JP2000228561A - Field-effect light emitting element - Google Patents

Field-effect light emitting element

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JP2000228561A
JP2000228561A JP11028027A JP2802799A JP2000228561A JP 2000228561 A JP2000228561 A JP 2000228561A JP 11028027 A JP11028027 A JP 11028027A JP 2802799 A JP2802799 A JP 2802799A JP 2000228561 A JP2000228561 A JP 2000228561A
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Japan
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layer
light emitting
light
emitting device
electrode
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Masahiro Okuda
昌宏 奥田
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Canon Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an element configuration of a quantum well field-effect light emitting element placed in an optical resonator and a method for driving it. SOLUTION: This light emitting element contains an light emitting active layer 5 composed of a quantum structure. From a substrate 1, at least a first conductive semiconductor emitter layer 2, a second conductive semiconductor base layer 4, a light emitting quantum well layer 5, an insulation semiconductor barrier layer 6 having a band gap larger than that of the quantum well layer 5, and a first conductive semiconductor collector layer 8 are laminated in this order. Further, light reflectors having high reflective for the light emitted from the light emitting quantum well layer 5 are provided above and below the light emitting quantum well layer 5 so as to surround it.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光通信、特に電気
回路を構成する素子の間の並列、大容量の光伝送に用い
るための発光素子、光ニューラルネットワークに用いる
ための発光素子などの発光量子井戸層を含む電界効果型
発光素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to light-emitting devices such as light-emitting devices for use in optical communication, particularly for parallel and large-capacity optical transmission between devices constituting an electric circuit, and light-emitting devices for use in an optical neural network. The present invention relates to a field-effect light emitting device including a quantum well layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】光によって電子回路間の配線を行なう技
術は、LSI等における電気配線における信号の配線容
量遅延を克服する技術として期待されている。従来、こ
の様な目的のための発光素子としては、同一の基板に多
数個の面発光半導体レーザを集積することが、考えられ
てきた。
2. Description of the Related Art A technique of wiring between electronic circuits by light is expected as a technique for overcoming a wiring capacity delay of a signal in an electrical wiring in an LSI or the like. Conventionally, as a light emitting element for such a purpose, it has been considered to integrate a large number of surface emitting semiconductor lasers on the same substrate.

【0003】しかしながら、半導体レーザは、一般にレ
ーザ発振するのに大きな電流密度が必要である上に、電
流に対する光出力の特性が非線形的である。すなわち、
閾値を持っていて、さらに、その閾値が、デバイス温度
によって大きく変化するという問題点がある。
However, a semiconductor laser generally requires a large current density for laser oscillation, and has a non-linear optical output characteristic with respect to current. That is,
There is a problem that a threshold value is provided, and the threshold value varies greatly depending on the device temperature.

【0004】これらの問題点があるために、多数個の半
導体レーザを同一の基板上に集積化すると、自らの発熱
のために、レーザの閾値等の発振特性が大きく変化して
してしまうという欠点がある。また、自ら発したこの熱
のために、素子の劣化が促進されるという問題も生じ
る。
[0004] Due to these problems, when a large number of semiconductor lasers are integrated on the same substrate, the oscillation characteristics such as the threshold value of the laser are greatly changed due to heat generated by the semiconductor laser. There are drawbacks. In addition, there is also a problem that the heat generated by itself accelerates the deterioration of the element.

【0005】したがって、同一基板上に多数個の面発光
半導体レーザを集積する事は、特に大きな光出力を必要
としない近接した電気回路間の光伝送用の発光素子とし
ては、適していないと考えられる。
Therefore, it is considered that integrating a large number of surface emitting semiconductor lasers on the same substrate is not particularly suitable as a light emitting element for optical transmission between adjacent electric circuits which does not require a large optical output. Can be

【0006】一方、レーザ発振させない発光素子、つま
り、通常の発光ダイオードを近接した電気回路間の光伝
送用として使うという方法は、半導体レーザに比べて、
熱の影響を受けない方法であると考えられる。しかし、
一般に、通常の発光ダイオードは、半導体内部で発光再
結合した光のうち、外部に取り出される光の割合が小さ
いため、注入したキャリア数に対する発光フォトン数の
比、すなわち、外部量子効率が低いという欠点がある。
このため、発光に寄与しないキャリアによって素子が発
熱して、素子特性が悪くなってしまい、これを避ける為
には、同一基板上に集積する発光素子の数を減らさなけ
ればならなくなる。さらに、通常の発光ダイオードは発
光効率が悪い事によって、発光ダイオードに流す電流の
揺らぎを抑圧しても、発光した光には量子揺らぎが生じ
てしまうという欠点がある。
On the other hand, a method of using a light emitting element that does not cause laser oscillation, that is, a normal light emitting diode for light transmission between adjacent electric circuits, is different from a method of using a semiconductor laser.
It is considered that the method is not affected by heat. But,
In general, ordinary light-emitting diodes have a disadvantage that the ratio of the number of light-emitting photons to the number of injected carriers, that is, the external quantum efficiency, is low because the proportion of light that is emitted to the outside of the light that has re-combined within the semiconductor is small. There is.
For this reason, the element generates heat due to carriers that do not contribute to light emission, thereby deteriorating the element characteristics. To avoid this, the number of light emitting elements integrated on the same substrate must be reduced. In addition, ordinary light-emitting diodes have poor luminous efficiency, so that even if the fluctuation of the current flowing through the light-emitting diodes is suppressed, quantum fluctuations occur in the emitted light.

【0007】また、通常の発光ダイオードは、発光強度
の変調速度も一般に遅く、大容量のデータを送るには適
さないと考えられる。
[0007] In addition, a normal light emitting diode generally has a low light emission intensity modulation speed, and is considered to be unsuitable for transmitting a large amount of data.

