JP2000281642A - New 1,4-phenylenedisulfonamide derivative and 1,4- phenylenedisulfonyloxyimide compound having acid generating ability - Google Patents

New 1,4-phenylenedisulfonamide derivative and 1,4- phenylenedisulfonyloxyimide compound having acid generating ability

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JP2000281642A
JP2000281642A JP11092009A JP9200999A JP2000281642A JP 2000281642 A JP2000281642 A JP 2000281642A JP 11092009 A JP11092009 A JP 11092009A JP 9200999 A JP9200999 A JP 9200999A JP 2000281642 A JP2000281642 A JP 2000281642A
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JP
Japan
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compound
group
represented
methyl
acid
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JP11092009A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsugio Yamaoka
亜夫 山岡
Shigeru Takahara
茂 高原
Hidekazu Kobayashi
英一 小林
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new compound capable of generating an acid by exposure to radiations such as far ultraviolet rays, especially a KrF eximer laser, utilizable as a photoacid generator, having an acid generating ability and useful as a photoresist for producing an LSI in the electronics field. SOLUTION: This compound is represented by formula I [R1 is H, a 1-4C alkyl or SO2R2 (R2 is a 1-12C alkyl or the like)], e.g. 5-(2-methylcyclopentane-1,3- dione)2-methyl-1,4-phenylenedimethanesulfonamide. Furthermore, the above compound (when R1 is H atom) is obtained by reacting a compound represented by formula II with R2SO2Cl/alkali, reacting the resultant compound with Pb(CH3 CO2)4/CH3CH2OH, deactivating the Pb(CH3CO2)4 with ethylene glycol and reacting the prepared compound with a compound represented by formula III.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、遠紫外光、電子
線、X線などに感応する感放射線性材料として有用な新
規化合物に関し、さらに詳しくは、KrFエキシマレー
ザー光(248.4nm)、ArFエキシマレーザー光
(193nm)、電子線、X線などの放射線を照射する
ことにより酸を発生する新規化合物に関する。本発明の
化合物は、エレクトロニクス分野におけるLSI、VL
SI製造用のフォトレジストなどに利用される。
The present invention relates to a novel compound useful as a radiation-sensitive material sensitive to far ultraviolet light, an electron beam, X-rays, etc., and more particularly to a KrF excimer laser beam (248.4 nm), ArF The present invention relates to a novel compound which generates an acid by irradiating radiation such as excimer laser light (193 nm), an electron beam, and X-ray. The compounds of the present invention can be used in LSIs and VLs in the electronics field.
It is used as a photoresist for manufacturing SI.

【0002】[0002]

【従来の技術】集積回路素子の製造に代表される微細加
工の分野においては、より高い集積度を得るために、サ
ブクオーターミクロン(0.20μm)レベルの微細加
工を可能とするリソグラフィー技術の開発が進められて
おり、その一つの手段として、より波長の短い放射線の
利用が検討されている。このような短波長の放射線とし
ては、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレー
ザーに代表される遠紫外線、X線、電子線などを挙げる
ことができ、特にKrFエキシマレーザーあるいはAr
Fエキシマレーザーが注目されている。そして、これら
の放射線を利用して高感度、高解像度のレジストを得る
ための一つの方法として、いわゆる化学増幅型レジスト
が提案されている。例えばポジ型の化学増幅型レジスト
は、放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生
剤(以下、「光酸発生剤」という。)と、現像液には溶
解しない成分であって酸解離性官能基を有しこの官能基
が酸を触媒として脱離することにより現像液に易溶性と
なる成分とからなる。
2. Description of the Related Art In the field of microfabrication represented by the manufacture of integrated circuit elements, in order to obtain a higher degree of integration, the development of lithography technology that enables submicrometer (0.20 μm) level microfabrication. The use of radiation having a shorter wavelength is being studied as one of the means. Examples of such short-wavelength radiation include a bright line spectrum of a mercury lamp, deep ultraviolet rays represented by an excimer laser, X-rays, and electron beams. Particularly, a KrF excimer laser or Ar
F excimer lasers are receiving attention. As one method for obtaining high-sensitivity, high-resolution resists using these radiations, so-called chemically amplified resists have been proposed. For example, a positive chemically amplified resist is composed of a radiation-sensitive acid generator (hereinafter, referred to as a “photoacid generator”) that generates an acid upon irradiation with a component that is insoluble in a developing solution and is acid dissociated. And a component which has a hydrophilic functional group and which becomes easily soluble in a developer when the functional group is eliminated using an acid as a catalyst.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、この
光酸発生剤としても利用可能な、酸発生能を有する新規
な1,4−フェニレンジスルホンアミド誘導体、および
1,4−フェニレンジスルホニロキシイミド化合物を提
供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel 1,4-phenylenedisulfonamide derivative and 1,4-phenylenedisulfoamide having an acid-generating ability, which can be used as a photoacid generator. An object of the present invention is to provide a nitroximide compound.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】[A]1,4−フェニレ
ンジスルホンアミド誘導体について [A−1]構造 本発明の1,4−フェニレンジスルホンアミド誘導体
は、下記式(1)により表される。
Means for Solving the Problems [A] Regarding 1,4-phenylenedisulfonamide derivative [A-1] Structure The 1,4-phenylenedisulfonamide derivative of the present invention is represented by the following formula (1).

【0005】[0005]

【化5】 [式中、R1は水素原子、炭素数1〜4の直鎖状または
分岐状アルキル基あるいは−SO22で表される有機基
を示し、R2は炭素数1〜12の直鎖状、分岐状あるい
は環状のアルキル基、下記式(1a)で表される基、ま
たはp−Rs1−C 64−(ただし、Rs 1は炭素数1〜4
の直鎖状あるいは分岐状アルキル基である。)基を示
す。
Embedded image[Wherein, R1Is a hydrogen atom, a C 1-4 linear or
Branched alkyl group or -SOTwoRTwoOrganic group represented by
And RTwoRepresents a linear, branched or C1-C12
Is a cyclic alkyl group, a group represented by the following formula (1a),
Or p-Rs1-C 6HFour-(However, Rs 1Is 1 to 4 carbon atoms
Is a linear or branched alkyl group. ) Indicates a group
You.

