JP2000251696A - Discharge cell forming method for plasma display panel, phosphor-forming material sheet and its manufacture - Google Patents

Discharge cell forming method for plasma display panel, phosphor-forming material sheet and its manufacture

Info

Publication number
JP2000251696A
JP2000251696A JP4636699A JP4636699A JP2000251696A JP 2000251696 A JP2000251696 A JP 2000251696A JP 4636699 A JP4636699 A JP 4636699A JP 4636699 A JP4636699 A JP 4636699A JP 2000251696 A JP2000251696 A JP 2000251696A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phosphor
forming material
forming
roller
material layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4636699A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuyoshi Yao
泰敬 八尾
Akihiro Kanazawa
昭広 金澤
Shinya Yamazaki
信哉 山崎
Takashi Uchiumi
隆司 内海
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP4636699A priority Critical patent/JP2000251696A/en
Priority to US09/506,833 priority patent/US6482062B1/en
Publication of JP2000251696A publication Critical patent/JP2000251696A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a discharge cell having a phosphor of a PDP(plasma display panel) with high accuracy for adapting it for enhancing the precision of the PDP and for increasing the size thereof, to realize miniaturization and reduction of the scale of a manufacturing device, to eliminate material loss, to improve a yield and to reduce the manufacturing cost. SOLUTION: An unset barrier rib forming material layer 50 having flexibility and a phosphor forming material layer 100 on it are formed on a glass substrate 14, and a roller whereon grooves 80 corresponding to barrier ribs 18 are formed is pressingly rolled on the barrier rib forming material layer 50 and the phosphor forming material layer 100, so that projections of the barrier rib forming material corresponding to the barrier ribs 18 are formed. At that time, the phosphor-forming material of the phosphor-forming material layer is supplied into the grooves (discharge cells) between the projections, and is dried and baked.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネル(以下PDPと略記する)、特に薄型大型画面
用高精細カラー表示装置として好適なプラズマディスプ
レイパネルにおける放電セルを形成する方法と、この方
法の実施に用いる蛍光体形成材シートと、このシートの
製造方法とに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming discharge cells in a plasma display panel (hereinafter abbreviated as PDP), and more particularly to a plasma display panel suitable as a thin and large-screen high-definition color display device, and an implementation of the method. And a method for manufacturing the sheet.

【0002】[0002]

【従来の技術】薄型大型画面用高精細カラー表示装置等
に用いられるPDPは、2枚の対向するガラス基板にそ
れぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間にN
e等を主体とするガスを封入した構造になっている。こ
の2枚のガラス基板(前面基板と背面基板)の背面基板
には、放電セルと呼ばれる小さい放電空間が微細なバリ
アリブ(隔壁)によって多数形成されている。これら放
電セルの内壁には蛍光体が内張りされている。対向する
前面基板には放電セル空間に対向する電極が設けられて
いる。この電極間の放電によりプラズマを発生させ、こ
のプラズマにより放電セル内の蛍光体を発光させて画面
の発光素子として利用するものである。
2. Description of the Related Art A PDP used for a thin, large-screen, high-definition color display device or the like is provided with a pair of electrodes regularly arranged on two opposing glass substrates, and an N-electrode therebetween.
It has a structure in which a gas mainly composed of e or the like is sealed. A large number of small discharge spaces called discharge cells are formed by fine barrier ribs (partitions) on the rear substrate of the two glass substrates (the front substrate and the rear substrate). Phosphors are lined on the inner walls of these discharge cells. An electrode facing the discharge cell space is provided on the facing front substrate. Plasma is generated by the discharge between the electrodes, and the phosphor in the discharge cell emits light by the plasma to be used as a light emitting element of a screen.

【0003】一般に、PDPの放電セルを形成するバリ
アリブ(隔壁)の製造方法としては、印刷積層法、サン
ドブラスト法が公知である。印刷積層法は、背面基板上
にスクリーン印刷法によりガラスペーストの印刷、乾燥
を行う工程をバリアリブに必要な高さになるまで繰り返
すものである。
In general, as a method of manufacturing a barrier rib (partition) for forming a discharge cell of a PDP, a printing lamination method and a sand blast method are known. In the printing lamination method, a process of printing and drying a glass paste on a rear substrate by a screen printing method is repeated until a height required for the barrier rib is reached.

【0004】サンドブラスト法は、背面基板上にバリア
リブ形成材料(ガラスペースト)の厚膜を形成し、この
厚膜上にサブトラクテイブ用レジストパターンをリソグ
ラフイー法により形成し、レジスト開口部のバリアリブ
形成材料をサンドブラスト(圧縮空気に混合された微粒
子を高速で噴射して、物理的にエッチングを行う)によ
り除去する方法である。ここにレジストパターンはバリ
アリブ形成後除去する。
In the sand blast method, a thick film of a barrier rib forming material (glass paste) is formed on a rear substrate, a subtractive resist pattern is formed on the thick film by a lithographic method, and a barrier rib forming material at a resist opening is formed. This is a method of removing by sandblasting (injecting fine particles mixed with compressed air at high speed and performing physical etching). Here, the resist pattern is removed after forming the barrier ribs.

【0005】このような種々の方法で形成されたバリア
リブのパターンは、高温で焼成されてガラスのバリアリ
ブとなり、次の蛍光体形成工程において各放電セル内に
蛍光体の膜(厚さ20〜30μm)が形成される。この
蛍光体膜の形成には従来よりスクリーン印刷法が用いら
れている。このスクリーン印刷法は、蛍光体、有機バイ
ンダ、溶媒等を混練した蛍光体ペーストを、スクリーン
印刷法によって、焼成済みのバリアリブ内壁に供給する
ものである。
The barrier rib patterns formed by such various methods are fired at a high temperature to become glass barrier ribs, and a phosphor film (having a thickness of 20 to 30 μm) is formed in each discharge cell in the next phosphor formation step. ) Is formed. A screen printing method has been conventionally used for forming the phosphor film. In this screen printing method, a phosphor paste in which a phosphor, an organic binder, a solvent and the like are kneaded is supplied to the fired inner wall of the barrier rib by the screen printing method.

【0006】この時放電セルの色に対応する色の蛍光体
ペーストを対応する放電セルを形成するバリアリブ内に
供給するのは勿論である。すなわちR(赤)、G
(緑)、B(青)の蛍光体ペーストを対応する放電セル
内にスクリーン印刷法で1回ずつ、合計3回印刷するこ
とによって塗布し、所定の放電セル内に対応する蛍光体
ペーストを流し込み、これを乾燥させるものである。
At this time, it goes without saying that the phosphor paste of a color corresponding to the color of the discharge cell is supplied into the barrier rib forming the corresponding discharge cell. That is, R (red), G
The phosphor pastes of (green) and B (blue) are applied to the corresponding discharge cells by printing three times, one by one, by a screen printing method, and the corresponding phosphor pastes are poured into predetermined discharge cells. This is to dry it.

【0007】このスクリーン印刷法に代えて、感光性蛍
光体ペーストを用いたフォトリソグラフィの手法も検討
されている。この方法はR,G,Bの蛍光体ペーストを
順次塗布し、各蛍光体ペーストごとに露光、現像、洗浄
等の工程を繰り返すものである。
[0007] Instead of the screen printing method, a photolithography method using a photosensitive phosphor paste has been studied. In this method, R, G, and B phosphor pastes are sequentially applied, and processes such as exposure, development, and washing are repeated for each phosphor paste.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】バリアリブの形成につ
いて従来の方法には次のような問題があった。まず前記
印刷積層法では、一回の印刷で形成できる膜の厚さが最
大数十μmであるため、バリアリブに必要な100μm
〜200μmの高さを得るためには、印刷と乾燥を多数
回、一般には10回程度繰り返す必要がある。そのため
生産性が著しく低いという問題がある。また、スクリー
ン印刷により形成される塗膜は、周辺部が凹んで中央部
が凸になるため、多数回重ね塗布した場合に、断面形状
のダレが蓄積され、バリアリブの底辺部が広がってしま
う。このためバリアリブの高密度化には限界があり、更
にスクリーン(印刷版)の歪みや寿命のため、ピッチ精
度にも限界があり、PDPの大型化や高精細化や量産化
が困難であった。
The conventional method for forming a barrier rib has the following problems. First, in the printing lamination method, since the thickness of a film that can be formed by one printing is up to several tens of μm, the thickness required for the barrier rib is 100 μm.
In order to obtain a height of 200 μm, printing and drying need to be repeated many times, generally about 10 times. Therefore, there is a problem that productivity is extremely low. In addition, since the coating formed by screen printing has a concave peripheral portion and a convex central portion, sagging of the cross-sectional shape accumulates and the bottom portion of the barrier rib is widened when applied repeatedly many times. For this reason, there is a limit in increasing the density of the barrier ribs, and further, there is a limit in pitch accuracy due to distortion and life of the screen (printing plate), and it has been difficult to increase the size, increase the definition, and mass-produce the PDP. .

【0009】一方サンドブラスト法は、レジストパター
ンの形成、除去など工程が複雑になり、特に画面を大型
化する場合には、露光装置やサンドブラスト装置が巨大
化し、設備の大幅なコストアップを招く。更にサンドブ
ラストエッチングによる材料ロスが大きい。このため生
産コストが増大するという問題がある。
On the other hand, the sand blasting method involves complicated steps such as formation and removal of a resist pattern, and particularly when the screen is enlarged, the size of an exposure apparatus and a sand blasting apparatus becomes large, resulting in a significant increase in equipment cost. Furthermore, material loss due to sandblast etching is large. For this reason, there is a problem that the production cost increases.

【0010】また前記印刷積層法およびサンドブラスト
法はともに、成型体の形状が後工程の焼成時に収縮によ
り変形し易いという共通の問題もあった。一般にバリア
リブ形成材料に含まれるガラス粉体の含有率を高くする
ことにより焼成時の収縮はある程度低減できるが、この
場合には逆にバリアリブ形成材料の流動性が低下するこ
とになる。このため微細加工面の成型性が低下し、成型
体の形状性すなわち形状の忠実性が劣化するという問題
があった。
[0010] Further, both the printing lamination method and the sand blast method have a common problem that the shape of the molded body is easily deformed by shrinkage during firing in a subsequent step. In general, the shrinkage during firing can be reduced to some extent by increasing the content of the glass powder contained in the barrier rib forming material. However, in this case, the flowability of the barrier rib forming material decreases. For this reason, there has been a problem that the moldability of the micromachined surface is reduced and the shape of the molded body, that is, the fidelity of the shape is deteriorated.

【0011】このような従来の印刷積層法やサンドブラ
スト法に特有な問題を解消するため、平面金型を基板上
に形成したバリアリブ形成材料の厚膜に押圧する加圧成
型法や、薄膜パターン形成に広く用いられているフォト
リソグラフィの手法を利用することが考えられる。
In order to solve the problems peculiar to the conventional printing lamination method and the sand blast method, a pressure molding method in which a flat mold is pressed against a thick film of a barrier rib forming material formed on a substrate, a thin film pattern forming method, and the like. It is conceivable to use a photolithography technique widely used in the art.