【0008】これに対して、量子井戸電界効果型発光素
子が提案されている(JJAP,vol.22,pp.
L22−L24(1982))。出力光の変調を行なう
のに、従来の発光素子では基本的にキャリアの数を変調
して行なっていたが、本量子井戸電界効果型素子は、キ
ャリア数の変調は一切行なわずに、量子井戸に垂直方向
に電界を印加することによって、発光レートそのものを
変調するという発光素子である。この素子では、この結
果、従来の発光素子のスイッチング時間を制限していた
キャリアの再結合時間に依らない、高速(究極的には1
0ps程度の)な発光強度のスイッチングが実現されて
いて、大容量のデータを高速に光伝送するための発光素
子として適していると考えられる。
On the other hand, a quantum well field effect type light emitting device has been proposed (JJAP, vol. 22, pp. 139-143).
L22-L24 (1982)). To modulate the output light, the conventional light emitting element basically modulates the number of carriers. However, in the present quantum well field effect element, the modulation of the number of carriers is not performed at all and the quantum well is not modulated. This is a light emitting element that modulates the light emission rate itself by applying an electric field in the vertical direction to the light emitting element. In this device, as a result, a high speed (ultimately 1 unit) does not depend on the carrier recombination time, which has limited the switching time of the conventional light emitting device.
The switching of the light emission intensity (about 0 ps) is realized, and it is considered that the light emitting element is suitable as a light emitting element for optically transmitting a large amount of data at high speed.

【0009】しかしながら、この量子井戸電界効果型発
光素子においても、発光効率が一般に低いという欠点
と、光変調の際の消光比をあまり大きくできないという
欠点があった。
However, this quantum well field effect type light emitting device also has a drawback that the luminous efficiency is generally low and a drawback that the extinction ratio during light modulation cannot be made too large.

【0010】この欠点を解消するための発光素子が、特
開平4−96389号公報に開示されている。この発光
素子は、量子井戸電界効果型発光素子を取り囲むよう
に、波長オーダーの微小な光共振器を配置した構成を持
っている。本発光素子では、波長オーダーの微小な光共
振器によって発光光が効率良く外部に引き出されるの
で、発光の効率が非常に良い。さらに、この微小共振器
発光素子の発光量の変調をする方法は、JJAP,vo
l.22,pp.L22−L24(1982)に開示さ
れている量子井戸電界効果型発光素子のように、電気双
極子相互作用のハミルトニアンの行列要素を変えるだけ
ではなく、励起された電子系のスペクトル形状と、微小
な共振器内の電磁場のスペクトル形状の重なり具合を変
化させて、より大きく自然放出の再結合時間を変化させ
ることができるとともに、同時に発光のパターンを変化
させることができるものである。
A light emitting device for solving this drawback is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-96389. This light emitting device has a configuration in which a minute optical resonator of a wavelength order is arranged so as to surround the quantum well field effect light emitting device. In the present light emitting device, the emitted light is efficiently extracted to the outside by the minute optical resonator of the order of the wavelength, so that the light emitting efficiency is very good. Further, a method of modulating the light emission amount of the microcavity light emitting element is described in JJAP, vo.
l. 22, pp. L22-L24 (1982), it not only changes the matrix element of the Hamiltonian of the electric dipole interaction but also reduces the spectral shape of the excited electronic system and the minute shape. By changing the degree of overlap of the spectral shapes of the electromagnetic fields in the resonator, the recombination time of spontaneous emission can be changed more greatly, and at the same time, the emission pattern can be changed.

【0011】しかしながら、この微小共振器発光素子で
は、素子の構造上、電流を基板の上部に配置されたエミ
ッタ側から注入し、素子の下部に配置されたコレクタ側
の電位を変化させることによって、発光量や発光パター
ンを変化させていた。一般に、この素子の発光の変調速
度は、コレクタ側の電位を変調できる速度、すなわち、
コレクタ側の電気回路のCR時定数によって決定されて
いるが、この様な素子構成では、コレクタ側のpn接合
の面積を大きくしなければならず、必然的にCR時定
数、すなわち、発光変調のスイッチング時間が大きくな
ってしまうという欠点があった。
However, in this microcavity light-emitting device, due to the structure of the device, a current is injected from the emitter side arranged above the substrate and the potential on the collector side arranged below the device is changed. The light emission amount and the light emission pattern were changed. Generally, the modulation speed of light emission of this element is a speed at which the potential on the collector side can be modulated, that is,
Although it is determined by the CR time constant of the electric circuit on the collector side, in such an element configuration, the area of the pn junction on the collector side must be increased, and the CR time constant, that is, the emission modulation There is a disadvantage that the switching time increases.

【0012】また、この発光素子を多数個、同一基板上
に集積する際、個々の発光素子のコレクタ側(変調電
極)に別々に接続をとるためには、コレクタが基板側に
あると、配線する電極の取り方が複雑になるという欠点
があった。
Further, when many light emitting elements are integrated on the same substrate, in order to separately connect to the collector side (modulation electrode) of each light emitting element, if the collector is on the substrate side, wiring is required. However, there is a disadvantage that the method of obtaining the electrodes is complicated.

