JP2000275779A - Heat-developable photosensitive material and its processing method - Google Patents

Heat-developable photosensitive material and its processing method

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JP2000275779A
JP2000275779A JP11077017A JP7701799A JP2000275779A JP 2000275779 A JP2000275779 A JP 2000275779A JP 11077017 A JP11077017 A JP 11077017A JP 7701799 A JP7701799 A JP 7701799A JP 2000275779 A JP2000275779 A JP 2000275779A
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Japan
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group
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silver
heat
photothermographic material
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JP11077017A
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Japanese (ja)
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Kazuhiko Hirabayashi
和彦 平林
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-developable photosensitive material improved in heat contraction at the time of development and conveyability during heat development. SOLUTION: The heat-developable photosensitive material contains organic silver grains and photosensitive silver halide grains and a reducing agent and a hydrazine derivative and/or quarternary onium salt on a support, and the ratio of the dried total film thickness p of the photographic constituent layers applied to the support to a support thickness s satisfies the following expression: 0.06<=p/s<=0.38.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
し、特に印刷製版用に適している熱現像感光材料に関す
るものである。
The present invention relates to a photothermographic material, and more particularly to a photothermographic material suitable for printing plate making.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来印刷製版や医療の分野では、画像形
成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題とな
っており、近年では環境保全、省スペースの観点からも
処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー
・イメージセッターやレーザー・イメージャーにより効
率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成
することができる写真用途の光熱写真材料に関する技術
が必要とされている。この技術として、例えば、米国特
許第3,152,904号、同3,487,075号及
びD.モーガン(Morgan)による「ドライシルバ
ー写真材料(Dry Silver Photogra
phic Materials)」(Handbook
of Imaging Materials, Ma
rcelDekker,Inc.第48頁,1991)
等に記載されているように、支持体上に有機銀塩、感光
性ハロゲン化銀粒子、還元剤及びバインダーを含有する
熱現像感光材料が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of printing plate making and medical treatment, a waste liquid accompanying wet processing of an image forming material has become a problem in terms of workability. Weight loss is strongly desired. Therefore, there is a need for a technique relating to photothermographic materials for photographic applications, which enables efficient exposure with a laser imagesetter or laser imager and can form a high-resolution and clear black image. This technique includes, for example, U.S. Patent Nos. 3,152,904 and 3,487,075 and D.C. "Dry Silver Photograph" by Morgan
phy Materials) "(Handbook
of Imaging Materials, Ma
rcelDekker, Inc. 48, 1991)
And the like, a photothermographic material containing an organic silver salt, photosensitive silver halide grains, a reducing agent and a binder on a support is known.

【0003】これらの熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している。該熱現像感
光材料は常温で安定であるが、露光後高温(例えば、8
0〜150℃)に加熱することで現像される。加熱する
ことで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との
間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元
反応は露光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用に
よって促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によっ
て生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と
対照をなし、画像の形成がなされる。この反応過程は、
外部から水等の処理液を供給することなしで進行する。
[0003] These photothermographic materials form a photographic image by a heat development process, and include a reducible silver source (organic silver salt), a photosensitive silver halide, a reducing agent and, if necessary, a silver salt. A color toning agent for suppressing color tone is usually contained in a dispersed state in an (organic) binder matrix. The photothermographic material is stable at room temperature, but is exposed to high temperature (for example, 8
(0 to 150 ° C.). Heating generates silver through an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. This oxidation-reduction reaction is accelerated by the catalytic action of the latent image generated on the silver halide upon exposure. The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image. This reaction process
The process proceeds without supplying a processing liquid such as water from the outside.

【0004】ところで、熱現像感光材料では80〜15
0℃で熱現像されることが多く、熱現像後の感光材料の
寸法変化が、従来の湿式現像の感光材料に比べて大きく
実用上問題となっていた。特開昭61−235608
号、あるいは特開平3−275332号には製膜工程中
の熱固定後に弛緩する方法が記載されているが、このよ
うな方法では下塗り後の熱収縮が大きくなり、その結
果、感光材料の画質が低下するという欠点がある。また
特開平10−10676号、同10−10677号で
は、支持体を製膜後に熱処理するものであり、実用上大
きな設備投資を伴うという問題があった。
In the case of photothermographic materials, 80 to 15 is used.
In many cases, thermal development is performed at 0 ° C., and the dimensional change of the photosensitive material after thermal development is large and has become a practical problem compared to conventional photosensitive materials of wet development. JP-A-61-235608
Or JP-A-3-275332 describes a method of relaxing after heat setting during the film forming process. However, such a method results in a large heat shrinkage after the undercoating, and as a result, the image quality of the photosensitive material is reduced. Is reduced. In Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 10-10676 and 10-10677, the support is heat-treated after forming the film, and there is a problem that a large equipment investment is required for practical use.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、現像
時の熱収縮および熱現像機中での搬送性が改良された熱
現像感光材料とその処理方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a photothermographic material having improved heat shrinkage during development and improved transportability in a heat developing machine, and a processing method therefor.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
構成により達成された。
The object of the present invention has been attained by the following constitutions.

【0007】1)支持体上に有機銀粒子、感光性ハロゲ
ン化銀粒子、還元剤、ヒドラジン誘導体及び/又は4級
オニウム塩化合物を含有する熱現像感光材料において、
支持体に塗布された写真構成層の乾燥トータル膜厚pと
支持体厚みsの比p/sが、0.06≦p/s≦0.3
8であることを特徴とする熱現像感光材料。
1) A photothermographic material containing organic silver particles, photosensitive silver halide particles, a reducing agent, a hydrazine derivative and / or a quaternary onium salt compound on a support,
The ratio p / s of the dry total film thickness p of the photographic constituent layer applied to the support to the support thickness s is 0.06 ≦ p / s ≦ 0.3.
8. A photothermographic material according to item 8,

【0008】2)熱現像機の熱現像部における現像処理
条件が100℃以上、150℃以下で、かつ該熱現像部
のパス長(ps)と該熱現像部の全搬送ローラー及び/
または全ヒートローラーとの搬送方向の接触長さ(r
s)の比(rs/ps)が、0.04≦rs/ps≦
1.4であることを特徴とする前記1)に記載の熱現像
感光材料。
2) The developing conditions in the heat developing section of the heat developing machine are 100 ° C. or more and 150 ° C. or less, and the path length (ps) of the heat developing section and all the transport rollers and / or
Or the contact length (r
s) is in the range of 0.04 ≦ rs / ps ≦
The photothermographic material according to 1), wherein the photothermographic material is 1.4.

【0009】3)支持体上に有機銀粒子、感光性ハロゲ
ン化銀粒子、還元剤、ヒドラジン誘導体及び/又は4級
オニウム塩化合物を含有する熱現像感光材料を熱現像処
理することにおいて、熱現像機の熱現像部における現像
処理条件が100℃以上150℃以下で、かつ該熱現像
部のパス長(ps)と該熱現像部の全搬送ローラー及び
/または全ヒートローラーとの搬送方向の接触長さ(r
s)の比(rs/ps)が、0.04≦rs/ps≦
1.4であることを特徴とする熱現像感光材料の処理方
法。
3) A photothermographic material containing organic silver particles, photosensitive silver halide particles, a reducing agent, a hydrazine derivative and / or a quaternary onium salt compound on a support is subjected to heat development. The development processing conditions in the heat development section of the machine are 100 ° C. or more and 150 ° C. or less, and the path length (ps) of the heat development section is in contact with all the transport rollers and / or all heat rollers of the thermal development section in the transport direction. Length (r
s) is in the range of 0.04 ≦ rs / ps ≦
A method for processing a photothermographic material, wherein the material is 1.4.

【0010】4)支持体の厚みが110μm以上、15
0μm以下であることを特徴とする前記2)に記載の熱
現像感光材料。
4) The thickness of the support is 110 μm or more and 15
The photothermographic material according to the above item 2), wherein the thickness is 0 μm or less.

【0011】5)支持体の厚みが110μm以上、15
0μm以下であることを特徴とする前記3)に記載の熱
現像感光材料の処理方法。
5) The thickness of the support is 110 μm or more and 15
The method for processing a photothermographic material according to the above item 3), wherein the thickness is 0 μm or less.

【0012】以下、本発明について詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0013】熱現像感光材料において、熱現像は支持体
PETのTgより高温で行われるので、支持体PETは
熱収縮を起こしてしまう。一方、熱現像感光材料に於け
る支持体を除く写真構成層は、厚いほど感光材料の熱容
量が大きくなるので、熱が支持体PETに集中せずに分
散する結果、寸法収縮が改善される。また支持体の厚み
も厚いほど熱容量が増え、現像時に支持体がTgに達す
るのが遅れる為好ましいが、厚すぎると感光材料の所謂
コシが強くなりすぎて、搬送トラブルを多発する。従っ
て、支持体厚みは110μm以上、150μm以下が好
ましく、110μm以上、130μm以下がより好まし
い。
In the photothermographic material, since the thermal development is performed at a temperature higher than the Tg of the PET support, the PET support undergoes thermal contraction. On the other hand, in the photothermographic material, the heat capacity of the photographic material becomes larger as the photographic constituent layer excluding the support becomes thicker. Therefore, the heat is dispersed without being concentrated on the support PET, so that the dimensional shrinkage is improved. The thicker the support is, the more heat capacity increases, and it is preferable that the support reaches Tg at the time of development, which is preferable. However, if the support is too thick, the so-called stiffness of the photosensitive material becomes too strong, which often causes transport trouble. Therefore, the thickness of the support is preferably from 110 μm to 150 μm, more preferably from 110 μm to 130 μm.

