JP2000260877A - Layout designing method for semiconductor integrated circuit - Google Patents

Layout designing method for semiconductor integrated circuit

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JP2000260877A
JP2000260877A JP11062789A JP6278999A JP2000260877A JP 2000260877 A JP2000260877 A JP 2000260877A JP 11062789 A JP11062789 A JP 11062789A JP 6278999 A JP6278999 A JP 6278999A JP 2000260877 A JP2000260877 A JP 2000260877A
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functional circuit
circuit block
wiring
virtual terminal
layout
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Koichi Sato
功一 佐藤
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a layout designing method, in which by lowering the production cost of a chip to a minimum, the area of a wiring channel is reduced to a minimum, and the chip area of a semiconductor integrated circuit is reduced. SOLUTION: This layout designing method is provided with a step where a dummy pattern is added to a region in which the desired terminal and the desired net of a standard cell constituting a functional circuit block can be connected, a step where information on a connection to the desired terminal and the desired net of the standard cell is added to the dummy pattern a step where a dummy pattern is added when the layout pattern of another net does not exist on the dummy pattern and in which a virtual terminal having information on a connection to the desired net of the functional circuit block is added, a step where when the virtual terminal of the functional circuit block is connected to an interconnection passed on the functional circuit block, a contact cell used to connect the interconnection passed on the functional circuit block to the virtual terminal of the functional circuit block is generated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
レイアウト設計方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a layout design method for a semiconductor integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】図9は従来のビルディングブロック方式
のレイアウト設計フロー図である。
2. Description of the Related Art FIG. 9 is a flow chart of a conventional layout design of a building block system.

【0003】従来のビルディングブロック方式のレイア
ウトは、データ入力ステップ1000で1チップレイア
ウトに必要なデータを入力し、フロアプランステップ1
001で1チップレベルで機能回路ブロックの配置と機
能回路ブロックの入出力端子の配置位置を決める。次に
スタンダードセル配置ステップ1002で機能ブロック
内のスタンダードセルを配置し、機能回路ブロック内配
線ステップ1003で電源配線と概略配線と詳細配線を
行い機能ブロックのレイアウトを完成させる。次に機能
回路ブロック間配線ステップ1004でブロック間の電
源配線と概略配線と詳細配線を行い1チップのレイアウ
トを完成させ、データ出力ステップ1005でレイアウ
トデータを出力する。
In a conventional building block layout, data required for a one-chip layout is input in a data input step 1000, and a floor plan step 1 is executed.
In step 001, the arrangement of the functional circuit blocks and the arrangement positions of the input / output terminals of the functional circuit blocks are determined at the level of one chip. Next, standard cells in a functional block are arranged in a standard cell arranging step 1002, and power supply wiring, schematic wiring, and detailed wiring are performed in a wiring step in a functional circuit block 1003 to complete the layout of the functional block. Next, in a wiring step 1004 between functional circuit blocks, power supply wiring, general wiring and detailed wiring between blocks are performed to complete the layout of one chip, and layout data is output in a data output step 1005.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】半導体集積回路チップ
のレイアウト面積が小さいほどチップの製造コストが小
さくなるというメリットがある。チップのレイアウト面
積を小さくするためには、機能回路ブロックと配線チャ
ネルの面積を最小にする必要がある。従来のビルディン
グブロック方式のレイアウトでは、全ての信号線、クロ
ック配線、電源配線、アナログ配線は機能回路ブロック
間の配線チャネルの全てまたは一部を通過してから機能
回路ブロックの端子に接続されるため、ブロック上を通
過可能なレイヤーが2層以上あり、全ての配線がブロッ
ク上を通過できる十分なスペースがある場合でも、配線
チャネルに配線が残る。
The advantage is that the smaller the layout area of the semiconductor integrated circuit chip, the lower the chip manufacturing cost. In order to reduce the layout area of the chip, it is necessary to minimize the area of the functional circuit block and the wiring channel. In the conventional building block layout, all signal lines, clock lines, power supply lines, and analog lines pass through all or some of the wiring channels between functional circuit blocks before being connected to the terminals of the functional circuit blocks. Even when there are two or more layers that can pass over the block and there is enough space for all the wirings to pass over the block, the wiring remains in the wiring channel.