【0013】これに対して、コレクタが素子の上部に配
置された構造もPhysicalReview A48
pp.R2534−R2537(1993)に提案さ
れているが、具体的な素子の作製方法や構造が明示され
ていなかった。さらに、この従来の提案ではブラッグ反
射器の下部に電流狭窄構造が設けられていたが、このよ
うな構造にすると、一般に、ブラッグ反射器は波長オー
ダーの厚さを持っている屈折率の異なる材料を交互に多
数層、積層させて構成されるので、電流狭窄構造とこれ
の上部に配置された発光層との間の距離が大きくなる。
よって、発光層の部分では電流が広がってしまい、発光
に全く寄与しない無効電流が大きくなってしまうという
欠点がある。この無効電流を小さくするために、コレク
タ電極を大きくすると、前述のようにコレクタの電極の
容量が大きくなるので、変調速度が遅くなるという欠点
が生じる。
On the other hand, the structure in which the collector is arranged above the element is also a Physical Review A48.
pp. Although it is proposed in R2534-R2537 (1993), a specific method for manufacturing a device and a structure are not specified. Furthermore, in this conventional proposal, a current confinement structure is provided below the Bragg reflector, but in such a structure, the Bragg reflector generally has a thickness of a wavelength order and a material having a different refractive index. Are alternately stacked in multiple layers, so that the distance between the current confinement structure and the light emitting layer disposed thereon is increased.
Therefore, there is a disadvantage that the current spreads in the light emitting layer, and the reactive current that does not contribute to light emission at all increases. If the collector electrode is increased in order to reduce the reactive current, the capacity of the collector electrode is increased as described above, so that there is a disadvantage that the modulation speed is reduced.

【0014】本発明の目的は、以上述べた状況に鑑み、
光共振器の中に配置された量子井戸電界効果型発光素子
の新たな素子構成及びその駆動方法を提供することにあ
り、特に、変調電極となるコレクタ側の電極が素子の上
部に配置されたことを特徴とする新たな素子構成及びそ
の駆動方法を提供することにある。
[0014] The object of the present invention, in view of the situation described above,
An object of the present invention is to provide a new device configuration of a quantum well field effect type light emitting device arranged in an optical resonator and a driving method thereof. In particular, an electrode on a collector side serving as a modulation electrode is arranged on an upper portion of the device. It is another object of the present invention to provide a new element configuration and a driving method thereof.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成する本発明の発光素子は、量子構造から成る発光活性
層を持つ発光素子であって、基板側から、少なくとも、
第1の導電型の半導体層(エミッタ層或は電流注入層と
呼ぶ)、第2の導電型の半導体層(ベース層と呼ぶ)、
発光量子井戸層、前記量子井戸層よりも大きなバンドギ
ャップを持つ絶縁性の半導体層(バリア層と呼ぶ)、第
1の導電型の半導体層(コレクタ層或は変調電流層と呼
ぶ)が、順次、積層されていて、かつ、前記発光量子井
戸層を取り囲むように上下に、前記発光量子井戸層から
発光する光に対して高い反射率を持つ光反射器(典型的
には、発光波長オーダーの光共振器である)が設けられ
ている事を特徴とする。
According to the present invention, there is provided a light-emitting device having a light-emitting active layer having a quantum structure, comprising:
A semiconductor layer of a first conductivity type (called an emitter layer or a current injection layer), a semiconductor layer of a second conductivity type (called a base layer),
A light-emitting quantum well layer, an insulating semiconductor layer having a band gap larger than the quantum well layer (called a barrier layer), and a semiconductor layer of the first conductivity type (called a collector layer or a modulation current layer) are sequentially formed. A light reflector (typically in the order of the emission wavelength) having a high reflectance for light emitted from the light-emitting quantum well layer, which is stacked and surrounds the light-emitting quantum well layer. (Which is an optical resonator).

【0016】この基本構造に基づいて、以下の如きより
具体的な構造が可能である。前記光反射器は、前記発光
量子井戸層から発光する光に対して90%以上の高い反
射率を持つ導電性の光反射器であったり、量子井戸層か
ら発光する光の波長オーダーの厚さを持つ光共振器で、
それぞれ屈折率の異なる半導体が交互に周期的に配置さ
れたブラッグ反射器であり、少なくともエミッタ側に配
置されたブラッグ反射器は、一部酸化されて絶縁体とな
っていて、電流狭窄構造を構成していたりする。
Based on this basic structure, the following more specific structures are possible. The light reflector is a conductive light reflector having a high reflectance of 90% or more with respect to light emitted from the light emitting quantum well layer, or has a thickness on the order of the wavelength of light emitted from the quantum well layer. An optical resonator with
A Bragg reflector in which semiconductors having different refractive indices are alternately and periodically arranged, and at least the Bragg reflector arranged on the emitter side is partially oxidized to become an insulator, forming a current confinement structure. I do.

【0017】また、前記半導体コレクタ層は上部にある
ので加工が容易で、小面積化され得る。更に、静電容量
を小さくする為に半導体コレクタ層の電極は環状に形成
されてもよい。
Further, since the semiconductor collector layer is provided on the upper portion, the semiconductor collector layer can be easily processed and can have a small area. Further, the electrodes of the semiconductor collector layer may be formed in a ring shape to reduce the capacitance.

【0018】また、前記発光素子は、ベース層とエミッ
タ層が夫々共通の電極を持つように(全発光素子につい
て、両者の間に一定電流を流せばよいので、こうでき
る)、同一基板上に多数個積層されてアレー化されても
よい。
Further, the light emitting element is formed on the same substrate so that the base layer and the emitter layer each have a common electrode (for all the light emitting elements, a constant current may be passed between them). Many may be laminated and arrayed.

【0019】また、前記発光素子は、同一基板上に多数
個積層されて2次元的にアレー化され、コレクタ層の電
極が列的に繋がって列配線され、ベース層の電極が行的
に繋がって行配線され、エミッタ層の電極が共通電極化
されていてもよい。
In addition, the light emitting elements are stacked in large numbers on the same substrate and are two-dimensionally arrayed. The electrodes of the collector layer are connected in a column and the column wiring is connected, and the electrodes of the base layer are connected in a row. Row wiring, and the electrode of the emitter layer may be made a common electrode.