【0012】平面金型による加圧成型法は、印刷法やサ
ンドブラスト法の問題点を解消する優れた方法である
が、基本的な問題点として、平面金型を基板から剥離す
る際にガラスペーストが部分的に基板から剥がれ易いと
いう問題がある。そのため、ガラス基板とガラスペース
トの密着性をあげるための様々な工夫が必要となり、そ
のために、素材の選択に制限が加わったり、新たな工程
を付加することが必要となる。また基板の大型化に対応
する大型精密金型の製作が難しく、装置コストが膨大に
なることも問題点として考えられる。
The pressure molding method using a flat mold is an excellent method for solving the problems of the printing method and the sand blast method. However, the basic problem is that when the flat mold is peeled from the substrate, a glass paste is used. However, there is a problem that it is easy to be partially peeled off from the substrate. For this reason, various measures are required to improve the adhesion between the glass substrate and the glass paste. For this reason, it is necessary to restrict the selection of the material or to add a new process. Further, it is difficult to manufacture a large precision mold corresponding to an increase in the size of the substrate, and the cost of the apparatus becomes enormous.

【0013】フォトリソグラフイー法は感光性ガラスペ
ーストを用いるものであり、高解像で精密なリブ形成が
可能であるという特徴がある。しかしこの方法には、フ
ォトレジストの塗布/乾燥、紫外線露光、現像、洗浄、
乾燥と工程が複雑で長いこと、フォトレジストや現像液
のような余計な素材を必要とすること、露光装置、現像
装置、洗浄装置など高価でフロア占有面積の大きな装置
を必要とすること、非感光性ガラスペーストに比べてガ
ラスに対する樹脂の割合が多くなり焼成時の収縮率が大
きくなること、素材のロス量が大きいこと、などの問題
があり、コストアップを招くことになる。
The photolithography method uses a photosensitive glass paste, and is characterized in that high-resolution and precise rib formation is possible. However, this method involves the application / drying of photoresist, UV exposure, development, cleaning,
The drying and process are complicated and long, require extra materials such as photoresist and developer, require expensive and large floor occupancy equipment such as exposure equipment, developing equipment, and cleaning equipment. As compared with the photosensitive glass paste, the ratio of the resin to the glass is increased and the shrinkage ratio during firing is increased, the amount of material loss is large, and the like, resulting in an increase in cost.

【0014】また蛍光体ペーストの塗布について従来の
方法には次のような問題がある。まずスクリーン印刷法
で蛍光体ペーストを塗布する方法は、放電セル内に流し
込んだ蛍光体ペーストをそれ自身の物性を利用してリブ
内壁に固着させるものであるため、蛍光体の膜厚の均一
性は必ずしも保証されず、膜厚の管理が困難である。ま
たスクリーン印刷に用いるスクリーンマスクの寿命、操
作性、洗浄などの取扱い上の問題から、大精細大型PD
Pの量産には適さないという問題がある。
Further, the conventional method for applying the phosphor paste has the following problems. First, the method of applying the phosphor paste by the screen printing method is to fix the phosphor paste poured into the discharge cell to the inner wall of the rib using its own physical properties, so that the thickness of the phosphor is uniform. Is not necessarily guaranteed, and it is difficult to control the film thickness. Also, due to the handling problems such as the life, operability, and cleaning of the screen mask used for screen printing, large and large PD
There is a problem that it is not suitable for mass production of P.

【0015】またフォトリソグラフィの手法で蛍光体を
塗布する方法では、露光、現像、洗浄等の工程が複雑で
ある。またガラス基板全面に塗布した各色の蛍光体ペー
ストのうち2/3は現像で除去するから、蛍光体ペース
トの利用効率が悪くなるばかりでなく、除去した蛍光体
ペーストは高価であるからこれを回収する必要が生じ
る。さらにガラス基板表面はバリアリブのパターンによ
り凹凸があるため露光後の蛍光体ペーストの除去が困難
であり、残った蛍光体ペーストが他の色の蛍光体と混ざ
り、混色が発生し易いという問題もあった。
In the method of applying a phosphor by photolithography, steps such as exposure, development, and cleaning are complicated. In addition, since two-thirds of the phosphor paste of each color applied to the entire surface of the glass substrate are removed by development, not only the utilization efficiency of the phosphor paste deteriorates, but also the removed phosphor paste is expensive, so that it is collected. Need to be done. Further, since the surface of the glass substrate has irregularities due to the pattern of the barrier ribs, it is difficult to remove the phosphor paste after the exposure, and the remaining phosphor paste is mixed with phosphors of other colors, so that color mixing is likely to occur. Was.

【0016】さらに従来の方法ではバリアリブの焼成後
と蛍光体ペーストの塗布後とで合計2回焼成する必要が
ある。この焼成工程は加熱・冷却を伴うために全工程中
で最も長い処理時間を必要とする。このため二度の焼成
処理を行うために全体の処理時間が著しく長くなり、生
産性が悪くなり、製作コストの増大を招くという問題も
あった。
Further, in the conventional method, it is necessary to perform firing twice in total after the firing of the barrier ribs and after the application of the phosphor paste. This firing step requires the longest processing time among all steps because it involves heating and cooling. For this reason, there is also a problem that the entire processing time becomes extremely long because the two firing treatments are performed, the productivity is deteriorated, and the production cost is increased.

【0017】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
のであり、PDPの放電セルを形成するバリアリブ(隔
壁)と蛍光体層とを高精度に形成することができ、PD
Pの高精細化や大型化に適し、工程を簡単にして製造装
置の小型化・小規模化を可能にし、さらに材料ロスの発
生を防ぎ、歩留まりの向上を図り、製造コストの低減を
可能にする、PDPの放電セル形成方法を提供すること
を第1の目的とする。またこの方法の実施に用いる蛍光
体形成材のシートを提供することを第2の目的とする。
さらにこのシートの製造方法を提供することを第3の目
的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and a barrier rib (partition) for forming a discharge cell of a PDP and a phosphor layer can be formed with high precision.
Suitable for high-definition and large-sized P, simplifying the process, enabling downsizing and downsizing of manufacturing equipment, preventing material loss, improving yield, and reducing manufacturing costs. It is a first object of the present invention to provide a method for forming a discharge cell of a PDP. It is a second object of the present invention to provide a sheet of a phosphor-forming material used for carrying out this method.
A third object is to provide a method for manufacturing this sheet.

【0018】[0018]

【発明の構成】この発明によれば第1の目的は、電極を
形成した一対のガラス基板の間にバリアリブで仕切られ
かつ内面に蛍光体層が形成された多数の放電セルを有す
るプラズマディスプレイパネルの放電セル形成方法にお
いて、(a) 少なくとも一方の前記ガラス基板の前記電極
を形成した面に、柔軟性を有する未硬化バリアリブ形成
材層を形成する工程;(b) 前記放電セルと等しいピッチ
に蛍光体形成材を配列した蛍光体形成材層を前記バリア
リブ形成材層の上に形成する工程;(c) 前記蛍光体形成
材層およびバリアリブ形成材層に、バリアリブに対応す
る溝が外周面に形成されたローラを転圧することによ
り、バリアリブに対応する凸条をガラス基板上に形成す
る工程;(d) 前記工程(c)で凸条に加工された蛍光体形
成材およびバリアリブ形成材を乾燥し、焼成することに
より、内面に蛍光体層が形成された放電セルを形成する
工程;の各工程を備えることを特徴とするプラズマディ
スプレイパネルの放電セル形成方法、により達成され
る。
According to the present invention, a first object is to provide a plasma display panel having a large number of discharge cells in which a pair of glass substrates provided with electrodes are separated by barrier ribs and a phosphor layer is formed on the inner surface. (A) forming a flexible uncured barrier rib forming material layer on at least one surface of the glass substrate on which the electrodes are formed; (b) forming a pitch equal to the pitch of the discharge cells. Forming a phosphor forming material layer on which the phosphor forming material is arranged on the barrier rib forming material layer; (c) forming grooves corresponding to barrier ribs on the outer peripheral surface of the phosphor forming material layer and the barrier rib forming material layer; Forming a ridge corresponding to the barrier rib on the glass substrate by rolling the formed roller; (d) a phosphor-forming material and a barrier rib-forming material processed into a ridge in the step (c). Forming a discharge cell in which a phosphor layer is formed on the inner surface by drying and baking. A method for forming a discharge cell of a plasma display panel, comprising:

【0019】すなわちバリアリブの凹凸を反転させた凹
凸パターン(溝パターン)を外周面に形成したローラ
を、回転させながらバリアリブ形成材に圧接するもので
ある。バリアリブ形成材としては、ガラスペーストにア
ルミナ、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの
添加剤を添加してバリアリブ形成用としての要求特性を
満足させたものが使用できる。PDPとしては交流面放
電型、直流放電型、ハイブリッド型など種々の方式のも
のがあるが、本発明の方法によればローラに形成する凸
条のパターンによって、ストライプ状の電極に平行なリ
ブ、電極に直交するリブ、格子状のリブなどPDPの方
式に対応した適宜の構造のリブを形成することが可能で
ある。
That is, a roller having an uneven pattern (groove pattern) obtained by inverting the unevenness of the barrier rib on the outer peripheral surface is pressed against the barrier rib forming material while rotating. As the barrier rib forming material, a material which satisfies the required properties for forming a barrier rib by adding an additive such as alumina, tin oxide, titanium oxide, or zirconium oxide to a glass paste can be used. There are various types of PDPs such as an AC surface discharge type, a DC discharge type, and a hybrid type. According to the method of the present invention, a rib parallel to a stripe-shaped electrode, It is possible to form a rib having an appropriate structure corresponding to the PDP method, such as a rib perpendicular to the electrode or a grid-like rib.

【0020】蛍光体形成材層の表面にはこのローラとの
剥離性を向上させるための剥離材をコートしておくのが
よい。この剥離材は、例えばタルク粉末やテフロン(登
録商標)系添加剤の粉末、これら粉末を含むペースト、
これら粉末を油中に分散させたスプレー液などが適し、
これをスプレーやロールコータなどで薄く塗布してお
く。またバリアリブ形成材層および蛍光体形成材層はそ
の溶媒蒸気中に一定時間入れることにより軟化させ、最
適な硬さに調節してからローラによる転圧を行うのがよ
い。剥離剤はこの溶媒蒸気による軟化の後で塗布しても
よい。
The surface of the phosphor-forming material layer is preferably coated with a release material for improving the releasability from the roller. The release material may be, for example, talc powder or Teflon (registered trademark) additive powder, a paste containing these powders,
A spray liquid in which these powders are dispersed in oil is suitable,
This is thinly applied with a spray or a roll coater. Further, it is preferable that the barrier rib forming material layer and the phosphor forming material layer are softened by being immersed in the solvent vapor for a certain period of time, and adjusted to an optimum hardness before rolling with a roller. The release agent may be applied after softening by the solvent vapor.

【0021】ここに溶媒は、ガラスペーストに含まれる
樹脂バインダーと相溶性のものであればよく、例えばト
ルエン等の芳香族溶媒や、高級アルコールなどを用い
る。この溶媒蒸気によるガラスペーストの軟化処理は、
剥離材をコートする場合にはこのコートの前に行うのが
均一な軟化のために望ましいが、剥離材が溶媒を通過す
る性質をもっている場合にはこの剥離材のコート後に行
ってもよい。
Here, the solvent may be any one which is compatible with the resin binder contained in the glass paste. For example, an aromatic solvent such as toluene, a higher alcohol, or the like is used. The softening of the glass paste by this solvent vapor
When the release material is coated, it is preferable to perform the coating before the coating for uniform softening. However, when the release material has a property of passing a solvent, the coating may be performed after the coating of the release material.

