JP2000256442A - Themosetting resin composition - Google Patents

Themosetting resin composition

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JP2000256442A
JP2000256442A JP11059916A JP5991699A JP2000256442A JP 2000256442 A JP2000256442 A JP 2000256442A JP 11059916 A JP11059916 A JP 11059916A JP 5991699 A JP5991699 A JP 5991699A JP 2000256442 A JP2000256442 A JP 2000256442A
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JP
Japan
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compound
solvent
resin composition
reaction
less
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Application number
JP11059916A
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Japanese (ja)
Inventor
Akiko Okubo
明子 大久保
Sumiya Miyake
澄也 三宅
Yoshiyuki Go
義幸 郷
Hiroshi Nagata
永田  寛
Masahito Akiyama
仁人 秋山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resin composition excellent in rapid hardening and storage stability by using as essential components a compound having not less than two epoxy groups, a compound having not less than two phenolic hydroxyl groups and a compound obtained by reacting tetraphenylphosphoniumtetraphenyl borate with bis(hydroxyphenyl)methane. SOLUTION: Tetraphenylphosphoniumtetraphenyl borate (X) is reacted with a compound (Y) represented by formula (substitution position of a hydroxyl group is ortho or para with respect to methylene) at a temp. of 150-230 deg.C for not less than 1 hour, the ratio of X to Y being 1 to 2-4. Further the reaction is continued in a solvent having a boiling point of not less than 60 deg.C to produce a compound (C) having a boron content of not more than 0.6 wt.%. A thermosetting resin composition is obtained by mixing as essential components a compound (A) having not less than two epoxy groups in a molecule, a compound (B) having not less than two phenolic hydroxyl groups in a molecule and a compound (C).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、硬化性と保存性が
良好で、電気・電子材料分野に有用な熱硬化性樹脂組成
物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermosetting resin composition having good curability and storage stability and useful in the field of electric and electronic materials.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気・電子材料、特にIC封止材料は近
年、生産効率の向上を目的とした速硬化性と、物流・保
管時のハンドリング性向上のための保存性の向上とが求
められるようになってきている。
2. Description of the Related Art In recent years, electric and electronic materials, especially IC encapsulating materials, are required to have fast curability for the purpose of improving production efficiency and to improve storability for improving handling during distribution and storage. It is becoming.

【0003】このような要求に応えるため本発明者ら
は、硬化性と保存性を向上させるべく鋭意検討した結
果、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレー
ト(X)と後述の一般式(1)で表される特定構造の化
合物(Y)とを、特定の割合で熱反応させ、さらに溶媒
中で反応を進めてホウ素含有率を0.6wt%以下とし
た化合物を硬化促進剤として用いることにより、きわめ
て優れた前記特性を有する熱硬化性樹脂組成物が得られ
ることを見いだした。
[0003] In order to meet such demands, the present inventors have made intensive studies to improve curability and preservability, and as a result, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) is represented by the following general formula (1). The compound (Y) having a specific structure is thermally reacted at a specific ratio, and the reaction is further promoted in a solvent to use a compound having a boron content of 0.6 wt% or less as a curing accelerator. It has been found that a thermosetting resin composition having the above properties can be obtained.

【0004】本発明において最も重要な技術は、ボレー
ト(X)と化合物(Y)のモル比が、1:2〜4の範囲
で熱反応させること、および、さらに沸点60℃以上の
溶媒中で反応を進めることで、優れた硬化促進作用を有
する化合物を得る点である。本発明の技術と従来技術と
の差異について、以下に説明する。
The most important technique in the present invention is to carry out a thermal reaction in a molar ratio of borate (X) to compound (Y) in the range of 1: 2 to 4, and further, in a solvent having a boiling point of 60 ° C. or more. By promoting the reaction, a compound having an excellent curing promoting action is obtained. The difference between the technology of the present invention and the conventional technology will be described below.

【0005】特公昭56−45491号公報には、分子
量を規定したノボラック型フェノール樹脂とテトラフェ
ニルホスホニウムテトラフェニルボレートとを、そのフ
ェノール樹脂の軟化点以上の温度で加熱処理することに
より得られる硬化剤を用いて、保存安定性が良好で耐湿
性が優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物を得る技
術が述べられている。さらに、特開平6−228280
号公報には、非ノボラック系フェノール樹脂とテトラフ
ェニルホスホニウムテトラフェニルボレートとを、非ノ
ボラック系フェノール樹脂の軟化点以上の温度で加熱混
合することにより得られる硬化剤を用いて、保存安定性
及び流動性が良好で、硬化性、耐湿性に優れた硬化物を
与えるエポキシ樹脂組成物を得ることが述べられてい
る。
[0005] JP-B-56-45491 discloses a curing agent obtained by heat-treating a novolak-type phenol resin having a specified molecular weight and tetraphenylphosphonium tetraphenyl borate at a temperature higher than the softening point of the phenol resin. There is described a technique for obtaining an epoxy resin composition which gives a cured product having good storage stability and excellent moisture resistance using the above method. Further, JP-A-6-228280
The publication discloses a non-novolak phenolic resin and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, using a curing agent obtained by heating and mixing at a temperature equal to or higher than the softening point of the non-novolak phenolic resin, to achieve storage stability and fluidity. It is described that an epoxy resin composition having good properties and providing a cured product having excellent curability and moisture resistance is obtained.

