably less than 500 nm. This is because when the thickness is 500 nm or more, the contaminants are more likely to adhere irregularly. The reason that the treated substrate exhibits high antifouling substance adhesion is, as described above, due to the combination of the physical treatment and the chemical treatment,
It is presumed that the chemical effect is exhibited by the synergistic effect of the chemical effect of the fluorocarbon chain or long-chain alkyl chain immobilized on the treated surface and the physical effect of the unevenness present on the treated surface. By the pollutant substance adhesion suppressing treatment of the present invention, adhesion of the pollutant substance to the base material can be suppressed, and deterioration of the base material, discoloration, deterioration of the initial performance, and the like in the use process can be reliably prevented.
【００１０】[0010]
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明する。以下の実施例は本発明の好適な例を示すもので
あり、本発明は該実施例により何ら限定されるものでは
ない。 実施例１ 陶歯（義歯用人口歯）に高周波マグネトロンスパッタリ
ングを用いて、約７００ｎｍの酸化シリコン皮膜を形成
後、ドライエッチング装置（反応ガス：ＣＨＦ3 ガス、
反応圧力：１５０Ｐａ、処理時間４８０秒）を用いて、
表面に約１００ｎｍの凸凹差を形成した。この基材表面
を、エキシマランプ光に約１０分さらした後、フッ化炭
素鎖を有するシランカップリング剤（信越化学製 ＫＢ
Ｍ７８０３）０．１ｃｃをガラス容器に入れ、洗浄した
試料とともに、テフロン製の容器に入れ、１５０℃の電
気炉中で約３時間放置した後、水滴接触角を測定したと
ころ、約１５０°の超はっ水性を示した。また、たばこ
を１０本水中に浸して作製した溶液中に、処理した試料
を放置したが、約３ヶ月放置しても、変色はほとんど観
察されなかった。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below based on embodiments. The following examples show preferred examples of the present invention, and the present invention is not limited to the examples. Example 1 After a silicon oxide film of about 700 nm was formed on a ceramic tooth (artificial tooth for a denture) using high-frequency magnetron sputtering, a dry etching apparatus (reaction gas: CHF 3 gas,
Reaction pressure: 150 Pa, treatment time 480 seconds)
An unevenness of about 100 nm was formed on the surface. After exposing the substrate surface to excimer lamp light for about 10 minutes, a silane coupling agent having a fluorocarbon chain (KB manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
M7803) 0.1 cc was placed in a glass container, together with the washed sample, placed in a Teflon container, and left standing in an electric furnace at 150 ° C. for about 3 hours. It showed water repellency. The treated sample was left in a solution prepared by immersing 10 cigarettes in water, but almost no discoloration was observed even after leaving it for about 3 months.
【００１１】比較例１ 陶歯（義歯用人口歯）表面を、エキシマランプ光に約１
０分さらした後、フッ化炭素鎖を有するシランカップリ
ング剤（信越化学製 ＫＢＭ７８０３）０．１ｃｃをガ
ラス容器に入れ、洗浄した試料とともに、テフロン製の
容器に入れ、１５０℃の電気炉中で約３時間放置した
後、水滴接触角を測定したところ、約１１２°のはっ水
性を示した。また、たばこを１０本水中に浸して作製し
た溶液中に処理した試料放置したところ、約２週間で明
らかな変色（茶褐色）が観察された。Comparative Example 1 A surface of a ceramic tooth (artificial tooth for a denture) was exposed to an excimer lamp light for about 1 hour.
After exposure for 0 minutes, 0.1 cc of a silane coupling agent having a fluorocarbon chain (KBM7803 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is placed in a glass container, and the washed sample is placed in a Teflon container together with the washed sample. After standing for about 3 hours, the contact angle of a water drop was measured, and it was found to be about 112 ° water repellency. In addition, when the sample treated in a solution prepared by immersing 10 cigarettes in water was allowed to stand, clear discoloration (brown) was observed in about 2 weeks.
【００１２】比較例２ ＰＵＤＭＡ（シリカフィラー３２％含有、義歯用人口
歯）表面を、酸素プラズマ中に約１０分さらした後、長
鎖アルキル鎖を有するシランカップリング剤（東京化成
工業製 ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン）０．１
ｃｃをガラス容器に入れ、洗浄した試料とともに、テフ
ロン製の容器に入れ、１５０℃の電気炉中で約３時間放
置した後、水滴接触角を測定したところ、約１０８°の
はっ水性を示した。また、たばこを１０本水中に浸して
作製した溶液中に処理した試料放置したところ、約２週
間で明らかな変色（茶褐色）が観察された。Comparative Example 2 After the surface of PUDMA (containing 32% silica filler and artificial teeth for dentures) was exposed to oxygen plasma for about 10 minutes, a silane coupling agent having a long alkyl chain (n- Octadecyltrimethoxysilane) 0.1
The cc was placed in a glass container, together with the washed sample, placed in a Teflon container, and allowed to stand in an electric furnace at 150 ° C. for about 3 hours. The water droplet contact angle was measured, showing a water repellency of about 108 °. Was. In addition, when the sample treated in a solution prepared by immersing 10 cigarettes in water was allowed to stand, clear discoloration (brown) was observed in about 2 weeks.
