JP2000330118A - Multi-domain liquid crystal display device with bump structural part - Google Patents

Multi-domain liquid crystal display device with bump structural part

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JP2000330118A
JP2000330118A JP11136243A JP13624399A JP2000330118A JP 2000330118 A JP2000330118 A JP 2000330118A JP 11136243 A JP11136243 A JP 11136243A JP 13624399 A JP13624399 A JP 13624399A JP 2000330118 A JP2000330118 A JP 2000330118A
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JP
Japan
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pair
bump structure
liquid crystal
bump
structure according
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JP11136243A
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Japanese (ja)
Inventor
Kotatsu Ryu
鴻▲達▼ 劉
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Industrial Technology Research Institute ITRI
Original Assignee
Industrial Technology Research Institute ITRI
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an LCD with a wide visual angle. SOLUTION: The LCD is equipped with a pair of polarizing plates comprising a polarizer 100 and an analyzer 102. A pair of light transmissible substrates 104, 108 is formed between the pair of the polarizing plates. A compensator 106 is formed on the analyzer 102. A bump structural part 110 is formed on the upper side of the substrate. Liquid crystal molecules on the specified bump structural part are given a specified leaning direction so as to be imparted a larger pretilt angle. On at least one out of the pair of substrates the bump structural part is formed so as to impart the pretilt angle to the liquid crystal molecules filled between the pair of glass substrate. In this case, inclined surfaces are given to the bump structural part so as to make both edges of the bump structural part have heights different from each other. Alignment layers are formed on the pair of glass substrates and the bump structural part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置(L
CD:liquid crystal display)を作る方法に関し、よ
り詳細には広視角のLCDを形成する方法に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display (L).
The present invention relates to a method of making a liquid crystal display (CD), and more particularly to a method of forming a wide viewing angle LCD.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナル情報支援装置(携帯情
報端末,PDA: personal data assistant)及びノー
トブックの進歩が著しい。これら携帯用の表示装置に求
められる要件は、軽量且つ低電力消費である。上記の要
件に適合し高い画素密度及び品質が求められる表示装置
として、薄膜トランジスタ液晶表示装置(TFT−LC
D:thin film transistor-liquid crystal display)
が知られている。一般に、TFT―LCDは、薄膜トラ
ンジスタ(TFT)及び画素電極(pixel electrode)が
形成された底板と、カラーフィルタが形成された天板と
を有している。これら天板及び底板の間には、液晶が充
填される。各単位画素にはキャパシタが設けられるが、
このキャパシタは単位画素のスイッチング要素として機
能するTFTのために構成される。TFTにデータ電圧
を印加すれば、液晶分子の配列が変化し、これにより光
学的特性が変化して画像が表示される。
2. Description of the Related Art In recent years, personal information assistance devices (personal digital assistants, personal data assistants (PDAs)) and notebooks have made remarkable progress. The requirements for these portable display devices are light weight and low power consumption. As a display device that meets the above requirements and requires high pixel density and quality, a thin film transistor liquid crystal display device (TFT-LC
D: thin film transistor-liquid crystal display)
It has been known. In general, a TFT-LCD has a bottom plate on which a thin film transistor (TFT) and a pixel electrode are formed, and a top plate on which a color filter is formed. Liquid crystal is filled between the top plate and the bottom plate. Each unit pixel is provided with a capacitor,
This capacitor is configured for a TFT that functions as a switching element of a unit pixel. When a data voltage is applied to the TFT, the arrangement of the liquid crystal molecules changes, whereby the optical characteristics change and an image is displayed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】視角及びカラー性能は
一般にLCDの設計にとって極めて重要な事項である。
LCDでは、画面の色彩部表示のため、カラーフィルタ
(CF:color filter)プレートが使用されている。L
CD技術の1つの流れは、LCDの視角を改善すること
である。しかし、LCDの視角及びコントラスト比が不
充分なまま大型スクリーンの製品に適用されている。S
ID97年ダイジェスト(SID'97 DIGEST)845頁〜8
48頁には、K. Ohmuro, S. Kataoka, T. Sasaki及び
Y. Koikeにより提出された縦列モード(vertical-align
ment-mode)LCDに関する論文がある。この文献で
は、光コンペンゼータ(補償素子compensator)及び領
域分割構造を有する縦列モードの最適化を図ることによ
りVA−LCD(縦列LCD:vertically aligned LC
D)を実現している。この縦列モードLCDは、70゜
以上の広視角を有し、応答が速く(<25ms)、コント
ラスト比が300以上と高い。しかしながら、まだ幾つ
かの問題がある。例えば、二領域構造の形成にマスクラ
ビング(mask rubbing)処理を必要とするが、この処理は
複雑で高価である。またラビング処理はESD(静電放
電:Electrostatic Discharge)の問題を併発し、また
パーティクルも発生する。しかも、マスクラビングは画
像の貼り付きも引き起こす。
Viewing angle and color performance are generally very important for LCD design.
In the LCD, a color filter (CF) plate is used for displaying a color portion of a screen. L
One trend in CD technology is to improve the viewing angle of LCDs. However, LCDs have been applied to large screen products with insufficient viewing angle and contrast ratio. S
ID97 Digest (SID'97 DIGEST) 845 pages-8
On page 48, K. Ohmuro, S. Kataoka, T. Sasaki and
The vertical mode (vertical-align) submitted by Y. Koike
ment-mode) There is a paper on LCD. In this document, a VA-LCD (vertically aligned LC) is achieved by optimizing an optical compensator (compensator compensator) and a cascade mode having a region division structure.
D) is realized. This cascade mode LCD has a wide viewing angle of 70 ° or more, fast response (<25 ms), and a high contrast ratio of 300 or more. However, there are still some problems. For example, the formation of a two-region structure requires a mask rubbing process, which is complex and expensive. In addition, the rubbing process causes a problem of ESD (Electrostatic Discharge) and also generates particles. Moreover, mask rubbing also causes sticking of images.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は広視角のLCD
を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a wide viewing angle LCD.
The purpose is to provide.

