JP2000251299A - Optical disk device - Google Patents

Optical disk device

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JP2000251299A
JP2000251299A JP11054911A JP5491199A JP2000251299A JP 2000251299 A JP2000251299 A JP 2000251299A JP 11054911 A JP11054911 A JP 11054911A JP 5491199 A JP5491199 A JP 5491199A JP 2000251299 A JP2000251299 A JP 2000251299A
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Japan
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semiconductor laser
optical disk
width
disk device
optical
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JP11054911A
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Japanese (ja)
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Kenichi Uejima
研一 上島
Satoshi Kawanaka
敏 川中
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a writing error from occurring due to the reduction and position deviation of a recording mark. SOLUTION: An optical disk device uses a semiconductor laser as a light source and has an optical pick-up mechanism for forming a spot beam for an optical pick-up on an optical disk surface due to an optical system. In this case, in the said semiconductor laser, the width of a current injection part corresponding to a resonator part where the width of the undulation of the standing wave being generated in a resonator to prevent kinks from occurring is maximized is narrower than the other parts. The length of a narrow part 40 where the width of the current injection part becomes narrow is equal to that of a part where the current injection part does not become narrow. The narrow part 40 where the width of the current injection part becomes narrow is set to width where the primary mode of an emission laser beam can be cut off. The semiconductor composes a high-output semiconductor laser in ridge structure for writing onto the optical disk surface. The width of the resonator is constant.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はDVD(Digital Vi
deo Disk),AS−MO(Advanced Storage-Magneto O
ptical),高速記録CD−R(Compact Disc-Recordabl
e )等の光ディスク装置に関し、特に、書き込み機能を
有する光ディスク装置に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a DVD (Digital Vi
deo Disk), AS-MO (Advanced Storage-Magneto O
ptical), high-speed recording CD-R (Compact Disc-Recordabl)
The present invention relates to an optical disk device such as e), and particularly to a technology effective when applied to an optical disk device having a writing function.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ディスク装置の一つとしてDVD−R
AM装置が知られている。DVD−RAM装置では、相
変化による記録手法が用いられ、レーザ高抵抗の熱によ
り記録薄膜を結晶からアモルファスに変え反射率を変え
た記録マークを作ることで書き込みを行う。
2. Description of the Related Art DVD-Rs are one of optical disk devices.
AM devices are known. In the DVD-RAM device, a recording method based on a phase change is used, and writing is performed by changing a recording thin film from a crystal to an amorphous by heat of laser high resistance to form a recording mark having a changed reflectance.

【0003】従来のCDでは記録マークの中心に信号を
対応させるマーク位置(ポジション)記録方式が使用さ
れたが、DVD−RAMでは記録密度をあげるために、
記録マークの両端に信号を乗せるマークエッジ方式を採
用している。このため、ディスクの記録トラック上にエ
ッジ位置がずれることなく、マークを書き込む必要があ
る。特に長い記録マークでは、レーザ光を連続して照射
することとなり、熱の蓄積により記録マークが涙型に変
形し、エッジの位置がずれてしまう。この位置ずれを防
止するため複数のパルスで1つの記録マークを書き込む
マルチパルス法が用いられている。
[0003] In the conventional CD, a mark position (position) recording method in which a signal is made to correspond to the center of a recording mark is used.
A mark edge method in which a signal is put on both ends of a recording mark is adopted. For this reason, it is necessary to write a mark on the recording track of the disk without shifting the edge position. Particularly, in the case of a long recording mark, laser light is continuously irradiated, and the recording mark is deformed into a tear shape due to accumulation of heat, and the position of the edge is shifted. To prevent this displacement, a multi-pulse method of writing one recording mark with a plurality of pulses is used.

【0004】これらの技術については、応用物理学会分
科会 日本光学会発行「光学」第26巻1号、P9〜P
15「相変化光ディスクの高密度記録技術」に記載されて
いる。また、応用物理学会発行「応用物理」第67巻第
9号(1998)、P1035〜P1040には、光ディスク用半導
体レーザーについて記載されている。また、DVD用光
ピックアップについては、株式会社、新技術コミュニケ
ーションズ発行「OplusE」、No.199、P86〜P92
に記載されている。この文献には、DVD/CD互換再
生光ピックアップとして、(1)レンズ切り換え方式
(2)焦点レンズ方式 (3)液晶シャッタ方式 の3
方式について記載されている。
[0004] These technologies are described in “Optics”, Vol. 26, No. 1, P9-P published by the Optical Society of Japan, Japan Society of Applied Physics.
15 “High-density recording technology for phase-change optical disks”. Also, "Applied Physics" Vol. 67, No. 9 (1998), pp. 1035 to 1040, published by the Japan Society of Applied Physics, describes semiconductor lasers for optical disks. As for the optical pickup for DVD, see “OpplusE” published by Shin-Technologies Communications, Inc., No. 199, pp. 86-92.
It is described in. This document describes three types of DVD / CD compatible reproduction optical pickups: (1) lens switching method, (2) focus lens method, and (3) liquid crystal shutter method.
The method is described.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の記録マークの形
成は、図5に示すような方法が知られている。図5
(a)はマルチパルス法によるものであり、図5(b)
はマークポジション記録方式によるものである。すなわ
ち、光ディスク装置では、読み出し(再生)および書き
込みを行わない状態でのレーザ光の光出力はバイアスパ
ワーの状態にあり、読み出し(再生)は再生パワーで行
い、書き込みはピークパワーで行う。記録トラック70
は結晶部分で構成され、ピークパワーによる書き込みに
よって結晶部分をアモルファス部分に相変化させて記録
マーク71を形成する。
As a conventional method of forming a recording mark, a method as shown in FIG. 5 is known. FIG.
FIG. 5A shows the result of the multi-pulse method, and FIG.
Is based on a mark position recording method. That is, in the optical disk device, the optical output of the laser beam in a state where reading (reproduction) and writing are not performed is in a bias power state, and reading (reproduction) is performed with reproduction power and writing is performed with peak power. Recording track 70
Is formed of a crystalline portion, and the recording mark 71 is formed by changing the crystalline portion to an amorphous portion by writing with peak power.