【化6】 Embedded image ]

【0006】上記式(1)に示す化合物一分子は二つの
1を備えるが、これらは同じ基であっても異なる基で
あってもよい。R1が直鎖状あるいは分岐状アルキル基
である場合、その具体例としてはメチル基、エチル基、
n−プロピル基、n−ブチル基、i−プロピル基、se
c−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられる。
本発明においては、R1がいずれも水素原子または−S
22で表される有機基であることが好ましい。上記式
(1)における基−SO22は、放射線の照射により脱
離してスルホン酸R2SO3Hを生じる官能基である。上
記式(1)に示す化合物一分子は二つないし四つのR2
を備えるが、これらは同じ基であっても異なる基であっ
てもよい。R2が直鎖状、分岐状または環状のアルキル
基である場合、その具体例としてはメチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、i−プロピル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシ
ル基などが挙げられる。本発明においては、R2がいず
れもメチル基であるか、またはいずれも上記式(1a)
に示す基であることが好ましい。また、R2がp−Rs1
−C64−基である場合、このRs1の具体例としてはメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、i
−プロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基
などが挙げられる。本発明においては、Rs1がメチル基
またはtert−ブチル基であることが好ましい。
One molecule of the compound represented by the above formula (1) has two R 1 s, which may be the same or different. When R 1 is a linear or branched alkyl group, specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group,
n-propyl group, n-butyl group, i-propyl group, se
Examples thereof include a c-butyl group and a tert-butyl group.
In the present invention, R 1 is a hydrogen atom or -S
It is preferably an organic group represented by O 2 R 2 . The group —SO 2 R 2 in the above formula (1) is a functional group which is eliminated by irradiation with radiation to generate a sulfonic acid R 2 SO 3 H. One molecule of the compound represented by the above formula (1) has two to four R 2
Which may be the same or different groups. When R 2 is a linear, branched or cyclic alkyl group, specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an i-propyl group,
Examples include a sec-butyl group, a tert-butyl group, a cyclohexyl group, and the like. In the present invention, all of R 2 are methyl groups, or both of the above formula (1a)
The groups shown in the above are preferred. Also, R 2 is p-R s1
When it is a —C 6 H 4 — group, specific examples of R s1 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, and an i-type group.
-Propyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and the like. In the present invention, R s1 is preferably a methyl group or a tert-butyl group.

【0007】[A−2]代表的な合成方法 本発明の1,4−フェニレンジスルホンアミド誘導体
は、R1が水素原子である場合、例えば下記式(a)に
示す方法により合成することができる。
[A-2] Representative Synthetic Method [0007] When R 1 is a hydrogen atom, the 1,4-phenylenedisulfonamide derivative of the present invention can be synthesized by, for example, a method represented by the following formula (a). .

【0008】[0008]

【式1】 (Equation 1)

【0009】あるいは、下記式(a’)に示す方法を用
いてもよい。
Alternatively, a method represented by the following formula (a ') may be used.

【0010】[0010]

【式2】 (Equation 2)

【0011】なお、R1が−SO22で表される有機基
である場合は、R1が水素原子である1,4−フェニレ
ンジスルホンアミド誘導体に、ピリジン存在下、R2
2Clで表されるスルホニルクロリドを反応させるな
どの方法により合成することができる。
[0011] Incidentally, when R 1 is an organic group represented by -SO 2 R 2 is, R 1 is hydrogen atom in 1,4-phenylene sulfonamide derivatives, pyridine presence, R 2 S
It can be synthesized by a method such as reacting a sulfonyl chloride represented by O 2 Cl.

【0012】[A−3]光分解機構 本発明の1,4−フェニレンジスルホンアミド誘導体
は、ArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザー
などの放射線の照射により、例えば下記式(a”)にし
たがって酸を発生する。
[A-3] Photodecomposition Mechanism The 1,4-phenylenedisulfonamide derivative of the present invention generates an acid by irradiation with radiation such as an ArF excimer laser or a KrF excimer laser, for example, according to the following formula (a ″). I do.

【0013】[0013]

【式3】 (Equation 3)

【0014】[B]1,4−フェニレンジスルホニロキ
シイミド化合物について [B−1]構造 本発明の1,4−フェニレンジスルホニロキシイミド化
合物は、下記式(2)で表される。
[B] 1,4-phenylenedisulfonyloxyimide compound [B-1] Structure The 1,4-phenylenedisulfonyloxyimide compound of the present invention is represented by the following formula (2).

【0015】[0015]

【化7】 [式中、R3は炭素数1〜12の直鎖状、分岐状あるい
は環状のアルキル基、下記式(2a)で表される基、ま
たはp−Rs2−C64−(ただし、Rs2は炭素数1〜4
の直鎖状あるいは分岐状アルキル基である。)基を示
す。
Embedded image Wherein, R 3 represents a linear 1 to 12 carbon atoms, branched or cyclic alkyl group, a group represented by the following formula (2a) or p-R s2 -C 6 H 4 , - ( provided that R s2 has 1 to 4 carbon atoms
Is a linear or branched alkyl group. ) Represents a group.

【化8】 Embedded image ]

【0016】上記式(2)における基SO23は、放射
線の照射により脱離してスルホン酸R3SO3Hを生じる
官能基である。上記式(2)に示す化合物一分子は二つ
のR 3を備えるが、これらは同じ基であっても異なる基
であってもよい。このR3が直鎖状、分岐状または環状
のアルキル基である場合、その具体例としてはメチル
基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、i−プ
ロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、シ
クロヘキシル基などが挙げられる。本発明においては、
3がいずれもメチル基であるか、またはいずれも上記
式(2a)に示す基であることが好ましい。また、R3
がp−Rs2−C64−基である場合、このRs2の具体例
としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブ
チル基、i−プロピル基、sec−ブチル基、tert
−ブチル基などが挙げられる。本発明においては、Rs2
がメチル基またはtert−ブチル基であることが好ま
しい。
The group SO in the above formula (2)TwoRThreeIs the radiation
By irradiation with X-rays to release sulfonic acid RThreeSOThreeProduces H
It is a functional group. One molecule of the compound represented by the above formula (2) is two
R ThreeThese are the same groups but different groups.
It may be. This RThreeIs linear, branched or cyclic
When the alkyl group is, a specific example thereof is methyl
Group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, i-
Propyl group, sec-butyl group, tert-butyl group,
And a clohexyl group. In the present invention,
RThreeAre both methyl groups, or both are
It is preferably a group represented by the formula (2a). Also, RThree
Is p-Rs2-C6HFour-Rs2Examples of
Are methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl
Tyl group, i-propyl group, sec-butyl group, tert
-Butyl group and the like. In the present invention, Rs2
Is preferably a methyl group or a tert-butyl group.
New

【0017】[B−2]代表的な合成方法 本発明の1,4−フェニレンジスルホニロキシイミド化
合物は、例えば下記式(b)に示す方法により合成する
ことができる。
[B-2] Representative Synthesis Method The 1,4-phenylenedisulfonyloxyimide compound of the present invention can be synthesized, for example, by the method shown in the following formula (b).

【0018】[0018]

【式4】 (Equation 4)

【0019】[B−3]光分解機構 本発明の1,4−フェニレンジスルホニロキシイミド化
合物は、ArFエキシマレーザー、KrFエキシマレー
ザーなどの放射線の照射により、下記式(b”)にした
がって酸を発生する。
[B-3] Photodecomposition mechanism The 1,4-phenylenedisulfonyloxyimide compound of the present invention can be converted into an acid according to the following formula (b ″) by irradiation with radiation such as an ArF excimer laser or a KrF excimer laser. Occurs.