【0005】本発明はLCDにバンプ構造部(bump str
ucture)を設けることにより、液晶分子にプレチルト角
(pre-tilted angle)を与えることも目的としている。
According to the present invention, a bump structure (bump stratum) is provided on an LCD.
), the liquid crystal molecules have a pretilt angle
It is also intended to give a (pre-tilted angle).

【0006】本発明は、ポーラライザ(polarizer)と
アナライザ(analyzer)とから成る一対の偏光子(light
polarizers)を有している。この一対の偏光子間に一対
の透光性の基板を形成する。アナライザにはコンペンゼ
ータ(compensator)が形成されている。基板の上方に
は、バンプ構造部が形成されている。所定のバンプ構造
部の上にできた液晶分子に所定の凭れ(lending)方向を
持たせ、より大きなプレチルト角を与える。一対の基板
の少なくとも一方にバンプ構造部を形成して、その一対
のガラス基板間に充填された液晶分子にプレチルト角を
与え、その際、バンプ構造部に傾斜面(inclined surfac
es)を持たせて、バンプ構造部の両端の高さを異ならせ
る。上記一対のガラス基板及びバンプ構造部は、その上
に配向層を形成する。
[0006] The present invention provides a pair of lighters consisting of a polarizer and an analyzer.
polarizers). A pair of light-transmitting substrates is formed between the pair of polarizers. A compensator is formed in the analyzer. A bump structure is formed above the substrate. The liquid crystal molecules formed on the predetermined bump structure have a predetermined leaning direction to give a larger pretilt angle. A bump structure is formed on at least one of the pair of substrates, and a pretilt angle is given to liquid crystal molecules filled between the pair of glass substrates. At this time, the bump structure has an inclined surface (inclined surfac).
es) to make the heights of both ends of the bump structure different. An alignment layer is formed on the pair of glass substrates and the bump structure.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】図面を参照して本発明を詳細に説
明する。本発明はコンペンゼータを備えた二領域ホメオ
トロピック(homeotropic)LCDの視角を大きくする方
法を提供する。これは多領域構造で設計してもよい。本
発明では一例として、二領域構造を用いる。本発明で
は、前記目的を達成すべく、バンプ構造が採用される。
詳細なプロセスを次に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention provides a method for increasing the viewing angle of a two-region homeotropic LCD with a compensator. It may be designed with a multi-region structure. In the present invention, a two-region structure is used as an example. In the present invention, a bump structure is employed to achieve the above object.
The detailed process will be described below.

【0008】図1はコンペンゼータを備えた二領域ホメ
オトロピックLCDのパネル構造を示す図である。この
液晶表示装置は、ポーラライザ100とアナライザ10
2とから成る一対の偏光子を有している。これらのポー
ラライザ及びアナライザ102は、この偏光子対の各光
軸が相互となるように配設される。すなわち、間になに
もない場合、ポーラライザ100を通過した光はアナラ
イザ102が吸収し、またその逆も成り立つ。ポーララ
イザ100の下に、ガラス等の透光性の上側絶縁基板1
04が形成される。1つ(又は複数)のコンペンゼータ
106が、アナライザ102上に形成され、或いは、コ
ンペンゼータは、前記一対の偏光子に形成される。この
コンペンゼータ106は、視角に依存した光の漏れを低
減するために用いられる。このコンペンゼータ104上
には、下側基板108が配置される。下側基板は、上側
基板104に類似なガラス等の透光性材料で構成され
る。上側基板104の底面及び下側基板108の頂面
(又はバンプ構造部110)の上に、それぞれ、インジ
ウム錫酸化物(ITO:indium tin oxide)の薄膜を含
む透光性の導電層を配置し、互いに直交させる。前記一
対のガラス基板の少なくとも一方に、バンプ構造部11
0が形成される。図1では、このバンプ構造部110が
下側基板108の上に形成されている。バンプ構造部1
10の詳細な説明は後で行う。
FIG. 1 is a diagram showing a panel structure of a two-region homeotropic LCD having a compensator. This liquid crystal display device comprises a polarizer 100 and an analyzer 10
2 is provided. These polarizers and analyzers 102 are arranged such that the optical axes of the polarizer pair are mutually opposite. That is, when there is nothing in between, the light passing through the polarizer 100 is absorbed by the analyzer 102, and vice versa. Under the polarizer 100, a light-transmitting upper insulating substrate 1 such as glass
04 is formed. One (or more) compensator 106 is formed on the analyzer 102, or a compensator is formed on the pair of polarizers. This compensator 106 is used to reduce light leakage depending on the viewing angle. A lower substrate 108 is disposed on the compensator 104. The lower substrate is made of a light-transmitting material such as glass similar to the upper substrate 104. A translucent conductive layer including a thin film of indium tin oxide (ITO) is disposed on the bottom surface of the upper substrate 104 and the top surface (or the bump structure 110) of the lower substrate 108, respectively. , Orthogonal to each other. A bump structure 11 is provided on at least one of the pair of glass substrates.
0 is formed. In FIG. 1, the bump structure 110 is formed on the lower substrate 108. Bump structure 1
A detailed description of 10 will be given later.

