JP2000338480A - Manufacture of reflective liquid crystal display device - Google Patents
Manufacture of reflective liquid crystal display deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は反射型液晶表示装置
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection type liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、液晶表示装置は小型もしくは中型
の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精
細のモニターにまで使用されている。さらにバックライ
トを使用しない反射型液晶表示装置の技術も開発されて
おり、薄型、軽量および低消費電力化に優れている。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been used for large and high-definition monitors in addition to small or medium-sized portable information terminals and notebook computers. Further, a technology of a reflective liquid crystal display device that does not use a backlight has been developed, and is excellent in thinness, light weight, and low power consumption.
【０００３】反射型液晶表示装置には、後方に配設した
基板の面上に鏡面にした光反射層を設け、前方に配設し
た基板の外側に散乱板を設けた機能分離型と、後方に配
設した基板に対し凹凸形状の光反射層を形成した散乱反
射型とがあるが、双方の型ともにバックライトを用いな
いことで、周囲の光を有効に利用している。[0003] A reflection type liquid crystal display device is provided with a mirror-reflecting layer on the surface of a substrate provided on the rear side, and a function separation type in which a scattering plate is provided on the outside of the substrate provided on the front side. There is a scattering-reflection type in which a light reflection layer having an uneven shape is formed on the substrate disposed in the above-mentioned configuration. However, both types effectively utilize ambient light by not using a backlight.
【０００４】散乱反射型液晶表示装置を図１３に示す
（特開平４−２４３２２６号参照）。液晶表示装置１に
おいて、ガラス基板２の上にフォトリソ工程により樹脂
からなるほぼ半球状の凸部３を多数ランダムに並べるこ
とで凸状配列群を形成し、凸状配列群上に金属からなる
光反射層４を被覆し、光反射層４上に配向膜５を被覆
し、また、ガラス基板６上にカラーフィルタ７を形成
し、カラーフィルタ７の上にオーバーコート層８を被覆
し、オーバーコート層８上にＩＴＯなどからなる透明電
極９を帯状に複数配列し、さらに配向膜１０を被覆す
る。そして、双方の基板を液晶１１を介して対向配設
し、液晶１１はシール部材１２により囲まれた領域内に
充填され、ガラス基板６の外面に第１位相差フィルム１
３と第２位相差フィルム１４と偏光板１５とを順次形成
する。FIG. 13 shows a scattering-reflection type liquid crystal display device (see JP-A-4-243226). In the liquid crystal display device 1, a plurality of substantially hemispherical convex portions 3 made of resin are randomly arranged on a glass substrate 2 by a photolithography process to form a convex array group, and a light made of metal is formed on the convex array group. The reflective layer 4 is coated, the alignment film 5 is coated on the light reflective layer 4, the color filter 7 is formed on the glass substrate 6, the overcoat layer 8 is coated on the color filter 7, A plurality of transparent electrodes 9 made of ITO or the like are arranged in a strip shape on the layer 8, and further covered with an alignment film 10. Then, both substrates are disposed to face each other with the liquid crystal 11 interposed therebetween, and the liquid crystal 11 is filled in a region surrounded by the seal member 12, and the first retardation film 1
3, a second retardation film 14 and a polarizing plate 15 are sequentially formed.
【０００５】上記光反射層４については、凸状配列群上
にＡｌなどの金属膜をスパッタリングにより被覆する。
このＡｌ膜は多数の帯を平行に配列したものであり、各
帯状膜が個々の電極（光反射層４）に相当する。The light reflecting layer 4 is formed by coating a metal film such as Al on the convex array group by sputtering.
The Al film has a number of bands arranged in parallel, and each band-like film corresponds to an individual electrode (light reflection layer 4).
【０００６】上記構成の液晶表示装置１においては、偏
光板１５、第２位相差フィルム１４、ガラス基板６およ
び液晶１１を通して光入射されると、入射光が光反射層
４にて光反射され、その反射光がふたたび液晶１１を通
して出射されることで散乱反射型の装置構成となる。In the liquid crystal display device 1 having the above structure, when light enters through the polarizing plate 15, the second retardation film 14, the glass substrate 6, and the liquid crystal 11, the incident light is reflected by the light reflecting layer 4, The reflected light is emitted again through the liquid crystal 11 to form a scattered reflection type device configuration.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の液晶表示装置１においては、フォトリソ工程により
凸状配列群を形成するに際し、再現性と量産性を高める
ために各凸部３を隔離させるが、その反面、各凸部３の
間に平坦部Ｈが存在し、この平坦部Ｈ上にも光反射層４
としてＡｌ膜が被覆され、これにより、凸状配列群の平
坦度が上がり、正反射成分が増大し、その結果、光散乱
性が低下していた。However, in the liquid crystal display device 1 having the above structure, when forming the convex array group by the photolithography process, each convex portion 3 is isolated in order to enhance reproducibility and mass productivity. On the other hand, a flat portion H exists between the convex portions 3, and the light reflecting layer 4 also exists on the flat portion H.
As a result, the flatness of the convex array group was increased, the regular reflection component was increased, and as a result, the light scattering property was reduced.
【０００８】この課題を解消するために、ふたたびフォ
トリソ工程でもって平坦部Ｈ上に凸部を設けたり、ある
いは凸状配列群上に樹脂を被覆して滑らかにする技術が
提案されているが、そのような工程を加えることで生産
コストが上がっていた。In order to solve this problem, a technique has been proposed in which a convex portion is provided on the flat portion H again by a photolithography process, or a resin is coated on a convex array group to smooth the resin. The addition of such a process increased production costs.
【０００９】したがって本発明の目的は凸状配列群によ
る光散乱性を向上させることで、視野角を広くし、これ
によって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信頼性の反
射型液晶表示装置を提供することにある。Accordingly, an object of the present invention is to improve the light scattering by the convex array group, thereby widening the viewing angle, thereby providing a high-performance and highly reliable reflective liquid crystal display device having good display characteristics. To provide.
【００１０】また、本発明の他の目的は生産コストを下
げて、かかる高性能かつ高信頼性の反射型液晶表示装置
を提供することにある。It is another object of the present invention to provide a high-performance and highly reliable reflective liquid crystal display device with reduced production cost.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の反射型液晶表示
装置は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダ
ムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光
反射性電極を被覆し、光反射性電極上に配向層を積層し
てなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを
順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を
介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる構
成において、前記凸状配列群における隣り合う各凸部が
接続されていることを特徴とする。According to the reflection type liquid crystal display device of the present invention, a convex arrangement group in which a large number of resin projections are randomly arranged is formed on one main surface of a substrate. A nematic is formed between one member having a light-reflective electrode coated thereon and an alignment layer laminated on the light-reflective electrode and the other member having a transparent electrode and an alignment layer sequentially laminated on a transparent substrate. In a configuration in which pixels are arranged in a matrix with interposed liquid crystal, adjacent convex portions in the convex array group are connected to each other.
【００１２】本発明の他の反射型液晶表示装置は、基板
の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸
状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射膜を被覆
し、光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してな
る一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次
積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在
させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる構成に
おいて、前記凸状配列群における隣り合う各凸部が接続
されていることを特徴とする。In another reflection type liquid crystal display device of the present invention, a convex array group in which a number of resin convex portions are randomly arranged is formed on one main surface of a substrate, and light is reflected on the convex array group. A nematic type is formed between one member formed by sequentially laminating a transparent electrode and an alignment layer on a light reflecting film, and the other member formed by sequentially laminating a transparent electrode and an alignment layer on a transparent substrate. In a configuration in which pixels are arranged in a matrix with a liquid crystal interposed, adjacent convex portions in the convex array group are connected.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明を図１〜図１２によ
って詳述する。図１は反射型液晶表示装置の断面概略
図、図２は凸状配列群の形成工程図、図３は凸状配列群
を形成するためのフォトマスクの平面図、図４は他のフ
ォトマスクの平面図である。また、図５は現像時間と凸
状配列群の凹凸高低差との関係を示し、図６は現像時間
の違いによる光感光性樹脂層の形状変化を示す。図７は
凸状配列群の拡大図、図８は凸状配列群の写真図であっ
て、図９は他の凸状配列群の拡大図である。さらに図１
０は本発明の他の反射型液晶表示装置の断面概略図、図
１１は反射特性を測定するための仮想部材の断面概略図
である。図１２は仮想部材の散乱特性を示す。なお、図
１３に示す従来の液晶表示装置１と同一箇所には同一符
号を付す。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a reflection type liquid crystal display device, FIG. 2 is a process diagram of forming a convex array group, FIG. 3 is a plan view of a photomask for forming the convex array group, and FIG. FIG. FIG. 5 shows the relationship between the development time and the height difference of the convex arrangement group, and FIG. 6 shows the shape change of the photosensitive resin layer due to the difference in the development time. 7 is an enlarged view of the convex array group, FIG. 8 is a photograph of the convex array group, and FIG. 9 is an enlarged view of another convex array group. Further FIG.
0 is a schematic sectional view of another reflection type liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 11 is a schematic sectional view of a virtual member for measuring reflection characteristics. FIG. 12 shows the scattering characteristics of the virtual member. The same parts as those in the conventional liquid crystal display device 1 shown in FIG.
【００１４】反射型液晶表示装置 図１によりカラー表示用の反射型液晶表示装置１６を説
明する。２はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ
厚）、６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であ
って、前記一方部材については、ガラス基板２の一方主
面上に樹脂からなるほぼ半球状の凸部１７（径：１０〜
１５μｍ）を多数配列することで凸状配列群を形成し、
凸状配列群上にクロムやアルミニウム、銀などの金属か
らなる光反射層４を膜厚１０００Åで被覆している。光
反射層４は多数の帯を平行に配列したものであり、各帯
状膜が個々の電極１８に相当する。[0014] illustrating the reflection type liquid crystal display device 16 for color display by reflection type liquid crystal display device Figure 1. 2 is a segment side glass substrate (0.7 mm
Thickness) and 6 are glass substrates (0.7 mm thick) on the common side. As for the one member, a substantially hemispherical convex portion 17 (diameter: 10 to 10) made of resin is formed on one main surface of the glass substrate 2.
15 μm) to form a convex array group by arranging a large number of
A light reflecting layer 4 made of a metal such as chromium, aluminum, or silver is coated on the convex array group with a thickness of 1000 °. The light reflecting layer 4 has a number of bands arranged in parallel, and each band-like film corresponds to an individual electrode 18.
【００１５】そして、光反射層４上に一定方向にラビン
グしたポリイミド樹脂からなる配向膜５を被覆する。光
反射層４を被覆した凸状配列群と配向膜５との間に樹脂
やＳｉＯ2 からなる平滑膜をスパッタリング法やディッ
プ法、印刷法、スピンナー法等でもって形成してもよ
い。Then, an alignment film 5 made of a polyimide resin rubbed in a certain direction is coated on the light reflection layer 4. A smooth film made of resin or SiO 2 may be formed between the convex array group coated with the light reflection layer 4 and the alignment film 5 by a sputtering method, a dipping method, a printing method, a spinner method, or the like.
【００１６】前記他方部材については、ガラス基板６上
に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成している。
カラーフィルタ７は顔料分散方式、すなわちあらかじめ
顔料（赤、緑、青）により調合された感光性レジストを
基板上に塗布し、フォトリソグラフィにより形成してい
る。その上にアクリル系樹脂からなるオーバーコート層
８と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極９と
を形成している。透明電極９は上記電極１８と直交して
いる。ただし、オーバーコート層８は必須不可欠ではな
く、カラーフィルタ７上に直に透明電極９を形成するこ
とで、オーバーコート層８を除外してもよい。さらに透
明電極９上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂か
らなる配向膜１０を形成している。なお、配向膜１０は
透明電極９上に直に成膜形成しているが、配向膜１０と
透明電極９との間に樹脂やＳｉＯ2 などからなる絶縁膜
を介在させてもよい。As for the other member, a color filter 7 arranged for each pixel is formed on a glass substrate 6.