【0020】[0020]

【式5】 (Equation 5)

【0021】[C]用途 本発明の1,4−フェニレンジスルホンアミド誘導体、
および1,4−フェニレンジスルホニロキシイミド化合
物は、上述のように放射線の照射により酸を発生するの
で、化学増幅型レジスト材料の光酸発生剤として有用で
ある。特に、上記式(1)で示される1,4−フェニレ
ンジスルホンアミド誘導体は、ArFエキシマレーザー
およびKrFエキシマレーザーに対する適度な透明性を
有するため、この光酸化剤として好適である。なお、こ
の透明性が低すぎる場合には照射光による酸発生効率が
低くなるため感度が低下し、一方透明性が高すぎる場合
にはレジスト下層部まで十分な照射光が届かずパターン
が台形状になるなどの問題が生じる。また、本発明の化
合物は、レジスト材料の他に、写真製版や刷版材料など
の光反応を利用する用途における感光性試薬としても有
用である。
[C] Applications 1,4-phenylenedisulfonamide derivatives of the present invention,
The 1,4-phenylenedisulfonyloxyimide compound and the 1,4-phenylenedisulfonyloxyimide compound generate an acid upon irradiation with radiation as described above, and thus are useful as a photoacid generator for a chemically amplified resist material. In particular, the 1,4-phenylenedisulfonamide derivative represented by the above formula (1) has a suitable transparency to an ArF excimer laser and a KrF excimer laser, and thus is suitable as the photooxidant. If the transparency is too low, the efficiency of acid generation by irradiation light is reduced, and the sensitivity is reduced.On the other hand, if the transparency is too high, sufficient irradiation light does not reach the lower layer of the resist and the pattern is trapezoidal. And other problems arise. The compounds of the present invention are also useful as photosensitive reagents in applications utilizing photoreactions, such as photolithography and printing plate materials, in addition to resist materials.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明をさら
に具体的に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples.

【0023】[I]1,4−フェニレンジスルホンアミ
ド誘導体の合成 実施例1;5−(2−メチルシクロペンタン−1,3−
ジオン)2−メチル−1,4−フェニレンジメタンスル
ホンアミド(以下、「MM−Ms」という。)の合成 (1)2−メチル−1,4−フェニレンジメタンスルホ
ンアミドの合成 反応容器中において2−メチル−1,4−フェニレンジ
アミンスルフェート9.734g(44.2mol)を
水に溶かし、NaOHペレット3.504g(8.76
×10-2mol)を加えて中和した。さらに、20重量
%濃度のNaOH水溶液50mlを加えて系内をアルカ
リ性とし、攪拌しながら冷水浴にて冷却した。次いで、
メタンスルホニルクロライド10ml(1.29×10
-4mol)を30分間かけて滴下した。滴下終了から3
0分後、10%濃度のH2SO4水溶液を加えて系内を酸
性とし、生成した白色の沈殿物を反応液から濾別してア
ルカリ水に再溶解させた。ここに活性炭を加えて130
℃にて1時間攪拌した後、氷酢酸中に濾過して再結晶さ
せることにより、2−メチル−1,4−フェニレンジメ
タンスルホンアミド96gを白色針状結晶として得た
(収率70%)。
[I] Synthesis of 1,4-phenylenedisulfonamide derivative Example 1; 5- (2-methylcyclopentane-1,3-
Synthesis of dione) 2-methyl-1,4-phenylenedimethanesulfonamide (hereinafter referred to as “MM-Ms”) (1) Synthesis of 2-methyl-1,4-phenylenedimethanesulfonamide 9.734 g (44.2 mol) of 2-methyl-1,4-phenylenediamine sulfate was dissolved in water, and 3.504 g of NaOH pellets (8.76 g) were dissolved.
× 10 -2 mol) and neutralized. Further, 50 ml of a 20% by weight aqueous solution of NaOH was added to make the system alkaline, and the system was cooled in a cold water bath with stirring. Then
Methanesulfonyl chloride 10 ml (1.29 × 10
-4 mol) was added dropwise over 30 minutes. 3 after the end of dripping
After 0 minute, a 10% aqueous solution of H 2 SO 4 was added to make the inside of the system acidic, and the formed white precipitate was filtered off from the reaction solution and redissolved in alkaline water. Add activated charcoal here and add 130
After stirring at 1 ° C. for 1 hour, the mixture was filtered into glacial acetic acid and recrystallized to obtain 96 g of 2-methyl-1,4-phenylenedimethanesulfonamide as white needle crystals (yield 70%). .

【0024】得られた化合物のIRスペクトルデータを
以下に示す。 IR;(cm-1) 3430,1555(−NH−) 3959,1495(1,2,4位に置換基のある芳香
環) 1305,1140(S=O) 1200(−C−N−) 1305〜1310(Ar−NH)
The IR spectrum data of the obtained compound is shown below. IR; (cm -1 ) 3430,1555 (-NH-) 3959, 1495 (aromatic ring having a substituent at 1, 2, 4 position) 1305, 1140 (S = O) 1200 (-CN-) 1305 ~ 1310 (Ar-NH)

【0025】(2)2−メチル−1,4−フェニレンジ
メタンスルホンイミドの合成 上記(1)の工程により得られた2−メチル−1,4−
フェニレンジメタンスルホンアミド0.991g(3.
78×10-3mol)を、窒素雰囲気下の反応容器中に
おいて氷酢酸25mlに溶解させ、四酢酸鉛1.693
gを投入した。6時間攪拌した後、エチレングリコール
0.3mlを加えて四酢酸鉛を失活させた。その後、濾
過および精製を行って2−メチル−1,4−フェニレン
ジメタンスルホンイミド0.1gを黄色粉末状結晶とし
て得た。
(2) Synthesis of 2-methyl-1,4-phenylenedimethanesulfonimide 2-methyl-1,4-phenylene obtained by the above step (1)
0.991 g of phenylenedimethanesulfonamide (3.
78 × 10 −3 mol) was dissolved in 25 ml of glacial acetic acid in a reaction vessel under a nitrogen atmosphere, and 1.693 of lead tetraacetate was dissolved.
g. After stirring for 6 hours, 0.3 ml of ethylene glycol was added to inactivate the lead tetraacetate. Then, filtration and purification were performed to obtain 0.1 g of 2-methyl-1,4-phenylenedimethanesulfonimide as yellow powdery crystals.