【0005】図8の従来手法による電源とグランド配線
の経路とハードブロックとソフトブロックの配置図に示
すように特に幅の広い電源配線の幹線が全ての配線チャ
ネルに残る可能性が高く、配線チャネル面積を最小にす
ることができないため、チップのレイアウト面積が最小
にならない。
As shown in the layout of the power supply and ground wiring and the arrangement of the hard block and the soft block according to the conventional method shown in FIG. 8, there is a high possibility that a particularly wide power supply wiring main line remains in all the wiring channels. Since the area cannot be minimized, the layout area of the chip is not minimized.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、半導体集積回
路のレイアウト設計において、機能回路ブロックを構成
するスタンダードセルの所望の端子と所望のネットとの
接続を可能とする領域にダミーパターンを付加する手段
と、前記ダミーパターンにスタンダードセルの所望の端
子と所望のネットとの接続情報を付加する手段と、前記
ダミーパターン上に他のネットのレイアウトパターンが
存在しなければ前記ダミーパターンを、前記機能回路ブ
ロックの所望のネットとの接続情報を持った仮想的な端
子とする仮想端子付加する手段と、前記機能回路ブロッ
クの仮想的な端子と前記機能回路ブロック上を通過する
配線を接続する場合に、前記機能回路ブロックの仮想的
な端子に前記機能回路ブロック上を通過する配線との接
続を行うためのコンタクトセルを発生させる手段とを有
する、半導体集積回路のレイアウト設計方法である。
According to the present invention, in a layout design of a semiconductor integrated circuit, a dummy pattern is added to an area where a desired terminal of a standard cell constituting a functional circuit block can be connected to a desired net. Means for adding connection information between a desired terminal of a standard cell and a desired net to the dummy pattern, and the dummy pattern if the layout pattern of another net does not exist on the dummy pattern. Means for adding a virtual terminal as a virtual terminal having connection information with a desired net of a functional circuit block, and connecting a virtual terminal of the functional circuit block and a wiring passing on the functional circuit block A connector for connecting a virtual terminal of the functional circuit block to a wiring passing over the functional circuit block. And means for generating a Takutoseru a layout design method of a semiconductor integrated circuit.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】レイアウト面積に最も影響を与え
る電源配線を例に、本発明の実施の形態を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with an example of a power supply wiring which has the greatest influence on a layout area.

【0008】図1に本発明の実施形態のレイアウト設計
方法の処理フロー図を示す。データ入力ステップ100
では、物理的なレイアウト形状がフィックスしているハ
ードブロックと呼ばれる機能回路ブロックやスタンダー
ドセル等の物理的なレイアウト情報と、各配線層の配線
幅や配線間隔等の物理的な設計規約と、チップレイアウ
トで使用する配線層の種類と各々の配線層の配線方向の
指定、機能回路ブロックで使用する配線層の種類と各々
の配線層の配線方向の指定等の、配置配線に必要なパラ
メータと、半導体集積回路のチップレベルと機能回路ブ
ロックレベルの各々の等電位の端子間の接続情報である
論理レベルのネットリストを入力する。
FIG. 1 shows a processing flow chart of a layout design method according to an embodiment of the present invention. Data input step 100
Then, physical layout information such as functional circuit blocks and standard cells called hard blocks whose physical layout shape is fixed, physical design rules such as wiring width and wiring interval of each wiring layer, and chip Parameters required for placement and routing, such as specifying the type of wiring layer used in the layout and the wiring direction of each wiring layer, specifying the type of wiring layer used in the functional circuit block and the wiring direction of each wiring layer, A logic-level netlist, which is connection information between equipotential terminals at the chip level and the functional circuit block level of the semiconductor integrated circuit, is input.

【0009】フロアプランステップ101では、図2の
本発明による電源とグランド配線の経路とハードブロッ
クとソフトブロックの配置図に示すように物理的な形状
がフィックスしていない機能回路ブロックBL1,BL
3と物理的な形状がフィックスしている機能回路ブロッ
クBL2,PAD1,PAD2,PAD3,PAD4の
配置を行い、チップレベルでの電源配線の経路を決め
る。VDD1〜VDD8は電源配線、VSS1〜VSS
8はグランド配線である。
In the floor plan step 101, the functional circuit blocks BL1 and BL whose physical shapes are not fixed as shown in the layout diagram of the power supply and ground wiring and the hard and soft blocks according to the present invention in FIG.
The functional circuit blocks BL2, PAD1, PAD2, PAD3, and PAD4 whose physical shapes are fixed to 3 are arranged, and the path of the power supply wiring at the chip level is determined. VDD1 to VDD8 are power supply lines, VSS1 to VSS
8 is a ground wiring.

【0010】電源とグランド配線の経路は、BL1,B
L3上は任意の位置を通過し、BL2,PAD1,PA
D2,PAD3,PAD4上は必ずチップレベルでの電
源配線と接続可能な位置を通過するように設定する。
The paths of the power supply and the ground wiring are BL1, B
Pass any position on L3, BL2, PAD1, PA
D2, PAD3, and PAD4 are set so as to always pass through positions connectable to power supply wiring at the chip level.

