JP2000227680A - Electrostatic latent image developing carrier - Google Patents

Electrostatic latent image developing carrier

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JP2000227680A
JP2000227680A JP27913299A JP27913299A JP2000227680A JP 2000227680 A JP2000227680 A JP 2000227680A JP 27913299 A JP27913299 A JP 27913299A JP 27913299 A JP27913299 A JP 27913299A JP 2000227680 A JP2000227680 A JP 2000227680A
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JP
Japan
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carrier
electrostatic latent
latent image
coating layer
compound
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JP27913299A
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Japanese (ja)
Inventor
Kimitoshi Yamaguchi
公利 山口
Akihiro Koban
昭宏 小番
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a carrier having good electrostatic charge controllability, giving a sufficient quantity of electric charges to a toner, less liable to cause toner spending on the carrier even after long-time use and less liable to reduce the quantity of electric charges or to lower its electrostatic charging ability by incorporating an organosilicon compound having a specified quaternary ammonium salt structure into a coating layer. SOLUTION: The carrier for a dry two-component developer has a resin coating layer on the surface of a core material and contains an organosilicon compound having a quaternary ammonium salt structure of the formula in the coating layer. In the formula, R1-R3 are each 1-6C alkyl, phenyl or substituted phenyl, R4 is alkyl, substituted alkyl, alicyclic alky, phenyl, substituted phenyl, benzyl or substituted benzyl, X is halogen, the residue of benzenesulfonic acid, the residue of substituted benzenesulfonic acid, the residue of hydroxynaphthalenesulfonic acid, BPh4, BF4, ClO4 or SbCl5 and (n) is 1 or 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真、静電記
録、静電印刷などに使用される乾式2成分現像剤用キャ
リアに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dry two-component developer carrier used for electrophotography, electrostatic recording, electrostatic printing and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真に用いられている乾式現像方式
は、摩擦帯電付与部材と摩擦させた粉体トナーを、静電
潜像に静電的に付着させて可視像を形成するものであ
る。この乾式現像方法には、トナーのみを主成分とする
いわゆる一成分系現像方式と、ガラスビーズ、磁性体キ
ャリア、あるいは、それらの表面を樹脂などで被覆した
コートキャリアとトナーを混合して使用する、いわゆる
二成分系現像方式がある。
2. Description of the Related Art In a dry developing method used in electrophotography, a visible image is formed by electrostatically adhering a powder toner rubbed with a frictional charging member to an electrostatic latent image. is there. In this dry development method, a so-called one-component development method using only toner as a main component, and a mixture of toner and glass beads, a magnetic carrier, or a coated carrier whose surface is coated with a resin or the like are used. There is a so-called two-component system.

【0003】後者で用いられる二成分現像剤は、比較的
大きなキャリア粒子表面上に微小なトナー粒子が両粒子
の摩擦により発生した電気力により保持されている。静
電潜像に近接されると、静電潜像が形成する電界によ
り、トナー粒子はキャリア粒子との結合力に打ち勝っ
て、静電潜像上に現像されるものである。そして、現像
剤は現像によって消費されたトナーを補充しながら反復
使用される。従って、キャリア粒子は長時間の使用中、
常にトナー粒子を所望する極性で、かつ、充分な帯電量
に摩擦帯電しなけれぱならない。
In the latter two-component developer, fine toner particles are held on the surface of relatively large carrier particles by electric force generated by friction between the two particles. When approaching the electrostatic latent image, the electric field generated by the electrostatic latent image causes the toner particles to overcome the bonding force with the carrier particles and to be developed on the electrostatic latent image. The developer is used repeatedly while replenishing the toner consumed by the development. Therefore, the carrier particles can be used for a long time,
The toner particles must always be frictionally charged to a desired polarity and to a sufficient charge amount.

【0004】しかしながら、粒子間の衝突、粒子と現像
装置内での機械的撹拌、又はこれらによる発熱で、キャ
リア粒子表面にトナーが融着し、いわゆるスペントトナ
ーが生じ、キャリア粒子の帯電特性が使用時間と共に低
下する。それに伴い、画像の地肌汚れや、トナー飛散が
生じるため、現像剤全体を取り替える必要が生じる。
However, the toner is fused to the surface of the carrier particles due to the collision between the particles, the mechanical agitation in the developing device, or the heat generated by these, and so-called spent toner is generated. Declines over time. As a result, background smearing of the image and toner scattering occur, so that it is necessary to replace the entire developer.

【0005】このようなスペント化を防止するため、キ
ャリア芯材表面に、表面エネルギーの低い樹脂、例えば
フッ素樹脂、シリコーン樹脂などをコートすることによ
りキャリアの長寿命化がはかられてきた。低表面エネル
ギーの樹脂を被覆したキャリアの例としては、次のよう
なものが挙げられる。
In order to prevent such spent, the life of the carrier has been extended by coating the surface of the carrier core material with a resin having a low surface energy, for example, a fluororesin or a silicone resin. Examples of the carrier coated with a resin having a low surface energy include the following.

