JP2000254441A - Gas treating device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス処理装置に係
り、特に、脱臭などの目的のために、有機化合物や無機
化合物の分解や種々の殺菌処理を行うガス処理装置に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas treatment apparatus, and more particularly to a gas treatment apparatus for decomposing organic compounds and inorganic compounds and performing various sterilization treatments for the purpose of deodorization and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、有機化合物や無機化合物の分解方
法として、酸化力の強いオゾンによるガス分解処理が広
く使用されている。以下に、オゾンを用いた従来のガス
処理装置について、図８を用いて説明する。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for decomposing organic compounds and inorganic compounds, gas decomposition treatment using ozone having a strong oxidizing power has been widely used. Hereinafter, a conventional gas processing apparatus using ozone will be described with reference to FIG.
【０００３】図８に示すように、従来のガス処理装置１
００は、被処理ガスとしての臭気ガス（Ｂ）が吸入され
る吸入口１０７を有する処理容器１０１を備えている。
吸入口１０７は、処理容器１０１の上方側の側壁に配置
されている。また、処理容器１０１の下方側の側壁に
は、処理後の処理ガス（Ｃ）が排出される排出口１０８
が形成されている。さらに、処理容器１０１の底面部に
は、処理のために用いた水（詳細は後述する）を貯留さ
せる水貯留部１０５が設けられている。[0003] As shown in FIG.
No. 00 is provided with a processing container 101 having a suction port 107 through which an odor gas (B) as a gas to be processed is sucked.
The suction port 107 is arranged on the upper side wall of the processing container 101. Further, an outlet 108 through which the processed processing gas (C) is discharged is provided on a lower side wall of the processing container 101.
Are formed. Further, a water storage unit 105 for storing water used for processing (to be described in detail later) is provided on the bottom surface of the processing container 101.
【０００４】一方、処理容器１０１の近傍には、空気か
らオゾン化空気（Ｏ）を生成するための除湿器１０３及
びオゾン発生器１０４が設けられており、除湿器１０３
によって乾燥された空気からオゾン発生器１０４が効率
良くオゾン化空気（Ｏ）を発生するようになっている。
また、処理容器１０１の近傍には、高圧空気（Ｇ）を生
成するためのコンプレッサ１０６が設けられている。コ
ンプレッサ１０６は、通常、空気をゲージ圧で１気圧程
度加圧するものが用いられる。On the other hand, a dehumidifier 103 and an ozone generator 104 for generating ozonized air (O) from air are provided near the processing vessel 101.
The ozone generator 104 efficiently generates ozonized air (O) from the air dried by the method.
Further, a compressor 106 for generating high-pressure air (G) is provided near the processing container 101. As the compressor 106, a compressor that normally pressurizes air by a gauge pressure of about 1 atm is used.
【０００５】そして処理容器１０１の上面略中央に、水
（Ｈ）と、オゾン発生器１０４で生成されたオゾン化空
気（Ｏ）と、コンプレッサ１０６で生成された高圧空気
（Ｇ）とを、処理容器１０１内にミスト状に噴射するノ
ズル１０２が設けられている。At approximately the center of the upper surface of the processing vessel 101, water (H), ozonized air (O) generated by the ozone generator 104, and high-pressure air (G) generated by the compressor 106 are processed. A nozzle 102 that sprays in a mist form is provided in a container 101.
【０００６】従来のガス処理装置１００は、以下のよう
に作用する。The conventional gas processing apparatus 100 operates as follows.
【０００７】まず、除湿器１０３によって水分が取り除
かれた空気がオゾン発生器１０４に導入され、オゾン発
生器１０４によってオゾン化空気（Ｏ）が生成される。
また、コンプレッサ１０６によって、高圧空気（Ｇ）が
生成される。[0007] First, air from which moisture has been removed by the dehumidifier 103 is introduced into the ozone generator 104, and the ozone generator 104 generates ozonized air (O).
The compressor 106 generates high-pressure air (G).
【０００８】生成されたオゾン化空気（Ｏ）と高圧空気
（Ｇ）とは、水（Ｈ）と共にノズル１０２から処理容器
１０１内にミスト状に噴射される。処理容器１０１内で
は、オゾン化空気（Ｏ）（あるいは水（Ｈ）に溶解した
オゾン）は、 Ｏ3 →Ｏ2 ＋Ｏ …（１） Ｏ3 ＋Ｈ2 Ｏ→２ＯＨ＋Ｏ2 …（２） の反応により分解する。ただし、Ｏ3 はオゾン、Ｏ2 は
酸素分子、Ｏは酸素原子、Ｈ2 Ｏは水、ＯＨはＯＨラジ
カルである。また、式（１）及び式（２）中の→は、左
から右へ反応が発生することを意味している。The generated ozonized air (O) and high-pressure air (G) are jetted together with water (H) from the nozzle 102 into the processing vessel 101 in the form of a mist. In the processing vessel 101, ozonized air (O) (or ozone dissolved in water (H)) is converted by O 3 → O 2 + O (1) O 3 + H 2 O → 2OH + O 2 (2) Decompose. However, O 3 is ozone, O 2 is an oxygen molecule, O is an oxygen atom, H 2 O is water, and OH is an OH radical. In formulas (1) and (2), → means that a reaction occurs from left to right.
【０００９】一方、被処理ガスとしての臭気ガス（Ｂ）
は、吸入口１０７から処理容器１０１内に供給される。
そして、化学式（１）の分解反応によって生じた酸素原
子Ｏ及び化学式（２）の分解反応によって生じたＯＨラ
ジカルが、臭気ガス（Ｂ）中の有機化合物や無機化合物
を分解する。On the other hand, the odorous gas (B) as the gas to be treated
Is supplied from the suction port 107 into the processing container 101.