【0011】スタンダードセル配置ステップ102で
は、機能回路ブロックのネットリストとフロアプランで
定めたブロックサイズに従い、スタンダードセルの配置
を行う。
In a standard cell arranging step 102, standard cells are arranged according to a netlist of functional circuit blocks and a block size determined by a floor plan.

【0012】スタンダードセルの配置後に、ダミーパタ
ーンを付加するステップ103を以下に示す手順で行
う。図3の本発明による機能回路ブロック内の電源とグ
ランド配線の経路図に示すように機能ブロックのセル上
にフロアプランで定めた電源配線をLVDD、グランド
配線をLVSSで示す。
After arranging the standard cells, a step 103 for adding a dummy pattern is performed in the following procedure. As shown in the path diagram of the power supply and the ground wiring in the functional circuit block according to the present invention in FIG. 3, the power supply wiring defined by the floor plan on the cell of the functional block is indicated by LVDD, and the ground wiring is indicated by LVSS.

【0013】LVDDと各々重なる全てのセルで、図4
の本発明により付加されたCELL1上のVDD端子上
の仮想端子配置図に示すようにCELL1に配線が通過
する縦横の配線グリッドを設定し、配線グリッドとVD
Dと同電位の配線パターンとの交点すべてにダミーパタ
ーンVDC1〜VDC4を設定する。
In all cells that respectively overlap with LVDD, FIG.
As shown in the virtual terminal arrangement diagram on the VDD terminal on CELL1 added according to the present invention, a vertical and horizontal wiring grid through which the wiring passes through CELL1 is set, and the wiring grid and the VDD are set.
Dummy patterns VDC1 to VDC4 are set at all intersections between D and a wiring pattern having the same potential.

【0014】同様にLVSSと各々重なるセルで、図5
の本発明により付加されたCELL2上のVSS端子上
の仮想端子配置図に示すようにCELL2に配線が通過
する縦横の配線グリッドを設定し、配線グリッドとVS
Sと同電位の配線パターンとの交点すべてにダミーパタ
ーンVSC1〜VSC4を設定する。
[0014] Similarly, the cells respectively overlapping the LVSS are shown in FIG.
As shown in the virtual terminal arrangement diagram on the VSS terminal on CELL2 added according to the present invention, a vertical and horizontal wiring grid through which wiring passes through CELL2 is set, and the wiring grid and VS
Dummy patterns VSC1 to VSC4 are set at all the intersections between S and the wiring pattern having the same potential.

【0015】接続情報を付加するステップ104でダミ
ーパターンVDC1〜VDC4にVDDとの接続情報を
付加しVDDの仮想端子とする。同様にダミーパターン
VSC1〜VSC4にVSSとの接続情報を付加しVS
Sの仮想端子とする。
In step 104 for adding connection information, connection information with VDD is added to the dummy patterns VDC1 to VDC4 to make them virtual terminals of VDD. Similarly, the connection information to VSS is added to the dummy patterns VSC1 to VSC4 to
S is a virtual terminal.

【0016】全ての電源とグランドの配線経路と重なる
セルにおいて104の処理を行う。
The processing of step 104 is performed in all the cells overlapping the power supply and ground wiring paths.

【0017】機能回路ブロック内配線ステップ105で
論理ネットリストに従って概略配線と詳細配線を行い、
機能回路ブロックのレイアウトを完成させる。
In the wiring step 105 in the functional circuit block, general wiring and detailed wiring are performed according to the logical net list.
Complete the layout of the functional circuit block.

【0018】仮想端子付加ステップ106では、完成し
た機能回路ブロックのレイアウトで104で設定したス
タンダードセル上の仮想端子上の配線パターンの有無を
探索し、仮想端子上に配線パターンが存在しない場合の
みスタンダードセル上の仮想端子を機能回路ブロックの
仮想端子とする。仮想端子上に配線パターンが存在する
場合はスタンダードセル上の仮想端子を削除する。
In the virtual terminal adding step 106, the layout of the completed functional circuit block is searched for the presence or absence of a wiring pattern on the virtual terminal on the standard cell set in 104. Only when no wiring pattern exists on the virtual terminal, the standard The virtual terminal on the cell is a virtual terminal of the functional circuit block. If a wiring pattern exists on the virtual terminal, the virtual terminal on the standard cell is deleted.

