JP2000264780A - Melting detection method and detector for use in semiconductor single crystal pulling device - Google Patents

Melting detection method and detector for use in semiconductor single crystal pulling device

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JP2000264780A
JP2000264780A JP11075154A JP7515499A JP2000264780A JP 2000264780 A JP2000264780 A JP 2000264780A JP 11075154 A JP11075154 A JP 11075154A JP 7515499 A JP7515499 A JP 7515499A JP 2000264780 A JP2000264780 A JP 2000264780A
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JP
Japan
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melting
crucible
black
single crystal
white
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JP11075154A
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Japanese (ja)
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Yuichi Kanai
裕一 金井
Hiroyuki Miura
博幸 三浦
Yasuyuki Iwata
康幸 岩田
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Coorstek KK
Original Assignee
Toshiba Ceramics Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for detecting the melting of a semiconductor raw material, which enables automatic detection of the completion of melting of the semiconductor raw material and the completion of remelting of a silicon ingot, in a melting stage performed in a semiconductor pulling-up device, also reduction in operator load and further automation of the shift operation from the melting stage to a pulling stage, and also to provide a detector for the method. SOLUTION: The melting detector 2 for detecting the melting of a semiconductor raw material 108 (or silicon ingot), for use in a semiconductor pulling device 1, consists of: a two-dimensional CCD(charge coupled device) camera 201 for photographing the inside of a crucible 102; and a picture processor 202 for converting the photographed picture by the CCD camera 201 into a black- and -while binary picture, counting the number of black or white pixels inside the crucible 102 in the converted binary picture and detecting the completion of melting of the semiconductor raw material 108 in the crucible 102 from the counted number of black or white pixels.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体単結晶引き
上げ装置における溶融検知方法とその装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for detecting melting in a semiconductor single crystal pulling apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体の単結晶引上げ装置、例えばCZ
法を利用したシリコン単結晶引き上げ装置では、小片に
砕いた棒状多結晶シリコンを石英ガラス製のるつぼ内に
投入して溶融させた後(メルト工程)、シリコン融液面
に結晶成長の核となる種結晶(シード)をワイヤで吊る
して浸し、種結晶をゆっくりと回転させながら引き上げ
ていくこと(引上げ工程)により、種結晶の先端から単
結晶シリコンを成長させていくようにしている。このよ
うに、種結晶の先端から単結晶シリコンを成長させてい
くには、前記したメルト工程において、るつぼ内に投入
した棒状多結晶シリコンなどの半導体原料が完全に溶融
したことを確認する必要がある。従来、このメルト工程
における半導体原料の溶融完了の確認は、作業者が覗き
窓からるつぼ内を覗くことによって目視で行なってい
た。
2. Description of the Related Art Semiconductor single crystal pulling apparatus, for example, CZ
In a silicon single crystal pulling apparatus using the method, rod-shaped polycrystalline silicon crushed into small pieces is put into a crucible made of quartz glass and melted (melt process), and becomes a nucleus of crystal growth on the silicon melt surface. The seed crystal (seed) is suspended and immersed in a wire, and the seed crystal is pulled up while slowly rotating (pulling step), so that single-crystal silicon is grown from the tip of the seed crystal. As described above, in order to grow single-crystal silicon from the tip of the seed crystal, it is necessary to confirm that the semiconductor material such as rod-shaped polycrystalline silicon charged into the crucible has been completely melted in the above-described melting step. is there. Conventionally, the completion of the melting of the semiconductor material in the melt process has been confirmed visually by an operator looking into the crucible from a viewing window.

【0003】また、単結晶引上げ工程において結晶が単
結晶から多結晶に変化した場合、引上げたインゴットを
再溶融させ、再度引き上げを行うことがある。この場合
においても、前記した場合と同様、一旦引上げられたイ
ンゴットが完全に溶融したことを確認する必要がある。
従来、このインゴットの再溶融完了の確認は、作業者が
覗き窓からるつぼ内を覗くことによって目視で行なって
いた。
[0003] When a crystal is changed from a single crystal to a polycrystal in the single crystal pulling step, the pulled ingot may be re-melted and pulled again. In this case as well, it is necessary to confirm that the ingot once pulled has completely melted, as in the case described above.
Conventionally, the completion of remelting of the ingot has been visually checked by an operator looking into the crucible from a viewing window.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体原料
あるいはまたインゴットが完全に溶融するまでにはかな
りの時間がかかるため、目視による確認の場合、作業者
は一定時間毎に繰り返し監視を行なう必要があった。こ
のため、作業者の負担が大きくなるとともに、作業者に
よる溶融完了の判断がばらつき、自動化が困難であっ
た。また、監視のタイミングが合わないと、溶融が完了
しているにもかかわらず作業者が気づかず、スループッ
トの低下、電力量の増大、部材の劣化などを引き起こ
す。
By the way, since it takes a considerable amount of time until the semiconductor raw material or the ingot is completely melted, it is necessary for an operator to repeatedly monitor at regular intervals in the case of visual confirmation. there were. For this reason, the burden on the operator is increased, and the judgment of the completion of melting by the operator varies, which makes automation difficult. Further, if the monitoring timing does not match, the worker does not notice even though the melting is completed, which causes a decrease in throughput, an increase in the amount of power, a deterioration of members, and the like.