【0006】特開昭55−127569号公報:常温
硬化型シリコーン樹脂と正帯電性窒素樹脂で被覆したキ
ャリア 特開昭55−157751号公報:変性シリコーン樹
脂を少なくとも1種含有した被覆材をコートしたキャリ
ア 特開昭56−140358号公報:常温硬化型シリコ
ーン樹脂及びスチレン・アクリル樹脂を含有した樹脂被
覆層を有するキャリア 特開昭58−207054号公報:炭化ケイ素を含有
するシリコーン樹脂で表面を被覆したキャリア 特開昭61−110161号公報:20dyn/cm
以下の臨界表面張力を示す材料で被覆した正帯電性キャ
リア 特開昭62−273576号公報:フッ素アルキルア
クリレートを含有する被覆材でコートしたキャリアと、
含クロムアゾ染料を含むトナーからなる現像剤
JP-A-55-127569: Carrier coated with a room-temperature-curable silicone resin and a positively-chargeable nitrogen resin JP-A-55-157751: Coated with a coating material containing at least one modified silicone resin Carrier JP-A-56-140358: Carrier having a resin coating layer containing a room temperature-curable silicone resin and styrene-acrylic resin JP-A-58-207054: The surface is coated with a silicone resin containing silicon carbide Carrier JP-A-61-110161: 20 dyn / cm
Positively chargeable carrier coated with a material having the following critical surface tension: JP-A-62-273576: a carrier coated with a coating material containing a fluoroalkyl acrylate,
Developer composed of toner containing chromium-containing azo dye

【0007】しかしながら、近年、省エネルギー化のた
めに、低温定着性のトナーが要求される様になってきて
おり、また、カラートナーにおいては充分な色調を得る
ために、軟化点の低いトナーが使用されることが多い。
更に、高画質化のためにトナーが小粒径化する傾向にあ
る。このようなトナーを用いた現像剤は、長時間使用す
ると、キャリアに対してスペントトナーが生じ易く、ト
ナーの帯電量低下や、トナー飛散及び地肌汚れが起こ
り、高画質が維持出来ないのが現状である。
However, in recent years, low-temperature fixable toners have been demanded for energy saving, and in order to obtain a sufficient color tone, toners having a low softening point are used. Often done.
Further, the toner tends to be reduced in particle size for higher image quality. When a developer using such a toner is used for a long time, spent toner is apt to be generated on the carrier, and the charge amount of the toner is reduced, the toner is scattered, and the background is stained. It is.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする謀題】従って、本発明の目的
は、以下の特性をもつキャリアを提供することにある。 1)帯電制御性が良好で、充分なトナー帯電量が得られ
るキャリア、 2)長時間使用しても、キャリアヘのトナースペントが
少なく、帯電量能力の低下が少ないキャリア、 3)トナー飛散及び地肌汚れを生じることなく、長時間
高画質を維持できるキャリア。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a carrier having the following characteristics. 1) A carrier having good charge controllability and capable of obtaining a sufficient amount of toner charge; 2) A carrier having a small amount of toner spent on the carrier even after long-term use and a small decrease in charge amount ability; 3) Toner scattering and background A carrier that can maintain high image quality for a long time without causing dirt.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成するための手段を鋭意検討した結果、特定の化
合物をコート素材に含有させ、更に特定の膜構成を持つ
シリコーン系樹脂系との組み合わせにより上記目的を達
成し得るこを見出し、本発明に到達した。即ち、本発明
によれば、第一に、芯材表面に樹脂被覆層を有する乾式
2成分現像剤用キャリアにおいて、被覆層中に下記一般
式(I)で表される4級アンモニウム塩構造を有する有
機ケイ素化合物を含有することを特徴とする静電潜像現
像用キャリアが提供される。
Means for Solving the Problems The present inventors have intensively studied means for achieving the above object, and as a result, a silicone resin having a specific compound contained in a coating material and further having a specific film structure. The present inventors have found that the above object can be achieved by combination with the system, and have reached the present invention. That is, according to the present invention, first, in a dry two-component developer carrier having a resin coating layer on the surface of a core material, a quaternary ammonium salt structure represented by the following general formula (I) is contained in the coating layer. The present invention provides a carrier for developing an electrostatic latent image, characterized by containing an organosilicon compound.

【化2】 (式中、R1、R2、R3は、炭素数1〜6のアルキル基
又はフェニル基又は置換フェニル基を、R4は、アルキ
ル基、置換アルキル墓、脂環アルキル基、フェニル基、
置換フェニル基、ベンジル基又は置換ベンジル基を表
す。また、Xは、ハロゲン原子、ベンゼンスルホン酸残
基、置換ベンゼンスルホン酸残基、ヒドロキシナフタレ
ンスルホン酸残基、又はBPh4、BF4、ClO4又は
SbCl5を表す。nは正の整数であり、1又は2を示
す。) 第二に、被覆層中に含有される化合物(I)のXが、パ
ラトルエンスルホン酸残基であることを特徴とする上記
第一に記載した静電潜像現像用キャリアが提供される。
第三に、被覆層中に含有される化合物(I)が、ビスア
ンモニウム化合物であることを特徴とする上記第一に記
載した静電潜像現像用キャリアが提供される。第四に、
樹脂被覆層がシリコーン樹脂よりなることを特徴とする
上記第一に記載した静電潜像現像用キャリアが提供され
る。第五に、被覆材の厚さ方向において、芯材に近いほ
ど化合物(I)の含有量が多いことを特徴とする上記第
四に記載した静電潜像現像用キャリアが提供される。第
六に、被覆材の厚さ方向において、表層に近いほど低抵
抗物質が多く含有されていることを特徴とする上記第四
に記載した静電潜像現像用キャリアが提供される。第七
に、被覆材の厚さ方向において、芯材に近いほど化合物
(I)の量が多く、かつ、表層に近いほど低抵抗物質が
多く含有されていることを特徴とする上記第四に記載し
た静電潜現像用キャリアが提供される。
Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , and R 3 represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group or a substituted phenyl group, and R 4 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an alicyclic alkyl group, a phenyl group,
Represents a substituted phenyl group, a benzyl group or a substituted benzyl group. Further, X represents a halogen atom, sulfonic acid residue, a substituted benzenesulfonic acid residue, hydroxy naphthalenesulfonic acid residues, or BPh 4, BF 4, a ClO 4 or SbCl 5. n is a positive integer and represents 1 or 2. Secondly, the carrier for developing an electrostatic latent image according to the first aspect is provided, wherein X of the compound (I) contained in the coating layer is a paratoluenesulfonic acid residue. .
Thirdly, there is provided the carrier for developing an electrostatic latent image according to the first aspect, wherein the compound (I) contained in the coating layer is a bisammonium compound. Fourth,
The electrostatic latent image developing carrier according to the first aspect, wherein the resin coating layer is made of a silicone resin. Fifthly, there is provided the carrier for developing an electrostatic latent image as described in the fourth aspect, wherein the content of the compound (I) is larger as the material is closer to the core material in the thickness direction of the coating material. Sixthly, there is provided the carrier for developing an electrostatic latent image according to the fourth feature, wherein the lower the resistance material is, the closer to the surface layer in the thickness direction of the coating material. Seventh, in the thickness direction of the coating material, the amount of the compound (I) is larger as the material is closer to the core material, and the lower resistance material is contained more as the material is closer to the surface layer. The described carrier for electrostatic latent development is provided.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明について、具体的に
詳しく説明する。本発明の静電潜像現像用キャリアは、
芯材表面に樹脂被覆層を有するキャリアにおいて、被覆
層中に前記一般式(I)で表される4級アンモニウム塩
構造を有する有機ケイ素を化合物を含有することを特徴
とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. The electrostatic latent image developing carrier of the present invention,
A carrier having a resin coating layer on the surface of a core material, characterized in that the coating layer contains a compound of an organosilicon having a quaternary ammonium salt structure represented by the general formula (I).