Then, the oxygen atom O generated by the decomposition reaction of the chemical formula (1) and the OH radical generated by the decomposition reaction of the chemical formula (2) decompose the organic compound and the inorganic compound in the odor gas (B).
【００１０】処理後の処理ガス（Ｃ）は、排出口１０８
から排出され、処理に用いた水は、処理容器１０１の底
面部の水貯留部１０５に溜まる。The processing gas (C) after the processing is supplied to the discharge port 108.
The water used for the treatment is discharged from the water reservoir 105 on the bottom of the treatment container 101.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】従来のガス処理装置１
００においては、オゾン化空気（Ｏ）と水（Ｈ）とを、
高圧空気（Ｇ）と同時に噴射することによって、ミスト
状にして処理容器１０１内に供給している。A conventional gas processing apparatus 1
In 00, ozonized air (O) and water (H)
By injecting at the same time as the high-pressure air (G), it is supplied into the processing container 101 in the form of a mist.
【００１２】そのために、コンプレッサー１０６が必要
となっており、コンプレッサ１０６のイニシャルコス
ト、設置面積及び消費電力等によって、ガス処理装置１
００全体のイニシャルコスト、設置面積及び消費電力が
高くなっている。For this purpose, a compressor 106 is required, and the gas processing apparatus 1 is required depending on the initial cost, installation area, power consumption, and the like of the compressor 106.
The initial cost, installation area, and power consumption of the entire 00 are high.
【００１３】本発明は、このような点を考慮してなされ
たものであり、コンプレッサによってミスト状にオゾン
化空気と水とを処理容器内に供給しなくても、効率良く
ガス処理を行えるガス処理装置を提供することを目的と
する。[0013] The present invention has been made in view of the above points, and a gas which can efficiently perform gas processing without supplying ozonized air and water in a processing container in a mist state by a compressor. It is an object to provide a processing device.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明は、被処理ガスが
導入されるガス吸入口を有する処理容器と、処理容器内
にオゾンを導入するオゾン導入手段または処理容器内で
オゾンを発生させるオゾン発生手段と、処理容器内に水
分を供給する水供給手段と、処理容器内において、ガス
吸入口に対して対向配置された吸着材または吸収材と、
を備えたことを特徴とするガス処理装置である本発明に
よれば、処理容器内のガス吸入口に対して対向配置され
た吸着材または吸収材が、ガス吸入口から導入される被
処理ガス中の被処理物質を吸着または吸収することによ
り、実質的に被処理ガスの滞留時間を増大することがで
きるため、オゾン化空気と水とをミスト状にして供給し
なくても被処理ガスを効果的に処理することができる。According to the present invention, there is provided a processing container having a gas inlet through which a gas to be processed is introduced, an ozone introducing means for introducing ozone into the processing container, or ozone for generating ozone in the processing container. Generating means, a water supply means for supplying moisture into the processing vessel, and an adsorbent or an absorbent disposed in the processing vessel so as to face the gas inlet,
According to the gas processing apparatus of the present invention, the adsorbent or the absorbent disposed opposite to the gas suction port in the processing vessel is a gas to be processed introduced from the gas suction port. Since the retention time of the gas to be treated can be substantially increased by adsorbing or absorbing the substance to be treated therein, the gas to be treated can be supplied without supplying mist of ozonized air and water. It can be processed effectively.
【００１５】また本発明は、被処理ガスが導入されるガ
ス吸入口を有する処理容器と、処理容器内にオゾンを導
入するオゾン導入手段または処理容器内でオゾンを発生
させるオゾン発生手段と、処理容器内に水分を供給する
水供給手段と、処理容器内に設けられた吸着材または吸
収材と、処理容器内に設置された少なくとも一枚以上の
バッフル板と、を備えたことを特徴とするガス処理装置
である。Further, the present invention provides a processing container having a gas inlet through which a gas to be processed is introduced, an ozone introducing means for introducing ozone into the processing container or an ozone generating means for generating ozone in the processing container, Water supply means for supplying moisture into the container, an adsorbent or an absorbent provided in the processing container, and at least one or more baffle plates installed in the processing container, It is a gas processing device.
【００１６】本発明によれば、処理容器内に設置された
バッフル板が、処理容器内のガスの流れの障害となって
実質的なガス流路を増大させることにより、実質的に被
処理ガスの滞留時間を増大することができるため、オゾ
ン化空気と水とをミスト状にして供給しなくても被処理
ガスを効果的に処理することができる。According to the present invention, the baffle plate installed in the processing vessel substantially obstructs the flow of gas in the processing vessel and substantially increases the gas flow path, thereby substantially reducing the gas to be processed. Since the residence time of the gas can be increased, the gas to be treated can be effectively treated without supplying the ozonized air and water in the form of mist.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１８】図１は、本発明の第１の実施の形態による
ガス処理装置を示す構成概略図である。図１に示すよう
に、本発明の第１の実施の形態のガス処理装置３０は、
被処理ガスとしての臭気ガス（Ｂ）が導入される吸入口
７（ガス吸入口）を有する処理容器１を備えている。吸
入口７は、処理容器１の上方側の側壁に配置されてい
る。また、処理容器１の下方側の側壁には、処理後の処
理ガス（Ｃ）が排出される排出口８が形成されている。
さらに、処理容器１の底面部には、処理のために用いた
水（詳細は後述する）を貯留させる水貯留部５が設けら
れている。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a gas processing apparatus according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the gas processing device 30 according to the first embodiment of the present invention includes:
A processing container 1 having a suction port 7 (gas suction port) into which an odor gas (B) as a gas to be processed is introduced is provided. The suction port 7 is arranged on an upper side wall of the processing container 1. In the lower side wall of the processing container 1, an outlet 8 through which the processed processing gas (C) is discharged is formed.