【0005】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたもので、半導体単結晶引上げ装置のメルト
工程における半導体原料の溶融完了を自動的に検出する
ことができ、作業者の負担を軽減できるとともに、メル
ト工程から引上げ工程への移行を自動化することが可能
な半導体単結晶引き上げ装置における溶融検知方法とそ
の装置を提供することを目的とする。また、本発明は、
インゴットの再溶融完了を自動的に検出することがで
き、作業者の負担を軽減できるとともに、再引上げ工程
への移行を自動化することが可能な半導体単結晶引き上
げ装置における溶融検知方法とその装置を提供すること
を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and can automatically detect the completion of melting of a semiconductor material in a melt process of a semiconductor single crystal pulling apparatus, thereby imposing a burden on an operator. It is an object of the present invention to provide a method for detecting melting in a semiconductor single crystal pulling apparatus and an apparatus thereof, which can reduce the number of steps and can automate the transition from the melt step to the pulling step. Also, the present invention
A method and apparatus for detecting the melting of a semiconductor single crystal pulling apparatus capable of automatically detecting the completion of remelting of an ingot, reducing the burden on the operator, and automating the transition to the repulling step. The purpose is to provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の溶融検出方法は、るつぼ内を撮像手段によ
って撮影し、該撮影画像を白黒の2値画像に変換した
後、該変換した2値画像中のるつぼ内の白画素または黒
画素の数を計数し、該計数した白画素または黒画素の数
からるつぼ内の半導体原料の溶融完了を検出するように
したものである。
In order to achieve the above object, a melting detection method according to the present invention takes an image of the inside of a crucible by an imaging means, converts the captured image into a black-and-white binary image, and then converts the image. The number of white or black pixels in a crucible in a binary image is counted, and the completion of melting of the semiconductor material in the crucible is detected from the counted number of white or black pixels.

【0007】このような構成とした場合、半導体単結晶
引上げ装置のメルト工程における半導体原料の溶融完了
を画像処理によって自動的に検出することができる。こ
のため、作業者による目視監視を不要とすることができ
る。
With this configuration, the completion of the melting of the semiconductor raw material in the melt process of the semiconductor single crystal pulling apparatus can be automatically detected by image processing. For this reason, visual monitoring by the operator can be eliminated.

【0008】また、本発明の溶融検知装置は、るつぼ内
を撮影する撮像手段と、該撮像手段で撮影した撮影画像
を白黒の2値画像に変換し、該変換した2値画像中のる
つぼ内の白画素または黒画素の数を計数し、該計数した
白画素または黒画素の数からるつぼ内の半導体原料の溶
融完了を検出する画像処理装置とを備えることにより構
成したものである。
[0008] Further, the melting detection device of the present invention comprises an image pickup means for photographing the inside of the crucible, an image taken by the image pickup means being converted into a black-and-white binary image, and And an image processing device for counting the number of white pixels or black pixels and detecting the completion of melting of the semiconductor raw material in the crucible from the counted number of white pixels or black pixels.

【0009】このような構成とした場合、半導体単結晶
引上げ装置のメルト工程における半導体原料の溶融完了
を画像処理によって自動的に検出することができ、作業
者の負担を軽減し、メルト工程から引上げ工程への移行
を自動化することが可能な半導体原料の溶融検知装置を
得ることができる。
With this configuration, the completion of the melting of the semiconductor material in the melt process of the semiconductor single crystal pulling apparatus can be automatically detected by image processing, so that the burden on the operator can be reduced and the pulling up from the melt process can be performed. It is possible to obtain a semiconductor raw material melting detector capable of automating the transition to the process.

【0010】また、本発明の溶融検知方法は、るつぼ内
のインゴットの所定位置に、あるいはまたインゴットと
その近辺の半導体融液面の両方を含む所定の位置に予め
溶融検知のための監視エリアを設定し、該監視エリアを
撮像手段によって撮影し、該監視エリアの撮影画像を白
黒の2値画像に変換した後、該変換した2値画像を用い
て監視エリア内の白画素または黒画素の数を計数し、該
計数した白画素または黒画素の数の変化からインゴット
の溶融完了を検出するようにしたものである。
Further, according to the melting detection method of the present invention, a monitoring area for melting detection is previously set at a predetermined position of the ingot in the crucible or at a predetermined position including both the ingot and the semiconductor melt surface near the ingot. After setting, the monitoring area is photographed by the imaging means, the photographed image of the monitoring area is converted into a black and white binary image, and the number of white pixels or black pixels in the monitoring area is calculated using the converted binary image. Is counted, and the completion of melting of the ingot is detected from a change in the counted number of white pixels or black pixels.

【0011】このような構成とした場合、インゴットの
再溶融完了を画像処理によって自動的に検出することが
できる。このため、作業者による目視監視を不要とする
ことができる。
With this configuration, completion of remelting of the ingot can be automatically detected by image processing. For this reason, visual monitoring by the operator can be eliminated.

【0012】また、本発明の溶融検知装置は、るつぼ内
のインゴットの所定の位置に、あるいはまたインゴット
とその近辺の半導体融液面の両方を含む所定の位置に予
め設定した溶融検知のための監視エリアを撮影する撮像
手段と、該撮像手段で撮影した撮影画像を白黒の2値画
像に変換し、該変換した2値画像における監視エリア内
の白画素または黒画素の数を計数し、該計数した白画素
または黒画素の数の変化からインゴットの溶融完了を検
出する画像処理装置とを備えることにより構成されたも
のである。
Further, the melting detecting apparatus of the present invention is provided for detecting a melting preset at a predetermined position of an ingot in a crucible or at a predetermined position including both an ingot and a semiconductor melt surface near the ingot. An imaging unit that captures an image of a monitoring area; and a captured image captured by the imaging unit is converted into a black-and-white binary image, and the number of white pixels or black pixels in the monitoring area in the converted binary image is counted. And an image processing device for detecting the completion of melting of the ingot from the change in the counted number of white pixels or black pixels.