【0006】図5(b)のマークポジション記録方式で
は、長い記録マーク71aでは、レーザ光を連続して照
射(ピークパワー)することとなり、熱の蓄積により記
録マークが涙型に変形し、エッジの位置がずれてしまう
(位置ずれe)。これを解決するため、図5(a)のマ
ルチパルス法によるマークエッジ記録では、書き込み時
のピークパワーを複数のパルス(マルチパルス)で一つ
の記録マーク71を書き込み、これによって記録マーク
71が涙型にならないようにして、エッジの位置ずれが
起きないようにしている。
In the mark position recording method shown in FIG. 5B, laser light is continuously irradiated (peak power) on a long recording mark 71a, and the recording mark is deformed into a tear shape due to accumulation of heat, so that the edge is removed. Is shifted (position shift e). In order to solve this problem, in the mark edge recording by the multi-pulse method of FIG. 5A, one recording mark 71 is written with a plurality of pulses (multi-pulses) at the peak power at the time of writing. Edges are not displaced so that they do not become molds.

【0007】マルチパルス法を採用すると、最小の駆動
パルス幅が数10nsと高速になるため一定電流でレー
ザを駆動する。このためレーザの電流−光出力特性の直
線性が要求される。この直線性が悪く、特にパルス幅等
で直線性に曲がりが生じると、一定電流駆動では必要な
レーザの出力が必要ピークパワーに達せず記録マークが
小さくなってしまったり、記録マークの位置がずれてし
まい、正しい書き込みができなくなる。
When the multi-pulse method is adopted, the minimum driving pulse width is as high as several tens ns, so that the laser is driven with a constant current. Therefore, linearity of the current-light output characteristics of the laser is required. If this linearity is poor, especially if the linearity bends due to pulse width, etc., the required laser output will not reach the required peak power with a constant current drive, and the recording mark will become smaller, or the position of the recording mark will shift. And correct writing cannot be performed.

【0008】図6は電流−光出力の直線性が悪いレーザ
でのマークエッジ記録を示す図であり、キンクに起因す
る不良マークエッジ記録状態を示す説明図である。マル
チパルス法において、半導体レーザの光出力を高め、バ
イアスパワーからピークパワーに移行させる際、キンク
72が発生すると、一定電流駆動では必要なレーザの出
力が必要ピークパワーに達せず、記録マーク71(長い
記録マーク71a)が理論的記録マーク75に比較して
小さくなってしまったり、記録マーク71の位置がずれ
てしまう。このズレ(f)は、図5(b)の場合の後尾
に発生するズレ(e)とは逆に、先頭側に発生する。
FIG. 6 is a diagram showing mark edge recording by a laser having poor current-light output linearity, and is an explanatory diagram showing a defective mark edge recording state caused by kink. In the multi-pulse method, when the kink 72 occurs when the optical output of the semiconductor laser is increased and the bias power is shifted from the bias power to the peak power, the required laser output does not reach the required peak power with constant current driving, and the recording mark 71 ( The long recording mark 71a) becomes smaller than the theoretical recording mark 75, or the position of the recording mark 71 is shifted. This shift (f) occurs on the head side, contrary to the shift (e) that occurs on the tail in the case of FIG. 5B.

【0009】本発明の目的は、記録マークの縮小化や位
置ずれによる書き込みエラーの発生を防止できる光ディ
スク装置を提供することにある。本発明の前記ならびに
そのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および
添付図面からあきらかになるであろう。
It is an object of the present invention to provide an optical disk apparatus capable of preventing a writing error due to a reduction in the size of a recording mark or a positional shift. The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.

【0011】(1)半導体レーザを光源とし、光学系に
よって光ディスク面に光ピックアップのためのスポット
光を結ぶ光ピックアップ機構を有する光ディスク装置で
あって、前記半導体レーザはキンク発生抑止のために共
振器に発生するうねりの定在波のうねりの幅が極大値に
なる共振器部分に対応する電流注入部の幅が他の部分よ
りも狭くなっている。前記電流注入部の幅が狭くなる狭
隘部分の長さと、前記電流注入部の幅が狭くならない部
分の長さは同じ長さになっている。前記電流注入部の幅
が狭くなる狭隘部分は出射レーザ光の一次モードの利得
を低下することができる幅になっている。前記半導体レ
ーザは光ディスク面への書き込みができる高出力の半導
体レーザを構成している。前記半導体レーザはリッジ構
造,埋め込みヘテロ構造等の共振器が内部狭窄型の半導
体レーザである。前記共振器の幅は一定である。前記半
導体レーザは、パッケージ本体およびレーザ光を透過さ
せる光透過窓を有する蓋体とからなるパッケージ内に組
み込まれているとともに、前記半導体レーザの各電極は
前記パッケージ本体に取り付けられ前記パッケージの内
外に亘って延在する複数の外部電極端子に接続手段を介
して電気的に接続された構成になっている。
(1) An optical disk apparatus having an optical pickup mechanism using a semiconductor laser as a light source and connecting a spot light for optical pickup to an optical disk surface by an optical system, wherein the semiconductor laser has a resonator for suppressing kink generation. The width of the current injection portion corresponding to the resonator portion where the swell width of the swell of the swell generated at the maximum becomes a narrower value than the other portions. The length of the narrow portion where the width of the current injection portion is narrow is equal to the length of the portion where the width of the current injection portion is not narrow. The narrow portion where the width of the current injection portion is narrow has a width that can reduce the gain of the primary mode of the emitted laser light. The semiconductor laser constitutes a high-output semiconductor laser capable of writing on the optical disk surface. The semiconductor laser is a semiconductor laser having a cavity having a ridge structure, a buried heterostructure, or the like, having an internally confined cavity. The width of the resonator is constant. The semiconductor laser is incorporated in a package consisting of a package main body and a lid having a light transmission window for transmitting laser light, and each electrode of the semiconductor laser is attached to the package main body and inside and outside the package. It is configured to be electrically connected to a plurality of external electrode terminals extending over the connection means via connection means.