【0026】得られた化合物のIRスペクトルデータを
以下に示す。 IR;(cm-1) 1305,1140(S=O) 1560(−C=N−) なお、原料の2−メチル−1,4−フェニレンジメタン
スルホンアミドにおいてみられた吸収のうち、3430
cm-1(−NH−)、3050,1495cm -1(1,
2,4位に置換基のある芳香環)、1200cm-1(−
C−N−)、1305〜1310cm-1(φ−NH)の
吸収は消失した。
The IR spectrum data of the obtained compound was
It is shown below. IR; (cm-11305, 1140 (S = O) 1560 (-C = N-) The starting material 2-methyl-1,4-phenylenedimethane
Of the absorption observed for the sulfonamide, 3430
cm-1(-NH-), 3050, 1495cm -1(1,
Aromatic ring having substituents at positions 2 and 4), 1200 cm-1(-
CN-), 1305 to 1310 cm-1(Φ-NH)
Absorption disappeared.

【0027】(3)MM−Msの合成 反応容器中において、2−メチルシクロペンタン−1,
3−ジオン0.114g(1.015×10-3mol)
を25mlの水に溶解させ、0.5当量のナトリウムメ
トキシドを加えた。次いで、室温で攪拌しながら、上記
(2)の工程により得られた2−メチル−1,4−フェ
ニレンジメタンスルホンイミド0.200g(8.91
×10-4mol)を25mlの水に溶解させた溶液を3
0分かけて滴下した。滴下終了から一時間攪拌を続けた
後、濾過してカラム分別法で精製することにより、下記
式(3)に示す構造のMM−Ms 0.31gを粉末と
して得た(収率ほぼ100%)。示差走査熱量計により
測定したこの化合物の融点は226.2℃、熱分解点は
257.8℃であった。
(3) Synthesis of MM-Ms In a reaction vessel, 2-methylcyclopentane-1,
0.114 g (1.015 × 10 −3 mol) of 3-dione
Was dissolved in 25 ml of water, and 0.5 equivalent of sodium methoxide was added. Next, while stirring at room temperature, 0.200 g (8.91 g) of 2-methyl-1,4-phenylenedimethanesulfonimide obtained in the step (2) was obtained.
× 10 -4 mol) in 25 ml of water.
It was added dropwise over 0 minutes. After stirring for 1 hour from the end of the dropwise addition, the mixture was filtered and purified by a column fractionation method to obtain 0.31 g of MM-Ms having a structure represented by the following formula (3) as a powder (yield almost 100%). . This compound was found to have a melting point of 226.2 ° C and a thermal decomposition point of 257.8 ° C, as measured by differential scanning calorimetry.

【0028】[0028]

【化9】 Embedded image

【0029】得られたMM−MsのIRスペクトルデー
タを以下に示し、そのチャートを図1に示す。 IR;(cm-1) 3460,1555(−NH−) 1740,865(1,2,4,5位に置換基のある芳
香環) 1305,1150(S=O) 1305〜1315(Ar−NH) 1210(−C−N−)
The IR spectrum data of the obtained MM-Ms is shown below, and its chart is shown in FIG. IR; (cm -1 ) 3460,1555 (-NH-) 1740,865 (aromatic ring having a substituent at the 1,2,4,5-position) 1305,1150 (S = O) 1305 to 1315 (Ar-NH) ) 1210 (-CN-)

【0030】このMM−Msにつき、紫外線透過性を評
価した。すなわち、MM−Ms 0.03046gをア
セトニトリル10mlに溶解し、その紫外線吸収スペク
トルを測定した。その結果を図2に示す。このMM−M
sの193nmにおける紫外線吸収は0.673、最大
吸収波長λmaxは210nm、モル吸光係数εは858
3.0であった。
The MM-Ms was evaluated for ultraviolet transmittance. That is, 0.03046 g of MM-Ms was dissolved in 10 ml of acetonitrile, and the ultraviolet absorption spectrum was measured. The result is shown in FIG. This MM-M
s at 193 nm has an ultraviolet absorption of 0.673, a maximum absorption wavelength λmax of 210 nm, and a molar absorption coefficient ε of 858.
3.0.

【0031】さらに、このMM−Msの光反応性(酸発
生能)を評価した。すなわち、MM−Msを1.96×
10-3mol/l、TBPBNa(Tetra-Bromophenol
Blue Na)を9.31×10-4mol/lの濃度で含む
アセトニトリル溶液を調整し、この溶液に低圧水銀灯を
照射してその吸収スペクトルの経時変化を観察した。そ
の結果を図3に示す。照射時間が長くなるにつれてキノ
イド構造に起因する620nmの吸収が次第に減少して
いることから、紫外線の照射によりMM−Msから酸が
発生していることが判る。
Further, the photoreactivity (acid generating ability) of the MM-Ms was evaluated. That is, MM-Ms is 1.96 ×
10 -3 mol / l, TBPBNa (Tetra-Bromophenol
Acetonitrile solution containing Blue Na) at a concentration of 9.31 × 10 −4 mol / l was prepared, and this solution was irradiated with a low-pressure mercury lamp to observe the change over time in its absorption spectrum. The result is shown in FIG. Since the absorption at 620 nm due to the quinoid structure gradually decreases as the irradiation time becomes longer, it can be seen that acid is generated from MM-Ms by irradiation with ultraviolet rays.

【0032】実施例2;5−(2−メチルシクロペンタ
ン−1,3−ジオン)2−メチル−1,4−フェニレン
テトラメタンスルホンアミド(以下、「MS.5」とい
う。)の合成 反応容器中において、実施例1で得られたMM−Ms
0.5g(2.170×10-3mol)を10mlのピ
リジンに溶解させ、メタンスルホニルクロライド1ml
(1.292×10-2mol)を、窒素雰囲気下で30
分間かけて滴下した。滴下終了後、24時間攪拌を続け
ると、溶液の色が無色から赤色へと変化した。その後、
エバポレーションを行って系内のピリジンを除去し、ク
ロロホルムを用いて再結晶を行うことにより、下記式
(4)に示す構造のMS.5 0.24gを得た(収率
24.6%)。
Example 2 Synthesis of 5- (2-methylcyclopentane-1,3-dione) 2-methyl-1,4-phenylenetetramethanesulfonamide (hereinafter referred to as "MS.5") Reaction vessel MM-Ms obtained in Example 1
0.5 g (2.170 × 10 −3 mol) is dissolved in 10 ml of pyridine, and 1 ml of methanesulfonyl chloride is dissolved.
(1.292 × 10 -2 mol) in a nitrogen atmosphere for 30
It was added dropwise over a period of minutes. When the stirring was continued for 24 hours after the completion of the dropping, the color of the solution changed from colorless to red. afterwards,
The pyridine in the system was removed by evaporation, and recrystallization was performed using chloroform. 5 0.24 g was obtained (yield 24.6%).