【0020】更に、上記の目的を達成する本発明の発光
素子の駆動方法は、発光素子のベース層の電極とエミッ
タ層の電極間に一定電圧をかけて電流を流しつつ、ベー
ス層の電極とコレクタ層の電極の間に印加される逆電圧
を変調させて、コレクタ層側から出る光の強度を変調さ
せる事を特徴とする。
Further, in the method for driving a light emitting device of the present invention, which achieves the above object, the present invention provides a method for driving a light emitting device. It is characterized in that the intensity of light emitted from the collector layer side is modulated by modulating the reverse voltage applied between the electrodes of the collector layer.

【0021】上記構成を持つ本発明の量子井戸電界効果
型発光素子によって、加工のし易い上部にある変調電極
(コレクタ側の電極)の静電容量を小さくできる発光素
子を作製することが可能となり、量子井戸電界効果型で
あるのと相俟ってより高速の光変調が可能となる。ま
た、変調電極が素子の上部に配置された構成の発光素子
を作製することが可能となり、この発光素子を同一の基
板上に多数個並べて配置したときに、各素子を別々(完
全に独立に或はマトリックス的等の半ば独立的に)に変
調できる。
With the quantum well field effect light emitting device of the present invention having the above-described structure, it is possible to manufacture a light emitting device capable of reducing the capacitance of the upper modulation electrode (collector side electrode) which is easy to process. In addition to the quantum well field effect type, higher-speed light modulation becomes possible. In addition, it is possible to manufacture a light-emitting element having a configuration in which a modulation electrode is arranged above the element. When a large number of light-emitting elements are arranged on the same substrate, each element is separately (completely independent). Alternatively, the modulation can be performed semi-independently such as in a matrix.

【0022】さらに、電流を狭い領域に狭窄する事もで
きるので、発光に全く寄与しない無効電流を大幅に減ら
せて、発光素子の量子効率を大幅に改善できる。
Furthermore, since the current can be confined to a narrow region, the reactive current which does not contribute to light emission at all can be greatly reduced, and the quantum efficiency of the light emitting device can be greatly improved.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
に沿って説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0024】(第1の実施例)図1に本発明の微小共振
器量子井戸電界効果型発光素子の第1の実施例の断面を
示す。図1において、1はp−GaAs基板、2は20
周期の571Å厚Al .2Ga0.8As/690Å
厚AlAs層から成るブラッグ反射器(エミッタ層とし
ても機能する)、3は前記ブラッグ反射器2のAlAs
層を酸化する事によって作製された絶縁層(電流狭窄構
造として機能する)、4は1135Å厚のn−Al
0.2Ga0.8As層(ベース層として機能する)、
5は100Åのi(intrinsic)−GaAs量
子井戸発光層、6は100Å厚のi−AlAs層(バリ
ア層として機能する)、7は1050Å厚のi−Al
0.2Ga0.8As層(共振器長を調整するスペーサ
層として機能する)、8は20周期の571Å厚p−A
0.2Ga0.8As層/690Å厚AlAs層から
成るブラッグ反射器(コレクタ層としても機能する)、
9、11は夫々p側のエミッタ及びコレクタのAu/C
r電極、10はn側のベースのAuSn電極である。ま
た、12は発光パターンの概略図である。
(First Embodiment) FIG. 1 shows a cross section of a first embodiment of a microresonator quantum well field effect light emitting device according to the present invention. In FIG. 1, 1 is a p-GaAs substrate, 2 is 20
Period 57157 thickness Al 0 . 2 Ga 0.8 As / 690Å
A Bragg reflector made of a thick AlAs layer (also functioning as an emitter layer);
An insulating layer (functioning as a current confinement structure) formed by oxidizing the layer, 4 is a 1135 ° thick n-Al
0.2 Ga 0.8 As layer (functioning as a base layer),
Reference numeral 5 denotes an i (intrinsic) -GaAs quantum well light emitting layer having a thickness of 100 °, 6 denotes an i-AlAs layer having a thickness of 100 ° (functioning as a barrier layer), and 7 denotes an i-Al layer having a thickness of 1050 °.
0.2 Ga 0.8 As layer (functioning as a spacer layer for adjusting the length of the resonator), 8 is a 20-period 571Å thickness pA
a Bragg reflector composed of l 0.2 Ga 0.8 As layer / 690l thick AlAs layer (also functioning as a collector layer),
9 and 11 are Au / C of the p-side emitter and collector, respectively.
An r electrode 10 is an n-side base AuSn electrode. Reference numeral 12 is a schematic diagram of a light emission pattern.

【0025】次に、本実施例の発光素子の作製方法につ
いて図2を用いて説明する。はじめに、p型のGaAs
基板1上に、順次、GaAsバッファ層(不図示)、2
0周期の571Å厚p−Al0.2Ga0.8As/6
90Å厚AlAs層の積層構造2、1135Å厚のn−
Al0.2Ga0.8As層4、100Åのi−GaA
s量子井戸層5、100Å厚のi−AlAs層6、10
50Å厚のi−Al .2Ga0.8As層7、20周
期の571Å厚p−Al0.2Ga0.8As層/69
0Å厚AlAs層の積層構造8、100ÅGaAsキャ
ップ層13を分子線エピタキシャル法によって作製する
(図2(a))。
Next, a method for manufacturing the light emitting device of this embodiment will be described with reference to FIGS. First, p-type GaAs
A GaAs buffer layer (not shown), 2
0-period 571 ° thick p-Al 0.2 Ga 0.8 As / 6
Laminated structure 2 of 90 ° thick AlAs layer, n-thickness of 1135 °
Al 0.2 Ga 0.8 As layer 4, 100 ° i-GaAs
s quantum well layer 5, i-AlAs layers 6, 10
I-Al 0 . 2 Ga 0.8 As layer 7, 20 periods of 571Å thick p-Al 0.2 Ga 0.8 As layer / 69
A laminated structure 8 of a 0 ° thick AlAs layer and a 100 ° GaAs cap layer 13 are produced by a molecular beam epitaxial method (FIG. 2A).