【0012】前記(1)の手段によれば、 (a)光ディスクの書き込みを行う半導体レーザにおい
ては、共振器におけるうねりの定在波のうねりの幅が極
大値になる電流注入部の幅が狭くなる構造(狭隘構造)
になっていることから、この狭隘部分では、1次モード
をはじめとする高次モードの利得が落ち、うねりの定在
波の発生を押さえることができ、キンクの発生を抑制す
ることができる。したがって、光ディスクでの記録マー
クの縮小化や位置ずれ等の書き込みエラーの発生を防止
することができる。 (b)キンク発生もないことから、駆動パルス幅が変化
しても電流−光出力特性の直線性の悪化を防止でき、一
定電流駆動時の光出力の変動を防止することができる。 (c)電流−光出力特性の直線性が悪いレーザでの書き
込み不良を低減するためには、光出力を高速で補正する
ための追加の回路が必要であるが、本発明によれば電流
−光出力特性の直線性が改善されるため補正回路が不要
になり、光ディスク装置の回路の簡素化および小型化が
達成できる。 (d)半導体レーザの電流−光出力特性の直線性の歩留
が改善するため、半導体レーザのコストが低下し、光デ
ィスク装置の低コスト化が達成できる。
According to the means (1), (a) in a semiconductor laser for writing data on an optical disk, the width of the current injection portion at which the width of the undulation of the standing wave of the undulation in the resonator is narrow is narrow. Structure (narrow structure)
Therefore, in this narrow portion, the gain of the higher-order modes including the first-order mode is reduced, the generation of the standing wave having the undulation can be suppressed, and the generation of the kink can be suppressed. Accordingly, it is possible to prevent the occurrence of a writing error such as a reduction in the size of a recording mark or a positional shift on an optical disc. (B) Since no kink occurs, even if the drive pulse width changes, the linearity of the current-light output characteristics can be prevented from deteriorating, and the fluctuation of the light output during constant current driving can be prevented. (C) An additional circuit for correcting the light output at high speed is required to reduce the writing failure with a laser having poor current-light output characteristic linearity. Since the linearity of the light output characteristics is improved, a correction circuit is not required, and simplification and downsizing of the circuit of the optical disk device can be achieved. (D) Since the yield of the linearity of the current-optical output characteristics of the semiconductor laser is improved, the cost of the semiconductor laser is reduced, and the cost of the optical disk device can be reduced.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を
説明するための全図において、同一機能を有するものは
同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments of the present invention, components having the same functions are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.

【0014】(実施形態1)図1乃至図4は本発明の一
実施形態(実施形態1)である光ディスク装置に係わる
図であり、図1は光ディスク装置の光ピックアップ機構
に組み込まれる半導体レーザ素子を示す一部を切り欠い
た模式的斜視図、図2は光ピックアップ部分を示す模式
図、図3はレーザ光によるマークエッジ記録方法とマー
クエッジ記録状態を示す説明図、図4は半導体レーザ装
置を示す一部を切り欠いた斜視図である。
(Embodiment 1) FIGS. 1 to 4 relate to an optical disk device according to an embodiment (Embodiment 1) of the present invention. FIG. 1 shows a semiconductor laser device incorporated in an optical pickup mechanism of the optical disk device. FIG. 2 is a schematic perspective view showing an optical pickup portion, FIG. 3 is an explanatory diagram showing a mark edge recording method and a mark edge recording state using laser light, and FIG. 4 is a semiconductor laser device. It is the perspective view which notched some parts which show this.

【0015】光ディスク装置の光ピックアップ機構は、
CD読み取り用の発振波長が780nmの半導体レーザ
(LD)と光検出器が一体化されたモジュールを含む光
学系と、DVD用の発振波長が650nmの半導体レー
ザと検出器を含む光学系を一つにまとめた光学系になっ
ている。そして、ディスクに対応して前記光学系を切り
換えて再生(読み出し),書き込みを行う。
The optical pickup mechanism of the optical disk device is
One optical system including a module in which a semiconductor laser (LD) with an oscillation wavelength of 780 nm for reading a CD and a photodetector are integrated, and one optical system for a DVD with a semiconductor laser with an oscillation wavelength of 650 nm and a detector. Optical system. Then, reproduction (reading) and writing are performed by switching the optical system corresponding to the disc.

【0016】図2は本実施形態1の光ディスク装置にお
ける光ピックアップ機構を示す。発振波長が650nm
の半導体レーザ1から出射されるレーザ光2はハーフミ
ラー3,コリメートレンズ4を順次通り、波長選択ミラ
ー5で反射し、2レンズアクチュエータ6のDVD用対
物レンズ7で絞られてディスク8の記録面に集光される
構成になっている。また、前記記録面で反射したレーザ
光2は前記DVD用対物レンズ7を通り、波長選択ミラ
ー5で反射されてコリメートレンズ4を通り、ハーフミ
ラー3で反射されて波長650nmの光を検出する光検
出器9に焦点を結ぶようになっている。
FIG. 2 shows an optical pickup mechanism in the optical disk device of the first embodiment. Oscillation wavelength is 650nm
The laser beam 2 emitted from the semiconductor laser 1 passes through the half mirror 3 and the collimating lens 4 in order, is reflected by the wavelength selection mirror 5, is narrowed by the DVD objective lens 7 of the two-lens actuator 6, and is recorded on the recording surface of the disk 8. It is configured to be condensed. The laser beam 2 reflected by the recording surface passes through the DVD objective lens 7, is reflected by the wavelength selection mirror 5, passes through the collimating lens 4, is reflected by the half mirror 3, and detects light having a wavelength of 650 nm. The detector 9 is focused on.

【0017】一方、前記DVD用対物レンズ7および波
長選択ミラー5を結ぶ光軸上には発振波長が780nm
になる半導体レーザ15が配置されている。この半導体
レーザ15から出射されたレーザ光16はハーフミラー
17,コリメートレンズ18を順次通り、前記波長選択
ミラー5を通過し、切り換えられて波長選択ミラー5の
光軸上に位置する2レンズアクチュエータ6のCD用対
物レンズ19を通ってディスク8の記録面に集光され
る。記録面で反射したレーザ光16はCD用対物レンズ
19,波長選択ミラー5,コリメートレンズ18を順次
通り、ハーフミラー17で反射されて波長780nmの
光を検出する光検出器20に焦点を結ぶようになってい
る。
On the other hand, the optical axis connecting the DVD objective lens 7 and the wavelength selection mirror 5 has an oscillation wavelength of 780 nm.
Is disposed. The laser light 16 emitted from the semiconductor laser 15 passes through the half mirror 17 and the collimating lens 18 in order, passes through the wavelength selection mirror 5, is switched, and the two-lens actuator 6 positioned on the optical axis of the wavelength selection mirror 5 is switched. Through the CD objective lens 19 of FIG. The laser light 16 reflected by the recording surface passes through the CD objective lens 19, the wavelength selection mirror 5, and the collimating lens 18 in order, and is reflected by the half mirror 17 so as to be focused on a photodetector 20 for detecting light having a wavelength of 780 nm. It has become.