Further, a water storage section 5 for storing water used for processing (details will be described later) is provided on the bottom portion of the processing container 1.
【００１９】処理容器１の近傍には、空気からオゾン化
空気（Ｏ）を生成するための除湿器３及びオゾン発生器
４が設けられており、除湿器３によって乾燥された空気
からオゾン発生器４が効率良くオゾン化空気（Ｏ）を発
生するようになっている。また、処理容器１の上面略中
央には、水（Ｈ）と、オゾン発生器４で生成されたオゾ
ン化空気（Ｏ）とを、処理容器１内にシャワー状に供給
するノズル２が設けられている。すなわち、本実施の形
態では、除湿器３とオゾン発生器４とノズル２とが、オ
ゾン導入手段を構成しており、ノズル２は同時に水供給
手段を構成している。A dehumidifier 3 and an ozone generator 4 for generating ozonized air (O) from air are provided in the vicinity of the processing container 1, and an ozone generator is formed from the air dried by the dehumidifier 3. No. 4 efficiently generates ozonized air (O). A nozzle 2 for supplying water (H) and ozonized air (O) generated by the ozone generator 4 into the processing container 1 in a shower shape is provided substantially at the center of the upper surface of the processing container 1. ing. That is, in the present embodiment, the dehumidifier 3, the ozone generator 4, and the nozzle 2 constitute an ozone introduction unit, and the nozzle 2 simultaneously constitutes a water supply unit.
【００２０】処理容器１内には、吸入口７に対向する位
置に吸収材１５が配置されている。本実施の形態では、
処理容器１の内壁のその他の部分にも、吸収材１６が設
けられている。さらに、処理容器１内には、処理容器１
内のガスの流れの障害となって実質的なガス流路を増大
させるように、３枚のバッフル板１７が設置されてい
る。バッフル板１７の両表面には、吸収材１７ａが設け
られている。In the processing container 1, an absorbent 15 is disposed at a position facing the inlet 7. In the present embodiment,
Absorbers 16 are also provided on other portions of the inner wall of the processing container 1. Further, in the processing container 1, the processing container 1
Three baffle plates 17 are provided so as to obstruct the flow of gas in the inside and increase the substantial gas flow path. Absorbing materials 17a are provided on both surfaces of the baffle plate 17.
【００２１】各吸収材５、６、１７ａは、吸着材であっ
てもよく、被処理ガスを効果的に吸収または吸着するも
のであれば、互いに同一であっても異なっていても良
く、公知の種々の材料から適宜に選択され得る。Each of the absorbents 5, 6, 17a may be an adsorbent, and may be the same or different from each other as long as it can effectively absorb or adsorb the gas to be treated. Can be appropriately selected from various materials.
【００２２】次に、このような構成よりなる本実施の形
態の作用について説明する。Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described.
【００２３】まず、除湿器３によって水分が取り除かれ
た空気がオゾン発生器４に導入され、オゾン発生器４に
よってオゾン化空気（Ｏ）が生成される。First, the air from which moisture has been removed by the dehumidifier 3 is introduced into the ozone generator 4, and the ozone generator 4 generates ozonized air (O).
【００２４】生成されたオゾン化空気（Ｏ）は、水
（Ｈ）と共にノズル２から処理容器１内にシャワー状に
供給される。処理容器１内では、オゾン化空気（Ｏ）
（あるいは水（Ｈ）に溶解したオゾン）は、 Ｏ3 →Ｏ2 ＋Ｏ …（１） Ｏ3 ＋Ｈ2 Ｏ→２ＯＨ＋Ｏ2 …（２） の反応により分解する。ここで、Ｏ3 はオゾン、Ｏ2 は
酸素分子、Ｏは酸素原子、Ｈ2 Ｏは水、ＯＨはＯＨラジ
カルである。また、式（１）及び式（２）中の→は、左
から右へ反応が発生することを意味している。The generated ozonized air (O) is supplied together with water (H) from the nozzle 2 into the processing vessel 1 in a shower form. In the processing container 1, ozonized air (O)
(Or ozone dissolved in water (H)) is decomposed by the reaction of O 3 → O 2 + O (1) O 3 + H 2 O → 2OH + O 2 (2) Here, O 3 is ozone, O 2 is an oxygen molecule, O is an oxygen atom, H 2 O is water, and OH is an OH radical. In formulas (1) and (2), → means that a reaction occurs from left to right.
【００２５】被処理ガスとしての臭気ガス（Ｂ）は、吸
入口７から処理容器１内に供給される。吸入口７から入
った臭気ガス（Ｂ）の一部は、吸入口７と対向配置され
た吸収材１５に確実に吸収され、保持される。また、臭
気ガス（Ｂ）の他の一部は、処理容器１の内壁に設けら
れた吸収材１６やバッフル板１７に設けられた吸収材１
７ａにも吸収され、保持され得る。さらに臭気ガス
（Ｂ）は、バッフル板１７によって実質的な流路が増大
されている。これらにより、臭気ガス（Ｂ）、特に臭気
ガス（Ｂ）中の被処理物質である有機化合物や無機化合
物、の処理容器１内における滞留時間が増大する。An odor gas (B) as a gas to be processed is supplied from the suction port 7 into the processing container 1. Part of the odor gas (B) entering from the suction port 7 is surely absorbed and held by the absorbing material 15 arranged opposite to the suction port 7. Another part of the odor gas (B) is supplied to the absorbent 16 provided on the inner wall of the processing vessel 1 or the absorbent 1 provided on the baffle plate 17.
