JP2000280366A - Manufacture of microlens, microlens manufactured by the manufacturing method, optical device using the microlens and slider of the optical device - Google Patents
Manufacture of microlens, microlens manufactured by the manufacturing method, optical device using the microlens and slider of the optical deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、マイクロレンズ
の製造方法、その製造方法で製造したマイクロレンズ、
そのマイクロレンズを使用した光デバイス装置、および
その光デバイス装置のスライダーに関し、詳細には、光
ディスクのピックアップ、光通信やCCD等の光デバイ
ス装置に使用されるマイクロレンズの製造方法、その製
造方法で製造したマイクロレンズ、そのマイクロレンズ
を使用した光デバイス装置、およびその光デバイス装置
のスライダーに関する。The present invention relates to a method of manufacturing a microlens, a microlens manufactured by the method,
More specifically, the present invention relates to an optical device using the microlens and a slider of the optical device, and more particularly, to a method of manufacturing a microlens used for an optical device such as an optical disk pickup, an optical communication device, a CCD, and the like. The present invention relates to a manufactured microlens, an optical device using the microlens, and a slider of the optical device.
【0002】[0002]
【従来の技術】近時、マイクロレンズの利用範囲が広が
るに伴い、マイクロレンズの高NA化、非球面化が望ま
れている。特に、光ディスクや光磁気ディスク等の情報
記録装置においては、小型化・高記録密度化のため、ハ
ードディスクと同様に、記録媒体の回転によって発生す
る気流を利用して記録媒体上に浮上するスライダーに対
物レンズを搭載することが考えられている。かかる用途
では、NAが高く収差の少ないマイクロレンズが必要に
なる。2. Description of the Related Art Recently, as the use range of a microlens has been expanded, it has been desired to increase the NA of the microlens and make it aspherical. In particular, in information recording devices such as optical disks and magneto-optical disks, in order to reduce the size and increase the recording density, like a hard disk, a slider that floats on the recording medium using the air current generated by the rotation of the recording medium is used. It has been considered to mount an objective lens. In such an application, a microlens having a high NA and a small aberration is required.
【0003】マイクロレンズの製造方法としては、例え
ば、フォトレジストでレンズ形状を作成し、その形状を
透明基板に異方性エッチングで転写する方法がある。か
かる方法によれば、フォトレジストの露光方法を工夫す
ることで、非球面形状のマイクロレンズを作成すること
が可能となる。以下、従来提案されているマイクロレン
ズの製造方法について説明する。As a method for manufacturing a microlens, for example, there is a method in which a lens shape is formed from a photoresist and the shape is transferred to a transparent substrate by anisotropic etching. According to such a method, it is possible to create an aspherical microlens by devising a method of exposing the photoresist. Hereinafter, a conventionally proposed method of manufacturing a microlens will be described.
【0004】例えば、特表平8−504515号公報で
は、作成したいレンズを微小な複数の領域に分割し、そ
れぞれの領域におけるレンズの厚さに応じて、フォトマ
スクに透過率の分布(この特許の場合はそれぞれの微小
領域の開口率を変化させている)を与え、露光されたレ
ジストの残膜厚を所望の形状になるようにする技術が開
示されている。For example, in Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 8-504515, a lens to be formed is divided into a plurality of minute areas, and the distribution of transmittance on a photomask is determined according to the thickness of the lens in each area. In the case of (1), the aperture ratio of each minute area is changed), and the remaining film thickness of the exposed resist is made to have a desired shape.
【0005】また、特開平8−21908号公報では、
開口している領域の形状が異なる複数のマスクを、同一
の場所に複数回に分けて露光することで、フォトレジス
トの残膜厚分布を変化させる技術が開示されている。In Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-21908,
There is disclosed a technique for changing the distribution of the remaining film thickness of a photoresist by exposing a plurality of masks having different shapes of open regions to the same place a plurality of times.
【0006】また、特開平7−181303号公報で
は、より広範な機能を持つマイクロレンズを作製する方
法が提案されており、片面にマイクロレンズが形成され
た2枚の基板を、マイクロレンズと反対側の平面同士で
貼り合せる技術が開示されている。Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-181303 proposes a method of fabricating a microlens having a wider range of functions. Two substrates having microlenses formed on one side are opposed to microlenses. There is disclosed a technique of bonding the two flat surfaces to each other.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術のような、フォトレジストパターンを用いたマイクロ
レンズ作成法にあっては、マイクロレンズを高NA化す
るためには、マイクロレンズを厚くする必要があるた
め、かなり深いエッチングが必要となり、レジストがエ
ッチング中に変質したり、エッチング所用時間を長く要
する等の問題がある。However, in a conventional method of forming a microlens using a photoresist pattern as in the prior art, it is necessary to increase the thickness of the microlens in order to increase the NA of the microlens. For this reason, a considerably deep etching is required, and there are problems that the resist is deteriorated during the etching and that the time required for the etching is long.
【0008】また、レジストパターンについても余り深
いものは作成が困難なため、エッチング時の基板/レジ
ストの選択比を大きくとって、浅いレジストパターンを
エッチングで深くすることが行われるが、この場合は選
択比に応じてレジストパターンの誤差が拡大されてしま
うため、形状精度が低下してしまうという問題がある。In addition, since it is difficult to form a resist pattern that is too deep, it is necessary to increase the selectivity of the substrate / resist at the time of etching to deepen the shallow resist pattern by etching. Since the error of the resist pattern is enlarged according to the selection ratio, there is a problem that the shape accuracy is reduced.
【0009】さらに、これらのマイクロレンズを使った
スライダーなどを作成する場合は、スライダーや、1/
4波長板、プリズムなどと組合せる必要があるため、マ
イクロレンズが形成された基板を、それらと組み合わせ
やすい形状にしておく必要がある。Further, when a slider or the like using these microlenses is created, the slider or 1 /
Since it is necessary to combine with a four-wavelength plate, a prism, and the like, it is necessary to make the substrate on which the microlens is formed into a shape that can be easily combined with them.