【0011】一般式(I)で表される、4級アンモニウ
ム塩構造を有する有機ケイ素化合物は、下記一般式
(A)で表される3−N,N−ジメチルアミノプロピル
シランを、下記一般式(B)で表される4級化試剤で4
級化して得られる。
The organosilicon compound having a quaternary ammonium salt structure represented by the general formula (I) is obtained by converting 3-N, N-dimethylaminopropylsilane represented by the following general formula (A) to the following general formula: The quaternizing agent represented by (B) is 4
It is obtained by grading.

【化3】 (式中、R1、R2、R3は、C1からC6のアルキル基、
フェニル基又は置換フェニル基を表す。) R4X (B) (式中、R4は、アルキル基、置換アルキル基、脂環ア
ルキル基、フェニル基、置換フェニル基、ベンジル基、
置換ベンジル基を表す。また、Xは、ハロゲン原子、ベ
ンゼンスルホン酸残基、置換ベンゼンスルホン酸残基、
ヒドロキシナフタレンスルホン酸残基、BPh4、B
4、ClO4又はSbCl5を表す。)
Embedded image (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are a C 1 to C 6 alkyl group,
Represents a phenyl group or a substituted phenyl group. R 4 X (B) wherein R 4 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an alicyclic alkyl group, a phenyl group, a substituted phenyl group, a benzyl group,
Represents a substituted benzyl group. X represents a halogen atom, a benzenesulfonic acid residue, a substituted benzenesulfonic acid residue,
Hydroxynaphthalenesulfonic acid residue, BPh 4 , B
Represents F 4 , ClO 4 or SbCl 5 . )

【0012】本発明の前記一般式(I)で表される4級
アンモニウム塩構造を有する有機ケイ素化合物は、樹脂
被覆層中に含有させて使用する。被覆用樹脂としては、
各種のモノマーよりなる重合体を使用することができ
る。一般式(I)で表される化合物中、ビスアンモニウ
ム化合物および式中のXがパラトルエンスルホン酸残基
である化合物が、特に好ましい。
The organosilicon compound having a quaternary ammonium salt structure represented by the general formula (I) of the present invention is used by being contained in a resin coating layer. As coating resin,
Polymers composed of various monomers can be used. Among the compounds represented by the general formula (I), bisammonium compounds and compounds in which X in the formula is a paratoluenesulfonic acid residue are particularly preferred.

【0013】一般式(I)で表される4級アンモニウム
塩構造を有する有機ケイ素化合物の例としては、表1で
示すものが挙げられる。
Examples of the organosilicon compound having a quaternary ammonium salt structure represented by the general formula (I) include those shown in Table 1.

【0014】[0014]

【表1】 [Table 1]

【0015】本発明のキャリアにおいて、樹脂被覆層と
しては、シリコーン樹脂よりなるものが好ましい。本発
明で被覆樹脂として使用できるシリコーン樹脂として
は、下記一般式で表される繰り返し単位を含むシリコー
ン樹脂が挙げられる。
In the carrier of the present invention, the resin coating layer is preferably made of a silicone resin. Examples of the silicone resin that can be used as the coating resin in the present invention include a silicone resin containing a repeating unit represented by the following general formula.

【化4】 上式中Rは水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メ
トキシ基、C1〜C4の低級アルキル基又はフェニル基を
表す。
Embedded image In the above formula, R represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a methoxy group, a C 1 -C 4 lower alkyl group or a phenyl group.

【0016】このようなシリコーン樹脂には、ストレー
トシリコーン樹脂としては、KR271、KR272、
KR282、KR252、KR255、KR152(信
越化学工業社製)、SR2400、SR2406(東レ
ダウコーニングシリコーン社製)などがある。また、変
性シリコーンとしては、エポキシ変性シリコーン、アク
リル変性シリコーン、フェノール変性シリコーン、ウレ
タン変性シリコーン、ポリエステル変性シリヨーン、ア
ルキッド変性シリコーンなどが挙げられる。変性シリコ
ーンの例としては、エポキシ変性:ES−1001N、
アクリル変性シリコーン:KR−5208、ポリエステ
ル変性:KR−5203、アルキッド変性:KR−20
6、ウレタン変性:KR−305(以上、信越化学工業
社製)、エポキシ変性:SR2115、アルキッド変
性:SR2110(東レダウコーニングシリコーン社
製)などがある。
Such silicone resins include, as straight silicone resins, KR271, KR272,
KR282, KR252, KR255, KR152 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), SR2400, SR2406 (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and the like. Examples of the modified silicone include an epoxy-modified silicone, an acrylic-modified silicone, a phenol-modified silicone, a urethane-modified silicone, a polyester-modified silyone, and an alkyd-modified silicone. Examples of the modified silicone include epoxy-modified: ES-1001N,
Acrylic-modified silicone: KR-5208, polyester-modified: KR-5203, alkyd-modified: KR-20
6, urethane-modified: KR-305 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), epoxy-modified: SR2115, alkyd-modified: SR2110 (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and the like.