【0006】しかし、これらの公報に記載された技術
は、エポキシ樹脂の硬化剤であるフェノール系樹脂に、
フェノール系樹脂の軟化点以上の温度で、予めボレート
(X)を加熱混合し、均一に分散させることによって所
期の性能を達成する、という思想で開発された技術であ
ることは明白である。特公昭56−45491号公報の
硬化剤配合エポキシ樹脂組成物は、保存安定性、耐湿性
の良好なテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボ
レートの反応活性をある程度高めることは可能とするも
のの、より速硬化性を要求されるような用途に使用する
には、その硬化性、保存性が不十分であった。また、特
開平6−228280号公報の硬化剤を樹脂組成物に用
いた場合も同様に、硬化性、保存性が不十分と言う問題
があった。
However, the techniques described in these publications disclose the use of a phenolic resin as a curing agent for an epoxy resin,
It is clear that the technology has been developed based on the idea that the desired performance is achieved by preliminarily heating and mixing the borate (X) at a temperature higher than the softening point of the phenolic resin and uniformly dispersing the borate. The epoxy resin composition containing a curing agent disclosed in JP-B-56-45491 is capable of increasing the reaction activity of tetraphenylphosphonium tetraphenylborate having good storage stability and moisture resistance to some extent, but has a higher curing property. The curability and preservability were insufficient for use in required applications. Similarly, when the curing agent disclosed in JP-A-6-228280 is used for the resin composition, there is also a problem that the curability and storage stability are insufficient.

【0007】これに対して本発明は、テトラフェニルホ
スホニウムテトラフェニルボレート(X)と化合物
(Y)とを、所定のモル比で熱反応させることにより、
ホウ素側のフェニル基を化合物(Y)のフェノキシドア
ニオンで求核的に置換反応させ、さらに、その生成物を
沸点60℃以上の溶媒中で反応を進めることにより、ホ
ウ素を硬化促進剤の構造中から遊離させて、硬化促進剤
を活性化することがその技術の骨子になっている。さら
に本発明においては、ほとんどの場合、ボレート(X)
の配合量は、化合物(Y)100重量部に対して、50
重量部を遥かに超える。この点においても、特開平6−
228280号公報に記載された技術とは異なるもので
ある。
On the other hand, the present invention provides a thermal reaction between tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) and compound (Y) at a predetermined molar ratio,
The phenyl group on the boron side is subjected to a nucleophilic substitution reaction with the phenoxide anion of the compound (Y), and the product is further reacted in a solvent having a boiling point of 60 ° C. or higher, so that boron is formed in the structure of the curing accelerator. Activating the hardening accelerator by releasing from the core is the gist of the technology. Further, in the present invention, in most cases, borate (X)
Is 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the compound (Y).
Far more than parts by weight. In this respect, too,
This is different from the technique described in Japanese Patent Publication No. 228280.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、速硬化性と
保存安定性とを両立させた、電気・電子材料分野に有用
な熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とするもの
である。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a thermosetting resin composition which is compatible with the field of electric and electronic materials and has both fast curing properties and storage stability. is there.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】即ち本発明は、1分子内
にエポキシ基を2個以上有する化合物(A)、1分子内
にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物(B)、
および、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボ
レート(X)と一般式(1)で表される化合物(Y)と
を反応させて得られる化合物(C)を必須成分とし、該
化合物(C)が、X:Yのモル比が1:2〜4の範囲で
熱反応させた後、さらに沸点60℃以上の溶媒中で反応
を進めて得られ、かつ該化合物中のホウ素含有率が0.
6wt%以下であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成
物である。
That is, the present invention provides a compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule, a compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule,
And a compound (C) obtained by reacting the tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) with the compound (Y) represented by the general formula (1) as an essential component, and the compound (C) is represented by X: After a thermal reaction in a molar ratio of Y of 1: 2 to 4, the reaction is further carried out in a solvent having a boiling point of 60 ° C. or higher, and the boron content in the compound is 0.1%.
It is a thermosetting resin composition characterized by being 6 wt% or less.

【0010】[0010]

【化1】 式中、フェニル基に置換している水酸基の位置は、メチ
レンに対しオルソ、パラのいずれかであり、2つの水酸
基の位置は左右対称でも非対称でもよい。
Embedded image In the formula, the position of the hydroxyl group substituted on the phenyl group is either ortho or para to methylene, and the positions of the two hydroxyl groups may be symmetric or asymmetric.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明において用いる化合物
(A)は、1分子内にエポキシ基を2個以上有するもの
であれば何ら制限はなく、例えば、ビフェニル型エポキ
シ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポ
キシ樹脂など、また、ビフェノールなどのフェノール
類、フェノール樹脂、ナフトール類などの水酸基に、エ
ピクロロヒドリンを反応させて製造するエポキシ樹脂
や、脂環式エポキシ樹脂のようにオレフィンを過酸を用
いて酸化させエポキシ化したエポキシ樹脂、ハイドロキ
ノン等のジヒドロキシベンゼン類をエピクロロヒドリン
でエポキシ化したものも含まれる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The compound (A) used in the present invention is not limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule. For example, biphenyl type epoxy resin, novolak type epoxy resin, naphthalene Epoxy resins produced by reacting epichlorohydrin with hydroxyl groups such as phenols such as biphenol, phenolic resins, and naphthols, and olefins such as alicyclic epoxy resins. Epoxy resins that have been oxidized and epoxidized, and those obtained by epoxidizing dihydroxybenzenes such as hydroquinone with epichlorohydrin are also included.