【0010】本発明は、上記に鑑みてなされたものであ
り、高NAのマイクロレンズを容易に製造することが可
能なマイクロレンズの製造方法、その製造方法で製造し
たマイクロレンズ、そのマイクロレンズを使用した光デ
バイス装置、およびその光デバイス装置のスライダーを
提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above, and a method of manufacturing a microlens capable of easily manufacturing a high NA microlens, a microlens manufactured by the manufacturing method, and a microlens manufactured by the manufacturing method It is an object to provide an optical device used and a slider of the optical device.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に係るマイクロレンズの製造方法は、2つ
の基板を貼り合わせてマイクロレンズを製造するマイク
ロレンズの製造方法において、少なくとも片面に、基板
表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第1の
基板を製造する第1の工程と、少なくとも片面にマイク
ロレンズが形成された第2の基板を製造する第2の工程
と、前記第1および第2の基板のマイクロレンズが形成
された面同士を対向させて貼り合わせる第3の工程と、
を含むものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a microlens manufacturing method for manufacturing a microlens by bonding two substrates together. A first step of manufacturing a first substrate having microlenses formed at a position deeper than the surface of the substrate, a second step of manufacturing a second substrate having microlenses formed on at least one surface, A third step of bonding the surfaces of the first and second substrates on which the microlenses are formed to face each other,
Is included.
【0012】また、請求項2に係るマイクロレンズの製
造方法は、請求項1に記載のマイクロレンズの製造方法
において、前記第3の工程では、前記第1および第2の
基板のマイクロレンズ間を、当該基板とは、屈折率、透
過率、および波長依存性のうち少なくとも1つが異なる
接着剤で充填するものである。According to a second aspect of the present invention, in the method of manufacturing a microlens according to the first aspect, in the third step, between the microlenses of the first and second substrates is performed. The substrate is to be filled with an adhesive having at least one of a refractive index, a transmittance, and a wavelength dependency different from each other.
【0013】また、請求項3に係るマイクロレンズの製
造方法は、請求項1または2に記載のマイクロレンズの
製造方法において、前記第1および第2の工程では、前
記第1および第2の基板の貼り合わされる面に夫々溝を
形成し、前記第3の工程では、前記各溝に接着剤を充填
して前記第1および第2の基板を貼り合わせたものであ
る。According to a third aspect of the present invention, in the method of manufacturing a microlens according to the first or second aspect, in the first and second steps, the first and second substrates are provided. In the third step, the grooves are filled with an adhesive, and the first and second substrates are bonded together in the third step.
【0014】また、請求項4に係るマイクロレンズの製
造方法は、請求項1に記載のマイクロレンズの製造方法
において、さらに、前記第1の基板および前記第2の基
板を貼り合わせた際にマイクロレンズ間に形成される空
洞部を、基板外部に接続するための溝を形成する工程を
含むものである。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a microlens according to the first aspect, further comprising the step of: bonding the first substrate and the second substrate to each other. The method includes a step of forming a groove for connecting a cavity formed between the lenses to the outside of the substrate.
【0015】また、請求項5に係るマイクロレンズは、
請求項1〜4のいずれか1つに記載のマイクロレンズの
製造方法で製造されたものである。The microlens according to claim 5 is
It is manufactured by the method for manufacturing a microlens according to any one of claims 1 to 4.
【0016】また、請求項6に係る光デバイス装置は、
請求項5に記載されたマイクロレンズを使用したもので
ある。Further, the optical device according to claim 6 is:
A microlens according to claim 5 is used.
【0017】また、請求項7に係る光デバイス装置は、
請求項6に記載の光デバイス装置において、請求項5に
記載されたマイクロレンズを光ピックアップヘッドに使
用し、当該光ピックアップヘッドの記録媒体と対向する
面に半球状または超半球状のソリッドイマージョンレン
ズを形成したものである。The optical device according to claim 7 is:
7. The optical device device according to claim 6, wherein the microlens according to claim 5 is used for an optical pickup head, and a hemispherical or hyperhemispherical solid immersion lens is provided on a surface of the optical pickup head facing the recording medium. Is formed.
【0018】また、請求項8に係る光デバイス装置は、
請求項5に記載されたマイクロレンズを使用したもので
ある。Further, the optical device according to claim 8 is:
A microlens according to claim 5 is used.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照して、この
発明に係るマイクロレンズの製造方法、その製造方法で
製造したマイクロレンズ、そのマイクロレンズを使用し
た光デバイス装置および光デバイス装置のスライダーの
好適な実施の形態を、[マイクロレンズの製造方法]、
[光デバイス装置]の順に詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS With reference to the accompanying drawings, a method of manufacturing a microlens according to the present invention, a microlens manufactured by the method, an optical device using the microlens, and a slider of the optical device will be described. Preferred embodiments of the [method of manufacturing a micro lens],
The details will be described in the order of [optical device device].
【0020】[マイクロレンズの製造方法]マイクロレ
ンズの製造方法について、(製造例1)、(製造例
2)、(製造例3)の順に説明する。[Method of Manufacturing Micro Lens] The method of manufacturing a micro lens will be described in the order of (Production Example 1), (Production Example 2), and (Production Example 3).
【0021】(製造例1)マイクロレンズの製造方法の
製造例1を図1を参照して詳細に説明する。図1は、マ
イクロレンズの製造工程(製造例1)を説明するための
説明図である。同図(A)〜(C)、(E)はその製造
工程を示す断面図、同図(D)は(C)の上面図を示
す。同図において、101はフォトレジスト、102は
ガラス基板、103はマイクロレンズパターン、104
はアライメントマークパターン、105はマイクロレン
ズ、106はアライメントマーク、107は接着剤を示
す。(Production Example 1) A production example 1 of a method for producing a microlens will be described in detail with reference to FIG. FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a microlens manufacturing process (manufacturing example 1). 6A to 6C and 6E are cross-sectional views showing the manufacturing process, and FIG. 6D is a top view of FIG. In the figure, 101 is a photoresist, 102 is a glass substrate, 103 is a microlens pattern, 104
Denotes an alignment mark pattern, 105 denotes a micro lens, 106 denotes an alignment mark, and 107 denotes an adhesive.
【0022】まず、図1(A)に示すように、ガラス基
板102の片面(張り合わせ面)にフォトレジスト10
1を塗布する。続いて、マイクロレンズパターンやアラ
イメントマークが形成されているフォトマスクを介し
て、レジスト101を露光する。露光後、現像して、図
1(B)に示すような、フォトレジストパターンを形成
する。First, as shown in FIG. 1A, a photoresist 10 is formed on one surface (laminated surface) of a glass substrate 102.