【0026】次に、GaAs基板1上に発光素子部を形
成するために、発光素子部をフォトリソグラフィーによ
ってパターニングした後に、リアクティブイオンエッチ
ング法によって、ブラッグ反射器層2の下部まで、エッ
チングを施す(図2(b))。
Next, in order to form a light emitting element portion on the GaAs substrate 1, after patterning the light emitting element portion by photolithography, etching is performed to the lower portion of the Bragg reflector layer 2 by reactive ion etching. (FIG. 2 (b)).

【0027】続いて、エッチングを施した素子を電気炉
の中に保持し、水蒸気を流しながら450℃で加熱する
ことによってブラッグ反射器層2の中に含まれるAlA
s層の外周部を酸化してAlにすることにより、
絶縁層3を形成する(図2(c))。
Subsequently, the etched element is held in an electric furnace, and heated at 450 ° C. while flowing steam to thereby remove the AlA contained in the Bragg reflector layer 2.
By oxidizing the outer periphery of the s layer to Al 2 O 3 ,
An insulating layer 3 is formed (FIG. 2C).

【0028】次に、変調電極部(コレクタ電極部)を形
成するために、フォトリソグラフィーによってパターニ
ングした後に、リアクティブイオンエッチング法によっ
てi−Al0.2Ga0.8As層7の途中までエッチ
ングした後、HF溶液による選択エッチングでAlAs
層6のみを取り除く(図2(d))。
Next, in order to form a modulation electrode portion (collector electrode portion), after patterning by photolithography, etching is performed halfway through the i-Al 0.2 Ga 0.8 As layer 7 by reactive ion etching. After that, AlAs is selectively etched by an HF solution.
Only the layer 6 is removed (FIG. 2D).

【0029】さらに、このエッチングマスクを残したま
ま、AuSn電極10を量子井戸発光層5上に環状に蒸
着する。そして、窓の開いた変調電極(コレクタ電極)
11を、Au/Crをキャップ層13上に蒸着すること
によって形成し、電流注入電極(エミッタ電極)9を、
Au/Crを蒸着することによって基板1裏面に形成す
る。
Further, the AuSn electrode 10 is vapor-deposited in a ring shape on the quantum well light emitting layer 5 while leaving the etching mask. And a modulation electrode (collector electrode) with an open window
11 is formed by evaporating Au / Cr on the cap layer 13, and the current injection electrode (emitter electrode) 9 is
Au / Cr is formed on the back surface of the substrate 1 by vapor deposition.

【0030】最後に、電気炉でHを流しながら加熱す
る事によってそれぞれの電極9、10、11をオーミッ
ク化して、素子が完成する(図2(e))。
Finally, the electrodes 9, 10, and 11 are made ohmic by heating while flowing H 2 in an electric furnace to complete the device (FIG. 2E).

【0031】本実施例では、量子井戸発光層5の付近の
バンド構造が図5に示す様になっている(これはベー
ス、コレクタ間に適当な逆電圧を印加した状態を示
す)。従って、変調電極11側の面積を小さくしてこの
CR時定数を小さくして高速変調を可能とできると共
に、図5の様に量子井戸発光層5のバンド構造の傾きを
制御して発光レートそのものを制御するので更なる高速
変調ができる。すなわち、図5に示す如く、量子井戸発
光層5のバンド構造の傾きを制御して量子レベル間のエ
ネルギー間隔と両キャリアの波動関数間の積層方向の空
間的隔たりを制御するので(図5の量子井戸発光層5の
所に示す)、発光レートを高速且つ効率的に制御でき
る。また、電圧制御で発光量を大きく変調できて消光比
を大きくでき、発光パターンも変化できる。
In this embodiment, the band structure near the quantum well light emitting layer 5 is as shown in FIG. 5 (this shows a state where an appropriate reverse voltage is applied between the base and the collector). Therefore, it is possible to reduce the CR time constant by reducing the area on the modulation electrode 11 side to enable high-speed modulation, and to control the inclination of the band structure of the quantum well light emitting layer 5 as shown in FIG. Is controlled, further high-speed modulation can be performed. That is, as shown in FIG. 5, the energy interval between quantum levels and the spatial separation in the stacking direction between the wave functions of both carriers are controlled by controlling the inclination of the band structure of the quantum well light emitting layer 5 (see FIG. 5). The light emitting rate can be controlled at high speed and efficiently, as shown in the quantum well light emitting layer 5). Further, the light emission amount can be largely modulated by voltage control, the extinction ratio can be increased, and the light emission pattern can be changed.

【0032】上記構造を持つ本実施例の動作を、実験装
置の概略図を示す図3で説明する。図3に示す様に、こ
の素子をクライオスタット18の中に保持して、77K
に冷却し、電流注入電極(エミッタ電極)9とベース電
極10の間に電圧を印加して量子井戸発光層5にキャリ
アを注入した。これと同時に、ベース電極10と電流変
調電極(コレクタ電極)11の間に逆電圧を印加した。
また、この素子の直上にコレクタ電極部11と同程度の
直径を持つ光検知器15を配置した。この図において、
19は定電流源、14はパルス電圧印加電源、16は電
流アンプ、17はオシロスコープである。
The operation of this embodiment having the above structure will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3, the device is held in a cryostat 18 and a 77K
The carrier was injected into the quantum well light emitting layer 5 by applying a voltage between the current injection electrode (emitter electrode) 9 and the base electrode 10. At the same time, a reverse voltage was applied between the base electrode 10 and the current modulation electrode (collector electrode) 11.
Further, a photodetector 15 having the same diameter as that of the collector electrode portion 11 was disposed immediately above the element. In this figure,
19 is a constant current source, 14 is a pulse voltage application power supply, 16 is a current amplifier, and 17 is an oscilloscope.