【0012】また、1分子内にフェノール性水酸基を2
個以上有する化合物(B)は、化合物(A)の硬化剤と
して作用するものである。具体的には、フェノールノボ
ラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、アルキル変性
ノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトー
ル類とフェノール類をカルボニル基含有化合物と共縮合
した樹脂などが例示されるが、1分子内で芳香族性の環
に結合する水素原子が、水酸基で2個以上置換された化
合物であればよい。
Further, two phenolic hydroxyl groups are contained in one molecule.
The compound (B) having at least one compound acts as a curing agent for the compound (A). Specific examples include a phenol novolak resin, a cresol novolak resin, an alkyl-modified novolak resin, a phenol aralkyl resin, and a resin obtained by co-condensing a naphthol and a phenol with a carbonyl group-containing compound. Any compound in which two or more hydrogen atoms bonded to a sex ring are substituted with a hydroxyl group may be used.

【0013】本発明において最も重要な技術は、テトラ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレート(X)と
化合物(Y)とを、X:Yのモル比が、1:2〜4の範
囲で熱反応させた後、この生成物を更に沸点60℃以上
の溶媒中で反応を進めて、ホウ素含有率が0.6wt%
以下とした化合物(C)を得る工程である。この工程の
前段熱反応で、ボレート(X)のホウ素側置換基である
フェニル基が、フェノール性水酸基によるホウ素への一
種の求核置換反応によりはずれて活性化される。つま
り、4つの反応点を持つホウ素と2つの反応点をもつ化
合物(Y)の、4−2官能基反応であり、 X:Yのモ
ル比が1:2の場合、理論的にはホウ素側の置換基のす
べてが化合物(Y)のフェノキシドアニオンで置換され
ると共に、化合物(Y)の水酸基もすべてホウ素と反応
する。 また、X:Yのモル比が1:4の場合は、ホウ
素側の置換基のすべてが化合物(Y)のフェノキシドア
ニオンで置換され、化合物(Y)の水酸基はすべてが均
等に反応したとすれば、化合物(Y)の2個の水酸基の
うち1個が消費されることになる。
The most important technique in the present invention is to carry out a thermal reaction between tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) and compound (Y) in a molar ratio of X: Y of 1: 2-4. The product is further reacted in a solvent having a boiling point of 60 ° C. or higher to obtain a boron content of 0.6 wt%.
This is a step of obtaining a compound (C) as described below. In the thermal reaction before this step, the phenyl group, which is the boron-side substituent of borate (X), is deactivated and activated by a kind of nucleophilic substitution reaction of boron with phenolic hydroxyl group. That is, it is a 4-2 functional group reaction of boron having four reaction points and compound (Y) having two reaction points. When the molar ratio of X: Y is 1: 2, theoretically, the boron side Are substituted with the phenoxide anion of the compound (Y), and all the hydroxyl groups of the compound (Y) also react with boron. When the molar ratio of X: Y is 1: 4, all of the substituents on the boron side are substituted with the phenoxide anion of compound (Y), and all of the hydroxyl groups of compound (Y) have reacted uniformly. In this case, one of the two hydroxyl groups of the compound (Y) will be consumed.

【0014】実際に合成反応を行なうとほぼ理論通り
で、ボレート(X)と化合物(Y)のモル比X:Yが、
1:2〜4の範囲で熱反応させた時、優れた硬化促進剤
を得ることができる。1:2よりもボレート(X)が過
剰な場合は、求核置換反応が十分に起こらず、後段の溶
媒中での反応も不十分である。また、1:4よりも化合
物(Y)が過剰な場合は、後段反応後の生成物に過剰の
化合物(Y)が混入して、硬化促進作用が低下する。ま
た、用いられる化合物(Y)は、通常工業原料として手
に入る異性体混合物、例えば、本州化学工業製ビスフェ
ノールF−Dなどが安価で好適だが、ビス(2−ヒドロ
キシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン等、単一構造のものでも構わない。
When the synthesis reaction is actually carried out, the molar ratio X: Y of the borate (X) to the compound (Y) becomes almost the same as the theory,
An excellent curing accelerator can be obtained when thermally reacted in the range of 1: 2 to 4. When the amount of borate (X) is more than 1: 2, the nucleophilic substitution reaction does not sufficiently occur, and the reaction in the subsequent solvent is also insufficient. If the compound (Y) is in excess of 1: 4, an excess of the compound (Y) will be mixed into the product after the second-stage reaction, and the curing acceleration effect will decrease. As the compound (Y) to be used, a mixture of isomers usually available as an industrial raw material, for example, bisphenol FD manufactured by Honshu Chemical Industry is inexpensive and suitable, but bis (2-hydroxyphenyl) methane and bis (4 -Hydroxyphenyl) methane or the like may have a single structure.