【0014】写真構成層も厚すぎると、現像中に熱が伝
わりきらず、現像不良となる。これは感光層側だけでな
く、バッキング層を厚くしすぎても同様の傾向となる。
熱収縮と現像性のバランスから、熱現像感光材料におい
て支持体を除く写真構成層の乾燥トータル膜厚pと支持
体厚みsの比p/sは、0.06≦p/s≦0.38が
好ましく、0.15≦p/s≦0.30がより好ましい
ことを本発明者は見出した。
If the thickness of the photographic component layer is too large, heat cannot be transmitted during development, resulting in poor development. This is the same tendency not only on the photosensitive layer side but also when the backing layer is too thick.
From the balance between heat shrinkage and developability, the ratio p / s of the dry total film thickness p of the photographic constituent layer excluding the support to the support thickness s in the photothermographic material is 0.06 ≦ p / s ≦ 0.38. The present inventor has found that 0.15 ≦ p / s ≦ 0.30 is more preferable.

【0015】現像温度については100℃以上、150
℃以下が好ましく、100℃以上、130℃がより好ま
しい。100℃未満では充分な現像がされず、150℃
より高いと未露光部も黒化してしまい現像温度/時間の
制御が非常に難しくなるからである。
The development temperature is 100 ° C. or more, 150
C. or lower, preferably 100.degree. C. or higher and 130.degree. C. is more preferable. If the temperature is lower than 100 ° C., sufficient development is not performed.
If the temperature is higher, the unexposed portion is also blackened, and it is very difficult to control the development temperature / time.

【0016】本発明の熱現像部のパス長(ps)は、感
光材料を現像部全体にいきわたらせた時の現像部にあた
る場所にある感光材料の長さを、測定することによって
定義される。熱現像部の全搬送ローラー及び/または全
ヒートローラーとの搬送方向の接触長さ(rs)とは、
現像部のローラーと接触している感光層側とバッキング
側の両側のトータルの搬送方向の長さであり、測定方法
はローラーと感光材料が接触している部位の両側(搬送
方向の前後)から25μmのPETベース(TORAY
ルミラー#25)を差し込み、差し入れた25μmPE
Tの先端から先端の長さを接触長さとし、これらを足し
合わせた長さをrsとする。
The path length (ps) of the heat developing section of the present invention is defined by measuring the length of the photosensitive material at a location corresponding to the developing section when the photosensitive material is spread over the entire developing section. The contact length (rs) in the transport direction with all the transport rollers and / or all the heat rollers of the thermal developing unit is:
The total length in the transport direction on both the photosensitive layer side and the backing side that are in contact with the roller of the developing unit. The measuring method is from both sides (before and after the transport direction) of the area where the roller and the photosensitive material are in contact. 25 μm PET base (TORAY
Lumirror # 25) and the inserted 25 μm PE
The length of the tip from the tip of T is defined as the contact length, and the sum of these is defined as rs.

【0017】本発明者はrs/psは0.04≦rs/
ps≦1.4が好ましく、0.10≦rs/ps≦1.
0がより好ましいことを見出した。接触長さが短すぎる
と所望の現像時間中にローラーから伝達される熱が少な
すぎて、現像が不十分となる。また接触長さが長すぎる
と高熱で多くのローラーと接触するためカールがついた
り、通常は感光材料に不均一に力がかかってしまう(搬
送時のひっぱり等)ため歪みが生じてしまう。
The present inventor has determined that rs / ps is 0.04 ≦ rs /
ps ≦ 1.4 is preferable, and 0.10 ≦ rs / ps ≦ 1.
It has been found that 0 is more preferable. If the contact length is too short, too little heat is transferred from the rollers during the desired development time, resulting in insufficient development. On the other hand, if the contact length is too long, it will come into contact with many rollers due to high heat, causing curling, and in general, a non-uniform force applied to the photosensitive material (pulling during transport, etc.), causing distortion.

【0018】以下、本発明について更に詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

【0019】本発明は、熱現像感光材料が硬調化剤とし
てヒドラジン誘導体を含有するとき、その効果を遺憾な
く発揮する。
In the present invention, when the photothermographic material contains a hydrazine derivative as a high contrast agent, the effect is regrettedly exhibited.

【0020】ヒドラジン誘導体としては、下記一般式
〔H〕で表される化合物が好ましい。
As the hydrazine derivative, a compound represented by the following general formula [H] is preferable.

【0021】[0021]

【化1】 Embedded image

【0022】式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよ
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基を、
0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル
基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−
基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG11
−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G1
1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−
基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族
基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1
が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよ
い。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、
アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。
In the formula, A 0 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a -G 0 -D 0 group which may have a substituent;
B 0 represents a blocking group, and A 1 and A 2 each represent a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents an acyl group, a sulfonyl group, or an oxalyl group. Here, G 0 is -CO-
Group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG 1 D 1 )
— Group, —SO— group, —SO 2 — group or —P (O) (G 1 D
1 ) represents a group, G 1 represents a mere bond, an —O— group, —S—
Group or -N (D 1) - represents a group, D 1 is an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, a plurality of D 1 in the molecule
If they are present, they can be the same or different. D 0 is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group,
Represents an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group.

【0023】一般式〔H〕において、A0で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えば、メチル基、エチル基、t−ブチル基、
オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げら
れ、これらは更に適当な置換基(例えば、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換
されていてもよい。
In the general formula [H], the aliphatic group represented by A 0 preferably has 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group,
Octyl group, cyclohexyl group, benzyl group, and the like, and further suitable substituents (for example, aryl group,
Alkoxy, aryloxy, alkylthio, arylthio, sulfoxy, sulfonamido, sulfamoyl, acylamino, ureido, etc.).

【0024】一般式〔H〕において、A0で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えば、ベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0
表される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えば、ピロリジン環、イミ
ダゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピ
リジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、
ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れ、A0で表される−G0−D0基において、G0は−CO
−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G11)−基を表す。G1は単なる結合手、−O−
基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族
基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に
複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異
なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、
複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましい
0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基等が挙げられる。A0の芳香族基、複素環基及び
−G0−D0基は置換基を有していてもよい。A0として
特に好ましいものはアリール基及び−G0−D0基であ
る。
In the general formula [H], the aromatic group represented by A 0 is preferably a monocyclic or condensed ring aryl group, for example, a benzene ring or a naphthalene ring, and a heterocyclic group represented by A 0. As the ring group, a heterocyclic ring containing at least one heteroatom selected from nitrogen, sulfur, and oxygen atoms in a single ring or a condensed ring is preferable.For example, a pyrrolidine ring, an imidazole ring, a tetrahydrofuran ring, a morpholine ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring Ring, quinoline ring, thiazole ring,
Benzothiazole ring, a thiophene ring, a furan ring, and, in -G 0 -D 0 group represented by A 0, G 0 is -CO
Group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG
1 D 1) - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P (O)
(G 1 D 1 ) — represents a group. G 1 is a mere bond, -O-
A group, —S— group or —N (D 1 ) — group, wherein D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in the molecule, They can be the same or different. D 0 is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group,
It represents a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferable D 0 includes a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, and the like. Aromatic groups A 0, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group may have a substituent. Particularly preferred as A 0 is an aryl group or -G 0 -D 0 group.

【0025】又、一般式〔H〕において、A0は耐拡散
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としては、カプラー等の不動性写真
用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラス
ト基としては、写真的に不活性であるアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、
フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置
換基部分の炭素数の合計は8以上であることが好まし
い。
In the general formula [H], A 0 preferably contains at least one of a diffusion-resistant group or a silver halide-adsorbing group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable, and as the ballast group, a photographically inactive alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, phenyl Group,
Examples thereof include a phenoxy group and an alkylphenoxy group, and the total number of carbon atoms in the substituent is preferably 8 or more.

【0026】一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としては、チオ尿素、チオウレタン基、メルカプ
ト基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミ
ド複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−
90439号に記載の吸着基等が挙げられる。
In the general formula [H], examples of the silver halide adsorption promoting group include thiourea, thiourethane group, mercapto group, thioether group, thione group, heterocyclic group, thioamide heterocyclic group, mercapto heterocyclic group, or JP-A-64-
90439 and the like.

【0027】一般式〔H〕において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1)−基、−SO−基、−SO−基又は−P
(O)(G11)−基を表す。好ましいG0としては−
CO−基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結
合手、−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表
し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子
を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは
同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪
族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を
表し、好ましいD0としては水素原子、アルキル基、ア
ルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はとも
に水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基(ア
セチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基
等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、トルエンス
ルホニル基等)、又はオキザリル基(エトキザリル基
等)を表す。
In the general formula [H], B 0 represents a blocking group, preferably -G 0 -D 0 group, and G 0 represents-
CO- group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG
1 D 1) - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P
(O) represents a (G 1 D 1 ) — group. Preferred G 0 is-
A CO— group or a —COCO— group, wherein G 1 represents a mere bond, a —O— group, a —S— group or a —N (D 1 ) — group, and D 1 represents an aliphatic group or an aromatic group , A heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in the molecule, they may be the same or different. D 0 is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group,
It represents an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferred D 0 includes a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, and the like. A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), a sulfonyl group (methanesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), or an oxalyl group (Such as an ethoxalyl group).

【0028】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
Next, specific examples of the compound represented by the general formula [H] are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0029】[0029]

【化2】 Embedded image

【0030】[0030]

【化3】 Embedded image

【0031】[0031]

【化4】 Embedded image

【0032】[0032]

【化5】 Embedded image

【0033】[0033]

【化6】 Embedded image

【0034】[0034]

【化7】 Embedded image

【0035】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜20に記載の化合物H−1〜H−29、米国特
許第5,464,738号カラム9〜11に記載の化合
物1〜12である。これらのヒドラジン誘導体は公知の
方法で合成することができる。
Other hydrazine derivatives which can be preferably used include compounds H-1 to H-29 described in columns 11 to 20 of US Pat. No. 5,545,505 and column 9 of US Pat. No. 5,464,738. Compounds 1 to 12 described in Nos. 1 to 11. These hydrazine derivatives can be synthesized by a known method.