【0019】図6の配線処理後のCELL1上のVDD
の仮想端子配置図と図7の配線処理後のCELL2上の
VSSの仮想端子配置図を用いて106の処理の方法を
説明する。
VDD on CELL 1 after wiring processing in FIG. 6
The processing method of 106 will be described with reference to the virtual terminal arrangement diagram of FIG. 7 and the virtual terminal arrangement diagram of VSS on CELL 2 after the wiring processing of FIG.

【0020】図6は105の処理によりCELL1上を
垂直配線LV1,LV2と水平配線LH1が配線された
ものである。
FIG. 6 shows that the vertical lines LV1 and LV2 and the horizontal line LH1 are laid on the cell 1 by the processing of step 105.

【0021】CELL1のVDDの仮想端子であるVD
C1〜VDC4上の配線パターンの有無を調べるとVD
C2上のみ配線パターンが存在しないのでVDC2を機
能回路ブロック間配線時にVDD端子として認識が可能
な機能ブロックのVDDの仮想端子とする。VDC1,
VDC3,VDC4上には配線パターンが存在するので
仮想端子を削除する。
VD which is a virtual terminal of VDD of CELL1
When checking for the presence or absence of a wiring pattern on C1 to VDC4, VD
Since no wiring pattern exists only on C2, VDC2 is used as a virtual terminal of VDD of a functional block that can be recognized as a VDD terminal when wiring between functional circuit blocks. VDC1,
Since wiring patterns exist on VDC3 and VDC4, virtual terminals are deleted.

【0022】同様に図7は105の処理によりCELL
2上を垂直配線LV3,LV4と水平配線LH2が配線
されたものである。
Similarly, FIG.
The vertical wirings LV3 and LV4 and the horizontal wiring LH2 are wired on the second line.

【0023】CELL2のVSSの仮想端子であるVS
C1〜VSC4上の配線パターンの有無を調べるとVS
C1とVSC2上には配線パターンが存在しないのでV
SC1とVSC2を機能回路ブロック間配線時にVSS
端子として認識が可能な機能回路ブロックのVSSの仮
想端子とする。VSC3とVSC4上には配線パターン
が存在するので仮想端子を削除する。
VS which is a virtual terminal of VSS of CELL2
When the presence or absence of a wiring pattern on C1 to VSC4 is checked, VS
Since no wiring pattern exists on C1 and VSC2, V
SC1 and VSC2 are connected to VSS when wiring between functional circuit blocks.
A virtual terminal of VSS of the functional circuit block that can be recognized as a terminal. Since the wiring pattern exists on VSC3 and VSC4, the virtual terminal is deleted.

【0024】全ての電源とグランドの配線経路と重なる
セルにおいて106の処理を行う。
The processing of 106 is performed in all the cells overlapping the power supply and ground wiring paths.

【0025】次に接続判定ステップ107で機能ブロッ
クと電源およびグランド配線の接続に問題が無いかをチ
ェックする。
Next, in connection determination step 107, it is checked whether there is no problem in connection between the functional block, the power supply, and the ground wiring.

【0026】電源およびグランド配線と機能回路ブロッ
クの電源およびグランドの端子を接続する場合に、コン
タクト一個当たりの許容電流量が決まっているので、電
流量許容量は 電流許容量=コンタクト一個当たりの許容電流量×コン
タクト数 で求められる。
When the power supply and ground wiring is connected to the power supply and ground terminals of the functional circuit block, the allowable current amount per contact is determined. Therefore, the allowable current amount is: current allowable amount = allowable amount per contact. It can be obtained by multiplying the current by the number of contacts.

【0027】電源とグランド配線に流れる電流量が分か
れば、機能回路ブロックに必要なコンタクト数は、 機能回路ブロックに必要なコンタクト数=電流量/コン
タクト一個当たりの許容電流量 で求められる。
If the amount of current flowing through the power supply and the ground wiring is known, the number of contacts required for the functional circuit block can be obtained by the following formula: number of contacts required for the functional circuit block = current amount / permissible current amount per contact.

【0028】機能回路ブロックの電源およびグランドの
端子数が機能回路ブロックに必要数なコンタクトに比べ
て少ないと、 コンタクト一個当たりの許容電流量<電流量/機能回路
ブロックに必要なコンタクト数 となりコンタクト一個当たりの電流許容量を越える電流
が流れることになり、最悪はコンタクトが破壊され電気
的接続が不可能となる。
If the number of power and ground terminals of the functional circuit block is smaller than the number of contacts required for the functional circuit block, the permissible current per contact <current amount / number of contacts required for the functional circuit block, and one contact As a result, a current exceeding the permissible current flow will flow, and in the worst case, the contact will be broken and electrical connection will be impossible.