【0017】本発明のキャリアでは、被覆材の厚さ方向
において、芯材に近いほど前期一般式(I)で表される
化合物の含有量が多いことが好ましい。と言うのは、樹
脂被膜の削れと、4級アンモニウム塩構造を有する有機
ケイ素化合物の帯電制御性を利用して、スペントによる
キャリアの帯電能力低下を防止することが出来るためで
ある。即ち、詳しく述べると、キャリアの繰り返し使用
に伴い、シリコーン樹脂は少しずつ被膜の削れが起きる
ので、被覆材の厚さ方向において、芯材に近いほど一般
式(I)で表される化合物の含有量を多くしておくと、
削れに伴ない、摩擦帯電能力の高いキャリアコート層が
出現し、経時での帯電量低下を防止する。キャリア芯材
に近いほど一般式(I)で表される化合物の比率を多く
する為には、該化合物の含有量の異なる2種のコート液
を作成し、一方のコート液を塗布しながら、他方のコー
ト液を任意の割合で投入して行けば良い。これにより、
帯電安定性の良い長寿命キャリアが得られる。
In the carrier of the present invention, it is preferable that the closer to the core in the thickness direction of the coating material, the higher the content of the compound represented by the formula (I). This is because it is possible to prevent a decrease in the chargeability of the carrier due to spent by utilizing the scraping of the resin film and the charge controllability of the organosilicon compound having a quaternary ammonium salt structure. That is, in detail, with the repeated use of the carrier, the coating of the silicone resin is gradually abraded, so that the closer to the core material in the thickness direction of the coating material, the higher the content of the compound represented by the general formula (I). If you increase the amount,
Along with the shaving, a carrier coat layer having a high triboelectric charging ability appears to prevent a decrease in the charge amount over time. In order to increase the ratio of the compound represented by the general formula (I) closer to the carrier core material, two kinds of coating solutions having different contents of the compound are prepared, and one of the coating solutions is applied. The other coating solution may be supplied at an arbitrary ratio. This allows
A long-life carrier having good charge stability can be obtained.

【0018】また、本発明では、被覆材の厚さ方向にお
いて、表層に近いほど低抵抗物質が多く含有されている
ことが好ましい。と言うのは、有機ケイ素化合物を含有
するシリコーン樹脂コートキャリアにおいて、被覆材の
表層ほど、低抵抗物質を多く含有させておくと、経時で
の被膜削れによるキャリア帯電能力の低下をより少なく
することが出来るためである。これは、被覆材中の低抵
抗物質の量によりキャリアの飽和帯電能力が制限される
結果だと考えられ、低抵抗物質の含有量が多いとキャリ
アの帯電能力は低くなる。キャリア被覆材の表層に近い
ほど低抵抗物質の比率を多くする為には、低抵抗物質の
含有量の異なる2種のコート液を作成し、一方のコート
液を塗布しながら、他方のコート液を任意の割合で投入
して行けば良い。これにより、帯電安定性の良い長寿命
キャリアが得られる。
In the present invention, it is preferable that the closer to the surface layer in the thickness direction of the coating material, the more the low resistance material is contained. This is because, in a silicone resin-coated carrier containing an organosilicon compound, the lower the resistance of the coating material in the surface layer of the coating material, the lower the decrease in carrier charging ability due to coating shaving over time. This is because This is considered to be the result of the fact that the amount of the low-resistance substance in the coating material limits the saturation charging ability of the carrier, and the higher the content of the low-resistance substance, the lower the charging ability of the carrier. In order to increase the ratio of the low-resistance substance closer to the surface layer of the carrier coating material, two coating liquids having different low-resistance substance contents are prepared, and one coating liquid is applied while the other coating liquid is applied. May be input at an arbitrary ratio. As a result, a long-life carrier having good charge stability can be obtained.

【0019】使用可能な抵抗調整剤には、以下のような
ものがある。導電性ZnO、Al等の金属粉、各種の方
法で作られたSnO2及び種々の元素をドープしたSn
2ホウ化物、例えばTiB2、ZnB2、MoB2、炭化
ケイ素、及び導電性高分子(ポリアセチレン、ポリパラ
フェニレン、ポリ(パラ−フェニレンスルフィド)、ポ
リピロール、ポリエチレン−カーボンブラック)等があ
る。
There are the following resistance adjusters that can be used. Metal powders such as conductive ZnO and Al, SnO 2 produced by various methods, and Sn doped with various elements
O 2 borides, e.g. TiB 2, ZnB 2, MoB 2 , silicon carbide, and the conductive polymer (polyacetylene, polyparaphenylene, poly (para - phenylene sulfide), polypyrrole, polyethylene - carbon black), and the like.

【0020】また、本発明では、被覆材の厚さ方向にお
いて、芯材に近いほど一般式(I)で表される化合物の
量が多く、かつ、表層に近いほど低抵抗物質が多く含有
されていると、経時での帯電量低下が、より小さくな
り、かつ高画質が維持される。
Further, in the present invention, in the thickness direction of the coating material, the closer to the core material, the larger the amount of the compound represented by the general formula (I), and the closer to the surface layer, the more the low-resistance substance is contained. In this case, the decrease in the charge amount over time becomes smaller, and high image quality is maintained.