【0036】ヒドラジン誘導体の添加層は、ハロゲン化
銀乳剤を含む感光層及び/又は感光層に隣接した層であ
る。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組
成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量は一
様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10
-1モル程度、特に10-5〜10-2モルの範囲が好まし
い。
The hydrazine derivative-added layer is a photosensitive layer containing a silver halide emulsion and / or a layer adjacent to the photosensitive layer. The optimum amount is not uniform depending on the grain size of the silver halide grains, the halogen composition, the degree of chemical sensitization, the type of the inhibitor, and the like, but is preferably 10 -6 to 10 per mol of silver halide.
The preferred range is about -1 mol, particularly 10 -5 to 10 -2 mol.

【0037】また本発明の熱現像感光材料には、米国特
許第5,545,505号に記載のヒドロキシルアミン
化合物、アルカノールアミン化合物やフタル酸アンモニ
ウム化合物、米国特許第5,545,507号に記載の
ヒドロキサム酸化合物、米国特許第5,558,983
号に記載のN−アシル−ヒドラジン化合物、米国特許第
5,545,515号に記載のアクリロニトリロ化合
物、米国特許第5,937,449号に記載のベンズヒ
ドロールやジフェニルフォスフィンやジアルキルピペリ
ジンやアルキル−β−ケトエステルなどの水素原子ドナ
ー化合物、などの硬調化促進剤を添加することが好まし
い。その中でも下記一般式(P)で表される4級オニウ
ム化合物が好ましく用いられる。
The photothermographic material of the present invention includes hydroxylamine compounds, alkanolamine compounds and ammonium phthalate compounds described in US Pat. No. 5,545,505, and US Pat. No. 5,545,507. Hydroxamic acid compounds of US Pat. No. 5,558,983
N-acyl-hydrazine compounds described in U.S. Pat. No. 5,545,515, acrylonitrile compounds described in U.S. Pat. No. 5,937,449, and benzhydrol, diphenylphosphine, dialkylpiperidine and alkyl described in U.S. Pat. No. 5,937,449. It is preferable to add a hardening accelerator such as a hydrogen atom donor compound such as -β-ketoester. Among them, a quaternary onium compound represented by the following general formula (P) is preferably used.

【0038】[0038]

【化8】 Embedded image

【0039】式中、Qは窒素原子又は燐原子を表し、R
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表
し、X-はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに連結
して環を形成してもよい。
In the formula, Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom;
1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent, and X represents an anion. Incidentally, R 1 to R 4 may be connected to each other to form a ring.

【0040】一般式(P)において、R1〜R4で表され
る置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基
等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、アル
キニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリール
基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペリジ
ニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジル
基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、テ
トラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ基
等が挙げられる。
In the general formula (P), the substituent represented by R 1 to R 4 is an alkyl group (methyl group, ethyl group,
Propyl group, butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc., alkenyl group (allyl group, butenyl group, etc.), alkynyl group (propargyl group, butynyl group, etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (Piperidinyl group, piperazinyl group, morpholinyl group, pyridyl group, furyl group, thienyl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group, sulfolanyl group, etc.), amino group and the like.

【0041】R1〜R4が互いに連結して形成しうる環と
しては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられ
る。
The ring which may be formed by connecting R 1 to R 4 to each other includes a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring,
Examples include a quinuclidine ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a triazole ring, and a tetrazole ring.

【0042】R1〜R4で表される基はヒドロキシル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、ス
ルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有しても
よい。
The groups represented by R 1 to R 4 are hydroxyl groups,
It may have a substituent such as an alkoxy group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group and an aryl group.

【0043】R1、R2、R3及びR4としては、水素原子
及びアルキル基が好ましい。
As R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , a hydrogen atom and an alkyl group are preferred.

【0044】X-が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
Examples of the anion represented by X include inorganic and organic anions such as a halogen ion, a sulfate ion, a nitrate ion, an acetate ion and a p-toluenesulfonic acid ion.

【0045】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
More preferably, the following general formulas (Pa) and (P
b) or a compound represented by (Pc); and a compound represented by the following general formula [T].

【0046】[0046]

【化9】 Embedded image

【0047】式中、A1、A2、A3、A4及びA5は、含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4
びA5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、
イミダゾール、チオゾール、オキサゾール、ピラジン、
ピリミジン等の各環)を挙げることができ、更に好まし
い例としてピリジン環が挙げられる。
In the formula, A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 represent a group of nonmetal atoms for completing a nitrogen-containing heterocyclic ring, and may contain an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom. And the benzene ring may be condensed. A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5
May have a substituent and may be the same or different. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfo group, a carboxy group, a hydroxyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, amino group, sulfonamide group, sulfonyl group, cyano group, nitro group, mercapto group, alkylthio group and arylthio group. Preferred examples of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 include a 5- to 6-membered ring (pyridine,
Imidazole, thiozole, oxazole, pyrazine,
Each ring such as pyrimidine), and a more preferred example is a pyridine ring.

【0048】BPは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
BP represents a divalent linking group, and m is 0 or 1
Represents Examples of the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, —SO 2 —, —SO—, and —O
—, —S—, —CO—, and —N (R 6 ) — (R 6 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom) alone or in combination. Preferred examples of B p include an alkylene group and an alkenylene group.

【0049】R1、R2及びR5は各々、炭素数1〜20
のアルキル基を表す。又、R1及びR2は同一でも異って
いてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換のアル
キル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、A4
びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。
R 1 , R 2 and R 5 each have 1 to 20 carbon atoms
Represents an alkyl group. R 1 and R 2 may be the same or different. The alkyl group represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and the substituent is the same as the substituents described as the substituents for A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 .

【0050】R1、R2及びR5の好ましい例としては、
それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に好ま
しい例としては、置換或いは無置換のアリール置換アル
キル基が挙げられる。
Preferred examples of R 1 , R 2 and R 5 include:
Each is an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. More preferred examples include a substituted or unsubstituted aryl-substituted alkyl group.

【0051】Xp -は分子全体の電荷を均衡さすに必要な
対イオンを表し、例えば、塩素イオン、臭素イオン、沃
素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスル
ホナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電
荷を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の
場合にはnpは0である。
[0051] X p - is a counter ion necessary to refer balancing the charge of the whole molecule, for example, it represents chlorine ion, bromine ion, iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p- toluenesulfonate, the oxalato or the like. n p represents the number of counter ions required to balance the charge of the whole molecule, and n p is 0 in the case of an internal salt.

【0052】[0052]

【化10】 Embedded image

【0053】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6
7は、水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメット
のシグマ値(σP)が負のものが好ましい。
The substituents R 5 and R 6 of the phenyl group of the triphenyltetrazolium compound represented by the general formula [T],
R 7 is preferably a hydrogen atom or a compound having a negative Hammett sigma value (σP) indicating electron-withdrawing degree.

【0054】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えば、ジャーナル・オブ・メディカルケ
ミストリー(Journal of Medical
Chemistry)20巻、304頁、1977年に
記載のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に
見ることが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基
としては、例えば、メチル基(σP=−0.17以下何
れもσP値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピ
ル基(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、
iso−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基
(−0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso
−ブチル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
The Hammett's sigma value at the phenyl group is described in many literatures, for example, Journal of Medical chemistry.
Chemistry) 20, vol. 304, p. The group having a particularly preferable negative sigma value can be seen in a report by Hansch (C. Hansch) or the like. -0.15), a cyclopropyl group (-0.21), an n-propyl group (-0.13),
iso-propyl group (-0.15), cyclobutyl group (-0.15), n-butyl group (-0.16), iso
-Butyl group (-0.20), n-pentyl group (-0.1
5), cyclohexyl group (-0.22), amino group (-
0.66), acetylamino group (-0.15), hydroxyl group (-0.37), methoxy group (-0.27),
Ethoxy group (-0.24), propoxy group (-0.2
5), butoxy group (-0.32), pentoxy group (-
0.34), etc., each of which has the general formula [T]
Is useful as a substituent of the compound of

【0055】nは1或いは2を表し、XT n-で表される
アニオンとしては、例えば、塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
N represents 1 or 2, and examples of the anion represented by X T n- include halogen ions such as chloride ion, bromide ion and iodide ion, nitric acid, sulfuric acid, and the like.
Acid radicals of inorganic acids such as perchloric acid, acid radicals of organic acids such as sulfonic acid and carboxylic acid, anionic activators, specifically p-
Lower alkylbenzene sulfonic acid anions such as toluene sulfonic acid anion; higher alkyl benzene sulfonic acid anions such as p-dodecyl benzene sulfonic acid anion; higher alkyl sulfate anions such as lauryl sulfate anion; boric acid anions such as tetraphenyl boron; Dialkyl sulfosuccinate anions such as 2-ethylhexyl sulfosuccinate anion,
Examples thereof include higher fatty acid anions such as cetyl polyethenoxy sulfate anion, and polymers having an acid radical attached to a polymer such as polyacrylate anion.

【0056】以下、4級オニウム化合物の具体例を下記
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
Specific examples of the quaternary onium compound are shown below, but are not limited thereto.

【0057】[0057]

【化11】 Embedded image

【0058】[0058]

【化12】 Embedded image

【0059】[0059]

【化13】 Embedded image

【0060】[0060]

【化14】 Embedded image

【0061】[0061]

【化15】 Embedded image

【0062】[0062]

【化16】 Embedded image

【0063】[0063]

【化17】 Embedded image

【0064】[0064]

【化18】 Embedded image

【0065】[0065]

【化19】 Embedded image

【0066】[0066]

【化20】 Embedded image

【0067】上記4級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば、上記テトラゾリウム化合
物はChemical Reviews 55 p.3
35〜483に記載の方法を参考にできる。
The above quaternary onium compound can be easily synthesized according to a known method. For example, the above tetrazolium compound can be obtained from Chemical Reviews 55 p. 3
35-483 can be referred to.