1 is applied. Subsequently, the resist 101 is exposed through a photomask on which a microlens pattern and an alignment mark are formed. After exposure, development is performed to form a photoresist pattern as shown in FIG.
【0023】この場合、図1(B)に示すように、フォ
トレジスト101のマイクロレンズレンズパターン10
3の先端部分は、周囲のフォトレジスト101の表面よ
り低く形成する。また、同図に示すように、ガラス基板
102を他のガラス基板と貼り合わせる際に目印とする
アライメントマークパターン104(4箇所、図(D)
参照)を形成する。このアライメントマークパターン1
04を形成することにより、ガラス基板を貼り合わせる
際の光軸合せが容易になる。In this case, as shown in FIG. 1B, the micro lens
3 is formed lower than the surface of the surrounding photoresist 101. Also, as shown in the figure, an alignment mark pattern 104 (four places, as shown in FIG. 4D) is used as a mark when the glass substrate 102 is bonded to another glass substrate.
Reference). This alignment mark pattern 1
The formation of 04 facilitates optical axis alignment when bonding glass substrates.
【0024】フォトレジスト101の露光方法として
は、各種の手法を使用することができるが、例えば、拡
散板を通した光を円形の穴(もしくは遮光部)を持った
マスク越しに露光する方法、遮光部の透過率の変化を与
えたマスクを使って露光する方法、投影露光装置を用い
て円形の開口または遮光部を持つマスクパターンをフォ
ーカスがずれた状態で露光する方法や、断面が矩形の円
形パターンを形成しておき、後から加熱変形させてレン
ズ状にする方法等を用いることができる。As a method of exposing the photoresist 101, various methods can be used. For example, a method of exposing light passing through a diffusion plate through a mask having a circular hole (or a light shielding portion), A method of exposing using a mask with a change in transmittance of a light-shielding portion, a method of exposing a mask pattern having a circular opening or a light-shielding portion using a projection exposure apparatus in an out-of-focus state, and a method of exposing a rectangular section. A method in which a circular pattern is formed and then deformed by heating to form a lens shape can be used.
【0025】また、上記フォトマスクは、通常、EB描
画装置やレーザーライター等のサブμmオーダーの位置
精度を持つ装置で作成されているため、マイクロレンズ
と同時に形成したアライメントマークを使ってレンズの
位置合わせを行っても、光軸のずれはほとんど問題にな
らない。Further, since the photomask is usually formed by an apparatus having a position accuracy of sub-μm order such as an EB lithography apparatus or a laser writer, the position of the lens is determined by using an alignment mark formed simultaneously with the microlens. Even if the alignment is performed, the deviation of the optical axis hardly causes a problem.
【0026】次に、図1(B)に示すフォトレジストパ
ターンが形成されたガラス基板102に対して異方性エ
ッチングを行い、図1(C)に示すように、フォトレジ
ストパターンをガラス基板102に転写する。同図に示
すように、マイクロレンズ105の先端部分は、周囲の
ガラス基板102の表面より低く形成される。なお、図
1(C)に示す例では、フォトレジスト101が全てが
なくなるまで異方性エッチングを行っているが、途中ま
で(マイクロレンズパターンが転写されるまで)エッチ
ングを行い、それからフォトレジストを除去することに
しても良い。Next, anisotropic etching is performed on the glass substrate 102 on which the photoresist pattern shown in FIG. 1B has been formed, and as shown in FIG. Transfer to As shown in the figure, the tip of the microlens 105 is formed lower than the surface of the surrounding glass substrate 102. In the example shown in FIG. 1C, the anisotropic etching is performed until the photoresist 101 is completely removed, but the etching is performed halfway (until the microlens pattern is transferred), and then the photoresist is removed. It may be removed.
【0027】図1(D)は、図1(C)の上面図を示
す。同図に示すように、略中心に位置するマイクロレン
ズ105の周囲4個所にアライメントマーク106が形
成してある。尚、アライメントマーク104の数、形状
は如何なるものでも良いが、他のガラス基板と重ね合せ
た際に、互い違いになって観察しやすいものにしたり、
重ね合せ装置が自動で位置合せする場合には、その指定
の形状などにしておけば良い。FIG. 1D shows a top view of FIG. 1C. As shown in the figure, alignment marks 106 are formed at four positions around a micro lens 105 located at substantially the center. The number and shape of the alignment marks 104 may be any. However, when the alignment marks 104 are superimposed on another glass substrate, the alignment marks 104 are alternately arranged so that they can be easily observed.
In the case where the superposition apparatus automatically performs the positioning, the shape may be set to the designated shape or the like.
【0028】次に、上記と同様の工程(上記図1(A)
〜(D)に示す工程)でもう1枚のマイクロレンズパタ
ーンを形成したガラス基板102を作成する。そして、
微量の紫外線硬化型の接着剤107をガラス基板102
のマイクロレンズ105が形成されている面(張り合わ
せ面)の表面部(平面部)に塗布した後、図1(E)に
示すように、2つのガラス基板102の張り合わせ面を
重ね、顕微鏡でアライメントマーク106を観察しなが
ら2枚のガラス基板102の位置合せを行ない、位置が
決定してから紫外線を照射して接着剤を硬化させて両ガ
ラス基板を接合する。接着剤層は薄いほどマイクロレン
ズ間隔の精度を向上できるので、接着剤層は薄い方が好
ましい。なお、貼り合わせる一方のガラス基板102の
マイクロレンズの先端が周囲のガラス基板102の表面
より低く形成されていれば、マイクロレンズを接触させ
ずにガラス基板102を貼り合わせることが可能である
ので、必ずしも、他方のガラス基板102のマイクロレ
ンズの先端が周囲のガラス基板102の表面より低く形
成する必要はない。要は、マイクロレンズを接触させず
にガラス基板102を貼り合わせることができれば良
い。Next, the same steps as described above (FIG. 1A)
To (D)), a glass substrate 102 on which another microlens pattern is formed is formed. And
A small amount of an ultraviolet curable adhesive 107 is applied to the glass substrate 102
Is applied to the surface portion (flat portion) of the surface on which the microlens 105 is formed (laminated surface), and then, as shown in FIG. The two glass substrates 102 are aligned while observing the mark 106. After the positions are determined, the two glass substrates are joined by irradiating ultraviolet rays to cure the adhesive. The thinner the adhesive layer, the higher the accuracy of the microlens spacing can be improved, so the thinner the adhesive layer, the better. Note that if the tip of the microlens of one glass substrate 102 to be bonded is formed lower than the surface of the surrounding glass substrate 102, the glass substrate 102 can be bonded without contacting the microlens. The tip of the microlens on the other glass substrate 102 does not necessarily need to be formed lower than the surface of the surrounding glass substrate 102. In short, it is only necessary that the glass substrate 102 can be bonded without contacting the microlenses.