【００１３】実施例２ 陶歯（義歯用人口歯）にゾルーゲル法を用いて、約６０
０ｎｍの酸化シリコン皮膜を形成した。コーティング液
（Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 テトラエトキシシラン：２５
ｇ、Ｃ2 Ｈ5 ＯＨエタノール：３８ｇ、Ｈ2 Ｏ水：２４
ｇ、ＨＣＬ塩酸：０．３ｇ）にあらかじめポリエチレン
グリコール（分子量２０００）をアルコキシドに対して
約７ｗｔ．％入れておき、成膜後、約５００℃で焼成し
てやることにより、ポリエチレングリコールを酸化分解
し、表面に約１００〜１５０ｎｍの凸凹差を形成した。
この基材表面を、エキシマランプ光に約１０分さらした
後、フッ化炭素鎖を有するシランカップリング剤（信越
化学製 ＫＢＭ７８０３）０．１ｃｃをガラス容器に入
れ、洗浄した試料とともに、テフロン製の容器に入れ、
１５０℃の電気炉中で約３時間放置した後、水滴接触角
を測定したところ、約１４０°のはっ水性を示した。ま
た、たばこを１０本水中に浸して作製した溶液中に、処
理した試料を放置したが、約２ヶ月放置しても、変色は
ほとんど観察されなかった。Example 2 Approximately 60 porcelain teeth (denture artificial teeth) were obtained using the sol-gel method.
A 0 nm silicon oxide film was formed. Coating liquid (Si (OC 2 H 5 ) 4 tetraethoxysilane: 25
g, C2 H5 OH ethanol: 38g, H 2 O Water: 24
g, HCL hydrochloric acid: 0.3 g) and polyethylene glycol (molecular weight: 2,000) in advance to about 7 wt. %, The film was formed, and then baked at about 500 ° C. to oxidatively decompose the polyethylene glycol to form a surface with a roughness of about 100 to 150 nm.
After exposing the substrate surface to excimer lamp light for about 10 minutes, 0.1 cc of a silane coupling agent having a fluorocarbon chain (KBM7803 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was placed in a glass container. Put it in a container,
After being left in an electric furnace at 150 ° C. for about 3 hours, the contact angle of a water drop was measured. The treated sample was left in a solution prepared by immersing 10 cigarettes in water, but almost no discoloration was observed even after leaving it for about 2 months.
【００１４】[0014]
【発明の効果】以上詳述したとおり、本発明は、基材と
該基材表面に形成された汚濁物質付着抑制膜とからなる
材料であって、該基材は高分子、セラミックス、金属な
どのいずれの材質においても、その表面は、５０ｎｍ以
上の凸凹差を有することを特徴とする汚濁物質付着抑制
材およびその製造方法に係わるものであり、本発明によ
り、１）新規な汚濁物質付着抑制材を提供することがで
きる、２）歯冠などの歯科用材料に優れた耐汚濁物質付
着性を付与することができる、３）汚濁物質の付着を著
しく抑制する新しい表面処理技術を提供することができ
る、４）簡便なプロセスで優れた耐汚濁物質付着性を有
する材料を作製することができる、等の格別の効果が奏
される。As described in detail above, the present invention relates to a material comprising a base material and a pollutant adhesion suppressing film formed on the surface of the base material, wherein the base material is made of a polymer, ceramic, metal or the like. The present invention relates to a pollutant adhesion control material characterized in that the surface thereof has an unevenness of 50 nm or more and a method for producing the same. 2) It is possible to provide a dental material such as a crown with excellent antifouling substance adhesion property, and 3) To provide a new surface treatment technique for remarkably suppressing the adhesion of the polluting substance. And 4) a material having excellent antifouling substance adhesion can be produced by a simple process.
【図１】本発明の実施例１に係わる被覆層の断面の概略
図を示すものである。FIG. 1 is a schematic view of a cross section of a coating layer according to Example 1 of the present invention.
【図２】本発明の実施例２に係わる被覆層の断面の概略
図を示すものである。FIG. 2 is a schematic view of a cross section of a coating layer according to a second embodiment of the present invention.
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【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成１２年２月１４日（２０００．２．１
４）[Submission date] February 14, 2000 (2000.2.1
4)
【手続補正１】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【特許請求の範囲】[Claims]
【請求項２】 基材に凸凹差を有する被覆層を形成する
か、あるいは基材に凸凹差を有する表面層を形成するこ
とにより、基材に予め５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未満の
凸凹差を有する表面を形成し、真空紫外光などにより、
該基材表面を光洗浄した後に、フッ化炭素鎖ないし長鎖
アルキル鎖を有するシランカップリング剤を該基材表面
に固定化することを特徴とする汚濁物質付着抑制材の製
造方法。 2. A coating layer having an unevenness is formed on a substrate.
Or forming a surface layer with unevenness on the substrate.