【0029】電源とグランドの配線と機能回路ブロック
を接続するコンタクト数が十分に確保された場合は、コ
ンタクトを発生させるステップ108を実行する。電源
とグランドの配線と機能回路ブロックを接続するコンタ
クト数が十分に確保できない場合はフロアプランに戻り
ブロックサイズまたは電源経路を変更し102〜107
の処理を実行する。
If the number of contacts for connecting the power supply and ground wiring to the functional circuit block is sufficiently ensured, step 108 for generating contacts is executed. If the number of contacts for connecting the power supply and ground wiring to the functional circuit block cannot be sufficiently ensured, return to the floor plan and change the block size or the power supply path to 102 to 107
Execute the processing of

【0030】コンタクトを発生させるステップ108で
は、図2に示す電源配線VDD1〜VDD8と重なる全
ての機能回路ブロックの電源端子と電源の仮想端子上に
電源配線VDD1〜VDD8との接続を可能とするコン
タクトを発生させる。
In step 108 for generating a contact, a contact enabling connection of the power supply lines VDD1 to VDD8 on the power supply terminals of all the functional circuit blocks overlapping the power supply lines VDD1 to VDD8 shown in FIG. Generate.

【0031】同様にグランド配線VSS1〜VSS8と
重なる全ての機能回路ブロックのグランド端子とグラン
ドの仮想端子上にグランド配線VSS1〜VSS8との
接続を可能とするコンタクトを発生させる。
Similarly, contacts are formed on the ground terminals and ground virtual terminals of all the functional circuit blocks overlapping with the ground lines VSS1 to VSS8 to enable connection with the ground lines VSS1 to VSS8.

【0032】次に機能回路ブロック間配線ステップ10
9で、チップレベルの概略配線と詳細配線を行いチップ
のレイアウトを完成させる。
Next, wiring step 10 between functional circuit blocks
At 9, a schematic wiring and a detailed wiring at the chip level are performed to complete the layout of the chip.

【0033】チップのレイアウトが完成すればレイアウ
ト結果をデータ出力ステップ110で出力し処理を終了
する。
When the layout of the chip is completed, the layout result is output in the data output step 110, and the processing ends.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば配線
チャネルの配線を最小にし、特に電源とグランド配線の
幹線を無くすことで配線チャネルの面積を最小にし、結
果としてチップのレイアウト面積を最小にすることが可
能である。
As described above, according to the present invention, the wiring of the wiring channel is minimized, and in particular, the area of the wiring channel is minimized by eliminating the main line of the power supply and the ground wiring. As a result, the layout area of the chip is minimized. It is possible to

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態のレイアウト設計方法の処理
フロー図
FIG. 1 is a processing flowchart of a layout design method according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明による電源とグランド配線の経路とハー
ドブロックのとソフトブロックの配置図
FIG. 2 is a layout diagram of power supply and ground wiring paths, hard blocks, and soft blocks according to the present invention.

【図3】本発明による機能ブロック内の電源とグランド
配線の経路図
FIG. 3 is a path diagram of power supply and ground wiring in a functional block according to the present invention.

【図4】本発明により付加されたCELL1上のVDD
端子上の仮想端子配置図
FIG. 4 shows VDD on CELL1 added according to the present invention.
Virtual terminal layout on terminals

【図5】本発明により付加されたCELL2上のVSS
端子上の仮想端子配置図
FIG. 5: VSS on CELL2 added according to the present invention
Virtual terminal layout on terminals

【図6】配線処理後のCELL1上のVDDの仮想端子
配置図
FIG. 6 is a virtual terminal arrangement diagram of VDD on CELL1 after wiring processing;

【図7】配線処理後のCELL2上のVSSの仮想端子
配置図
FIG. 7 is a virtual terminal layout diagram of VSS on CELL2 after wiring processing;

【図8】従来手法による電源とグランド配線の経路とハ
ードブロックとソフトブロックの配置図
FIG. 8 is a layout diagram of a power supply and a ground wiring, and a hard block and a soft block according to a conventional method