【0029】なお、ここではガラス基板を接合する方法
として、紫外線硬化型の接着剤を使用して接合する例を
示したが、本発明はこれに限られるものではなく、アラ
イメントされた状態を維持したまま固定できるものなら
どのような接着手段を用いても良い。Here, as an example of the method of joining the glass substrates, an example is shown in which the joining is performed using an ultraviolet-curable adhesive, but the present invention is not limited to this, and the alignment state is maintained. Any bonding means may be used as long as it can be fixed as it is.
【0030】また、マイクロレンズを温度上昇がある環
境下で使用する場合(例えば、温度上昇がある筐体内部
で使用する場合)には、マイクロレンズ105間の空洞
部105A(図1(E)参照)の空気が膨張し、マイク
ロレンズ105の特性に影響を与える可能性がある。そ
こで、かかる環境下での使用が予想される場合には、上
記製造工程で、空洞部105Aに外気を取り込むための
溝を形成し、マイクロレンズ105の隙間(空洞部10
5A)に圧力がかからないようにすれば良い。When the microlens is used in an environment where the temperature rises (for example, when the microlens is used inside a housing where the temperature rises), a cavity 105A between the microlenses 105 (FIG. 1E) ) May expand and affect the characteristics of the microlens 105. Therefore, if use in such an environment is expected, a groove for taking in outside air is formed in the cavity 105A in the above-described manufacturing process, and the gap (the cavity 10) of the microlens 105 is formed.
It is sufficient that no pressure is applied to 5A).
【0031】以上説明したように、製造例1によれば、
基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第
1および第2のガラス基板102を形成し、第1および
第2のガラス基板102のマイクロレンズ105が形成
された面(張り合わせ面)同士を対向させ、接着材10
7により貼り合わせてマイクロレンズを製造することと
したので、各ガラス基板のマイクロレンズのエッチング
量を小さくした場合でも、基板を貼り合わせた場合に
は、高NA化が可能となり、高NAのマイクロレンズを
容易に精度良く作成することが可能になる。また、マイ
クロレンズが形成された面が内側となるので、表面を平
坦にしておくことができ、かかる表面にリソグラフィー
を行ってグレーティング等の機能を持つパターンを追加
する等のレンズ以外の部分への加工が容易となり、ま
た、他の部品との組合せが容易となる。As described above, according to Production Example 1,
First and second glass substrates 102 on which microlenses are formed are formed at positions deeper than the substrate surface, and the surfaces (bonded surfaces) of the first and second glass substrates 102 on which the microlenses 105 are formed face each other. Let the adhesive 10
7, the micro-lens is manufactured by bonding the substrates together. Therefore, even when the etching amount of the micro-lens on each glass substrate is reduced, when the substrates are bonded together, it is possible to increase the NA. A lens can be easily and accurately created. In addition, since the surface on which the microlens is formed is on the inside, the surface can be flattened, and lithography is performed on the surface to add a pattern having a function such as a grating to a portion other than the lens. Processing becomes easy, and combination with other parts becomes easy.
【0032】(製造例2)マイクロレンズの製造方法の
製造例2を図2を参照して詳細に説明する。図2は、マ
イクロレンズの製造工程(製造例2)を説明するための
説明図である。同図(A)はガラス基板の上面図、同図
(B)はガラス基板を貼り合わせた場合の断面図を示
す。図2において、図1と同等部分には同一符号を付し
てある。(Production Example 2) A production example 2 of a method for producing a microlens will be described in detail with reference to FIG. FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining a microlens manufacturing process (manufacturing example 2). FIG. 1A is a top view of a glass substrate, and FIG. 1B is a cross-sectional view of the case where a glass substrate is attached. 2, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.
【0033】製造例1では、図1(E)に示すように、
2枚のガラス基板102の間に接着剤107の層ができ
るため、2枚のマイクロレンズ105の間隔を設計する
際に、この接着剤層の厚さを考慮する必要がある。そこ
で、製造例2では、製造例1の工程に加えて、接着剤1
07を充填するための溝を形成し、マイクロレンズ10
5の間隔の精度を高めている。In Production Example 1, as shown in FIG.
Since a layer of the adhesive 107 is formed between the two glass substrates 102, it is necessary to consider the thickness of the adhesive layer when designing the interval between the two microlenses 105. Therefore, in Production Example 2, in addition to the steps of Production Example 1, the adhesive 1
07 for filling the micro lens 10
The accuracy of the interval of 5 is increased.
【0034】製造例2では、製造例1で使用したフォト
マスクに、さらに溝パターンが形成されたフォトマスク
を使用して、製造例1と同一の工程(図1(A)〜
(C))により、図2(A)に示すような、接着剤を充
填するための溝201が形成されたガラス基板102を
作成する。In Production Example 2, the same steps as in Production Example 1 (FIGS. 1A to 1C) are performed by using a photomask on which a groove pattern is formed in addition to the photomask used in Production Example 1.
2C, a glass substrate 102 having a groove 201 for filling with an adhesive is formed as shown in FIG.
【0035】そして、図2(B)に示すように、2枚の
ガラス基板102の溝201に接着剤107を充填し、
各ガラス基板102の表面を接触させて両ガラス基板を
接合する。これにより、マイクロレンズ105間の間隔
を接触するガラス基板102の表面を基準に設計するこ
とができ、マイクロレンズ105の間隔の誤差を少なく
することが可能となる。なお、溝201の形状は、図2
に示す形状に限られるものではなく、ガラス基板を重ね
合せた際に接着剤が流れ込んで、ガラス基板間隔に影響
を与えないような形状であれば良く、例えば、放射状や
同心円状等の如何なる形状としても良い。また、溝は、
2つの基板で異なった形状としても良い。Then, as shown in FIG. 2B, the groove 107 of the two glass substrates 102 is filled with the adhesive 107,
The two glass substrates are joined by bringing the surfaces of the respective glass substrates 102 into contact with each other. Thus, the distance between the microlenses 105 can be designed based on the surface of the glass substrate 102 in contact with the microlens 105, and errors in the distance between the microlenses 105 can be reduced. The shape of the groove 201 is shown in FIG.