【0022】バリアリブ成形材層は、シート状に予め作
っておいたリブ用ガラスペーストシートをガラス基板に
ラミネート(積層)することにより形成するのが便利で
ある。しかし液状のリブ用ガラスペーストを塗布し乾燥
することにより形成してもよい。これらで用いるリブ用
ガラスペーストは白色のものが望ましい。放電セル内で
発光する光を反射してPDP表面に導き光の利用効率を
向上させるためである。
The barrier rib forming material layer is conveniently formed by laminating a glass paste sheet for ribs previously formed in a sheet shape on a glass substrate. However, it may be formed by applying and drying a liquid glass paste for ribs. The glass paste for ribs used in these is preferably white. This is because the light emitted in the discharge cells is reflected and guided to the PDP surface to improve the light use efficiency.

【0023】バリアリブは通常背面のガラス基板に形成
するが、PDPの方式によって表面のガラス基板にリブ
を形成する場合には、表面のガラス基板に本発明の方法
が適用できるものである。リブはストライプ状や格子状
など種々の形態があり得るから、ローラの表面の溝パタ
ーンもこれに対応させるのは勿論である。例えばストラ
イプ状のリブを形成する場合には環状の溝を、格子状リ
ブを形成する場合には格子状の溝をそれぞれローラに形
成する。
The barrier ribs are usually formed on the rear glass substrate. However, when the ribs are formed on the front glass substrate by the PDP method, the method of the present invention can be applied to the front glass substrate. Since the ribs can have various forms such as stripes and lattices, it goes without saying that the groove pattern on the surface of the roller corresponds to this. For example, an annular groove is formed in a roller when forming a striped rib, and a grid-shaped groove is formed in a roller when forming a grid-shaped rib.

【0024】ローラの周面とガラス基板とは、両者が接
触部で滑りが生じることなく同速度で移動することが必
要である。そのためにはローラの周速度をガラス基板の
ローラに対する相対直線移動速度に一致させつつ両者を
相対直線移動させる。ローラは一方向へ1回だけ相対移
動させてもよいが、同一パス(経路)を通して1回ある
いは複数回往復動させてもよい。このように同一パスを
複数回通すことにより、リブ形成材層に溝を徐々に深く
形成していくことができ、リブ形成材や蛍光体形成材が
ローラに付着してガラス基板から剥がれるのを防ぐこと
ができる。
The peripheral surface of the roller and the glass substrate need to move at the same speed without slippage at the contact portion. For this purpose, the two are relatively linearly moved while keeping the peripheral speed of the roller equal to the relative linear movement speed of the glass substrate relative to the roller. The roller may be relatively moved only once in one direction, or may be reciprocated once or a plurality of times through the same path (path). By passing the same path a plurality of times in this manner, the groove can be formed gradually deeper in the rib forming material layer, and the rib forming material and the phosphor forming material adhere to the roller and peel off from the glass substrate. Can be prevented.

【0025】ローラのガラス基板に対する押付け力は、
ローラの軸方向の接触幅を基準にして20〜200kg/c
mとするのがよい。この押付け力は、ローラの直径すな
わち曲率半径や、リブ形成材層の硬さなどの条件によっ
て変えるべきである。この押付け力は20kg/cm以下だ
とローラの凸部をリブ形成材層に十分深く進入させるこ
とができないため、バリアリブの高さを大きくすること
が困難になる。また200kg/cm以上になるとローラの
軸が歪んでローラの幅方向中央付近と両側との押付け力
の差が大きくなり、均一なリブを形成することが困難に
なる。
The pressing force of the roller against the glass substrate is:
20 to 200 kg / c based on the axial contact width of the roller
should be m. The pressing force should be changed depending on conditions such as the diameter of the roller, that is, the radius of curvature, and the hardness of the rib forming material layer. If the pressing force is 20 kg / cm or less, the convex portion of the roller cannot enter the rib forming material layer sufficiently deep, and it becomes difficult to increase the height of the barrier rib. If it is 200 kg / cm or more, the roller shaft is distorted, and the difference in pressing force between the vicinity of the center in the width direction of the roller and both sides becomes large, making it difficult to form a uniform rib.

【0026】ローラの直径は30〜500mmが適する。
この直径は30mm以下だとローラが歪み易くなり、50
0mm以上だとローラのリブ形成材層に対する接触面積が
大きくなってこの接触部が面接触に近くなり、リブ形成
材がローラの溝に残ってガラス基板から剥がれ易くな
る。
The roller diameter is suitably 30 to 500 mm.
If the diameter is less than 30 mm, the roller is easily distorted,
If it is 0 mm or more, the contact area of the roller with the rib forming material layer becomes large, and this contact portion becomes close to surface contact, so that the rib forming material remains in the groove of the roller and easily peels off from the glass substrate.

【0027】ローラのガラス基板に対する相対直線移動
速度は、ローラのガラス基板に対する相対周速度と同一
にするのがよく、0.02〜2.0m/min(メートル/
分)とするのがよい。この速度を0.02m/min以下に
すると生産性が著しく悪くなり、また2.0m/min以上
にするとリブ形成材や蛍光体形成材がガラス基板から剥
離し易くなり、ローラの溝を深くできなくなったり、リ
ブを十分高くできなくなる。
The relative linear movement speed of the roller with respect to the glass substrate is preferably the same as the relative peripheral speed of the roller with respect to the glass substrate, and is 0.02 to 2.0 m / min (meter / meter).
Minutes). When the speed is set to 0.02 m / min or less, productivity is remarkably deteriorated. When the speed is set to 2.0 m / min or more, the rib-forming material and the phosphor-forming material are easily separated from the glass substrate, and the roller groove can be deepened. Or the ribs cannot be raised sufficiently high.

【0028】ローラに形成する溝すなわち周方向の環状
の溝や格子状の溝は、リブ形成材層から剥離し易い形状
とすべきである。例えば溝のその長さ方向に直交する断
面形状を開口側が広い台形としたり山形とするのがよ
い。すなわち溝の開口幅をWT、底面幅をWB、深さを
H、ピッチ(溝の幅方向のピッチ)をLPとして、0<
B/WT<1.0、0.1<H/WT<3.0、0.1
<(WT+WB)/2LP<1.0とするのがよい。
A groove formed in the roller, ie, a circumferential ring
Grooves and grid-like grooves are easily separated from the rib forming material layer
Should be. For example, a cut perpendicular to the length of the groove
The surface should be trapezoidal or chevron with a wide opening.
No. That is, the opening width of the groove is WT, Bottom width WBThe depth
H, pitch (pitch in the width direction of the groove) is LPAs 0 <
W B/ WT<1.0, 0.1 <H / WT<3.0, 0.1
<(WT+ WB) / 2LPIt is better to be <1.0.

【0029】蛍光体形成材層およびバリアリブ形成材層
にローラを転圧させてバリアリブに対応する凸条を形成
した後(工程(c))バリアリブの上面の蛍光体形成材層
の上に黒色反射防止材層を形成する工程を付加しておい
てもよい。この場合前面のガラス基板に形成する黒色反
射防止層(ブラックマスク)の加工が不用になったり、
簡単になる。この黒色反射防止材層はスクリーン印刷な
どの手法で簡単に付加することが可能である。
After a roller is rolled on the phosphor forming material layer and the barrier rib forming material layer to form a ridge corresponding to the barrier rib (step (c)), black reflection is performed on the phosphor forming material layer on the upper surface of the barrier rib. A step of forming a prevention material layer may be added. In this case, the processing of the black antireflection layer (black mask) formed on the front glass substrate becomes unnecessary,
It's easy. This black anti-reflection material layer can be easily added by a technique such as screen printing.

【0030】工程(b)で形成する蛍光体形成材層は、バ
リアリブ形成材層の表面に印刷で形成することができ、
この蛍光体形成材層にはバリアリブに対応する位置に黒
色防止材を含ませておけば、バリアリブと蛍光体層と共
に黒色反射防止層も同じ一回の焼成工程で形成すること
ができ、生産性は一層向上する。
The phosphor forming material layer formed in the step (b) can be formed on the surface of the barrier rib forming material layer by printing.
If a black anti-reflection material is included in the phosphor forming material layer at a position corresponding to the barrier rib, the black anti-reflection layer can be formed together with the barrier rib and the phosphor layer in the same single firing step. Is further improved.

【0031】蛍光体形成材層は印刷に代えて予め用意し
たシートをラミネートすることにより形成すれば、処理
能率は向上し作業性が良い。ここに用いる蛍光体形成材
のシートは、異なる色の蛍光体形成材を各放電セルに対
応させて配列したものであるが、このシートにバリアリ
ブに対応する位置に黒色反射防止材を含ませておいても
よい。
If the phosphor forming material layer is formed by laminating a prepared sheet instead of printing, the processing efficiency is improved and the workability is good. The sheet of the phosphor forming material used here is formed by arranging phosphor forming materials of different colors corresponding to the respective discharge cells. The sheet includes a black anti-reflection material at a position corresponding to the barrier rib. You may leave.

【0032】本発明によれば第2の目的は、異なる色の
蛍光体形成材を各放電セルに対応させて上下一対の剥離
可能な支持フィルムの間に挟持した蛍光体形成材のシー
トにより達成できる。このシートは次の方法により製造
することができる。
According to the present invention, the second object is achieved by a phosphor-forming material sheet in which phosphor-forming materials of different colors are sandwiched between a pair of upper and lower peelable support films corresponding to respective discharge cells. it can. This sheet can be manufactured by the following method.

【0033】すなわち第3の目的は、請求項20の方法
に用いる蛍光体形成材のシートを製造する方法であっ
て、(a) 下支持フィルムに剥離層を形成し;(b) 前記剥
離層の上面全体に第1の色の蛍光体を均一厚さに印刷
し;(c) 第1の色に対応する放電セルの位置に溝が形成
されたローラを転圧することにより前記第1の色の蛍光
体を前記溝に集めて第1の色の凸部を形成し、乾燥し;
(d) 前記剥離層の上面に前記凸部を除いて第2の色の蛍
光体を印刷し;(e) 第1および第2の色に対応する放電
セルの位置に溝が形成されたローラを転圧することによ
り前記第2の色の蛍光体を前記溝に集めて第1の色の凸
部に隣接する第2の色の凸部を形成し、乾燥し;(f) 最
後の色の蛍光体を前記第1および第2の凸部を除く剥離
層上面に印刷し、乾燥し;(g) 剥離層を介して上支持フ
ィルムをラミネートする:ことを特徴とする蛍光体形成
材のシートの製造方法、により達成できる。
That is, a third object is a method for producing a sheet of a phosphor-forming material used in the method of claim 20, wherein (a) forming a release layer on a lower support film; (C) printing a phosphor of a first color to a uniform thickness over the entire upper surface of the first color; (c) rolling the roller having a groove formed at the position of the discharge cell corresponding to the first color by rolling the first color. Collecting the phosphors in the grooves to form projections of the first color and drying;
(d) a phosphor of a second color is printed on the upper surface of the release layer except for the protrusions; (e) a roller having grooves formed at positions of the discharge cells corresponding to the first and second colors. (F) collecting the phosphor of the second color in the groove to form a projection of a second color adjacent to the projection of the first color, and drying; Printing a phosphor on the upper surface of the release layer except for the first and second protrusions, and drying; (g) laminating the upper support film via the release layer; Can be achieved.

【0034】[0034]

【実施態様】図1はPDPの構造例を示す分解斜視図、
図2は本発明の方法を実施するために用いる装置の一実
施態様を示す図、図3は原理説明図、図4はローラの一
部拡大図、図5,6,7はそれぞれローラの溝の異なる
断面形状をローラ中心軸に沿って断面して示す図、図8
はローラの格子状の溝パターンを示す斜視図である。ま
ず図1を用いてPDPの構造を説明する。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing an example of the structure of a PDP.
FIG. 2 is a view showing an embodiment of an apparatus used to carry out the method of the present invention, FIG. 3 is a view for explaining the principle, FIG. 4 is a partially enlarged view of the roller, and FIGS. FIG. 8 is a diagram showing a cross section different from FIG.
FIG. 4 is a perspective view showing a grid-like groove pattern of a roller. First, the structure of the PDP will be described with reference to FIG.