【0009】上側基板104の面上及びバンプ構造部1
10の面上にそれぞれ配向層112が形成される。一般
には、これら配向層の機能は液晶分子の向きを制御する
ことにある。配向層112はポリイミド(polyimide)又
はポリイミド酸(polyimide acid)で作られる。上側基板
104と下側基板108との間には、液晶分子114が
充填され閉じ込められている。液晶材料114は、ネガ
ティブホメオトロピック(negative Homeotropic)液晶分
子で構成されることが好ましい。ネガティブホメオトロ
ピック液晶分子は基板と共に縦列セル10を構成する。
On the surface of the upper substrate 104 and the bump structure 1
An alignment layer 112 is formed on each of the ten surfaces. Generally, the function of these alignment layers is to control the orientation of liquid crystal molecules. The alignment layer 112 is made of polyimide or polyimide acid. Liquid crystal molecules 114 are filled and confined between the upper substrate 104 and the lower substrate 108. The liquid crystal material 114 is preferably composed of negative homeotropic liquid crystal molecules. Negative homeotropic liquid crystal molecules constitute the tandem cell 10 together with the substrate.

【0010】液晶分子114はネマチック(nematic)な
配向を有しており、1画素内に2つの領域(domains)1
2、16が存在し、これら領域12と16との間には、
重なり部(overlap region)14ができる。重なり部14
の中の液晶分子の基板投影傾き方向(方位:azimuthal)
は、上記領域12及び16内の液晶分子の傾き方向に対
して、90度に等しくない(180度より大きいか小さ
い)角度φを有している。
The liquid crystal molecules 114 have a nematic alignment, and two domains (domains) 1 within one pixel.
2, 16 exist, and between these regions 12 and 16,
An overlap region 14 is created. Overlapping part 14
Direction of liquid crystal molecules projected on the substrate (azimuth: azimuthal)
Has an angle φ that is not equal to 90 degrees (greater or smaller than 180 degrees) with respect to the tilt direction of the liquid crystal molecules in the regions 12 and 16.

【0011】オン状態では、液晶分子がネマチック配向
であるため色分散(color dispersion)が小さい。本発明
は、グレイスケール(gray-scale)視角が広く反転しない
という利点も特徴としている。図2は、コンペンゼータ
を備えた二領域VA(縦列:Vertical Aligned)モード
LCDの部分的な上面図である。基板の方位に投射した
領域12及び14の液晶分子の配向間の傾き角 (は、1
80度に等しくはならない(180度より大きいか小さ
くなる)。本実施例では、電極に印加していないとき
(オフ状態)は、各領域の液晶分子が基板の面に対しほ
ぼ垂直に配向され、その角度は基板の法線から予め若干
傾いている。2つの領域の中の液晶分子の配向間の基板
方位投影傾き角は、180度に等しくはならない。
In the ON state, the color dispersion is small because the liquid crystal molecules are in a nematic alignment. The invention is also characterized by the advantage that the gray-scale viewing angles do not flip widely. FIG. 2 is a partial top view of a two-region VA (vertical aligned) mode LCD having a compensator. The tilt angle between the orientations of the liquid crystal molecules in regions 12 and 14 projected to the orientation of the substrate (where
Not equal to 80 degrees (greater or less than 180 degrees). In this embodiment, when no voltage is applied to the electrode (off state), the liquid crystal molecules in each region are oriented almost perpendicular to the surface of the substrate, and the angle is slightly inclined in advance from the normal line of the substrate. The substrate azimuth projection tilt angle between the alignment of the liquid crystal molecules in the two regions does not equal 180 degrees.