【0033】[0033]

【化10】 Embedded image

【0034】このMS.5につき、光反応性(酸発生
能)を評価した。すなわち、MS.5を1.52×10
-5mol/l、TBPBNaを1.82×10-6mol
/lの濃度で含むアセトニトリル溶液を調製し、この溶
液に低圧水銀灯を照射してその吸収スペクトルの経時変
化を観察した。その結果を図4に示す。照射時間が長く
なるにつれてキノイド構造に起因する620nmの吸収
が減少していることから、紫外線の照射によりMS.5
から酸が発生していることが判る。
This MS. The photoreactivity (acid generating ability) of each of the samples No. 5 was evaluated. That is, MS. 5 to 1.52 × 10
-5 mol / l, 1.82 × 10 -6 mol of TBPBNa
An acetonitrile solution was prepared at a concentration of / l, and the solution was irradiated with a low-pressure mercury lamp to observe the change over time in its absorption spectrum. FIG. 4 shows the results. As the irradiation time becomes longer, the absorption at 620 nm due to the quinoid structure decreases. 5
From this, it can be seen that acid is generated.

【0035】実施例3;5−(2−メチルシクロペンタ
ン−1,3−ジオン)2−メチル−1,4−フェニレン
ジカンファースルホンアミド(以下、「MM−Cmp」
という。)の合成 (1)2−メチル−1,4−フェニレンジアミンの合成 2−メチル−1,4−フェニレンジアミンスルフェート
2.071g(9.08×10-3mol)に酢酸エチル
30mlおよび水15mlを加え、さらにNaOHペレ
ット0.962g(2.18×10-2mol)を加えて
分液漏斗にて抽出した。分液した酢酸エチル層に対して
この操作を4回繰り返した後、酢酸エチルを留去して2
−メチル−1,4−フェニレンジアミン1.09gを得
た(収率98%)。
Example 3 5- (2-methylcyclopentane-1,3-dione) 2-methyl-1,4-phenylenedicamphorsulfonamide (hereinafter "MM-Cmp")
That. (1) Synthesis of 2-methyl-1,4-phenylenediamine 2.071 g (9.08 × 10 −3 mol) of 2-methyl-1,4-phenylenediamine sulfate was mixed with 30 ml of ethyl acetate and 15 ml of water. Was added, and 0.962 g (2.18 × 10 -2 mol) of NaOH pellets were further added, followed by extraction with a separating funnel. This operation was repeated four times with respect to the separated ethyl acetate layer, and then ethyl acetate was distilled off.
1.09 g of -methyl-1,4-phenylenediamine was obtained (yield 98%).

【0036】得られた化合物のIRスペクトルデータを
以下に示す。 IR;(cm-1) 3400,1610、860(−NH2) 1160、1090、1040、805、700(1,
2,4位に置換基のある芳香環) 1305,1140(S=O) 1220(−C−N−)
The IR spectrum data of the obtained compound is shown below. IR; (cm -1 ) 3400, 1610, 860 (-NH 2 ) 1160, 1090, 1040, 805, 700 (1,
Aromatic ring having a substituent at 2,4-position) 1305, 1140 (S = O) 1220 (-CN-)

【0037】(2)2−メチル−1,4−フェニレンジ
カンファースルホンアミドの合成 上記(1)の工程により得られた2−メチル−1,4−
フェニレンジアミン1.1095g(9.08×10-3
mol)をピリジン33mlに溶解させ、(IS)-(+)-10-
カンファージスルホニルクロライド4.732g(1.
89×10-2mol)の13mlピリジン溶液を添加し
た。12時間攪拌した後、反応液をHCl水溶液中に注
ぎ、生成した茶色の沈殿物を濾別した。この沈殿物を氷
酢酸中に再溶解させて冷却し、生成した沈殿物を濾別し
て2−メチル−1,4−フェニレンジカンファースルホ
ンアミド1.38gを白色粉末状結晶として得た(収率
23.7%)。
(2) Synthesis of 2-methyl-1,4-phenylenedicamphorsulfonamide 2-methyl-1,4-phenylene obtained by the above step (1)
1.1095 g of phenylenediamine (9.08 × 10 −3)
mol) was dissolved in 33 ml of pyridine, and (IS)-(+)-10-
4.732 g of camphage sulfonyl chloride (1.
89 × 10 -2 mol) in 13 ml of pyridine was added. After stirring for 12 hours, the reaction solution was poured into an aqueous HCl solution, and the formed brown precipitate was separated by filtration. This precipitate was redissolved in glacial acetic acid and cooled, and the formed precipitate was separated by filtration to obtain 1.38 g of 2-methyl-1,4-phenylenedicamphorsulfonamide as white powdery crystals (yield 23). 0.7%).

【0038】得られた化合物のIRスペクトルデータを
以下に示す。 IR;(cm-1) 3430、1560〜1555(−NH−) 1740(−C=O) 2950(−CH3) 1330,1140 1200(−C−N−)
The IR spectrum data of the obtained compound is shown below. IR; (cm -1 ) 3430, 1560 to 1555 (-NH-) 1740 (-C = O) 2950 (-CH 3 ) 1330, 1140 1200 (-CN-)

【0039】(3)2−メチル−1,4−フェニレンジ
カンファースルホンイミドの合成 上記(2)の工程により得られた2−メチル−1,4−
フェニレンジカンファースルホンアミド0.991g
(1.80×10-3mol)を氷酢酸25mlに溶解さ
せ、四酢酸鉛1.732gを投入した。8時間攪拌した
後、少量のエチレングリコールを加えて四酢酸鉛を失活
させた。反応液を濃縮したのち冷却し、生成した結晶を
濾別して乾燥することにより、2−メチル1,4−フェ
ニレンジカンファースルホンイミドを、収率50%で、
黄色粉末として得た。
(3) Synthesis of 2-methyl-1,4-phenylenedicamphorsulfonimide 2-methyl-1,4-phenylene obtained by the above step (2)
0.991 g of phenylene camphorsulfonamide
(1.80 × 10 −3 mol) was dissolved in 25 ml of glacial acetic acid, and 1.732 g of lead tetraacetate was added. After stirring for 8 hours, a small amount of ethylene glycol was added to inactivate the lead tetraacetate. The reaction solution was concentrated and then cooled, and the generated crystals were separated by filtration and dried to give 2-methyl-1,4-phenylenedicamphorsulfonimide in a yield of 50%.
Obtained as a yellow powder.

【0040】得られた化合物のIRスペクトルデータを
以下に示す。 IR;(cm-1) 1330(S=O) 1740(−C=O) 1560(−C=N−) なお、原料の2−メチル−1,4−フェニレンジカンフ
ァースルホンアミドにおいてみられた吸収のうち、34
30,1560〜1555cm-1(−NH−)および1
200cm-1(−C−N−)の吸収は消失した。
The IR spectrum data of the obtained compound is shown below. IR; (cm -1 ) 1330 (S = O) 1740 (-C = O) 1560 (-C = N-) Absorption observed in raw material 2-methyl-1,4-phenylenedicamphorsulfonamide Of which, 34
30, 1560-1555 cm -1 (-NH-) and 1
The absorption at 200 cm -1 (-CN-) disappeared.