【0021】なお、本発明では、被覆用樹脂として、以
下のものを単独又は2種以上混合して、使用することも
可能である。即ち、例えば、ポリスチレン、クロロポリ
スチレン、ポリ−α−メチルスチレン、スチレン−クロ
ロスチレン共重合体、スチレン−プロピレン共重合体、
スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−塩化ビニル
共重合体、スチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−
マレイン酸共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共
重合体(スチレン−アクリル酸メチル共重合体、スチレ
ン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−アクリル酸
ブチル共重合体、スチレン−アクリル酸オクチル共重合
体、スチレン−アクリル酸フェニル共重合体等)、スチ
レン−メタクリル酸エステル共重合体(スチレン−メタ
クリル酸メチル共重合体、スチレン−メタクリル酸エチ
ル共重合体、スチレン−メタクリル酸ブチル共重合体、
スチレン−メタクリル酸フェニル共重合体等)、スチレ
ン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−
アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体などの
スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アイオノマー樹
脂、ポリウレタン樹脂、ケトン樹脂、エチレン−エチル
アクリレート共重合体、キシレン樹脂、ポリアミド樹
脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。
In the present invention, the following resins can be used alone or as a mixture of two or more of them. That is, for example, polystyrene, chloropolystyrene, poly-α-methylstyrene, styrene-chlorostyrene copolymer, styrene-propylene copolymer,
Styrene-butadiene copolymer, styrene-vinyl chloride copolymer, styrene-vinyl acetate copolymer, styrene-
Maleic acid copolymer, styrene-acrylate copolymer (styrene-methyl acrylate copolymer, styrene-ethyl acrylate copolymer, styrene-butyl acrylate copolymer, styrene-octyl acrylate copolymer Styrene-phenyl acrylate copolymer), styrene-methacrylate copolymer (styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-ethyl methacrylate copolymer, styrene-butyl methacrylate copolymer,
Styrene-phenyl methacrylate copolymer), styrene-α-methyl methyl acrylate copolymer, styrene-
Styrene resin such as acrylonitrile-acrylate copolymer, epoxy resin, polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, ionomer resin, polyurethane resin, ketone resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, xylene resin, polyamide resin, phenol Resins, silicone resins, polycarbonate resins, melamine resins, and the like.

【0022】[0022]

【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、以下において、示す部はいずれも重量基準である。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following, all parts shown are on a weight basis.

【0023】 製造例1(トナーAの作成) ポリエステル(重量平均分子量12000) 100部 銅フタロシアニン顔料 2部 極性制御剤 2部Production Example 1 (Preparation of Toner A) Polyester (weight average molecular weight 12000) 100 parts Copper phthalocyanine pigment 2 parts Polarity control agent 2 parts

【化5】 上記の材料を、熱ロールで120℃で混練後、冷却固化
した後、粉砕、分級して、体積平均粒径7.1μmのフ
ルカラー用シアントナーを得た。更に、このトナー10
0部に対して、シリカR972(日本アエロジル社製)
を、0.5部添加混合してトナーAを得た。
Embedded image The above-mentioned material was kneaded with a hot roll at 120 ° C., solidified by cooling, pulverized and classified to obtain a full-color cyan toner having a volume average particle size of 7.1 μm. Further, the toner 10
For 0 parts, silica R972 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
Was added and mixed to obtain a toner A.

【0024】製造例2(キャリアBの作成) メチルメタクリレート樹脂(分子量約30万)5部をト
ルエン95部に溶解し、液を作成した。次に、キャリ
ア芯材(CuZnフェライト、粒径50μm、飽和磁気
モーメント55emu/g)に対して、流動床型コーテ
ィング装置を用いて、液を塗布し、平均膜厚0.17
μmの樹脂コートキャリアBを得た。
Production Example 2 (Preparation of Carrier B) A liquid was prepared by dissolving 5 parts of a methyl methacrylate resin (molecular weight: about 300,000) in 95 parts of toluene. Next, a liquid was applied to the carrier core material (CuZn ferrite, particle diameter 50 μm, saturation magnetic moment 55 emu / g) using a fluidized bed type coating apparatus, and the average film thickness was 0.17.
A μm resin-coated carrier B was obtained.

【0025】実施例1(キャリアCの作成) 次式(3)で表される4級アンモニウム塩構造を有する
有機ケイ素化合物を10部をブチルセロソルブ90部に
溶解し、液を作成した。 Ph3SiCH2CH2CH2+Me2(nBu)I- (3) 製造例2で作成した、液100部に対して、液10
部を混合し、この液をキャリア芯材(CuZnフェライ
ト、粒径50μm、飽和磁気モーメント55emu/
g)に対して、流動床型コーティング装置を用いて塗布
し、平均膜厚0.19μmの樹脂コートキャリアCを得
た。
Example 1 (Preparation of Carrier C) A liquid was prepared by dissolving 10 parts of an organosilicon compound having a quaternary ammonium salt structure represented by the following formula (3) in 90 parts of butyl cellosolve. Ph 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 N + Me 2 (nBu) I (3) 100 parts of the liquid prepared in Production Example 2 was added to liquid 10
Of the carrier core material (CuZn ferrite, particle diameter 50 μm, saturation magnetic moment 55 emu /
g) was applied using a fluidized bed type coating apparatus to obtain a resin-coated carrier C having an average film thickness of 0.19 μm.