【0012】オン状態となる前に領域12、14及び重
なり領域16で二領域に縦列した液晶分子にプレチルト
角をもたせることは、液晶分子の応答時間に大きく影響
する。本発明に係るバンプ構造部110は、領域分割V
Aセルのこの応答特性を更なる仕方で達成すべく使用さ
れる。図3はバンプ構造部110の側面図、また図4は
バンプ構造部110の三次元像を示す図である。このバ
ンプ構造部110はポジティブ(positive)又はネガティ
ブ(negative)なフォトレジストでつくることができる。
好ましくは、バンプ構造部110を、その構造部の頂面
が所望方向に凭れる形状として、このバンプ構造部11
0の上にできる液晶分子に、より大きなプレチルト角を
与える。例えば、バンプ構造部110を2つの側面1
8、20と2つの傾斜(inclined)面22とで構成する。
このバンプ構造部の側面18、20を三角形の形状にす
る。好適な実施例では、この側面18、20を異なる高
さH1及びH2で形成し、H1をH2より高くして、バ
ンプ構造部110の傾斜面22が所望の方向へ傾ぐ(lea
n)ようにする。即ち、バンプ構造部の両端の高さを異な
らせる。各傾斜面22は、その端部をそれぞれ側面1
8、20に連結する。基板の面に対する傾斜面22の斜
角(oblique angle)を角αで示す。
Making the liquid crystal molecules arranged in two regions in the regions 12 and 14 and the overlapping region 16 to have a pretilt angle before turning on greatly affects the response time of the liquid crystal molecules. The bump structure 110 according to the present invention has a region division V
It is used to achieve this response characteristic of the A-cell in a further way. FIG. 3 is a side view of the bump structure 110, and FIG. 4 is a diagram showing a three-dimensional image of the bump structure 110. The bump structure 110 can be made of a positive or negative photoresist.
Preferably, the bump structure 110 is shaped such that the top surface of the bump is leaned in a desired direction.
A larger pretilt angle is given to liquid crystal molecules formed above zero. For example, the bump structure 110 is connected to two side surfaces 1.
8, 20 and two inclined surfaces 22.
The side surfaces 18 and 20 of the bump structure have a triangular shape. In a preferred embodiment, the sides 18, 20 are formed at different heights H1 and H2, with H1 being higher than H2, so that the inclined surface 22 of the bump structure 110 can be inclined in a desired direction.
n). That is, the heights of both ends of the bump structure are made different. Each of the inclined surfaces 22 has its end portion on the side surface 1.
8, 20. The oblique angle of the inclined surface 22 with respect to the surface of the substrate is indicated by an angle α.

【0013】図5A,5B及び図6A,6Bは本発明の
実施例である。バンプ構造部110は一方の基板のみ
の、又は両方の基板の、面上に形成できる。各図は、バ
ンプ構造部110上にできた液晶分子に所定の凭れ方向
を持たせて、より大きなプレチルト角を持たせた状態を
示している。明らかに、バンプ構造部110は液晶分子
により大きなプレチルト角を付与できる。なお、バンプ
構造部110は分割してもよく、しなくてもよい。
FIGS. 5A and 5B and FIGS. 6A and 6B show an embodiment of the present invention. The bump structure 110 can be formed on the surface of only one substrate or both substrates. Each figure shows a state in which the liquid crystal molecules formed on the bump structure 110 have a predetermined leaning direction and a larger pretilt angle. Obviously, the bump structure 110 can impart a larger pretilt angle to the liquid crystal molecules. The bump structure 110 may or may not be divided.

【0014】バンプ構造部110の形成は以下に見られ
る通りである。第1の方法はマルチフォトマスクを用い
てバンプ構造部110を形成する。図7に移り、第1の
ネガティブフォトレジスト70を基板に塗布する。次
に、第1の開口74を有する第1のフォトマスク72を
用いて、ネガティブフォトレジストに光を当てる。この
第1のネガティブフォトレジスト70を従来の仕方で現
像する。当分野で知れられるように、第1のネガティブ
フォトレジスト70の露光部が基板上に残る。第1のフ
ォトマスク72と第1のネガティブフォトレジスト70
との間の距離を増すと、光の干渉により、第1のネガテ
ィブフォトレジスト70の現像時の外形が傾斜する。次
に、図8に移り、第2のネガティブフォトレジスト76
を基板及び第1のネガティブフォトレジスト上に塗布す
る。次いで、第2の開口80を有する第2のフォトマス
ク78により、第2のネガティブフォトレジスト76を
露光する。第2の開口80の開き幅は第1の開口74の
ものより狭い。また第2の開口80を、残っている第1
のネガティブフォトレジスト70の片側の位置に空間移
動させ、この第1のネガティブフォトレジストに整列さ
せる。同様に、第2のネガティブフォトレジストも、現
像後の外形が傾斜する。上記工程は必要に応じ数回繰り
返してもよい。次に、図9に示すように、得られた構造
に外被層82を形成して、傾斜面22を有するバンプ構
造部110をつくる。
The formation of the bump structure 110 is as follows. In the first method, the bump structure 110 is formed using a multi-photomask. Turning to FIG. 7, a first negative photoresist 70 is applied to the substrate. Next, light is applied to the negative photoresist using a first photomask 72 having a first opening 74. This first negative photoresist 70 is developed in a conventional manner. As is known in the art, an exposed portion of the first negative photoresist 70 remains on the substrate. First photomask 72 and first negative photoresist 70
When the distance is increased, the outer shape of the first negative photoresist 70 at the time of development is inclined due to light interference. Next, referring to FIG. 8, a second negative photoresist 76 is formed.
Is applied on the substrate and the first negative photoresist. Next, the second negative photoresist 76 is exposed with a second photomask 78 having a second opening 80. The opening width of the second opening 80 is smaller than that of the first opening 74. Also, the second opening 80 is
Is spatially moved to a position on one side of the negative photoresist 70, and is aligned with the first negative photoresist. Similarly, the outer shape of the second negative photoresist after development is inclined. The above steps may be repeated several times as needed. Next, as shown in FIG. 9, a covering layer 82 is formed on the obtained structure, and a bump structure 110 having an inclined surface 22 is formed.