The shape is not limited to the shape shown in the figure, and any shape may be used as long as the adhesive flows when the glass substrates are overlapped and does not affect the distance between the glass substrates. For example, any shape such as a radial shape or a concentric shape may be used. It is good. Also, the groove
The two substrates may have different shapes.
【0036】以上説明したように、製造例2によれば、
各ガラス基板102の貼り合わされる面に接着剤107
を充填するための溝201を形成し、各溝201に接着
剤107を充填し、各ガラス基板102の表面を接触さ
せて貼り合わせることとしたので、マイクロレンズの間
隔を高精度に作成することが可能となる。As described above, according to Production Example 2,
An adhesive 107 is attached to the surface of each glass substrate 102 to be bonded.
Is formed, and the grooves 201 are filled with the adhesive 107, and the surfaces of the respective glass substrates 102 are brought into contact with each other and bonded to each other. Becomes possible.
【0037】(製造例3)マイクロレンズの製造方法の
製造例3を図3を参照して詳細に説明する。図3は、マ
イクロレンズの製造工程(製造例3)を説明するための
説明図であり、断面図を示している。図3において、図
1と同等部分には同一符号を付してある。(Production Example 3) A production example 3 of a method for producing a microlens will be described in detail with reference to FIG. FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a microlens manufacturing process (manufacturing example 3) and shows a cross-sectional view. In FIG. 3, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.
【0038】製造例3では、接着剤として、ガラス基板
102とは、使用する光の波長において、屈折率、透過
率、および波長依存性のうち少なくとも1つが異なるも
のを使用して、マイクロレンズ間に充填する。In Production Example 3, the adhesive between the glass substrate 102 and the glass substrate 102 is different from the glass substrate 102 in at least one of the refractive index, the transmittance, and the wavelength dependency at the wavelength of the light to be used. Fill.
【0039】製造例3では、まず、製造例1と同様の原
理で、図3に示すような、ガラス基板102を作成す
る。そして、接着剤301を各ガラス基板の張り合わせ
面の全面に塗布し、その際、マイクロレンズ105にも
接着剤301を充填し、両ガラス基板102を貼り合わ
せる。In Production Example 3, first, a glass substrate 102 as shown in FIG. 3 is formed on the same principle as in Production Example 1. Then, the adhesive 301 is applied to the entire surface of the bonding surfaces of the respective glass substrates. At this time, the adhesive 301 is also filled in the microlenses 105 and the two glass substrates 102 are bonded.
【0040】以上説明したように、製造例3によれば、
ガラス基板102とは使用する光の波長で、屈折率、透
過率、および波長依存性のうち少なくとも1つが異なる
接着剤301を使用し、マイクロレンズ105に接着剤
301を充填することとしたので、接着剤301の部分
もマイクロレンズの一部として使用することが可能とな
る。また、接着剤の塗布が容易になることに加えて、接
着剤の屈折率の選択によって、さまざまな機能をもつマ
イクロレンズが作成可能である。たとえば、ガラス基板
と光分散特性が異なる接着剤を使用した場合には、色収
差の補正を行うことが可能となる。As described above, according to Production Example 3,
The glass substrate 102 is a wavelength of light to be used, and the refractive index, the transmittance, and the adhesive 301 different in at least one of the wavelength dependency are used, and the microlens 105 is filled with the adhesive 301. The part of the adhesive 301 can also be used as a part of the microlens. Further, in addition to facilitating the application of the adhesive, microlenses having various functions can be produced by selecting the refractive index of the adhesive. For example, when an adhesive having a different light dispersion characteristic from that of a glass substrate is used, it is possible to correct chromatic aberration.
【0041】[光デバイス装置]上記製造例1〜製造例
3の製造方法で作成したマイクロレンズをインプリメン
トした光デバイス装置について、図4〜図7を参照して
説明する。以下では、光デバイス装置の一例として光デ
ィスク装置を例示して説明する。図4は本発明のマイク
ロレンズの製造方法で製造したマイクロレンズを適用し
た光ディスク装置の概略構成を示す図である。[Optical Device] An optical device incorporating the microlenses produced by the production methods of Production Examples 1 to 3 will be described with reference to FIGS. Hereinafter, an optical disk device will be described as an example of the optical device device. FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of an optical disk device to which a microlens manufactured by the method for manufacturing a microlens of the present invention is applied.
【0042】図4に示す光ディスク装置は、マイクロレ
ンズを含む光ピックアップヘッド408と、アーム40
9と、並びにレーザー光源及びフォトダイオード等が一
体に形成された光学ユニット410とを備えている。な
お同図で、407は光ディスクを示す。The optical disk device shown in FIG. 4 includes an optical pickup head 408 including a micro lens,
9 and an optical unit 410 in which a laser light source, a photodiode, and the like are integrally formed. In the same figure, reference numeral 407 denotes an optical disk.
【0043】上記構成の光ディスク装置では、光学ユニ
ット410から射出されたレーザー光は、マイクロレン
ズを含むピックアップヘッド408に入射し、光ピック
アップヘッド408を介して、光ディスク407に対し
て信号の書込み・読み出しを行う。つぎに、光ピックア
ップヘッド408のスライダーを、(構成例1)、(構
成例2)の順に説明する。In the optical disk apparatus having the above structure, the laser light emitted from the optical unit 410 enters the pickup head 408 including the microlens, and writes / reads signals to / from the optical disk 407 via the optical pickup head 408. I do. Next, the slider of the optical pickup head 408 will be described in the order of (Configuration Example 1) and (Configuration Example 2).
【0044】(構成例1)図5および図6は、光ピック
アップヘッド408のスライダーの構成例1を説明する
ための図である。図5は図4の光ピックアップヘッド4
08の拡大断面図を示す。図6は図5の光ピックアップ
ヘッド408のスライダーを下側から見た図を示す。図
5および図6において、412はスライダーを示す。図
5および図6に示す光ピックアップヘッドのマイクロレ
ンズは、上記製造例2の製法で製造されたものである。(Structural Example 1) FIGS. 5 and 6 are views for explaining a structural example 1 of the slider of the optical pickup head 408. FIG. FIG. 5 shows the optical pickup head 4 of FIG.