【0068】これら4級オニウム化合物の添加量は、ハ
ロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好ま
しくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらはハ
ロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感光
材料中に添加できる。
The addition amount of these quaternary onium compounds is about 1 × 10 -8 to 1 mol, preferably 1 × 10 -7 to 1 × 10 -1 mol per mol of silver halide. These can be added to the light-sensitive material at any time from the time of silver halide grain formation to the time of coating.

【0069】4級オニウム化合物は、単独で用いても2
種以上を適宜併用して用いてもよい。また感光材料の構
成層中のいかなる層に添加してもよいが、好ましくは感
光層を有する側の構成層の少なくとも1層、更には感光
層及び/又はその隣接層に添加する。
The quaternary onium compound can be used alone or
More than one species may be used in combination. The compound may be added to any of the constituent layers of the photosensitive material, but is preferably added to at least one of the constituent layers on the side having the photosensitive layer, further to the photosensitive layer and / or an adjacent layer thereof.

【0070】本発明において、有機銀塩は還元可能な銀
源であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及び
ヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましく
は15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含
窒素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の
銀イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀
塩錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Resear
ch Disclosure第17029及び2996
3に記載されており、次のものがある:有機酸の塩(例
えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン酸、
パルミチン酸、ラウリン酸等の塩);銀のカルボキシア
ルキルチオ尿素塩(例えば、1−(3−カルボキシプロ
ピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプロピル)−
3,3−ジメチルチオ尿素等);アルデヒドとヒドロキ
シ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生成物の銀錯
体(例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブ
チルアルデヒドのようなアルデヒド類とサリチル酸、ベ
ンジル酸3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオ
ジサリチル酸のようなヒドロキシ置換酸類);チオエン
類の銀塩又は錯体(例えば、3−(2−カルボキシエチ
ル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾリン−2−チ
オエン及び3−カルボキシメチル−4−メチル−4−チ
アゾリン−2−チオエン);イミダゾール、ピラゾー
ル、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テ
トラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,
4−トリアゾール及びベンゾトリアゾールから選択され
る窒素酸と銀との錯体または塩;サッカリン、5−クロ
ロサリチルアルドキシム等の銀塩;メルカプチド類の銀
塩等が挙げられる。好ましい銀源はベヘン酸銀、アラキ
ジン酸銀および/またはステアリン酸銀である。
In the present invention, the organic silver salt is a reducible silver source, and a silver salt of an organic acid and a hetero organic acid containing a reducible silver ion source, especially a long chain (10 to 30, preferably 15 to 30, Aliphatic carboxylic acids having 25 carbon atoms) and nitrogen-containing heterocycles are preferred. Organic or inorganic silver salt complexes wherein the ligand has a total stability constant for silver ions of 4.0 to 10.0 are also useful. An example of a suitable silver salt is Research
ch Disclosure No. 17029 and 2996
3, which include: salts of organic acids (eg, gallic acid, oxalic acid, behenic acid, stearic acid,
Salts of palmitic acid, lauric acid, etc.); carboxyalkylthiourea salts of silver (eg, 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-carboxypropyl)-
Silver complexes of polymer reaction products of aldehydes with hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids (for example, aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde and salicylic acid, 3,5-dihydroxy benzylic acid) Hydroxy-substituted acids such as benzoic acid, 5,5-thiodisalicylic acid); silver salts or complexes of thioenes (eg, 3- (2-carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4-thiazoline-2-thioene and 3-carboxymethyl-4-methyl-4-thiazoline-2-thioene); imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,2,2
Complexes or salts of silver and a nitrogen acid selected from 4-triazole and benzotriazole; silver salts such as saccharin and 5-chlorosalicylaldoxime; and silver salts of mercaptides. Preferred silver sources are silver behenate, silver arachidate and / or silver stearate.

【0071】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。
The organic silver salt compound can be obtained by mixing a water-soluble silver compound with a compound which forms a complex with silver.
A controlled double jet method as described in No. 3 is preferably used. For example, an organic acid alkali metal salt soap (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.)
Sodium behenate, sodium arachidate, etc.)
The soap and silver nitrate are added to produce organic silver salt crystals. At that time, silver halide grains may be mixed.

【0072】本発明におけるハロゲン化銀粒子は光セン
サーとして機能するものである。本発明においては、画
像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を得
るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒
子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01〜
0.1μm、特に0.02〜0.08μmが好ましい。
ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体
或いは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲ
ン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶でない場合、
例えば、球状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、
ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたときの直径
をいう。またハロゲン化銀は単分散であることが好まし
い。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散
度が40%以下をいう。更に好ましくは30%以下であ
り、特に好ましくは0.1%以上20%以下となる粒子
である。
The silver halide grains in the present invention function as an optical sensor. In the present invention, in order to suppress white turbidity after image formation and to obtain good image quality, it is preferable that the average particle size is small, the average particle size is 0.1 μm or less, more preferably 0.01 to
0.1 μm, particularly preferably 0.02 to 0.08 μm.
The term "grain size" as used herein refers to the length of a ridge of a silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. If the crystal is not normal,
For example, in the case of spherical, rod-shaped, or tabular particles,
It refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains. Further, the silver halide is preferably monodispersed. Here, the monodispersion means that the degree of monodispersion determined by the following formula is 40% or less. The particles are more preferably 30% or less, particularly preferably 0.1% or more and 20% or less.

【0073】単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の
平均値)×100 本発明においては、ハロゲン化銀粒子が平均粒径0.1
μm以下で、かつ単分散粒子であることがより好まし
く、この範囲にすることで画像の粒状性も向上する。
Monodispersity = (standard deviation of grain size) / (average grain size) × 100 In the present invention, the silver halide grains have an average grain size of 0.1.
It is more preferable that the particle size is not more than μm and that the particles are monodisperse particles. When the particle size falls within this range, the granularity of the image is also improved.

【0074】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は、増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani;J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
The shape of the silver halide grains is not particularly limited, but the proportion occupied by the Miller index [100] plane is preferably high, and this proportion is 50% or more, more preferably 7%.
It is preferably at least 0%, particularly preferably at least 80%. The ratio of the Miller index [100] plane is determined by T.M. using the dependence of the adsorption of the sensitizing dye on the [111] plane and the [100] plane. Tani; Imaging Sci. , 29,
165 (1985).

【0075】またもう一つの好ましいハロゲン化銀の形
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径rμmとして、垂直方向の厚みをh
μmとした場合のアスペクト比=r/hが3以上のもの
をいう。その中でも好ましくは、アスペクト比が3以上
50以下である。また粒径は0.1μm以下であること
が好ましく、さらに0.01〜0.08μmが好まし
い。これらは米国特許第5,264,337号、同5,
314,798号、同5,320,958号等に記載さ
れており、容易に目的の平板状粒子を得ることができ
る。本発明においてこれらの平板状粒子を用いた場合、
さらに画像の鮮鋭性も向上する。
Another preferred form of silver halide is tabular grains. The term “tabular grain” as used herein means that the square root of the projected area is defined as a particle size r μm, and the thickness in the vertical direction is h.
The aspect ratio = r / h in the case of μm is 3 or more. Among them, the aspect ratio is preferably 3 or more and 50 or less. The particle size is preferably 0.1 μm or less, and more preferably 0.01 to 0.08 μm. These are disclosed in U.S. Pat. Nos. 5,264,337;
Nos. 314,798 and 5,320,958, and the like, and the desired tabular grains can be easily obtained. When these tabular grains are used in the present invention,
Further, the sharpness of the image is improved.

【0076】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides著Chimie et
Physique Photographique(P
aul Montel社刊、1967年)、G.F.D
uffin著 Photographic Emuls
ion Chemistry(The Focal P
ress刊、1966年)、V.L.Zelikman
et al著Making and Coating
Photographic Emulsion(Th
e Focal Press刊、1964年)等に記載
された方法を用いて調製することができる。
The halogen composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide. The photographic emulsion used in the present invention is P.I. Chimie et by Glafkids
Physique Photographique (P
aul Montel, 1967); F. D
Photographic Emuls by uffin
ion Chemistry (The Focal P
Res., 1966); L. Zelikman
Making and Coating by et al
Photographic Emulsion (Th
e Focal Press, 1964) and the like.

【0077】本発明に用いられるハロゲン化銀には、照
度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の6族か
ら10族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有す
ることが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、C
o、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Pt、Auが好ましい。
The silver halide used in the present invention preferably contains an ion or a complex ion of a metal belonging to Group 6 to Group 10 of the Periodic Table of the Elements for the purpose of improving and adjusting the illuminance failure. The above metals include W, Fe, C
o, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, I
r, Pt, and Au are preferred.

【0078】感光性ハロゲン化銀粒子は、ヌードル法、
フロキュレーション法等、当業界で知られている方法の
水洗により脱塩することができるが、本発明においては
脱塩してもしなくてもよい。
The photosensitive silver halide grains can be obtained by a noodle method,
Desalting can be performed by washing with a method known in the art, such as a flocculation method, but in the present invention, desalting may or may not be performed.

【0079】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子
は、化学増感されていることが好ましい。好ましい化学
増感法としては、当業界でよく知られているように硫黄
増感法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白
金、パラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や
還元増感法を用いることができる。
The photosensitive silver halide grains in the present invention are preferably chemically sensitized. Preferred chemical sensitization methods include sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, and noble metal sensitization such as gold compounds, platinum, palladium, and iridium compounds, as well known in the art. A sensitization method can be used.

【0080】本発明においては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比
で50%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは
0.1%〜15%の間である。
In the present invention, in order to prevent devitrification of the light-sensitive material, the total amount of silver halide and organic silver salt is preferably 0.5 g or more and 2.2 g or less per m 2 in terms of silver. . With this range, a high-contrast image can be obtained. The amount of silver halide relative to the total amount of silver is at most 50% by weight, preferably at most 25%, more preferably between 0.1% and 15%.