【0033】図4に、図3の装置で測定した本発明の第
1の実施例の発光素子の高速変調特性の様子を示す。電
流変調電極部11の直径を10ミクロンとしたサンプル
では、50オームの伝送ラインで光変調電極11を駆動
した時のCR時定数が10ps程度となり、光強度の変
調速度は発光ライフタイム(この素子の場合、およそ1
00ナノ秒程度)に制限されない、1ナノ秒以下の高速
な変調が可能となる。
FIG. 4 shows a high-speed modulation characteristic of the light emitting device of the first embodiment of the present invention measured by the apparatus shown in FIG. In a sample in which the diameter of the current modulation electrode 11 was 10 μm, the CR time constant when the light modulation electrode 11 was driven by a 50 ohm transmission line was about 10 ps, and the light intensity modulation speed was the light emission lifetime (this element). In case of about 1
High-speed modulation of 1 ns or less, which is not limited to about 00 ns, is possible.

【0034】本発明の第1の実施例の発光素子では、発
光量子効率、即ち、注入した電子の数に対する発光する
光子の数が非常に高い外部量子効率が達成された。この
結果、この素子を揺らぎを抑えた定電流源で駆動した時
に、発光する光の量子揺らぎを小さく抑える事ができる
ようになった。
In the light emitting device according to the first embodiment of the present invention, the emission quantum efficiency, that is, the external quantum efficiency in which the number of emitted photons with respect to the number of injected electrons is very high was achieved. As a result, when this device is driven by a constant current source in which fluctuation is suppressed, quantum fluctuation of emitted light can be suppressed to be small.

【0035】なお、本実施例では微小な光共振器とし
て、長さが波長程度の共振器を用いたが、もちろん、本
発明はこれに限るものではない。長さが10分の1波長
程度のものから、長さが波長の10倍程度の共振器ま
で、使用可能である。さらに、本実施例では、光反射器
として屈折率の異なる半導体を交互に積層したブラッグ
反射器を用いたが、誘電体のブラッグ反射器や、金属ミ
ラーを用いてもよい。また、特開平4−96389号公
報に開示されているように、屈折率の異なる材料を3次
元状に交互に積層されたブラッグ反射器を用いてもよ
く、反射率が更に大きくなる効果によって、微小な共振
器発光素子特有の効果が生じて、発光再結合時間の変調
の更なる向上や発光効率の増大が期待される。
In this embodiment, a resonator having a length of about a wavelength is used as the minute optical resonator, but, of course, the present invention is not limited to this. It can be used from a resonator having a length of about 1/10 wavelength to a resonator having a length of about 10 times the wavelength. Further, in this embodiment, a Bragg reflector in which semiconductors having different refractive indexes are alternately stacked is used as the light reflector, but a Bragg reflector made of a dielectric material or a metal mirror may be used. Further, as disclosed in JP-A-4-96389, a Bragg reflector in which materials having different refractive indexes are alternately laminated three-dimensionally may be used. An effect peculiar to a minute resonator light-emitting element is generated, and further improvement in modulation of light-emission recombination time and increase in light-emission efficiency are expected.

【0036】また、本実施例では発光部として1次元の
量子井戸を用いていたが、本発明はこれに限るものでは
なく、特開平4−96389号公報に開示されているよ
うに、発光効率の更なる増大を期して2次元の井戸であ
る量子細線や3次元の井戸である量子箱を発光部として
持った発光素子としてもよい。
In the present embodiment, a one-dimensional quantum well is used as the light emitting portion. However, the present invention is not limited to this, and the luminous efficiency may be reduced as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-96389. In order to further increase the above, a light emitting element having a quantum wire as a two-dimensional well or a quantum box as a three-dimensional well as a light emitting part may be used.

【0037】(第2の実施例)本発明の発光素子を、同
一の基板上に多数個集積した例を図6に沿って示す。個
々の素子の構造や作製法は第1の実施例と同様である
(本実施例では、図6(b)で示す様に、個々の素子間
はポリイミドなどの絶縁材料27で埋め込まれてい
る)。図6に本発明の発光素子を集積した構造図を示す
((b)は(a)の左右方向に沿った断面図)。この図
において、25はコレクタ電極(変調電極)21に繋が
った列配線(これは、例えば、ベース電極22上に形成
された絶縁層上を這って配線される)、20はベース電
極22に配線された行配線、23はエミッタ電極(電流
注入電極)であり、基板26裏側の全面に配置されてい
る。
(Second Embodiment) An example in which a large number of light emitting elements of the present invention are integrated on the same substrate is shown in FIG. The structure and manufacturing method of each element are the same as those in the first embodiment. (In this embodiment, as shown in FIG. 6B, the space between the individual elements is filled with an insulating material 27 such as polyimide. ). FIG. 6 is a structural view in which the light emitting device of the present invention is integrated ((b) is a cross-sectional view along (a) in the left-right direction). In this figure, reference numeral 25 denotes a column wiring connected to a collector electrode (modulation electrode) 21 (this is, for example, wired on an insulating layer formed on a base electrode 22), and reference numeral 20 denotes a wiring to the base electrode 22. The row wiring 23 is an emitter electrode (current injection electrode), which is arranged on the entire rear surface of the substrate 26.