08 shows an enlarged sectional view. FIG. 6 shows a view of the slider of the optical pickup head 408 of FIG. 5 viewed from below. 5 and 6, reference numeral 412 denotes a slider. The microlens of the optical pickup head shown in FIGS. 5 and 6 is manufactured by the manufacturing method of Manufacturing Example 2 described above.
【0045】図5に示すように、基板405と基板40
6を張り合わせ後は、基板405の平坦な上面にプリズ
ム404を接着する。このように本発明のマイクロレン
ズは表面を平坦にしておけるので、他の素子との組み合
わせが容易である。As shown in FIG. 5, the substrate 405 and the substrate 40
After bonding 6, the prism 404 is bonded to the flat upper surface of the substrate 405. As described above, since the surface of the microlens of the present invention can be flat, it can be easily combined with other elements.
【0046】上記スライダー412は、図6に示すよう
に、マイクロレンズ105が形成された基板406の下
側の面(張り合わせ面と反対側の面)には、浮上量を制
御するための溝403、リーディングエッジ402、ト
レーリングエッジ401が形成されている。これらの溝
は、下側の基板406に、上側の基板405と貼り合わ
せる前に、マイクロレンズを製造するのと同様のフォト
リソグラフィー法を用いて形成する。As shown in FIG. 6, the slider 412 has a groove 403 for controlling the flying height on the lower surface (the surface opposite to the bonding surface) of the substrate 406 on which the microlenses 105 are formed. , Leading edge 402 and trailing edge 401 are formed. These grooves are formed on the lower substrate 406 by using the same photolithography method as used for manufacturing a microlens before being bonded to the upper substrate 405.
【0047】なお、図5に示した例では、1つのスライ
ダーに1組のマイクロレンズを形成しているが、これを
複数にすることで複数のトラックを同時に読み書きでき
るようにしたり、また、1つ1つのレンズのNAを変え
てさまざまな記録媒体に対応できるようにすることも可
能である。In the example shown in FIG. 5, one set of microlenses is formed on one slider. However, by using a plurality of microlenses, a plurality of tracks can be read and written at the same time. By changing the NA of each lens, it is possible to support various recording media.
【0048】また、マイクロレンズを光ピックアップヘ
ッドとして使用する場合に、マイクロレンズにはレーザ
ー光が長時間照射されるため、温度上昇が予想される。
かかる温度上昇があると、マイクロレンズ間の空気が膨
張し、レンズの特性に影響を与える可能性がある。かか
る場合は、貼り合わされる面に外気を取り込むための溝
を形成し、マイクロレンズの隙間に圧力がかからないよ
うにしておけば良い。When the microlens is used as an optical pickup head, the microlens is irradiated with laser light for a long time, so that the temperature is expected to rise.
If there is such a temperature rise, air between the microlenses expands, which may affect the characteristics of the lenses. In such a case, a groove for taking in outside air may be formed on the surface to be bonded, so that pressure is not applied to the gap between the microlenses.
【0049】以上説明したように、本発明の製造方法で
製造したマイクロレンズを光ピックアップヘッドの対物
レンズに用いた場合には、小型・軽量化・高NA化が実
現可能であり、また、レンズの曲面を基板内部に作り込
んであるので、基板表面に対して他の部品を組み合わせ
たり、加工したりすることが容易になる。As described above, when the microlens manufactured by the manufacturing method of the present invention is used for the objective lens of the optical pickup head, it is possible to realize a small size, light weight, and high NA. Since the curved surface is formed inside the substrate, it is easy to combine or process other components on the substrate surface.
【0050】(構成例2)図7は、光ピックアップヘッ
ド408のスライダー412の構成例2を説明するため
の図である。図7はスライダー412にソリッドイマー
ジョンレンズ(SIL)を形成した構成を示す。図7に
おいて、図5と同等部分は同一符号を付してある。(Structural Example 2) FIG. 7 is a view for explaining a structural example 2 of the slider 412 of the optical pickup head 408. FIG. 7 shows a configuration in which a solid immersion lens (SIL) is formed on the slider 412. 7, the same parts as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals.
【0051】図7において、411はソリッドイマージ
ョンレンズを示す。記録媒体407上に形成されるレー
ザースポットを更に小さくするために、同図に示すよう
に、スライダー412の記録媒体407に対向する面
(下側の基板406の下面)に、半球状または超半球状
のソリッドイマージョンレンズ(SIL)411を形成
する。In FIG. 7, reference numeral 411 denotes a solid immersion lens. In order to further reduce the laser spot formed on the recording medium 407, a hemispherical or super hemispherical surface is provided on the surface of the slider 412 facing the recording medium 407 (the lower surface of the lower substrate 406) as shown in FIG. A solid immersion lens (SIL) 411 is formed.
【0052】かかるソリッドイマージョンレンズ411
は、マイクロレンズを製造する工程で、マイクロレンズ
により集光される位置に半球状のマイクロ凹レンズを作
成し、作成したマイクロ凹レンズに基板406より屈折
率の高い樹脂や無機材料で埋め込んで形成する。ソリッ
ドイマージョンレンズ411を形成した場合には、基板
405,406の屈折率をn1、埋め込んだ材料の屈折
率をn2とするとNAを(n2/n1)倍にすることが
できる。例えば、石英ガラス基板(n1=1.45)に
SiN(n2=2)を埋め込んだ場合には、NAがソリ
ッドイマージョンレンズ(SIL)がない場合に比して
1.38倍になる。The solid immersion lens 411
In the step of manufacturing a microlens, a hemispherical microconcave lens is formed at a position where light is condensed by the microlens, and the formed microconcave lens is formed by embedding a resin or an inorganic material having a higher refractive index than the substrate 406. When the solid immersion lens 411 is formed, when the refractive index of the substrates 405 and 406 is n1 and the refractive index of the embedded material is n2, the NA can be increased by (n2 / n1). For example, when SiN (n2 = 2) is embedded in a quartz glass substrate (n1 = 1.45), the NA is 1.38 times as large as that without a solid immersion lens (SIL).
【0053】以上説明したように、構成例2によれば、
スライダーにイマージョンレンズを形成することとした
ので、より小さな光スポットが形成可能となり、光ディ
スクへの記録密度を向上させることができる。As described above, according to the configuration example 2,
Since the immersion lens is formed on the slider, a smaller light spot can be formed, and the recording density on the optical disc can be improved.