【0081】本発明の熱現像材料には還元剤を内蔵させ
ることが好ましい。好適な還元剤の例は、米国特許第
3,770,448号、同3,773,512号、同
3,593,863号、及びResearch Dis
closure第17029及び29963に記載され
ており、次のものが挙げられる。
It is preferable that a reducing agent is incorporated in the heat developing material of the present invention. Examples of suitable reducing agents are described in U.S. Patent Nos. 3,770,448, 3,773,512, 3,593,863, and Research Dis.
Closure Nos. 17029 and 29996, and include the following.

【0082】アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物
(例えば、2−ヒドロキシ−3−ピペリジノ−2−シク
ロヘキセノン);還元剤の前駆体としてアミノレダクト
ン類(reductones)エステル(例えば、ピペ
リジノヘキソースレダクトンモノアセテート);N−ヒ
ドロキシ尿素誘導体(例えば、N−p−メチルフェニル
−N−ヒドロキシ尿素);アルデヒド又はケトンのヒド
ラゾン類(例えば、アントラセンアルデヒドフェニルヒ
ドラゾン);ホスファーアミドフェノール類;ホスファ
ーアミドアニリン類;ポリヒドロキシベンゼン類(例え
ば、ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロキノン、イソプ
ロピルヒドロキノン及び(2,5−ジヒドロキシ−フェ
ニル)メチルスルホン);スルフヒドロキサム酸類(例
えば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸);スルホンアミ
ドアニリン類(例えば、4−(N−メタンスルホンアミ
ド)アニリン);2−テトラゾリルチオヒドロキノン類
(例えば、2−メチル−5−(1−フェニル−5−テト
ラゾリルチオ)ヒドロキノン);テトラヒドロキノキサ
リン類(例えば、1,2,3,4−テトラヒドロキノキ
サリン);アミドオキシム類;アジン類;脂肪族カルボ
ン酸アリールヒドラザイド類とアスコルビン酸の組み合
わせ;ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシルアミンの
組み合わせ;レダクトン及び/又はヒドラジン;ヒドロ
キサン酸類;アジン類とスルホンアミドフェノール類の
組み合わせ;α−シアノフェニル酢酸誘導体;ビス−β
−ナフトールと1,3−ジヒドロキシベンゼン誘導体の
組み合わせ;5−ピラゾロン類;スルホンアミドフェノ
ール還元剤;2−フェニルインダン−1,3−ジオン
等;クロマン;1,4−ジヒドロピリジン類(例えば、
2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエトキシ−1,
4−ジヒドロピリジン);ビスフェノール類(例えば、
ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフ
ェニル)メタン、ビス(6−ヒドロキシ−m−トリ)メ
シトール(mesitol)、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、4,4−エチ
リデン−ビス(2−t−ブチル−6−メチルフェノー
ル)、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体;ヒンダード
フェノール類;3−ピラゾリドン類。中でも特に好まし
い還元剤は、ヒンダードフェノール類である。ヒンダー
ドフェノール類としては、下記一般式(A)で表される
化合物が挙げられる。
Aminohydroxycycloalkenone compounds (eg, 2-hydroxy-3-piperidino-2-cyclohexenone); aminoreductone esters (eg, piperidinohexose reductone monoacetate) as precursors of reducing agents N-hydroxyurea derivatives (e.g., Np-methylphenyl-N-hydroxyurea); hydrazones of aldehydes or ketones (e.g., anthracenaldehyde phenylhydrazone); phosphoramidophenols; phosphoramidoanilines; Hydroxybenzenes (e.g., hydroquinone, t-butyl-hydroquinone, isopropylhydroquinone and (2,5-dihydroxy-phenyl) methylsulfone); sulfhydroxamic acids (e.g., benzenes Sulfonamidoanilines (eg, 4- (N-methanesulfonamido) aniline); 2-tetrazolylthiohydroquinones (eg, 2-methyl-5- (1-phenyl-5-tetrazolylthio) hydroquinone Tetrahydroquinoxalines (eg, 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline); amide oximes; azines; combinations of aliphatic carboxylic acid arylhydrazides and ascorbic acid; combinations of polyhydroxybenzene and hydroxylamine; Reductone and / or hydrazine; Hydroxanoic acids; Combinations of azines and sulfonamidophenols; α-cyanophenylacetic acid derivatives;
A combination of -naphthol and a 1,3-dihydroxybenzene derivative; 5-pyrazolone; a sulfonamide phenol reducing agent; 2-phenylindane-1,3-dione and the like; chroman; 1,4-dihydropyridines (for example,
2,6-dimethoxy-3,5-dicarbethoxy-1,
4-dihydropyridine); bisphenols (for example,
Bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane, bis (6-hydroxy-m-tri) mesitol, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane , 4,4-ethylidene-bis (2-t-butyl-6-methylphenol), ultraviolet-sensitive ascorbic acid derivatives; hindered phenols; 3-pyrazolidones. Among them, particularly preferred reducing agents are hindered phenols. Examples of the hindered phenols include compounds represented by the following general formula (A).

【0083】[0083]

【化21】 Embedded image

【0084】式中、Rは水素原子、又は炭素原子数1〜
10のアルキル基(例えば、−C49、2,4,4−ト
リメチルペンチル)を表し、R′及びR″は炭素原子数
1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−ブ
チル)を表す。
In the formula, R represents a hydrogen atom or a group having 1 to 1 carbon atoms.
10 alkyl group (e.g., -C 4 H 9, 2,4,4-trimethyl pentyl) represents, R 'and R "is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, t- butyl ).

【0085】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (A) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0086】[0086]

【化22】 Embedded image

【0087】[0087]

【化23】 Embedded image

【0088】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は、好ましくは銀1モル当り1×
10-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルであ
る。
The amount of the reducing agent such as the compound represented by the general formula (A) is preferably 1 × 1 mol per mol of silver.
It is 10 -2 to 10 mol, especially 1 × 10 -2 to 1.5 mol.

【0089】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは、透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィル
ムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、
ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。
Binders suitable for the photothermographic material of the present invention are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as gelatin, gum arabic,
Poly (vinyl alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid) ), Copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (ester) ), Poly (urethane), phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (epoxide),
Poly (carbonate) s, poly (vinyl acetate),
There are cellulose esters and poly (amides).

【0090】親水性でも疎水性でもよいが、本発明にお
いては、熱現像後のカブリを低減させるために、疎水性
透明バインダーを使用することが好ましい。好ましいバ
インダーとしては、ポリビニルブチラール、セルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアクリル酸、ポリウレ
タンなどがあげられる。その中でもポリビニルブチラー
ル、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリエステルは特に好ましく用いられる。
[0091] The binder may be hydrophilic or hydrophobic, but in the present invention, it is preferable to use a hydrophobic transparent binder in order to reduce fog after thermal development. Preferred binders include polyvinyl butyral, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polycarbonate, polyacrylic acid, polyurethane and the like. Among them, polyvinyl butyral, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and polyester are particularly preferably used.

【0091】感光材料の表面を保護したり擦り傷を防止
するために、感光層の外側に非感光層を有することがで
きる。これらの非感光層に用いられるバインダーは感光
層に用いられるバインダーと同じ種類でも異なった種類
でもよい。
In order to protect the surface of the photosensitive material and prevent abrasion, a non-photosensitive layer can be provided outside the photosensitive layer. The binder used for these non-photosensitive layers may be the same as or different from the binder used for the photosensitive layers.

【0092】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために、感光性層のバインダー量が1.5〜10g/m
2であることが好ましい。さらに好ましくは1.7〜8
g/m2である。1.5g/m2未満では、未露光部の濃
度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
In the present invention, in order to increase the speed of thermal development, the amount of binder in the photosensitive layer is 1.5 to 10 g / m 2.
It is preferably 2 . More preferably, 1.7 to 8
g / m 2 . If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed portion will increase significantly, and may not be usable.

【0093】本発明においては、感光性層側にマット剤
を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防
止のためには、感光材料の表面にマット剤を配すること
が好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに
対し、重量比で0.5〜30%含有することが好まし
い。また、支持体をはさみ感光層の反対側に非感光層を
設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中にマット
剤を含有することが好ましく、感光材料のすべり性や指
紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット剤を配す
ることが好ましく、そのマット剤を感光層側の反対側の
層の全バインダーに対し、重量比で0.5〜40%含有
することが好ましい。
In the present invention, a matting agent is preferably contained on the photosensitive layer side, and in order to prevent damage to the image after thermal development, it is preferable to provide a matting agent on the surface of the photosensitive material. It is preferable that the matting agent is contained in a weight ratio of 0.5 to 30% based on all binders on the photosensitive layer side. When a non-photosensitive layer is provided on the opposite side of the photosensitive layer with the support interposed therebetween, it is preferable that at least one layer on the non-photosensitive layer side contains a matting agent to prevent slippage of the photosensitive material and prevention of fingerprint adhesion. Also, it is preferable to provide a matting agent on the surface of the photosensitive material, and it is preferable that the matting agent is contained in a weight ratio of 0.5 to 40% with respect to all binders in the layer on the side opposite to the photosensitive layer side.

【0094】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。
The shape of the matting agent may be either regular or irregular, but it is preferably regular and spherical.

【0095】本発明の熱現像感光材料は、支持体上に少
なくとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光
層のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1
層の非感光層を形成することが好ましい。感光層に通過
する光の量又は波長分布を制御するために感光層と同じ
側にフィルター染料層および/又は反対側にアンチハレ
ーション染料層、いわゆるバッキング層を形成しても良
いし、感光層に染料又は顔料を含ませても良い。
The photothermographic material of the present invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, at least one photosensitive layer may be formed on the photosensitive layer.
Preferably, a non-photosensitive layer is formed. In order to control the amount or wavelength distribution of light passing through the photosensitive layer, a filter dye layer on the same side as the photosensitive layer and / or an antihalation dye layer on the opposite side, a so-called backing layer, may be formed. Dyes or pigments may be included.

