JP2000268597A - Semiconductor memory and its address allotting method - Google Patents

Semiconductor memory and its address allotting method

Info

Publication number
JP2000268597A
JP2000268597A JP11075715A JP7571599A JP2000268597A JP 2000268597 A JP2000268597 A JP 2000268597A JP 11075715 A JP11075715 A JP 11075715A JP 7571599 A JP7571599 A JP 7571599A JP 2000268597 A JP2000268597 A JP 2000268597A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
cell array
address
defect
accessed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11075715A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Ishizuka
研次 石塚
Kazuyoshi Muraoka
一芳 村岡
Shintaro Hayashi
真太郎 林
Makoto Hamada
誠 濱田
Riyoushi Kotani
了士 小谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11075715A priority Critical patent/JP2000268597A/en
Publication of JP2000268597A publication Critical patent/JP2000268597A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a semiconductor memory and its address allotting method that can effectively utilized a spare memory cell array for redundancy when a defect does not exist. SOLUTION: This device is characterized in that an address of a normal memory cell array 21 is previously allotted to a spare memory cell array 22 for redundancy. When a defect occurs in a normal cell region, its defective address is allotted to a memory cell for redundancy, and it is replaced with an address allotted to a memory cell for redundancy before the replacement. When a defect does not exist or it is very few even if it exists, read-out margin exists, since bit line capacity is small, and a spare memory cell array 22 for redundancy in which a consumption current is small in bit line restoring can be effectively utilized.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体記憶装置
及びそのアドレス割り付け方法に関し、特にリダンダン
シー技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and an address allocating method thereof, and more particularly to a redundancy technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体記憶装置では、通常使用す
るメモリセルアレイの他に、リダンダンシー専用のメモ
リセルアレイを有するリダンダンシー方式が多く採用さ
れており、集中リダンダンシー方式と呼ばれている。
2. Description of the Related Art In recent years, in a semiconductor memory device, in addition to a memory cell array normally used, a redundancy system having a memory cell array dedicated to redundancy has been widely used, and is called a centralized redundancy system.

【0003】従来、集中リダンダンシー方式において
は、図6(a),(b)に示すように、ノーマルメモリ
セルアレイ11に隣接してスペアメモリセルアレイ12
を設け、このノーマルメモリセルアレイ11中のノーマ
ルセルに不良がない場合には、(a)図に示すようにノ
ーマルメモリセルアレイ11のみを用い、ノーマルセル
に不良があった場合にはこの不良セルを(b)図に示す
ようにスペアメモリセルアレイ12中のリダンダンシー
セルと置き換えて使用している。すなわち、ノーマルセ
ルに不良がない場合には、ノーマルメモリセルアレイ1
1中のワード線WL0,…,WLn,…がアクセスさ
れ、スペアメモリセルアレイ12中のスペアワード線S
WLはアクセスされない。一方、例えばノーマルメモリ
セルアレイ11中のワード線WLnに接続されているメ
モリセルに不良がある場合には、ノーマルメモリセルア
レイ11中のワード線WLnがアクセスされた時、この
ワード線WLnに代えてスペアメモリセルアレイ12中
のスペアワード線SWLが選択され、ワード線単位での
不良救済が行われる。
Conventionally, in the centralized redundancy system, as shown in FIGS. 6A and 6B, a spare memory cell array 12 is arranged adjacent to a normal memory cell array 11.
If there is no defect in the normal cells in the normal memory cell array 11, only the normal memory cell array 11 is used as shown in FIG. (B) As shown in the figure, the spare memory cell array 12 is used in place of the redundancy cells. That is, when there is no defect in the normal cell, the normal memory cell array 1
, WLn,... In the spare memory cell array 12 are accessed.
WL is not accessed. On the other hand, for example, when a memory cell connected to the word line WLn in the normal memory cell array 11 has a defect, when the word line WLn in the normal memory cell array 11 is accessed, a spare is used instead of the word line WLn. The spare word line SWL in the memory cell array 12 is selected, and the defect is repaired in word line units.

【0004】しかしながら、上記のような集中リダンダ
ンシー方式では、不良が発生しない場合にはスペアメモ
リセルアレイ12が無駄になる。上記スペアメモリセル
アレイ12は、ビット線容量がノーマルメモリセルアレ
イ11に比べて小さいため読み出しマージンがあり、且
つビット線リストアでの消費電流も少ないという利点が
あるが有効に利用されていなかった。
However, in the above-described centralized redundancy system, if no failure occurs, the spare memory cell array 12 is wasted. The spare memory cell array 12 has the advantage that the bit line capacity is smaller than that of the normal memory cell array 11 so that there is a read margin and the current consumption in bit line restoration is small, but it has not been used effectively.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の半
導体記憶装置及びそのアドレス割り付け方法は、不良が
存在しない場合にはスペアメモリセルアレイが無駄にな
り有効に利用されていなかった。
As described above, in the conventional semiconductor memory device and its address allocation method, when there is no defect, the spare memory cell array is wasted and is not effectively used.