The color filter 7 is formed by a pigment dispersion method, that is, a method in which a photosensitive resist prepared in advance with pigments (red, green, and blue) is applied on a substrate, and photolithography is performed. An overcoat layer 8 made of an acrylic resin and a plurality of transparent electrodes 9 made of ITO are formed thereon in parallel. The transparent electrode 9 is orthogonal to the electrode 18. However, the overcoat layer 8 is not indispensable, and the overcoat layer 8 may be omitted by forming the transparent electrode 9 directly on the color filter 7. Further, an alignment film 10 made of a polyimide resin rubbed in a certain direction is formed on the transparent electrode 9. Although the alignment film 10 is formed directly on the transparent electrode 9, an insulating film made of resin or SiO 2 may be interposed between the alignment film 10 and the transparent electrode 9.
【００１７】そして、上記構成の一方部材および他方部
材を、たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされ
たカイラルネマチック液晶からなる液晶１１を介してシ
ール部材１２により貼り合わせる。また、両部材間には
液晶１１の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配
している。Then, the one member and the other member having the above structure are bonded together by a seal member 12 via a liquid crystal 11 composed of a chiral nematic liquid crystal twisted at an angle of, for example, 200 to 260 °. A large number of spacers are arranged between the two members to keep the thickness of the liquid crystal 11 constant.
【００１８】さらにガラス基板６の外側にポリカーボネ
イトなどからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差
フィルム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成す
る。これらの配設については、アクリル系の材料からな
る粘着材を塗布することで貼り付ける。Further, a first retardation film 13 made of polycarbonate or the like, a second retardation film 14, and an iodine polarizing plate 15 are sequentially formed on the outside of the glass substrate 6. About these arrangement | positioning, it sticks by applying the adhesive material which consists of an acrylic material.
【００１９】上記構成の液晶表示装置１６においては、
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板１
５、第２位相差フィルム１４、第１位相差フィルム１３
を通して、さらにガラス基板６を通過し、カラーフィル
タ７、液晶１１を通して光反射層４に到達し、光反射層
４にて光反射され、その反射光が出射される。In the liquid crystal display device 16 having the above configuration,
Incident light from external lighting such as sunlight or fluorescent light is polarized
5, second retardation film 14, first retardation film 13
, Further pass through the glass substrate 6, reach the light reflection layer 4 through the color filter 7 and the liquid crystal 11, are reflected by the light reflection layer 4, and the reflected light is emitted.
【００２０】〔凸状配列群の形成方法〕ガラス基板２上
の凸状配列群は、図２に示すように（ａ）〜（ｇ）の各
工程を経て形成する。[Method of forming convex array group] The convex array group on the glass substrate 2 is formed through the steps (a) to (g) as shown in FIG.
【００２１】（ａ）工程 ジエチレングリコールメチルエチルエーテルを主成分と
する光感光性樹脂（商品：ＰＣ３３９Ｈ・ＪＳＲ株式会
社製）をスピンコート塗布する。この樹脂の膜厚はスピ
ンナ回転数により制御でき、本例ではスピンナ回転数を
１０００ｒｐｍにして２μｍ程度の厚さのポジ型光感光
性樹脂を塗布した。 (A) Step A photosensitive resin containing diethylene glycol methyl ethyl ether as a main component (product: PC339H, manufactured by JSR Corporation) is spin-coated. The film thickness of this resin can be controlled by the spinner rotation speed. In this example, the spinner rotation speed was set to 1000 rpm, and a positive photosensitive resin having a thickness of about 2 μm was applied.
【００２２】（ｂ）工程 上記のように塗布された基板を、たとえば９０℃の温度
で２分間、ホットプレートによりプリベークした。 (B) Step The substrate coated as described above was pre-baked on a hot plate at a temperature of, for example, 90 ° C. for 2 minutes.
【００２３】（ｃ）工程 つぎにフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。こ
の露光は基板の法線方向にＵＶを用いて全面露光する。 (C) Step Next, exposure is performed using a photolithographic mask. This exposure is performed by using UV in the normal direction of the substrate.
【００２４】このフォトリソ用マスクを図３または図４
に示す。フォトマスク１９はガラス基板２０上にＣｒ金
属や酸化鉄などからなる多数の円状スポット２１（たと
えば１５μｍ径）をランダム状態に配置したものであ
り、画像表示面が５．７インチサイズである場合、一表
示面に対応するガラス基板２０上には約１０００万個の
スポットが配置される。This photolithographic mask is shown in FIG.
Shown in The photomask 19 is formed by arranging a large number of circular spots 21 (for example, 15 μm in diameter) made of Cr metal, iron oxide, or the like on a glass substrate 20 in a random state, and has a 5.7-inch image display surface. , About 10 million spots are arranged on the glass substrate 20 corresponding to one display surface.
【００２５】また、スポットは円状以外に、図４に示す
フォトマスク２２のように、たとえば四角形、五角形、
六角形、さらにそれ以上の多角形スポット２３であって
もよいが、見る方向によって散乱特性に違いが生じない
ように円形にするのがよい。そして、このスポット形状
とほぼ同一形状の凸部１７を形成される。The spot is not limited to a circle, but may be, for example, a square, a pentagon, or the like as shown in a photomask 22 shown in FIG.
It may be a hexagonal or even a polygonal spot 23, but it is better to make it circular so that there is no difference in the scattering characteristics depending on the viewing direction. Then, a convex portion 17 having substantially the same shape as the spot shape is formed.
【００２６】さらにスポット径およびスポット間隔を規
定するのが望ましい。すなわちスポット径を１〜５０μ
ｍに、好適には３〜１５μｍにすることで、同じレジス
ト膜厚で多くの凹凸を形成でき、良好な散乱特性が得ら
れる。しかも、各スポットの間隔を０．１〜２０μｍ、
好適には４〜７μｍにすることで、露光および現像の後
に凹凸性状が連続的につながり、これによって良好な散
乱特性が得られる。It is desirable to further define the spot diameter and the spot interval. That is, the spot diameter is 1 to 50 μm.
By setting m to be preferably 3 to 15 μm, many irregularities can be formed with the same resist film thickness, and good scattering characteristics can be obtained. Moreover, the distance between the spots is 0.1 to 20 μm,
When the thickness is preferably 4 to 7 μm, the irregularities are continuously connected after exposure and development, whereby good scattering characteristics can be obtained.
【００２７】（ｄ）工程 （ｃ）工程を経た後、現像をおこなう。現像液として
は、たとえばＪＳＲ株式会社製のＰＤ５２３ＡＤ（濃度
０．０５％）を使用する。そして、現像時間を変えるこ
とで現像の進行を加減することができるが、現像を適度
に止めることで、隣り合う各凸部間にて双方の端部が接
続され、連続的に繋がる。 (D) Step After the step (c), development is performed. As a developer, for example, PD523AD (concentration: 0.05%) manufactured by JSR Corporation is used. By changing the development time, the progress of the development can be controlled. However, by appropriately stopping the development, both ends are connected between the adjacent convex portions and are continuously connected.
【００２８】図５および図６により現像の進行程度によ
る凸部の状態を示す。図５において、現像時間による凹
凸高低差を示し、横軸は現像時間（秒）であり、縦軸は
凹凸高低差（μｍ）であり、黒点は測定データである。FIGS. 5 and 6 show the states of the convex portions depending on the progress of the development. In FIG. 5, the unevenness height difference according to the development time is shown, the horizontal axis is the development time (second), the vertical axis is the unevenness height difference (μm), and the black points are the measured data.
【００２９】現像時間が約２５秒までは時間の増大する
にしたがって凹凸高低差が大きくなるが、現像時間が約
２５秒を超えると、ガラス基板２が露出され、現像によ
る深度が一定になることで凹凸高低差の変動が非常に小
さくなっている。When the developing time is up to about 25 seconds, the height difference becomes larger as the time increases. However, when the developing time exceeds about 25 seconds, the glass substrate 2 is exposed and the depth of development becomes constant. , The fluctuation of the height difference is very small.
【００３０】図６においては、測定データである黒点の
うち（ａ）と（ｂ）と（ｃ）について、それぞれのガラ
ス基板２上の凸状配列群の断面形状を示す。FIG. 6 shows the cross-sectional shapes of the convex array groups on the respective glass substrates 2 for (a), (b) and (c) among the black spots which are the measurement data.
【００３１】たとえば、現像時間を２０秒にすればよい
が、この現像時間もレジスト塗布量、現像液濃度、プリ
ベーク条件等により適宜変えればよい。For example, the development time may be set to 20 seconds, and this development time may be appropriately changed depending on the resist coating amount, the developer concentration, the prebaking conditions, and the like.
【００３２】なお、（ｃ）工程の露光においては、ＵＶ
がフォトマスク１９、２２を通過することで干渉が生じ
ることで、これらマスクの直ぐ下の部分の樹脂もわずか
に光分解反応しているので、その後の現像工程（ｄ）に
より凸部の角部が丸くなる。In the exposure in step (c), UV
Is passed through the photomasks 19 and 22, causing interference, and the resin immediately below these masks also undergoes a slight photodecomposition reaction. Becomes round.
【００３３】（ｅ）工程 この加熱処理でもって、たとえば低温（１３０℃、２
分）にて表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させ
る。 Step (e) By this heat treatment, for example, a low temperature (130 ° C., 2
In (1), heat is melted to such an extent that the surface shape does not change significantly.
【００３４】（ｆ）工程 つぎのポストべークでもって、たとえば高温（２００
℃、３０分）にて全体を硬化させる。 (F) Process The post-bake subsequent to the high temperature (200
(C, 30 minutes).
【００３５】このように（ｅ）工程によって若干溶解さ
せて表面形状をなめらかにして、凹凸形状に対し微調整
をおこない、ついで（ｆ）工程により硬化させる。As described above, the surface shape is smoothed by slightly dissolving in the step (e), fine adjustment is performed on the uneven shape, and then curing is performed in the step (f).
【００３６】（ｇ）工程 最後に凸状配列群上にスパッタリングや蒸着法でもって
クロムやアルミニウム、銀などの金属からなる光反射層
４を、たとえば膜厚１０００Åで被覆する。 (G) Finally, the light reflecting layer 4 made of a metal such as chromium, aluminum, or silver is coated on the convex array group by sputtering or vapor deposition to a thickness of, for example, 1000 °.
【００３７】以上の各工程（ａ）〜（ｇ）を経て得られ
た光反射層４が被覆された凸状配列群に対し、その表面
性状をスキャニングしたり、写真撮影をおこなった。With respect to the convex array group coated with the light reflecting layer 4 obtained through the above steps (a) to (g), the surface properties were scanned or photographed.
【００３８】図７はキーエンス製表面形状測定顕微鏡を
用いて、その形状をスキャニングしたものであって、横
軸（Ｘ）はスキャニング方向であり、縦軸（Ｚ）は高さ
を示し、各単位はμｍである。FIG. 7 shows the result of scanning the shape using a surface shape measuring microscope manufactured by KEYENCE. The horizontal axis (X) indicates the scanning direction, the vertical axis (Z) indicates the height, and each unit. Is μm.