【0096】これらの非感光性層には前記のバインダー
やマット剤を含有することが好ましく、さらにポリシロ
キサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベ
リ剤を含有してもよい。
These non-photosensitive layers preferably contain the above-mentioned binder and matting agent, and may further contain a sliding agent such as a polysiloxane compound, wax and liquid paraffin.

【0097】また、本発明の熱現像感光材料には、塗布
助剤として各種の界面活性剤が用いられる。その中でも
フッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑点状
の塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。
In the photothermographic material of the present invention, various surfactants are used as a coating aid. Among them, a fluorine-based surfactant is preferably used for improving charging characteristics and preventing spot-like coating failure.

【0098】感光層は複数層にしても良く、また階調の
調節のため感度を高感層/低感層又は低感層/高感層に
しても良い。
The photosensitive layer may be composed of a plurality of layers, and the sensitivity may be changed to a high-sensitivity layer / low-sensitivity layer or a low-sensitivity layer / high-sensitivity layer for adjusting the gradation.

【0099】本発明に用いられる好適な色調剤の例は、
Research Disclosure第17029
号に開示されている。
Examples of suitable toning agents used in the present invention include:
Research Disclosure No. 17029
Issue.

【0100】本発明の熱現像感光材料には、現像を制御
するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の
保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジス
ルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ
る。
The photothermographic material of the present invention contains a mercapto compound, a disulfide compound and a thione compound in order to control development, improve spectral sensitization efficiency, and improve storage stability before and after development. be able to.

【0101】本発明の熱現像感光材料中には、かぶり防
止剤が含まれて良い。
The photothermographic material of the present invention may contain an antifoggant.

【0102】各種の添加剤は感光層、非感光層、又はそ
の他の形成層のいずれに添加しても良い。本発明の熱現
像感光材料には例えば、界面活性剤、酸化防止剤、安定
化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いても良
い。これらの添加剤及び上述したその他の添加剤はRe
search Disclosure Item170
29(1978年6月p.9〜15)に記載されている
化合物を好ましく用いることができる。
Various additives may be added to any of the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, and other forming layers. The photothermographic material of the present invention may contain, for example, a surfactant, an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, and a coating aid. These additives and the other additives mentioned above are Re
search Disclosure Item170
29 (p. 9-15, June 1978) can be preferably used.

【0103】本発明で用いられる支持体は、現像処理後
に所定の光学濃度を得るため、及び現像処理後の画像の
変形を防ぐためにプラスチックフィルム(例えば、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミ
ド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポリエチレ
ンナフタレート)であることが好ましい。
The support used in the present invention may be a plastic film (for example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, nylon, cellulose triacetate) in order to obtain a predetermined optical density after development and to prevent deformation of the image after development. , Polyethylene naphthalate).

【0104】その中でも好ましい支持体としては、ポリ
エチレンテレフタレート(以下PETと略す)及びシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプ
ラスチック(以下SPSと略す)の支持体が挙げられ
る。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ま
しくは70〜180μmである。
Among them, a preferred support is a support made of polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) and a plastic (hereinafter abbreviated as SPS) containing a styrene polymer having a syndiotactic structure. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.

【0105】また熱処理したプラスチック支持体を用い
ることもできる。採用するプラスチックとしては、前記
のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれ
らの支持体を製膜後、感光性層が塗布されるまでの間
に、支持体のガラス転移点より30℃以上高い温度で、
好ましくは35℃以上高い温度で、更に好ましくは40
℃以上高い温度で加熱することがよい。但し、支持体の
融点を超えた温度で加熱しては本発明の効果は得られな
い。
Further, a heat-treated plastic support may be used. The plastics to be employed include the above-mentioned plastics. The heat treatment of the support means that after forming these supports and before the photosensitive layer is applied, at a temperature higher than the glass transition point of the support by 30 ° C. or more,
Preferably at a temperature higher than 35 ° C., more preferably 40 ° C.
It is preferable to heat at a temperature higher than ℃. However, the effect of the present invention cannot be obtained by heating at a temperature exceeding the melting point of the support.

【0106】本発明においては、帯電性を改良するため
に金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電
性化合物を構成層中に含ませることができる。これらは
いずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、
バッキング層、感光層と下引の間の層などである。
In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be contained in the constituent layer in order to improve the chargeability. These may be contained in any layer, preferably an undercoat layer,
A backing layer, a layer between a photosensitive layer and an undercoat, and the like.

【0107】[0107]

【実施例】実施例1 (PET支持体の作製)PETペレットを130℃で4
時間乾燥した後、300℃で溶融後T型ダイから押し出
した後急冷し、未延伸のフィルムを作製した。これを周
速の異なるロールを用い3.0倍に縦延伸、ついでテン
ターで4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそ
れぞれ110℃、130℃であった。この後、240℃
で20秒間熱固定後、これと同じ温度で横方向に4%緩
和した。この後テンターのチャック部をスリッターした
後、両端にナール加工を行い、4kg/cm2で巻き取
った。このようにして巾2.4m、長さ800m、厚み
100μmのロールを得た。120、175μm等の厚
みをもったPET支持体は、未延伸時のフィルムの膜厚
調整を行い、あとは100μm支持体作製時と同様に行
った。
EXAMPLES Example 1 (Preparation of PET support) PET pellets were
After drying for an hour, it was melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and quenched to prepare an unstretched film. This was longitudinally stretched 3.0 times using rolls having different peripheral speeds, and then horizontally stretched 4.5 times using a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. After this, 240 ° C
And then relaxed 4% in the transverse direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slitter, and both ends were knurled and wound at 4 kg / cm 2 . Thus, a roll having a width of 2.4 m, a length of 800 m, and a thickness of 100 μm was obtained. For a PET support having a thickness of 120, 175 μm or the like, the film thickness of the unstretched film was adjusted, and the rest was performed in the same manner as when the 100 μm support was produced.

【0108】(下引済みPET支持体の作製)PETフ
ィルムの両面に8W/m2・分のコロナ放電処理を施
し、一方の面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚0.3
μmになるように塗設し、乾燥させて下引層A−1と
し、また反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗布液
b−1を乾燥膜厚0.3μmになるように塗設し、乾燥
させて帯電防止加工下引層B−1とした。
(Preparation of Subbed PET Support) A corona discharge treatment of 8 W / m 2 · min was applied to both sides of the PET film, and the following subbing coating solution a-1 was applied on one side to a dry film thickness of 0.3.
μm, and dried to form an undercoat layer A-1. On the opposite surface, an undercoat coating solution b-1 which has been subjected to the following antistatic treatment is applied so as to have a dry film thickness of 0.3 μm. And dried to obtain an antistatic subbing layer B-1.

【0109】 《下引塗布液a−1》 ブチルアクリレート(30重量%) t−ブチルアクリレート(20重量%) スチレン(25重量%) 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25重量%)の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g 水で1Lに仕上げる 《下引塗布液b−1》 SnO2/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 ブチルアクリレート(30重量%) スチレン(20重量%) グリシジルアクリレート(40重量%)の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1Lに仕上げる 引き続き、下引層A−1及び下引層B−1の上表面に、
8W/m2・分のコロナ放電を施し、下引層A−1の上
には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μm
になる様に、下引層A−2として、下引層B−1の上に
は下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.8μmにな
る様に、帯電防止機能をもつ下引上層B−2として塗設
した。
<< Undercoat Coating Solution a-1 >> Butyl acrylate (30% by weight) t-butyl acrylate (20% by weight) Styrene (25% by weight) Copolymer latex liquid of 2-hydroxyethyl acrylate (25% by weight) (Solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g polystyrene fine particles (average particle diameter 3 μm) 0.05 g colloidal silica (average particle diameter 90 μm) 0 0.1 g Finished to 1 L with water << Undercoat coating solution b-1 >> SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.18 μm) Amount to become 200 mg / m 2 Butyl acrylate (30% by weight) Styrene ( 20% by weight) Glycidyl acrylate (40% by weight) copolymer latex liquid (solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g hexa Styrene-1,6-bis (ethyleneurea) subsequently finished into 1L with 0.8g water, the undercoat layer A-1 and the upper surface undercoat layer B-1,
A corona discharge of 8 W / m 2 · min. Was performed, and the following lower coating liquid a-2 was coated on the lower coating layer A-1 with a dry film thickness of 0.1 μm.
As the undercoat layer A-2, the undercoating layer B-1 is coated with the undercoating upper layer coating solution b-2 described below so as to have a dry film thickness of 0.8 μm. This was applied as a pull-up layer B-2.

【0110】 《下引上層塗布液a−2》 ゼラチン 0.08g/m2になる重量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1Lに仕上げる 《下引上層塗布液b−2》 (C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1Lに仕上げる<< Coating solution a-2 for lower undercoat >> Gelatin 0.08 g / m 2 Weight (C-1) 0.2 g (C-2) 0.2 g (C-3) 0.1 g Silica particles ( (Average particle size: 3 μm) 0.1 g Finished to 1 L with water << Lower upper coating liquid b-2 >> (C-4) 60 g Latex liquid containing (C-5) as a component (solid content: 20%) 80 g Ammonium sulfate 5g (C-6) 12g Polyethylene glycol (weight average molecular weight 600) 6g Finish to 1L with water

【0111】[0111]

【化24】 Embedded image

【0112】[0112]

【化25】 Embedded image

【0113】(支持体の熱処理)上記の下引済み支持体
の下引乾燥工程において、支持体を140℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。下引の膜厚として、0.12μ
mとなるようにした。
(Heat Treatment of Support) In the above-described undercoat drying step of the support, the support was heated at 140 ° C.
Thereafter, it was gradually cooled. 0.12μ as the thickness of the undercoat
m.