【図9】従来のビルディングブロック方式のレイアウト
設計フロー図
FIG. 9 is a layout diagram of a conventional building block layout design.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 データ入力ステップ 101 フロアプランステップ 102 スタンダードセル配置ステップ 103 ダミーパターンを付加するステップ 104 接続情報を付加するステップ 105 機能回路ブロック内配線ステップ 106 仮想端子付加ステップ 107 接続判定ステップ 108 コンタクトセルを発生させるステップ 109 機能回路ブロック間配線ステップ 110 データ出力ステップ 1000 データ入力ステップ 1001 フロアプランステップ 1002 スタンダードセル配置ステップ 1003 機能回路ブロック内配線ステップ 1004 機能回路ブロック間配線ステップ 1005 データ出力ステップ PAD1 物理的な形状がフィックスした機能回路ブロ
ック PAD2 物理的な形状がフィックスした機能回路ブロ
ック PAD3 物理的な形状がフィックスした機能回路ブロ
ック PAD4 物理的な形状がフィックスした機能回路ブロ
ック BL1 物理的な形状がフィックスしていない機能回路
ブロック BL2 物理的な形状がフィックスした機能回路ブロッ
ク BL3 物理的な形状がフィックスしていない機能回路
ブロック VDD1 チップレベルの電源配線 VDD2 チップレベルの電源配線 VDD3 チップレベルの電源配線 VDD4 チップレベルの電源配線 VDD5 チップレベルの電源配線 VDD6 チップレベルの電源配線 VDD7 チップレベルの電源配線 VDD8 チップレベルの電源配線 VSS1 チップレベルのグランド配線 VSS2 チップレベルのグランド配線 VSS3 チップレベルのグランド配線 VSS4 チップレベルのグランド配線 VSS5 チップレベルのグランド配線 VSS6 チップレベルのグランド配線 VSS7 チップレベルのグランド配線 VSS8 チップレベルのグランド配線 LVDD BL1上を通過する電源配線 LVSS BL1上を通過するグランド配線 CELL 11機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 12機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 13機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 14機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 15機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 16機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 17機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 21機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 22機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 23機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 24機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 25機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 26機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 27機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 31機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 32機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 33機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 34機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 35機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 36機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 37機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 41機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 42機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 43機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 44機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL 45機能回路ブロック内に配置されたスタン
ダードセル CELL1 LVDDと重なりを持つスタンダードセル CELL2 LVSSと重なりを持つスタンダードセル VDD スタンダードセルの電源のレイアウトパターン VSS スタンダードセルのグランドのレイアウトパタ
ーン IN スタンダードセルの信号入力端子のレイアウトパ
ターン OUT スタンダードセルの信号出力端子のレイアウト
パターン VDC1 CELL1の電源の仮想端子 VDC2 CELL1の電源の仮想端子 VDC3 CELL1の電源の仮想端子 VDC4 CELL1の電源の仮想端子 VSC1 CELL2の電源の仮想端子 VSC2 CELL2の電源の仮想端子 VSC3 CELL2の電源の仮想端子 VSC4 CELL2の電源の仮想端子 LH1 水平方向の信号配線 LH2 水平方向の信号配線 LV1 垂直方向の信号配線 LV2 垂直方向の信号配線 LV3 垂直方向の信号配線 LV4 垂直方向の信号配線
REFERENCE SIGNS LIST 100 data input step 101 floor plan step 102 standard cell placement step 103 step of adding dummy pattern 104 step of adding connection information 105 wiring step in functional circuit block 106 virtual terminal adding step 107 connection determination step 108 step of generating a contact cell 109 Wiring step between functional circuit blocks 110 Data output step 1000 Data input step 1001 Floor plan step 1002 Standard cell arrangement step 1003 Wiring step within functional circuit block 1004 Wiring step between functional circuit blocks 1005 Data output step PAD1 Physical shape is fixed Functional circuit block PAD2 Functional circuit block PAD with fixed physical shape Functional circuit block with fixed physical shape PAD4 Functional circuit block with fixed physical shape BL1 Functional circuit block with unfixed physical shape BL2 Functional circuit block with fixed physical shape BL3 Physical shape Not fixed VDD1 Chip-level power supply wiring VDD2 Chip-level power supply wiring VDD3 Chip-level power supply wiring VDD4 Chip-level power supply wiring VDD5 Chip-level power supply wiring VDD6 Chip-level power supply wiring VDD7 Chip-level power supply wiring VDD8 Chip-level power supply wiring VSS1 Chip-level ground wiring VSS2 Chip-level ground wiring VSS3 Chip-level ground wiring VSS4 Chip-level ground wiring VSS5 Top-level ground wiring VSS6 Chip-level ground wiring VSS7 Chip-level ground wiring VSS8 Chip-level ground wiring Power supply wiring passing over LVDD BL1 Ground wiring passing over LVSS BL1 CELL 11 Standard cell arranged in functional circuit block Standard cell arranged in CELL 12 function circuit block Standard cell arranged in CELL 13 function circuit block CELL Standard cell arranged in 14 function circuit block CELL Standard cell arranged in 15 function circuit block CELL 16 Standard cell CELL 17 arranged in a functional circuit block Standard cell CELL 21 arranged in a functional circuit block Cell arranged in a functional circuit block 21 Standard cells arranged in a CELL 22 function circuit block Standard cells arranged in a CELL 23 function circuit block Standard cells arranged in a CELL 24 function circuit block Standard cells arranged in a CELL 25 function circuit block Standard cell arranged in CELL 26 function circuit block Standard cell arranged in CELL 27 function circuit block CELL 31 Standard cell arranged in function circuit block CELL 32 Standard cell arranged in function circuit block CELL 33 Standard cell arranged in a functional circuit block CELL 34 Standard cell arranged in a functional circuit block CELL 35 Standard cell arranged in a functional circuit block Standard cell arranged in CELL 36 functional circuit block Standard cell arranged in CELL 37 functional circuit block CELL 41 Standard cell arranged in functional circuit block CELL 42 Standard cell arranged in functional circuit block Standard cell arranged in a functional circuit block CELL 44 Standard cell arranged in a functional circuit block CELL 45 Standard cell arranged in a functional circuit block CELL1 Standard cell having an overlap with LVDD Standard cell having an overlap with LLVSS VDD Standard cell power supply layout pattern VSS Standard cell ground layout pattern IN Standard cell signal input terminal layout pattern OUT OUT Layout pattern of signal output terminal of standard cell VDC1 Virtual terminal of power supply of CELL1 VDC2 Virtual terminal of power supply of CELL1 VDC3 Virtual terminal of power supply of CELL1 VDC4 Virtual terminal of power supply of CELL1 Virtual terminal of power supply of VSC1 CELL2 VSC2 CELL2 of power supply Virtual terminal of power supply Virtual terminal of power supply of VSC3 CELL2 Virtual terminal of power supply of VSC4 CELL2 LH1 Horizontal signal wiring LH2 Horizontal signal wiring LV1 Vertical signal wiring LV2 Vertical signal wiring LV3 Vertical signal wiring LV4 Vertical Direction signal wiring