【0013】このような構成とした場合、インゴットの
再溶融完了を画像処理によって動的に検出することがで
き、作業者の負担を軽減し、引上げ工程への移行を自動
化することが可能なインゴットの溶融検知装置を得るこ
とができる。
With such a configuration, the completion of the remelting of the ingot can be dynamically detected by image processing, so that the burden on the operator can be reduced and the transition to the pulling process can be automated. Can be obtained.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。まず、半導体原料の溶融を検
知する溶融検知装置及び検知方法にかかる実施形態につ
いて、図1および図2に基づいて説明する。ここで、図
1は本発明になる半導体原料の溶融検知装置を付設した
CZ式シリコン単結晶引き上げ装置の全体構成図、図2
は図1中の画像処理装置の回路例を示す図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, an embodiment of a melting detection device and a detection method for detecting the melting of a semiconductor raw material will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 1 is an overall structural view of a CZ type silicon single crystal pulling apparatus provided with a semiconductor raw material melting detecting apparatus according to the present invention, and FIG.
FIG. 2 is a diagram illustrating a circuit example of the image processing apparatus in FIG. 1.

【0015】図1において、1はCZ式シリコン単結晶
引き上げ装置(以下、「単結晶引き上げ装置」と略
称)、2は本発明になる半導体原料の溶融検知装置(以
下、「溶融検知装置」と略称)、3は種結晶である。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a CZ type silicon single crystal pulling apparatus (hereinafter abbreviated as "single crystal pulling apparatus"), and 2 denotes a semiconductor material melting detecting apparatus (hereinafter, "melting detecting apparatus") according to the present invention. (Abbreviation) 3 is a seed crystal.

【0016】単結晶引き上げ装置1は、黒鉛製ヒータ1
01などで加熱される石英ガラス製のるつぼ102を備
えている。このるつぼ102は黒鉛製るつぼ120でそ
の外周部が支持されており、下部に連結された回転軸1
21によって、回転自在に支持されている。そしてこの
るつぼ102の周囲は真空容器103で囲まれている。
この真空容器103の首部上端には、モータや巻き上げ
ドラムなどで構成された結晶回転・昇降機構104が設
置されている。結晶成長の核となる種結晶3は、この結
晶回転・昇降機構104につながれたステンレスまたは
モリブデン製のワイヤ105の先端に、シードチャック
などで把持されて吊り下げられており、種結晶回転・昇
降機構104によって回転・昇降自在に構成されてい
る。
The single crystal pulling apparatus 1 includes a graphite heater 1.
The crucible 102 made of quartz glass is heated by the temperature of 01 or the like. The outer periphery of the crucible 102 is supported by a graphite crucible 120 and the rotating shaft 1
21 rotatably supported. The crucible 102 is surrounded by a vacuum vessel 103.
At the upper end of the neck of the vacuum vessel 103, a crystal rotating / elevating mechanism 104 composed of a motor, a hoisting drum and the like is installed. The seed crystal 3 serving as a nucleus for crystal growth is suspended by being held by a seed chuck or the like at the tip of a wire 105 made of stainless steel or molybdenum connected to the crystal rotating / elevating mechanism 104. The mechanism 104 is configured to be rotatable and vertically movable.

【0017】また、るつぼ102は、るつぼ回転・昇降
機構106上に設置されており、るつぼ全体を自在に回
転・昇降できるように構成されている。真空容器103
の肩部には透明な石英ガラス製の覗き窓107が設けら
れており、この窓部分に、後述する2次元CCDカメラ
201がるつぼ102内に向けて設置されている。な
お、108はるつぼ102内に投入された半導体原料と
してのシリコン塊、109は溶融したシリコンの融液面
である。
The crucible 102 is provided on a crucible rotating / elevating mechanism 106, and is configured to freely rotate / elevate the entire crucible. Vacuum vessel 103
A transparent viewing window 107 made of quartz glass is provided at the shoulder of the camera, and a two-dimensional CCD camera 201, which will be described later, is installed toward the inside of the crucible 102 in this window portion. Reference numeral 108 denotes a silicon lump as a semiconductor raw material put into the crucible 102, and reference numeral 109 denotes a melt surface of the molten silicon.

【0018】溶融検知装置2は、覗き窓107からるつ
ぼ102内のシリコン塊108とシリコン融液面109
を撮影する2次元CCDカメラ(撮像手段)201と、
シリコン塊108の溶融状態を画像処理によって検知す
るための画像処理装置202と、モニタテレビ203、
報知手段としてのブザー204や表示灯205から構成
されている。
The melting detector 2 is provided with a silicon lump 108 in the crucible 102 and a silicon melt surface 109 through the viewing window 107.
Two-dimensional CCD camera (imaging means) 201 for photographing
An image processing device 202 for detecting the molten state of the silicon lump 108 by image processing, a monitor television 203,
It comprises a buzzer 204 and an indicator light 205 as a notification means.