【0006】この発明は上記のような事情に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、不良が存在しな
い場合あるいは存在しても充分少ない場合に、リダンダ
ンシー用のスペアメモリセルアレイを有効に利用できる
半導体記憶装置及びそのアドレス割り付け方法を提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to effectively use a spare memory cell array for redundancy when no defect is present or when it is sufficiently small. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can be used and an address allocation method thereof.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明の請求項1に記
載した半導体記憶装置は、不良が存在しない時にはアク
セスされず、不良が発生した時に行または列の単位でア
クセスされるアドレスが一部に割り付けられた第1のメ
モリセルアレイと、この第1のメモリセルよりも記憶容
量が小さく、前記第1のメモリセルアレイの1行または
1列に設けられたメモリセルと同じ数の1行または1列
のメモリセルを有し、前記第1のメモリセルアレイの一
部に割り付けられた、不良が発生した時に行または列の
単位でアクセスされるメモリセルに対応するアドレス
が、不良が存在しない時にアクセスされるアドレスとし
て割り付けられた第2のメモリセルアレイとを具備し、
不良が存在しない時には前記第1のメモリセルアレイに
おける不良が存在しない時にはアクセスされず、不良が
発生した時に行または列の単位でアクセスされるアドレ
スを除くアドレスのメモリセルと前記第2のメモリセル
アレイの各アドレスのメモリセルとをアクセスし、前記
第1のメモリセルアレイ中のメモリセルに不良が発生し
た時に、前記第2のメモリセルアレイ中のメモリセルに
行または列の単位で置換するとともに、当該置換される
第2のメモリセルアレイ中のメモリセルに割り付けられ
ていたアドレスを前記第1のメモリセルアレイ中の前記
不良が存在しない時にはアクセスされず、不良が発生し
た時に行または列の単位でアクセスされるアドレスのメ
モリセルに行または列の単位で置換することを特徴とし
ている。
According to the first aspect of the present invention, a semiconductor memory device is not accessed when a defect does not exist, and a part of an address accessed in units of rows or columns when a defect occurs. And a memory cell array having a smaller storage capacity than the first memory cell and having the same number of rows or columns as the number of memory cells provided in one row or one column of the first memory cell array. An address corresponding to a memory cell having a memory cell in a column, which is allocated to a part of the first memory cell array and is accessed in a unit of row or column when a failure occurs, is accessed when a failure does not exist. A second memory cell array allocated as an address to be
When there is no defect, the first memory cell array is not accessed when there is no defect. When the defect occurs, the memory cell of the address other than the address accessed in units of rows or columns and the second memory cell array A memory cell at each address is accessed, and when a failure occurs in a memory cell in the first memory cell array, the memory cell in the second memory cell array is replaced in units of rows or columns. The address allocated to the memory cell in the second memory cell array to be accessed is not accessed when the defect in the first memory cell array does not exist, and is accessed in units of rows or columns when the defect occurs. It is characterized in that a memory cell at an address is replaced in units of rows or columns.

【0008】請求項2に記載したように、前記第1のメ
モリセルアレイにおける、不良が存在しない時にはアク
セスされず、不良が発生した時に行または列の単位でア
クセスされるアドレスは、前記第1のメモリセルアレイ
における不良が発生しやすいメモリセルのアドレスであ
ることを特徴とする。
[0008] As described in claim 2, in the first memory cell array, an address which is not accessed when a defect does not exist, and which is accessed in units of rows or columns when a defect occurs, is the first memory cell array. It is an address of a memory cell in which a defect in the memory cell array is likely to occur.

【0009】請求項3に記載したように、前記不良が発
生しやすいメモリセルのアドレスは、前記第1のメモリ
セルアレイの端部に位置するメモリセルのアドレスであ
ることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, the address of the memory cell in which the defect is likely to occur is an address of a memory cell located at an end of the first memory cell array.

【0010】また、請求項4に記載したように、前記第
1のメモリセルアレイはノーマルメモリセルアレイであ
り、前記第2のメモリセルアレイはリダンダンシー用の
スペアメモリセルアレイであることを特徴とする。
Further, according to the present invention, the first memory cell array is a normal memory cell array, and the second memory cell array is a spare memory cell array for redundancy.

【0011】更に、この発明の請求項5に記載した半導
体記憶装置のアドレス割り付け方法は、第1のメモリセ
ルアレイの一部に、不良が存在しない時にはアクセスさ
れず、不良が発生した時に行または列の単位でアクセス
されるアドレスを割り付け、且つこの第1のメモリセル
アレイの1行または1列に設けられたメモリセルと同じ
数の1行または1列のメモリセルを有し、前記第1のメ
モリセルよりも記憶容量が小さい第2のメモリセルアレ
イに、前記第1のメモリセルアレイの一部に割り付けら
れた、不良が存在しない時にはアクセスされず、不良が
発生した時に行または列の単位でアクセスされるメモリ
セルに対応するアドレスを不良が存在しない時にアクセ
スされるアドレスとして割り付け、不良が存在しない時
には前記第1のメモリセルアレイにおける不良が存在し
ない時にはアクセスされず、不良が発生した時に行また
は列の単位でアクセスされるアドレスを除くアドレスの
メモリセルと前記第2のメモリセルアレイの各アドレス
のメモリセルとをアクセスし、前記第1のメモリセルア
レイ中のメモリセルに不良が発生した時に、前記第2の
メモリセルアレイ中のメモリセルに行または列の単位で
置換し、且つ当該置換される第2のメモリセルアレイ中
のメモリセルに割り付けられていたアドレスを前記第1
のメモリセルアレイ中の前記不良が存在しない時にはア
クセスされず、不良が発生したときに行または列の単位
でアクセスされるアドレスのメモリセルに行または列の
単位で置換することを特徴としている。
Further, according to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of allocating addresses for a semiconductor memory device, wherein a portion of a first memory cell array is not accessed when a defect does not exist, and a row or a column is determined when a defect occurs. And the same number of memory cells provided in one row or one column of the first memory cell array as one row or one column, and the first memory The second memory cell array having a smaller storage capacity than the cell is not accessed when there is no defect allocated to a part of the first memory cell array, and is accessed in units of rows or columns when a defect occurs. An address corresponding to a memory cell to be accessed is assigned as an address to be accessed when no defect exists, and when no defect exists, the first memory is allocated. When a defect does not exist in the recell array, the memory cell is not accessed, and when a defect occurs, a memory cell of an address other than an address accessed in units of rows or columns and a memory cell of each address of the second memory cell array are accessed, When a failure occurs in a memory cell in the first memory cell array, the memory cell in the second memory cell array is replaced in units of rows or columns, and the memory in the replaced second memory cell array is replaced. The address assigned to the cell is stored in the first
When the defect does not exist in the memory cell array, the memory cell is not accessed, and when a defect occurs, the memory cell at the address accessed in the unit of row or column is replaced in the unit of row or column.