【0015】更にフォトリソグラフの手順を用いて、外
形を滑らかにする。そのフォトマスクの開口の形状を図
10に示す。開口の形状は台形が望ましい。この形状に
より、台形に相似なバンプ構造部110の側面18、2
0の形が得られる。バンプ構造部の上面図を図11に示
す。
Further, the outer shape is smoothed using a photolithographic procedure. FIG. 10 shows the shape of the opening of the photomask. The shape of the opening is desirably trapezoidal. With this shape, the side surfaces 18, 2 of the bump structure 110 similar to a trapezoid
A shape of 0 is obtained. FIG. 11 shows a top view of the bump structure.

【0016】図12に示すフォトマスクを用いて、基板
上にバンプ構造部を構築できる。このフォトマスクは、
互いに鏡像となる2つの主要部に分かれる。マスクの開
口は中央部から縁部へ向かって幅が増大する。つまり、
幅T4は幅T3より広く、これは幅T2より広く、この
T2もT1より広い。また隣り合う2つの開口間のスペ
ースが、中央部から縁部へ向かって減少する、つまり、
スペースM1はM2より広く、これはM3より広い。ス
ペースM3はM4よりも広い。第2の方法では、光の干
渉が導入される。バンプ構造部を一回の露光で形成でき
る。
Using the photomask shown in FIG. 12, a bump structure can be constructed on a substrate. This photo mask is
It is divided into two main parts that are mirror images of each other. The opening of the mask increases in width from the center to the edge. That is,
Width T4 is wider than width T3, which is wider than width T2, which is also wider than T1. Also, the space between two adjacent openings decreases from the center to the edge, that is,
Space M1 is wider than M2, which is wider than M3. Space M3 is wider than M4. In the second method, light interference is introduced. The bump structure can be formed by one exposure.

【0017】本発明に係る第3の方法がある。この方法
は、1つのフォトマスクとマルチ露光工程を用いる。フ
ォトマスクには、複数の開口が等幅で形成されている。
この方法のポイントは、露光後に、フォトマスクをフォ
トレジスト面の法線に垂直な方向へずらすことにあり、
その方向は図面に示されている。上記マルチ露光後、フ
ォトレジストの露光部が三角形に相似な外形を有する。
これは次のように説明できる。
There is a third method according to the present invention. This method uses one photomask and multiple exposure steps. A plurality of openings are formed in the photomask with equal widths.
The point of this method is to shift the photomask in a direction perpendicular to the normal of the photoresist surface after exposure,
The direction is shown in the drawing. After the multi-exposure, the exposed portion of the photoresist has an outer shape similar to a triangle.
This can be explained as follows.

【0018】バンプ構造部を形成する方法には次のステ
ップが含まれる: ステップ(a):開口が形成されたフォトマスクを用い
てフォトレジストを露光する;ステップ(b):フォト
レジストの面の法線に対し垂直な方向に沿ってスペーサ
分だけフォトマスクをシフトする;ステップ(c):ス
テップ(a)及びステップ(b)を所望回繰り返す;
(d):フォトレジストを現像する。図1から図6まで
の構造は図10に示すマスクを用いて得られる。
The method of forming the bump structure includes the following steps: Step (a): exposing the photoresist using a photomask having openings formed; Step (b): exposing the surface of the photoresist. Shifting the photomask by the amount of the spacer along the direction perpendicular to the normal line; Step (c): repeating Step (a) and Step (b) a desired number of times;
(D): developing the photoresist; 1 to 6 are obtained by using the mask shown in FIG.