【0019】画像処理装置202は、図2にその回路例
を示すように、2次元CCDカメラ201によって撮影
された画像を白黒の2値画像に変換する2値画像変換部
206と、該変換された2値画像中のるつぼ内の黒画素
の数を計数する黒画素計数部207と、該計数された黒
画素の数が予め設定した比較基準値より小さくなった時
にシリコン塊108の完全溶融として判定する溶融判定
部208と、該溶融判定部208の判定結果に従って溶
融完了の検知信号を出力する信号出力部209とから構
成されている。なお、この画像処理装置202は、パー
ソナルコンピュータなどを用いてブログラム上でソフト
ウェア的に構成してもよいし、専用のハードウェア回路
によって構成してもよいものである。
As shown in FIG. 2, the image processing apparatus 202 includes a binary image converter 206 for converting an image captured by the two-dimensional CCD camera 201 into a black and white binary image. A black pixel counting unit 207 for counting the number of black pixels in the crucible in the binary image, and as a complete melting of the silicon block 108 when the counted number of black pixels becomes smaller than a preset comparison reference value. It comprises a melting judgment unit 208 for judging, and a signal output unit 209 for outputting a detection signal of the completion of melting in accordance with the judgment result of the melting judgment unit 208. The image processing apparatus 202 may be configured as software on a program using a personal computer or the like, or may be configured as a dedicated hardware circuit.

【0020】まず最初に、本発明の溶融検知装置2によ
る溶融検知動作の詳細を説明する前に、単結晶引き上げ
装置1のメルト工程およびこれに続く単結晶の引上げ工
程について簡単に説明する。
First, before describing the details of the melting detecting operation by the melting detecting device 2 of the present invention, the melt process of the single crystal pulling device 1 and the subsequent single crystal pulling process will be briefly described.

【0021】原料となる棒状多結晶シリコンはブロック
状に砕かれ、シリコン塊108となってるつぼ102内
に投入され、黒鉛製ヒータ101などで加熱することに
より溶融される(メルト工程)。一方、種結晶3はワイ
ヤ105の先端に図示を略したシードチャックなどで把
持され、るつぼ102の中心上方に吊り下げられる。そ
して、シリコン塊108が完全に溶融すると、シード、
ネック、ボディの各工程からなる単結晶の引上げ工程へ
と移行する。
The rod-shaped polycrystalline silicon as a raw material is crushed into blocks, put into a crucible 102 in the form of a silicon lump 108, and melted by heating with a graphite heater 101 or the like (melt process). On the other hand, the seed crystal 3 is held at the tip of the wire 105 by a seed chuck (not shown) or the like, and is suspended above the center of the crucible 102. Then, when the silicon mass 108 is completely melted, the seed,
The process shifts to the single crystal pulling process consisting of the neck and body processes.

【0022】すなわち、処理が単結晶の引上げ工程へ移
行すると、結晶回転・昇降機構104によってワイヤ1
05が下方へ向かって降ろされ、ワイヤ105の先端に
吊り下げられた種結晶3の先端がるつぼ102内のシリ
コン融液109に浸けられるとともに、結晶回転・昇降
機構104とるつぼ回転・昇降機構106は所定の駆動
が開始され、種結晶とるつぼ102は互いに反対方向に
向かって所定の速度でゆっくりと回転されながら引き上
げが開始される(シード工程)。これによって、種結晶
3の先端から単結晶の成長が始まる。
That is, when the processing shifts to the single crystal pulling step, the wire 1
05 is lowered downward, the tip of the seed crystal 3 suspended from the tip of the wire 105 is immersed in the silicon melt 109 in the crucible 102, and the crystal rotation / elevation mechanism 104 and the crucible rotation / elevation mechanism 106 A predetermined driving is started, and the seed crystal and the crucible 102 are slowly rotated at a predetermined speed in opposite directions to each other, and the pulling is started (seed step). Thus, the growth of the single crystal starts from the tip of the seed crystal 3.

【0023】種結晶3の先端から単結晶がある程度成長
した時点で、単結晶の無転位化を図るために処理はシー
ド工程からネック工程へ移行し、成長する結晶の径を細
く絞りながら引き上げていく。そして、細径で所定の距
離引き上げた後、製品となる大径の単結晶を安定に成長
させるためのボディ工程へと移行し、大径に成長した単
結晶のインゴットをゆっくりと引き上げていくことによ
り、シリコン単結晶を製造するものでる。この溶融検知
装置2は、上記したシリコン塊108を溶融するメルト
工程において、シリコン塊の溶融状態を常時監視し、シ
リコン塊が完全に溶融したことを自動的に検出して知ら
せるものでる。
At the point when the single crystal has grown to some extent from the tip of the seed crystal 3, the process shifts from the seed step to the neck step in order to eliminate dislocation of the single crystal, and pulls up while narrowing the diameter of the growing crystal. Go. Then, after pulling up a predetermined distance with a small diameter, shift to a body process for stably growing a large diameter single crystal as a product, and slowly pull up a large diameter single crystal ingot. Thus, a silicon single crystal is manufactured. The melting detecting device 2 constantly monitors the melting state of the silicon lump in the above-described melting step of melting the silicon lump 108, and automatically detects and informs that the silicon lump has completely melted.

【0024】次に、前記溶融検知装置2の動作につい
て、図3を参照して説明する。2次元CCDカメラ20
1は、覗き窓107からるつぼ102内のシリコン塊1
08とシリコン融液面109を撮影し、図3に示すよう
な撮影画像を画像処理装置202に送る。
Next, the operation of the melting detecting device 2 will be described with reference to FIG. Two-dimensional CCD camera 20
1 is a silicon lump 1 in the crucible 102 from the viewing window 107.
08 and the silicon melt surface 109 are photographed, and a photographed image as shown in FIG.