7a can also be absorbed and retained. Further, the substantial flow path of the odor gas (B) is increased by the baffle plate 17. As a result, the residence time of the odor gas (B), in particular, the organic and inorganic compounds to be treated in the odor gas (B) in the processing vessel 1 increases.
【００２６】そして、化学式（１）の分解反応によって
生じた酸素原子Ｏ及び化学式（２）の分解反応によって
生じたＯＨラジカルが、処理容器１内を流れる臭気ガス
（Ｂ）中の有機化合物や無機化合物（被処理物質）を分
解する。Oxygen atoms O generated by the decomposition reaction of the chemical formula (1) and OH radicals generated by the decomposition reaction of the chemical formula (2) are converted into organic compounds and inorganic compounds in the odor gas (B) flowing in the processing vessel 1. Decomposes compounds (substances to be treated).
【００２７】同様に、各吸収材１５、１６、１７ａに吸
収される臭気ガス（Ｂ）の分子は、各吸収材１５、１
６、１７ａの表面に拡散析出するため、化学式（１）の
分解反応によって生じた酸素原子Ｏまたは化学式（２）
の分解反応によって生じたＯＨラジカルとの衝突によっ
て分解される。Similarly, the molecules of the odor gas (B) absorbed by each of the absorbents 15, 16, 17a are converted into molecules of each of the absorbents 15, 1 and 17a.
Oxygen atoms O generated by the decomposition reaction of the chemical formula (1) or the chemical formula (2) because they are diffused and deposited on the surfaces of 6, 6a.
Is decomposed by collision with OH radicals generated by the decomposition reaction of
【００２８】処理後の処理ガス（Ｃ）は、排出口８から
排出され、処理に用いた水は、処理容器１の底面部の水
貯留部５に溜まる。The treated gas (C) after the treatment is discharged from the discharge port 8, and the water used for the treatment accumulates in the water reservoir 5 on the bottom of the treatment container 1.
【００２９】本実施の形態においては、ガス吸入口７に
対して対向配置された吸収材１５の存在によって、ある
いは、バッフル板１７の存在によって、更には、吸収材
１６、１７ａの存在によって、ガスが排出口８へ流れる
までに酸素原子ＯやＯＨラジカルＯＨと衝突する時間
（結果として回数）が増大している。すなわち、処理容
器１の内表面積をＳ、処理容器１の容積をＶとした時の
Ｓ／Ｖ比が同じであっても、壁の面積を増大させている
ことと等価の効果があり、本実施の形態のガス処理装置
３０は極めて高効率にガスを処理することができる。In the present embodiment, the presence of the absorber 15 disposed opposite to the gas inlet 7 or the presence of the baffle plate 17 and the presence of the absorbers 16 and 17a allow the gas to be removed. The time (as a result, the number of times) of collision with oxygen atoms O and OH radicals OH before flows to the outlet 8 increases. That is, even if the S / V ratio when the inner surface area of the processing container 1 is S and the volume of the processing container 1 is V is the same, there is an effect equivalent to increasing the area of the wall. The gas processing device 30 of the embodiment can process gas with extremely high efficiency.
【００３０】従って、本実施の形態のガス処理装置は、
従来のようにコンプレッサを使用して高圧空気によって
オゾン化空気（Ｏ）と水（Ｈ）とをミスト状に噴射しな
くとも、ガスの処理効率が十分に高い。コンプレッサが
不要であることのため、イニシャルコスト、設置面積及
び消費電力等を低減することができる。Therefore, the gas processing apparatus of the present embodiment
Even if ozonized air (O) and water (H) are not injected in the form of mist using high-pressure air using a compressor as in the related art, the gas processing efficiency is sufficiently high. Since a compressor is not required, initial cost, installation area, power consumption, and the like can be reduced.
【００３１】また、本実施の形態によれば、オゾン化空
気（Ｏ）と水（Ｈ）とをミスト状に噴射しないため、特
に水溶性の悪臭ガスであるアンモニアや硫化水素が、ミ
ストと共に排出口８から排出されることが効果的に回避
される。Further, according to the present embodiment, ozonized air (O) and water (H) are not injected in a mist state, so that ammonia and hydrogen sulfide, which are water-soluble odorous gases, are discharged together with the mist. Discharge from the outlet 8 is effectively avoided.
【００３２】また、本実施の形態によれば、ガスの処理
効率を向上させたことによって、オゾン化空気（Ｏ）の
高効率の利用を実現しているので、発生オゾン量の低減
も可能となり、この点でも消費電力等の低減が可能であ
る。Further, according to the present embodiment, the use of ozonized air (O) with high efficiency is realized by improving the gas treatment efficiency, so that the amount of generated ozone can be reduced. In this respect, power consumption and the like can be reduced.
【００３３】次に、本発明の第２の実施の形態のガス処
理装置について図２を用いて説明する。図２は、第２の
実施の形態のガス処理装置の概略構成図である。Next, a gas processing apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a gas processing device according to the second embodiment.
【００３４】図２に示すように、本実施の形態のガス処
理装置３０は、除湿器３及びオゾン発生器４を設けない
代わりに処理容器１内の吸入口７と最上段のバッフル板
１７との間にオゾン発生用ランプ１３が設けられ、ノズ
ル２からは水だけがシャワー状に供給されるようになっ
ている。As shown in FIG. 2, the gas processing apparatus 30 according to the present embodiment is configured such that the dehumidifier 3 and the ozone generator 4 are not provided, but the suction port 7 in the processing vessel 1 and the uppermost baffle plate 17 are provided. An ozone generation lamp 13 is provided between the nozzles, and only water is supplied from the nozzle 2 in a shower shape.