【0019】説明を明確にするため、上記方法は一例と
して5つの露光ステップを用いる。しかしながら、この
限定により限定される訳ではない、つまり、任意な回数
の露光ステップを行うことができる。図13から17ま
でに関し、前記フォトマスク102によりフォトレジス
ト110に最初の露光を行う。このステップ後にt1
ある。フォトマスクは複数の開口104を有する。フォ
トレジスト110はポジティブフォトレジスト、ネガテ
ィブフォトレジスト、ポリイミド又はポリアミー(polya
mie)であってよい。ネガティブフォトレジストを用いた
ときの結果は、当分野で知られるように、ポジティブフ
ォトレジストを用いたときの反転構造になる。本発明
は、実施例として、ポジティブフォトレジストを用い
る。次いで、フォトマスク102を矢印A1で示される
方向のスペーサにシフトする。次に、二度目の露光ステ
ップを行い、フォトマスク102の開口104を通した
光にポジティブフォトレジスト110を露光させる。同
様に、フォトマスク102を最後のシフトのときと同じ
スペースで再度シフトする。このステップは開始からt
2秒で完了する。従って、二度目の露光は(t2―t1
秒間行われている。同様に、3、4及び5度目の露光
を、それぞれ、(t3―t2)、(t4―t3)及び(t5
―t4)秒間行う。次のステップでは、図15―17に
示すように、上述の手順を繰り返す。図17にフォトレ
ジスト110の露光部が示されている。この露光部の露
光深さ(de)はde(ti)=(d/5)xiで表さ
れ、dはフォトレジスト110の厚さであり、xiはi
度目の露光ステップ終了までのトータルのシフトスペー
スである。図17には現像後の結果が示されている。最
終的なバンプ構造110は、開口幅がW/2で隣り合う
2つの開口間のスペーサもW/2であるマスクを用いて
完了する。なお、各シフトを約W/10とすれば、トー
タルなシフトスペーサ(Δx)は約W/2となる。この
条件だと、バンプ構造部が幅Wで形成される。図19及
び図20は、トータルシフトスペースを異ならせて、つ
まり(Δx)<W/2及び(Δx)>W/2にして、得
られた別の外形のバンプ構造部である。
For clarity, the above method is an example.
To use five exposure steps. However, this
Not limited by limitations, ie any number of times
Exposure step can be performed. 13 to 17
With respect to the photo resist 102,
The first exposure is performed on the target 110. After this step t1Second
is there. The photomask has a plurality of openings 104. Pho
The photoresist 110 is a positive photoresist, a negative photoresist.
Active photoresist, polyimide or polyamy
mie). Using negative photoresist
Sometimes the results are positive, as is known in the art.
An inverted structure is obtained when a photoresist is used. The present invention
Used positive photoresist as an example
You. Next, the photomask 102 is indicated by an arrow A1.
Shift to the spacer in the direction. Next, the second exposure step
And passed through the opening 104 of the photomask 102.
The positive photoresist 110 is exposed to light. same
The photomask 102 as in the last shift
Shift in space again. This step is t
TwoComplete in seconds. Therefore, the second exposure is (tTwo-T1)
Has been done for seconds. Similarly, the third, fourth and fifth exposure
To (tThree-TTwo), (TFour-TThree) And (tFive
-TFour) Seconds. In the next step, Figure 15-17
The above procedure is repeated as shown. FIG.
The exposure part of the dist 110 is shown. Exposure of this exposed part
The light depth (de) is de (ti) = (D / 5) xiRepresented by
Where d is the thickness of the photoresist 110 and xiIs i
Total shift space until the end of the second exposure step
Is. FIG. 17 shows the result after development. Most
The final bump structures 110 are adjacent to each other with an opening width of W / 2
Using a mask in which the spacer between the two openings is also W / 2
Complete. If each shift is about W / 10,
The total shift spacer (Δx) is about W / 2. this
Under the conditions, the bump structure is formed with the width W. FIG. 19 and FIG.
FIG. 20 shows that the total shift space is different.
And (Δx) <W / 2 and (Δx)> W / 2,
This is a bump structure portion having another external shape.

【0020】最後の方法に類似な別の方法がある。図2
1に移り、フォトマスク100aは最後の実施例と同じ
である。唯一の違いとして、このフォトマスク100a
は矢印で示す方向に定速(V)で動かされる。移動方向
も基板面に平行である。図21の結果、フォトマスク1
00aはV=(W/2)/tの速度で移動する。このフ
ォトマスク100aの速度を調整することにより、図2
1及び図22に示すようにバンプ構造部の形を決めるこ
ともできる。
There is another approach similar to the last one. FIG.
Moving to 1, the photomask 100a is the same as in the last embodiment. The only difference is that this photomask 100a
Is moved at a constant speed (V) in the direction indicated by the arrow. The moving direction is also parallel to the substrate surface. As a result of FIG.
00a moves at a speed of V = (W / 2) / t. By adjusting the speed of the photomask 100a, FIG.
1, and the shape of the bump structure can be determined as shown in FIG.

【0021】以上、本発明の好適な実施例を例示し説明
したが、この発明の精神及び範囲内で様々な変更が可能
である。
While the preferred embodiment of the invention has been illustrated and described, various modifications can be made within the spirit and scope of the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は本発明に係る液晶表示装置(LCD)の
横断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display (LCD) according to the present invention.

【図2】図2は本発明に係る液晶表示装置の上面図であ
る。
FIG. 2 is a top view of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図3】図3は本発明に係る液晶表示装置の側面図であ
る。
FIG. 3 is a side view of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図4】図4は本発明に係るバンプ構造部を示す図であ
る。
FIG. 4 is a view showing a bump structure according to the present invention.

【図5】図5は、本発明に係るバンプ構造部を有するL
CDの横断面図である。
FIG. 5 is a diagram showing an L having a bump structure according to the present invention;
It is a cross section of CD.

【図6】図6は、本発明に係るバンプ構造部を有するL
CDの横断面図である。
FIG. 6 is a perspective view showing an L having a bump structure according to the present invention;
It is a cross section of CD.

【図7】図7は、本発明の第1の方法に従いバンプ構造
部を形成するステップを示す基板横断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a substrate showing a step of forming a bump structure according to the first method of the present invention.

【図8】図8は、本発明の第1の方法に従いバンプ構造
部を形成するステップを示す基板横断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a substrate showing a step of forming a bump structure according to the first method of the present invention.

【図9】図9は、本発明の第1の方法に従いバンプ構造
部を形成するステップを示す基板横断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view of a substrate showing a step of forming a bump structure according to the first method of the present invention.