【0018】前記半導体レーザ1および半導体レーザ1
5は、入力信号によって動作するレーザ駆動回路21で
駆動制御される。前記光検出器9および前記光検出器2
0の出力信号はプリアンプ回路22で増幅され、この増
幅された信号は復調器23で復調処理される。復調器2
3の出力信号を入力とするAPC(Auto Power Contro
l)回路24の出力信号によってレーザ駆動回路21は
補正を行い各半導体レーザの光出力を制御するようにな
っている。
Semiconductor laser 1 and semiconductor laser 1
5 is driven and controlled by a laser drive circuit 21 operated by an input signal. The light detector 9 and the light detector 2
The output signal of 0 is amplified by the preamplifier circuit 22, and the amplified signal is demodulated by the demodulator 23. Demodulator 2
APC (Auto Power Control)
l) The laser drive circuit 21 performs correction based on the output signal of the circuit 24 and controls the optical output of each semiconductor laser.

【0019】DVD用光源になる前記半導体レーザ1
は、駆動時、アイドル状態であるバイアスパワーと、こ
のバイアスパワーよりも低い光出力である読み出しを行
う再生パワーと、前記バイアスパワーよりも高い光出力
である書き込みを行うピークパワーの3形態で使用され
る。
The semiconductor laser 1 serving as a light source for DVD
Are used in three forms: a bias power in an idle state at the time of driving, a reproduction power for reading with an optical output lower than the bias power, and a peak power for writing with an optical output higher than the bias power. Is done.

【0020】本実施形態1による半導体レーザ1は、図
3のマークエッジ記録で示すように、ピークパワー状態
でもキンクが発生せず電流−光出力の直線性が改善され
ることから、マルチパルス法で長い記録マーク71aを
形成しても、光出力の変動(低下および遅れ)がないこ
とから、記録トラック70において長い記録マーク71
aを含む記録マーク71は、理論的記録マーク75に一
致し、記録マークの縮小化や位置ずれによる書き込みエ
ラーは起きなくなる。したがって、光ピックアップ機構
の歩留りが向上する。また、半導体レーザのドライブ回
路の構成の簡素化が容易になる。この結果、光ディスク
装置の製造コストの低減が達成できる。
In the semiconductor laser 1 according to the first embodiment, the kink does not occur even in the peak power state and the current-light output linearity is improved, as shown by the mark edge recording in FIG. Even if the long recording mark 71a is formed, there is no fluctuation (decrease and delay) in the optical output, so that the long recording mark 71
The recording mark 71 including a coincides with the theoretical recording mark 75, and the writing error due to the reduction in the size of the recording mark and the displacement does not occur. Therefore, the yield of the optical pickup mechanism is improved. Further, it is easy to simplify the configuration of the drive circuit of the semiconductor laser. As a result, a reduction in the manufacturing cost of the optical disk device can be achieved.

【0021】次に、キンクの発生がない本実施形態1の
半導体レーザ1について説明する。なお、図2の半導体
レーザ1および半導体レーザ15は、特に限定はされな
いが、半導体レーザ素子をパッケージ内に組み込んだ半
導体レーザ装置として組み込まれている。
Next, a description will be given of the semiconductor laser 1 according to the first embodiment, in which no kink is generated. The semiconductor laser 1 and the semiconductor laser 15 shown in FIG. 2 are not particularly limited, but are incorporated as a semiconductor laser device in which a semiconductor laser element is incorporated in a package.

【0022】図1は本実施形態1による半導体レーザ
1、すなわち半導体レーザ素子1aを示す模式図であ
る。半導体レーザ素子1aは、発振波長が650nm帯
のレーザビームを出射する構造になっている。半導体レ
ーザ素子1aは、共振器(光導波路)の延在方向に沿う
縦(奥行き)の長さが875μm、横幅が300μm、
厚さが100μmの矩形体からなっている。
FIG. 1 is a schematic view showing a semiconductor laser 1 according to the first embodiment, that is, a semiconductor laser element 1a. The semiconductor laser element 1a has a structure that emits a laser beam having an oscillation wavelength in the 650 nm band. The semiconductor laser device 1a has a length (depth) of 875 μm, a width of 300 μm, and a length (depth) along the extending direction of the resonator (optical waveguide).
It is made of a rectangular body having a thickness of 100 μm.

【0023】本実施形態1の半導体レーザ素子1aはn
型GaAs基板の上面に多層に半導体層を形成するとと
もに、ストライプ状に設けたリッジの両側をブロック層
で挟む内部電流狭窄型のリッジ構造(リッジ型半導体レ
ーザ)になっている。また、特に図示はしないが、半導
体レーザ素子1aの下面側にはカソード電極が設けら
れ、上面側にアノード電極が設けられている。
The semiconductor laser device 1a according to the first embodiment has n
A semiconductor layer is formed as a multilayer on the upper surface of a type GaAs substrate, and an internal current confinement type ridge structure (ridge type semiconductor laser) in which both sides of a ridge provided in a stripe shape are sandwiched between block layers. Although not particularly shown, a cathode electrode is provided on the lower surface side of the semiconductor laser device 1a, and an anode electrode is provided on the upper surface side.

【0024】半導体レーザ素子1aは、n型GaAs基
板(半導体基板)30の上面(主面)側に、厚さ1.5
μmのn型のAlGaInPからなるクラッド層(n−
AlGaInPクラッド層)31,厚さ50nmのMQ
W活性層32,厚さ0.25μmのp型のAlGaIn
Pからなる第1クラッド層(p−AlGaInP第1ク
ラッド層)33,厚さ1.5μmのp型のAlGaIn
Pからなる第2クラッド層(p−AlGaInP第2ク
ラッド層)34を順次積み重ねて形成した後、前記p−
AlGaInP第2クラッド層34の両側をエッチング
除去してストライプ状にp−AlGaInP第2クラッ
ド層34を残留させてリッジ35を形成した構造になっ
ている。また、前記p−AlGaInP第2クラッド層
34の両側のp−AlGaInP第1クラッド層33上
には、n型のGaAsからなるブロック層(n−GaA
sブロック層)36が形成されている。また、前記p−
AlGaInP第2クラッド層34からなるリッジ35
およびn−GaAsブロック層36上には、厚さ3.0
μmのp型のGaAsからなるキャップ層(p−GaA
sキャップ層)37で被われている。
The semiconductor laser device 1a has a thickness of 1.5 nm on the upper surface (main surface) side of an n-type GaAs substrate (semiconductor substrate) 30.
μm n-type AlGaInP cladding layer (n-
AlGaInP cladding layer) 31, MQ having a thickness of 50 nm
W active layer 32, p-type AlGaIn having a thickness of 0.25 μm
A first cladding layer (p-AlGaInP first cladding layer) 33 made of P, a 1.5 μm-thick p-type AlGaIn
After a second cladding layer (p-AlGaInP second cladding layer) 34 made of P is sequentially stacked and formed,
A ridge 35 is formed by removing both sides of the AlGaInP second cladding layer 34 by etching and leaving the p-AlGaInP second cladding layer 34 in a stripe shape. On the p-AlGaInP first cladding layer 33 on both sides of the p-AlGaInP second cladding layer 34, a block layer (n-GaAs) made of n-type GaAs is formed.
(s block layer) 36 is formed. In addition, the p-
Ridge 35 composed of AlGaInP second cladding layer 34
And a thickness of 3.0 on the n-GaAs block layer 36.
μm p-type GaAs cap layer (p-GaAs
(s cap layer) 37.