【００３５】その他の構成は、図１に示す第１の実施の
形態と同様の構成である。第２の実施の形態において、
図１に示す第１の実施の形態と同一の部分には同一の符
号を付して詳細な説明は省略する。The other structure is the same as that of the first embodiment shown in FIG. In the second embodiment,
The same parts as those in the first embodiment shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.
【００３６】オゾン化空気の生成をオゾン発生器４によ
って行う場合、原料ガスである空気または酸素が乾燥し
ていないとオゾン化空気の生成効率が大幅に減少するた
め、空気中の水分を除去するための除湿器３または空気
乾燥装置を併設させる必要があり、オゾン発生器４と除
湿器３とのイニシャルコスト、設置面積及び消費電力等
が必要である。When the ozonized air is generated by the ozone generator 4, if the air or oxygen as the raw material gas is not dried, the efficiency of generating the ozonized air is greatly reduced. It is necessary to provide a dehumidifier 3 or an air drying device in parallel, and the initial cost, installation area, power consumption, and the like of the ozone generator 4 and the dehumidifier 3 are required.
【００３７】これに対して、本実施の形態によれば、オ
ゾン発生用ランプ１３によって、被処理ガスの処理のた
めの化学反応（化学式（１）（２）参照）へのオゾンの
供給を処理容器１内で直接行うため、オゾン発生器４と
除湿器３とのイニシャルコスト、設置面積及び消費電力
等を削減することが可能である。On the other hand, according to the present embodiment, the supply of ozone to the chemical reaction (see chemical formulas (1) and (2)) for processing the gas to be processed is processed by the ozone generating lamp 13. Since the ozone generator 4 and the dehumidifier 3 are performed directly in the container 1, it is possible to reduce the initial cost, installation area, power consumption, and the like of the ozone generator 4 and the dehumidifier 3.
【００３８】次に、本発明の第３の実施の形態のガス処
理装置について図３を用いて説明する。図３は、第３の
実施の形態のガス処理装置の概略構成図である。Next, a gas processing apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a gas processing device according to the third embodiment.
【００３９】図３に示すように、本実施の形態のガス処
理装置３０は、吸収材１６、１７ａの表面に光触媒１１
を担持させると共に、オゾン分解波長、例えば紫外線を
含むスペクトルを有する複数のランプ１０が処理容器１
内に適当な間隔で設置されている。光触媒１１は、例え
ば二酸化チタンで構成され、紫外線ランプ１０は、例え
ば低圧水銀灯である。As shown in FIG. 3, the gas processing apparatus 30 of the present embodiment has a photocatalyst 11 on the surface of the absorbers 16 and 17a.
And a plurality of lamps 10 having an ozone decomposition wavelength, for example, a spectrum including ultraviolet rays,
Are installed at appropriate intervals. The photocatalyst 11 is made of, for example, titanium dioxide, and the ultraviolet lamp 10 is, for example, a low-pressure mercury lamp.
【００４０】その他の構成は、図２に示す第２の実施の
形態と同様の構成である。第３の実施の形態において、
図２に示す第２の実施の形態と同一の部分には同一の符
号を付して詳細な説明は省略する。The other structure is the same as that of the second embodiment shown in FIG. In a third embodiment,
The same parts as those in the second embodiment shown in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.
【００４１】光触媒１１は、以下の表面反応式（４）〜
（６）により酸化力の強いＯＨラジカルを発生する。The photocatalyst 11 has the following surface reaction formula (4)
(6) generates OH radicals having strong oxidizing power.
【００４２】 ＴｉＯ2 ＋ｈν→ＴｉＯ2 ＋ｈ+ ＋ｅ- …（４） ｅ- ＋Ｏ2 →Ｏ2 - …（５） ｈ+ ＋Ｈ2 Ｏ→ＯＨ＋Ｈ+ …（６） より詳細に説明すれば、光触媒１１の表面に紫外線があ
たると、正孔ｈ+ （ホール［ｈｏ１ｅ］）が励起される
（反応式（４））。一方、反応式（４）で発生する励起
電子ｅ- は、酸素分子Ｏ2 などの電子受容体により、非
常に早い反応で奪い取られ、負イオン分子Ｏ2 -を生成
する（反応式（５））。その結果、光触媒１１には、ホ
ールｈ+ が残り、ホールｈ+ により水分子Ｈ2 Ｏが分解
されて、ＯＨラジカルＯＨが生成される（反応式
（６））。TiO 2 + hν → TiO 2 + h + + e − (4) e − + O 2 → O 2 − (5) h + + H 2 O → OH + H + (6) More specifically, the photocatalyst 11 When the surface is irradiated with ultraviolet rays, holes h + (hole [ho1e]) are excited (reaction formula (4)). On the other hand, the excited electrons e − generated in the reaction formula (4) are removed by a very fast reaction by an electron acceptor such as an oxygen molecule O 2 to generate a negative ion molecule O 2 − (reaction formula (5) ). As a result, holes h + remain in the photocatalyst 11, and the water molecules H 2 O are decomposed by the holes h + to generate OH radicals OH (reaction formula (6)).
【００４３】本実施の形態によれば、光触媒１１によっ
てＯＨラジカルが発生することにより、臭気ガス（Ｂ）
の分解効率をより向上させることができる。According to the present embodiment, the generation of OH radicals by the photocatalyst 11 causes the odor gas (B)
Can be further improved.
【００４４】次に、本発明の第４の実施の形態のガス処
理装置について図４を用いて説明する。図４は、第４の
実施の形態のガス処理装置の概略構成図である。Next, a gas processing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a gas processing device according to the fourth embodiment.