【図10】図10は、本発明の第1の方法に従いバンプ
構造部を形成するためのフォトマスクを示す。
FIG. 10 shows a photomask for forming a bump structure according to the first method of the present invention.

【図11】図11は、本発明の第1の実施例に係るバン
プ構造部の上面図である。
FIG. 11 is a top view of the bump structure according to the first embodiment of the present invention.

【図12】図12は、本発明の第2の方法に従いバンプ
構造部を形成するためのフォトマスクのデザインを示す
図である。
FIG. 12 is a diagram showing a design of a photomask for forming a bump structure according to the second method of the present invention.

【図13】図13は、本発明の第3の実施例に係るバン
プ構造部を形成するステップを示す基板横断面図であ
る。
FIG. 13 is a cross-sectional view of a substrate showing a step of forming a bump structure according to a third embodiment of the present invention.

【図14】図14は、本発明の第3の実施例に係るバン
プ構造部を形成するステップを示す基板横断面図であ
る。
FIG. 14 is a cross-sectional view of a substrate showing a step of forming a bump structure according to a third embodiment of the present invention.

【図15】図15は、本発明の第3の実施例に係るバン
プ構造部を形成するステップを示す基板横断面図であ
る。
FIG. 15 is a cross-sectional view of a substrate showing a step of forming a bump structure according to a third embodiment of the present invention.

【図16】図16は、本発明の第3の実施例に係るバン
プ構造部を形成するステップを示す基板横断面図であ
る。
FIG. 16 is a cross-sectional view of a substrate showing a step of forming a bump structure according to a third embodiment of the present invention.

【図17】図17は、本発明の第3の実施例に係るバン
プ構造部を形成するステップを示す基板横断面図であ
る。
FIG. 17 is a cross-sectional view of a substrate showing a step of forming a bump structure according to a third embodiment of the present invention.

【図18】図18は、本発明方法の実施例により形成さ
れるバンプ構造部の形状を示す基板横断面図である。
FIG. 18 is a cross-sectional view of a substrate showing a shape of a bump structure formed by an embodiment of the method of the present invention.

【図19】図19は、本発明方法の実施例により形成さ
れるバンプ構造部の形状を示す基板横断面図である。
FIG. 19 is a cross-sectional view of a substrate showing a shape of a bump structure formed by an embodiment of the method of the present invention.

【図20】図20は、本発明方法の実施例により形成さ
れるバンプ構造部の形状を示す基板横断面図である。
FIG. 20 is a cross-sectional view of a substrate showing a shape of a bump structure formed by an embodiment of the method of the present invention.