【0025】図示はしないがn型GaAs基板30の下
面にはカソード電極が設けられ、p−GaAsキャップ
層37上にはアノード電極が設けられる。
Although not shown, a cathode electrode is provided on the lower surface of the n-type GaAs substrate 30, and an anode electrode is provided on the p-GaAs cap layer 37.

【0026】共振器、すなわち光導波路はn−GaAs
ブロック層36で挟まれるリッジ35で形成され、その
幅は全長(C)に亘って一定である。また、前記リッジ
35は台形状断面となり、その上辺の長さ(a)は、た
とえば2.0μm程度であり、下辺の長さ(b)は、た
とえば5−6μmである。
The resonator, that is, the optical waveguide is made of n-GaAs.
The ridge 35 is formed between the block layers 36 and has a constant width over the entire length (C). The ridge 35 has a trapezoidal cross section. The length (a) of the upper side is, for example, about 2.0 μm, and the length (b) of the lower side is, for example, 5-6 μm.

【0027】一方、これが本発明の特徴の一つである
が、前記n−GaAsブロック層36のリッジ35に掛
かる部分は、部分的に突出し、電流注入部の幅を狭くす
る狭隘部分40が設けられている。この狭隘部分40
は、リッジ35の両側のn−GaAsブロック層36の
部分的な張り出しによって形成されている。すなわち、
p−AlGaInP第2クラッド層34で形成されるリ
ッジ35はその両側にn−GaAsブロック層36が形
成されるため、一対のn−GaAsブロック層36間の
p−GaAsキャップ層37部分が電流注入部になる。
したがって、一対のn−GaAsブロック層36の張り
出し部分はリッジ35上のp−GaAsキャップ層37
の幅が狭くなり、電流注入部の狭隘化が図られる。狭隘
部分40の幅(W)は、たとえば0.5〜1.0μmで
ある。また、狭隘部分40を形成するためのn−GaA
sブロック層36の張り出し(張出部41)は、リッジ
35の両側のn−GaAsブロック層36で同一になっ
ている。
On the other hand, this is one of the features of the present invention. The portion of the n-GaAs block layer 36 which overlaps the ridge 35 is partially protruded, and a narrow portion 40 for reducing the width of the current injection portion is provided. Have been. This narrow part 40
Are formed by partially projecting the n-GaAs block layer 36 on both sides of the ridge 35. That is,
Since the n-GaAs block layer 36 is formed on both sides of the ridge 35 formed by the p-AlGaInP second cladding layer 34, current is injected into the p-GaAs cap layer 37 between the pair of n-GaAs block layers 36. Become a department.
Therefore, the projecting portion of the pair of n-GaAs block layers 36 is formed on the p-GaAs cap layer 37 on the ridge 35.
Is narrowed, and the current injection portion is narrowed. The width (W) of the narrow portion 40 is, for example, 0.5 to 1.0 μm. Also, n-GaAs for forming the narrow portion 40
The overhang (overhang portion 41) of the s block layer 36 is the same in the n-GaAs block layers 36 on both sides of the ridge 35.

【0028】この狭隘部分40は、図1に示すように、
共振器の端から所定距離(C1,C5)内側にそれぞれ
長さ(C2,C4)に亘って設けられている。このよう
に二つ設けられた狭隘部分40は距離(C3)だけ隔て
て設けられている。
As shown in FIG. 1, this narrow portion 40
They are provided over a length (C2, C4) inside a predetermined distance (C1, C5) from the end of the resonator. The two narrow portions 40 provided in this manner are separated by a distance (C3).

【0029】本実施形態1では、共振器に発生するうね
りの定在波のうねりの幅が極大値になる共振器部分に対
応して狭隘部分40が設けられている。なお、うねりの
定在波のうねりの幅が極大値になる共振器部分の長さ
は、キンクの発生を抑止するために少なくとも40μm
程度は必要である。また、図示はしないが半導体レーザ
素子1aの両端面、すなわち、共振器端面には、共振器
(光導波路)の端面の酸化防止と反射率制御を目的とす
る被膜が設けられている。前記被膜は前方出射面に設け
られる反射率が低いAR膜(低反射率膜)と、後方出射
面に設けられる反射率が高いHR膜(高反射率膜)とか
らなっている。
In the first embodiment, the narrow portion 40 is provided corresponding to the resonator portion where the swell width of the swell of the swell generated in the resonator becomes a maximum value. The length of the resonator portion where the width of the undulation of the undulating standing wave is at a maximum value is at least 40 μm in order to suppress the occurrence of kink.
Degree is necessary. Although not shown, coatings are provided on both end faces of the semiconductor laser device 1a, that is, on the end faces of the resonator, for the purpose of preventing oxidation of the end face of the resonator (optical waveguide) and controlling the reflectance. The coating comprises an AR film (low reflectance film) having a low reflectance provided on the front emission surface, and an HR film (high reflectance film) having a high reflectance provided on the rear emission surface.

【0030】光ディスクの書き込みには、光出力30m
W以上の高出力レーザダイオードが使用される。高出力
レーザダイオードでは、光出力の確保のため発光部の幅
を広げる必要があり、このため、水平方向の1次モード
(光分布が2山)がカットオフしていない構造となる。
For writing on an optical disk, an optical output of 30 m
A high power laser diode of W or more is used. In a high-power laser diode, it is necessary to increase the width of the light-emitting portion in order to secure the light output. Therefore, the structure is such that the primary mode in the horizontal direction (light distribution is two peaks) is not cut off.