【0025】画像処理装置202の2値画像変換部20
6は、2次元CCDカメラ201から送られてきた図3
のような撮影画像信号をデジタル信号に変換した後、所
定のスレッショルドレベル(しきい値)で白黒の2値画
像に変換する。白黒の2値画像に変換された撮影画像
は、モニタテレビ203に送られて画面に映し出される
とともに、黒画素計数部207に送られる。
The binary image converter 20 of the image processing device 202
6 is a diagram of FIG. 3 sent from the two-dimensional CCD camera 201.
Is converted into a digital signal, and then converted into a black and white binary image at a predetermined threshold level (threshold). The captured image converted to a black-and-white binary image is sent to the monitor television 203 and displayed on the screen, and is also sent to the black pixel counting unit 207.

【0026】図3に示すようにシリコン塊108は、い
まだ溶けていないかあるいは溶ける途中にある時は温度
が低いため、画面上では黒っぽく写る。一方、完全に溶
融したシリコンは温度の高い液体となるため、るつぼ1
02内のシリコン融液面109は、画面上では白っぽく
明るく輝いて写る。したがって、図3の撮影画像を適当
なスレッショルドレベル(しきい値)で白黒に2値化す
れば、シリコン塊108部分を黒画素に、また、シリコ
ン融液面109部分を白画素に2値変換することができ
る。
As shown in FIG. 3, when the silicon mass 108 has not yet been melted or is in the process of being melted, the temperature thereof is low, so that the silicon mass 108 appears black on the screen. On the other hand, since completely melted silicon becomes a high temperature liquid, the crucible 1
The silicon melt surface 109 in 02 is brightly whitish and bright on the screen. Therefore, if the photographed image in FIG. 3 is binarized into black and white at an appropriate threshold level (threshold), the silicon mass 108 is converted into black pixels and the silicon melt surface 109 is converted into white pixels. can do.

【0027】黒画素計数部207は、前記2値画像変換
部206から送られてくる白黒の2値画像中のるつぼ1
02内の黒画素の数m(シリコン塊108の面積に相
当)を計数し、溶融判定部208に送る。なお、シリコ
ン融液面109の揺らぎによる反射の影響を避けるた
め、一定時間連続して同じ位置に存在する黒画素のみを
シリコン塊108であると判断するように処理すること
が望ましい。
The black pixel counting unit 207 is used to detect the crucible 1 in the black and white binary image sent from the binary image conversion unit 206.
The number m of black pixels in 02 (corresponding to the area of the silicon block 108) is counted and sent to the melting determination unit 208. Note that, in order to avoid the influence of the reflection due to the fluctuation of the silicon melt surface 109, it is preferable to perform processing so that only the black pixels existing at the same position continuously for a certain period of time are determined to be the silicon mass 108.

【0028】溶融判定部208は、黒画素計数部207
から送られてくる黒画素数mを、予め設定しておいた比
較基準値Sと比較する。そして、黒画素数mが比較基準
値Sよりも小さくなった時にシリコン塊108の溶融が
完了したものと判定し、その判定結果を信号出力部20
9に送る。
The melting judging section 208 includes a black pixel counting section 207.
Is compared with a comparison reference value S set in advance. Then, when the number m of black pixels becomes smaller than the comparison reference value S, it is determined that the melting of the silicon block 108 has been completed, and the determination result is output to the signal output unit 20.
Send to 9.

【0029】すなわち、シリコン塊108が完全に溶融
すると、るつぼ102内はすべてシリコン融液面109
で覆われ、異物などを除いて黒画素はほとんど存在しな
くなり、白画素のみとなる。そこで、比較基準値Sを異
物混入などやシリコン融液面109の揺らぎに誤差など
を見込んだ所定の値に設定しておけば、るつぼ102内
のシリコン塊108が完全に溶融したことを検知するこ
とができる。
That is, when the silicon mass 108 is completely melted, the inside of the crucible 102 is entirely filled with the silicon melt surface 109.
, And there is almost no black pixel except for foreign matter, and there is only a white pixel. Therefore, if the comparison reference value S is set to a predetermined value in consideration of foreign matter mixing or an error in fluctuation of the silicon melt surface 109, it is detected that the silicon mass 108 in the crucible 102 has completely melted. be able to.

【0030】信号出力部209は、溶融判定部208か
ら送られてくる判定結果に従って検知信号を出力し、例
えば、ブザー204を鳴らしたり、表示灯205を点灯
したりして、シリコン塊108が完全に溶融したことを
作業者に知らせる。また、必要に応じて、この検知信号
を単結晶引き上げ装置1の引き上げ制御装置(図示せ
ず)などに送り、結晶回転・昇降機構104やるつぼ回
転・昇降機構106の動作を制御し、単結晶の引上げ工
程へと自動移行する。
The signal output unit 209 outputs a detection signal according to the determination result sent from the melting determination unit 208. For example, the buzzer 204 sounds, the indicator lamp 205 is turned on, and the silicon block 108 is completely Notify the worker that it has melted. If necessary, the detection signal is sent to a pulling control device (not shown) of the single crystal pulling apparatus 1 to control the operation of the crystal rotating / elevating mechanism 104 and the crucible rotating / elevating mechanism 106, and Automatically shifts to the lifting process.

【0031】上述したように、上記実施の形態にかかる
溶融検知装置2による場合、るつぼ102内のシリコン
塊108の完全溶融を自動的に検出することができる。
このため、作業者の目視による監視が不要となり、作業
者の負担を軽減することができる。また、監視タイミン
グが合わなかったりするようなことがなくなり、直ちに
単結晶の引上げ工程へ移行することができるので、スル
ープットの低下、電力量の増大、部材の劣化などを防止
することができる。
As described above, in the case of using the melting detecting device 2 according to the above embodiment, the complete melting of the silicon lump 108 in the crucible 102 can be automatically detected.
For this reason, the visual monitoring of the worker becomes unnecessary, and the burden on the worker can be reduced. In addition, since the monitoring timing does not become inconsistent, the process can be immediately shifted to the single crystal pulling process, so that a decrease in throughput, an increase in power consumption, deterioration of members, and the like can be prevented.