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体集積回路のレイアウト設計におい
て、機能回路ブロックを構成するスタンダードセルの所
望の端子と所望のネットとの接続を可能とする領域にダ
ミーパターンを付加するステップと、前記ダミーパター
ンにスタンダードセルの所望の端子と所望のネットとの
接続情報を付加するステップと、前記ダミーパターン上
に他のネットのレイアウトパターンが存在しなければ前
記ダミーパターンを、前記機能回路ブロックの所望のネ
ットとの接続情報を持った仮想的な端子とする仮想端子
を付加するステップと、前記機能回路ブロックの仮想的
な端子と前記機能回路ブロック上を通過する配線を接続
する場合に、前記機能回路ブロックの仮想的な端子に前
記機能回路ブロック上を通過する配線との接続を行うた
めのコンタクトセルを発生させるステップを有する半導
体集積回路のレイアウト設計方法。
In a layout design of a semiconductor integrated circuit, a step of adding a dummy pattern to a region in which a desired terminal of a standard cell constituting a functional circuit block can be connected to a desired net; Adding connection information between a desired terminal of the standard cell and a desired net; and, if there is no layout pattern of another net on the dummy pattern, the dummy pattern is connected to a desired net of the functional circuit block. Adding a virtual terminal as a virtual terminal having connection information of the functional circuit block; and connecting a virtual terminal of the functional circuit block to a wiring passing over the functional circuit block. Contact cell for connecting a virtual terminal to a wiring passing over the functional circuit block A layout design method for a semiconductor integrated circuit, comprising the step of generating
【請求項2】 半導体集積回路のレイアウト設計におい
て、半導体集積回路を構成するスタンダードセルと機能
回路ブロックの物理的なレイアウト情報と、物理的な設
計規約と、機能回路ブロックの入出力端子およびスタン
ダードセルの入出力端子の接続情報であるネットリスト
を入力するデータ入力ステップと、チップレベルの機能
回路ブロックの配置位置とサイズと入出力端子の配置位
置を決定するフロアプランステップと、機能回路ブロッ
クのスタンダードセルの配置を行うスタンダードセル配
置ステップと、機能回路ブロックを構成するスタンダー
ドセルの所望の端子と所望のネットとの接続を可能とす
る領域にダミーパターンを付加するステップと、前記ダ
ミーパターンにスタンダードセルの所望の端子と所望の
ネットとの接続情報を付加するステップと、前記機能回
路ブロック内の配線を行う機能回路ブロック内配線ステ
ップと、 機能回路ブロックで機能回路ブロック内配線ステップ後
に前記ダミーパターン上の配線層のレイアウトパターン
を探索し、前記ダミーパターン上に他のネットのレイア
ウトパターンが存在しなければ前記ダミーパターンを、
前記機能回路ブロックの所望のネットとの接続情報を持
った仮想的な端子とする仮想端子を付加するステップ
と、 前記機能回路ブロック上を通過するネットの配線と前記
機能回路ブロックの仮想的な端子が重なった場合に、前
記機能回路ブロックの仮想的な端子が持つネットとの接
続情報と配線のネットの接続情報を比較し、前記機能回
路ブロックの仮想的な端子と前記機能回路ブロック上を
通過する配線との接続に問題が無いかを判定し、接続に
問題があった場合は前記フロアプランステップに戻るこ
とを指示し、接続に問題がなければコンタクトセルを発
生させるステップに進むことを指示する接続判定ステッ
プと、前記機能回路ブロックの仮想的な端子と前記機能
回路ブロック上を通過する配線を接続する場合に、前記
機能回路ブロックの仮想的な端子に前記機能回路ブロッ
ク上を通過する配線との接続を行うためのコンタクトセ
ルを発生させるステップと、前記機能回路ブロック間の
配線を行う機能ブロック間配線ステップと、レイアウト
結果を出力するデータ出力ステップを有する、半導体集
積回路のレイアウト設計方法。
2. The layout design of a semiconductor integrated circuit, wherein physical layout information of standard cells and functional circuit blocks constituting the semiconductor integrated circuit, physical design rules, input / output terminals of the functional circuit blocks and standard cells are provided. A data input step of inputting a netlist, which is connection information of input / output terminals of the chip, a floor plan step of determining a layout position and size of chip-level functional circuit blocks and a layout position of input / output terminals, and a standard of functional circuit blocks. A standard cell arranging step of arranging cells; a step of adding a dummy pattern to a region enabling connection between a desired terminal and a desired net of the standard cell constituting the functional circuit block; and Connection information between the desired terminal and the desired net A wiring step in the functional circuit block for wiring in the functional circuit block, and a wiring pattern in the functional circuit block in the functional circuit block. If there is no other net layout pattern on the pattern, the dummy pattern is