【００３９】また、図８は光学式顕微鏡（オリンパス製
ＢＨ３ＭＪＬ）を用いて５００倍にて写真撮影した撮影
図である。FIG. 8 is a photograph taken at a magnification of 500 times using an optical microscope (BH3MJL manufactured by Olympus).
【００４０】これらの図から明らかなとおり、熱溶融に
より凸部が滑らかな形状になり、さらに隣り合う各凸部
が接続されている。As is clear from these figures, the convex portions have a smooth shape due to the heat melting, and the adjacent convex portions are further connected.
【００４１】かくして本発明の液晶表示装置１６によれ
ば、凸状配列群の隣り合う各凸部１７が接続されている
ので、各凸部１７の間に前述したような平坦部Ｈが存在
しなくなり、これにより、凸状配列群の平坦度が低下
し、正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、その結
果、視野角が広くなった。Thus, according to the liquid crystal display device 16 of the present invention, since the adjacent convex portions 17 of the convex array group are connected, the flat portion H as described above exists between the convex portions 17. As a result, the flatness of the convex array group was reduced, the specular reflection component was reduced, and the light scattering property was improved. As a result, the viewing angle was widened.
【００４２】なお、写真にて確認した限りでは、凸状配
列群における隣り合う各凸部１７がほぼ全面的に接続さ
れているが、部分的にわずかに非接続部分があっても光
散乱性が改善されることから本発明の技術範囲内であ
る。It should be noted that the adjacent projections 17 in the projection array group are almost completely connected as far as it is confirmed from the photograph. Is within the technical scope of the present invention since the above is improved.
【００４３】また、凸状配列群を形成するに当たり、
（ｅ）工程の加熱処理（表面形状が大きく変化しない程
度の熱溶融工程）を除外して、その他の各工程（ａ）〜
（ｄ）、（ｆ）、（ｇ）でもって形成してもよい。In forming the convex array group,
Except for the heat treatment in the step (e) (a heat melting step in which the surface shape does not significantly change), each of the other steps (a) to
(D), (f), and (g).
【００４４】このように（ｅ）工程が除かれた形成方法
によって光反射層４が被覆された凸状配列群を設け、そ
の表面性状をスキャニングしたところ、図９に示すよう
な結果が得られた。熱溶融しない場合には、凸部形状は
上面に若干の平坦部が存在することがわかるが、同様に
正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、視野角が広
くなった。By providing the convex array group covered with the light reflecting layer 4 by the forming method excluding the step (e), and scanning the surface properties, the result shown in FIG. 9 is obtained. Was. When heat melting is not performed, it can be seen that the convex shape has a slight flat portion on the upper surface, but similarly the specular reflection component is reduced, the light scattering property is improved, and the viewing angle is widened.
【００４５】他の反射型液晶表示装置 つぎに他の反射型液晶表示装置を説明する。ただし、凸
部１７に対する好適な数値範囲については、以下の各種
反射型液晶表示装置に対しても適用される。[0045] describing the other reflective liquid crystal display device then other reflective type liquid crystal display device. However, the preferred numerical range for the convex portion 17 is also applied to the following various reflective liquid crystal display devices.
【００４６】図１０に示すカラー表示用の反射型液晶表
示装置２５においては、２６はコモン側のガラス基板
（０．７ｍｍ厚）、２７はセグメント側のガラス基板
（０．７ｍｍ厚）であって、前記一方部材については、
ガラス基板２６の一方主面上に樹脂からなるほぼ半球状
の凸部１７を多数配列することで、前記液晶表示装置１
６と同じようなランダム性の凸状配列群を形成し、この
凸状配列群上にクロムやアルミニウム、銀などの金属か
らなる光反射層４（膜厚１０００Å）を被覆している。
そして、凸状配列群上に画素ごとに配したカラーフィル
タ７を形成している。さらにアクリル系樹脂からなるオ
ーバーコート層８と、多数平行に配列したＩＴＯからな
る透明電極２８とを形成している。この透明電極２８上
に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向
膜２９を形成している。In the reflection type liquid crystal display device 25 for color display shown in FIG. 10, 26 is a common side glass substrate (0.7 mm thick), and 27 is a segment side glass substrate (0.7 mm thick). , For the one member,
By arranging a large number of substantially hemispherical protrusions 17 made of resin on one main surface of a glass substrate 26, the liquid crystal display device 1
A convex array group having randomness similar to that of 6 is formed, and the light reflective layer 4 (thickness: 1000 °) made of a metal such as chromium, aluminum, or silver is coated on the convex array group.
Then, a color filter 7 arranged for each pixel is formed on the convex array group. Further, an overcoat layer 8 made of an acrylic resin and a plurality of transparent electrodes 28 made of ITO arranged in parallel are formed. On the transparent electrode 28, an alignment film 29 made of a polyimide resin rubbed in a certain direction is formed.
【００４７】前記光反射層４には上記金属層に代えて、
金属層と低屈折率層と高屈折率層とを順次積層したもの
であってもよい。かかる高屈折率層と低屈折率層につい
ては、双方間にて屈折率に差があればよく、さまざまな
材料でもって構成できる。たとえば、高屈折率層の屈折
率は２．０〜２．７の範囲にするよく、そのためにＴｉ
Ｏ2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ2 などで構成するとよく、低屈
折率層の屈折率は１．３〜１．７の範囲にするよく、そ
のためにＳｉＯ2 、ＡｌＦ3 、ＣａＦ2 、ＭｇＦ2 など
で構成するとよい。The light reflecting layer 4 is replaced with the above metal layer,
A metal layer, a low refractive index layer, and a high refractive index layer may be sequentially laminated. The high refractive index layer and the low refractive index layer only need to have a difference in the refractive index between them, and can be made of various materials. For example, the refractive index of the high refractive index layer may be in the range of 2.0 to 2.7, and
O 2, ZrO 2, well when configured SnO 2 or the like, the refractive index of the low refractive index layer may be in the range of 1.3~1.7, SiO 2, AlF 3, CaF 2, MgF 2 , etc. For this purpose It is good to configure.
【００４８】なお、配向膜２９は透明電極２８上に直に
成膜形成しているが、配向膜２９と透明電極２８との間
に樹脂やＳｉＯ2 などからなる絶縁膜を介在させてもよ
く、しかも、オーバーコート層８は設けなくてもよい。
さらに凸状配列群上に樹脂やＳｉＯ2 からなる平滑膜を
形成し、この平滑膜上に画素ごとに配したカラーフィル
タ７を形成してもよい。Although the alignment film 29 is formed directly on the transparent electrode 28, an insulating film made of resin or SiO 2 may be interposed between the alignment film 29 and the transparent electrode 28. Moreover, the overcoat layer 8 need not be provided.
Further, a smooth film made of resin or SiO 2 may be formed on the convex array group, and the color filter 7 arranged for each pixel may be formed on the smooth film.
【００４９】他方部材については、ガラス基板２７上に
多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極３０と、一
定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜３
１とを順次形成している。透明電極３０と配向膜３１と
の間に樹脂やＳｉＯ2 からなる絶縁層を介在させてもよ
い。As for the other member, a transparent electrode 30 made of ITO arranged in parallel on a glass substrate 27 and an alignment film 3 made of polyimide resin rubbed in a certain direction.
1 are sequentially formed. An insulating layer made of resin or SiO 2 may be interposed between the transparent electrode 30 and the alignment film 31.
【００５０】そして、上記構成の一方部材および他方部
材を液晶１１を介してシール部材１２により貼り合わせ
る。さらにガラス基板２７の外側にポリカーボネイトな
どからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差フィル
ム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成する。Then, the one member and the other member having the above structure are bonded together with the seal member 12 through the liquid crystal 11. Further, a first retardation film 13, a second retardation film 14, and an iodine-based polarizing plate 15 made of polycarbonate or the like are sequentially formed outside the glass substrate 27.
【００５１】上記構成の液晶表示装置２５においては、
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光はガラス基
板２７を通過し、液晶１１、カラーフィルタ７などを通
して光反射層４に到達し、光反射層４にて光反射され、
その反射光が出射される。In the liquid crystal display device 25 having the above configuration,
Incident light from external illumination such as sunlight or a fluorescent lamp passes through the glass substrate 27, reaches the light reflection layer 4 through the liquid crystal 11, the color filter 7, and the like, is reflected by the light reflection layer 4,
The reflected light is emitted.
【００５２】かくして本発明の液晶表示装置２５におい
ても、凸状配列群の隣り合う各凸部１７を上述のように
接続形成することで、各凸部１７の間に平坦部Ｈが存在
しなくなり、これにより、凸状配列群の平坦度が低下
し、正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、その結
果、視野角が広くなった。Thus, also in the liquid crystal display device 25 of the present invention, the adjacent convex portions 17 of the convex array group are connected and formed as described above, so that the flat portion H does not exist between the convex portions 17. Thereby, the flatness of the convex array group was reduced, the specular reflection component was reduced, and the light scattering property was improved. As a result, the viewing angle was widened.
【００５３】上記液晶表示装置２５においては、ガラス
基板２６上に凸部１７を多数配列してランダム性の凸状
配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射層４を被覆
した構成であるが、これに代えてガラス基板２７上に凸
部を多数配列した凸状配列群を形成し、この凸状配列群
上に光反射層を被覆し、そして、樹脂やＳｉＯ2 などか
らなる平滑膜を形成し、その上に多数平行に配列したＩ
ＴＯからなる透明電極３０と、一定方向にラビングした
ポリイミド樹脂からなる配向膜３１とを順次形成し、第
１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４と偏光
板１５をガラス基板２６の外面に配設し、ガラス基板２
６側より光入射するように構成してもよい。The liquid crystal display device 25 has a configuration in which a large number of convex portions 17 are arranged on a glass substrate 26 to form a random convex arrangement group, and the light reflection layer 4 is coated on the convex arrangement group. However, instead of this, a convex array group in which a large number of convex portions are arrayed on the glass substrate 27 is formed, a light reflecting layer is coated on the convex array group, and made of resin, SiO 2, or the like. A smooth film is formed, and a large number of I
A transparent electrode 30 made of TO and an alignment film 31 made of a polyimide resin rubbed in a certain direction are sequentially formed, and the first retardation film 13, the second retardation film 14, and the polarizing plate 15 are formed on the outer surface of the glass substrate 26. Arranged, glass substrate 2
It may be configured such that light enters from the sixth side.
【００５４】光散乱性の測定 つぎに図１１に示すような液晶表示装置１６の仮想構造
である反射部材３２を作成した。 Measurement of Light Scattering Property Next, a reflecting member 32 having a virtual structure of the liquid crystal display device 16 as shown in FIG. 11 was prepared.
【００５５】反射部材３２はガラス基板２の上に前述と
おりに隣り合う各凸部１７間にて接続された凸状配列群
を形成し、この凸状配列群上に光反射層４（膜厚１００
０Å）を被覆し、その上にアクリル系の樹脂から成る透
明樹脂層３３（屈折率：１．５３）を５０μｍ程度の厚
みでもって形成し、さらにガラス基板６を配設したもの
である。As described above, the reflection member 32 is formed on the glass substrate 2 with a convex array group connected between the adjacent convex portions 17, and the light reflecting layer 4 (film thickness) is formed on the convex array group. 100
0 °), a transparent resin layer 33 made of acrylic resin (refractive index: 1.53) having a thickness of about 50 μm is formed thereon, and a glass substrate 6 is further provided.