【0012】請求項6に記載したように、前記第1のメ
モリセルアレイはノーマルメモリセルアレイであり、前
記第2のメモリセルアレイはリダンダンシー用のスペア
メモリセルアレイであることを特徴とする。
According to the present invention, the first memory cell array is a normal memory cell array, and the second memory cell array is a spare memory cell array for redundancy.

【0013】請求項1のような構成によれば、不良が存
在しない場合には、第1のメモリセルアレイよりも寄生
容量が小さく、読み出しマージンが高く且つ消費電流も
少ない第2のメモリセルアレイをアクセスするので特性
が優れた第2のメモリセルアレイを有効に利用できる。
According to the first aspect of the present invention, when there is no defect, the second memory cell array having smaller parasitic capacitance, higher read margin and lower current consumption than the first memory cell array is accessed. Therefore, the second memory cell array having excellent characteristics can be effectively used.

【0014】請求項2に示すように、第1のメモリセル
アレイにおける不良が発生しやすいメモリセルのアドレ
スを予め第2のメモリセルアレイに割り付けておけば、
不良救済を行う確率が少なくなる。
According to a second aspect of the present invention, if the addresses of the memory cells in the first memory cell array where defects are likely to occur are allocated to the second memory cell array in advance,
The probability of performing defect relief is reduced.

【0015】請求項3に示すように、第1のメモリセル
アレイの端部に位置するメモリセルのアドレスが不良が
発生しやすいので、不良救済の確率を下げるのに効果的
である。
As described in claim 3, since the address of the memory cell located at the end of the first memory cell array is liable to cause a defect, it is effective to reduce the probability of relieving the defect.

【0016】請求項4に示すように、第1のメモリセル
アレイとしてノーマルメモリセルアレイ、第2のメモリ
セルアレイとしてリダンダンシー用のスペアメモリセル
アレイを設ければ、従来の半導体記憶装置の基本的な回
路構成を用いることができる。
According to a fourth aspect of the present invention, if a normal memory cell array is provided as the first memory cell array and a spare memory cell array for redundancy is provided as the second memory cell array, the basic circuit configuration of the conventional semiconductor memory device can be obtained. Can be used.

【0017】請求項5のような方法によれば、不良が存
在しない場合には、第1のメモリセルアレイよりも寄生
容量が小さく、読み出しマージンが高く且つ消費電流も
少ない第2のメモリセルアレイを優先的にアクセスする
ので特性が優れた第2のメモリセルアレイを有効に利用
できる。
According to the fifth aspect of the present invention, when there is no defect, the second memory cell array having a smaller parasitic capacitance, a higher read margin, and lower current consumption than the first memory cell array is preferred. The second memory cell array, which has excellent characteristics, can be effectively used.

【0018】請求項6に示すように、第1のメモリセル
アレイとしてノーマルメモリセルアレイ、第2のメモリ
セルアレイとしてリダンダンシー用のスペアメモリセル
アレイを適用すれば、従来の集中リダンダンシー方式が
適用される半導体記憶装置の基本構成を用いつつアドレ
スの割り付けができる。
According to a sixth aspect of the present invention, if a normal memory cell array is used as the first memory cell array and a spare memory cell array for redundancy is used as the second memory cell array, the conventional centralized redundancy system is applied. Addresses can be assigned while using the basic configuration described above.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0020】図1(a),(b)は、この発明の実施の
形態に係る半導体記憶装置及びそのアドレス割り付け方
法の概要について説明するためのもので、(a)図は不
良セルが存在しない場合、(b)図は不良セルが存在す
る場合をそれぞれ示している。(a)図に示すように、
スペアメモリセルアレイ22中のリダンダンシー用のス
ペアセルに、ノーマルメモリセルアレイ21中のノーマ
ルセルのアドレスを割り付けておき、ノーマルメモリセ
ルアレイ21に不良があった場合、(b)図に示すよう
にその不良アドレスをスペアメモリセルアレイ22中の
スペアセルに割り付け、置換前に当該スペアメモリセル
アレイ22中のスペアセルへ割り付けられていたアドレ
スと置き換えるようにしている。すなわち、ノーマルセ
ルに不良が存在しない場合には、ノーマルメモリセルア
レイ21中のワード線WL0がアクセスされる時に、ス
ペアメモリセルアレイ22中のスペアワード線SWLが
アクセスされ、ノーマルメモリセルアレイ21中の置き
換えられていない他のワード線がアクセスされるときに
はノーマルメモリセルアレイ21中のワード線…,WL
n,…がアクセスされる。一方、例えばノーマルメモリ
セルアレイ21中のワード線WLnに接続されているメ
モリセルに不良がある場合には、このワード線WLnの
アドレスをスペアメモリセルアレイ22中のスペアワー
ド線SWLに割り付け、スペアワード線SWLに予め割
り付けられていたワード線WL0のアドレスをノーマル
メモリセルアレイ21中のワード線WL0に割り付け
る。これによって、ノーマルメモリセルアレイ21中の
ワード線WL0がアクセスされる時にはノーマルメモリ
セルアレイ21がアクセスされ、ワード線WLnがアク
セスされる時には、このワード線WLnに代えてスペア
メモリセルアレイ22中のスペアワード線SWLが選択
される。これによって、不良セルが存在しない場合には
スペアセルアレイ21がアクセスされ、ビット線容量が
小さく読み出しマージンがあり、しかもビット線リスト
アにおける消費電流が少ないリダンダンシー用のスペア
セルを積極的に有効利用できる。
FIGS. 1A and 1B are for explaining an outline of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention and an address allocating method thereof, and FIG. 1A shows no defective cell. FIG. 2B shows a case where a defective cell exists. (A) As shown in the figure,
The address of the normal cell in the normal memory cell array 21 is assigned to the spare cell for redundancy in the spare memory cell array 22. If there is a defect in the normal memory cell array 21, the defective address is assigned as shown in FIG. It is assigned to a spare cell in the spare memory cell array 22 and replaced with an address assigned to the spare cell in the spare memory cell array 22 before replacement. That is, when there is no defect in the normal cell, when the word line WL0 in the normal memory cell array 21 is accessed, the spare word line SWL in the spare memory cell array 22 is accessed and replaced in the normal memory cell array 21. , WL in the normal memory cell array 21 when another word line not accessed is accessed.
n,... are accessed. On the other hand, if there is a defect in a memory cell connected to the word line WLn in the normal memory cell array 21, for example, the address of the word line WLn is assigned to the spare word line SWL in the spare memory cell array 22, and the spare word line The address of the word line WL0 previously assigned to the SWL is assigned to the word line WL0 in the normal memory cell array 21. Thus, when word line WL0 in normal memory cell array 21 is accessed, normal memory cell array 21 is accessed, and when word line WLn is accessed, spare word line in spare memory cell array 22 is replaced with word line WLn. SWL is selected. As a result, when there is no defective cell, the spare cell array 21 is accessed, and a spare cell for redundancy, which has a small bit line capacity, has a read margin, and consumes little current in bit line restoration, can be used effectively.