【0031】特にリッジ構造の場合、リッジの側面をG
aAsで埋め込んだものは、高次モードの損失が大きい
ため0次モードで発振する。しかしながら1次のモード
も伝播可能である。0次・1次モードは伝幡定数、すな
わち共振器方向を伝わる速度が異なり、通常はこれらが
結合するため、光導波路中を水平方向にうねりながら進
むこととなる。
Particularly in the case of a ridge structure, the side of the ridge is G
Those buried with aAs oscillate in the zero-order mode because the loss in the higher-order mode is large. However, first-order modes can also propagate. The 0th-order and 1st-order modes have different propagation constants, that is, different speeds in the direction of the resonator. Normally, these are coupled, so that they travel in the optical waveguide while undulating in the horizontal direction.

【0032】このため、たまたま共振器の長さがこれら
うねりのピッチと一致するとうねりの定在波が発生し、
定在波の発生により電流光出力の直線性が悪化する。
Therefore, if the length of the resonator coincides with the pitch of these undulations, a undulating standing wave is generated,
The generation of the standing wave deteriorates the linearity of the current light output.

【0033】モードの伝播速度の差は、発光部の局所的
温度、キャリア濃度等による屈折率の変化で変わるた
め、駆動電流のパルス幅で変わり、うねりのピッチも駆
動条件により変わる。このため、駆動条件によっては、
うねりのピッチがレーザの共振器長と一致すると、レー
ザの電流光出力の直線性が悪化し、一定電流駆動で正し
く記録マークを形成できなくなってしまう。
Since the difference in the propagation speed of the mode changes depending on the change in the refractive index due to the local temperature of the light emitting portion, the carrier concentration, and the like, it changes depending on the pulse width of the drive current, and the pitch of the undulation also changes depending on the drive conditions. Therefore, depending on the driving conditions,
If the pitch of the undulation coincides with the length of the laser cavity, the linearity of the current light output of the laser deteriorates, and a recording mark cannot be formed properly by constant current driving.

【0034】1次モードがカットオフするまで発光部の
幅を狭くしてしまえば、このようなことはなくなるが、
光密度および電流密度が高くなり、高出力が得られなく
なってしまう。
If the width of the light emitting portion is reduced until the primary mode is cut off, such a problem will not occur.
Light density and current density are increased, and high output cannot be obtained.

【0035】光源のレーザにおいてうねりの幅が極大値
になる部分の、電流注入幅のみを狭くすれば、高次モー
ドの利得を落し、うねりの定在波の発生を押さえキンク
を抑制し高出力化することができる。これにより、駆動
パルス幅が変化しても電流−光出力特性の直線性の悪化
を防止し、一定電流駆動時の光出力の変動を防止でき
る。また、電流−光出力特性の直線性が悪いレーザでの
書き込み不良を低減するためには、光出力を高速で補正
するための追加の回路が必要であるが、本実施形態1の
ように電流−光出力特性の直線性が改善されれば補正回
路が不要になり、光ディスク装置の回路の簡素化および
小型化も達成できる。
By narrowing only the current injection width at the portion where the swell width becomes the maximum value in the laser of the light source, the gain of the higher-order mode is reduced, the generation of the swell standing wave is suppressed, the kink is suppressed, and the high output is obtained. Can be As a result, even if the drive pulse width changes, it is possible to prevent the linearity of the current-light output characteristic from deteriorating, and to prevent the light output from fluctuating during constant current driving. In addition, in order to reduce writing failure with a laser having poor current-light output characteristic linearity, an additional circuit for correcting light output at high speed is required. -If the linearity of the light output characteristic is improved, the correction circuit becomes unnecessary, and the simplification and miniaturization of the circuit of the optical disk device can be achieved.

【0036】本実施形態1の半導体レーザ素子1aは、
たとえば、図4に示すようなパッケージに組み込まれて
半導体レーザ装置1b(半導体レーザ1)となる。
The semiconductor laser device 1a of the first embodiment is
For example, the semiconductor laser device 1b (semiconductor laser 1) is incorporated in a package as shown in FIG.

【0037】半導体レーザ装置1bは、図4に示される
ように、それぞれアセンブリの主体部品となる板状のス
テム50と、このステム50の主面側に気密固定された
キャップ51とからなっている。前記ステム50は数m
mの厚さの円形の金属板となっていて、その主面(上
面)の中央部には銅製のヒートシンク52が鑞材等で固
定されている。このヒートシンク52の側面にはサブマ
ウント53を介して半導体レーザ素子1aが固定されて
いる。この半導体レーザ素子1aは、その上下端からレ
ーザ光2を発光する。
As shown in FIG. 4, the semiconductor laser device 1b includes a plate-like stem 50 which is a main component of the assembly, and a cap 51 which is hermetically fixed to the main surface of the stem 50. . The stem 50 is several meters
It is a circular metal plate having a thickness of m and a heat sink 52 made of copper is fixed to the center of the main surface (upper surface) with a brazing material or the like. The semiconductor laser device 1a is fixed to a side surface of the heat sink 52 via a submount 53. This semiconductor laser element 1a emits laser light 2 from the upper and lower ends thereof.

【0038】前記サブマウント53は、熱伝導性が良好
なSiCで形成されている。また、図示はしないが、半
導体レーザ素子1aは、アノード電極の電極面がPbS
n等からなる接合材を介してサブマウント53に設けら
れたメタライズ層上に固定されることによってサブマウ
ント53に搭載されている。この構造はpダウン構造と
なり、熱源となるMQW活性層までの距離が短く放熱性
が高い。したがって、レーザは安定動作することにな
る。
The submount 53 is made of SiC having good thermal conductivity. Although not shown, the semiconductor laser element 1a has an anode electrode surface of PbS
It is mounted on the submount 53 by being fixed on a metallization layer provided on the submount 53 via a bonding material made of n or the like. This structure is a p-down structure, and the distance to the MQW active layer serving as a heat source is short and the heat dissipation is high. Therefore, the laser operates stably.

【0039】一方、前記ステム50の主面には半導体レ
ーザ素子1aの下端から発光されるレーザ光2を受光
し、レーザ光2の光出力をモニターする受光素子55が
固定されている。また、前記ステム50には3本のリー
ド56が固定されている。1本のリード56はステム5
0の裏面に電気的および機械的に固定され、他の2本の
リード56はステム50を貫通し、かつガラスのような
絶縁体57を介してステム50に対し電気的に絶縁され
て固定されている。前記ステム50の主面に突出する2
本のリード56の上端は、それぞれワイヤ60を介して
半導体レーザ素子1aおよび受光素子55の各電極に接
続されている。
On the other hand, a light receiving element 55 for receiving the laser light 2 emitted from the lower end of the semiconductor laser element 1a and monitoring the light output of the laser light 2 is fixed to the main surface of the stem 50. Further, three leads 56 are fixed to the stem 50. One lead 56 is a stem 5
The other two leads 56 penetrate the stem 50 and are electrically insulated and fixed to the stem 50 via an insulator 57 such as glass. ing. 2 projecting from the main surface of the stem 50
The upper ends of the leads 56 are connected to the respective electrodes of the semiconductor laser element 1 a and the light receiving element 55 via wires 60.