【００５６】そして、反射部材３２に対する法線から３
０°の角度でもって入射光（光源：ハロゲンランプ）を
投光し、その反射光の輝度を、その法線からの角度を変
えることで測定し、その反射率を測定したところ、図１
２に示すような結果が得られた。なお、反射率は標準白
色板基準（ＪＩＳ）に基づいてＭｇＯに光を照射し、そ
の反射率を１００％として、その相対値でもって表す。From the normal to the reflection member 32, 3
When the incident light (light source: halogen lamp) was projected at an angle of 0 °, the luminance of the reflected light was measured by changing the angle from the normal line, and the reflectance was measured.
The result as shown in FIG. 2 was obtained. The reflectivity is expressed by a relative value with MgO being irradiated with light based on the standard white plate standard (JIS), with the reflectivity being 100%.
【００５７】このように形成した凸状配列群において、
図２に示すように（ａ）〜（ｇ）の各工程すべてを経て
凸状配列群を形成した場合を（イ）、（ｅ）工程の熱溶
融処理を除外して形成した場合を（ロ）とした。In the convex array group formed as described above,
As shown in FIG. 2, the case where the convex array group is formed through all of the steps (a) to (g) is (a), and the case where the convex array group is formed excluding the heat melting treatment in the step (e) is (b). ).
【００５８】また、上記反射部材３２において、隣り合
う各凸部１７間にて接続された凸状配列群に代えて、従
来の液晶表示装置１に形成したような各凸部１７が離隔
した凸状配列群を設けて、同じ評価実験をおこなったと
ころ、（ハ）の結果が得られた。In the reflection member 32, instead of the convex arrangement group connected between the adjacent convex portions 17, the convex portions 17 formed in the conventional liquid crystal display device 1 are separated from each other. When the same evaluation experiment was performed by providing a group of arrayed shapes, the result of (c) was obtained.
【００５９】図１２から明らかなとおり、本発明の
（イ）および（ロ）については、従来の構成に係る
（ハ）に比べ、凸部による光散乱性を向上し、これによ
り、視野角が広くなった。とくに（イ）は凸部に対する
滑らかさに優れていることで、（ロ）に比べて視野角が
広くなった。As is clear from FIG. 12, in (a) and (b) of the present invention, the light scattering property by the convex portion is improved as compared with (c) according to the conventional configuration, and thereby the viewing angle is reduced. Widened. In particular, (a) is excellent in smoothness with respect to the convex portion, so that the viewing angle is wider than (b).
【００６０】また、本発明の反射型液晶表示装置１６
（散乱反射型）と、従来の機能分離型の反射型液晶表示
装置について、コントラストおよび反射率を測定したと
ころ、下記のような結果が得られた。The reflection type liquid crystal display device 16 of the present invention
When the contrast and the reflectance of the (scattering reflection type) and the conventional function-separation type reflection type liquid crystal display device were measured, the following results were obtained.
【００６１】散乱反射型の反射型液晶表示装置 コントラスト：１１．５ 白表示時の反射率（％）：１３．４ 黒表示時の反射率（％）：１．１７機能分離型の反射型液晶表示装置 コントラスト：５．５ 白表示時の反射率（％）：１３．７ 黒表示時の反射率（％）：２．４７ この結果から明らかなとおり、本発明の反射型液晶表示
装置１６は従来の機能分離型の反射型液晶表示装置に比
べてコントラストが約２倍に向上し、光散乱性について
も散乱反射型の方が向上した。Diffuse reflection type reflection type liquid crystal display device Contrast: 11.5 Reflectivity (%) at the time of white display: 13.4 Reflectivity (%) at the time of black display: 1.17 Reflection type liquid crystal of function separation type Display device contrast: 5.5 Reflectivity at the time of white display (%): 13.7 Reflectance at the time of black display (%): 2.47 As is clear from the results, the reflection type liquid crystal display device 16 of the present invention is Compared to the conventional function-separation type reflection type liquid crystal display device, the contrast is improved about twice, and the light scattering property of the scattering reflection type is also improved.
【００６２】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
るものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々
の変更や改善などは何ら差し支えない。The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements may be made without departing from the scope of the present invention.
【００６３】たとえば、上記の実施形態においては、Ｓ
ＴＮ型単純マトリックスタイプのカラー液晶表示装置で
もって説明しているが、その他にモノクロのＳＴＮ型単
純マトリックスタイプの液晶表示装置であっても、ある
いはＴＮ型単純マトリックスタイプの液晶表示装置やＴ
Ｎ型アクティブマトリックスタイプなどのツイストネマ
チック型液晶表示装置であっても、さらに双安定型の液
晶表示装置でも同様な作用効果が得られる。For example, in the above embodiment, S
Although the description is made with reference to a TN type simple matrix type color liquid crystal display device, a monochrome STN type simple matrix type liquid crystal display device, a TN type simple matrix type liquid crystal display device, or a TN type simple matrix type liquid crystal display device may be used.
The same operation and effect can be obtained with a twisted nematic liquid crystal display device such as an N-type active matrix type liquid crystal display device and a bistable liquid crystal display device.
【００６４】[0064]
【発明の効果】以上のとおり、本発明の反射型液晶表示
装置によれば、散乱反射型にて設けた凸状配列群を構成
する各凸部において、隣り合う各凸部が接続されている
ことで、光散乱性能が向上し、視野角が広くなり、これ
によって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信頼性の反
射型液晶表示装置が提供できた。As described above, according to the reflection type liquid crystal display device of the present invention, adjacent convex portions are connected to each other in the convex arrangement group provided in the scattering reflection type. As a result, the light scattering performance was improved and the viewing angle was widened, whereby a high-performance and highly reliable reflective liquid crystal display device having good display characteristics could be provided.
【００６５】しかも、発明においては、凸状配列群を形
成するに際し、現像の進行を適度に止めることで、隣り
合う各凸部間にて双方の端部が接続され、連続的に繋が
ることから生産コストを低減できた。Further, in the present invention, when forming the convex array group, by appropriately stopping the progress of the development, both ends are connected between the adjacent convex portions, so that they are continuously connected. Production costs were reduced.
【図１】本発明の反射型液晶表示装置の断面概略図であ
る。FIG. 1 is a schematic sectional view of a reflective liquid crystal display device of the present invention.
【図２】（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ），
（ｆ），（ｇ）は凸状配列群を形成するための各工程図
である。FIGS. 2 (a), (b), (c), (d), (e),
(F), (g) is each process drawing for forming a convex array group.
【図３】本発明に係る凸状配列群のランダム性を示すフ
ォトマスクの平面図である。FIG. 3 is a plan view of a photomask showing the randomness of a convex array group according to the present invention.
【図４】本発明に係る凸状配列群のランダム性を示す他
のフォトマスクの平面図である。FIG. 4 is a plan view of another photomask showing the randomness of the convex array group according to the present invention.
【図５】凸状配列群の形成に係る現像時間と凸状配列群
の凹凸高低差との関係を示す線図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a relationship between a developing time for forming a convex array group and a height difference of the convex and concave groups of the convex array group.
【図６】（ａ），（ｂ），（ｃ）は凸状配列群の形成に
係る現像時間に違いによる光感光性樹脂層の形状変化を
示す概略図である。FIGS. 6A, 6B, and 6C are schematic diagrams showing a shape change of a photosensitive resin layer due to a difference in development time for forming a convex array group.
【図７】本発明に係る凸状配列群の断面拡大図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a convex array group according to the present invention.
【図８】本発明に係る凸状配列群の写真図である。FIG. 8 is a photograph of a group of convex arrays according to the present invention.
【図９】本発明に係る他の凸状配列群の断面拡大図であ
る。FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view of another convex array group according to the present invention.
【図１０】本発明の他の反射型液晶表示装置の断面概略
図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of another reflection type liquid crystal display device of the present invention.
【図１１】反射特性を測定するための仮想部材の断面概
略図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a virtual member for measuring reflection characteristics.
【図１２】反射型液晶表示装置の散乱特性を示す図であ
る。FIG. 12 is a diagram illustrating scattering characteristics of a reflective liquid crystal display device.
【図１３】従来の反射型液晶表示装置の断面概略図であ
る。FIG. 13 is a schematic sectional view of a conventional reflection type liquid crystal display device.
１ 液晶表示装置 ２、６、２６、２７ ガラス基板 ３ 凸部 ４ 光反射層 ５、１０、２９、３１ 配向膜 ７ カラーフィルタ ９、２８、３０ 透明電極 １１ 液晶 １６、２５ 反射型液晶表示装置 １７ 凸部 １８ 電極 １９、２２ フォトマスク Ｈ 平坦部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Liquid crystal display device 2, 6, 26, 27 Glass substrate 3 Convex part 4 Light reflection layer 5, 10, 29, 31 Alignment film 7 Color filter 9, 28, 30 Transparent electrode 11 Liquid crystal 16, 25 Reflection type liquid crystal display device 17 Convex part 18 Electrode 19, 22 Photomask H Flat part
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成１２年３月１５日（２０００．３．１
５）[Submission date] March 15, 2000 (200.3.1.
5)
【手続補正１】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】全文[Correction target item name] Full text
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【書類名】明細書[Document Name] Statement
【発明の名称】反射型液晶表示装置の製法[Title of the Invention] Manufacturing method of reflective liquid crystal display device
【特許請求の範囲】[Claims]
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は反射型液晶表示装置
の製法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a reflection type liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、液晶表示装置は小型もしくは中型
の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精
細のモニターにまで使用されている。さらにバックライ
トを使用しない反射型液晶表示装置の技術も開発されて
おり、薄型、軽量および低消費電力化に優れている。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been used for large and high-definition monitors in addition to small or medium-sized portable information terminals and notebook computers. Further, a technology of a reflective liquid crystal display device that does not use a backlight has been developed, and is excellent in thinness, light weight, and low power consumption.
【０００３】反射型液晶表示装置には、後方に配設した
基板の面上に鏡面にした光反射層を設け、前方に配設し
た基板の外側に散乱板を設けた機能分離型と、後方に配
設した基板に対し凹凸形状の光反射層を形成した散乱反
射型とがあるが、双方の型ともにバックライトを用いな
いことで、周囲の光を有効に利用している。[0003] A reflection type liquid crystal display device is provided with a mirror-reflecting layer on the surface of a substrate provided on the rear side, and a function separation type in which a scattering plate is provided on the outside of the substrate provided on the front side. There is a scattering-reflection type in which a light reflection layer having an uneven shape is formed on the substrate disposed in the above-mentioned configuration. However, both types effectively utilize ambient light by not using a backlight.
【０００４】散乱反射型液晶表示装置を図１３に示す
（特開平４−２４３２２６号参照）。液晶表示装置１に
おいて、ガラス基板２の上にフォトリソ工程により樹脂
からなるほぼ半球状の凸部３を多数ランダムに並べるこ
とで凸状配列群を形成し、凸状配列群上に金属からなる
光反射層４を被覆し、光反射層４上に配向膜５を被覆
し、また、ガラス基板６上にカラーフィルタ７を形成
し、カラーフィルタ７の上にオーバーコート層８を被覆
し、オーバーコート層８上にＩＴＯなどからなる透明電
極９を帯状に複数配列し、さらに配向膜１０を被覆す
る。そして、双方の基板を液晶１１を介して対向配設
し、液晶１１はシール部材１２により囲まれた領域内に
充填され、ガラス基板６の外面に第１位相差フィルム１
３と第２位相差フィルム１４と偏光板１５とを順次形成
する。FIG. 13 shows a scattering-reflection type liquid crystal display device (see JP-A-4-243226). In the liquid crystal display device 1, a plurality of substantially hemispherical convex portions 3 made of resin are randomly arranged on a glass substrate 2 by a photolithography process to form a convex array group, and a light made of metal is formed on the convex array group. The reflective layer 4 is coated, the alignment film 5 is coated on the light reflective layer 4, the color filter 7 is formed on the glass substrate 6, the overcoat layer 8 is coated on the color filter 7, A plurality of transparent electrodes 9 made of ITO or the like are arranged in a strip shape on the layer 8, and further covered with an alignment film 10. Then, both substrates are disposed to face each other with the liquid crystal 11 interposed therebetween, and the liquid crystal 11 is filled in a region surrounded by the seal member 12, and the first retardation film 1
3, a second retardation film 14 and a polarizing plate 15 are sequentially formed.