【0035】図1に示したPDP10は、交流面放電型
のものである。このPDP10では、まず背面ガラス基
板12の上にデータ電極(アドレス電極)14をストラ
イプ状(すだれ状)に形成し、その上を背面誘電体層1
6からなる絶縁層で覆う。この背面誘電体層16の上
に、高さ約0.1mm(100μm)のバリアリブ(障
壁)18を後記する方法によって形成する。ここに電極
14はPDP10の垂直方向に形成され、バリアリブ1
8は電極14と平行でかつ隣接する2本の電極14の間
に位置する。
The PDP 10 shown in FIG. 1 is of an AC surface discharge type. In this PDP 10, first, data electrodes (address electrodes) 14 are formed in a stripe shape (interdigital shape) on a rear glass substrate 12, and the upper surface of the data electrode (address electrode) 14 is formed thereon.
6 covered with an insulating layer. A barrier rib (barrier) 18 having a height of about 0.1 mm (100 μm) is formed on the back dielectric layer 16 by a method described later. Here, the electrode 14 is formed in the vertical direction of the PDP 10 and the barrier rib 1
Reference numeral 8 is located between two electrodes 14 which are parallel to and adjacent to the electrode 14.

【0036】次にバリアリブ18の側面およびデータ電
極14で囲まれた溝20内に蛍光体22を塗布する。カ
ラー表示用のPDP10の場合には、隣接する溝20に
塗布する蛍光体22は、赤、緑、青となるように配列す
る。この垂直方向に長い溝20が放電空間すなわち放電
セルとなる。
Next, a phosphor 22 is applied to the side surface of the barrier rib 18 and the groove 20 surrounded by the data electrode 14. In the case of the PDP 10 for color display, the phosphors 22 applied to the adjacent grooves 20 are arranged so as to be red, green, and blue. This vertically long groove 20 becomes a discharge space, that is, a discharge cell.

【0037】前面ガラス板24には透明電極26を水平
方向にストライプ状(すだれ状)に形成する。この透明
電極26の上を含めガラス基板24の表面全体を透明誘
電体層28で覆い、さらにその上にMgO保護膜30を
蒸着する。なおこのPDP10では、MgO保護膜30
の上に黒色誘電体からなるブラックマスク32を格子状
に形成し、画像コントラストを上げて画質を向上させ
る。すなわち画素に対応する放電セルの開口部以外の部
分をこのブラックマスク32で覆うものである。
On the front glass plate 24, transparent electrodes 26 are formed in stripes (interdigital) in the horizontal direction. The entire surface of the glass substrate 24 including the transparent electrode 26 is covered with a transparent dielectric layer 28, and an MgO protective film 30 is further deposited thereon. In this PDP 10, the MgO protective film 30
A black mask 32 made of a black dielectric is formed in a lattice shape on the substrate to increase image contrast and improve image quality. That is, portions other than the openings of the discharge cells corresponding to the pixels are covered with the black mask 32.

【0038】次のこの発明に係る方法、すなわち背面ガ
ラス基板12にバリアリブ18および蛍光体22によっ
て放電セル20を形成する方法を図2〜8を用いて説明
する。この発明は図3に示すように、予め電極14を形
成し誘電体層16で覆ったガラス基板12にリブ形成材
層50および蛍光体形成材層100を形成し、これを搬
送台52に保持して移動させる一方、この搬送台52の
移動方向に直交する向きに置いたローラ54をリブ形成
材層50および蛍光体形成材層100に転圧させること
により、ローラ54に形成した溝パターンをリブ形成材
層50および蛍光体形成材層100に転写するものであ
る。そして乾燥・焼成することによってバリアリブ18
および蛍光体20を形成するものである。
Next, a method according to the present invention, that is, a method for forming the discharge cells 20 on the back glass substrate 12 by the barrier ribs 18 and the phosphors 22 will be described with reference to FIGS. According to the present invention, as shown in FIG. 3, a rib forming material layer 50 and a phosphor forming material layer 100 are formed on a glass substrate 12 on which an electrode 14 has been formed in advance and covered with a dielectric layer 16, and these are held on a carrier 52. By moving the roller 54 placed in a direction perpendicular to the moving direction of the carrier 52 to the rib forming material layer 50 and the phosphor forming material layer 100, the groove pattern formed on the roller 54 is changed. This is to be transferred to the rib forming material layer 50 and the phosphor forming material layer 100. Then, by drying and firing, the barrier ribs 18 are formed.
And the phosphor 20.

【0039】ここに図3で56はローラ54を回転させ
るためのモータであり、ローラ54の周速度を基板12
の搬送速度Vに一致させる。すなわちローラ54の半径
(例えば、最外周の半径と、溝の底に対する半径の平均
値)をR、回転角速度をω(ラジアン/秒)とした時に
は、Rω=Vとなるようにする。
In FIG. 3, reference numeral 56 denotes a motor for rotating the roller 54.
Of the transfer speed V. That is, when the radius of the roller 54 (for example, the average value of the radius of the outermost circumference and the radius with respect to the bottom of the groove) is R, and the rotational angular velocity is ω (radian / second), Rω = V.

【0040】この方法を実施するための装置は図2に示
すように構成することができる。この図2において符号
58は搬送台52を移動させるための台車である。この
台車58は水平なレール60上を移動可能であり、その
上面に前記搬送台52が水平に固定されている。台車5
8はモータ62によって正逆転される送りねじ64によ
って直線移動される。なお搬送台52の表面には、吸引
空気ポンプ66により吸引される吸気負圧が導かれ、前
記ガラス基板12はこの吸気負圧によって搬送台52の
上面に保持される。
An apparatus for performing this method can be configured as shown in FIG. In FIG. 2, reference numeral 58 denotes a carriage for moving the carrier 52. The carriage 58 is movable on a horizontal rail 60, and the carrier 52 is fixed horizontally on the upper surface thereof. Trolley 5
8 is linearly moved by a feed screw 64 rotated forward and reverse by a motor 62. In addition, the suction negative pressure sucked by the suction air pump 66 is guided to the surface of the transfer table 52, and the glass substrate 12 is held on the upper surface of the transfer table 52 by the suction negative pressure.

【0041】ローラ54およびモータ56は、支軸68
に揺動自在に保持された支持アーム70の一端に保持さ
れている。この支持アーム70の他端は、上からバラン
ス用ばね72で下向きに押圧する一方、下からエアシリ
ンダ74のピストンロッド74aで上向きに押圧してい
る。このエアシリンダ74には加圧空気ポンプ76の加
圧空気が制御弁78を介して導かれ、ピストンロッド7
4aの支持アーム70に対する押圧力をこの制御弁78
によって制御することができる。従って制御弁78によ
ってローラ54のリブ形成材層50に対する押付け力を
制御することができる。
The roller 54 and the motor 56 are supported by a support shaft 68.
It is held at one end of a support arm 70 held swingably. The other end of the support arm 70 is pressed downward from above by a balance spring 72, and is pressed upward from below by a piston rod 74a of an air cylinder 74. The pressurized air of a pressurized air pump 76 is guided to the air cylinder 74 via a control valve 78,
The pressing force of the support arm 70 of FIG.
Can be controlled by Therefore, the pressing force of the roller 54 against the rib forming material layer 50 can be controlled by the control valve 78.

【0042】なおローラ54とガラス基板12との間隙
寸法は高精度に設定できることが望ましい。例えば支持
アーム70に搬送台52の表面やガラス基板12の両側
縁付近の表面(例えば表・裏両ガラス基板間を気密にす
るシール材を設けるための領域が利用できる)に転接す
る補助ローラ(図示せず)を設け、この補助ローラの高
さによってローラ54とガラス基板12との間隙寸法を
調整できるようにすることができる。またローラ54の
両端にガラス基板12の両側縁付近の表面に接触する環
状の凸部を設け、この凸部の高さを適切に設定すること
により前記間隙寸法を調整することができる。
It is desirable that the gap between the roller 54 and the glass substrate 12 can be set with high precision. For example, an auxiliary roller (for example, an area for providing a sealing material for airtightness between the front and back glass substrates can be used) on the support arm 70 on the surface of the transfer table 52 or on the surface near both side edges of the glass substrate 12 (an auxiliary roller ( (Not shown) so that the gap between the roller 54 and the glass substrate 12 can be adjusted by the height of the auxiliary roller. The gap size can be adjusted by providing annular convex portions at both ends of the roller 54 in contact with the surfaces near both side edges of the glass substrate 12 and appropriately setting the height of the convex portions.

【0043】ここに用いるローラ54の溝パターンは、
形成するリブ18の形状に対応させるのは勿論である。
図1に示したストライプ状のリブ18を形成する場合
は、図4に示すように環状の溝80をリブ18と同じ間
隔(ピッチ)で形成したものを用いる。このようなロー
ラ54は、例えば図5〜7に示すように直径が異なる2
種の円板82,84を中心軸86を一致させて交互に積
層することにより作ることができる。
The groove pattern of the roller 54 used here is as follows.
It is needless to say that it corresponds to the shape of the rib 18 to be formed.
When the stripe-shaped ribs 18 shown in FIG. 1 are formed, an annular groove 80 formed at the same interval (pitch) as the ribs 18 is used as shown in FIG. Such rollers 54 have different diameters, for example, as shown in FIGS.
The seed disks 82 and 84 can be manufactured by alternately stacking the center disks 86 so as to coincide with each other.

【0044】図5に示すように矩形の溝80を形成する
場合には、小径の円板82と大径の円板84の半径の差
が溝の深さすなわち高さHとなり、円板82の厚さが溝
80の開口幅WTおよび底面幅WBとなり、両円板82,
84の合計厚さが溝80のピッチLPとなる。
When a rectangular groove 80 is formed as shown in FIG. 5, the difference between the radius of the small-diameter disk 82 and the diameter of the large-diameter disk 84 is the depth of the groove, that is, the height H. the thickness of the groove 80 opening width W T and bottom width W B next to both discs 82,
The total thickness of 84 is the pitch L P of the grooves 80.

【0045】溝80の断面形状は、リブ18の断面形状
に対応するものとなるから、この断面形状を変えること
によりリブ18の断面形状を変えることができる。図5
の断面矩形の溝80によれば、断面が略矩形のリブ18
を形成することができる。図6は逆台形の溝80Aを、
図7は逆山形の溝80Bを示す。溝80Aは台形の円板
84Aの両面の周縁部に直線的な面取り加工を施して周
縁部を斜面に加工し、これを小径の円板82Aと交互に
積層することにより形成できる。溝80Bは同様に大径
の円板84Bの両面の周縁部を断面円弧状に丸味をもっ
て面取り加工し、小径の円板82Bと交互に積層すれば
よい。
Since the sectional shape of the groove 80 corresponds to the sectional shape of the rib 18, the sectional shape of the rib 18 can be changed by changing the sectional shape. FIG.
According to the groove 80 having a rectangular cross section, the rib 18 having a substantially rectangular cross section is used.
Can be formed. FIG. 6 shows an inverted trapezoidal groove 80A.
FIG. 7 shows an inverted chevron groove 80B. The groove 80A can be formed by performing linear chamfering on both sides of the trapezoidal circular plate 84A to form a slanted peripheral portion, and alternately stacking this with the small-diameter circular plate 82A. Similarly, the grooves 80B may be formed by chamfering the peripheral edges of both surfaces of the large-diameter disk 84B in a circular shape in cross section, and alternately stacking them with the small-diameter disks 82B.