【0026】実施例2(キャリアDの作成) 4級アンモニウム塩構造を有する有機ケイ素化合物
(3)の代わりに、次式で表される有機ケイ素化合物
(4)を使用する以外は、実施例1と全く同じ方法でキ
ャリアを作成し、平均膜厚0.18μmの枇脂コートキ
ャリアをD得た。
Example 2 (Preparation of Carrier D) Example 1 was repeated except that an organosilicon compound (4) represented by the following formula was used instead of the organosilicon compound (3) having a quaternary ammonium salt structure. A carrier was prepared in exactly the same manner as described above to obtain D-coated carrier having an average film thickness of 0.18 μm.

【化6】 Embedded image

【0027】実施例3(キャリアEの作成) 4級アンモニウム塩構造を有する有機ケイ素化合物
(3)の代わりに、次式で表される有機ケイ素化合物
(10)を使用する以外は、実施例1と全く同じ方法で
キャリアを作成し、平均膜厚0.19μmの枇脂コート
キャリアEを得た。
Example 3 (Preparation of Carrier E) Example 1 was repeated except that an organosilicon compound (10) represented by the following formula was used in place of the organosilicon compound (3) having a quaternary ammonium salt structure. A carrier was prepared in exactly the same manner as described above to obtain a loquat-coated carrier E having an average film thickness of 0.19 μm.

【化7】 Embedded image

【0028】実施例4(キャリアFの作成) 次式(3)で表される4級アンモニウム塩構造を有する
有機ケイ素化合物10部をブチルセロソルブ90部に溶
解し、液を作成した。 Ph3SiCH2CH2CH2+Me2(nBu)I- (3) 次に、下記処方で、液を調整した。 シリコーン樹脂U(重量平均分子量約4000)・・・固形分10%のトル エン溶液 100部
Example 4 (Preparation of Carrier F) 10 parts of an organosilicon compound having a quaternary ammonium salt structure represented by the following formula (3) was dissolved in 90 parts of butyl cellosolve to prepare a liquid. Ph 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 N + Me 2 (nBu) I - (3) Next, the following formulation was adjusted liquid. Silicone resin U (weight average molecular weight about 4000): 100 parts toluene solution with 10% solid content

【化8】 触媒(CH32Sn(OCOCH32 0.5部 液100部に対して、液20部を混合し、この液
をキャリア芯材(CuZnフェライト、粒径50μm、
飽和磁気モーメント55emu/g)に対して、流動床
型コーティング装置を用いて、100℃の雰囲気下で塗
布した。更に、この樹脂被覆粒子を、150℃で1時間
加熱してシリコーン樹脂コートキャリアFを得た。平均
膜厚は、0.18μmであった。
Embedded image 0.5 part of catalyst (CH 3 ) 2 Sn (OCOCH 3 ) 2 20 parts of liquid are mixed with 100 parts of liquid, and this liquid is mixed with a carrier core material (CuZn ferrite, particle size 50 μm,
The coating was performed under a 100 ° C. atmosphere using a fluidized bed type coating apparatus with respect to a saturated magnetic moment of 55 emu / g). Further, the resin-coated particles were heated at 150 ° C. for 1 hour to obtain a silicone resin-coated carrier F. The average film thickness was 0.18 μm.

【0029】実施例5(キャリアGの作成) 4級アンモニウム塩構造を有する有機ケイ素化合物
(3)を20部にする以外は、実施例4と全く同じ方法
でコート液を作成した。コート液100部に対し
て、コート液100部を5部/分の割合で、均一に分
散させながら添加しつつ同時に、この液をキャリア芯材
(CuZnフェライト、粒径50μm、飽和磁気モーメ
ント55emu/g)に対して、流動床型コーティング
装置を用いて、100℃の雰囲気下で、20分かけて塗
布した。更に、この樹脂被覆粒子を、150℃で1時間
加熱してシリコーン樹脂コートキャリアGを得た。平均
膜厚は、0.19μmであった。
Example 5 (Preparation of Carrier G) A coating solution was prepared in exactly the same manner as in Example 4, except that the organosilicon compound (3) having a quaternary ammonium salt structure was changed to 20 parts. To 100 parts of the coating solution, 100 parts of the coating solution was added at a rate of 5 parts / minute while being uniformly dispersed, and at the same time, the solution was mixed with a carrier core material (CuZn ferrite, particle size 50 μm, saturation magnetic moment 55 emu / g) was applied over a period of 20 minutes in a 100 ° C. atmosphere using a fluidized bed type coating apparatus. Further, the resin-coated particles were heated at 150 ° C. for 1 hour to obtain a silicone resin-coated carrier G. The average film thickness was 0.19 μm.

【0030】実施例6(キャリアHの作成) 実施例4で作成した液100部に対して、カーボン
(ライオン・アクゾケッチェンブラックEC−DJ60
0)10部を添加し、ホモミキサーで30分間分散し、
コート液を得た。次に、コート液100部に対し
て、コート液100部を5部/分の割合で、均一に分
散させながら添加しつつ同時に、この液をキャリア芯材
(CuZnフェライト、粒径50μm、飽和磁気モーメ
ント55emu/g)に対して、流動床型コーティング
装置を用いて、100℃の雰囲気下で、20分かけて塗
布した。更に、この樹脂被覆粒子を、150℃で1時間
加熱してシリコーン樹脂コートキャリアHを得た。平均
膜厚は、0.19μmであった。
Example 6 (Preparation of Carrier H) 100 parts of the liquid prepared in Example 4 was applied to carbon (Lion Akzoketjen Black EC-DJ60).
0) Add 10 parts, disperse with a homomixer for 30 minutes,
A coating solution was obtained. Next, 100 parts of the coating solution was added to 100 parts of the coating solution while being uniformly dispersed at a rate of 5 parts / minute, and at the same time, the solution was mixed with a carrier core material (CuZn ferrite, particle diameter 50 μm, With respect to a moment of 55 emu / g), coating was performed using a fluidized bed type coating apparatus under an atmosphere of 100 ° C. for 20 minutes. Further, the resin-coated particles were heated at 150 ° C. for 1 hour to obtain a silicone resin-coated carrier H. The average film thickness was 0.19 μm.