【0015】この置換反応は、反応中のべンゼンの留出
量でモニターできる。ベンゼン留出率、すなわちテトラ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレートのフェニ
ル基全てが置換した場合に発生するベンゼンの理論発生
重量に対する、実際の発生重量が80wt%以上である
ことが望ましい。80wt%より少ない場合、従来技術
においても述べたように、テトラフェニルホスホニウム
テトラフェニルボレートのホウ素側のフェニル基が、フ
ェノキシドに置換される割合が少ないため、硬化促進作
用が十分に得られないことがある。また、熱反応は15
0℃以上230℃以下の温度範囲で1時間以上行なわれ
ると、十分に前記の置換反応を進行させることができ
る。150℃未満だと反応が遅くなる傾向があり、23
0℃を超えると生成物の熱分解が起こる場合がある。
This substitution reaction can be monitored by the amount of distilling benzene during the reaction. It is desirable that the benzene distillation rate, that is, the actual generated weight is 80 wt% or more based on the theoretical generated weight of benzene generated when all the phenyl groups of tetraphenylphosphonium tetraphenylborate are substituted. When the amount is less than 80 wt%, as described in the related art, the phenyl group on the boron side of tetraphenylphosphonium tetraphenyl borate has a small ratio of substitution with phenoxide. is there. The thermal reaction is 15
When the reaction is performed for 1 hour or more in a temperature range of 0 ° C. or more and 230 ° C. or less, the above-described substitution reaction can be sufficiently advanced. If the temperature is lower than 150 ° C., the reaction tends to be slow,
If the temperature exceeds 0 ° C., thermal decomposition of the product may occur.

【0016】後段の溶媒中で反応を進める際に用いる溶
媒は、沸点が60℃以上であることが必要である。沸点
が60℃より低いものでは反応温度を高くできず、十分
に硬化促進作用を活性化させることができない。溶媒の
種類に関しては、沸点60℃以上であれば特に制限はな
いが、1分子内に水酸基を少なくとも1個有する沸点6
0℃以上の溶媒が好ましく、特にメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール等通常用いられるアルコ
ール系溶媒が好適である。
The solvent used for the reaction in the latter solvent must have a boiling point of 60 ° C. or higher. If the boiling point is lower than 60 ° C., the reaction temperature cannot be increased, and the curing promoting action cannot be sufficiently activated. The type of the solvent is not particularly limited as long as it has a boiling point of 60 ° C. or higher.
Solvents at 0 ° C. or higher are preferred, and particularly commonly used alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol and butanol are preferred.

【0017】また、溶媒中での反応時間は1時間以上と
することが望ましいが、この反応は必ずしも還流反応で
ある必要はなく、実質的に60℃以上に加熱できる条件
であれば、還流状態である必要はない。
The reaction time in the solvent is desirably 1 hour or more. However, this reaction does not necessarily have to be a reflux reaction. Need not be.

【0018】後段の溶媒中での反応のプロセスにおい
て、前段反応生成物は本質的な変化により活性化され
る。すなわち、構造中に有するホウ素が、溶媒との相互
作用により分子構造中から遊離し、硬化促進剤からホウ
素が失なわれ、硬化促進性が非常に活性化される。ホウ
素含有率と硬化促進剤の活性に相関があることの理由だ
が、一般的に3置換ボランなどが、そのルイス酸性によ
り硬化阻害を生じる現象と類似のものであると考えられ
る。溶媒中での上記の反応の進行の度合い、ならびに遊
離したホウ素成分の硬化促進剤からの分離除去の度合い
によって、後段反応生成物(C)に含まれるホウ素含有
率は決まるが、この値が0.6wt%以下であればきわめ
て優れた硬化促進作用を示す。
In the reaction process in the latter solvent, the former reaction product is activated by a substantial change. That is, the boron contained in the structure is released from the molecular structure due to the interaction with the solvent, the boron is lost from the curing accelerator, and the curing promoting property is very activated. The reason that there is a correlation between the boron content and the activity of the curing accelerator is that it is generally considered that trisubstituted borane or the like is similar to the phenomenon that curing inhibition is caused by its Lewis acidity. The degree of progress of the above-mentioned reaction in the solvent and the degree of separation and removal of the released boron component from the curing accelerator determine the boron content contained in the second-stage reaction product (C). When the content is 0.6 wt% or less, an extremely excellent curing promoting effect is exhibited.

【0019】本発明におけるホウ素含有率は、酸素フラ
スコ燃焼法により求められたものである。即ち、試料数
10mgを酸素置換した石英製燃焼フラスコ内で燃焼さ
せ、試料中に含まれるホウ素を過酸化水素水の吸収液中
にホウ酸イオンの形で吸収させ、それをイオン排除クロ
マト法等により定量して、試料中のホウ素含有率に換算
したものである。
In the present invention, the boron content is determined by an oxygen flask combustion method. That is, 10 mg of a sample is burned in a combustion flask made of oxygen in which oxygen has been replaced, and the boron contained in the sample is absorbed in the form of borate ions in an absorbing solution of hydrogen peroxide, which is then subjected to ion exclusion chromatography or the like. And converted to the boron content in the sample.