【0021】図2は、上述したようなアドレスの置換を
実現する半導体記憶装置におけるアドレスの割り付けに
関係する回路部を抽出して概略構成を示すブロック図で
ある。ノーマルメモリセルアレイ21の両側にはセンス
アンプ23,24が設けられており、スペアメモリセル
アレイ22の両側にはセンスアンプ25,26が設けら
れている。また、各セルアレイ21,22には対応して
ロウデコーダ27,28とロウデコーダ制御回路34,
35が設けられている。図示しないが、ノーマルメモリ
セルアレイ21はn個設けられており、これらn個のノ
ーマルメモリセルアレイ21、センスアンプ23,2
4、ロウデコーダ27及びロウデコーダ制御回路34は
単位セルアレイ29を構成している。
FIG. 2 is a block diagram showing a schematic structure of a circuit portion related to address assignment in a semiconductor memory device for realizing the above-described address replacement. Sense amplifiers 23 and 24 are provided on both sides of the normal memory cell array 21, and sense amplifiers 25 and 26 are provided on both sides of the spare memory cell array 22. The row decoders 27 and 28 and the row decoder control circuit 34,
35 are provided. Although not shown, n normal memory cell arrays 21 are provided, and these n normal memory cell arrays 21 and sense amplifiers 23 and 2 are provided.
4. The row decoder 27 and the row decoder control circuit 34 constitute a unit cell array 29.

【0022】リダンダンシーを行うか否かを選択するリ
ダンダンシー選択回路30の出力信号/FRHITi
(符号の前に付けた“/”は反転信号、すなわちバーを
意味する),/FRMISSiは切換回路31に供給さ
れ、この切換回路31の出力信号/FSWLONがスペ
アメモリセルアレイ22側のロウデコーダ制御回路35
に供給され、出力信号/FWLONがノーマルメモリセ
ルアレイ21側のロウデコーダ制御回路34に供給さ
れ、リダンダンシーの状態に応じたロウデコーダ27,
28の制御とロウアドレスの選択が行われる。上記各セ
ンスアンプ23〜26の出力信号は、DQ線32及び入
出力回路(I/O)33を介して出力される。また、入
力されたデータは入出力回路33、DQ線32及びセン
スアンプを介して各アレイ21,22中のノーマルセル
またはリダンダンシー用のスペアセルに供給される。
Output signal / FRHITi of redundancy selection circuit 30 for selecting whether or not to perform redundancy
("/" Added before the sign means an inverted signal, that is, a bar), / FRMISSi is supplied to the switching circuit 31, and the output signal / FSWLON of the switching circuit 31 is controlled by the row decoder of the spare memory cell array 22. Circuit 35
, And an output signal / FWLON is supplied to a row decoder control circuit 34 on the normal memory cell array 21 side, and a row decoder 27,
28 and the selection of a row address. Output signals of the respective sense amplifiers 23 to 26 are output via a DQ line 32 and an input / output circuit (I / O) 33. The input data is supplied to a normal cell or a spare cell for redundancy in each of the arrays 21 and 22 via the input / output circuit 33, the DQ line 32, and the sense amplifier.

【0023】図3は、上記図2に示した回路におけるノ
ーマルメモリセルアレイ21とスペアメモリセルアレイ
22の構成例を示している。ここでは64MビットSD
RAMを例にとって示している。ノーマルメモリセルア
レイ21とスペアメモリセルアレイ22はそれぞれ多数
の単位セルアレイに分割されており、各単位セルアレイ
中のノーマルメモリセルアレイ21は、約512ロウ
(=512ワード線)/約2048カラム(=2048
ビット線対、2048センスアンプ)で構成されてい
る。スペアメモリセルアレイ22は、約128ロウ(=
128ワード線)/約2048カラム(=2048ビッ
ト線対、2048センスアンプ)で構成されている。す
なわち、ノーマルメモリセルアレイ21が1Mビットで
あるのに対し、スペアメモリセルアレイ22は256K
ビットである。このように、一般に、ノーマルメモリセ
ルアレイ21とスペアメモリセルアレイ22の記憶容量
は、スペアメモリセルアレイ22の方が小さくなってい
る。
FIG. 3 shows a configuration example of the normal memory cell array 21 and the spare memory cell array 22 in the circuit shown in FIG. Here is 64Mbit SD
A RAM is shown as an example. The normal memory cell array 21 and the spare memory cell array 22 are each divided into a large number of unit cell arrays, and the normal memory cell array 21 in each unit cell array has about 512 rows (= 512 word lines) / about 2048 columns (= 2048).
Bit line pairs, 2048 sense amplifiers). The spare memory cell array 22 has about 128 rows (=
128 word lines) / approximately 2048 columns (= 2048 bit line pairs, 2048 sense amplifiers). That is, while the normal memory cell array 21 has 1M bits, the spare memory cell array 22 has 256K bits.
Is a bit. As described above, generally, the storage capacity of the normal memory cell array 21 and the spare memory cell array 22 is smaller in the spare memory cell array 22.