Adding a virtual terminal as a virtual terminal having connection information with a desired net of the functional circuit block; wiring of a net passing on the functional circuit block and a virtual terminal of the functional circuit block When overlapped, the connection information of the virtual terminal of the functional circuit block with the net and the connection information of the wiring net are compared, and the virtual terminal of the functional circuit block and the virtual terminal of the functional circuit block pass over the functional circuit block. It is determined whether there is no problem with the connection to the wiring to be connected.If there is a problem with the connection, it is instructed to return to the floor plan step. A connection judging step for connecting the virtual terminal of the functional circuit block to a wiring passing over the functional circuit block. Generating a contact cell for connecting a virtual terminal of the circuit to a wiring passing over the functional circuit block, a wiring step between functional blocks for performing wiring between the functional circuit blocks, and a layout result. A layout design method for a semiconductor integrated circuit having a data output step of outputting.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014220498A (en) * 2013-05-02 2014-11-20 台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司Taiwan Semiconductor Manufacturing Company,Ltd. Standard cell having cell height which is non-integer multiple of nominal minimum pitch
CN108073754A (en) * 2016-11-18 2018-05-25 台湾积体电路制造股份有限公司 The method of layout

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014220498A (en) * 2013-05-02 2014-11-20 台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司Taiwan Semiconductor Manufacturing Company,Ltd. Standard cell having cell height which is non-integer multiple of nominal minimum pitch
JP2016189489A (en) * 2013-05-02 2016-11-04 台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司Taiwan Semiconductor Manufacturing Company,Ltd. Standard cell having cell height which is non-integer multiple of nominal minimum pitch
US9659129B2 (en) 2013-05-02 2017-05-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Standard cell having cell height being non-integral multiple of nominal minimum pitch
US10289789B2 (en) 2013-05-02 2019-05-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System for designing integrated circuit layout and method of making the integrated circuit layout
US10867099B2 (en) 2013-05-02 2020-12-15 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System for designing integrated circuit layout and method of making the integrated circuit layout
US11544437B2 (en) 2013-05-02 2023-01-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System for designing integrated circuit layout and method of making the integrated circuit layout
CN108073754A (en) * 2016-11-18 2018-05-25 台湾积体电路制造股份有限公司 The method of layout
US11714947B2 (en) 2016-11-18 2023-08-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method and layout of an integrated circuit
CN108073754B (en) * 2016-11-18 2023-11-07 台湾积体电路制造股份有限公司 Method for designing layout

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