【0046】またリブ18を格子状に形成する場合に
は、図8に示す溝パターンを有するロール54を用い
る。すなわち、放電セルに対応したピッチLPと開口幅
Tと底面幅WBとを持った截頭角錐状の突部88を外周
面に形成し、突部88の間に互いに直交する溝80C,
80C′を形成したロール54を用いる。
When the ribs 18 are formed in a lattice, a roll 54 having a groove pattern shown in FIG. 8 is used. That is, the groove frusto pyramidal projection 88 having a pitch L P and the opening width W T and the bottom width W B corresponding to the discharge cell formed on the outer peripheral surface, perpendicular to each other between the projection 88 80C ,
The roll 54 on which 80C 'is formed is used.

【0047】次にリブ形成工程を図9,10を用いて説
明する。図9はこの工程の流れ図、図10は各工程の説
明図である。まず前記したように、電極14および背面
誘電体層16を形成した背面ガラス基板12を用意する
(図9のステップ500)。図10(A)はこのガラス
基板12を示す。このガラス基板12の表面に、図10
(B)に示すようにリブ形成材層50(図2,3参照)
を形成する(ステップ502)。
Next, the rib forming step will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a flowchart of this process, and FIG. 10 is an explanatory diagram of each process. First, as described above, the back glass substrate 12 on which the electrodes 14 and the back dielectric layer 16 are formed is prepared (Step 500 in FIG. 9). FIG. 10A shows the glass substrate 12. On the surface of the glass substrate 12, FIG.
As shown in (B), the rib forming material layer 50 (see FIGS. 2 and 3)
Is formed (Step 502).

【0048】このリブ形成材層50の形成方法として
は、リブ用グリーンシートをガラス基板12の表面にラ
ミネートするのが作業性が良く均一厚さにするのに便利
である。このグリーンシートはリブ用ガラスペーストを
均一厚さのシート状として保護シート間に挟んだもので
あり、一方の保護シートを剥がしてガラス基板12に貼
り付け、後記するローラ転圧の直前に他の保護シートを
剥がして用いるものである。グリーンシートに代えて、
液状のリブ用ガラスペーストをガラス基板12に均一厚
さに塗布し、乾燥したものであってもよい(ステップ5
02A)。
As a method of forming the rib forming material layer 50, laminating a green sheet for a rib on the surface of the glass substrate 12 is convenient for good workability and is convenient for achieving a uniform thickness. This green sheet is a sheet in which a glass paste for ribs is sandwiched between protective sheets in the form of a sheet of uniform thickness. The protective sheet is peeled off and used. Instead of a green sheet,
Liquid rib glass paste may be applied to the glass substrate 12 to a uniform thickness and dried (step 5).
02A).

【0049】ここに用いるリブ用ガラスペーストはガラ
ス粉体と樹脂バインダーとを主成分とし、これに適当な
添加剤および溶媒を付加して所望の特性としたものであ
る。ガラス粉体は、ケイ酸塩以外に硫黄(S)、セレン
(Se)、明ばんを含有し、特に溶融点を低下させる目
的で酸化鉛等を含有させる。また各種の焼結助剤も添加
する。粉体粒径は数10ミクロン(μm)からサブミク
ロン程度とする。樹脂バインダーには、ビニルエーテ
ル、メタクリレート、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等およびそれらの前
駆体が用いられる。樹脂バインダーの量は、ガラス粉体
100重量部に対して10〜20重量部とする。
The glass paste for ribs used here has glass powder and a resin binder as main components, and an appropriate additive and solvent are added thereto to obtain desired characteristics. The glass powder contains sulfur (S), selenium (Se), and alum in addition to the silicate, and particularly contains lead oxide for the purpose of lowering the melting point. Various sintering aids are also added. The particle size of the powder is set to several tens of microns (μm) to sub-micron. As the resin binder, vinyl ether, methacrylate, urea resin, phenol resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, etc., and their precursors are used. The amount of the resin binder is 10 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the glass powder.

【0050】添加剤としては、硬化促進剤、可塑剤、分
散剤、濡れ性向上剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤などがあり得る。溶媒は樹脂バインダ
ーと相溶性のものであればよく、トルエン、キシレン、
フタル酸エステル等の芳香族溶媒や、ヘキサノール、オ
クタノール、オキシアルコール等の高級アルコール、酢
酸エステル等のエステル類が用いられる。
The additives may include a curing accelerator, a plasticizer, a dispersant, a wetting improver, a leveling agent, an antifoaming agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber and the like. The solvent only needs to be compatible with the resin binder, and toluene, xylene,
Aromatic solvents such as phthalic acid esters, higher alcohols such as hexanol, octanol and oxyalcohol, and esters such as acetic acid esters are used.

【0051】次にこのリブ形成材層50の上に、図10
(C)に示すように蛍光体形成材層100を形成する。
この蛍光体形成材層100はバリアリブ18に対応する
間隔でR,G,Bのそれぞれの色の蛍光体形成材ペース
ト(蛍光体ペースト)をストライプ状に形成したもので
あり、予め用意した蛍光体シートをラミネートすること
ができる(ステップ504)。蛍光体シートに代えて蛍
光体ペーストをストライプ状に印刷などによって塗布し
乾燥してもよい(ステップ504A)。ここに用いる蛍
光体形成材のペーストは、リブ用ガラスペーストとほぼ
同様な構成および物性を持ち、ガラス粉末の代わりに蛍
光体粉末(粒径3〜5μm)を用いたものである。
Next, on this rib forming material layer 50, FIG.
The phosphor forming material layer 100 is formed as shown in FIG.
The phosphor forming material layer 100 is formed by forming phosphor forming material pastes (phosphor pastes) of R, G, and B in a stripe shape at intervals corresponding to the barrier ribs 18. The sheet can be laminated (step 504). Instead of the phosphor sheet, a phosphor paste may be applied by stripe printing or the like and dried (step 504A). The paste of the phosphor-forming material used here has substantially the same configuration and physical properties as the glass paste for ribs, and uses phosphor powder (particle size: 3 to 5 μm) instead of glass powder.

【0052】このようにリブ形成材層50および蛍光体
形成材層100を形成したガラス基板12は、溶媒蒸気
中で一定時間放置することによりリブ形成材層50およ
び蛍光体形成材層100を軟化させ、ロール54による
加工性を向上させる(ステップ506)。そしてこの蛍
光体形成材層100の表面に剥離剤102(図10
(C)参照)をスプレーなどにより塗布してから(ステ
ップ508)、ローラ54を転圧する(ステップ51
0)。
The glass substrate 12 on which the rib-forming material layer 50 and the phosphor-forming material layer 100 are formed as described above is left in a solvent vapor for a certain period of time to soften the rib-forming material layer 50 and the phosphor-forming material layer 100. Then, the workability by the roll 54 is improved (Step 506). Then, a releasing agent 102 (FIG. 10) is applied to the surface of the phosphor forming material layer 100.
(C) is applied by spraying or the like (step 508), and the roller 54 is rolled (step 51).
0).

【0053】ローラ54には溝パターンが形成されてい
るから、この溝パターンの溝80(80A〜80C、図
4〜8参照)内にリブ形成材および蛍光体形成材が流動
して集まり、図10(D)に示すようなローラ54の溝
80の形状に一致した断面形状の凸条104が形成され
る。この際リブ形成材の流動性を蛍光体形成材の流動性
よりも大きく設定しておけば、蛍光体形成材を隣接する
溝80の間に残しつつリブ形成材を円滑にローラ54の
溝80内に集めることが可能である。
Since a groove pattern is formed on the roller 54, the rib forming material and the phosphor forming material flow and gather in the grooves 80 (80A to 80C, see FIGS. 4 to 8) of the groove pattern. As shown in FIG. 10D, a ridge 104 having a cross-sectional shape corresponding to the shape of the groove 80 of the roller 54 is formed. At this time, if the fluidity of the rib-forming material is set to be greater than the fluidity of the phosphor-forming material, the rib-forming material can be smoothly placed in the groove 80 of the roller 54 while the phosphor-forming material remains between the adjacent grooves 80. It is possible to collect within.

【0054】ローラ54は一回だけ転圧してもよいが、
1回あるいは複数回同じパス(経路)を往復動させても
よい(ステップ112)。蛍光体形成材層100には剥
離剤を塗布したから、ロール54にリブ形成材や蛍光体
形成材が付着しない。なお剥離剤102はローラ54の
表面に塗布しておいてもよい。またローラ54と蛍光体
形成材層100の両方に塗布しておいてもよい。なおリ
ブ形成材層50および蛍光体形成材層100の合計の厚
さは、ローラ54の溝80の断面積を考慮して決めるべ
きである。溝80の断面積は、リブ形成材の焼成後の収
縮量を考慮して、焼成後の凸条104の形状が所望の高
さと幅をもったリブ18となるように決めるべきであ
る。
The roller 54 may be rolled only once,
The same path (path) may be reciprocated once or plural times (step 112). Since the release agent is applied to the phosphor forming material layer 100, the rib forming material and the phosphor forming material do not adhere to the roll 54. Note that the release agent 102 may be applied to the surface of the roller 54 in advance. Further, it may be applied to both the roller 54 and the phosphor forming material layer 100. The total thickness of the rib forming material layer 50 and the phosphor forming material layer 100 should be determined in consideration of the cross-sectional area of the groove 80 of the roller 54. The cross-sectional area of the groove 80 should be determined in consideration of the amount of shrinkage of the rib forming material after firing so that the shape of the ridge 104 after firing becomes the rib 18 having a desired height and width.

【0055】ローラ54の転圧によりリブ形成材の凸条
104を形成した後、このガラス基板12は乾燥炉およ
び焼成炉に順次入れられる(ステップ514)。乾燥炉
と焼成炉は同一として温度を予め設定したプログラムに
従って順次昇温させることにより、乾燥と焼成を行って
もよい。ここで凸条104を形成するリブ形成材および
蛍光体形成材が乾燥され、さらに焼成されてバリアリブ
18および蛍光体22付きのガラス基板となる(ステッ
プ516)。
After the ridges 104 of the rib forming material are formed by the rolling pressure of the roller 54, the glass substrate 12 is sequentially placed in a drying furnace and a firing furnace (step 514). The drying furnace and the baking furnace may be the same, and the drying and the baking may be performed by sequentially raising the temperature according to a preset program. Here, the rib forming material and the phosphor forming material forming the ridge 104 are dried and further fired to form a glass substrate with the barrier ribs 18 and the phosphor 22 (step 516).

【0056】ここでリブ形成材50および蛍光体形成材
100の焼成に先行して、凸条104の頂面に黒色反射
防止層106例えば黒色誘電体の液を印刷などによって
塗布しておいてもよい(図10の(E)、図9のステッ
プ518)。このようにすれば黒色反射防止層106を
リブ形成材50および蛍光体形成材100と一括して焼
成でき、焼成工程を簡単にすることができる。
Here, prior to firing of the rib forming material 50 and the phosphor forming material 100, a black antireflection layer 106, for example, a liquid of a black dielectric may be applied to the top surface of the ridge 104 by printing or the like. Good ((E) in FIG. 10, step 518 in FIG. 9). By doing so, the black anti-reflection layer 106 can be fired together with the rib forming material 50 and the phosphor forming material 100, and the firing process can be simplified.