【0024】図4は、上記図2に示した回路におけるリ
ダンダンシー選択回路30の構成例を示している。この
リダンダンシー選択回路30は、ヒューズによってアド
レスの選択が可能なアドレスヒューズ回路40、マスタ
ーヒューズ回路41、及びこれらの回路40,41の出
力信号に基づいてリダンダンシーの使用を検知するリダ
ンダンシー検知回路42で構成されている。上記アドレ
スヒューズ回路40には、通常時に置き換えるノーマル
セルのアドレスをプリプログラミングしてアドレスを割
り付けておく。このアドレスはヒューズを切ることで変
更可能になっている。このアドレスヒューズ回路40に
はアドレス信号AR0〜ARnとその反転信号/AR0
〜/ARnが供給され、信号/FAR0〜/FARnを
出力する。そして、入力されたアドレス信号AR0〜A
Rn,/AR0〜/ARnとプリプログラムされたアド
レスとが一致した時に、出力信号/FAR0〜/FAR
nをロウレベルにするようになっている。また、上記マ
スターヒューズ回路41は、通常時にはリダンダンシー
セルを使うことを宣言するように信号/FARMをロウ
レベルとし、ヒューズを切ることでこの信号/FARM
をハイレベルとしてリダンダンシー用のスペアセルを使
わずにノーマルセルを使うことを宣言するように変更す
る。上記リダンダンシー検知回路42は、上記アドレス
ヒューズ回路40から出力される信号/FAR0〜/F
ARnとマスターヒューズ回路41から出力される信号
/FARMとを論理合成してリダンダンシーの使用を検
知する。このリダンダンシー検知回路42は、アドレス
の入力後一定期間おいて、信号/FAR0〜/FARn
と信号/FARMとが全てロウレベルであるときにリダ
ンダンシーの使用を検知したことを示す信号/FRHI
Ti(i=0〜n)を出力し、いずれか1つがハイレベ
ルであると信号/FRMISSi(i=0〜n)を出力
する。すなわち、リダンダンシー選択回路30は、入力
されたアドレスがアドレスヒューズ回路40においてプ
リプログラミングまたはヒューズを切って変更されたア
ドレスと一致し、且つマスターヒューズ回路41におい
てヒューズが切れているとリダンダンシー用のスペアセ
ルをアクセスするように構成されている。
FIG. 4 shows a configuration example of the redundancy selection circuit 30 in the circuit shown in FIG. The redundancy selection circuit 30 includes an address fuse circuit 40 capable of selecting an address by a fuse, a master fuse circuit 41, and a redundancy detection circuit 42 for detecting use of redundancy based on output signals of these circuits 40, 41. Have been. The address of the normal cell to be replaced at normal time is preprogrammed and assigned to the address fuse circuit 40. This address can be changed by blowing the fuse. The address fuse circuit 40 has address signals AR0 to ARn and its inverted signal / AR0.
To / ARn to output signals / FAR0 to / FARn. The input address signals AR0 to AR0 to A
When Rn, / AR0 to / ARn match the preprogrammed address, output signals / FAR0 to / FAR are output.
n is set to a low level. The master fuse circuit 41 normally sets the signal / FARM to a low level so as to declare the use of the redundancy cell, and cuts the fuse to generate the signal / FARM.
Is changed to a high level to declare that a normal cell is used without using a spare cell for redundancy. The redundancy detection circuit 42 outputs signals / FAR0 to / FR output from the address fuse circuit 40.
The use of the redundancy is detected by logically synthesizing the signal ARn and the signal / FARM output from the master fuse circuit 41. The redundancy detection circuit 42 outputs the signals / FAR0 to / FARn for a certain period after the input of the address.
/ FRHI is a signal / FRHI indicating that the use of redundancy has been detected when all signals are at the low level.
Ti (i = 0 to n) is output, and if any one is at a high level, the signal / FRMISSi (i = 0 to n) is output. That is, when the input address matches the address changed by pre-programming or blowing the fuse in the address fuse circuit 40 and the fuse is blown in the master fuse circuit 41, the redundancy selection circuit 30 selects the redundancy spare cell. It is configured to access.

【0025】そして、プリプログラミングされたアドレ
ス以外のノーマルセルに不良があった場合、アドレスヒ
ューズ回路40のヒューズを切ることで置き換えるアド
レスを変更すると、不良があったノーマルセルをリダン
ダンシー用のスペアセルに置き換え、プリプログラミン
グされていたアドレスはノーマルセルをアクセスするこ
とになる。この時、マスターヒューズ回路41のヒュー
ズは切らない。また、プリプログラミングされたアドレ
スが置き換えられているリダンダンシーセルに不良があ
った場合、マスターヒューズ回路41のヒューズを切る
ことでノーマルセルをアクセスする。
If a normal cell other than the pre-programmed address has a defect, the address to be replaced is changed by cutting the fuse of the address fuse circuit 40, and the defective normal cell is replaced with a spare cell for redundancy. The pre-programmed address accesses a normal cell. At this time, the fuse of the master fuse circuit 41 is not blown. If there is a defect in the redundancy cell in which the preprogrammed address has been replaced, the fuse in the master fuse circuit 41 is blown to access the normal cell.

【0026】図5(a),(b)はそれぞれ、上記図2
に示した回路における切換回路31の構成例について説
明するためのもので、(a)図はスペア状態を設定する
回路部、(b)図はノーマル状態を設定する回路部であ
る。この切換回路31は、リダンダンシー選択回路30
の出力信号/FRHITi,/FRMISSiを受けて
ノーマル状態かリダンダンシー状態かを切り換えるもの
である。ここでは単位セルアレイが32個で、i=0〜
7の場合の回路構成例を示している。
FIGS. 5A and 5B respectively show FIGS.
(A) is a circuit section for setting a spare state, and (b) is a circuit section for setting a normal state. The switching circuit 31 includes a redundancy selection circuit 30
In response to the output signals / FRHITi, / FRMISSi. Here, there are 32 unit cell arrays and i = 0 to
7 shows a circuit configuration example in the case of No. 7.