【0020】このようにして合成された化合物(C)を
用いれば、1分子内にエポキシ基を2個以上有する化合
物(A)と1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有
する化合物(B)の反応を促進する、硬化促進剤として
作用するものである。
Using the compound (C) thus synthesized, a compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule and a compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule And acts as a curing accelerator to promote the reaction of

【0021】一方、本発明の熱硬化性樹脂組成物は保存
性がよいことも特長であるが、その作用機構は現在検討
中である。また、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、必要
に応じて無機充填材や離型剤、カップリング剤等当業者
にて公知の添加剤、副資材を組み合わせることは何らさ
しつかえない。
On the other hand, the thermosetting resin composition of the present invention is also characterized by having a good preservability, but its action mechanism is currently under study. In addition, the thermosetting resin composition of the present invention may be combined with additives known to those skilled in the art, such as an inorganic filler, a release agent, and a coupling agent, and auxiliary materials as needed.

【0022】[0022]

【実施例】以下に、実施例を示して本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれによって何ら限定されるもので
はない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the invention thereto.

【0023】まず、ボレート(X)と化合物(Y)を熱
反応させ、その生成物を更に溶媒中で反応を進めて化合
物(C)を合成し、得られた化合物(C)を、1分子内
にエポキシ基を2個以上有する化合物(A)、および1
分子内にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物
(B)に加えて粉砕混合し、さらに100℃で5分熱板
上で溶融混練した後、冷却粉砕して組成物のサンプルを
調製し、特性評価に供した。特性評価のため、キュラス
トメータによる硬化トルク、および示差走査熱分析(D
SC)による硬化発熱量残存率を測定した。それぞれの
測定方法は、下記の通りとした。
First, the borate (X) is thermally reacted with the compound (Y), and the product is further reacted in a solvent to synthesize the compound (C). A compound (A) having two or more epoxy groups therein, and 1
In addition to the compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in the molecule, the mixture is pulverized and mixed, melt-kneaded at 100 ° C. for 5 minutes on a hot plate, and then cooled and pulverized to prepare a sample of the composition. Used for evaluation. Curing torque with a curastometer and differential scanning calorimetry (D
SC). Each measurement method was as follows.

【0024】1.硬化トルク(硬化性の評価) 前記の方法により調製した樹脂組成物のサンプルを用い
て、キュラストメーター(オリエンテック社製、JSR
キュラストメーターPS型)により、175℃、45秒
後のトルクを求めた。キュラストメーターにおけるトル
クは硬化性のパラメータであり、値の大きい方が硬化性
が高いことを示す。
1. Curing Torque (Evaluation of Curability) Using a sample of the resin composition prepared by the method described above, a curast meter (JSR, manufactured by Orientec, Inc.)
(Culastometer PS type), the torque after 175 ° C. and 45 seconds was determined. Torque in a curast meter is a parameter of curability, and a larger value indicates higher curability.

【0025】2. 硬化発熱量残存率(保存性評価) 前記の方法により調製した樹脂組成物のサンプルを用い
て、調製直後の初期硬化発熱量、および40℃3日間保
存処理後の硬化発熱量を測定し、初期硬化発熱量(mj/m
g)に対する保存処理後の硬化発熱量(mj/mg)の百分率を
算出した。尚、硬化発熱量の測定は、昇温速度10℃/
minの条件で示差熱分析により測定した。この値が大き
いほど保存性が良好であることを示す。
2. Residual curing heat value (evaluation of storage stability) Using a sample of the resin composition prepared by the method described above, the initial curing heat value immediately after preparation and the curing heat value after storage at 40 ° C. for 3 days were measured. Curing calorific value (mj / m
The percentage of the calorific value (mj / mg) after storage treatment relative to g) was calculated. In addition, the measurement of the calorific value of the curing was performed at a heating rate of 10 ° C. /
It was measured by differential thermal analysis under the condition of min. A larger value indicates better storage stability.

【0026】(合成例1)ビスフェノールF−D(本州
化学工業製、化合物(Y)に相当)300.3g(1.5
モル)と、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート(X)325.6g(0.5モル、ビスフェノー
ルF−D(Y)100重量部に対してボレート(X)1
08部の割合)とを、3Lセパラブルフラスコに仕込
み、215℃4時間反応させた。この反応でのベンゼン
留出量は、理論生成量の97wt%(すなわちベンゼン
留出率97%)であった。得られた生成物を微粉砕し、
セパラブルフラスコに仕込んで、イソプロパノールを仕
込み重量の3倍量加え、内温82.4℃(イソプロパノ
ールの沸点温度)で1.5時間攪拌、反応させた。その
後イソプロパノールの大部分を除去し、さらに加熱減圧
下で低沸点分を除去した。得られた生成物を化合物C1
−1とする。ホウ素含有率を測定したところ、0.10
wt%であった。
Synthesis Example 1 Bisphenol FD (corresponding to compound (Y), manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.) 300.3 g (1.5)
Mol) and 325.6 g of tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) (0.5 mol, 100 parts by weight of bisphenol FD (Y)) and borate (X) 1
08 parts) in a 3 L separable flask and reacted at 215 ° C. for 4 hours. The amount of benzene distilled in this reaction was 97% by weight of the theoretical amount (that is, the benzene distillation rate was 97%). The resulting product is pulverized,
The mixture was charged in a separable flask, 3 times the amount of the charged weight was added thereto, and the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 82.4 ° C. (boiling point temperature of isopropanol) for 1.5 hours. Thereafter, most of the isopropanol was removed, and low boiling components were further removed under reduced pressure by heating. The product obtained is converted to compound C1
-1. The boron content was determined to be 0.10
wt%.