【0031】実施例7(キャリアIの作成) 実施例6で作成したコート液100部に対して、実施
例5で作成したコート液100部を5部/分の割合
で、均一に分散させながら添加しつつ同時に、この液を
キャリア芯材(CuZnフェライト、粒径50μm、飽
和磁気モーメント55emu/g)に対して、流動床型
コーティング装置を用いて、100℃の雰囲気下で、2
0分かけて塗布した。更に、この樹脂被覆粒子を、15
0℃で1時間加熱してシリコーン樹脂コートキャリアI
を得た。平均膜厚は、0.20μmであった。
Example 7 (Preparation of Carrier I) While 100 parts of the coating liquid prepared in Example 5 was uniformly dispersed at a rate of 5 parts / minute with respect to 100 parts of the coating liquid prepared in Example 6. At the same time, the solution was added to a carrier core material (CuZn ferrite, particle size 50 μm, saturation magnetic moment 55 emu / g) at 100 ° C. using a fluidized bed type coating apparatus.
It was applied over 0 minutes. Further, the resin-coated particles are
Heat at 0 ° C for 1 hour to prepare silicone resin-coated carrier I
I got The average film thickness was 0.20 μm.

【0032】応用例1 キャリアC(100部)に対して、トナーA(6部)を
加え、ボールミルで10分撹拌して現像剤を作成した
所、トナー帯電量は、−14.8μc/gであった。次
に、プリテール500(リコー社製フルカラー複写機)
を使用し、単色モードで画像出しを行った所、地肌汚れ
のない高画質が得られた。引続き、2万枚の連統コピー
テストを行った所、1万5千枚位からわずかにトナー飛
散が見られたが、2万枚後も地肌汚れのない、高画質が
維持されていた。2万枚コピーテスト後のトナー帯電量
は、−10.7μc/gであった。
Application Example 1 Toner A (6 parts) was added to carrier C (100 parts) and stirred by a ball mill for 10 minutes to prepare a developer. The toner charge amount was -14.8 μc / g. Met. Next, Pretail 500 (Ricoh full-color copier)
When the image was displayed in the single-color mode using, high image quality without background contamination was obtained. Subsequently, when a continuous copy test of 20,000 sheets was performed, toner scattering was slightly observed from about 15,000 sheets. However, even after 20,000 sheets, high image quality without background stain was maintained. The toner charge amount after the 20,000-sheet copy test was -10.7 μc / g.

【0033】比較例1 キャリアB(100部)に対して、トナーA(6部)を
加え、ボールミルで10分撹拌して現像剤を作成した
所、トナー帯電量は、−9.8μC/gであった。次
に、プリテール500(リコー社製フルカラー複写機)
を使用し、単色モードで画像出しを行った所、地肌汚れ
のない高画質が得られた。引続き、2万枚の連統コピー
テストを行った所、すぐにトナー飛散が発生し始め、2
万枚時点では、トナー飛散、地肌汚れ共に非常に悪くな
った。2万枚コピーテスト後のトナー帯電量は、−4.
7μc/gと非常に低くなっていた。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 Toner A (6 parts) was added to carrier B (100 parts) and stirred by a ball mill for 10 minutes to prepare a developer. The toner charge amount was -9.8 μC / g. Met. Next, Pretail 500 (Ricoh full-color copier)
When the image was displayed in the single-color mode using, high image quality without background contamination was obtained. After a continuous copy test of 20,000 sheets, toner scattering began to occur immediately.
At the time of 10,000 sheets, both the toner scattering and the background stain became very bad. The toner charge amount after the 20,000-sheet copy test was -4.
It was as low as 7 μc / g.

【0034】以下、応用例1と全く同じ方法で、キャリ
アD〜キャリアIの試験を実施した。応用例2〜応用例
7の結果を、表2に示す。
Hereinafter, tests of Carrier D to Carrier I were carried out in exactly the same manner as in Application Example 1. Table 2 shows the results of Application Examples 2 to 7.

【0035】[0035]

【表2】 [Table 2]

【0036】本発明のキャリアの好ましい実施態様とし
ては、次の態様が挙げられる。 (1)被覆層が4級アンモニウム塩構造を有する有機け
い素化合物を含有するメチルメタクリレート樹脂からな
るキャリア、(2)被覆層が4級アンモニウム塩構造有
機けい素化合物/パラトルエンスルホン酸残基を含有す
るメチルメタクリレート樹脂からなるキャリア、(3)
被覆層がビスアンモニウム・有機けい素化合物を含有す
るメチルメタクリレート樹脂からなるキャリア、(4)
被覆層が4級アンモニウム塩構造有する有機けい素化合
物を含有するシリコーン樹脂からなるキャリア、(5)
被覆層が厚さ方向において、芯材に近いほど4級アンモ
ニウム塩構造を有する有機けい素化合物を多く含有する
キャリア、(6)被覆層が4級アンモニウム塩構造有機
けい素化合物を含有し、表面に近いほど低抵抗物質を多
く含有しているキャリア、(7)被覆層が芯材に近いほ
ど4級アンモニウム塩構造有機けい素化合物を多く含有
し、かつ表面に近いほど低抵抗物質を多く含有するキャ
リア。
Preferred embodiments of the carrier of the present invention include the following embodiments. (1) a coating layer comprising a methyl methacrylate resin containing an organic silicon compound having a quaternary ammonium salt structure; and (2) a coating layer comprising a quaternary ammonium salt structure organic silicon compound / p-toluenesulfonic acid residue. A carrier comprising methyl methacrylate resin, (3)
(4) a carrier whose coating layer is made of a methyl methacrylate resin containing a bisammonium / organic silicon compound;
(5) a carrier comprising a silicone resin whose coating layer contains an organic silicon compound having a quaternary ammonium salt structure;
A carrier containing a larger amount of an organic silicon compound having a quaternary ammonium salt structure as the coating layer is closer to the core material in the thickness direction; (6) a coating layer containing the organic silicon compound having a quaternary ammonium salt structure, (7) The more the coating layer is closer to the core material, the more the quaternary ammonium salt structure organic silicon compound is contained, and the closer to the surface, the more the low resistance substance is contained. Carrier to do.