【0027】(a)図に示す回路部は、ナンドゲート5
0〜54、ノアゲート55,56及びインバータ57を
含んで構成されている。各ナンドゲート50〜54の入
力端にはそれぞれ、上記リダンダンシー選択回路30か
ら出力されるリダンダンシーの使用を検知したことを示
す信号/FRHIT0と/FRHIT1、/FRHIT
2と/FRHIT3、/FRHIT4と/FRHIT
5、/FRHIT6と/FRHIT7がそれぞれ供給さ
れる。上記ナンドゲート50,51の出力信号はノアゲ
ート55に供給され、上記ナンドゲート52,53の出
力信号はノアゲート56に供給される。上記ノアゲート
55,56の出力信号はナンドゲート54に供給され、
このナンドゲート54の出力信号がインバータ57を介
して信号/FSWLONとして出力される。
(A) The circuit section shown in FIG.
0 to 54, NOR gates 55 and 56, and an inverter 57. Signals / FRHIT0 and / FRHIT1, / FRHIT1, / FRHIT1, which indicate that the use of the redundancy output from the redundancy selection circuit 30 has been detected, are provided at the input terminals of the NAND gates 50 to 54, respectively.
2 and / FRHIT3, / FRHIT4 and / FRHIT
5, / FRHIT6 and / FRHIT7 are supplied, respectively. The output signals of the NAND gates 50 and 51 are supplied to a NOR gate 55, and the output signals of the NAND gates 52 and 53 are supplied to a NOR gate 56. Output signals of the NOR gates 55 and 56 are supplied to a NAND gate 54,
The output signal of NAND gate 54 is output via inverter 57 as signal / FSWLON.

【0028】一方、(b)図に示す回路部は、ノアゲー
ト58〜62、ナンドゲート63,64、及びインバー
タ65を含んで構成されている。ノアゲート58〜61
の入力端にはそれぞれ、上記リダンダンシー選択回路3
0から出力される信号/FRMISS0と/FRMIS
S1、/FRMISS2と/FRMISS3、/FRM
ISS4と/FRMISS5、/FRMISS6と/F
RMISS7がそれぞれ供給される。上記ノアゲート5
8,59の出力信号はナンドゲート63に供給され、上
記ノアゲート60,61の出力信号はナンドゲート64
に供給される。上記ナンドゲート63,64の出力信号
はノアゲート62に供給され、このノアゲート62の出
力信号がインバータ65を介して信号/FWLONとし
て出力される。
On the other hand, the circuit section shown in FIG. 1B includes NOR gates 58 to 62, NAND gates 63 and 64, and an inverter 65. Noah gate 58-61
Are connected to the redundancy selection circuit 3
/ FRMISS0 and / FRMIS output from 0
S1, / FRMISS2 and / FRMISS3, / FRM
ISS4 and / FRMISS5, / FRMISS6 and / F
RMISS 7 is supplied. NOR gate 5
The output signals of 8, 59 are supplied to a NAND gate 63, and the output signals of the NOR gates 60, 61 are supplied to a NAND gate 64.
Supplied to The output signals of the NAND gates 63 and 64 are supplied to a NOR gate 62, and the output signal of the NOR gate 62 is output via an inverter 65 as a signal / FWLON.

【0029】上記のような構成によれば、不良が存在し
ない場合あるいは存在しても充分少ない場合には、リダ
ンダンシー用のスペアメモリセルアレイ22を有効利用
できる。リダンダンシー用のスペアメモリセルアレイ2
2の1本のビット線に接続されるメモリセルの個数はノ
ーマルメモリセルアレイ21の1/4であるので、ビッ
ト線容量も約1/4になる。従って、メモリセルからビ
ット線へデータを読み出したときのビット線の初期電位
差は、ノーマルメモリセルアレイ21より大きく、より
容易に増幅動作が行える(センスマージンを高くでき
る)。また、ビット線容量が減ることでビット線のリス
トア(増幅)での消費電流を約1/4に低減することも
可能である。
According to the above configuration, when there is no defect or when there is a defect, the spare memory cell array 22 for redundancy can be effectively used. Spare memory cell array 2 for redundancy
Since the number of memory cells connected to one bit line 2 is 1/4 of that of the normal memory cell array 21, the bit line capacity is also about 1/4. Therefore, the initial potential difference of the bit line when data is read from the memory cell to the bit line is larger than that of the normal memory cell array 21, and the amplification operation can be performed more easily (the sense margin can be increased). In addition, it is also possible to reduce the current consumption in restoring (amplifying) the bit line to about 4 by reducing the bit line capacity.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、不良が存在しない場合あるいは存在しても充分少な
い場合に、リダンダンシー用のスペアメモリセルアレイ
を有効利用できる半導体記憶装置及びそのアドレス割り
付け方法が得られる。
As described above, according to the present invention, a semiconductor memory device capable of effectively utilizing a spare memory cell array for redundancy and an address allocating method thereof when no defect is present or when there is a sufficiently small defect. Is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の形態に係る半導体記憶装置及
びそのアドレス割り付け方法の概略について説明するた
めのもので、(a)図は不良が存在しない場合、(b)
図は不良が存在する場合を示す図。
FIGS. 1A and 1B are for explaining an outline of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention and an address allocating method thereof. FIG.
The figure shows a case where a defect exists.

【図2】図1に示したアドレスの置換を実現する半導体
記憶装置におけるアドレスの割り付けに関係する回路部
を抽出して概略構成を示すブロック図。
FIG. 2 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a semiconductor memory device that implements the address replacement shown in FIG.

【図3】図2に示した回路におけるノーマルメモリセル
アレイとスペアメモリセルアレイの構成例を示す回路図
であり、(a)図はノーマルメモリセルアレイ、(b)
図はスペアメモリセルアレイを示す図。
3 is a circuit diagram showing a configuration example of a normal memory cell array and a spare memory cell array in the circuit shown in FIG. 2; FIG. 3 (a) is a normal memory cell array;
The figure shows a spare memory cell array.