【0040】他方、前記ステム50の主面には窓61を
有する金属製のキャップ51に固定され、半導体レーザ
素子1aおよびヒートシンク52を封止している。前記
窓61はキャップ51の天井部に設けた円形孔を透明な
ガラス板62で気密的に塞ぐことによって形成されてい
る。したがって、半導体レーザ素子1aの上端から出射
したレーザ光2は、前記透明なガラス板62を透過して
ステム50とキャップ51とによって形成されたパッケ
ージ外に放射される。なお、前記ステム50の外周部分
には、相互に対峙して設けられる一対のV字状切欠部6
5と、矩形状切欠部66が設けられ、組立時の位置決め
に使用されるようになっている。
On the other hand, the main surface of the stem 50 is fixed to a metal cap 51 having a window 61 to seal the semiconductor laser element 1a and the heat sink 52. The window 61 is formed by hermetically closing a circular hole provided in the ceiling of the cap 51 with a transparent glass plate 62. Therefore, the laser beam 2 emitted from the upper end of the semiconductor laser device 1a is transmitted through the transparent glass plate 62 and emitted outside the package formed by the stem 50 and the cap 51. The stem 50 has a pair of V-shaped notches 6 provided on the outer periphery thereof so as to face each other.
5 and a rectangular notch 66 are provided for positioning during assembly.

【0041】本実施形態の半導体レーザ装置は、所定の
リード56に所定の電圧を印加することによって半導体
レーザ素子1aからレーザ光2を発光する。
The semiconductor laser device of this embodiment emits laser light 2 from the semiconductor laser element 1a by applying a predetermined voltage to a predetermined lead 56.

【0042】本実施形態1によれば以下の効果を有す
る。 (1)ディスク8の書き込みを行う半導体レーザ(半導
体レーザ素子1a)においては、共振器におけるうねり
の定在波のうねりの幅が極大値になる電流注入部の幅が
狭くなる狭隘部分40を有する構造になっていることか
ら、この狭隘部分40では、1次モードを始めとする高
次モードの利得が落ち、うねりの定在波の発生を押さえ
ることができ、キンクの発生を抑制することができる。
したがって、ディスク8に書き込みを行った場合、光出
力の出力不足や遅れによる記録マークの縮小化や位置ず
れ等の書き込みエラーが発生しなくなる。 (2)半導体レーザ素子1aにおいては、キンク発生も
ないことから、駆動パルス幅が変化しても電流−光出力
特性の直線性の悪化を防止でき、一定電流駆動時の光出
力の変動を防止することができる。これにより、安定し
て書き込みを行うことができる。 (3)電流−光出力特性の直線性が悪いレーザでの書き
込み不良を低減するためには、光出力を高速で補正する
ための追加の回路が必要であるが、本実施形態によれば
電流−光出力特性の直線性が改善されるため補正回路が
不要になり、光ディスク装置の回路の簡素化および小型
化が達成できる。
According to the first embodiment, the following effects can be obtained. (1) The semiconductor laser (semiconductor laser element 1a) that writes data on the disk 8 has a narrow portion 40 where the width of the current injection portion where the width of the undulation of the standing wave of the undulation in the resonator becomes a maximum is narrow. Due to the structure, in the narrow portion 40, the gain of the higher-order modes including the first-order mode decreases, and the generation of the standing wave with the undulation can be suppressed, and the generation of the kink can be suppressed. it can.
Therefore, when writing is performed on the disk 8, a writing error such as a reduction in the size of a recording mark or a displacement due to a shortage or delay of the optical output does not occur. (2) Since no kink is generated in the semiconductor laser element 1a, it is possible to prevent the linearity of the current-light output characteristic from deteriorating even when the drive pulse width changes, and to prevent the fluctuation of the light output during constant current driving. can do. Thereby, writing can be performed stably. (3) An additional circuit for correcting the optical output at high speed is necessary to reduce the writing failure with a laser having poor current-optical output characteristic linearity. -Since the linearity of the light output characteristic is improved, a correction circuit becomes unnecessary, and simplification and downsizing of the circuit of the optical disk device can be achieved.

【0043】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。たとえ
ば前記実施形態では、書き込み用の半導体レーザはリッ
ジ構造の例で説明したが、他の半導体レーザ、すなわち
埋め込みヘテロ構造等の共振器が内部狭窄型の半導体レ
ーザであれば同様に適用することができる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say. For example, in the above embodiment, the semiconductor laser for writing has been described as an example of the ridge structure. However, other semiconductor lasers, that is, semiconductor lasers having a buried heterostructure or the like having an internal constriction type can be similarly applied. it can.

【0044】[0044]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。 (1)光ディスク装置において、書き込み用半導体レー
ザの電流注入部の幅をうねりの定在波のうねりの幅が極
大値になる部分で狭くなる構造(狭隘構造)としてある
ことから、この狭隘部分では、1次モードを始めとする
高次モードの利得が落ち、うねりの定在波の発生を押さ
えることができるため、書き込み時の高出力時キンクの
発生が抑止でき、光ディスクでの記録マークの縮小化や
位置ずれ等の書き込みエラーの発生を防止することがで
きる。
The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. (1) In the optical disk device, the width of the current injection portion of the writing semiconductor laser is narrowed at a portion where the undulation width of the undulating standing wave has a maximum value (narrow structure). (1) The gain of high-order modes such as the first-order mode is reduced, and the generation of standing waves with undulations can be suppressed. Therefore, the occurrence of kinks at the time of high output at the time of writing can be suppressed, and the recording mark on the optical disk can be reduced. It is possible to prevent the occurrence of a writing error such as a shift and a displacement.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態(実施形態1)である光デ
ィスク装置の光ピックアップ機構に組み込まれる半導体
レーザ素子を示す一部を切り欠いた模式的斜視図であ
る。
FIG. 1 is a partially cut-away schematic perspective view showing a semiconductor laser device incorporated in an optical pickup mechanism of an optical disk device according to an embodiment (Embodiment 1) of the present invention.

【図2】本実施形態1の光ディスク装置の光ピックアッ
プ部分を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an optical pickup portion of the optical disc device according to the first embodiment.