【0038】本実施例では、エミッタ電極23が同一基
板26上に集積されたすべての素子について共通となっ
ている。この素子をマトリクス駆動する時は、ある行配
線20に接続されたベース電極22とエミッタ電極23
の間に一定の電圧を印加することによって電流を注入
し、ある列配線25に接続された変調電極(コレクタ電
極)21の電圧を変化させる事によって、全く独立では
ないが、個々の素子の発光量や発光パターンを変調させ
ることができる。
In this embodiment, the emitter electrode 23 is common to all elements integrated on the same substrate 26. When this element is driven in a matrix, a base electrode 22 and an emitter electrode 23 connected to a certain row wiring 20 are used.
The current is injected by applying a constant voltage during the period, and the voltage of the modulation electrode (collector electrode) 21 connected to a certain column wiring 25 is changed. The amount and emission pattern can be modulated.

【0039】このため、従来例とは異なり、同一基板上
に集積された各発光素子から光検出器に送られる光量を
半ば独立的に制御する事が可能となった(変調電極(コ
レクタ電極)21に完全に独立に配線すれば完全に独立
的に制御できる)。
For this reason, unlike the conventional example, it becomes possible to control the amount of light transmitted from each light emitting element integrated on the same substrate to the photodetector semi-independently (modulation electrode (collector electrode)). 21 can be controlled completely independently.

【0040】また、面発光型の半導体レーザを同一基板
上に集積する場合と比較して、信号のオン・オフに係わ
らず、注入する電流量が常に一定となるため、伝送する
信号のパターンに依らず、発熱量が一定となり、安定し
た信号が伝送できるようになった。
Further, as compared with the case where the surface-emitting type semiconductor laser is integrated on the same substrate, the amount of current to be injected is always constant irrespective of the on / off state of the signal. Irrespective of this, the calorific value becomes constant, and a stable signal can be transmitted.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明した様に、本発明の量子井戸電
界効果型発光素子によって、変調電極(コレクタ)の静
電容量が小さい発光素子を作製することが可能となり、
より高速の光変調が可能となる。さらには、変調電極が
素子の上部に配置された構成の発光素子を作製すること
が可能となり、この発光素子を同一の基板上に多数個並
べて配置したときに、各素子を場合に応じた程度の独立
性をもって変調する事が可能となった。
As described above, the quantum well field effect type light emitting device of the present invention makes it possible to manufacture a light emitting device having a small capacitance of the modulation electrode (collector).
Higher-speed light modulation becomes possible. Furthermore, it is possible to manufacture a light emitting element having a configuration in which a modulation electrode is arranged above the element. When a large number of the light emitting elements are arranged on the same substrate, each element has a degree corresponding to the case. It is now possible to modulate with independence.

【0042】さらに、電流を狭い領域に狭窄する事もで
きるので、発光に全く寄与しない、無効電流を大幅に減
らす事が可能となり、発光素子の発光量子効率を大幅に
改善できる。
Further, since the current can be confined to a narrow region, the reactive current which does not contribute to light emission at all can be greatly reduced, and the light emission quantum efficiency of the light emitting device can be greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は本発明の第1の実施例を表す断面構成図
である。
FIG. 1 is a sectional configuration diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】図2は本発明の第1の実施例の発光素子を作製
する方法を表す工程図である。
FIG. 2 is a process chart illustrating a method of manufacturing a light emitting device according to a first embodiment of the present invention.

【図3】 図3は本発明の第1の実施例の発光素子を測
定する装置の構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of an apparatus for measuring a light emitting device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】 図4は本発明の第1の実施例の発光素子の高
速変調特性を表す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a high-speed modulation characteristic of the light emitting device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】図5は本発明の第1の実施例の発光素子のバン
ド構造図である。
FIG. 5 is a band structure diagram of the light emitting device according to the first embodiment of the present invention.

【図6】図6は本発明の発光素子を同一基板上に集積し
た例の構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram of an example in which the light emitting device of the present invention is integrated on the same substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 p−GaAs基板 2 20周期の571Å厚p−Al0.2Ga0.8
s層/690Å厚AlAs層から成るブラッグ反射器 3 絶縁層 4 1135Å厚のn−Al0.2Ga0.8As層 5 100Åのi−GaAs量子井戸発光層 6 100Å厚のi−AlAs層 7 1050Å厚のi−Al0.2Ga0.8As層 8 20周期の571Å厚p−Al0.2Ga0.8
s層/690Å厚AlAs層から成るブラッグ反射器 9 Au/Cr電極から成るエミッタ電極 10 AuSn電極から成るベース電極 11 Au/Cr電極から成るコレクタ電極 12 発光パターンの概略図 13 キャップ層 14 パルス電圧印加電源 15 光検出器 16 電流アンプ 17 オシロスコープ 18 クライオスタット 19 定電流源 20 行配線 21 コレクタ電極(変調電極) 22 ベース電極 23 エミッタ電極(電流注入電極) 25 列配線 26 共通基板 27 ポリイミド
1 p-GaAs substrate 2 20-period 571 ° thick p-Al 0.2 Ga 0.8 A
Brass reflector composed of s layer / 6906 thick AlAs layer 3 Insulating layer 4 1135Å thick n-Al 0.2 Ga 0.8 As layer 5 100Å i-GaAs quantum well light emitting layer 6 100Å thick i-AlAs layer 7 1050 ° thick i-Al 0.2 Ga 0.8 As layer 8 20 periods of 571 ° thick p-Al 0.2 Ga 0.8 A layer
Brass reflector composed of s layer / 6906 thick AlAs layer 9 Emitter electrode composed of Au / Cr electrode 10 Base electrode composed of AuSn electrode 11 Collector electrode composed of Au / Cr electrode 12 Schematic diagram of light emission pattern 13 Cap layer 14 Pulse voltage application Power supply 15 Photodetector 16 Current amplifier 17 Oscilloscope 18 Cryostat 19 Constant current source 20 Row wiring 21 Collector electrode (modulation electrode) 22 Base electrode 23 Emitter electrode (current injection electrode) 25 Column wiring 26 Common substrate 27 Polyimide