【０００５】上記光反射層４については、凸状配列群上
にＡｌなどの金属膜をスパッタリングにより被覆する。
このＡｌ膜は多数の帯を平行に配列したものであり、各
帯状膜が個々の電極（光反射層４）に相当する。The light reflecting layer 4 is formed by coating a metal film such as Al on the convex array group by sputtering.
The Al film has a number of bands arranged in parallel, and each band-like film corresponds to an individual electrode (light reflection layer 4).
【０００６】上記構成の液晶表示装置１においては、偏
光板１５、第２位相差フィルム１４、ガラス基板６およ
び液晶１１を通して光入射されると、入射光が光反射層
４にて光反射され、その反射光がふたたび液晶１１を通
して出射されることで散乱反射型の装置構成となる。In the liquid crystal display device 1 having the above structure, when light enters through the polarizing plate 15, the second retardation film 14, the glass substrate 6, and the liquid crystal 11, the incident light is reflected by the light reflecting layer 4, The reflected light is emitted again through the liquid crystal 11 to form a scattered reflection type device configuration.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の液晶表示装置１においては、フォトリソ工程により
凸状配列群を形成するに際し、再現性と量産性を高める
ために各凸部３を隔離させるが、その反面、各凸部３の
間に平坦部Ｈが存在し、この平坦部Ｈ上にも光反射層４
としてＡｌ膜が被覆され、これにより、凸状配列群の平
坦度が上がり、正反射成分が増大し、その結果、光散乱
性が低下していた。However, in the liquid crystal display device 1 having the above structure, when forming the convex array group by the photolithography process, each convex portion 3 is isolated in order to enhance reproducibility and mass productivity. On the other hand, a flat portion H exists between the convex portions 3, and the light reflecting layer 4 also exists on the flat portion H.
As a result, the flatness of the convex array group was increased, the regular reflection component was increased, and as a result, the light scattering property was reduced.
【０００８】この課題を解消するために、ふたたびフォ
トリソ工程でもって平坦部Ｈ上に凸部を設けたり、ある
いは凸状配列群上に樹脂を被覆して滑らかにする技術が
提案されているが、そのような工程を加えることで生産
コストが上がっていた。In order to solve this problem, a technique has been proposed in which a convex portion is provided on the flat portion H again by a photolithography process, or a resin is coated on a convex array group to smooth the resin. The addition of such a process increased production costs.
【０００９】したがって本発明の目的は凸状配列群によ
る光散乱性を向上させることで、視野角を広くし、これ
によって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信頼性の反
射型液晶表示装置の製法を提供することにある。Accordingly, an object of the present invention is to improve the light scattering property of the convex array group to widen the viewing angle, thereby providing a high-performance and highly reliable reflective liquid crystal display device having good display characteristics. It is to provide a manufacturing method.
【００１０】また、本発明の他の目的は生産コストを下
げて、かかる高性能かつ高信頼性の反射型液晶表示装置
の製法を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing such a high-performance and highly reliable reflective liquid crystal display device at a reduced production cost.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の反射型液晶表示
装置の製法は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部を
ランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群
上に光反射性電極を被覆し、光反射性電極上に配向層を
積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向
層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型
液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめて
なる構成において、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程も
しくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て
前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめた
ことを特徴とする。 （ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。 （ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。 （ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のス
ポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置
したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。 （ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続さ
れ連続的に繋がるまで現像をおこなう。 （ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度
に熱溶融させる。 （ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。According to a method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device of the present invention, a convex array group in which a large number of resin convex portions are randomly arranged is formed on one main surface of a substrate. Between one member formed by coating a light-reflective electrode on the array group and laminating an alignment layer on the light-reflective electrode, and the other member formed by sequentially laminating a transparent electrode and an alignment layer on a transparent substrate In a configuration in which pixels are arranged in a matrix with a nematic liquid crystal interposed therebetween, the following steps (a) to (f) or the following steps (a) to (d) and (f) are sequentially performed. In this case, adjacent convex portions in the convex array group are connected to each other. (A) Step: A photosensitive resin is applied and formed on a substrate. Step (b): pre-baking the coated substrate. Step (c): The prebaked substrate is exposed using a photolithographic mask in which a large number of spots are randomly arranged at intervals of 0.1 to 20 μm. Step (d): Development is performed until both ends are connected between the adjacent convex portions and are continuously connected. Step (e): heat melting is performed so that the surface shape of each projection does not change significantly. (F) Step: Each protrusion is cured by heating.
【００１２】本発明の他の反射型液晶表示装置の製法
は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに
並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射
膜を被覆し、光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積
層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層
とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液
晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてな
る構成において、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もし
くは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前
記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたこ
とを特徴とする。 （ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。 （ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。 （ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のス
ポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置
したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。 （ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続さ
れ連続的に繋がるまで現像をおこなう。 （ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度
に熱溶融させる。 （ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。According to another method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device of the present invention, a convex array group in which a number of resin convex portions are randomly arranged is formed on one main surface of a substrate, and the convex array group is formed on the convex array group. The light reflecting film is coated, and one member formed by sequentially laminating a transparent electrode and an alignment layer on the light reflecting film, and the other member formed by sequentially laminating a transparent electrode and an alignment layer on a transparent substrate In a configuration in which pixels are arranged in a matrix with a nematic liquid crystal interposed, the following steps (a) to (f) or the following steps (a) to (d) and (f) are sequentially performed. The present invention is characterized in that adjacent convex portions in the convex array group are connected. (A) Step: A photosensitive resin is applied and formed on a substrate. Step (b): pre-baking the coated substrate. Step (c): The prebaked substrate is exposed using a photolithographic mask in which a number of spots are randomly arranged at intervals of 0.1 to 20 μm. Step (d): Development is performed until both ends are connected between the adjacent convex portions and are continuously connected. Step (e): heat melting is performed so that the surface shape of each projection does not change significantly. (F) Step: Each protrusion is cured by heating.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明を図１〜図１２によ
って詳述する。図１は反射型液晶表示装置の断面概略
図、図２は凸状配列群の形成工程図、図３は凸状配列群
を形成するためのフォトマスクの平面図、図４は他のフ
ォトマスクの平面図である。また、図５は現像時間と凸
状配列群の凹凸高低差との関係を示し、図６は現像時間
の違いによる光感光性樹脂層の形状変化を示す。図７は
凸状配列群の拡大図、図８は凸状配列群の写真図であっ
て、図９は他の凸状配列群の拡大図である。さらに図１
０は本発明の他の反射型液晶表示装置の断面概略図、図
１１は反射特性を測定するための仮想部材の断面概略図
である。図１２は仮想部材の散乱特性を示す。なお、図
１３に示す従来の液晶表示装置１と同一箇所には同一符
号を付す。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a reflection type liquid crystal display device, FIG. 2 is a process diagram of forming a convex array group, FIG. 3 is a plan view of a photomask for forming the convex array group, and FIG. FIG. FIG. 5 shows the relationship between the development time and the height difference of the convex arrangement group, and FIG. 6 shows the shape change of the photosensitive resin layer due to the difference in the development time. 7 is an enlarged view of the convex array group, FIG. 8 is a photograph of the convex array group, and FIG. 9 is an enlarged view of another convex array group. Further FIG.
0 is a schematic sectional view of another reflection type liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 11 is a schematic sectional view of a virtual member for measuring reflection characteristics. FIG. 12 shows the scattering characteristics of the virtual member. The same parts as those in the conventional liquid crystal display device 1 shown in FIG.
【００１４】反射型液晶表示装置 図１によりカラー表示用の反射型液晶表示装置１６を説
明する。２はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ
厚）、６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であ
って、前記一方部材については、ガラス基板２の一方主
面上に樹脂からなるほぼ半球状の凸部１７（径：１０〜
１５μｍ）を多数配列することで凸状配列群を形成し、
凸状配列群上にクロムやアルミニウム、銀などの金属か
らなる光反射層４を膜厚１０００Åで被覆している。光
反射層４は多数の帯を平行に配列したものであり、各帯
状膜が個々の電極１８に相当する。[0014] illustrating the reflection type liquid crystal display device 16 for color display by reflection type liquid crystal display device Figure 1. 2 is a segment side glass substrate (0.7 mm
Thickness) and 6 are glass substrates (0.7 mm thick) on the common side. For the one member, a substantially hemispherical convex portion 17 (diameter: 10 to 10) made of resin is formed on one main surface of the glass substrate 2.
15 μm) to form a convex array group by arranging a large number of
A light reflecting layer 4 made of a metal such as chromium, aluminum, or silver is coated on the convex array group with a thickness of 1000 °. The light reflecting layer 4 has a number of bands arranged in parallel, and each band-like film corresponds to an individual electrode 18.
【００１５】そして、光反射層４上に一定方向にラビン
グしたポリイミド樹脂からなる配向膜５を被覆する。光
反射層４を被覆した凸状配列群と配向膜５との間に樹脂
やＳｉＯ2からなる平滑膜をスパッタリング法やディッ
プ法、印刷法、スピンナー法等でもって形成してもよ
い。Then, an alignment film 5 made of a polyimide resin rubbed in a certain direction is coated on the light reflection layer 4. A smooth film made of resin or SiO 2 may be formed between the convex array group coated with the light reflection layer 4 and the alignment film 5 by a sputtering method, a dipping method, a printing method, a spinner method, or the like.
【００１６】前記他方部材については、ガラス基板６上
に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成している。
カラーフィルタ７は顔料分散方式、すなわちあらかじめ
顔料（赤、緑、青）により調合された感光性レジストを
基板上に塗布し、フォトリソグラフィにより形成してい
る。その上にアクリル系樹脂からなるオーバーコート層
８と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極９と
を形成している。透明電極９は上記電極１８と直交して
いる。ただし、オーバーコート層８は必須不可欠ではな
く、カラーフィルタ７上に直に透明電極９を形成するこ
とで、オーバーコート層８を除外してもよい。さらに透
明電極９上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂か
らなる配向膜１０を形成している。なお、配向膜１０は
透明電極９上に直に成膜形成しているが、配向膜１０と
透明電極９との間に樹脂やＳｉＯ 2などからなる絶縁膜
を介在させてもよい。The other member is provided on the glass substrate 6.
A color filter 7 arranged for each pixel is formed.
The color filter 7 is a pigment dispersion method, that is,
Photosensitive resist formulated with pigments (red, green, blue)
Coated on a substrate and formed by photolithography.
You. Overcoat layer made of acrylic resin on top
8 and a number of transparent electrodes 9 made of ITO arranged in parallel.
Is formed. The transparent electrode 9 is orthogonal to the electrode 18
I have. However, the overcoat layer 8 is not essential.
In addition, the transparent electrode 9 can be formed directly on the color filter 7.
Thus, the overcoat layer 8 may be excluded. More transparent
Polyimide resin rubbed in a certain direction on bright electrode 9
The alignment film 10 is formed. In addition, the alignment film 10
Although the film is formed directly on the transparent electrode 9,
Resin or SiO between transparent electrode 9 TwoInsulation film consisting of
May be interposed.