【００４５】図４に示すように、本実施の形態のガス処
理装置３０は、吸収材１６、１７ａの表面に光触媒１１
を担持させる代わりに、吸収材１６、１７ａに光触媒ゾ
ル溶液１１’を含浸させるための光触媒溶液供給装置９
が接続されている。光触媒ゾル溶液１１’は、例えば二
酸化チタンゾル溶液である。As shown in FIG. 4, the gas treatment apparatus 30 of the present embodiment has a photocatalyst 11 on the surfaces of the absorbers 16 and 17a.
Solution supply device 9 for impregnating the absorbers 16 and 17a with the photocatalyst sol solution 11 '
Is connected. The photocatalytic sol solution 11 'is, for example, a titanium dioxide sol solution.
【００４６】その他の構成は、図３に示す第３の実施の
形態と同様の構成である。第４の実施の形態において、
図３に示す第３の実施の形態と同一の部分には同一の符
号を付して詳細な説明は省略する。The other structure is the same as that of the third embodiment shown in FIG. In the fourth embodiment,
The same parts as those in the third embodiment shown in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.
【００４７】本実施の形態によれば、吸収材１６、１７
ａに含浸される光触媒ゾル溶液１１’から、前述の反応
式（４）〜（６）によってＯＨラジカルが発生すること
により、臭気ガス（Ｂ）の分解効率をより向上させるこ
とができる。According to the present embodiment, the absorbers 16 and 17
By generating OH radicals from the photocatalyst sol solution 11 ′ impregnated in a according to the above-mentioned reaction formulas (4) to (6), the decomposition efficiency of the odor gas (B) can be further improved.
【００４８】次に、本発明の第５の実施の形態のガス処
理装置について図５を用いて説明する。図５は、第５の
実施の形態のガス処理装置の概略構成図である。Next, a gas processing apparatus according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a gas processing device according to the fifth embodiment.
【００４９】図５に示すように、本実施の形態のガス処
理装置３０は、吸収材１６、１７ａの表面に光触媒１１
を直接担持させる代わりに、吸収材１６、１７ａの表面
に光触媒１１を把持したメッシュ状担持体２２を固着し
ている。メッシュ状担持体２２は、例えばステンレス鋼
製の網形状の金網である。As shown in FIG. 5, the gas treatment apparatus 30 of the present embodiment has a photocatalyst 11 on the surfaces of the absorbers 16 and 17a.
Is supported directly on the surfaces of the absorbers 16 and 17a, and the mesh-like support 22 holding the photocatalyst 11 is fixed. The mesh-shaped support 22 is, for example, a mesh-shaped wire net made of stainless steel.
【００５０】その他の構成は、図３に示す第３の実施の
形態と同様の構成である。第５の実施の形態において、
図３に示す第３の実施の形態と同一の部分には同一の符
号を付して詳細な説明は省略する。The other structure is the same as that of the third embodiment shown in FIG. In a fifth embodiment,
The same parts as those in the third embodiment shown in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.
【００５１】本実施の形態によれば、メッシュ状担持体
１２に担持された光触媒１１から、前述の反応式（４）
〜（６）によってＯＨラジカルが発生することにより、
臭気ガス（Ｂ）の分解効率をより向上させることができ
る。According to the present embodiment, the photocatalyst 11 supported on the mesh-shaped support 12 is converted into the above-mentioned reaction formula (4).
~ (6) generates OH radicals,
The decomposition efficiency of the odor gas (B) can be further improved.
【００５２】次に、本発明の第６の実施の形態のガス処
理装置について図６を用いて説明する。図６は、第６の
実施の形態のガス処理装置の概略構成図である。Next, a gas processing apparatus according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a gas processing apparatus according to the sixth embodiment.
【００５３】図６に示すように、本実施の形態のガス処
理装置３０は、吸入口７が、処理容器１の上方側の側壁
に設けられる代わりに処理容器１の下方側の側壁に設け
られ、排出口８が、処理容器１の下方側の側壁に設けら
れる代わりに処理容器１の上面に設けられ、バッフル板
１７は、処理容器１内のガスの流れの障害となって実質
的なガス流路を増大させるように処理容器１の上方側に
２枚が設けられ、ノズル２及びノズル２に水を供給する
水供給管２ａが、処理容器１の上面に設けられる代わり
に処理容器１内部のオゾン発生器１３と最下段のバッフ
ル板１７との間に設けられている。As shown in FIG. 6, in the gas processing apparatus 30 of the present embodiment, the suction port 7 is provided on the lower side wall of the processing vessel 1 instead of being provided on the upper side wall of the processing vessel 1. The outlet 8 is provided on the upper surface of the processing container 1 instead of being provided on the lower side wall of the processing container 1, and the baffle plate 17 serves as an obstacle to the gas flow in the processing container 1 and Two sheets are provided on the upper side of the processing container 1 so as to increase the flow path, and a nozzle 2 and a water supply pipe 2a for supplying water to the nozzle 2 are provided on the upper surface of the processing container 1 instead of the inside thereof. Is provided between the ozone generator 13 of FIG.
【００５４】その他の構成は、図３に示す第３の実施の
形態と同様の構成である。例えば、処理容器１内には、
吸入口７に対向する位置に吸収材１５が設けられてい
る。第６の実施の形態において、図３に示す第３の実施
の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明
は省略する。The other structure is the same as that of the third embodiment shown in FIG. For example, in the processing container 1,
An absorber 15 is provided at a position facing the inlet 7. In the sixth embodiment, the same parts as those in the third embodiment shown in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.