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】量子構造から成る発光活性層を持つ発光素
子において、基板側から、少なくとも、第1の導電型の
半導体エミッタ層、第2の導電型の半導体ベース層、発
光量子井戸層、前記量子井戸層よりも大きなバンドギャ
ップを持つ絶縁性の半導体バリア層、第1の導電型の半
導体コレクタ層が、順次、積層されていて、かつ、前記
発光量子井戸層を取り囲むように上下に、前記発光量子
井戸層から発光する光に対して高い反射率を持つ光反射
器が設けられている事を特徴とする電界効果型発光素
子。
In a light emitting device having a light emitting active layer having a quantum structure, at least a semiconductor emitter layer of a first conductivity type, a semiconductor base layer of a second conductivity type, a light emitting quantum well layer, An insulating semiconductor barrier layer having a band gap larger than that of the quantum well layer and a semiconductor collector layer of the first conductivity type are sequentially stacked, and are vertically arranged so as to surround the light emitting quantum well layer. A field-effect light-emitting device comprising a light reflector having a high reflectance for light emitted from a light-emitting quantum well layer.
【請求項2】前記光反射器は、前記発光量子井戸層から
発光する光に対して90%以上の高い反射率を持つ導電
性の光反射器である事を特徴とする請求項1記載の発光
素子。
2. The light reflector according to claim 1, wherein the light reflector is a conductive light reflector having a high reflectance of 90% or more with respect to light emitted from the light emitting quantum well layer. Light emitting element.
【請求項3】前記光反射器は、少なくとも、前記エミッ
タ層の側に配置された一部が、絶縁体化されていて、前
記エミッタ層からベース層に流れる電流が狭窄化されて
いる事を特徴とする請求項1または2記載の発光素子。
3. The light reflector according to claim 1, wherein at least a part disposed on the side of the emitter layer is made of an insulator, and a current flowing from the emitter layer to the base layer is narrowed. The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting device is a light emitting device.
【請求項4】前記光反射器は、少なくとも2種類の、そ
れぞれ屈折率の異なる半導体が交互に周期的に配置され
たブラッグ反射器によって成る事を特徴とする請求項
1、2または3記載の発光素子。
4. The light reflector according to claim 1, wherein the light reflector comprises a Bragg reflector in which at least two types of semiconductors having different refractive indexes are alternately and periodically arranged. Light emitting element.
【請求項5】前記ブラッグ反射器のエミッタ層側のもの
の少なくとも一部は、アルミニウムを成分として含む半
導体によって構成され、かつ、前記アルミニウムを成分
として含む半導体の一部が酸化されて絶縁体化されてい
て、この絶縁体化された部分によって、エミッタ層から
ベース層に流れ込む電流が狭窄化されている事を特徴と
する請求項4記載の発光素子。
5. At least a part of the Bragg reflector on the emitter layer side is made of a semiconductor containing aluminum as a component, and a part of the semiconductor containing aluminum is oxidized to be an insulator. 5. The light-emitting device according to claim 4, wherein a current flowing from the emitter layer to the base layer is narrowed by the insulating portion.
【請求項6】前記半導体コレクタ層は小面積化されてい
る事を特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載の発光
素子。
6. A light emitting device according to claim 1, wherein said semiconductor collector layer has a reduced area.
【請求項7】前記半導体コレクタ層の電極は環状に形成
されている事を特徴とする請求項1乃至6の何れかに記
載の発光素子。
7. The light emitting device according to claim 1, wherein the electrode of the semiconductor collector layer is formed in a ring shape.
【請求項8】前記発光素子は、ベース層とエミッタ層が
夫々共通の電極を持つように、同一基板上に多数個積層
されてアレー化されている事を特徴とする請求項1乃至
7の何れかに記載の発光素子。
8. The light-emitting device according to claim 1, wherein a plurality of the light-emitting elements are stacked and arrayed on the same substrate so that the base layer and the emitter layer each have a common electrode. The light-emitting element according to any one of the above.
【請求項9】前記発光素子は、同一基板上に多数個積層
されて2次元的にアレー化され、コレクタ層の電極が列
的に繋がって列配線され、ベース層の電極が行的に繋が
って行配線され、エミッタ層の電極が共通電極化されて
いる事を特徴とする請求項1乃至7の何れかに記載の発
光素子。
9. The light emitting device according to claim 1, wherein a plurality of the light emitting elements are stacked on the same substrate and are two-dimensionally arrayed. The electrodes of the collector layer are connected in a column, and the electrodes of the base layer are connected in a row. 8. The light emitting device according to claim 1, wherein the electrodes are arranged in a row, and the electrode of the emitter layer is made a common electrode.
【請求項10】ベース層の電極とエミッタ層の電極間に
一定電圧をかけて電流を流しつつ、ベース層の電極とコ
レクタ層の電極の間に印加される逆電圧を変調させて、
コレクタ層側から出る光の強度を変調させる事を特徴と
する請求項1乃至9の何れかに記載の発光素子の駆動方
法。
10. A reverse voltage applied between a base layer electrode and a collector layer electrode is modulated while applying a constant voltage between a base layer electrode and an emitter layer electrode to cause a current to flow.
The method according to claim 1, wherein the intensity of light emitted from the collector layer is modulated.
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