【図4】図2に示した回路におけるリダンダンシー選択
回路の構成例を示す回路図。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration example of a redundancy selection circuit in the circuit shown in FIG. 2;

【図5】図1に示した回路における切換回路の構成例に
ついて説明するためのもので、(a)図はスペア状態を
設定する回路部、(b)図はノーマル状態を設定する回
路部を示す図。
5A and 5B are diagrams for explaining a configuration example of a switching circuit in the circuit shown in FIG. 1; FIG. 5A shows a circuit section for setting a spare state, and FIG. 5B shows a circuit section for setting a normal state; FIG.

【図6】集中リダンダンシー方式が採用された従来の半
導体記憶装置及びそのアドレス割り付け方法について説
明するための図。
FIG. 6 is a diagram for explaining a conventional semiconductor memory device employing a centralized redundancy system and an address assignment method thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21…ノーマルメモリセルアレイ(第1のメモリセルア
レイ)、22…スペアメモリセルアレイ(第2のメモリ
セルアレイ)、23〜26…センスアンプ、27,28
…ロウデコーダ、29…単位セルアレイ、30…リダン
ダンシー選択回路、31…切換回路、32…DQ線、3
3…入出力回路、WL0,WLn…ワード線、SWL…
スペアワード線。
21: normal memory cell array (first memory cell array), 22: spare memory cell array (second memory cell array), 23 to 26: sense amplifier, 27, 28
... row decoder, 29 ... unit cell array, 30 ... redundancy selection circuit, 31 ... switching circuit, 32 ... DQ line, 3
3: Input / output circuit, WL0, WLn: Word line, SWL ...
Spare word line.

フロントページの続き (72)発明者 村岡 一芳 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株 式会社東芝半導体システム技術センター内 (72)発明者 林 真太郎 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株 式会社東芝半導体システム技術センター内 (72)発明者 濱田 誠 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株 式会社東芝半導体システム技術センター内 (72)発明者 小谷 了士 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株 式会社東芝半導体システム技術センター内 Fターム(参考) 5L106 CC04 CC17 CC32 EE02 EE07 FF01 GG00 GG06 Continuing on the front page (72) Inventor Kazuyoshi Muraoka 580-1, Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside the Toshiba Semiconductor System Technology Center Co., Ltd. (72) Shintaro Hayashi No. 1 Toshiba Semiconductor System Technology Center Co., Ltd. (72) Inventor Makoto Hamada 580-1 Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Co., Ltd. Inside Toshiba Semiconductor System Technology Center Co., Ltd. 580-1, Horikawa-cho, Ichiyuki-ku F-term (reference) in Toshiba Semiconductor System Engineering Center 5L106 CC04 CC17 CC32 EE02 EE07 FF01 GG00 GG06