【0057】またこの黒色反射防止層106を蛍光体形
成材100の上に塗布するのに代えて、リブ形成材50
および蛍光体形成材100を焼成した後(ステップ51
4)に、リブ18の頂面を削り取り(図10の(F)、
ステップ520)、この頂面の不用な蛍光体形成材10
0を除去した後この頂面に黒色反射防止層108を塗布
してもよい(図10(G)、ステップ522)。
Instead of applying the black anti-reflection layer 106 on the phosphor forming material 100, the rib forming material 50
And after firing the phosphor forming material 100 (step 51).
4), the top surface of the rib 18 is scraped (FIG. 10 (F),
Step 520), the unnecessary phosphor forming material 10 on the top surface
After removing 0, a black anti-reflection layer 108 may be applied to the top surface (FIG. 10G, step 522).

【0058】[0058]

【他の実施態様】図11は他の実施態様の各工程の説明
図である。この実施態様はリブおよび蛍光体の形成と同
時に、黒色反射防止層すなわちブラックマスクを各リブ
上に形成するものである。
[Other Embodiments] FIG. 11 is an explanatory view of each step of another embodiment. In this embodiment, a black anti-reflection layer, that is, a black mask is formed on each rib at the same time as the formation of the rib and the phosphor.

【0059】まず電極14と背面誘電体層16を形成し
た背面ガラス基板12を用意する(図11(A))。こ
のガラス基板12の上にリブ用ガラスペーストを塗布し
乾燥してリブ形成材層50を形成する(図11
(B))。ガラスペーストを塗布・乾燥するのに代えて
ガラスペーストのグリーンシートをガラス基板12の表
面にラミネートしてもよい。このように形成したリブ形
成材層50の上に、蛍光体形成材層110を形成する
(図11(C))。この蛍光体形成材層110はリブ1
8に対応する位置に黒色反射防止材112を含む。
First, the back glass substrate 12 on which the electrodes 14 and the back dielectric layer 16 are formed is prepared (FIG. 11A). A glass paste for a rib is applied on the glass substrate 12 and dried to form a rib forming material layer 50 (FIG. 11).
(B)). Instead of applying and drying the glass paste, a green sheet of the glass paste may be laminated on the surface of the glass substrate 12. The phosphor forming material layer 110 is formed on the rib forming material layer 50 thus formed (FIG. 11C). This phosphor forming material layer 110 is
8 includes a black anti-reflection material 112.

【0060】この蛍光体形成材層110は、例えば異な
る色の蛍光体形成材と黒色反射防止材とを例えば印刷に
よりストライプ状に塗布することによって形成すること
ができる。また印刷に代えて予め蛍光体形成材と黒色反
射防止材とを所定の位置に配置したシートを用意してお
き、このシートをリブ形成材層50の上にラミネートし
てもよい。
The phosphor forming material layer 110 can be formed, for example, by applying phosphor forming materials of different colors and a black anti-reflection material in a stripe shape by printing, for example. Instead of printing, a sheet in which the phosphor-forming material and the black anti-reflection material are arranged at predetermined positions may be prepared in advance, and this sheet may be laminated on the rib-forming material layer 50.

【0061】そして前記図9,10の工程と同様に、ペ
ースト軟化処理(ステップ506)、剥離剤塗布(ステ
ップ508)を行い、ローラ54を転圧する(ステップ
510,512)。この結果図11(D)に示すような
凸条110に成形する。この凸条110の上面には、前
記黒色反射防止層112が転圧された層112Aが形成
されている。必要に応じてローラ54を往復動させ(ス
テップ512)、乾燥および焼成により(ステップ51
4)、リブおよび蛍光体付きのガラス基板12を得るこ
とができる(ステップ516)。このリブは上面にブラ
ックマスクを有する。
9 and 10, the paste is softened (step 506), the release agent is applied (step 508), and the roller 54 is rolled (steps 510 and 512). As a result, the ridge 110 is formed as shown in FIG. On the upper surface of the ridge 110, a layer 112A in which the black antireflection layer 112 is rolled is formed. The roller 54 is reciprocated as needed (step 512), and dried and fired (step 51).
4), a glass substrate 12 with ribs and phosphor can be obtained (step 516). This rib has a black mask on the upper surface.

【0062】[0062]

【他の実施態様】図12は蛍光体形成材のシートを形成
する一方法の工程図、図13〜15はその説明図であ
る。このシートは、前記の実施態様において蛍光形成材
層100,110を印刷によりリブ形成材層50の表面
に形成する代わりに、リブ形成材層50の全面にラミネ
ートするものである。
FIG. 12 is a process diagram of one method for forming a sheet of a phosphor forming material, and FIGS. 13 to 15 are explanatory diagrams thereof. This sheet laminates the entire surface of the rib forming material layer 50 instead of forming the fluorescent forming material layers 100 and 110 on the surface of the rib forming material layer 50 by printing in the above-described embodiment.

【0063】このシート120は、次のようにして製造
される。まず下支持フィルム122を用意し(図12の
ステップ600)、その上に剥離剤層124を塗布する
(ステップ602)。この上に第1の色例えばR(赤)
の蛍光体形成材ペースト126Rを均一厚さにベタ印刷
する(図13の(A)、ステップ604)。この蛍光体
形成材ペースト126RにはRの色の蛍光体塗布位置に
対応するスリット128が形成されたローラ130が転
圧される(ステップ606)。この結果蛍光体形成材ペ
ースト126Rはこのスリと128に集められて凸条1
32Rとなる(図13(B))。
This sheet 120 is manufactured as follows. First, the lower support film 122 is prepared (Step 600 in FIG. 12), and the release agent layer 124 is applied thereon (Step 602). On top of this, a first color, for example, R (red)
Of the phosphor forming material paste 126R is uniformly printed to a uniform thickness (FIG. 13A, step 604). The roller 130 having the slit 128 corresponding to the phosphor application position of the R color is pressed against the phosphor forming material paste 126R (step 606). As a result, the phosphor-forming material paste 126R is collected in the slots 128 and the ridges 1 are formed.
32R (FIG. 13B).

【0064】次にこの凸条132Rを除き第2の色例え
ばG(緑)へ蛍光体形成材ペースト126Gを印刷によ
り塗布し(ステップ608)、ローラ134を転圧する
(ステップ610)。このローラ134には、前記Rの
凸条132RとGの塗布位置に対応するスリット136
が形成されている。このローラ134を転圧することに
よりGのペースト126Gをスリット136内に集める
(図13の(C))。この結果Rの凸条132Rに隣接
するGの凸条132Gが形成される(図13(D))。
Next, the phosphor forming material paste 126G is applied to a second color, for example, G (green) except for the projections 132R by printing (step 608), and the roller 134 is pressed (step 610). The roller 134 has slits 136 corresponding to the application positions of the R ridges 132R and G.
Are formed. By rolling this roller 134, the G paste 126G is collected in the slit 136 (FIG. 13C). As a result, a G ridge 132G adjacent to the R ridge 132R is formed (FIG. 13D).

【0065】次に第3の色であるB(青)の蛍光体形成
材ペースト126Bが対応する位置に印刷され(ステッ
プ612)、下剥離層124の上面が全て蛍光体ペース
ト(126R,126G,126B)の凸条(132
R,132R,132B)で覆われる(図13
(E))。この上には上剥離層138を形成した後(ス
テップ614)、その上に上支持フィルム140が重ね
られる(図14(F)、ステップ616)。上剥離層1
38は上支持フィルム140側に塗布してからこの上支
持フィルム140をラミネートしてもよい。このように
して上・下支持フィルム140,122の間に蛍光体ペ
ースト(126R,126G,126B)の凸条(13
2R,132G,132B)をストライプ状に配置して
挟持した蛍光体形成材のシート120すなわちストライ
プシートができ上がる(ステップ618)。
Next, the phosphor forming material paste 126B of B (blue), which is the third color, is printed at the corresponding position (step 612), and the entire upper surface of the lower release layer 124 is coated with the phosphor paste (126R, 126G, 126B) (132)
R, 132R, 132B) (FIG. 13)
(E)). After forming the upper release layer 138 thereon (step 614), the upper support film 140 is overlaid thereon (FIG. 14F, step 616). Upper release layer 1
38 may be applied to the upper support film 140 side and then the upper support film 140 may be laminated. In this way, the ridges (13) of the phosphor paste (126R, 126G, 126B) are sandwiched between the upper and lower support films 140, 122.
2R, 132G, and 132B) are arranged in a stripe shape, and a sheet 120 of phosphor forming material, that is, a stripe sheet is completed (step 618).

【0066】このシート120を用いる場合には、下支
持フィルム122を剥離し(図14(G))、ガラス基
板12上に形成したリブ形成材層50の上にラミネート
する(図14(H))。そして上支持フィルム140を
剥離すればよい。一般にローラ130,134を転圧す
る際(ステップ606,610)には、第1および第2
の色(R,G)の蛍光体ペースト126R,126Gが
スリット128,136以外の表面にも僅かに残ること
が避けられない。このため下支持フィルム122上には
蛍光体ペースト126R,126G,126Bが薄く残
って混色する。しかし下支持フィルム122は剥がされ
るから、混色した蛍光体ペースト126R,126G,
126Bはこの下支持フィルム122に付着して除去さ
れることになる。
When this sheet 120 is used, the lower support film 122 is peeled off (FIG. 14G) and laminated on the rib forming material layer 50 formed on the glass substrate 12 (FIG. 14H). ). Then, the upper support film 140 may be peeled off. Generally, when rolling the rollers 130 and 134 (steps 606 and 610), the first and second
It is inevitable that the phosphor pastes 126R, 126G of the colors (R, G) slightly remain on the surfaces other than the slits 128, 136. Therefore, the phosphor pastes 126R, 126G, and 126B remain thin on the lower support film 122 and are mixed. However, since the lower support film 122 is peeled off, the mixed phosphor pastes 126R, 126G,
126B adheres to the lower support film 122 and is removed.

【0067】このようにしてリブ形成材層50にラミネ
ートされた蛍光体形成材層142には、リブに対応する
スリット144が形成されたローラ146が転圧される
(図14(I))。この結果リブ形成材層50と蛍光体
形成材層142はスリット144に集められて図15
(J)に示すように凸条148が形成される。この凸条
148および凸条148間の溝内は、蛍光体形成材ペー
スト126R,126G,126Bで覆われている。乾
燥・焼成によりこれらを硬化させた後、あるいは乾燥・
焼成の前に凸条148の上面を削り取ってから乾燥・焼
成すれば、図15(K)に示すように凸条148の頂面
から蛍光体を除去することができる。
A roller 146 having slits 144 corresponding to the ribs is pressed against the phosphor forming material layer 142 laminated on the rib forming material layer 50 (FIG. 14 (I)). As a result, the rib forming material layer 50 and the phosphor forming material layer 142 are collected in the slit 144 and
As shown in (J), a ridge 148 is formed. The ridges 148 and the grooves between the ridges 148 are covered with the phosphor forming material pastes 126R, 126G, and 126B. After curing these by drying and baking, or
If the upper surface of the ridge 148 is shaved before firing and then dried and fired, the phosphor can be removed from the top surface of the ridge 148 as shown in FIG.