【0041】(4)MM−Cmpの合成 2−メチルシクロペンタン−1,3−ジオン0.154
g(9.11×10-4mol)を20mlの水に溶解さ
せ、0.5当量のナトリウムメトキシドを加えた。次い
で、室温で攪拌しながら、上記(3)の工程により得ら
れた2−メチル−1,4−フェニレンジカンファースル
ホンイミド0.200g(9.11×10-4mol)を
30mlの水に溶解させた水溶液を滴下した。ここで、
反応液のpHを酸性側に維持するように、滴下の進行と
ともに少量のナトリウムメトキシドを3回に分けて加え
た。滴下終了から一時間攪拌を続けた後、濾過してカラ
ム分別法で精製することにより、下記式(5)に示す構
造のMM−Cmpを、収率80%で、白色粉末として得
た。
(4) Synthesis of MM-Cmp 2-methylcyclopentane-1,3-dione 0.154
g (9.11 × 10 −4 mol) was dissolved in 20 ml of water, and 0.5 equivalent of sodium methoxide was added. Then, while stirring at room temperature, 0.200 g (9.11 × 10 −4 mol) of 2-methyl-1,4-phenylenedicamphorsulfonimide obtained in the above step (3) is dissolved in 30 ml of water. The resulting aqueous solution was added dropwise. here,
A small amount of sodium methoxide was added in three portions as the dropwise addition proceeded so as to maintain the pH of the reaction solution on the acidic side. After stirring for 1 hour from the end of the dropwise addition, the mixture was filtered and purified by a column fractionation method to obtain MM-Cmp having a structure represented by the following formula (5) as a white powder in a yield of 80%.

【0042】[0042]

【化11】 Embedded image

【0043】得られたMM−CmpのIRスペクトルデ
ータを以下に示し、そのチャートを図5に示す。 IR;(cm-1) 3460,1560(−NH−) 1740(C=O) 1305,1150(S=O) 1200(−C−N−)
The IR spectrum data of the obtained MM-Cmp is shown below, and its chart is shown in FIG. IR; (cm -1 ) 3460, 1560 (-NH-) 1740 (C = O) 1305, 1150 (S = O) 1200 (-CN-)

【0044】このMM−Cmpにつき、紫外線透過性を
評価した。すなわち、MM−Cmp 0.06684g
をアセトニトリル10mlに溶解し、その紫外線吸収ス
ペクトルを測定した。その結果を図6に示す。このMM
−Cmpの最大吸収波長λmax1は204nm(吸光度
0.539)、最大吸収波長λmax2は239.9nm
(吸光度0.208)であった。
The UV transmittance of this MM-Cmp was evaluated. That is, MM-Cmp 0.06684 g
Was dissolved in 10 ml of acetonitrile, and its ultraviolet absorption spectrum was measured. FIG. 6 shows the result. This MM
-The maximum absorption wavelength λmax1 of Cmp is 204 nm (absorbance 0.539), and the maximum absorption wavelength λmax2 is 239.9 nm.
(Absorbance: 0.208).

【0045】さらに、このMM−Cmpの光反応性(酸
発生能)を評価した。すなわち、MM−Cmpを2.5
3×10-6mol/l、TBPBNaを9.31×10
-4mol/lの濃度で含むアセトニトリル溶液を調整
し、この溶液に低圧水銀灯を照射してその吸収スペクト
ルの経時変化を観察した。その結果を図7に示す。照射
時間が長くなるにつれてキノイド構造に起因する620
nmの吸収が次第に減少していることから、紫外線の照
射によりMM−Cmpから酸が発生していることが判
る。
Further, the photoreactivity (acid generating ability) of the MM-Cmp was evaluated. That is, MM-Cmp is set to 2.5
3 × 10 −6 mol / l, 9.31 × 10 9 TBPBNa
An acetonitrile solution containing a concentration of -4 mol / l was prepared, and this solution was irradiated with a low-pressure mercury lamp, and the change over time in the absorption spectrum was observed. FIG. 7 shows the result. 620 due to kinoid structure as irradiation time increases
Since the absorption in nm gradually decreases, it can be seen that acid is generated from MM-Cmp by irradiation of ultraviolet rays.

【0046】[II]1,4−フェニレンジスルホニロキ
シイミド化合物の合成 実施例4;1,4−フェニレンジメタンスルホニロキシ
イミドの合成 ベンゾキノンジオキシム3.00g(2.17×10-2
mol)をピリジン40mlに溶解させ、氷浴により系
内を0℃に保持した。ここへメタンスルホニルクロライ
ド5.7ml(4.78×10-2mol)をピリジン1
0mlに溶解させた溶液をゆっくりと滴下した。12時
間攪拌した後、反応液をHCl水溶液中に注いで固形分
を濾別し、クロマトグラム分別法で精製することによ
り、下記式(6)に示す構造の1,4−フェニレンジメ
タンスルホニロキシイミド3.81gを黄色粉末として
得た(収率82%)。
[II] Synthesis of 1,4-phenylenedisulfonyloxyimide compound Example 4 Synthesis of 1,4-phenylenedimethanesulfonyloxyimide 3.00 g of benzoquinonedioxime (2.17 × 10 -2)
mol) was dissolved in 40 ml of pyridine, and the inside of the system was kept at 0 ° C by an ice bath. Here, 5.7 ml (4.78 × 10 -2 mol) of methanesulfonyl chloride was added to pyridine 1
A solution dissolved in 0 ml was slowly added dropwise. After stirring for 12 hours, the reaction solution was poured into an aqueous HCl solution, the solid content was separated by filtration, and the mixture was purified by a chromatogram fractionation method to obtain 1,4-phenylenedimethanesulfonate having a structure represented by the following formula (6). 3.81 g of roxyimide was obtained as a yellow powder (yield 82%).

【0047】[0047]

【化12】 Embedded image

【0048】得られた1,4−フェニレンジメタンスル
ホニロキシイミドのIRスペクトルデータを以下に示
し、そのチャートを図8に示す。 IR;(cm-1) 1315,1120(S=O) 1570(−C=N−) なお、原料のベンゾキノンジオキシムにおいてみられた
吸収のうち、3500cm-1(−OH)および1675
cm-1(−C=N−OH)の吸収は消失した。
The IR spectrum data of the obtained 1,4-phenylenedimethanesulfonyloxyimide is shown below, and the chart is shown in FIG. IR; (cm -1 ) 1315, 1120 (S = O) 1570 (-C = N-) Among the absorptions observed in the starting benzoquinone dioxime, 3500 cm -1 (-OH) and 1675
The absorption at cm -1 (-C = N-OH) disappeared.