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 不良が存在しない時にはアクセスされ
ず、不良が発生した時に行または列の単位でアクセスさ
れるアドレスが一部に割り付けられた第1のメモリセル
アレイと、この第1のメモリセルよりも記憶容量が小さ
く、前記第1のメモリセルアレイの1行または1列に設
けられたメモリセルと同じ数の1行または1列のメモリ
セルを有し、前記第1のメモリセルアレイの一部に割り
付けられた、不良が発生した時に行または列の単位でア
クセスされるメモリセルに対応するアドレスが、不良が
存在しない時にアクセスされるアドレスとして割り付け
られた第2のメモリセルアレイとを具備し、 不良が存在しない時には前記第1のメモリセルアレイに
おける不良が存在しない時にはアクセスされず、不良が
発生した時に行または列の単位でアクセスされるアドレ
スを除くアドレスのメモリセルと前記第2のメモリセル
アレイの各アドレスのメモリセルとをアクセスし、前記
第1のメモリセルアレイ中のメモリセルに不良が発生し
た時に、前記第2のメモリセルアレイ中のメモリセルに
行または列の単位で置換するとともに、当該置換される
第2のメモリセルアレイ中のメモリセルに割り付けられ
ていたアドレスを前記第1のメモリセルアレイ中の前記
不良が存在しない時にはアクセスされず、不良が発生し
た時に行または列の単位でアクセスされるアドレスのメ
モリセルに行または列の単位で置換することを特徴とす
る半導体記憶装置。
1. A first memory cell array in which an address which is not accessed when a defect does not exist and an address to be accessed in a unit of a row or a column when a defect occurs is partially assigned to the first memory cell array. Also has a small storage capacity, has the same number of memory cells in one row or one column as the memory cells provided in one row or one column of the first memory cell array, and is provided in a part of the first memory cell array. A second memory cell array, wherein the allocated address corresponding to the memory cell accessed in the unit of a row or a column when a defect occurs is allocated as an address accessed when a defect does not exist; Is not accessed when there is no defect in the first memory cell array when no defect exists, and when a defect occurs, a row or column unit A memory cell of an address other than an address to be accessed and a memory cell of each address of the second memory cell array are accessed, and when a failure occurs in a memory cell in the first memory cell array, the second memory When the memory cells in the cell array are replaced in units of rows or columns, and the addresses assigned to the replaced memory cells in the second memory cell array are replaced with the defective memory cells in the first memory cell array, A semiconductor memory device which is not accessed and is replaced in units of rows or columns with memory cells at addresses accessed in units of rows or columns when a defect occurs.
【請求項2】 前記第1のメモリセルアレイにおける、
不良が存在しない時にはアクセスされず、不良が発生し
た時に行または列の単位でアクセスされるアドレスは、
前記第1のメモリセルアレイにおける不良が発生しやす
いメモリセルのアドレスであることを特徴とする請求項
1に記載の半導体記憶装置。
2. The method according to claim 1, wherein the first memory cell array includes:
The address that is not accessed when there is no defect and that is accessed in row or column units when a defect occurs is
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the address is the address of a memory cell in the first memory cell array where a defect is likely to occur.
【請求項3】 前記不良が発生しやすいメモリセルのア
ドレスは、前記第1のメモリセルアレイの端部に位置す
るメモリセルのアドレスであることを特徴とする請求項
2に記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the address of the memory cell in which the defect is likely to occur is an address of a memory cell located at an end of the first memory cell array.
【請求項4】 前記第1のメモリセルアレイはノーマル
メモリセルアレイであり、前記第2のメモリセルアレイ
はリダンダンシー用のスペアメモリセルアレイであるこ
とを特徴とする請求項1乃至3いずれか1つの項に記載
の半導体記憶装置。
4. The device according to claim 1, wherein the first memory cell array is a normal memory cell array, and the second memory cell array is a spare memory cell array for redundancy. Semiconductor storage device.
【請求項5】 第1のメモリセルアレイの一部に、不良
が存在しない時にはアクセスされず、不良が発生した時
に行または列の単位でアクセスされるアドレスを割り付
け、且つこの第1のメモリセルアレイの1行または1列
に設けられたメモリセルと同じ数の1行または1列のメ
モリセルを有し、前記第1のメモリセルよりも記憶容量
が小さい第2のメモリセルアレイに、前記第1のメモリ
セルアレイの一部に割り付けられた、不良が存在しない
時にはアクセスされず、不良が発生した時に行または列
の単位でアクセスされるメモリセルに対応するアドレス
を不良が存在しない時にアクセスされるアドレスとして
割り付け、 不良が存在しない時には前記第1のメモリセルアレイに
おける不良が存在しない時にはアクセスされず、不良が
発生した時に行または列の単位でアクセスされるアドレ
スを除くアドレスのメモリセルと前記第2のメモリセル
アレイの各アドレスのメモリセルとをアクセスし、 前記第1のメモリセルアレイ中のメモリセルに不良が発
生した時に、前記第2のメモリセルアレイ中のメモリセ
ルに行または列の単位で置換し、且つ当該置換される第
2のメモリセルアレイ中のメモリセルに割り付けられて
いたアドレスを前記第1のメモリセルアレイ中の前記不
良が存在しない時にはアクセスされず、不良が発生した
ときに行または列の単位でアクセスされるアドレスのメ
モリセルに行または列の単位で置換することを特徴とす
る半導体記憶装置のアドレス割り付け方法。
5. A portion of the first memory cell array which is not accessed when a defect does not exist, is assigned an address to be accessed in a unit of row or column when a defect occurs, and is assigned to the first memory cell array. The second memory cell array, which has the same number of memory cells as one row or one column and one row or one column, and has a smaller storage capacity than the first memory cell, The address assigned to a part of the memory cell array is not accessed when there is no defect, and the address corresponding to the memory cell accessed in row or column units when the defect occurs is the address accessed when there is no defect When there is no defect, there is no access when there is no defect in the first memory cell array. A memory cell at an address other than an address accessed at a row or column unit and a memory cell at each address in the second memory cell array are accessed, and a failure occurs in a memory cell in the first memory cell array. Sometimes, the memory cells in the second memory cell array are replaced in units of rows or columns, and the addresses assigned to the replaced memory cells in the second memory cell array are stored in the first memory cell array. Address assignment in a semiconductor memory device, wherein a memory cell at an address accessed in a row or column unit is replaced in a row or column unit when a defect occurs, when the defect does not exist. Method.
【請求項6】 前記第1のメモリセルアレイはノーマル
メモリセルアレイであり、前記第2のメモリセルアレイ
はリダンダンシー用のスペアメモリセルアレイであるこ
とを特徴とする請求項5に記載の半導体記憶装置のアド
レス割り付け方法。
6. The address assignment of the semiconductor memory device according to claim 5, wherein said first memory cell array is a normal memory cell array, and said second memory cell array is a spare memory cell array for redundancy. Method.
JP11075715A 1999-03-19 1999-03-19 Semiconductor memory and its address allotting method Withdrawn JP2000268597A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11075715A JP2000268597A (en) 1999-03-19 1999-03-19 Semiconductor memory and its address allotting method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11075715A JP2000268597A (en) 1999-03-19 1999-03-19 Semiconductor memory and its address allotting method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000268597A true JP2000268597A (en) 2000-09-29

Family

ID=13584234

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11075715A Withdrawn JP2000268597A (en) 1999-03-19 1999-03-19 Semiconductor memory and its address allotting method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000268597A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0313040B1 (en) Erasable programmable read only memory device
US7286399B2 (en) Dedicated redundancy circuits for different operations in a flash memory device
US6269035B1 (en) Circuit and method for a multiplexed redundancy scheme in a memory device
JPH03162799A (en) Semiconductor storage device having redundant constitution
JP3841535B2 (en) Semiconductor memory device
JPH05166396A (en) Semiconductor memory device
JPH0817197A (en) Semiconductor storage
JPH1040694A (en) Semiconductor memory circuit
KR20010049472A (en) Memory device with global redundancy
JPH0734314B2 (en) Semiconductor memory device
JP5612244B2 (en) Semiconductor device and refresh method
JP2981346B2 (en) Read-only semiconductor memory device
JP4554755B2 (en) Method and apparatus for sharing redundant circuits between memory arrays in a semiconductor memory device
US6552939B1 (en) Semiconductor memory device having disturb test circuit
US6618299B2 (en) Semiconductor memory device with redundancy
JPH1173792A (en) Semiconductor memory device
US6330198B1 (en) Semiconductor storage device
JPH01125799A (en) Semiconductor memory device
JP2002133893A (en) Semiconductor memory
KR20100122606A (en) Semiconductor memory device
JP2848451B2 (en) Semiconductor memory
JP2000268597A (en) Semiconductor memory and its address allotting method
JP3817409B2 (en) Integrated memory
KR100396967B1 (en) Semiconductor memory with memory bank
JPS58137191A (en) Semiconductor memory

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060606