【0037】[0037]

【発明の効果】キャリアの樹脂被覆層中に4級アンモ
ニウム塩構造を有する特定の有機けい素化合物を含有さ
せる事 上記有機けい素化合物をシリコーン樹脂中に含有させ
る事 上記のキャリア被覆層において、層の深さ方向で、有
機けい素化合物および導伝材の濃度勾配をもたせること
により、トナーに充分な帯電を付与し、しかも経時での
帯電量の低下が少ないキャリアを提供することができ、
長時間使用してもトナー飛散、地肌汚れを生じることが
なく、高画質が維持される。
According to the present invention, a specific organic silicon compound having a quaternary ammonium salt structure is contained in a resin coating layer of a carrier. The above organic silicon compound is contained in a silicone resin. In the depth direction, by providing a concentration gradient of the organic silicon compound and the conductive material, it is possible to provide a carrier that imparts sufficient charge to the toner, and has a small decrease in the charge amount over time,
Even when used for a long time, toner scattering and background contamination do not occur, and high image quality is maintained.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 芯材表面に樹脂被覆層を有する乾式2成
分現像剤用キャリアにおいて、被覆層中に下記一般式
(I)で表される4級アンモニウム塩構造を有する有機
ケイ素化合物を含有することを特徴とする静電潜像現像
用キャリア。 【化1】 (式中、R1、R2、R3は、炭素数1〜6のアルキル
基、フェニル基又は置換フェニル基を、R4は、アルキ
ル基、置換アルキル基、脂環アルキル基、フェニル基、
置換フェニル基、ベンジル基又は置換ベンジル基を表
す。また、Xは、ハロゲン原子、ベンゼンスルホン酸残
基、置換ベンゼンスルホン酸残基、ヒドロキシナフタレ
ンスルホン酸残基、又はBPh4、BF4、ClO4又は
SbCl5を表す。nは正の整数であり、1又は2を示
す。)
1. A dry two-component developer carrier having a resin coating layer on a core material surface, wherein the coating layer contains an organosilicon compound having a quaternary ammonium salt structure represented by the following general formula (I). A carrier for developing an electrostatic latent image. Embedded image (Wherein R 1 , R 2 and R 3 represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a substituted phenyl group, and R 4 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an alicyclic alkyl group, a phenyl group,
Represents a substituted phenyl group, a benzyl group or a substituted benzyl group. Further, X represents a halogen atom, sulfonic acid residue, a substituted benzenesulfonic acid residue, hydroxy naphthalenesulfonic acid residues, or BPh 4, BF 4, a ClO 4 or SbCl 5. n is a positive integer and represents 1 or 2. )
【請求項2】 被覆層中に含有される化合物(I)のX
が、パラトルエンスルホン酸残基であることを特徴とす
る請求項1記載の静電潜像現像用キャリア。
2. X of the compound (I) contained in the coating layer
2. The carrier for developing an electrostatic latent image according to claim 1, wherein is a p-toluenesulfonic acid residue.
【請求項3】 被覆層中に含有される化合物(I)が、
ビスアンモニウム化合物であることを特徴とする請求項
1記載の静電潜像現像用キャリア。
3. The compound (I) contained in the coating layer,
2. The electrostatic latent image developing carrier according to claim 1, wherein the carrier is a bisammonium compound.
【請求項4】 樹脂被覆層がシリコーン樹脂よりなるこ
とを特徴とする請求項1記載の静電潜像現像用キャリ
ア。
4. The electrostatic latent image developing carrier according to claim 1, wherein the resin coating layer is made of a silicone resin.
【請求項5】 被覆材の厚さ方向において、芯材に近い
ほど化合物(I)の含有量が多いことを特徴とする請求
項4記載の静電潜像現像用キャリア。
5. The carrier for developing an electrostatic latent image according to claim 4, wherein in the thickness direction of the coating material, the content of the compound (I) increases as the distance from the core material increases.
【請求項6】 被覆材の厚さ方向において、表層に近い
ほど低抵抗物質が多く含有されていることを特徴とする
請求項4記載の静電潜像現像用キャリア。
6. The carrier for developing an electrostatic latent image according to claim 4, wherein the lower the resistance material is, the closer to the surface layer in the thickness direction of the coating material.
【請求項7】 被覆材の厚さ方向において、芯材に近い
ほど化合物(I)の量が多く、かつ、表層に近いほど低
抵抗物質が多く含有されていることを特徴とする請求項
4記載の静電潜像現像用キャリア。
7. The method according to claim 4, wherein in the thickness direction of the coating material, the amount of the compound (I) is larger as the material is closer to the core material, and the lower resistance material is more contained as the material is closer to the surface layer. The carrier for developing an electrostatic latent image according to the above.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002287431A (en) * 2001-03-27 2002-10-03 Ricoh Co Ltd Electrostatic latent image developing carrier, developer and method for developing and developing device which uses the same
JP2004347654A (en) * 2003-05-20 2004-12-09 Fuji Xerox Co Ltd Electrostatic latent image developer and image forming method
JP2009180841A (en) * 2008-01-29 2009-08-13 Sharp Corp Carrier, method for manufacturing carrier, two-component developer, developing device and image forming apparatus equipped with the same

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