【0054】なお、上記した実施の形態では、上記製造
例2の方法で作成したマイクロレンズをインプリメント
した光ディスク装置を例に挙げて説明したが、製造例1
や製造例2の方法で作成したマイクロレンズをインプリ
メントすることにしても良い。In the above-described embodiment, the optical disk device in which the microlens created by the method of the above-described manufacturing example 2 is implemented has been described as an example.
Alternatively, a microlens created by the method of Manufacturing Example 2 may be implemented.
【0055】また、上記した実施の形態では、光デバイ
ス装置の一例として光ディスク装置を例に挙げて説明し
たが、本発明はこれに限られるものではなく、マイクロ
レンズをインプリメントするあらゆる光デバイス装置に
適用可能であり、例えば、光磁気ディスク装置や光通信
装置等にも適用可能である。Further, in the above-described embodiment, the optical disk device has been described as an example of the optical device device. However, the present invention is not limited to this, and may be applied to any optical device device implementing a microlens. The present invention is applicable to, for example, a magneto-optical disk device and an optical communication device.
【0056】本発明は上記した実施の形態に限定される
ものではなく、発明の要旨を変更しない範囲で適宜変形
可能である。The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately modified without changing the gist of the invention.
【0057】[0057]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係るマ
イクロレンズの製造方法によれば、少なくとも片面に、
基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第
1の基板、および、少なくとも片面にマイクロレンズが
形成された第2の基板を製造し、当該第1および第2の
基板のマイクロレンズが形成された面同士を対向させて
貼り合わせることとしたので、薄くNAの小さいマイク
ロレンズを組み合わせて、高NAのマイクロレンズを容
易に作成することが可能となる。As described above, according to the method of manufacturing a microlens according to the first aspect, at least one side has:
Manufacturing a first substrate having a microlens formed at a position deeper than the substrate surface and a second substrate having a microlens formed on at least one surface, and forming the microlenses of the first and second substrates; Since the surfaces facing each other are bonded together, it is possible to easily form a high-NA microlens by combining microlenses that are thin and have a small NA.
【0058】また、請求項2に係るマイクロレンズの製
造方法によれば、請求項1に記載のマイクロレンズの製
造方法において、第1および第2の基板のマイクロレン
ズ間を、当該基板とは、屈折率、透過率、および波長依
存性のうち少なくとも1つが異なる接着剤で充填するこ
ととしたので、請求項1に記載の発明の効果に加えて、
接着剤の塗布が容易になり、また、色収差の補正等の種
々の機能を有するマイクロレンズを作成することが可能
となる。According to the method of manufacturing a microlens according to the second aspect, in the method of manufacturing a microlens according to the first aspect, the distance between the microlenses of the first and second substrates is defined as: Since at least one of the refractive index, the transmittance, and the wavelength dependency is filled with a different adhesive, in addition to the effects of the invention according to claim 1,
It becomes easy to apply the adhesive, and it is possible to produce microlenses having various functions such as correction of chromatic aberration.
【0059】また、請求項3に係るマイクロレンズの製
造方法によれば、第1および第2の基板の貼り合わされ
る面に夫々溝を形成し、形成した各溝に接着剤を充填し
て、第1および第2の基板の表面を接触させて貼り合わ
せるとしたので、請求項1に記載の発明の効果に加え
て、マイクロレンズの間隔の精度を高くすることが可能
となる。According to the method of manufacturing a microlens according to the third aspect, grooves are respectively formed on the surfaces of the first and second substrates to be bonded, and the formed grooves are filled with an adhesive. Since the surfaces of the first and second substrates are brought into contact with each other and bonded to each other, it is possible to increase the precision of the interval between the microlenses in addition to the effect of the first aspect.
【0060】また、請求項4に係るマイクロレンズの製
造方法によれば、請求項1に記載のマイクロレンズの製
造方法において、さらに、第1の基板および第2の基板
を貼り合わせた際にマイクロレンズ間に形成される空洞
部を、基板外部に接続するための溝を形成することとし
たので、請求項1に記載の発明の効果に加えて、温度上
昇がある環境下でマイクロレンズを使用した場合にもマ
イクロレンズ間の空気の膨張を防止でき、レンズの特性
に悪影響を与えるのを防止可能となる。According to a method of manufacturing a microlens according to a fourth aspect, in the method of manufacturing a microlens according to the first aspect, further, when the first substrate and the second substrate are bonded to each other, Since a groove for connecting the cavity formed between the lenses to the outside of the substrate is formed, in addition to the effect of the invention described in claim 1, the microlens is used in an environment where the temperature rises. In this case, the expansion of the air between the micro lenses can be prevented, and the characteristics of the lenses can be prevented from being adversely affected.
【0061】また、請求項5に係るマイクロレンズによ
れば、請求項1〜4のいずれか1つに記載のマイクロレ
ンズの製造方法で製造することとしたので、高NA化が
必要な光ピックアップ等の用途にマイクロレンズを利用
することが可能になる。Further, according to the microlens according to the fifth aspect, since the microlens is manufactured by the method for manufacturing a microlens according to any one of the first to fourth aspects, an optical pickup requiring a high NA is required. It becomes possible to use the microlens for such purposes.
【0062】また、請求項6に係る光デバイス装置によ
れば、請求項5に記載されたマイクロレンズを使用して
いるので、ピックアップヘッドを小型・軽量化すること
が可能となる。According to the optical device of the sixth aspect, since the microlens described in the fifth aspect is used, the size and weight of the pickup head can be reduced.
【0063】また、請求項7に係る光デバイス装置によ
れば、請求項6に記載の光デバイス装置において、光ピ
ックアップヘッドの記録媒体と対向する面に半球または
超半球状のソリッドイマージョンレンズを形成すること
としたので、より小さな光スポットが形成可能となり、
記録媒体への記録密度を向上させることが可能となる。According to the optical device of the seventh aspect, in the optical device of the sixth aspect, a hemispherical or hyperhemispherical solid immersion lens is formed on a surface of the optical pickup head facing the recording medium. Because a smaller light spot can be formed,
It is possible to improve the recording density on the recording medium.
【0064】また、請求項8に係る光デバイス装置のス
ライダーによれば、請求項5に記載されたマイクロレン
ズを使用することとしたので、スライダーをより小型・
軽量化することが可能となる。According to the slider of the optical device according to the eighth aspect, since the microlens according to the fifth aspect is used, the slider can be made smaller and smaller.