【0027】(合成例2)合成例1と同様の条件で、ビ
スフェノールF−D(Y)とテトラフェニルホスホニウ
ムテトラフェニルボレート(X)とを熱反応させた後、
得られた生成物を微粉砕し、セパラブルフラスコに仕込
んで、トルエンを仕込み重量の3倍量加え、内温11
0.6℃(トルエンの沸点温度)で4時間攪拌、反応さ
せた。その後トルエンの大部分を除去し、さらに加熱減
圧下で低沸点分を除去した。得られた生成物を化合物C
1−2とし、ホウ素含有率を測定したところ0.3wt
%であった。
(Synthesis Example 2) Under the same conditions as in Synthesis Example 1, bisphenol FD (Y) and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) were thermally reacted.
The obtained product was pulverized, charged into a separable flask, and toluene was added in an amount 3 times the charged weight, and the internal temperature was adjusted to 11.
The mixture was stirred and reacted at 0.6 ° C. (boiling point temperature of toluene) for 4 hours. Thereafter, most of the toluene was removed, and low boiling components were further removed under reduced pressure by heating. The obtained product is compound C
1-2, and the boron content was measured to be 0.3 wt.
%Met.

【0028】(合成例3〜7)化合物(Y)の種類、X
/Yのモル比、およびその他の反応条件を、表1に示し
た通りにした以外、基本的な操作はすべて合成例1と同
様に行ない、それぞれ化合物C2、C3、C4、C5、
C6を調製した。これらの化合物についてホウ素含有率
を測定し、その結果を表1に示した。
(Synthesis Examples 3 to 7) Type of compound (Y), X
All the basic operations were performed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the molar ratio of / Y and other reaction conditions were as shown in Table 1, and compounds C2, C3, C4, C5,
C6 was prepared. The boron content of these compounds was measured, and the results are shown in Table 1.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】(比較合成例1)特公昭56−45491
号公報の記載に従って、平均分子量が約800、軟化点
が80〜90℃のフェノールノボラック樹脂 100部
と、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレー
ト 10部とを、ミキサーで粉砕混合し、500mlの
4つ口丸底フラスコに入れて、オイルバスで140℃に
加熱し、15分間攪拌モーターで加熱混合して、硬化剤
1を得た。
(Comparative Synthesis Example 1) JP-B-56-45491
In accordance with the description in JP-A No. 10-110, 100 parts of a phenol novolak resin having an average molecular weight of about 800 and a softening point of 80 to 90 ° C., and 10 parts of tetraphenylphosphonium tetraphenylborate are pulverized and mixed by a mixer, and mixed into a 500 ml four-necked round. The mixture was placed in a bottom flask, heated to 140 ° C. in an oil bath, and heated and mixed with a stirring motor for 15 minutes to obtain a curing agent 1.

【0031】(比較合成例2)特開平6−228280
号公報の記載に従って、軟化点110℃の1,1,3−ト
リフェノールプロパン 100部と、テトラフェニルホ
スホニウムテトラフェニルボレート 10部とを、1リ
ットルの4つ口フラスコに入れ、150℃で1時間放置
した後、200℃で1時間混合して、硬化剤2を得た。
(Comparative Synthesis Example 2) JP-A-6-228280
No. 1,100,1,3-triphenolpropane having a softening point of 110 ° C. and 10 parts of tetraphenylphosphonium tetraphenylborate are placed in a 1-liter four-necked flask and placed at 150 ° C. for 1 hour. After standing, the mixture was mixed at 200 ° C. for 1 hour to obtain a curing agent 2.

【0032】(比較合成例3)ビスフェノールF−D
(Y、本州化学工業製)300.3g(1.5モル)、テ
トラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート
(X)32.6g(0.05モル、モル比 X:Y=1:
30、ビスフェノールF−D(Y)100重量部に対し
てボレート(X)10.9部の割合)を、3Lセパラブ
ルフラスコに仕込み、150℃6時間反応させた。ベン
ゼン留出量は、理論生成量の93wt%(すなわちベン
ゼン留出率93%)であった。得られた生成物を微粉砕
し、セパラブルフラスコに仕込んで、ジエチルエーテル
を仕込み重量の3倍量加え、内温34.6℃(ジエチル
エーテルの沸点温度)で6時間攪拌、反応させた。その
後ジエチルエーテルの大部分を除去し、さらに加熱減圧
下で低沸点分を除去した。得られた生成物を化合物C7
とし、ホウ素含有率を測定したところ0.17wt%で
あった。
(Comparative Synthesis Example 3) Bisphenol FD
(Y, manufactured by Honshu Chemical Industry) 300.3 g (1.5 mol), 32.6 g of tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) (0.05 mol, molar ratio X: Y = 1:
30, a ratio of 10.9 parts of borate (X) to 100 parts by weight of bisphenol FD (Y)) was charged into a 3 L separable flask and reacted at 150 ° C. for 6 hours. The amount of benzene distilled was 93 wt% of the theoretical amount (that is, the benzene distillation rate was 93%). The obtained product was pulverized, charged in a separable flask, added with diethyl ether three times the charged weight, and stirred and reacted at an internal temperature of 34.6 ° C. (the boiling point of diethyl ether) for 6 hours. Thereafter, most of the diethyl ether was removed, and the components having a low boiling point were further removed under reduced pressure by heating. The resulting product was converted to compound C7
The boron content was measured and found to be 0.17 wt%.