【0032】また、シリコン塊108の溶融時に、るつ
ぼ102がるつぼ回転・昇降機構106によってゆっく
りと回転されているような場合には、図4に示すよう
に、その回転位置に出現する黒い部分をシリコン塊10
8として判断するように処理すればよい。
When the crucible 102 is slowly rotated by the crucible rotating / elevating mechanism 106 when the silicon lump 108 is melted, as shown in FIG. Silicon lump 10
What is necessary is just to process so that it may be judged as 8.

【0033】次に第2の実施形態について説明する。こ
の第2の実施形態にあっては、一度引上げられたインゴ
ットの再溶融を検知する溶融検知装置及び検知方法につ
いて説明する。この第2の実施形態の溶融検知装置及び
検知方法は、基本的には、第1の実施形態と同一な構成
を備えているが、第2の実施形態では、るつぼ内のイン
ゴットの所定の位置、あるいはまたインゴットとその近
辺の半導体融液面の両方を含む所定の位置に予め溶融検
知のための監視エリアを設定し、該監視エリアを撮像手
段によって撮影し、監視エリア内の白画素または黒画素
の数を計数し、該計数した白画素または黒画素の数から
インゴットの再溶融完了を検出する点に特徴がある。
Next, a second embodiment will be described. In the second embodiment, a description will be given of a melting detection device and a detection method for detecting re-melting of an ingot once pulled up. The melting detection device and the detection method according to the second embodiment basically have the same configuration as the first embodiment, but in the second embodiment, a predetermined position of the ingot in the crucible is set. Alternatively, a monitoring area for melting detection is set in advance at a predetermined position including both the ingot and the semiconductor melt surface in the vicinity of the ingot, and the monitoring area is photographed by the imaging means, and white pixels or black pixels in the monitoring area are set. It is characterized in that the number of pixels is counted and the completion of remelting of the ingot is detected from the counted number of white pixels or black pixels.

【0034】次に、この溶融検知装置2の動作につい
て、図5および図6を参照して説明する。図5はインゴ
ットの溶融を監視するための監視エリアの説明図、図4
は監視エリア内のインゴットとシリコン融液面の白黒の
2値画像の例を示す図である。
Next, the operation of the melting detecting device 2 will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is an explanatory view of a monitoring area for monitoring melting of the ingot, FIG.
FIG. 3 is a diagram showing an example of a black and white binary image of an ingot and a silicon melt surface in a monitoring area.

【0035】まず、2次元CCDカメラ201によって
撮影する監視エリア111を設定し、監視エリア111
を撮影できる位置に2次元CCDカメラ201を配置す
る。その他の構成は、第1の実施形態における溶融検知
装置2と同一である。そして、予め設定しておいた監視
のための監視エリア4を含むるつぼ内の一定範囲を覗き
窓107から2次元CCDカメラ201によって撮影
し、該撮影画像を画像処理装置202に送る。なお、こ
の実施の形態の場合、監視エリア111は、インゴット
110の右側縁部と、この右側縁部近辺のシリコン融液
面109とが同一画面内に同時に入るような位置に設定
されている。
First, a monitoring area 111 to be photographed by the two-dimensional CCD camera 201 is set.
The two-dimensional CCD camera 201 is arranged at a position where an image can be taken. Other configurations are the same as those of the melting detection device 2 in the first embodiment. Then, a predetermined range in the crucible including the monitoring area 4 for monitoring set in advance is photographed from the viewing window 107 by the two-dimensional CCD camera 201, and the photographed image is sent to the image processing device 202. In the case of this embodiment, the monitoring area 111 is set at a position where the right edge of the ingot 110 and the silicon melt surface 109 near the right edge simultaneously enter the same screen.

【0036】画像処理装置202の2値画像変換部20
6は、2次元CCDカメラ201から送られてくる撮影
画像信号をデジタル信号に変換した後、所定のスレッシ
ョルドレベル(しきい値)で白黒の2値画像に変換す
る。白黒の2値画像に変換された撮影画像は、モニタテ
レビ203におくられて画面に映し出されるとともに、
黒画素計数部207に送られる。
The binary image converter 20 of the image processing device 202
6 converts the captured image signal sent from the two-dimensional CCD camera 201 into a digital signal, and then converts it into a monochrome binary image at a predetermined threshold level (threshold). The captured image converted to the black and white binary image is sent to the monitor TV 203 and displayed on the screen,
It is sent to the black pixel counting unit 207.

【0037】黒画素計数部207は、この送られてきた
白黒の2値画像中から前記した監視エリア4内に存在す
る黒画素の数m(インゴット110の面積に相当)を計
数し、溶融判定部208に送る。溶融判定部208は、
この計数された画素数mが予め設定した比較基準となる
画素数より小さくなったか否かを監視し、比較基準値か
ら小さくなった時にインゴット110の溶融が発生した
ものと判定する。
The black pixel counting unit 207 counts the number m (corresponding to the area of the ingot 110) of black pixels existing in the monitoring area 4 from the transmitted black and white binary image, and determines whether or not the image is fused. To the unit 208. The melting determination unit 208
It is monitored whether or not the counted number m of pixels is smaller than a preset reference number of pixels, and when it is smaller than the comparison reference value, it is determined that the ingot 110 has melted.