【００１７】そして、上記構成の一方部材および他方部
材を、たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされ
たカイラルネマチック液晶からなる液晶１１を介してシ
ール部材１２により貼り合わせる。また、両部材間には
液晶１１の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配
している。Then, the one member and the other member having the above structure are bonded together by a seal member 12 via a liquid crystal 11 composed of a chiral nematic liquid crystal twisted at an angle of, for example, 200 to 260 °. A large number of spacers are arranged between the two members to keep the thickness of the liquid crystal 11 constant.
【００１８】さらにガラス基板６の外側にポリカーボネ
イトなどからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差
フィルム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成す
る。これらの配設については、アクリル系の材料からな
る粘着材を塗布することで貼り付ける。Further, a first retardation film 13 made of polycarbonate or the like, a second retardation film 14, and an iodine polarizing plate 15 are sequentially formed on the outside of the glass substrate 6. About these arrangement | positioning, it sticks by applying the adhesive material which consists of an acrylic material.
【００１９】上記構成の液晶表示装置１６においては、
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板１
５、第２位相差フィルム１４、第１位相差フィルム１３
を通して、さらにガラス基板６を通過し、カラーフィル
タ７、液晶１１を通して光反射層４に到達し、光反射層
４にて光反射され、その反射光が出射される。In the liquid crystal display device 16 having the above configuration,
Incident light from external lighting such as sunlight or fluorescent light is polarized
5, second retardation film 14, first retardation film 13
, Further pass through the glass substrate 6, reach the light reflection layer 4 through the color filter 7 and the liquid crystal 11, are reflected by the light reflection layer 4, and the reflected light is emitted.
【００２０】〔凸状配列群の形成方法〕ガラス基板２上
の凸状配列群は、図２に示すように（ａ）〜（ｇ）の各
工程を経て形成する。[Method of forming convex array group] The convex array group on the glass substrate 2 is formed through the steps (a) to (g) as shown in FIG.
【００２１】（ａ）工程 ジエチレングリコールメチルエチルエーテルを溶媒とす
る光感光性樹脂（商品：ＰＣ３３９Ｈ・ＪＳＲ株式会社
製）をスピンコート塗布する。この樹脂の膜厚はスピン
ナ回転数により制御でき、本例ではスピンナ回転数を１
０００ｒｐｍにして２μｍ程度の厚さのポジ型光感光性
樹脂を塗布した。 (A) Step A photosensitive resin (product: PC339H, manufactured by JSR Corporation) using diethylene glycol methyl ethyl ether as a solvent is spin-coated. The thickness of this resin can be controlled by the spinner rotation speed.
A positive type photosensitive resin having a thickness of about 2 μm was applied at 000 rpm.
【００２２】（ｂ）工程 上記のように塗布された基板を、たとえば９０℃の温度
で２分間、ホットプレートによりプリベークした。 (B) Step The substrate coated as described above was pre-baked on a hot plate at a temperature of, for example, 90 ° C. for 2 minutes.
【００２３】（ｃ）工程 つぎにフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。こ
の露光は基板の法線方向にＵＶを用いて全面露光する。 (C) Step Next, exposure is performed using a photolithographic mask. This exposure is performed by using UV in the normal direction of the substrate.
【００２４】このフォトリソ用マスクを図３または図４
に示す。フォトマスク１９はガラス基板２０上にＣｒ金
属や酸化鉄などからなる多数の円状スポット２１（たと
えば１５μｍ径）をランダム状態に配置したものであ
り、画像表示面が５．７インチサイズである場合、一表
示面に対応するガラス基板２０上には約１０００万個の
スポットが配置される。This photolithographic mask is shown in FIG.
Shown in The photomask 19 is formed by arranging a large number of circular spots 21 (for example, 15 μm in diameter) made of Cr metal, iron oxide, or the like on a glass substrate 20 in a random state, and has a 5.7-inch image display surface. , About 10 million spots are arranged on the glass substrate 20 corresponding to one display surface.
【００２５】また、スポットは円状以外に、図４に示す
フォトマスク２２のように、たとえば四角形、五角形、
六角形、さらにそれ以上の多角形スポット２３であって
もよいが、見る方向によって散乱特性に違いが生じない
ように円形にするのがよい。そして、このスポット形状
とほぼ同一形状の凸部１７を形成される。The spot is not limited to a circle, but may be, for example, a square, a pentagon, or the like as shown in a photomask 22 shown in FIG.
It may be a hexagonal or even a polygonal spot 23, but it is better to make it circular so that there is no difference in the scattering characteristics depending on the viewing direction. Then, a convex portion 17 having substantially the same shape as the spot shape is formed.
【００２６】さらにスポット径およびスポット間隔を規
定するのが望ましい。すなわちスポット径を１〜５０μ
ｍに、好適には３〜１５μｍにすることで、同じレジス
ト膜厚で多くの凹凸を形成でき、良好な散乱特性が得ら
れる。しかも、各スポットの間隔を０．１〜２０μｍ、
好適には４〜７μｍにすることで、露光および現像の後
に凹凸性状が連続的につながり、これによって良好な散
乱特性が得られる。It is desirable to further define the spot diameter and the spot interval. That is, the spot diameter is 1 to 50 μm.
By setting m to be preferably 3 to 15 μm, many irregularities can be formed with the same resist film thickness, and good scattering characteristics can be obtained. Moreover, the distance between the spots is 0.1 to 20 μm,
When the thickness is preferably 4 to 7 μm, the irregularities are continuously connected after exposure and development, whereby good scattering characteristics can be obtained.
【００２７】（ｄ）工程 （ｃ）工程を経た後、現像をおこなう。現像液として
は、たとえばＪＳＲ株式会社製のＰＤ５２３ＡＤ（濃度
０．０５％）を使用する。そして、現像時間を変えるこ
とで現像の進行を加減することができるが、現像を適度
に止めることで、隣り合う各凸部間にて双方の端部が接
続され、連続的に繋がる。 (D) Step After the step (c), development is performed. As a developer, for example, PD523AD (concentration: 0.05%) manufactured by JSR Corporation is used. By changing the development time, the progress of the development can be controlled. However, by appropriately stopping the development, both ends are connected between the adjacent convex portions and are continuously connected.
【００２８】図５および図６により現像の進行程度によ
る凸部の状態を示す。図５において、現像時間による凹
凸高低差を示し、横軸は現像時間（秒）であり、縦軸は
凹凸高低差（μｍ）であり、黒点は測定データである。
現像時間が約２５秒までは時間の増大するにしたがって
凹凸高低差が大きくなるが、現像時間が約２５秒を超え
ると、ガラス基板２が露出され、現像による深度が一定
になることで凹凸高低差の変動が非常に小さくなってい
る。FIGS. 5 and 6 show the states of the convex portions depending on the progress of the development. In FIG. 5, the unevenness height difference according to the development time is shown, the horizontal axis is the development time (second), the vertical axis is the unevenness height difference (μm), and the black points are the measured data.
Until the development time is about 25 seconds, the height difference increases as the time increases. However, when the development time exceeds about 25 seconds, the glass substrate 2 is exposed and the depth by development becomes constant, so that the height of the unevenness increases. The variation of the difference is very small.
【００２９】図６においては、測定データである黒点の
うち（ａ）と（ｂ）と（ｃ）について、それぞれのガラ
ス基板２上の凸状配列群の断面形状を示す。FIG. 6 shows the cross-sectional shapes of the convex array groups on the respective glass substrates 2 for (a), (b) and (c) among the black spots which are the measurement data.
【００３０】たとえば、現像時間を２０秒にすればよい
が、この現像時間もレジスト塗布量、現像液濃度、プリ
ベーク条件等により適宜変えればよい。For example, the development time may be set to 20 seconds, and this development time may be appropriately changed depending on the amount of resist applied, the concentration of the developing solution, the pre-bake conditions, and the like.
【００３１】なお、（ｃ）工程の露光においては、ＵＶ
がフォトマスク１９、２２を通過することで干渉が生じ
ることで、これらマスクの直ぐ下の部分の樹脂もわずか
に光分解反応しているので、その後の現像工程（ｄ）に
より凸部の角部が丸くなる。In the exposure in the step (c), UV
Is passed through the photomasks 19 and 22, causing interference, and the resin immediately below these masks also undergoes a slight photodecomposition reaction. Becomes round.
【００３２】（ｅ）工程 この加熱処理でもって、たとえば低温（１３０℃、２
分）にて表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させ
る。 Step (e) By this heat treatment, for example, a low temperature (130 ° C., 2
In (1), heat is melted to such an extent that the surface shape does not change significantly.
【００３３】（ｆ）工程 つぎのポストべークでもって、たとえば高温（２００
℃、３０分）にて全体を硬化させる。 (F) Process The post-bake subsequent to the process is performed, for example, at a high temperature (200
(C, 30 minutes).
【００３４】このように（ｅ）工程によって若干溶解さ
せて表面形状をなめらかにして、凹凸形状に対し微調整
をおこない、ついで（ｆ）工程により硬化させる。As described above, the surface shape is smoothed by slightly dissolving in the step (e), fine adjustment is performed on the uneven shape, and then the composition is cured in the step (f).
【００３５】（ｇ）工程 最後に凸状配列群上にスパッタリングや蒸着法でもって
クロムやアルミニウム、銀などの金属からなる光反射層
４を、たとえば膜厚１０００Åで被覆する。 (G) Finally, the light reflecting layer 4 made of a metal such as chromium, aluminum, or silver is coated on the convex array group by sputtering or vapor deposition to a thickness of, for example, 1000 °.
【００３６】以上の各工程（ａ）〜（ｇ）を経て得られ
た光反射層４が被覆された凸状配列群に対し、その表面
性状をスキャニングしたり、写真撮影をおこなった。With respect to the convex array group coated with the light reflecting layer 4 obtained through the above steps (a) to (g), the surface properties were scanned or photographed.
【００３７】図７はキーエンス製表面形状測定顕微鏡を
用いて、その形状をスキャニングしたものであって、横
軸（Ｘ）はスキャニング方向であり、縦軸（Ｚ）は高さ
を示し、各単位はμｍである。FIG. 7 shows the result of scanning the shape using a surface profile measuring microscope manufactured by KEYENCE. The horizontal axis (X) indicates the scanning direction, the vertical axis (Z) indicates the height, and each unit. Is μm.
【００３８】また、図８は光学式顕微鏡（オリンパス製
ＢＨ３ＭＪＬ）を用いて５００倍にて写真撮影した撮影
図である。FIG. 8 is a photograph taken at a magnification of 500 times using an optical microscope (BH3MJL manufactured by Olympus).
【００３９】これらの図から明らかなとおり、熱溶融に
より凸部が滑らかな形状になり、さらに隣り合う各凸部
が接続されている。As is clear from these figures, the convex portions have a smooth shape due to the heat melting, and the adjacent convex portions are further connected.
【００４０】かくして本発明の液晶表示装置１６によれ
ば、凸状配列群の隣り合う各凸部１７が接続されている
ので、各凸部１７の間に前述したような平坦部Ｈが存在
しなくなり、これにより、凸状配列群の平坦度が低下
し、正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、その結
果、視野角が広くなった。Thus, according to the liquid crystal display device 16 of the present invention, since the adjacent convex portions 17 of the convex array group are connected, the flat portion H as described above exists between the convex portions 17. As a result, the flatness of the convex array group was reduced, the specular reflection component was reduced, and the light scattering property was improved. As a result, the viewing angle was widened.