【図3】本実施形態1の光ディスク装置におけるレーザ
光によるマークエッジ記録方法とマークエッジ記録状態
を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a mark edge recording method using laser light and a mark edge recording state in the optical disc device of the first embodiment.

【図4】本実施形態1の光ディスク装置に組み込まれる
半導体レーザ装置を示す一部を切り欠いた斜視図であ
る。
FIG. 4 is a partially cutaway perspective view showing a semiconductor laser device incorporated in the optical disc device of the first embodiment.

【図5】従来法によるレーザ光によるマークエッジ記録
方法とマークエッジ記録状態を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a mark edge recording method using a laser beam and a mark edge recording state according to a conventional method.

【図6】キンクに起因する不良マークエッジ記録状態を
示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a defective mark edge recording state caused by a kink.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半導体レーザ、1a…半導体レーザ素子、1b…半
導体レーザ装置、2…レーザ光、3…ハーフミラー、4
…コリメートレンズ、5…波長選択ミラー、6…2レン
ズアクチュエータ、7…DVD用対物レンズ、8…ディ
スク、9…光検出器、15…半導体レーザ、16…レー
ザ光、17…ハーフミラー、18…コリメートレンズ、
19…CD用対物レンズ、20…光検出器、21…レー
ザ駆動回路、22…プリアンプ回路、23…復調器、2
4…APC回路、30…半導体基板(n型GaAs基
板)、31…クラッド層(n−AlGaInPクラッド
層)、32…MQW活性層、33…第1クラッド層(p
−AlGaInP第1クラッド層)、34…第2クラッ
ド層(p−AlGaInP第2クラッド層)、35…リ
ッジ、36…ブロック層(n−GaAsブロック層)、
37…キャップ層(p−GaAsキャップ層)、40…
狭隘部分、41…張出部、50…ステム、51…キャッ
プ、52…ヒートシンク、53…サブマウント、55…
受光素子、56…リード、57…絶縁体、60…ワイ
ヤ、61…窓、62…ガラス板、65…V字状切欠部、
66…矩形状切欠部。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor laser, 1a ... Semiconductor laser element, 1b ... Semiconductor laser device, 2 ... Laser light, 3 ... Half mirror, 4
... Collimate lens, 5 ... Wavelength selection mirror, 6 ... Two lens actuator, 7 ... DVD objective lens, 8 ... Disk, 9 ... Photodetector, 15 ... Semiconductor laser, 16 ... Laser light, 17 ... Half mirror, 18 ... Collimating lens,
19: CD objective lens, 20: Photodetector, 21: Laser drive circuit, 22: Preamplifier circuit, 23: Demodulator, 2
4 ... APC circuit, 30 ... Semiconductor substrate (n-type GaAs substrate), 31 ... Cladding layer (n-AlGaInP cladding layer), 32 ... MQW active layer, 33 ... First cladding layer (p
-AlGaInP first cladding layer), 34 ... second cladding layer (p-AlGaInP second cladding layer), 35 ... ridge, 36 ... block layer (n-GaAs block layer),
37 ... cap layer (p-GaAs cap layer), 40 ...
Narrow part, 41 ... overhang, 50 ... stem, 51 ... cap, 52 ... heat sink, 53 ... submount, 55 ...
Light receiving element, 56 lead, 57 insulator, 60 wire, 61 window, 62 glass plate, 65 V-shaped notch,
66 ... rectangular notch.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体レーザを光源とし、光学系によっ
て光ディスク面に光ピックアップのためのスポット光を
結ぶ光ピックアップ機構を有する光ディスク装置であっ
て、前記半導体レーザは電流注入部の幅が他の部分より
も狭くなっている部分を少なくとも1つ以上有すること
を特徴とする光ディスク装置。
1. An optical disk device having a semiconductor laser as a light source and an optical pickup mechanism for connecting a spot light for an optical pickup to an optical disk surface by an optical system, wherein the semiconductor laser has a current injection portion having a width different from that of another portion. An optical disk device having at least one or more narrower portions.
【請求項2】 前記電流注入部の幅が狭くなっている部
分は、共振器を伝幡する水平0次と1次の伝幡定数差に
より生じるうねりの定在波の振幅が極大値になる位置に
あることを特徴とする請求項1に記載の光ディスク装
置。
2. The portion where the width of the current injection portion is narrow has a maximum value of the amplitude of the standing wave of the swell generated by the difference between the horizontal 0th order and the 1st order propagation constant propagating through the resonator. The optical disk device according to claim 1, wherein the optical disk device is located at a position.
【請求項3】 前記電流注入部の幅が狭くなっている部
分は出射レーザ光の水平1次モードと0次モードで4c
-1以上の利得差が生じる幅になっていることを特徴と
する請求項1または請求項2に記載の光ディスク装置。
3. The part where the width of the current injection part is narrow is 4c in the horizontal primary mode and the zero-order mode of the emitted laser light.
3. The optical disk device according to claim 1, wherein the width is such that a gain difference of at least m -1 occurs.
【請求項4】 前記半導体レーザは光ディスク面への書
き込みができる高出力の半導体レーザを構成しているこ
とを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に
記載の光ディスク装置。
4. The optical disk device according to claim 1, wherein said semiconductor laser forms a high-output semiconductor laser capable of writing on an optical disk surface.
【請求項5】 前記半導体レーザはリッジ構造,埋め込
みヘテロ構造等の共振器が内部狭窄型の半導体レーザで
あることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか
1項に記載の光ディスク装置。
5. The optical disk device according to claim 1, wherein the semiconductor laser is a semiconductor laser having a cavity having a ridge structure, a buried heterostructure, or the like and an internal confinement type. .
【請求項6】 前記共振器の幅は一定であることを特徴
とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の光
ディスク装置。
6. The optical disk device according to claim 1, wherein the width of the resonator is constant.
【請求項7】 前記半導体レーザは、パッケージ本体お
よびレーザ光を透過させる光透過窓を有する蓋体とから
なるパッケージ内に組み込まれているとともに、前記半
導体レーザの各電極は前記パッケージ本体に取り付けら
れ前記パッケージの内外に亘って延在する複数の外部電
極端子に接続手段を介して電気的に接続された構成にな
っていることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいず
れか1項に記載の光ディスク装置。
7. The semiconductor laser is incorporated in a package comprising a package body and a lid having a light transmission window for transmitting laser light, and each electrode of the semiconductor laser is attached to the package body. 7. The package according to claim 1, wherein the package is electrically connected to a plurality of external electrode terminals extending inside and outside the package via connection means. An optical disk device according to the above.
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