【0033】しかしこれは、ボレート(X)とビスフェ
ノールF−D(Y)のモル比X:Yが1:30で、Y過
剰であるため、前段反応生成物の時点ですでにホウ素含
有率が0.6wt%以下であり、本発明の範囲外であ
る。
However, this is because the molar ratio X: Y of borate (X) to bisphenol FD (Y) is 1:30, and there is an excess of Y, so that the boron content already exists at the time of the first-stage reaction product. 0.6 wt% or less, which is outside the scope of the present invention.

【0034】(比較合成例4)ビスフェノールF−D
(Y)100.1g(0.5モル)と、テトラフェニルホ
スホニウムテトラフェニルボレート(X)325.6g
(0.5モル)とを、3Lセパラブルフラスコに仕込
み、230℃8時間反応させた。この反応でのベンゼン
留出量は理論生成量の31wt%(すなわちベンゼン留出
率31%)であった。得られた生成物を微粉砕し、セパ
ラブルフラスコに仕込んで、ジエチルエーテルを仕込み
重量の3倍量加え、34.6℃で6時間攪拌、反応させ
た。その後溶媒の大部分を除去し、さらに加熱減圧下で
低沸点分を除去した。得られた生成物を化合物C8と
し、ホウ素含有率を求めたところ、1.3wt%であっ
た。
(Comparative Synthesis Example 4) Bisphenol FD
(Y) 100.1 g (0.5 mol) and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) 325.6 g
(0.5 mol) was charged into a 3 L separable flask and reacted at 230 ° C. for 8 hours. The amount of benzene distilled in this reaction was 31 wt% of the theoretical amount (that is, the benzene distillation rate was 31%). The obtained product was pulverized, charged into a separable flask, added with diethyl ether three times the charged weight, and stirred and reacted at 34.6 ° C. for 6 hours. Thereafter, most of the solvent was removed, and low boiling components were further removed under reduced pressure by heating. The obtained product was used as compound C8, and the boron content was determined to be 1.3 wt%.

【0035】(比較合成例5)合成例1と同様の条件
で、ビスフェノールF−D(Y)とテトラフェニルホス
ホニウムテトラフェニルボレート(X)とを、熱反応し
て得られた生成物を化合物Dとする。(Dには溶媒中で
の反応処理を施していない。)
(Comparative Synthesis Example 5) A compound obtained by thermally reacting bisphenol FD (Y) with tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) under the same conditions as in Synthesis Example 1 was used as Compound D And (D is not subjected to a reaction treatment in a solvent.)

【0036】(実施例1〜7、および比較例1〜6)表
2に示した配合により、前記の方法で樹脂組成物のサン
プルを調製し、評価を行なった。比較例1、2では、実
施例における化合物(B),(C)に代えて硬化剤1,
2を、また、比較例3、6では、化合物(C)に代え
て、それぞれトリフェニルホスフィン、化合物Dを用い
た。各樹脂組成物の評価結果は、まとめて表2に示し
た。
(Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 6) Samples of the resin composition were prepared by the above-described method according to the formulations shown in Table 2 and evaluated. In Comparative Examples 1 and 2, curing agents 1 and 2 were used instead of the compounds (B) and (C) in Examples.
2, and in Comparative Examples 3 and 6, triphenylphosphine and compound D were used instead of compound (C). The evaluation results of each resin composition are collectively shown in Table 2.

【0037】[0037]

【表2】 [Table 2]