【００４１】なお、写真にて確認した限りでは、凸状配
列群における隣り合う各凸部１７がほぼ全面的に接続さ
れているが、部分的にわずかに非接続部分があっても光
散乱性が改善されることから本発明の技術範囲内であ
る。Incidentally, as can be seen from the photograph, the adjacent convex portions 17 in the convex array group are almost completely connected, but even if there is a slightly non-connected portion, the light scattering property is high. Is within the technical scope of the present invention since the above is improved.
【００４２】また、凸状配列群を形成するに当たり、
（ｅ）工程の加熱処理（表面形状が大きく変化しない程
度の熱溶融工程）を除外して、その他の各工程（ａ）〜
（ｄ）、（ｆ）、（ｇ）でもって形成してもよい。Further, in forming the convex array group,
Except for the heat treatment in the step (e) (a heat melting step in which the surface shape does not significantly change), each of the other steps (a) to
(D), (f), and (g).
【００４３】このように（ｅ）工程が除かれた形成方法
によって光反射層４が被覆された凸状配列群を設け、そ
の表面性状をスキャニングしたところ、図９に示すよう
な結果が得られた。By providing the convex array group covered with the light reflecting layer 4 by the forming method excluding the step (e) and scanning the surface properties, the result shown in FIG. 9 is obtained. Was.
【００４４】熱溶融しない場合には、凸部形状は上面に
若干の平坦部が存在することがわかるが、同様に正反射
成分が減少し、光散乱性が改善され、視野角が広くなっ
た。When heat melting is not performed, it can be seen that the convex portion has a slightly flat portion on the upper surface, but similarly, the specular reflection component is reduced, light scattering is improved, and the viewing angle is widened. .
【００４５】他の反射型液晶表示装置 つぎに他の反射型液晶表示装置を説明する。ただし、凸
部１７に対する好適な数値範囲については、以下の各種
反射型液晶表示装置に対しても適用される。[0045] describing the other reflective liquid crystal display device then other reflective type liquid crystal display device. However, the preferred numerical range for the convex portion 17 is also applied to the following various reflective liquid crystal display devices.
【００４６】図１０に示すカラー表示用の反射型液晶表
示装置２５においては、２６はコモン側のガラス基板
（０．７ｍｍ厚）、２７はセグメント側のガラス基板
（０．７ｍｍ厚）であって、前記一方部材については、
ガラス基板２６の一方主面上に樹脂からなるほぼ半球状
の凸部１７を多数配列することで、前記液晶表示装置１
６と同じようなランダム性の凸状配列群を形成し、この
凸状配列群上にクロムやアルミニウム、銀などの金属か
らなる光反射層４（膜厚１０００Å）を被覆している。
そして、凸状配列群上に画素ごとに配したカラーフィル
タ７を形成している。さらにアクリル系樹脂からなるオ
ーバーコート層８と、多数平行に配列したＩＴＯからな
る透明電極２８とを形成している。この透明電極２８上
に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向
膜２９を形成している。In the reflection type liquid crystal display device 25 for color display shown in FIG. 10, 26 is a common side glass substrate (0.7 mm thick), and 27 is a segment side glass substrate (0.7 mm thick). , For the one member,
By arranging a large number of substantially hemispherical protrusions 17 made of resin on one main surface of a glass substrate 26, the liquid crystal display device 1
A convex array group having randomness similar to that of 6 is formed, and a light reflecting layer 4 (thickness: 1000 °) made of a metal such as chromium, aluminum, or silver is coated on the convex array group.
Then, a color filter 7 arranged for each pixel is formed on the convex array group. Further, an overcoat layer 8 made of an acrylic resin and a plurality of transparent electrodes 28 made of ITO arranged in parallel are formed. On the transparent electrode 28, an alignment film 29 made of a polyimide resin rubbed in a certain direction is formed.
【００４７】前記光反射層４には上記金属層に代えて、
金属層と低屈折率層と高屈折率層とを順次積層したもの
であってもよい。かかる高屈折率層と低屈折率層につい
ては、双方間にて屈折率に差があればよく、さまざまな
材料でもって構成できる。たとえば、高屈折率層の屈折
率は２．０〜２．７の範囲にするよく、そのためにＴｉ
Ｏ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2などで構成するとよく、低屈折
率層の屈折率は１．３〜１．７の範囲にするよく、その
ためにＳｉＯ2、ＡｌＦ3、ＣａＦ2、ＭｇＦ2などで構成
するとよい。The light reflecting layer 4 is replaced with the above metal layer,
A metal layer, a low refractive index layer, and a high refractive index layer may be sequentially laminated. The high refractive index layer and the low refractive index layer only need to have a difference in the refractive index between them, and can be made of various materials. For example, the refractive index of the high refractive index layer may be in the range of 2.0 to 2.7, and
O 2, ZrO 2, well when configured SnO 2 or the like, the refractive index of the low refractive index layer may be in the range of 1.3~1.7, SiO 2, AlF 3, CaF 2, MgF 2 , etc. For this purpose It is good to configure.
【００４８】なお、配向膜２９は透明電極２８上に直に
成膜形成しているが、配向膜２９と透明電極２８との間
に樹脂やＳｉＯ2などからなる絶縁膜を介在させてもよ
く、しかも、オーバーコート層８は設けなくてもよい。
さらに凸状配列群上に樹脂やＳｉＯ2からなる平滑膜を
形成し、この平滑膜上に画素ごとに配したカラーフィル
タ７を形成してもよい。Although the alignment film 29 is formed directly on the transparent electrode 28, an insulating film made of resin or SiO 2 may be interposed between the alignment film 29 and the transparent electrode 28. Moreover, the overcoat layer 8 need not be provided.
Further, a smooth film made of resin or SiO 2 may be formed on the convex array group, and the color filter 7 arranged for each pixel may be formed on the smooth film.
【００４９】他方部材については、ガラス基板２７上に
多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極３０と、一
定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜３
１とを順次形成している。透明電極３０と配向膜３１と
の間に樹脂やＳｉＯ2からなる絶縁層を介在させてもよ
い。As for the other member, a transparent electrode 30 made of ITO arranged in parallel on a glass substrate 27 and an alignment film 3 made of polyimide resin rubbed in a certain direction.
1 are sequentially formed. An insulating layer made of resin or SiO 2 may be interposed between the transparent electrode 30 and the alignment film 31.
【００５０】そして、上記構成の一方部材および他方部
材を液晶１１を介してシール部材１２により貼り合わせ
る。さらにガラス基板２７の外側にポリカーボネイトな
どからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差フィル
ム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成する。Then, the one member and the other member having the above structure are bonded together with the seal member 12 through the liquid crystal 11. Further, a first retardation film 13, a second retardation film 14, and an iodine-based polarizing plate 15 made of polycarbonate or the like are sequentially formed outside the glass substrate 27.
【００５１】上記構成の液晶表示装置２５においては、
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光はガラス基
板２７を通過し、液晶１１、カラーフィルタ７などを通
して光反射層４に到達し、光反射層４にて光反射され、
その反射光が出射される。In the liquid crystal display device 25 having the above configuration,
Incident light from external illumination such as sunlight or a fluorescent lamp passes through the glass substrate 27, reaches the light reflection layer 4 through the liquid crystal 11, the color filter 7, and the like, is reflected by the light reflection layer 4,
The reflected light is emitted.
【００５２】かくして本発明の液晶表示装置２５におい
ても、凸状配列群の隣り合う各凸部１７を上述のように
接続形成することで、各凸部１７の間に平坦部Ｈが存在
しなくなり、これにより、凸状配列群の平坦度が低下
し、正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、その結
果、視野角が広くなった。Thus, also in the liquid crystal display device 25 of the present invention, the adjacent convex portions 17 of the convex array group are connected and formed as described above, so that the flat portion H does not exist between the convex portions 17. Thereby, the flatness of the convex array group was reduced, the specular reflection component was reduced, and the light scattering property was improved. As a result, the viewing angle was widened.
【００５３】上記液晶表示装置２５においては、ガラス
基板２６上に凸部１７を多数配列してランダム性の凸状
配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射層４を被覆
した構成であるが、これに代えてガラス基板２７上に凸
部を多数配列した凸状配列群を形成し、この凸状配列群
上に光反射層を被覆し、そして、樹脂やＳｉＯ2などか
らなる平滑膜を形成し、その上に多数平行に配列したＩ
ＴＯからなる透明電極３０と、一定方向にラビングした
ポリイミド樹脂からなる配向膜３１とを順次形成し、第
１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４と偏光
板１５をガラス基板２６の外面に配設し、ガラス基板２
６側より光入射するように構成してもよい。The liquid crystal display device 25 has a configuration in which a large number of convex portions 17 are arranged on a glass substrate 26 to form a random convex arrangement group, and the light reflection layer 4 is coated on the convex arrangement group. However, instead of this, a convex array group in which a large number of convex portions are arrayed on the glass substrate 27 is formed, a light reflecting layer is coated on the convex array group, and made of resin, SiO 2, or the like. A smooth film is formed, and a large number of I
A transparent electrode 30 made of TO and an alignment film 31 made of a polyimide resin rubbed in a certain direction are sequentially formed, and the first retardation film 13, the second retardation film 14, and the polarizing plate 15 are formed on the outer surface of the glass substrate 26. Arranged, glass substrate 2
It may be configured such that light enters from the sixth side.
【００５４】光散乱性の測定 つぎに図１１に示すような液晶表示装置１６の仮想構造
である反射部材３２を作成した。 Measurement of Light Scattering Property Next, a reflecting member 32 having a virtual structure of the liquid crystal display device 16 as shown in FIG. 11 was prepared.
【００５５】反射部材３２はガラス基板２の上に前述と
おりに隣り合う各凸部１７間にて接続された凸状配列群
を形成し、この凸状配列群上に光反射層４（膜厚１００
０Å）を被覆し、その上にアクリル系の樹脂から成る透
明樹脂層３３（屈折率：１．５３）を５０μｍ程度の厚
みでもって形成し、さらにガラス基板６を配設したもの
である。As described above, the reflection member 32 is formed on the glass substrate 2 with a convex array group connected between the adjacent convex portions 17, and the light reflecting layer 4 (film thickness) is formed on the convex array group. 100
0 °), a transparent resin layer 33 made of acrylic resin (refractive index: 1.53) having a thickness of about 50 μm is formed thereon, and a glass substrate 6 is further provided.
【００５６】そして、反射部材３２に対する法線から３
０°の角度でもって入射光（光源：ハロゲンランプ）を
投光し、その反射光の輝度を、その法線からの角度を変
えることで測定し、その反射率を測定したところ、図１
２に示すような結果が得られた。なお、反射率は標準白
色板基準（ＪＩＳ）に基づいてＭｇＯに光を照射し、そ
の反射率を１００％として、その相対値でもって表す。From the normal to the reflection member 32, 3
When the incident light (light source: halogen lamp) was projected at an angle of 0 °, the luminance of the reflected light was measured by changing the angle from the normal line, and the reflectance was measured.
The result as shown in FIG. 2 was obtained. The reflectivity is expressed by a relative value with MgO being irradiated with light based on the standard white plate standard (JIS), with the reflectivity being 100%.
【００５７】このように形成した凸状配列群において、
図２に示すように（ａ）〜（ｇ）の各工程すべてを経て
凸状配列群を形成した場合を（イ）、（ｅ）工程の熱溶
融処理を除外して形成した場合を（ロ）とした。In the convex array group formed as described above,
As shown in FIG. 2, the case where the convex array group is formed through all of the steps (a) to (g) is (a), and the case where the convex array group is formed excluding the heat melting treatment in the step (e) is (b). ).