【0049】さらに、この1,4−フェニレンジメタン
スルホニロキシイミドの光反応性(酸発生能)を評価し
た。すなわち、1,4−フェニレンジメタンスルホニロ
キシイミドを3.55×10-6mol/l、TBPBN
aを8.99×10-4mol/lの濃度で含むアセトニ
トリル溶液を調整し、この溶液に低圧水銀灯を照射して
その吸収スペクトルの経時変化を観察した。その結果を
図9に示す。照射時間が長くなるにつれてキノイド構造
に起因する620nmの吸収が次第に減少していること
から、紫外線の照射により1,4−フェニレンジメタン
スルホニロキシイミドから酸が発生していることが判
る。
Further, the photoreactivity (acid generating ability) of the 1,4-phenylenedimethanesulfonyloxyimide was evaluated. That is, 3.54 × 10 −6 mol / l of 1,4-phenylenedimethanesulfonyloxyimide, TBPBN
A solution of acetonitrile containing a at a concentration of 8.99 × 10 −4 mol / l was prepared, and this solution was irradiated with a low-pressure mercury lamp, and the change over time in its absorption spectrum was observed. FIG. 9 shows the result. Since the absorption at 620 nm due to the quinoid structure gradually decreases as the irradiation time becomes longer, it can be seen that acid is generated from 1,4-phenylenedimethanesulfonyloxyimide by irradiation with ultraviolet rays.

【0050】実施例5;1,4−フェニレンジカンファ
ースルホニロキシイミドの合成 ベンゾキノンジオキシム0.824g(6.10×10
-3mol)をピリジン40mlに溶解させ、氷浴により
系内を0℃に保持した。ここへカンファースルホニルク
ロライド3.02g(1.20×10-2mol)をピリ
ジン30mlに溶解させた溶液をゆっくりと滴下した。
13時間攪拌した後、反応液をHCl水溶液中に注いで
固形分を濾別し、カラム分別法で精製することにより、
下記式(7)に示す構造の1,4−フェニレンジカンフ
ァースルホニロキシイミド2.32gを黄色粉末として
得た(収率67%)。
Example 5 Synthesis of 1,4-phenylenedicamphorsulfonyloxyimide 0.824 g of benzoquinone dioxime (6.10 × 10
-3 mol) was dissolved in 40 ml of pyridine, and the inside of the system was kept at 0 ° C. with an ice bath. A solution in which 3.02 g (1.20 × 10 −2 mol) of camphorsulfonyl chloride was dissolved in 30 ml of pyridine was slowly added dropwise thereto.
After stirring for 13 hours, the reaction solution was poured into an aqueous HCl solution, the solid content was separated by filtration, and the resultant was purified by a column separation method.
2.32 g of 1,4-phenylenedicamphorsulfonyloxyimide having a structure represented by the following formula (7) was obtained as a yellow powder (yield: 67%).

【0051】[0051]

【化13】 Embedded image

【0052】得られた1,4−フェニレンジカンファー
スルホニロキシイミドのIRスペクトルデータを以下に
示し、そのチャートを図10に示す。 IR;(cm-1) 1300,1180(S=O) 1560(−C=N−) 1760(−C=O) 2995(−CH3) なお、原料のベンゾキノンジオキシムにおいてみられた
吸収のうち、3500cm-1(−OH)および1675
cm-1(−C=N−OH)の吸収は消失した。
The IR spectrum data of the obtained 1,4-phenylenedicamphorsulfonyloxyimide is shown below, and the chart is shown in FIG. IR; (cm -1 ) 1300, 1180 (S = O) 1560 (-C = N-) 1760 (-C = O) 2995 (-CH 3 ) Note that, among the absorptions observed in the raw material benzoquinone dioxime, , 3500 cm -1 (-OH) and 1675
The absorption at cm -1 (-C = N-OH) disappeared.

【0053】さらに、この1,4−フェニレンジカンフ
ァースルホニロキシイミドの光反応性(酸発生能)を評
価した。すなわち、1,4−フェニレンジカンファース
ルホニロキシイミドを2.60×10-6mol/l、T
BPBNaを9.31×10-4mol/lの濃度で含む
アセトニトリル溶液を調整し、この溶液に低圧水銀灯を
照射してその吸収スペクトルの経時変化を観察した。そ
の結果を図11に示す。照射時間が長くなるにつれてキ
ノイド構造に起因する620nmの吸収が次第に減少し
ていることから、紫外線の照射により1,4−フェニレ
ンジメタンスルホニロキシイミドから酸が発生している
ことが判る。
Further, the photoreactivity (acid generating ability) of the 1,4-phenylenedicamphorsulfonyloxyimide was evaluated. That is, 1,4-phenylene camphorsulfonyloxyimide was converted to 2.60 × 10 −6 mol / l, T
An acetonitrile solution containing BPBNa at a concentration of 9.31 × 10 −4 mol / l was prepared, and the solution was irradiated with a low-pressure mercury lamp to observe the change over time in its absorption spectrum. The result is shown in FIG. Since the absorption at 620 nm due to the quinoid structure gradually decreases as the irradiation time becomes longer, it can be seen that acid is generated from 1,4-phenylenedimethanesulfonyloxyimide by irradiation with ultraviolet rays.

【0054】実施例6;1,4−フェニレンジ−p−ト
ルエンスルホニロキシイミドの合成 ベンゾキノンジオキシム1.381g(1.02×10
-2mol)をピリジン40mlに溶解させ、氷浴により
系内を0℃に保持した。ここへp−トルエンスルホニル
クロライド4.248g(2.23×10-2mol)を
ピリジン30mlに溶解させた溶液をゆっくりと滴下し
た。12時間攪拌した後、反応液をHCl水溶液中に注
いで固形分を濾別し、カラム分別法で精製することによ
り、下記式(8)に示す構造の1,4−フェニレンジ−
p−トルエンスルホニロキシイミドを収率70%で得
た。
Example 6 Synthesis of 1,4-phenylenedi-p-toluenesulfonyloxyimide 1.381 g of benzoquinone dioxime (1.02 × 10
-2 mol) was dissolved in 40 ml of pyridine, and the system was kept at 0 ° C with an ice bath. A solution in which 4.248 g (2.23 × 10 −2 mol) of p-toluenesulfonyl chloride was dissolved in 30 ml of pyridine was slowly added dropwise thereto. After stirring for 12 hours, the reaction solution was poured into an aqueous HCl solution, the solid content was separated by filtration, and the solid was purified by a column separation method to obtain 1,4-phenylenediamine having a structure represented by the following formula (8).
p-Toluenesulfonyloxyimide was obtained at a yield of 70%.