【0068】[0068]

【発明の効果】請求項1〜21の発明によれば、ガラス
基板に柔軟性を有する未硬化バリアリブ形成材層12を
形成し、このバリアリブ形成材層の上に蛍光体形成材層
を形成し、バリアリブに対応する溝パターンを形成した
ローラをこのバリアリブ形成材層および蛍光体形成材層
に転圧することによって、バリアリブに対応するバリア
リブ形成材の凸条を形成すると共に、リブ内壁面や放電
セル内に蛍光体形成材を供給することができる。このた
めこれを乾燥し焼成することによって蛍光体付きのバリ
アリブを形成するものであるから、蛍光体付きの放電セ
ルを高精度に形成でき、PDPの高精細化や大型化に適
する。
According to the present invention, a flexible uncured barrier rib forming material layer 12 is formed on a glass substrate, and a phosphor forming material layer is formed on the barrier rib forming material layer. By rolling a roller having a groove pattern corresponding to the barrier ribs into the barrier rib forming material layer and the phosphor forming material layer, a convex rib of the barrier rib forming material corresponding to the barrier rib is formed, and the rib inner wall surface and the discharge cell are formed. A phosphor forming material can be supplied into the inside. For this reason, this is dried and fired to form a barrier rib with a phosphor, so that a discharge cell with a phosphor can be formed with high precision, which is suitable for increasing the definition and size of a PDP.

【0069】また工程数が少なくなり、特に一度の焼成
でバリアリブと蛍光体とを形成することができるから、
製造装置の小型化・小規模化が可能である。さらにガラ
ス基板に形成したバリアリブ形成材層の材料は全て凸条
に寄せ集められてバリアリブとして利用され、また蛍光
体形成材も全て利用されるから、バリアリブ形成材およ
び蛍光体形成材の材料ロスが発生せず工程数も少ないか
ら製造時の歩留まりが高くなり、製造コストの大幅な低
減が可能である。
Further, the number of steps is reduced, and in particular, the barrier ribs and the phosphor can be formed by one firing, so that
The manufacturing apparatus can be reduced in size and size. Further, all the materials of the barrier rib forming material layer formed on the glass substrate are gathered together on the ridges and used as barrier ribs, and all the phosphor forming materials are used, so that the material loss of the barrier rib forming material and the phosphor forming material is reduced. Since no generation occurs and the number of steps is small, the production yield is increased, and the production cost can be significantly reduced.

【0070】請求項18〜21の発明によれば、蛍光体
形成材層にリブに対応するように黒色反射防止材を設け
ておき、バリアリブ形成工程でリブ上面に黒色反射防止
層を同時に形成するから、前面ガラス基板に形成するブ
ラックマトリックスの加工が不用または簡単になり、P
DPの生産性は一層向上する。請求項22の発明によれ
ばこの発明に用いる蛍光体形成材のシートが得られる。
また請求項23の発明によればこの蛍光体形成材のシー
トの製造方法が得られる。
According to the invention of claims 18 to 21, a black anti-reflection material is provided on the phosphor forming material layer so as to correspond to the rib, and the black anti-reflection layer is simultaneously formed on the rib upper surface in the barrier rib forming step. From this, processing of the black matrix formed on the front glass substrate becomes unnecessary or simple, and P
DP productivity is further improved. According to the invention of claim 22, a sheet of the phosphor-forming material used in the present invention is obtained.
According to the twenty-third aspect of the present invention, a method for manufacturing a sheet of the phosphor-forming material is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】PDPの構造例を示す分解斜視図FIG. 1 is an exploded perspective view showing a structural example of a PDP.

【図2】本発明の方法を実施するために用いる装置の一
実施態様を示す図
FIG. 2 shows an embodiment of an apparatus used to carry out the method of the present invention.

【図3】原理説明図FIG. 3 is a diagram illustrating the principle.

【図4】ローラの一部拡大図FIG. 4 is a partially enlarged view of a roller.

【図5】ローラの溝の断面形状をローラ中心軸に沿って
断面した図
FIG. 5 is a cross-sectional view of a cross-sectional shape of a roller groove taken along a roller central axis.

【図6】ローラの溝の他の断面形状をローラ中心軸に沿
って断面した図
FIG. 6 is a cross-sectional view of another cross-sectional shape of the groove of the roller taken along the central axis of the roller.

【図7】ローラの溝の他の断面形状をローラ中心軸に沿
って断面した図
FIG. 7 is a cross-sectional view of another cross-sectional shape of the groove of the roller taken along the central axis of the roller.

【図8】ローラの格子状の溝パターンを示す斜視図FIG. 8 is a perspective view showing a grid-like groove pattern of a roller.

【図9】リブ形成工程の流れ図FIG. 9 is a flowchart of a rib forming step.

【図10】その各工程の説明図FIG. 10 is an explanatory view of each step.

【図11】他の実施態様の工程の説明図FIG. 11 is an illustration of a process according to another embodiment.

【図12】蛍光体形成材のシートの形成方法を示す工程
FIG. 12 is a process chart showing a method for forming a sheet of a phosphor forming material.

【図13】その工程の説明図FIG. 13 is an explanatory diagram of the process.

【図14】その工程の説明図FIG. 14 is an explanatory view of the process.

【図15】その工程の説明図FIG. 15 is an explanatory diagram of the process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 PDP(プラズマディスプレイパネル) 12 背面ガラス基板 14 データ電極 16 背面誘電体層 18 バリアリブ 20 バリアリブの溝(放電空間、放電セル) 22 蛍光体 24 前面ガラス基板 50 バリアリブ形成材層 54 ローラ 56 ローラ駆動用のモータ 80、80A〜80C ローラの溝 86、102 剥離剤 100、110、142 蛍光体形成材層 104、110、148 凸条 106、112A 黒色反射防止層 120 蛍光体形成材のシート 126R、126G、126B 蛍光体形成材ペースト 130、134、146 ローラ Reference Signs List 10 PDP (Plasma Display Panel) 12 Back glass substrate 14 Data electrode 16 Back dielectric layer 18 Barrier rib 20 Barrier rib groove (discharge space, discharge cell) 22 Phosphor 24 Front glass substrate 50 Barrier rib forming material layer 54 Roller 56 Roller driving Motors 80, 80A to 80C Roller grooves 86, 102 Release agent 100, 110, 142 Phosphor-forming material layer 104, 110, 148 Ridge 106, 112A Black anti-reflection layer 120 Phosphor-forming material sheets 126R, 126G, 126B phosphor forming material paste 130, 134, 146 roller

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 信哉 神奈川県綾瀬市小園1005番地 富士マイク ログラフィックス株式会社内 (72)発明者 内海 隆司 神奈川県綾瀬市小園1005番地 富士マイク ログラフィックス株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA09 5C028 FF16 HH14 5C040 FA01 FA02 GA03 GB02 GB06 GF02 GF03 GF18 GF19 GG01 GG03 GG09 GH07 JA19 JA20 KA08 KB24 LA14 MA02 MA04 MA22 MA23 MA24 MA25 MA26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shinya Yamazaki 1005 Koizono, Ayase-shi, Kanagawa Fuji Micrographics Co., Ltd. (72) Inventor Takashi Utsumi 1005 Koizono, Ayase-shi, Kanagawa Fuji Micrographics Co., Ltd. F term (reference) 5C027 AA09 5C028 FF16 HH14 5C040 FA01 FA02 GA03 GB02 GB06 GF02 GF03 GF18 GF19 GG01 GG03 GG09 GH07 JA19 JA20 KA08 KB24 LA14 MA02 MA04 MA22 MA23 MA24 MA25 MA26