【0038】表2に示した各実施例の評価結果から明ら
かなように、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、優れた硬
化性と保存性を有するのに対して、比較例1〜3(従来
技術による方法)では、明らかに硬化性が悪い上、保存
性も劣る。また、比較例4、5は保存性はよいが、硬化
性がよくない。比較例4で用いた化合物C7は、テトラ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレート(X)と
化合物(Y)とを、モル比1/30(化合物(Y)過剰
に使用)で熱反応させ、それを沸点が60℃より低い溶
媒中で反応処理した例であり、比較例5で用いた化合物
C8は、モル比1/1(ボレート(X)を過剰に使用)
で熱反応させ、それを沸点が60℃より低い溶媒中で反
応処理した例である。比較例6で用いた化合物Dは、溶
媒中での反応を行っておらず、ホウ素含有率が1.16
wt%と0.6wt%より高い例で、保存性はよいが、
硬化性は実施例1〜7のレベルに達していない。
As is clear from the evaluation results of the examples shown in Table 2, the thermosetting resin composition of the present invention has excellent curability and storage stability, while Comparative Examples 1 to 3 In the case of the method according to the prior art, the curability is clearly poor and the storage stability is also poor. Further, Comparative Examples 4 and 5 have good preservability but not good curability. Compound C7 used in Comparative Example 4 was subjected to a thermal reaction between tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) and compound (Y) at a molar ratio of 1/30 (used in excess of compound (Y)), and the boiling point was This is an example in which the reaction treatment was carried out in a solvent lower than 60 ° C., and the compound C8 used in Comparative Example 5 had a molar ratio of 1/1 (excess use of borate (X)).
This is an example in which a thermal reaction is performed in a solvent having a boiling point lower than 60 ° C. Compound D used in Comparative Example 6 did not react in a solvent and had a boron content of 1.16.
wt% and higher than 0.6 wt%, the preservability is good,
Curability has not reached the level of Examples 1-7.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、硬化性
と保存性に優れ、電気・電子部品の封止材料として用い
れば、生産効率の向上と、物流・保管時のハンドリング
性向上に寄与することができ、電気・電子材料分野にお
ける昨今の要求に応え得るものとして有用である。
The thermosetting resin composition of the present invention has excellent curability and preservability, and when used as a sealing material for electric / electronic parts, improves the production efficiency and the handling property during distribution and storage. And is useful as a material that can respond to recent demands in the field of electric and electronic materials.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 永田 寛 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 (72)発明者 秋山 仁人 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 Fターム(参考) 4J036 AC01 AC05 AD07 AF05 AF06 AJ14 AK01 FA09 FA10 FA14 FB06 FB07 FB08 GA29 JA07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hiroshi Nagata 2-5-8 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd. (72) Inventor Hitto Akiyama 2-5-2 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo No. Sumitomo Bakelite Co., Ltd. F-term (reference) 4J036 AC01 AC05 AD07 AF05 AF06 AJ14 AK01 FA09 FA10 FA14 FB06 FB07 FB08 GA29 JA07

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1分子内にエポキシ基を2個以上有する
化合物(A)、1分子内にフェノール性水酸基を2個以
上有する化合物(B)、および、テトラフェニルホスホ
ニウムテトラフェニルボレート(X)と一般式(1)で
表される化合物(Y)とを反応させて得られる化合物
(C)を必須成分とし、該化合物(C)が、X:Yのモ
ル比が1:2〜4の範囲で熱反応させた後、さらに沸点
60℃以上の溶媒中で反応を進めて得られ、かつ該化合
物中のホウ素含有率が0.6wt%以下であることを特徴
とする熱硬化性樹脂組成物。 【化1】 式中、フェニル基に置換している水酸基の位置は、メチ
レンに対しオルソ、パラのいずれかであり、2つの水酸
基の位置は左右対称でも非対称でもよい。
1. A compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule, a compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X). A compound (C) obtained by reacting the compound (Y) represented by the general formula (1) is an essential component, and the compound (C) has a molar ratio of X: Y in the range of 1: 2 to 4. A thermosetting resin composition obtained by further proceeding the reaction in a solvent having a boiling point of 60 ° C. or more, and having a boron content of 0.6 wt% or less in the compound. . Embedded image In the formula, the position of the hydroxyl group substituted on the phenyl group is either ortho or para to methylene, and the positions of the two hydroxyl groups may be symmetric or asymmetric.
【請求項2】 テトラフェニルホスホニウムテトラフェ
ニルボレート(X)と化合物(Y)との熱反応が、15
0℃以上230℃以下の温度範囲で1時間以上行なわれ
ることを特徴とする、請求項1記載の熱硬化性樹脂組成
物。
2. The thermal reaction between tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) and compound (Y) is as follows.
The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the heat treatment is performed for 1 hour or more in a temperature range of 0 ° C or more and 230 ° C or less.
【請求項3】 テトラフェニルホスホニウムテトラフェ
ニルボレート(X)と化合物(Y)との、熱反応の際に
生成するベンゼンの量が、理論量の80wt%以上であ
ることを特徴とする、請求項1または請求項2記載の熱
硬化性樹脂組成物。
3. The method according to claim 1, wherein the amount of benzene generated during the thermal reaction between the tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (X) and the compound (Y) is 80% by weight or more of the theoretical amount. The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2.
【請求項4】 沸点60℃以上の溶媒が、1分子内に水
酸基を少なくとも1個有するものであり、該溶媒中での
反応が1時間以上行なわれることを特徴とする、請求項
1記載の熱硬化性樹脂組成物。
4. The solvent according to claim 1, wherein the solvent having a boiling point of 60 ° C. or more has at least one hydroxyl group in one molecule, and the reaction in the solvent is carried out for 1 hour or more. Thermosetting resin composition.
【請求項5】 沸点60℃以上の溶媒が、アルコール系
溶媒であることを特徴とする、請求項1または請求項4
記載の熱硬化性樹脂組成物。
5. The solvent according to claim 1, wherein the solvent having a boiling point of 60 ° C. or higher is an alcohol solvent.
The thermosetting resin composition according to the above.
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