【００５５】本実施の形態によれば、供給される水
（Ｈ）が重力によって流れる方向と、ガスの流れる方向
とが逆であるので、化学反応（化学式（１）（２）参
照）が促進され、処理効率をより向上させることができ
る。According to the present embodiment, the direction in which the supplied water (H) flows by gravity and the direction in which the gas flows are opposite, so that the chemical reaction (see chemical formulas (1) and (2)) is accelerated. Thus, the processing efficiency can be further improved.
【００５６】次に、本発明の第７の実施の形態のガス処
理装置について図７を用いて説明する。図７は、第７の
実施の形態のガス処理装置の概略構成図である。Next, a gas processing apparatus according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a gas processing apparatus according to the seventh embodiment.
【００５７】図７に示すように、本実施の形態のガス処
理装置３０は、バッフル板１７が２枚でなく３枚設けら
れ、最下段のバッフル板１７と中間のバッフル板１７と
の間にロール型にされた３個のメッシュ状担持体２２が
設けられ、ノズル２及び水供給管２ａの代わりに処理容
器１内の下方部分に加湿器２７が設けられ、最上段のバ
ッフル板１７の両面及び最下段のバッフル板１７と中間
のバッフル板１７の対向する面にミストをトラップする
網状のトラップ部材２９が設けられている。As shown in FIG. 7, the gas processing apparatus 30 of the present embodiment is provided with three baffle plates 17 instead of two baffle plates 17, and between the bottom baffle plate 17 and the middle baffle plate 17. Three roll-shaped mesh-like carriers 22 are provided, and a humidifier 27 is provided in the lower part of the processing vessel 1 in place of the nozzle 2 and the water supply pipe 2a. A net-like trap member 29 for trapping mist is provided on the opposing surfaces of the lowermost baffle plate 17 and the middle baffle plate 17.
【００５８】その他の構成は、図６に示す第６の実施の
形態と略同様の構成である。第７の実施の形態におい
て、図６に示す第６の実施の形態と同一の部分には同一
の符号を付して詳細な説明は省略する。The other structure is substantially the same as that of the sixth embodiment shown in FIG. In the seventh embodiment, the same parts as those in the sixth embodiment shown in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.
【００５９】本実施の形態によれば、水供給管２ａが不
要となるため、設置面積をより低減することができる。
また、網状のトラップ部材２９によって、ミストが排出
口８から排出されることが効果的に防止される。According to the present embodiment, since the water supply pipe 2a becomes unnecessary, the installation area can be further reduced.
Further, the mist is effectively prevented from being discharged from the discharge port 8 by the net-shaped trap member 29.
【００６０】尚、前述の各実施の形態において、オゾン
発生器４やＵＶランプ１０の数、ノズル２の数及び形
状、さらには水の供給形態、光触媒１１の担持の形態等
を種々変更できることは言うまでもない。In each of the above-described embodiments, the number of ozone generators 4 and UV lamps 10, the number and shape of nozzles 2, as well as the manner in which water is supplied and the manner in which the photocatalyst 11 is carried, can be varied. Needless to say.
【００６１】[0061]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
処理容器内においてガス吸入口に対して対向配置された
吸着材または吸収材が被処理物質を吸着または吸収する
ことにより、あるいは、処理容器内に設置されたバッフ
ル板が処理容器内のガスの流れの障害となって実質的な
ガス流路を増大させることにより、実質的に被処理ガス
の滞留時間を増大することができるため、オゾン化空気
と水とをミスト状にして供給しなくても被処理ガスを効
果的に処理することができる。As described above, according to the present invention,
The adsorbent or absorbent disposed opposite the gas inlet in the processing vessel absorbs or absorbs the substance to be treated, or the baffle plate installed in the processing vessel causes the gas flow in the processing vessel to flow. Since the residence time of the gas to be treated can be substantially increased by increasing the substantial gas flow path as a hindrance to ozonized air and water, it is not necessary to supply them in the form of mist. The gas to be treated can be effectively treated.
【００６２】従って、コンプレッサーが不要であり、ガ
ス処理装置のイニシャルコスト、設置面積及び消費電力
等を低減することができる。Therefore, no compressor is required, and the initial cost, installation area, power consumption, etc. of the gas processing apparatus can be reduced.
【図１】本発明によるガス処理装置の第１の実施の形態
を示す構成概略図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a first embodiment of a gas processing apparatus according to the present invention.
【図２】本発明によるガス処理装置の第２の実施の形態
を示す構成概略図。FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a second embodiment of the gas processing apparatus according to the present invention.
【図３】本発明によるガス処理装置の第３の実施の形態
を示す構成概略図。FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a third embodiment of the gas treatment apparatus according to the present invention.
【図４】本発明によるガス処理装置の第４の実施の形態
を示す構成概略図。FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a fourth embodiment of the gas treatment apparatus according to the present invention.
【図５】本発明によるガス処理装置の第５の実施の形態
を示す構成概略図。FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing a fifth embodiment of the gas treatment apparatus according to the present invention.
【図６】本発明によるガス処理装置の第６の実施の形態
を示す構成概略図。FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing a sixth embodiment of the gas treatment apparatus according to the present invention.
【図７】本発明によるガス処理装置の第７の実施の形態
を示す構成概略図。FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a seventh embodiment of the gas treatment apparatus according to the present invention.
【図８】従来のガス処理装置を示す構成概略図。FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing a conventional gas processing apparatus.