【0055】[0055]

【化14】 Embedded image

【0056】得られた1,4−フェニレンジ−p−トル
エンスルホニロキシイミドのIRスペクトルデータを以
下に示し、そのチャートを図12に示す。 分析結果 IR;(cm-1) 1300,1180(S=O) 1560(−C=N−) 3075(tert-Butyl) 1100(p-置換の芳香環) なお、原料のベンゾキノンジオキシムにおいてみられた
吸収のうち、3500cm-1(−OH)および1675
cm-1(−C=N−OH)の吸収は消失した。
The IR spectrum data of the obtained 1,4-phenylenedi-p-toluenesulfonyloxyimide is shown below, and the chart is shown in FIG. Analysis result IR; (cm -1 ) 1300, 1180 (S = O) 1560 (-C = N-) 3075 (tert-Butyl) 1100 (p-substituted aromatic ring) It is found in the raw material benzoquinone dioxime. 3500 cm -1 (-OH) and 1675
The absorption at cm -1 (-C = N-OH) disappeared.

【0057】このように、上記実施例1〜5により得ら
れた化合物はいずれも、放射線の照射によって酸を発生
する機能を有することが判った。特に、本願の化合物
は、ArFエキシマレーザー(193nm)に対するモ
ル吸光係数εが適度な範囲であるため、ArFエキシマ
レーザー用の化学増幅型レジスト材料における光酸発生
剤として好適である。
Thus, it was found that all of the compounds obtained in Examples 1 to 5 had a function of generating an acid upon irradiation with radiation. In particular, the compound of the present application is suitable as a photoacid generator in a chemically amplified resist material for an ArF excimer laser since the molar extinction coefficient ε with respect to an ArF excimer laser (193 nm) is in an appropriate range.

【0058】なお、本発明においては、前記具体的実施
例に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の
範囲内で種々変更した実施例とすることができる。
It should be noted that the present invention is not limited to the specific embodiments described above, but may be variously modified within the scope of the present invention in accordance with the purpose and application.

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明によると、ArFエキシマレーザ
ー、KrFエキシマレーザーなどの放射線の照射により
酸を発生する新規な1,4−フェニレンジスルホンアミ
ド誘導体、および1,4−フェニレンジスルホニロキシ
イミド化合物が提供される。これらの化合物は、化学増
幅型レジスト材料の光酸化剤などとして利用可能であ
る。特に、本発明の1,4−フェニレンジスルホンアミ
ド誘導体は、ArFエキシマレーザーおよびKrFエキ
シマレーザーに対する適度な透明性を有するため、この
光酸発生剤として有用である。
According to the present invention, a novel 1,4-phenylenedisulfonamide derivative and a 1,4-phenylenedisulfonyloxyimide compound which generate an acid upon irradiation with radiation such as ArF excimer laser and KrF excimer laser Is provided. These compounds can be used as a photo-oxidizing agent of a chemically amplified resist material. In particular, the 1,4-phenylenedisulfonamide derivative of the present invention has an appropriate transparency to an ArF excimer laser and a KrF excimer laser, and is therefore useful as the photoacid generator.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1により得られた化合物のIRスペクト
ルを示すチャートである。
FIG. 1 is a chart showing an IR spectrum of a compound obtained in Example 1.

【図2】実施例1により得られた化合物のUV吸収スペ
クトルを示すチャートである。
FIG. 2 is a chart showing a UV absorption spectrum of the compound obtained in Example 1.

【図3】実施例1により得られた化合物に放射線を照射
したときのUVスペクトル変化を示す特性図である。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing a change in UV spectrum when the compound obtained in Example 1 is irradiated with radiation.

【図4】実施例2により得られた化合物に放射線を照射
したときのUVスペクトル変化を示す特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a change in UV spectrum when the compound obtained in Example 2 is irradiated with radiation.

【図5】実施例3により得られた化合物のIRスペクト
ルを示すチャートである。
FIG. 5 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 3.

【図6】実施例3により得られた化合物のUV吸収スペ
クトルを示すチャートである。
FIG. 6 is a chart showing a UV absorption spectrum of the compound obtained in Example 3.

【図7】実施例3により得られた化合物に放射線を照射
したときのUVスペクトル変化を示す特性図である。
FIG. 7 is a characteristic diagram showing a change in UV spectrum when the compound obtained in Example 3 is irradiated with radiation.

【図8】実施例4により得られた化合物のIRスペクト
ルを示すチャートである。
FIG. 8 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 4.

【図9】実施例4により得られた化合物に放射線を照射
したときのUVスペクトル変化を示す特性図である。
FIG. 9 is a characteristic diagram showing a change in UV spectrum when the compound obtained in Example 4 is irradiated with radiation.

【図10】実施例5により得られた化合物のIRスペク
トルを示すチャートである。
FIG. 10 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 5.

【図11】実施例5により得られた化合物に放射線を照
射したときのUVスペクトル変化を示す特性図である。
FIG. 11 is a characteristic diagram showing a change in UV spectrum when the compound obtained in Example 5 is irradiated with radiation.

【図12】実施例6により得られた化合物のIRスペク
トルを示すチャートである。
FIG. 12 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 6.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記式(1)で表される1,4−フェニ
レンジスルホンアミド誘導体。 【化1】 [式中、R1は水素原子、炭素数1〜4の直鎖状または
分岐状アルキル基あるいは−SO22で表される有機基
を示し、R2は炭素数1〜12の直鎖状、分岐状あるい
は環状のアルキル基、下記式(1a)で表される基、ま
たはp−Rs1−C 64−(ただし、Rs 1は炭素数1〜4
の直鎖状あるいは分岐状アルキル基である。)基を示
す。 【化2】
1. A 1,4-phenylene compound represented by the following formula (1):
Range sulfonamide derivatives. Embedded image[Wherein, R1Is a hydrogen atom, a C 1-4 linear or
Branched alkyl group or -SOTwoRTwoOrganic group represented by
And RTwoRepresents a linear, branched or C1-C12
Is a cyclic alkyl group, a group represented by the following formula (1a),
Or p-Rs1-C 6HFour-(However, Rs 1Is 1 to 4 carbon atoms
Is a linear or branched alkyl group. ) Indicates a group
You. Embedded image]
【請求項2】 下記式(2)で表される1,4−フェニ
レンジスルホニロキシイミド化合物。 【化3】 [式中、R3は炭素数1〜12の直鎖状、分岐状あるい
は環状のアルキル基、下記式(2a)で表される基、ま
たはp−Rs2−C64−(ただし、Rs2は炭素数1〜4
の直鎖状あるいは分岐状アルキル基である。)基を示
す。 【化4】
2. A 1,4-phenylenedisulfonyloxyimide compound represented by the following formula (2). Embedded image Wherein, R 3 represents a linear 1 to 12 carbon atoms, branched or cyclic alkyl group, a group represented by the following formula (2a) or p-R s2 -C 6 H 4 , - ( provided that R s2 has 1 to 4 carbon atoms
Is a linear or branched alkyl group. ) Represents a group. Embedded image ]
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