【００５８】また、上記反射部材３２において、隣り合
う各凸部１７間にて接続された凸状配列群に代えて、従
来の液晶表示装置１に形成したような各凸部１７が離隔
した凸状配列群を設けて、同じ評価実験をおこなったと
ころ、（ハ）の結果が得られた。In the reflection member 32, instead of the convex arrangement group connected between the adjacent convex portions 17, the convex portions 17 formed in the conventional liquid crystal display device 1 are separated from each other. When the same evaluation experiment was performed by providing a group of arrayed shapes, the result of (c) was obtained.
【００５９】図１２から明らかなとおり、本発明の
（イ）および（ロ）については、従来の構成に係る
（ハ）に比べ、凸部による光散乱性を向上し、これによ
り、視野角が広くなった。とくに（イ）は凸部に対する
滑らかさに優れていることで、（ロ）に比べて視野角が
広くなった。As is clear from FIG. 12, in (a) and (b) of the present invention, the light scattering property by the convex portion is improved as compared with (c) according to the conventional configuration, and thereby the viewing angle is reduced. Widened. In particular, (a) is excellent in smoothness with respect to the convex portion, so that the viewing angle is wider than (b).
【００６０】また、本発明の反射型液晶表示装置１６
（散乱反射型）と、従来の機能分離型の反射型液晶表示
装置について、コントラストおよび反射率を測定したと
ころ、下記のような結果が得られた。The reflection type liquid crystal display device 16 of the present invention
When the contrast and the reflectance of the (scattering reflection type) and the conventional function-separation type reflection type liquid crystal display device were measured, the following results were obtained.
【００６１】散乱反射型の反射型液晶表示装置 コントラスト：１１．５ 白表示時の反射率（％）：１３．４ 黒表示時の反射率（％）：１．１７機能分離型の反射型液晶表示装置 コントラスト：５．５ 白表示時の反射率（％）：１３．７ 黒表示時の反射率（％）：２．４７ この結果から明らかなとおり、本発明の反射型液晶表示
装置１６は従来の機能分離型の反射型液晶表示装置に比
べてコントラストが約２倍に向上し、光散乱性について
も散乱反射型の方が向上した。Diffuse reflection type reflection type liquid crystal display device Contrast: 11.5 Reflectivity (%) at the time of white display: 13.4 Reflectivity (%) at the time of black display: 1.17 Reflection type liquid crystal of function separation type Display device contrast: 5.5 Reflectivity at the time of white display (%): 13.7 Reflectance at the time of black display (%): 2.47 As is clear from the results, the reflection type liquid crystal display device 16 of the present invention is Compared to the conventional function-separation type reflection type liquid crystal display device, the contrast is improved about twice, and the light scattering property of the scattering reflection type is also improved.
【００６２】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
るものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々
の変更や改善などは何ら差し支えない。The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements may be made without departing from the scope of the present invention.
【００６３】たとえば、上記の実施形態においては、Ｓ
ＴＮ型単純マトリックスタイプのカラー液晶表示装置で
もって説明しているが、その他にモノクロのＳＴＮ型単
純マトリックスタイプの液晶表示装置であっても、ある
いはＴＮ型単純マトリックスタイプの液晶表示装置やＴ
Ｎ型アクティブマトリックスタイプなどのツイストネマ
チック型液晶表示装置であっても、さらに双安定型の液
晶表示装置でも同様な作用効果が得られる。For example, in the above embodiment, S
Although the description is made with reference to a TN type simple matrix type color liquid crystal display device, a monochrome STN type simple matrix type liquid crystal display device, a TN type simple matrix type liquid crystal display device, or a TN type simple matrix type liquid crystal display device may be used.
The same operation and effect can be obtained with a twisted nematic liquid crystal display device such as an N-type active matrix type liquid crystal display device and a bistable liquid crystal display device.
【００６４】[0064]
【発明の効果】以上のとおり、本発明の反射型液晶表示
装置の製法によれば、散乱反射型にて設けた凸状配列群
を構成する各凸部において、隣り合う各凸部が接続され
ていることで、光散乱性能が向上し、視野角が広くな
り、これによって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信
頼性の反射型液晶表示装置が提供できた。As described above, according to the method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device of the present invention, adjacent projections in a projection array group provided in a scattering reflection type are connected to each other. As a result, the light scattering performance was improved and the viewing angle was widened, whereby a high-performance and highly reliable reflective liquid crystal display device having good display characteristics could be provided.
【００６５】しかも、発明においては、凸状配列群を形
成するに際し、現像の進行を適度に止めることで、隣り
合う各凸部間にて双方の端部が接続され、連続的に繋が
ることから生産コストを低減できた。Further, in the present invention, when forming the convex array group, by appropriately stopping the progress of the development, both ends are connected between the adjacent convex portions, so that they are continuously connected. Production costs were reduced.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】本発明の反射型液晶表示装置の断面概略図であ
る。FIG. 1 is a schematic sectional view of a reflective liquid crystal display device of the present invention.
【図２】（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ），
（ｆ），（ｇ）は凸状配列群を形成するための各工程図
である。FIGS. 2 (a), (b), (c), (d), (e),
(F), (g) is each process drawing for forming a convex array group.
【図３】本発明に係る凸状配列群のランダム性を示すフ
ォトマスクの平面図である。FIG. 3 is a plan view of a photomask showing the randomness of a convex array group according to the present invention.
【図４】本発明に係る凸状配列群のランダム性を示す他
のフォトマスクの平面図である。FIG. 4 is a plan view of another photomask showing the randomness of the convex array group according to the present invention.
【図５】凸状配列群の形成に係る現像時間と凸状配列群
の凹凸高低差との関係を示す線図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a relationship between a developing time for forming a convex array group and a height difference of the convex and concave groups of the convex array group.
【図６】（ａ），（ｂ），（ｃ）は凸状配列群の形成に
係る現像時間に違いによる光感光性樹脂層の形状変化を
示す概略図である。FIGS. 6A, 6B, and 6C are schematic diagrams showing a shape change of a photosensitive resin layer due to a difference in development time for forming a convex array group.
【図７】本発明に係る凸状配列群の断面拡大図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a convex array group according to the present invention.
【図８】本発明に係る凸状配列群の写真図である。FIG. 8 is a photograph of a group of convex arrays according to the present invention.
【図９】本発明に係る他の凸状配列群の断面拡大図であ
る。FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view of another convex array group according to the present invention.
【図１０】本発明の他の反射型液晶表示装置の断面概略
図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of another reflection type liquid crystal display device of the present invention.
【図１１】反射特性を測定するための仮想部材の断面概
略図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a virtual member for measuring reflection characteristics.
【図１２】反射型液晶表示装置の散乱特性を示す図であ
る。FIG. 12 is a diagram illustrating scattering characteristics of a reflective liquid crystal display device.
【図１３】従来の反射型液晶表示装置の断面概略図であ
る。FIG. 13 is a schematic sectional view of a conventional reflection type liquid crystal display device.
【符号の説明】 １ 液晶表示装置 ２、６、２６、２７ ガラス基板 ３ 凸部 ４ 光反射層 ５、１０、２９、３１ 配向膜 ７ カラーフィルタ ９、２８、３０ 透明電極 １１ 液晶 １６、２５ 反射型液晶表示装置 １７ 凸部 １８ 電極 １９、２２ フォトマスク Ｈ 平坦部[Description of Signs] 1 Liquid crystal display device 2, 6, 26, 27 Glass substrate 3 Convex portion 4 Light reflection layer 5, 10, 29, 31 Alignment film 7 Color filter 9, 28, 30 Transparent electrode 11 Liquid crystal 16, 25 Reflection -Type liquid crystal display device 17 Convex part 18 Electrode 19, 22 Photomask H Flat part
【手続補正２】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図７[Correction target item name] Fig. 7
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図７】 FIG. 7
【手続補正３】[Procedure amendment 3]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図９[Correction target item name] Fig. 9
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図９】 FIG. 9
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA15 BA20 DA02 DA03 DA04 DA08 DA11 DB08 DC02 DE00 2H091 FA02Y FA11X FA14Y FA16Z FA42Z FB02 FB04 FB06 FB08 FC02 FC12 FC23 FC26 FD15 GA06 GA07 GA16 HA07 HA10 HA12 KA03 LA19 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H042 BA04 BA15 BA20 DA02 DA03 DA04 DA08 DA11 DB08 DC02 DE00 2H091 FA02Y FA11X FA14Y FA16Z FA42Z FB02 FB04 FB06 FB08 FC02 FC12 FC23 FC26 FD15 GA06 GA07 GA16 HA07 HA10 HA12 KA03 LA
Claims (2)
ンダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に
ストライプ状光反射性電極群を被覆し、このストライプ
状光反射性電極群上に配向層を積層してなる一方部材
と、透明基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを
順次積層してなる他方部材とを、これらストライプ状光
反射性電極群とストライプ状透明電極群とが交差するよ
うにネマチック型液晶を介して貼り合わせて、マトリッ
クス状に画素を配列せしめてなる反射型液晶表示装置で
あって、前記凸状配列群における隣り合う各凸部が接続
されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。1. A convex array group in which a number of resin convex portions are randomly arranged on one main surface of a substrate, and a stripe-shaped light-reflective electrode group is coated on the convex array group. One member formed by laminating an orientation layer on a striped light-reflective electrode group, and the other member formed by sequentially laminating a striped transparent electrode group and an orientation layer on a transparent substrate, have a stripe-shaped light-reflecting property. A reflective liquid crystal display device in which the electrode group and the stripe-shaped transparent electrode group are pasted together through a nematic liquid crystal so as to intersect, and pixels are arranged in a matrix, and are adjacent in the convex array group. A reflection type liquid crystal display device, wherein each projection is connected.
ンダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に
光反射膜を被覆し、この光反射膜上に透明電極と配向層
とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電
極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマ
チック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列
せしめてなる反射型液晶表示装置であって、前記凸状配
列群における隣り合う各凸部が接続されていることを特
徴とする反射型液晶表示装置。2. A method according to claim 1, wherein a plurality of resin convex portions are randomly arranged on one main surface of the substrate to form a convex array, and a light reflecting film is coated on the convex array. A nematic liquid crystal is interposed between a member formed by sequentially laminating a transparent electrode and an alignment layer on a transparent substrate and the other member formed by sequentially laminating a transparent electrode and an alignment layer on a transparent substrate. A reflective liquid crystal display device, wherein adjacent convex portions in the convex array group are connected to each other.
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|---|---|---|---|
| JP11150654A JP3078538B1 (en) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | Manufacturing method of reflective liquid crystal display |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003023462A1 (en) * | 2001-09-07 | 2003-03-20 | Nec Corporation | Generation of pattern data free from any overlapping or excessive separation of dot patterns adjacent to each other |
| US7008807B2 (en) | 2002-10-11 | 2006-03-07 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing method of electro-optical device substrate and manufacturing method of electro-optical device |
-
1999
- 1999-05-28 JP JP11150654A patent/JP3078538B1/en not_active Expired - Fee Related
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| CN1324331C (en) * | 2001-09-07 | 2007-07-04 | 日本电气株式会社 | Generation of pattern data free from any overlapping or excessive separation of dot patterns adjacent to each other |
| US7612847B2 (en) | 2001-09-07 | 2009-11-03 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Generation of pattern data with no overlapping or excessive distance between adjacent patterns |
| US7008807B2 (en) | 2002-10-11 | 2006-03-07 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing method of electro-optical device substrate and manufacturing method of electro-optical device |
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