【0114】(ハロゲン化銀乳剤Aの調製)水900m
l中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウム10
mgを溶解して、温度35℃、pHを3.0に合わせた
後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(60/3
8/2)のモル比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃
化カリウムを含む水溶液及び〔Ir(NO)Cl5〕塩
を、銀1モル当たり1×10-6モル及び塩化ロジウム塩
を銀1モル当たり1×10-6モルを、pAg7.7に保
ちながらコントロールドダブルジェット法で添加した。
その後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7
−テトラザインデンを添加し、NaOHでpHを8.
0、pAgを6.5に調整することで還元増感を行い、
ハロゲン化銀乳剤Aを得た。この乳剤Aは平均粒子サイ
ズ0.06μm、単分散度10%の投影直径面積の変動
係数8%、〔100〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒
子であった。この乳剤Aにゼラチン凝集剤を用いて凝集
沈降させ脱塩処理を行った。
(Preparation of silver halide emulsion A) 900 m of water
7.5 g of inert gelatin and 10 ml of potassium bromide
After dissolving mg and adjusting the temperature to 35 ° C. and the pH to 3.0, 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate and (60/3
An aqueous solution containing sodium chloride, potassium bromide, and potassium iodide in a molar ratio of 8/2) and [Ir (NO) Cl 5 ] salt were added in an amount of 1 × 10 −6 mol per mol of silver and rhodium chloride was added to silver 1 mol. 1 × 10 −6 mol per mol was added by the controlled double jet method while keeping the pAg at 7.7.
Thereafter, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7
7. Add tetrazaindene and adjust the pH to 8. with NaOH.
0, reduction sensitization is performed by adjusting pAg to 6.5,
A silver halide emulsion A was obtained. Emulsion A was cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 0.06 μm, a monodispersity of 10%, a variation coefficient of projected diameter area of 8%, and a [100] face ratio of 87%. This emulsion A was subjected to coagulation sedimentation using a gelatin coagulant to perform a desalting treatment.

【0115】(ベヘン酸Na溶液の調製)945mlの
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で撹
拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液98ml
を添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた後、55
℃に冷却して30分撹拌させてベヘン酸Na溶液を得
た。
(Preparation of Na Behenate Solution) In 945 ml of pure water, 32.4 g of behenic acid, 9.9 g of arachidic acid and 5.6 g of stearic acid were dissolved at 90 ° C. Next, while stirring at a high speed, 98 ml of a 1.5 M aqueous sodium hydroxide solution
Was added. Next, 0.93 ml of concentrated nitric acid was added.
C. and stirred for 30 minutes to obtain a sodium behenate solution.

【0116】(ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Aのプレ
フォーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に、前記
ハロゲン化銀乳剤Aを15.1g添加し、水酸化ナトリ
ウム溶液でpH8.1に調整した後に、1Mの硝酸銀溶
液147mlを7分間かけて加え、さらに20分撹拌
し、限外濾過により水溶性塩類を除去した。できたベヘ
ン酸銀は平均粒子サイズ0.8μm、単分散度8%の粒
子であった。分散物のフロックを形成後、水を取り除
き、更に6回の水洗と水の除去を行った後乾燥させた。
(Preparation of Preform Emulsion of Silver Behenate and Silver Halide Emulsion A) 15.1 g of the silver halide emulsion A was added to the above sodium behenate solution, and the pH was adjusted to 8.1 with a sodium hydroxide solution. After the adjustment, 147 ml of a 1 M silver nitrate solution was added over 7 minutes, the mixture was further stirred for 20 minutes, and water-soluble salts were removed by ultrafiltration. The resulting silver behenate was grains having an average grain size of 0.8 μm and a monodispersity of 8%. After the floc of the dispersion was formed, the water was removed, washed six times with water and removed, and then dried.

【0117】(感光性乳剤の調製)できあがったプレフ
ォーム乳剤を分割し、それにポリビニルブチラール(平
均分子量3000)のメチルエチルケトン溶液(17w
t%)を表1に示す膜厚となる量とトルエン107g
を、徐々に添加して混合した後に、0.5mmサイズZ
rO2のビーズミルを用いたメディア分散機で、400
0psiで30℃、10分間の分散を行った。
(Preparation of Photosensitive Emulsion) The preform emulsion thus obtained was divided, and a solution of polyvinyl butyral (average molecular weight: 3000) in methyl ethyl ketone (17w) was prepared.
t%) and the amount of toluene which is shown in Table 1 and 107 g of toluene.
Was gradually added and mixed, and then 0.5 mm size Z
With a media disperser using a rO 2 bead mill, 400
Dispersion was performed at 0 psi at 30 ° C. for 10 minutes.

【0118】前記支持体上に以下の各層を両面同時塗布
し、試料を作製した。尚、乾燥は60℃、15分間で行
った。
The following layers were simultaneously coated on both sides of the support to prepare a sample. The drying was performed at 60 ° C. for 15 minutes.

【0119】〔バック面側塗布〕支持体のB−1層の上
に以下の組成の液を塗布した。
[Back surface side coating] A liquid having the following composition was coated on layer B-1 of the support.

【0120】 セルロースアセテートブチレート(10%メチルエチルケトン溶液) 表1の膜厚となる量 染料−A 7mg/m2 染料−B 7mg/m2 マット剤:単分散度15%平均粒子サイズ8μm単分散シリカ 90mg/m2817(CH2CH2O)12817 50mg/m2917−C64−SO3Na 10mg/m Cellulose Acetate Butyrate (10% Methyl Ethyl Ketone Solution) Amount to become the film thickness in Table 1 Dye-A 7 mg / m 2 Dye-B 7 mg / m 2 Matting agent: Monodispersity 15% Average particle size 8 μm Monodisperse silica 90 mg / m 2 C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 50 mg / m 2 C 9 F 17 -C 6 H 4 —SO 3 Na 10 mg / m 2

【0121】[0121]

【化26】 Embedded image

【0122】〔感光層面側塗布〕 感光層1:支持体のA−1層の上に以下の組成の液を、
塗布銀量が2.4g/mになる様に塗布した。
[Coating on Photosensitive Layer Surface Side] Photosensitive layer 1: A solution having the following composition was coated on layer A-1 of the support.
Coating was performed so that the coated silver amount was 2.4 g / m 2 .

【0123】 感光性乳剤 240g 増感色素(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 酸化剤(10%メタノール溶液) 1.2ml 2−(4−クロロベンゾイル)安息香酸(12%メタノール溶液) 9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml ヒドラジン誘導体(表1に示す) 0.4g シアノビニル化合物 4.0g 硬調化促進剤P−51 0.3g フタラジン 0.6g 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g 平均粒径3μmの炭酸カルシウム 0.1g A−4(20%メタノール溶液) 20.5ml イソシアネート化合物(モーベイ社製、Desmodur N3300) 0.5gPhotosensitive emulsion 240 g Sensitizing dye (0.1% methanol solution) 1.7 ml Pyridinium bromide perbromide (6% methanol solution) 3 ml Calcium bromide (0.1% methanol solution) 1.7 ml Oxidizing agent ( 10 ml methanol solution) 1.2 ml 2- (4-chlorobenzoyl) benzoic acid (12% methanol solution) 9.2 ml 2-mercaptobenzimidazole (1% methanol solution) 11 ml tribromomethylsulfoquinoline (5% methanol solution) 17 ml hydrazine derivative (shown in Table 1) 0.4 g cyanovinyl compound 4.0 g high-contrast accelerator P-51 0.3 g phthalazine 0.6 g 4-methylphthalic acid 0.25 g tetrachlorophthalic acid 0.2 g having an average particle size of 3 μm Calcium carbonate 0.1 g A-4 (20% methanol solution ) 20.5 ml isocyanate compound (Mobay Corp., Desmodur N3300) 0.5 g

【0124】[0124]

【化27】 Embedded image

【0125】〔表面保護層塗布〕以下の組成の液を感光
層の上になるよう同時塗布した。
[Coating of Surface Protective Layer] A solution having the following composition was simultaneously applied so as to cover the photosensitive layer.

【0126】 アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 表1に示す膜厚となる量 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 A−4(20%メタノール溶液) 10ml/m2 マット剤:単分散度10%平均粒子サイズ4μm単分散シリカ 5mg/m2 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 35mg/m2 フッ素系界面活性剤 C1225(CH2CH2O)101225 10mg/m2817−C64−SO3Na 10mg/m2 感光層側の表面のスムースター値は25mmHgであ
り、バッキング側の表面のスムースター値は200mm
Hgであった。なおスムースター値の測定は、試料を未
露光のまま、23℃、48%RHで2時間調湿し、同じ
環境で感光層側の表面のスムースター値を、東洋電子工
業(株)製SM−6Bにより測定した。
[0126] Acetone 5 ml / m 2 methyl ethyl ketone 21 ml / m 2 The amount of methanol 7 ml / m 2 phthalazine 250mg / m 2 A-4 have a film thickness shown in cellulose acetate butyrate Table 1 (20% methanol solution) 10 ml / m 2 mat Agent: Monodispersity 10% Average particle size 4 μm Monodispersed silica 5 mg / m 2 CH 2 CHCHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 35 mg / m 2 Fluorine surfactant C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 10 mg / m 2 C 8 F 17 -C 6 H 4 —SO 3 Na 10 mg / m 2 The smoother value of the surface on the photosensitive layer side is 25 mmHg, and that on the backing side is Surface smoother value is 200mm
Hg. The smoother value was measured by keeping the sample unexposed and humidifying at 23 ° C. and 48% RH for 2 hours, and measuring the smoother value of the surface on the photosensitive layer side in the same environment by using SM (manufactured by Toyo Denshi Kogyo KK). It measured by -6B.