１ 処理容器 ２ ノズル ２ａ 水供給管 ３ 除湿器 ４ オゾン発生器 ５ 水貯留部 ７ 吸入口 ８ 排出口 ９ 光触媒溶液供給装置 １０ オゾン分解波長を含むランプ １１ 光触媒 １３ オゾン発生用ランプ １５，１６ 吸収材 １７ バッフル板 １７ａ 吸収材 ２２ メッシュ状光触媒担持体 ２７ 加湿器 ２９ トラップ部材 ３０ ガス処理装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Processing container 2 Nozzle 2a Water supply pipe 3 Dehumidifier 4 Ozone generator 5 Water storage part 7 Inlet 8 Outlet 9 Photocatalyst solution supply device 10 Lamp containing ozone decomposition wavelength 11 Photocatalyst 13 Ozone generation lamp 15, 16 Absorbing material REFERENCE SIGNS LIST 17 baffle plate 17 a absorber 22 mesh photocatalyst carrier 27 humidifier 29 trap member 30 gas treatment device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川 地 孝 典 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１ 株式会 社東芝研究開発センター内 (72)発明者 林 幸 司 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝本社事務所内 Ｆターム(参考） 4D002 AA03 AA13 AB02 AC10 BA01 BA04 BA05 BA07 BA09 BA16 CA01 CA20 DA51 EA02 GA01 GB20 HA03 4D048 AA03 AA08 AA17 AA22 AB01 AB03 AC07 BA07X BA13X BA41X BB07 CA01 CC38 CC61 CC62 CD01 CD08 EA01 EA04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takanori Kawachi 1 Toshiba-cho, Komukai-shi, Kawasaki-shi, Kanagawa, Japan Inside the Toshiba R & D Center (72) Koji Hayashi 1-chome Shibaura, Minato-ku, Tokyo No. 1-1 F-term in Toshiba head office (Reference) 4D002 AA03 AA13 AB02 AC10 BA01 BA04 BA05 BA07 BA09 BA16 CA01 CA20 DA51 EA02 GA01 GB20 HA03 4D048 AA03 AA08 AA17 AA22 AB01 AB03 AC07 BA07X BA13X BA41X BB07 CA01 CC38 CC61 CC61 CC CD08 EA01 EA04
Claims (9)
る処理容器と、 処理容器内にオゾンを導入するオゾン導入手段または処
理容器内でオゾンを発生させるオゾン発生手段と、 処理容器内に水分を供給する水供給手段と、 処理容器内において、ガス吸入口に対して対向配置され
た吸着材または吸収材と、を備えたことを特徴とするガ
ス処理装置。A processing container having a gas inlet through which a gas to be processed is introduced; an ozone introducing means for introducing ozone into the processing container or an ozone generating means for generating ozone in the processing container; A gas processing apparatus, comprising: a water supply means for supplying moisture; and an adsorbent or an absorbent disposed in the processing container so as to face a gas inlet.
る処理容器と、 処理容器内にオゾンを導入するオゾン導入手段または処
理容器内でオゾンを発生させるオゾン発生手段と、 処理容器内に水分を供給する水供給手段と、 処理容器内に設けられた吸着材または吸収材と、 処理容器内に設置された少なくとも一枚以上のバッフル
板と、を備えたことを特徴とするガス処理装置。2. A processing container having a gas inlet through which a gas to be processed is introduced, an ozone introducing means for introducing ozone into the processing container or an ozone generating means for generating ozone in the processing container. A gas processing apparatus comprising: a water supply unit that supplies moisture; an adsorbent or an absorbent provided in a processing container; and at least one or more baffle plates installed in the processing container. .
が設置されたことを特徴とする請求項２記載のガス処理
装置。3. The gas processing apparatus according to claim 2, wherein an adsorbent or an absorbent is provided on a surface of the baffle plate.
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のガ
ス処理装置。4. The gas processing apparatus according to claim 1, wherein a photocatalyst is carried on the adsorbent or the absorbing material, and a lamp including an ozone decomposition wavelength is provided in the processing container.
るための光触媒溶液供給手段が設けられ、 処理容器内にオゾン分解波長を含むランプが設けられた
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のガ
ス処理装置。5. A photocatalyst solution supply means for impregnating the adsorbent or the absorber with the photocatalyst solution, and a lamp having an ozone decomposition wavelength is provided in the processing vessel. A gas processing apparatus according to any one of the above.
網形状の担持体が固定設置され、 処理容器内にオゾン分解波長を含むランプが設けられた
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のガ
ス処理装置。6. A method according to claim 1, wherein a net-shaped carrier carrying a photocatalyst is fixedly mounted on the adsorbent or the absorber, and a lamp having an ozone decomposition wavelength is provided in the processing vessel. A gas processing apparatus according to any one of the above.
段で構成されていることを特徴とする請求項１乃至６の
いずれかに記載のガス処理装置。7. A gas processing apparatus according to claim 1, wherein said water supply means comprises water injection means for diffusing and injecting water.
いることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載
のガス処理装置。8. The gas processing apparatus according to claim 1, wherein the water supply means is constituted by a humidifier.
ことを特徴とする請求項８に記載のガス処理装置。9. The gas processing apparatus according to claim 8, wherein the humidifier is installed near the gas inlet.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11063927A JP2000254441A (en) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | Gas treating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11063927A JP2000254441A (en) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | Gas treating device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000254441A true JP2000254441A (en) | 2000-09-19 |
Family
ID=13243480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11063927A Withdrawn JP2000254441A (en) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | Gas treating device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000254441A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6978813B1 (en) * | 2021-02-25 | 2021-12-08 | 有限会社都工業 | Spatial sterilizer |
-
1999
- 1999-03-10 JP JP11063927A patent/JP2000254441A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6978813B1 (en) * | 2021-02-25 | 2021-12-08 | 有限会社都工業 | Spatial sterilizer |
| JP2022129469A (en) * | 2021-02-25 | 2022-09-06 | 有限会社都工業 | Space sterilization device |
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