It is possible to reduce the weight.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】マイクロレンズの製造工程(製造例1)を説明
するための説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a manufacturing process (manufacturing example 1) of a microlens.
【図2】マイクロレンズの製造工程(製造例2)を説明
するための説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining a microlens manufacturing process (manufacturing example 2).
【図3】マイクロレンズの製造工程(製造例3)を説明
するための説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a microlens manufacturing process (manufacturing example 3).
【図4】本発明のマイクロレンズを用いた光ディスク装
置の概略構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of an optical disk device using the microlens of the present invention.
【図5】図4の光ピックアップヘッドの拡大断面図であ
る(構成例1)。5 is an enlarged sectional view of the optical pickup head of FIG. 4 (Configuration Example 1).
【図6】図5に示す光ピックアップヘッドのスライダー
を下側から見た図である(構成例1)。6 is a diagram of a slider of the optical pickup head shown in FIG. 5 as viewed from below (configuration example 1).
【図7】図5のスライダーにSILを形成した構成を示
す図である(構成例2)。FIG. 7 is a diagram showing a configuration in which an SIL is formed on the slider of FIG. 5 (configuration example 2).
101 フォトレジスト 102 ガラス基板 103 マイクロレンズパターン 104 アライメントマークパターン 105 マイクロレンズ 105A 空洞部 106 アライメントマーク 107 接着剤 201 溝 301 接着剤 401 スライダーのトレーリングエッジ 402 スライダーのリーディングエッジ 403 スライダー下の気流を制御するための溝 404 プリズム 405 基板(上側) 406 基板(下側) 407 光ディスク 408 光ピックアップヘッド 409 アーム 410 光学ユニット 411 ソリッドイマージョンレンズ 412 スライダー Reference Signs List 101 photoresist 102 glass substrate 103 microlens pattern 104 alignment mark pattern 105 microlens 105A cavity 106 alignment mark 107 adhesive 201 groove 301 adhesive 401 trailing edge of slider 402 leading edge of slider 403 controlling airflow below slider Grooves 404 Prism 405 Substrate (upper) 406 Substrate (lower) 407 Optical disk 408 Optical pickup head 409 Arm 410 Optical unit 411 Solid immersion lens 412 Slider
Claims (8)
ズを製造するマイクロレンズの製造方法において、 少なくとも片面に、基板表面より深い位置にマイクロレ
ンズが形成された第1の基板を製造する第1の工程と、 少なくとも片面に、マイクロレンズが形成された第2の
基板を製造する第2の工程と、 前記第1および第2の基板のマイクロレンズが形成され
た面同士を対向させて貼り合わせる第3の工程と、 を含むことを特徴とするマイクロレンズの製造方法。1. A microlens manufacturing method for manufacturing a microlens by bonding two substrates to each other, comprising: a first method for manufacturing a first substrate having a microlens formed at least on one surface at a position deeper than the substrate surface. A second step of manufacturing a second substrate on which a microlens is formed on at least one side; and a step of bonding the first and second substrates with the surfaces on which the microlenses are formed facing each other. 3. A method of manufacturing a microlens, comprising:
方法において、 前記第3の工程では、前記第1および第2の基板のマイ
クロレンズ間を、当該基板とは、屈折率、透過率、およ
び波長依存性のうち少なくとも1つが異なる接着剤で充
填することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。2. The method of manufacturing a microlens according to claim 1, wherein, in the third step, a refractive index, a transmittance, and a distance between the microlenses of the first and second substrates are determined. A method for producing a microlens, wherein at least one of wavelength dependency is filled with a different adhesive.
ロレンズの製造方法において、 前記第1および第2の工程では、さらに、前記第1およ
び第2の基板の前記貼り合わされる面に、夫々溝を形成
し、 前記第3の工程では、さらに、前記各溝に接着剤を充填
して、前記第1および第2の基板の表面を接触させて貼
り合わせることを特徴とするマイクロレンズの製造方
法。3. The method of manufacturing a microlens according to claim 1, wherein in the first and second steps, the surface of the first and second substrates to be bonded is Grooves are respectively formed, and in the third step, an adhesive is filled in each of the grooves, and the surfaces of the first and second substrates are brought into contact with each other and bonded to each other. Production method.
方法において、 さらに、前記第1の基板および前記第2の基板を貼り合
わせた際に各基板のマイクロレンズ間に形成される空洞
部を、基板外部に接続するための溝を形成する工程を含
むことを特徴とするマイクロレンズの製造方法。4. The method of manufacturing a microlens according to claim 1, further comprising: forming a cavity formed between the microlenses of each substrate when the first substrate and the second substrate are bonded to each other. Forming a groove for connection to the outside of the substrate.
イクロレンズの製造方法で製造されたことを特徴とする
マイクロレンズ。5. A microlens manufactured by the method for manufacturing a microlens according to claim 1. Description:
使用したことを特徴とする光デバイス装置。6. An optical device using the microlens according to claim 5. Description:
て、請求項5に記載されたマイクロレンズを光ピックア
ップヘッドに使用し、当該光ピックアップヘッドの記録
媒体と対向する面に半球状または超半球状のソリッドイ
マージョンレンズを形成したことを特徴とする光デバイ
ス装置。7. The optical device according to claim 6, wherein the microlens according to claim 5 is used for an optical pickup head, and a surface of the optical pickup head facing the recording medium is hemispherical or super hemispherical. An optical device device, wherein a solid immersion lens is formed.
使用したことを特徴とする光デバイス装置のスライダ
ー。8. A slider for an optical device using the microlens according to claim 5.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05178199A JP4202511B2 (en) | 1999-01-29 | 1999-02-26 | Microlens module manufacturing method, microlens module manufactured by the manufacturing method, optical device apparatus using the microlens module, and slider of the optical device apparatus |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2300699 | 1999-01-29 | ||
JP05178199A JP4202511B2 (en) | 1999-01-29 | 1999-02-26 | Microlens module manufacturing method, microlens module manufactured by the manufacturing method, optical device apparatus using the microlens module, and slider of the optical device apparatus |
JP11-23006 | 1999-08-27 |
Publications (2)
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---|---|
JP2000280366A true JP2000280366A (en) | 2000-10-10 |
JP4202511B2 JP4202511B2 (en) | 2008-12-24 |
Family
ID=26360303
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---|---|---|---|
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