【0127】塗膜形成した後の試料を用い、バインダー
を除去した後に、レプリカ法で電子顕微鏡観察して測定
したところ、有機銀粒子は、長軸径0.5±0.05μ
m、短軸径0.4±0.05μm、厚み0.01μmの
平板状粒子が全有機銀粒子の90%である単分散度5%
の粒子であった。
Using the sample after forming the coating film, removing the binder, and observing with an electron microscope by a replica method, the organic silver particles were found to have a major axis diameter of 0.5 ± 0.05 μm.
m, tabular grains having a minor axis diameter of 0.4 ± 0.05 μm and a thickness of 0.01 μm are monodispersity of 5%, which is 90% of all organic silver grains.
Particles.

【0128】〔露光及び現像処理〕780nmの半導体
レーザーを搭載した、自作のレーザー感光計を用いて露
光した。露光は露光量が対数で0.1きざみになるよう
なステップ露光とした。
[Exposure and Development] Exposure was performed using a self-made laser sensitometer equipped with a 780 nm semiconductor laser. The exposure was a step exposure in which the exposure amount was logarithmically 0.1.

【0129】現像は図1に示す自作の熱自現機を使用
し、現像条件は110℃、20秒である。
The development was carried out using a self-developed thermal self-developing machine shown in FIG. 1, and the development conditions were 110 ° C. and 20 seconds.

【0130】《ガンマγ及びカブリの測定》特性曲線の
濃度1.0と1.5を結ぶ直線の傾きを、脚切れを表す
ガンマγとした。カブリは現像条件110℃、20秒で
処理した感光材料を、処理後1時間以内にX−Rite
の白色光で測定した。
<< Measurement of Gamma γ and Fog >> The slope of a straight line connecting the densities 1.0 and 1.5 of the characteristic curve was defined as gamma γ representing leg cut. Fog is applied to the photosensitive material processed at 110 ° C for 20 seconds under X-Rite within 1 hour after processing.
Of white light.

【0131】《収縮の評価》処理前の約500mm×4
40mmの感光材料の500mmの長さ方向(PETの
縦延伸側)を、23℃、50%の雰囲気下に2時間調湿
した後、長さを測定した。その後、上記条件で熱現像処
理し、23℃、50%の雰囲気下に2時間調湿した後、
長さを測定した。この感光材料の長さを、1m当たりに
換算して収縮量を表に記載した。
<< Evaluation of Shrinkage >> About 500 mm × 4 before processing
The length of a 40 mm photosensitive material in the length direction of 500 mm (the longitudinally stretched side of PET) was conditioned at 23 ° C. in a 50% atmosphere for 2 hours, and the length was measured. After that, the film was subjected to a heat development treatment under the above conditions, and conditioned at 23 ° C. and 50% atmosphere for 2 hours.
The length was measured. The length of the light-sensitive material was converted to 1 m and the amount of shrinkage was described in the table.

【0132】(処理前の長さ)−(熱現像処理後)の長
さを収縮とした(感光材料1m当たりに換算)。
(Length before processing)-(Length after thermal development processing) was defined as shrinkage (converted per m of photosensitive material).

【0133】《搬送性の評価》500mm×440mm
サイズの感光材料を、各50枚処理して現像機中でロー
ラーにまきついたり、ジャムったフィルムの枚数をカウ
ントした。結果を表1に示すが、表中のEP、EC、B
Cはそれぞれ保護層、感光層、バック層の厚みを表す。
<< Evaluation of transportability >> 500 mm × 440 mm
The photosensitive material of each size was processed 50 sheets each, and the number of sheets that had been wrapped around the rollers or jammed in the developing machine was counted. The results are shown in Table 1. EP, EC, B
C represents the thickness of the protective layer, photosensitive layer, and back layer, respectively.

【0134】[0134]

【表1】 [Table 1]

【0135】表1から明らかなように、本発明試料は比
較試料に比し、高ガンマ、低カブリで収縮が小さくしか
も搬送性に優れている。
As is clear from Table 1, the sample of the present invention has a high gamma, low fog, small shrinkage, and excellent transportability as compared with the comparative sample.

【0136】実施例2 感光材料のPET支持体は、実施例1と同様にして作製
した。感光層、表面保護層、バッキング層は、実施例1
と同様にして作製したが、ヒドラジン誘導体はH−30
を使用した。なお、感光層の厚みは感光性乳剤の調製時
に、ポリビニルブチラール量で調整した。
Example 2 A PET support of a photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1. The photosensitive layer, the surface protective layer and the backing layer were prepared in Example 1.
Except that the hydrazine derivative was H-30.
It was used. The thickness of the photosensitive layer was adjusted by adjusting the amount of polyvinyl butyral when preparing the photosensitive emulsion.

【0137】実施例1に記載の自作の熱自現機の搬送系
を、ちどりローラーとし、上部のローラーの取り付け位
置を上下に移動できるようにし、現像部のローラーと感
光材料の接触長さを表2のようにした。なお、全搬送ロ
ーラー及び/または全ヒートローラーとの搬送方向の接
触長さ(rs)は、本文中の方法に従って測定した。
The transport system of the self-developed thermal automatic developing machine described in Example 1 is a chopping roller so that the mounting position of the upper roller can be moved up and down, and the contact length between the roller of the developing section and the photosensitive material is reduced. As shown in Table 2. In addition, the contact length (rs) in the transport direction with all the transport rollers and / or all the heat rollers was measured according to the method described in the text.

【0138】[0138]

【表2】 [Table 2]

【0139】表2でも、明らかにすべての評価項目で本
発明試料は比較試料よりも優れている。
Also in Table 2, the sample of the present invention is clearly superior to the comparative sample in all evaluation items.

【0140】実施例3 熱現像機のローラーを対向ローラーとし、硬度が異なる
ゴムローラーを用いて、現像部のローラーと感光材料の
接触長さを調整したが、実施例2と同様な結果を得た。
Example 3 The contact length between the roller of the developing section and the photosensitive material was adjusted using a roller of the heat developing machine as an opposing roller and rubber rollers having different hardness. The same result as in Example 2 was obtained. Was.

【0141】[0141]

【発明の効果】本発明によって、熱現像感光材料におい
て熱現像による感光材料の収縮、熱現像機中での感光材
料の搬送性が改良できたと共に、高ガンマ、低カブリの
熱現像感光材料を提供することができた。
According to the present invention, the heat-developable photothermographic material can improve the shrinkage of the photothermographic material due to the heat development and the transportability of the photothermographic material in the photothermographic machine. Could be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例で用いた熱自現機の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a thermal automatic machine used in an embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 熱現像部 2 加熱部 3 冷却部 4 ローラー 5 ウレタン搬送ローラー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Thermal development part 2 Heating part 3 Cooling part 4 Roller 5 Urethane conveyance roller

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に有機銀粒子、感光性ハロゲン
化銀粒子、還元剤、ヒドラジン誘導体及び/又は4級オ
ニウム塩化合物を含有する熱現像感光材料において、支
持体に塗布された写真構成層の乾燥トータル膜厚pと支
持体厚みsの比p/sが、0.06≦p/s≦0.38
であることを特徴とする熱現像感光材料。
1. A photothermographic material containing organic silver particles, photosensitive silver halide particles, a reducing agent, a hydrazine derivative and / or a quaternary onium salt compound on a support, and a photographic structure coated on the support. The ratio p / s of the total thickness p of the layer to the thickness s of the support is 0.06 ≦ p / s ≦ 0.38
A photothermographic material comprising:
【請求項2】 熱現像機の熱現像部における現像処理条
件が100℃以上、150℃以下で、かつ該熱現像部の
パス長(ps)と該熱現像部の全搬送ローラー及び/ま
たは全ヒートローラーとの搬送方向の接触長さ(rs)
の比(rs/ps)が、0.04≦rs/ps≦1.4
であることを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材
料。
2. The development processing conditions in the thermal development section of the thermal development machine are 100 ° C. or more and 150 ° C. or less, and the path length (ps) of the thermal development section and all transport rollers and / or all of the thermal development section. Contact length in the transport direction with the heat roller (rs)
Ratio (rs / ps) is 0.04 ≦ rs / ps ≦ 1.4.
The photothermographic material according to claim 1, wherein
【請求項3】 支持体上に有機銀粒子、感光性ハロゲン
化銀粒子、還元剤、ヒドラジン誘導体及び/又は4級オ
ニウム塩化合物を含有する熱現像感光材料を熱現像処理
することにおいて、熱現像機の熱現像部における現像処
理条件が100℃以上150℃以下で、かつ該熱現像部
のパス長(ps)と該熱現像部の全搬送ローラー及び/
または全ヒートローラーとの搬送方向の接触長さ(r
s)の比(rs/ps)が、0.04≦rs/ps≦
1.4であることを特徴とする熱現像感光材料の処理方
法。
3. A photothermographic material comprising an organic silver particle, a photosensitive silver halide particle, a reducing agent, a hydrazine derivative and / or a quaternary onium salt compound on a support. The development processing conditions in the thermal development section of the machine are 100 ° C. or more and 150 ° C. or less, and the path length (ps) of the thermal development section and all the transport rollers and / or
Or the contact length (r
s) is in the range of 0.04 ≦ rs / ps ≦
A method for processing a photothermographic material, wherein the material is 1.4.
【請求項4】 支持体の厚みが110μm以上、150
μm以下であることを特徴とする請求項2に記載の熱現
像感光材料。
4. The support has a thickness of 110 μm or more and 150 μm or more.
3. The photothermographic material according to claim 2, wherein the thickness is not more than μm.
【請求項5】 支持体の厚みが110μm以上、150
μm以下であることを特徴とする請求項3に記載の熱現
像感光材料の処理方法。
5. The support has a thickness of 110 μm or more and 150 μm or more.
4. The method for processing a photothermographic material according to claim 3, wherein the thickness is not more than μm.
JP11077017A 1999-03-23 1999-03-23 Heat-developable photosensitive material and its processing method Pending JP2000275779A (en)

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