With the above , a surface having a difference of unevenness of 50 nm or more and less than 500 nm is previously formed on the substrate, and by vacuum ultraviolet light or the like,
A method for producing a pollutant adhesion control material, comprising: irradiating a silane coupling agent having a fluorocarbon chain or a long alkyl chain onto the surface of the substrate after light-cleaning the surface of the substrate.
【請求項３】 基材に凸凹差を有する表面層を形成し、
さらに被覆することにより、基材に５０ｎｍ以上で５０
０ｎｍ未満の凸凹差を有する表面を形成する請求項２記
載の方法。 3. A method for forming a surface layer having an unevenness on a substrate ,
By further coating, the base material is 50 nm or more at 50 nm or more.
3. The method of claim 2 , wherein a surface having a difference of less than 0 nm is formed.
【手続補正２】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】０００５[Correction target item name] 0005
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明は、以下の技術的手段から構成される。 （１）表面に凸凹差を形成した基材と該基材表面に形成
された汚濁物質付着抑制膜とからなる材料であって、基
材に凸凹差を有する被覆層を形成するか、あるいは基材
に凸凹差を有する表面層を形成し必要によりさらに被覆
することにより、基材に５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未満
の凸凹差を有する表面を形成し、さらに該基材表面にフ
ッ化炭素鎖ないし長鎖アルキル鎖を有するシランカップ
リング剤を固定化し汚濁物質付着抑制膜を形成して、基
材表面の汚濁物質付着性を抑制させるようにしたことを
特徴とする汚濁物質付着抑制材。 （２）基材に凸凹差を有する被覆層を形成するか、ある
いは基材に凸凹差を有する表面層を形成することによ
り、基材に予め５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未満の凸凹差
を有する表面を形成し、真空紫外光などにより、該基材
表面を光洗浄した後に、フッ化炭素鎖ないし長鎖アルキ
ル鎖を有するシランカップリング剤を該基材表面に固定
化することを特徴とする汚濁物質付着抑制材の製造方
法。 （３）基材に凸凹差を有する表面層を形成し、さらに被
覆することにより、基材に５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未
満の凸凹差を有する表面を形成する前記（２）記載の方
法。The present invention for solving the above problems comprises the following technical means. (1) a material comprising a pollutant adhesion preventing layer formed on the formed substrate and the substrate surface unevenness difference on the surface, based on
Forming a coating layer with unevenness on the material
Form a surface layer with unevenness on the surface and further cover if necessary
By doing so, a surface having an unevenness of 50 nm or more and less than 500 nm is formed on the base material,
Cups with carbon or long alkyl chains
Immobilize the ring agent and form a pollutant adherence suppression film,
Contaminants suppressing adhesion material, characterized in that so as to suppress the pollutant adhesion wood surface. ( 2 ) Forming or having a coating layer having unevenness on the substrate
Or by forming a surface layer with unevenness on the substrate.
A silane cup having a fluorocarbon chain or a long-chain alkyl chain after forming a surface having a roughness of not less than 50 nm and less than 500 nm on the base material in advance and subjecting the base material surface to light washing with vacuum ultraviolet light or the like. A method for producing a pollutant adhesion control material, comprising fixing a ring agent to the surface of the substrate. ( 3 ) Forming a surface layer having a difference in roughness on the substrate ,
By covering, the base material is not less than 50 nm and not more than 500 nm.
The method according to the above ( 2 ), wherein the surface having a full unevenness is formed.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横川 善之 愛知県小牧市城山五丁目73番地の１ Ｆターム(参考） 4C059 RR02 RR17 SS01 SS03 SS04 SS10 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshiyuki Yokokawa 5-73, Shiroyama, Komaki-shi, Aichi 1F term (reference) 4C059 RR02 RR17 SS01 SS03 SS04 SS10
Claims (4)
付着抑制膜とからなる材料であって、該基材は高分子、
セラミックス、金属などのいずれの材質においても、そ
の表面は、５０ｎｍ以上の凸凹差を有することを特徴と
する汚濁物質付着抑制材。Claims: 1. A material comprising a substrate and a pollutant adhesion suppressing film formed on the surface of the substrate, wherein the substrate is a polymer,
A pollutant adhesion control material characterized in that the surface of any material, such as ceramics and metal, has an unevenness of 50 nm or more.
どを有するシランカップリング剤を固定化したことを特
徴とする請求項１記載の汚濁物質付着抑制材。2. The pollutant adhesion control material according to claim 1, wherein a silane coupling agent having a fluorocarbon chain, a long chain alkyl chain, or the like is immobilized on the base material.
る表面を形成し、真空紫外光などにより、該基材表面を
光洗浄した後に、フッ化炭素鎖や長鎖アルキル鎖などを
有するシランカップリング剤を該基材表面に固定化する
ことを特徴とする汚濁物質付着抑制材の製造方法。3. A silane having a fluorocarbon chain, a long alkyl chain or the like after a surface having a difference of 50 nm or more is formed on a substrate in advance, and the surface of the substrate is optically washed with vacuum ultraviolet light or the like. A method for producing a pollutant adhesion control material, comprising immobilizing a coupling agent on the surface of the substrate.
る請求項３記載の方法。4. The method according to claim 3, wherein an uneven coating layer is formed on the surface of the substrate.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1999
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