【0038】すなわち、本発明の溶融検知装置2では、
再溶融(メルトバック)中のインゴットは黒色に変換さ
せて表示し、溶け終わると黒色部がシリコン融液面10
9と同じ白色に変わり、画面全体が白色になる。したが
って、黒画素計数部207の黒画素計数値mが0になっ
たか否かを監視すれば、メルトバックの完了を自動的に
知ることができる。さらに、このようにして得られたメ
ルトバックの完了信号を単結晶引き上げ装置1の引き上
げ制御装置に送り、単結晶の再引き上げを自動で再開さ
せる。
That is, in the melting detecting device 2 of the present invention,
The ingot during re-melting (melt back) is converted to black and displayed.
The color changes to the same white as that of No. 9 and the entire screen becomes white. Therefore, by monitoring whether or not the black pixel count value m of the black pixel counting unit 207 has become 0, the completion of the meltback can be automatically known. Further, the meltback completion signal thus obtained is sent to the pulling control device of the single crystal pulling apparatus 1, and the re-pulling of the single crystal is automatically restarted.

【0039】なお、上記第1、第2の実施形態では、シ
リコン塊108、インゴット110の部分を黒色に、シ
リコン融液面109の部分を白色に2値変換した場合を
例に採ったが、これとは逆に、シリコン塊108、イン
ゴット110の部分を白色に、シリコン融液面109の
部分を黒色に2値変換しても、白黒が逆になるだけで、
上記したと同様にシリコン塊108、インゴット110
の完全溶融を検出することができる。
In the first and second embodiments, the case where the portion of the silicon block 108 and the portion of the ingot 110 are converted to black and the portion of the silicon melt surface 109 is converted to white is taken as an example. Conversely, even if the parts of the silicon mass 108 and the ingot 110 are converted to white and the part of the silicon melt surface 109 is converted to black, only the black and white are reversed.
As described above, the silicon lump 108 and the ingot 110
Can be detected.

【0040】また、単結晶引き上げ装置1の覗き窓10
7に設置した2次元CCDカメラ201を取り外し可能
にし、モニタテレビ203を含む溶融検知装置2全体を
移動自在な運搬用台車などに載せて可搬型装置とすれ
ば、溶融検知装置が付設されていない他の単結晶引き上
げ装置にも共用することができる。さらに、本発明の溶
融検知装置2は、溶融した半導体内に異物が混入してい
る場合の異物検出などにも応用することが可能である。
The viewing window 10 of the single crystal pulling apparatus 1
If the two-dimensional CCD camera 201 installed at 7 is detachable, and the entire melting detection device 2 including the monitor television 203 is mounted on a movable carriage or the like to be a portable device, the melting detection device is not attached. It can be shared with other single crystal pulling devices. Further, the melting detection device 2 of the present invention can be applied to the detection of foreign matter when foreign matter is mixed in a melted semiconductor.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の溶融検知
方法と装置によれば、以下のような優れた効果を奏する
ことができる。 (1) 半導体単結晶引上げ装置のメルト工程における
半導体原料の溶融完了を、またインゴットの再溶融完了
を常時監視して自動検知することが可能となり、作業者
の負担を軽減することできる。 (2) 目視による監視が不要となるので、省人化を図
ることができる。 (3) 半導体原料の溶融完了、インゴットの再溶融完
了を直ちに検知することができるので、メルト工程から
引上げ工程へ直ちに移行することができ、スループット
の低下、電力量の増大、部材の劣化などを防止すること
ができる。
As described above, according to the melting detection method and apparatus of the present invention, the following excellent effects can be obtained. (1) The completion of the melting of the semiconductor raw material in the melt process of the semiconductor single crystal pulling apparatus and the completion of the remelting of the ingot can be constantly monitored and automatically detected, and the burden on the operator can be reduced. (2) Since visual monitoring is not required, labor saving can be achieved. (3) Since the completion of the melting of the semiconductor material and the completion of the remelting of the ingot can be immediately detected, it is possible to immediately shift from the melt process to the pulling process, thereby reducing the throughput, increasing the electric energy, and deteriorating the members. Can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明になる半導体原料の溶融検知装置を付設
したCZ式シリコン単結晶引き上げ装置の全体構成図で
ある。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a CZ type silicon single crystal pulling apparatus provided with a semiconductor raw material melting detection apparatus according to the present invention.

【図2】図1中の画像処理装置の回路例を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram illustrating a circuit example of the image processing device in FIG. 1;

【図3】2次元CCDカメラによるるつぼ内の撮影画像
の例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of an image captured in a crucible by a two-dimensional CCD camera.

【図4】るつぼが回転している場合の撮影画像の例を示
す図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a captured image when the crucible is rotating.

【図5】第2の実施形態にかかる監視エリアを示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram illustrating a monitoring area according to a second embodiment.