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電極を形成した一対のガラス基板の間に
バリアリブで仕切られかつ内面に蛍光体層が形成された
多数の放電セルを有するプラズマディスプレイパネルの
放電セル形成方法において、 (a) 少なくとも一方の前記ガラス基板の前記電極を形成
した面に、柔軟性を有する未硬化バリアリブ形成材層を
形成する工程; (b) 前記放電セルと等しいピッチに蛍光体形成材を配列
した蛍光体形成材層を前記バリアリブ形成材層の上に形
成する工程; (c) 前記蛍光体形成材層およびバリアリブ形成材層に、
バリアリブに対応する溝が外周面に形成されたローラを
転圧することにより、バリアリブに対応する凸条をガラ
ス基板上に形成する工程; (d) 前記工程(c)で凸条に加工された蛍光体形成材およ
びバリアリブ形成材を乾燥し、焼成することにより、内
面に蛍光体層が形成された放電セルを形成する工程;の
各工程を備えることを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルの放電セル形成方法。
1. A method for forming a discharge cell of a plasma display panel having a large number of discharge cells separated by barrier ribs between a pair of glass substrates on which electrodes are formed and having a phosphor layer formed on an inner surface thereof. Forming a flexible uncured barrier rib forming material layer on the surface of the one glass substrate on which the electrodes are formed; (b) a phosphor forming material in which the phosphor forming materials are arranged at the same pitch as the discharge cells. Forming a layer on the barrier rib forming material layer; (c) forming the phosphor forming material layer and the barrier rib forming material layer;
Forming a ridge corresponding to the barrier rib on the glass substrate by rolling a roller having a groove corresponding to the barrier rib formed on the outer peripheral surface; (d) the fluorescent light processed into the ridge in the step (c). Forming a discharge cell having a phosphor layer formed on an inner surface thereof by drying and firing the body forming material and the barrier rib forming material. .
【請求項2】 請求項1において、工程(b)の次に次の
工程、 (b-1) 蛍光体形成材層の表面に剥離材をコートする工
程;を付加したプラズマディスプレイパネルの放電セル
形成方法。
2. The discharge cell of a plasma display panel according to claim 1, further comprising: (b-1) a step of coating the surface of the phosphor-forming material layer with a release material after the step (b). Forming method.
【請求項3】 請求項1において、工程(b)の次に次の
工程、 (b-2) このガラス基板をバリアリブ形成材および蛍光体
形成材の溶媒蒸気中に一定時間放置してバリアリブ形成
材および蛍光体形成材の硬さを調節する工程;を付加し
たプラズマディスプレイパネルの放電セル形成方法。
3. The method according to claim 1, wherein the step (b) is followed by a step following the step (b-2): (b-2) leaving the glass substrate in a solvent vapor of the barrier rib forming material and the phosphor forming material for a predetermined time to form a barrier rib; Adjusting the hardness of the material and the phosphor forming material; and forming a discharge cell of the plasma display panel.
【請求項4】 請求項2において、工程(b-1)の次に次
の工程、 (b-3) このガラス基板をバリアリブ形成材および蛍光体
形成材の溶媒蒸気中に一定時間放置してバリアリブ形成
材および蛍光体形成材の硬さを調節する工程;を付加し
たプラズマディスプレイパネルの放電セル形成方法。
4. The method according to claim 2, wherein the glass substrate is left in a solvent vapor of the barrier rib forming material and the phosphor forming material for a predetermined time after the step (b-1). Adjusting the hardness of the barrier rib forming material and the phosphor forming material; and forming a discharge cell of the plasma display panel.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかの方法におい
て、工程(a)のバリアリブ形成材層は、リブ用ガラスペ
ーストのグリーンシートをガラス基板にラミネートする
ことによって形成されるプラズマディスプレイパネルの
放電セル形成方法。
5. The plasma display panel according to claim 1, wherein the barrier rib forming material layer in step (a) is formed by laminating a green sheet of a glass paste for a rib on a glass substrate. Discharge cell forming method.
【請求項6】 請求項1〜4のいずれかの方法におい
て、工程(a)のバリアリブ形成材層は、ガラス基板にリ
ブ用ガラスペーストを塗布し乾燥することにより形成さ
れるプラズマディスプレイパネルの放電セル形成方法。
6. The method according to claim 1, wherein the barrier rib forming material layer in the step (a) is formed by applying a glass paste for a rib on a glass substrate and drying the glass paste. Cell formation method.
【請求項7】 バリアリブは背面のガラス基板に形成さ
れる請求項1〜6のいずれかのプラズマディスプレイパ
ネルの放電セル形成方法。
7. The method for forming a discharge cell of a plasma display panel according to claim 1, wherein the barrier rib is formed on a glass substrate on a back surface.
【請求項8】 電極はガラス基板にストライプ状に形成
され、ローラはその外周面に多数の環状の溝を備え、ス
トライプ状のバリアリブを形成する請求項1〜7のいず
れかのプラズマディスプレイパネルの放電セル形成方
法。
8. The plasma display panel according to claim 1, wherein the electrodes are formed in a stripe shape on the glass substrate, and the roller has a plurality of annular grooves on its outer peripheral surface to form striped barrier ribs. Discharge cell forming method.
【請求項9】 ローラは環状の溝をストライプ状の電極
間に沿わせて転圧される請求項8のプラズマディスプレ
イパネルの放電セル形成方法。
9. The method according to claim 8, wherein the roller is rolled with an annular groove between the striped electrodes.
【請求項10】 ローラは環状の溝をストライプ状の電
極に対して直交方向にして転圧される請求項8のプラズ
マディスプレイパネルの放電セル形成方法。
10. The method according to claim 8, wherein the roller is rolled with its annular groove perpendicular to the stripe-shaped electrodes.
【請求項11】 ローラはその外周面に周方向および軸
方向に互いに直交する溝を備え、このローラを蛍光体形
成材層およびバリアリブ形成材層に転圧することにより
格子状のバリアリブを形成する請求項1〜7のいずれか
のプラズマディスプレイパネルの放電セル形成方法。
11. A roller having grooves perpendicular to each other in a circumferential direction and an axial direction on an outer peripheral surface thereof, and forming a grid-like barrier rib by rolling the roller into a phosphor forming material layer and a barrier rib forming material layer. Item 8. The method for forming a discharge cell of a plasma display panel according to any one of Items 1 to 7.
【請求項12】 請求項1〜11のいずれかの方法にお
いて、工程(c)のローラはその周速度をガラス基板の相
対直線移動速度に一致させつつ同一パスを通って相対往
復動されるプラズマディスプレイパネルの放電セル形成
方法。
12. The method according to claim 1, wherein the roller in step (c) is reciprocally moved reciprocally through the same path while making its peripheral speed coincide with the relative linear movement speed of the glass substrate. A method for forming a discharge cell of a display panel.
【請求項13】 ローラのガラス基板に対する押付け圧
を、ローラの軸方向の接触幅を基準にして20〜200
kg/cmとする請求項1〜12のいずれかのプラズマディ
スプレイパネルの放電セル形成方法。
13. The pressing pressure of the roller against the glass substrate is set to 20 to 200 with respect to the axial contact width of the roller.
The method for forming a discharge cell of a plasma display panel according to claim 1, wherein the pressure is kg / cm.
【請求項14】 ローラの直径を30〜500mmとする
請求項1〜13のいずれかのプラズマディスプレイパネ
ルの放電セル形成方法。
14. The method according to claim 1, wherein the diameter of the roller is 30 to 500 mm.
【請求項15】 ローラに対するガラス基板の相対移動
速度およびローラのガラス基板に対する相対周速度を
0.02〜2.0m/minとする請求項1〜14のいずれ
かのプラズマディスプレイパネルの放電セル形成方法。
15. The discharge cell formation of the plasma display panel according to claim 1, wherein a relative movement speed of the glass substrate with respect to the roller and a relative peripheral speed of the roller with respect to the glass substrate are set to 0.02 to 2.0 m / min. Method.
【請求項16】 請求項1の方法において、ローラの溝
は、その開口幅をW T、底面幅をWB、深さをH、ピッチ
をLPとして、0<WB/WT<1.0、0.1<H/WT
<3.0、0.1<(WT+WB)/2LP<1.0、と
したプラズマディスプレイパネルの放電セル形成方法。
16. The method according to claim 1, wherein the groove of the roller is provided.
Sets the opening width to W T, Bottom width WB, Depth H, pitch
To LPAs 0 <WB/ WT<1.0, 0.1 <H / WT
<3.0, 0.1 <(WT+ WB) / 2LP<1.0, and
Of forming a discharge cell of a plasma display panel.
【請求項17】 請求項1の方法において、工程(c)
の次に次の工程、 (c-1) バリアリブの上面の蛍光体形成材層の上に黒色反
射防止材層を形成する工程;を付加したプラズマディス
プレイパネルの放電セル形成方法。
17. The method of claim 1, wherein step (c).
And (c-1) a step of forming a black anti-reflection material layer on the phosphor forming material layer on the upper surface of the barrier rib.
【請求項18】 請求項1の方法において、工程(b)の
蛍光体形成材層は、バリアリブに対応する位置に黒色反
射防止材を有するプラズマディスプレイパネルの放電セ
ル形成方法。
18. The method according to claim 1, wherein the phosphor forming material layer of step (b) has a black anti-reflection material at a position corresponding to the barrier rib.
【請求項19】 蛍光体形成材層は、バリアリブ形成材
層の表面に印刷により形成される請求項1または18の
プラズマディスプレイパネルの放電セル形成方法。
19. The method according to claim 1, wherein the phosphor forming material layer is formed by printing on the surface of the barrier rib forming material layer.
【請求項20】 請求項1の方法において、蛍光体形成
材層は、異なる色の蛍光体形成材を各放電セルに対応さ
せて配列したシートをバリアリブ形成材層にラミネート
することにより形成されるプラズマディスプレイパネル
の放電セル形成方法。
20. The method according to claim 1, wherein the phosphor-forming material layer is formed by laminating a sheet in which phosphor-forming materials of different colors are arranged corresponding to respective discharge cells to the barrier rib-forming material layer. A method for forming a discharge cell of a plasma display panel.
【請求項21】 蛍光体形成材層のシートは、バリアリ
ブに対応する位置に黒色反射防止材を有する請求項20
のプラズマディスプレイパネルの放電セル形成方法。
21. The phosphor-forming material layer sheet has a black anti-reflection material at a position corresponding to the barrier rib.
A method for forming a discharge cell of a plasma display panel.
【請求項22】 請求項20の方法に用いる蛍光体形成
材のシートであって、異なる色の蛍光体形成材を各放電
セルに対応させて上下一対の剥離可能な支持フィルムの
間に挟持したことを特徴とする蛍光体形成材のシート。
22. A phosphor-forming material sheet used in the method according to claim 20, wherein phosphor-forming materials of different colors are sandwiched between a pair of upper and lower peelable support films corresponding to respective discharge cells. A sheet of a phosphor-forming material, characterized in that:
【請求項23】 請求項20の方法に用いる蛍光体形成
材のシートを製造する方法であって、 (a) 下支持フィルムに剥離層を形成し; (b) 前記剥離層の上面全体に第1の色の蛍光体を均一厚
さに印刷し; (c) 第1の色に対応する放電セルの位置に溝が形成され
たローラを転圧することにより前記第1の色の蛍光体を
前記溝に集めて第1の色の凸部を形成し、乾燥し; (d) 前記剥離層の上面に前記凸部を除いて第2の色の蛍
光体を印刷し; (e) 第1および第2の色に対応する放電セルの位置に溝
が形成されたローラを転圧することにより前記第2の色
の蛍光体を前記溝に集めて第1の色の凸部に隣接する第
2の色の凸部を形成し、乾燥し; (f) 最後の色の蛍光体を前記第1および第2の凸部を除
く剥離層上面に印刷し、乾燥し; (g) 剥離層を介して上支持フィルムをラミネートする:
ことを特徴とする蛍光体形成材のシートの製造方法。
23. A method for producing a phosphor-forming material sheet used in the method of claim 20, comprising: (a) forming a release layer on the lower support film; and (b) forming a release layer on the entire upper surface of the release layer. Printing the phosphor of one color to a uniform thickness; (c) rolling the phosphor of the first color by rolling a roller having a groove formed at the position of the discharge cell corresponding to the first color; (D) printing a phosphor of a second color on the upper surface of the release layer except for the protrusions; and (e) printing the first color and the phosphor on the upper surface of the release layer; By rolling a roller having a groove formed at the position of the discharge cell corresponding to the second color, the phosphor of the second color is collected in the groove, and the second phosphor adjacent to the convex portion of the first color is collected. (F) printing a phosphor of the last color on the upper surface of the release layer excluding the first and second protrusions and drying; (g) passing through the release layer Up Laminating the lifting film:
A method for producing a sheet of a phosphor-forming material.
JP4636699A 1999-02-18 1999-02-24 Discharge cell forming method for plasma display panel, phosphor-forming material sheet and its manufacture Pending JP2000251696A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4636699A JP2000251696A (en) 1999-02-24 1999-02-24 Discharge cell forming method for plasma display panel, phosphor-forming material sheet and its manufacture
US09/506,833 US6482062B1 (en) 1999-02-18 2000-02-18 Method of forming barrier rib and discharge cell for plasma display panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4636699A JP2000251696A (en) 1999-02-24 1999-02-24 Discharge cell forming method for plasma display panel, phosphor-forming material sheet and its manufacture

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000251696A true JP2000251696A (en) 2000-09-14

Family

ID=12745163

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4636699A Pending JP2000251696A (en) 1999-02-18 1999-02-24 Discharge cell forming method for plasma display panel, phosphor-forming material sheet and its manufacture

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000251696A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002373593A (en) * 2001-06-14 2002-12-26 Nec Corp Plasma display panel and its manufacturing method
US6670755B2 (en) * 2000-01-31 2003-12-30 Pioneer Corporation Plasma display panel and method for manufacturing the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6670755B2 (en) * 2000-01-31 2003-12-30 Pioneer Corporation Plasma display panel and method for manufacturing the same
JP2002373593A (en) * 2001-06-14 2002-12-26 Nec Corp Plasma display panel and its manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20110039040A9 (en) Method of forming microstructures on a substrate and a microstructured assembly used for same
US7033534B2 (en) Method for forming microstructures on a substrate using a mold
KR100330070B1 (en) Method of manufacturing display panel and display device
US6482062B1 (en) Method of forming barrier rib and discharge cell for plasma display panel
JP4162039B2 (en) Manufacturing method of substrate structure used for assembly of display panel
KR100709526B1 (en) Unbaked laminate for producing front plate of plasma display device, and method for producing front plate of plasma display device
JP2000251696A (en) Discharge cell forming method for plasma display panel, phosphor-forming material sheet and its manufacture
JPH09283018A (en) Manufacture of plasma display panel and plasma display panel
JPH11306993A (en) Plasma display panel
JP2000243264A (en) Barrier rib forming method and roller for plasma display panel
JP4184554B2 (en) Plasma display panel and back plate for plasma display panel
JP2000251697A (en) Method for forming discharge cell of plasma display panel
KR100486428B1 (en) A transcribe sheet and method forming pattern
JP4271048B2 (en) Photosensitive inorganic paste composition, sheet-shaped green body for producing plasma display front plate using the same, and method for producing plasma display front plate
JP3409789B2 (en) Manufacturing method of plasma display device
US20070013307A1 (en) Method for manufacturing plasma display panel
KR20070011885A (en) Fabrication method of barrier rib for plasma display panel using roll-forming process
JPH1116490A (en) Manufacture of barrier rib for plasma display panel and substrate for plasma display panel
KR100684824B1 (en) Plasma display panel
JP3539078B2 (en) Method for manufacturing rear substrate for plasma display panel
KR100615179B1 (en) A barrier rib of plasma display panel and fabricating method thereof
JPH11354018A (en) Rib forming method for plasma display panel back plate and device
JPH10321144A (en) Plasma display panel
JP4591398B2 (en) Method for manufacturing plasma display panel
JP3432151B2 (en) Method and apparatus for forming ribs on back plate of plasma display panel