【図21】図21は、本発明の第3の実施例に係るバン
プ構造部を形成するステップを示す基板横断面図であ
る。
FIG. 21 is a cross-sectional view of a substrate showing a step of forming a bump structure according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100…ポーラライザ、102…アナライザ、104…
上側絶縁基板、106…コンペンゼータ、108…下側
絶縁基板。
100 ... polarizer, 102 ... analyzer, 104 ...
Upper insulating substrate, 106: compensator, 108: lower insulating substrate.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶表示装置の構造体であって、 一対の偏光子と、 この一対の偏光子の一方又は双方に形成された1つ又は
複数のコンペンゼータと、 このコンペンゼータと前記一対の偏光子の他方とに形成
された一対の透光性基板と、 この一対の透光性基板の少なくとも一方に形成され、そ
の一対の透光性基板の間に充填された液晶分子にプレチ
ルト角を付与するバンプ構造部と、 このバンプ構造部上と前記一対の透光性基板上との配向
層とを備える構造体。
1. A structure of a liquid crystal display device, comprising: a pair of polarizers; one or more compensators formed on one or both of the pair of polarizers; A pair of light-transmitting substrates formed on the other of the polarizers; and a liquid crystal molecule formed on at least one of the pair of light-transmitting substrates and filled between the pair of light-transmitting substrates. A structure comprising: a bump structure to be provided; and an alignment layer on the bump structure and the pair of light-transmitting substrates.
【請求項2】 前記バンプ構造部が傾斜面を備える請求
項1の構造体。
2. The structure according to claim 1, wherein said bump structure has an inclined surface.
【請求項3】 前記バンプ構造部の第1の端部の第1の
高さが前記バンプ構造部の第2の端部の第2の高さと異
なる請求項1に記載の構造体。
3. The structure according to claim 1, wherein a first height of a first end of the bump structure is different from a second height of a second end of the bump structure.
【請求項4】 前記バンプ構造部が傾斜面を備え、前記
バンプ構造部の第1の端部の第1の高さが前記バンプ構
造部の第2の端部の第2の高さと異なる請求項1に記載
の構造体。
4. The bump structure having an inclined surface, wherein a first height of a first end of the bump structure is different from a second height of a second end of the bump structure. Item 2. The structure according to Item 1.
【請求項5】 前記バンプ構造部はこのバンプ構造部が
所望の方向へ傾くように側面が異なる高さで形成され、
この側面に前記傾斜面の端部がそれぞれつながっている
請求項1に記載の構造体。
5. The bump structure is formed at different heights on its sides such that the bump structure is inclined in a desired direction.
The structure according to claim 1, wherein ends of the inclined surfaces are respectively connected to the side surfaces.
【請求項6】 前記配向層がポリイミド又はポリイミド
酸で形成されている請求項1に記載の構造体。
6. The structure according to claim 1, wherein the alignment layer is formed of polyimide or polyimide acid.
【請求項7】 前記一対の偏光子がポーラライザとアナ
ライザとで構成されている請求項1に記載の構造体。
7. The structure according to claim 1, wherein the pair of polarizers comprises a polarizer and an analyzer.
【請求項8】 前記液晶分子がカイラールネマチックに
配向され、1画素内に2つの領域があってこの2つの領
域間に重なり部が形成されている請求項1に記載の構造
体。
8. The structure according to claim 1, wherein the liquid crystal molecules are aligned in a chiral nematic manner, and two regions are formed in one pixel, and an overlap portion is formed between the two regions.
【請求項9】 前記重なり部にある前記液晶分子の基板
に投影されたチルト方向(方位)が、前記2つの領域に
ある前記液晶分子のチルト方向に対し、180度より大
きいか小さい角度を有する請求項7に記載の構造体。
9. The tilt direction (azimuth) of the liquid crystal molecules in the overlapping portion projected on the substrate has an angle greater than or less than 180 degrees with respect to the tilt direction of the liquid crystal molecules in the two regions. A structure according to claim 7.
【請求項10】 液晶表示装置の構造であって、 一対の偏光子と、 この一対の偏光子の一方又は双方に形成された1つ又は
複数のコンペンゼータと、 このネガチブコンペンゼータと前記一対の偏光子の他方
とに形成された一対の透光性基板と、 この一対の透光性基板の少なくとも一方に形成され、そ
の一対の透光性基板の間に充填された液晶分子にプレチ
ルト角を付与するバンプ構造部であって、このバンプ構
造部が傾斜面からなり、このバンプ構造部の第1の端部
の第1の高さがそのバンプ構造部の第2の端部の第2の
高さと異なるバンプ構造部と、 このバンプ構造部上方と前記一対の透光性基板上方との
配向層とを備える構造体。
10. A liquid crystal display device comprising: a pair of polarizers; one or more compensators formed on one or both of the pair of polarizers; a negative compensator and the pair of polarizers; A pair of light-transmitting substrates formed on the other of the polarizers; and a liquid crystal molecule formed on at least one of the pair of light-transmitting substrates and filled between the pair of light-transmitting substrates. A bump structure to be applied, wherein the bump structure comprises an inclined surface, and a first height of a first end of the bump structure is a second height of a second end of the bump structure. A structure comprising: a bump structure having a different height; and an alignment layer above the bump structure and above the pair of light-transmitting substrates.
【請求項11】 前記バンプ構造部が更に側面を有して
いる請求項10に記載の構造体。
11. The structure according to claim 10, wherein the bump structure further has a side surface.
【請求項12】 前記配向層がポリイミド又はポリイミ
ド酸で形成されている請求項10に記載の構造体。
12. The structure according to claim 10, wherein the alignment layer is made of polyimide or polyimide acid.
【請求項13】 前記一対の前記偏光子がポーラライザ
とアナライザとで構成されている請求項10に記載の構
造体。
13. The structure according to claim 10, wherein said pair of polarizers comprises a polarizer and an analyzer.
【請求項14】 前記液晶分子がカイラールネマチック
に配向され、1画素内に2つの領域があってこの2つの
領域間に重なり部が形成されている請求項10に記載の
構造体。
14. The structure according to claim 10, wherein the liquid crystal molecules are aligned in a chiral nematic manner, and two regions are formed in one pixel, and an overlap portion is formed between the two regions.
【請求項15】 前記重なり部にある前記液晶分子の基
板に投影されたチルト方向(方位)が、前記2つの領域
にある前記液晶分子のチルト方向に対し、180度より
大きいか小さい角度を有する請求項14に記載の構造
体。
15. A tilt direction (azimuth) of the liquid crystal molecules in the overlapping portion projected on the substrate has an angle greater than or less than 180 degrees with respect to the tilt direction of the liquid crystal molecules in the two regions. The structure according to claim 14.
【請求項16】 バンプ構造部を形成するフォトマスク
であって、互いに鏡像となる2つの主要部からなり、こ
のフォトマスクに形成された開口の幅が中央部から縁部
へ向かって増大し、隣り合う2つの開口間のスペースが
前記中央部から前記縁部へ向かって減少するフォトマス
ク。
16. A photomask for forming a bump structure, comprising two main portions that are mirror images of each other, wherein the width of an opening formed in the photomask increases from a center to an edge, A photomask in which a space between two adjacent openings decreases from the center toward the edge.
JP11136243A 1999-05-17 1999-05-17 Multi-domain liquid crystal display device with bump structural part Pending JP2000330118A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100831305B1 (en) * 2001-12-29 2008-05-22 엘지디스플레이 주식회사 Multi-domain liquid crystal display device and Manufacturing Method using the same
CN107037635A (en) * 2011-08-29 2017-08-11 夏普株式会社 The manufacture method of liquid crystal display device

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