【図6】第2の実施形態にかかるインゴットとシリコン
融液面の白黒2値化画像の例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a black-and-white binary image of an ingot and a silicon melt surface according to the second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 CZ式シリコン単結晶引き上げ装置 2 溶融検知装置 3 種結晶 101 ヒータ 102 るつぼ 103 真空容器 104 結晶回転・昇降機構 105 ワイヤ 106 るつぼ回転・昇降機構 107 覗き窓 108 シリコン塊(半導体原料) 109 シリコン融液面 110 インゴット 111 監視エリア 120 黒鉛製るつぼ 121 回転軸 201 2次元CCDカメラ(撮像手段) 202 画像処理装置 203 モニタテレビ 204 ブザー 205 表示灯 206 2値画像変換部 207 黒画素計数部 208 溶融判定部 209 信号出力部 REFERENCE SIGNS LIST 1 CZ type silicon single crystal pulling apparatus 2 melting detector 3 seed crystal 101 heater 102 crucible 103 vacuum vessel 104 crystal rotating / elevating mechanism 105 wire 106 crucible rotating / elevating mechanism 107 viewing window 108 silicon lump (semiconductor material) 109 silicon melt Surface 110 Ingot 111 Monitoring area 120 Graphite crucible 121 Rotating axis 201 Two-dimensional CCD camera (imaging means) 202 Image processing device 203 Monitor television 204 Buzzer 205 Indicator light 206 Binary image conversion unit 207 Black pixel counting unit 208 Melting determination unit 209 Signal output section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩田 康幸 愛知県刈谷市小垣江町南藤1番地 東芝セ ラミックス株式会社刈谷製造所内 Fターム(参考) 4G077 AA02 BA04 CF06 CF10 EH10 PE27  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yasuyuki Iwata No. 1 Minamifuji, Ogakie-cho, Kariya-shi, Aichi F-term in the Toshiba Ceramics Corporation Kariya Works (reference) 4G077 AA02 BA04 CF06 CF10 EH10 PE27

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体単結晶引き上げ装置における溶融
検知方法であって、 るつぼ内を撮像手段によって撮影し、 該撮影画像を白黒の2値画像に変換した後、該変換した
2値画像中のるつぼ内の白画素または黒画素の数を計数
し、 該計数した白画素または黒画素の数からるつぼ内の半導
体原料の溶融完了を検出することを特徴とする半導体単
結晶引き上げ装置における溶融検知方法。
1. A method for detecting melting in a semiconductor single crystal pulling apparatus, comprising: photographing an inside of a crucible by an imaging means; converting the photographed image into a black-and-white binary image; and a crucible in the converted binary image. A melting detection method in a semiconductor single crystal pulling apparatus, comprising: counting the number of white pixels or black pixels in the crucible; and detecting completion of melting of the semiconductor raw material in the crucible from the counted number of white pixels or black pixels.
【請求項2】 半導体単結晶引き上げ装置における溶融
検知装置であって、 るつぼ内を撮影する撮像手段と、 該撮像手段で撮影した撮影画像を白黒の2値画像に変換
し、該変換した2値画像中のるつぼ内の白画素または黒
画素の数を計数し、該計数した白画素または黒画素の数
からるつぼ内の半導体原料の溶融完了を検出する画像処
理装置と、を備えたことを特徴とする半導体単結晶引き
上げ装置における溶融検知装置。
2. A melting detection device in a semiconductor single crystal pulling apparatus, comprising: an image pickup means for photographing the inside of a crucible; and a photographed image photographed by the image pickup means is converted into a black and white binary image. An image processing device that counts the number of white or black pixels in the crucible in the image and detects the completion of melting of the semiconductor material in the crucible from the counted number of white or black pixels. A melting detector in a semiconductor single crystal pulling apparatus.
【請求項3】 半導体単結晶引き上げ装置における溶融
検知方法であって、 るつぼ内のインゴットの所定位置に、あるいはまたイン
ゴットとその近辺の半導体融液面の両方を含む所定の位
置に予め溶融検知のための監視エリアを設定し、 該監視エリアを撮像手段によって撮影し、 該監視エリアの撮影画像を白黒の2値画像に変換した
後、該変換した2値画像を用いて監視エリア内の白画素
または黒画素の数を計数し、 該計数した白画素または黒画素の数のからインゴットの
溶融完了を検出することを特徴とする半導体単結晶引き
上げ装置における溶融検知方法。
3. A method for detecting melting in a semiconductor single crystal pulling apparatus, comprising: detecting a melt in advance at a predetermined position of an ingot in a crucible or at a predetermined position including both the ingot and a semiconductor melt surface near the ingot. A monitoring area for the monitoring area, photographing the monitoring area by an imaging unit, converting a captured image of the monitoring area into a black-and-white binary image, and using the converted binary image, a white pixel in the monitoring area. Alternatively, a melting detection method in a semiconductor single crystal pulling apparatus, wherein the number of black pixels is counted, and completion of melting of the ingot is detected based on the counted number of white pixels or black pixels.
【請求項4】 半導体単結晶引き上げ装置における溶融
検知方法であって、 るつぼ内のインゴットの所定位置に、あるいはまたイン
ゴットとその近辺の半導体融液面の両方を含む所定の位
置に予め設定した溶融検知のための監視エリアを撮影す
る撮像手段と、 該撮像手段で撮影した撮影画像を白黒の2値画像に変換
し、該変換した2値画像における監視エリア内の白画素
または黒画素の数を計数し、該計数した白画素または黒
画素の数からインゴットの溶融完了を検出する画像処理
装置と、を備えたことを特徴とする半導体単結晶引き上
げ装置における溶融検知装置。
4. A method for detecting melting in a semiconductor single crystal pulling apparatus, comprising: setting a melting point in advance at a predetermined position of an ingot in a crucible or at a predetermined position including both the ingot and a semiconductor melt surface near the ingot. Imaging means for photographing a monitoring area for detection; converting an image photographed by the imaging means into a black and white binary image, and determining the number of white pixels or black pixels in the monitoring area in the converted binary image. An image processing device that counts and detects the completion of melting of the ingot from the counted number of white pixels or black pixels, and a melting detection device in the semiconductor single crystal pulling apparatus.
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