JP2000223260A - High-frequency heating device - Google Patents

High-frequency heating device

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JP2000223260A
JP2000223260A JP2583299A JP2583299A JP2000223260A JP 2000223260 A JP2000223260 A JP 2000223260A JP 2583299 A JP2583299 A JP 2583299A JP 2583299 A JP2583299 A JP 2583299A JP 2000223260 A JP2000223260 A JP 2000223260A
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opening
impedance
heating chamber
heated
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Tomotaka Nobue
等隆 信江
Koji Yoshino
浩二 吉野
Akiyoshi Fukumoto
明美 福本
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To arbitrarily and variably control the direction of a microwave emitted into a heating chamber and accelerate the equalization of the heating of a heated object. SOLUTION: This device is provided with a heating chamber 11 for receiving a heated object 10, a high-frequency wave generation means 17, an opening part 20 formed in the vicinity of a power feeding hole 19, a slot part 21 connected to the opening part 20, and an impedance varying means 22 formed in the slot part 21 for varying the impedance of the opening part 20. The impedance of the opening part 20 is varied by changing the position of the impedance varying means 22, and the radiation direction of the microwave radiated from the power feeding hole 19 is varied, so that the incident position of the microwave on the heated object 10, and the equalization of the heating of the heated object 10 is thereby furthered.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被加熱物を誘電加
熱する高周波加熱装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-frequency heating apparatus for dielectrically heating an object to be heated.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の高周波加熱装置は、加熱室内に収
納された被加熱物の加熱の均一化を図る手段として、電
波攪拌方式、被加熱物回転方式、複数給電方式あるいは
加熱室壁面を凹凸形状にするなどが実用化されていた。
2. Description of the Related Art A conventional high-frequency heating apparatus employs a radio wave stirring method, a rotating method for a heated object, a plurality of power feeding methods, or a method in which the wall surface of a heated chamber is uneven, as means for uniformizing the heating of the heated object housed in a heating chamber. Making it into a shape has been put to practical use.

【0003】電波攪拌方式は、加熱室内に設けた金属性
の板状羽根を回転駆動させる構成からなる。この方式
は、加熱室を形成する金属境界面や被加熱物の表面で反
射を繰り返しながら伝搬しているマイクロ波が金属性の
板状羽根によっても反射する。この金属性の板状羽根か
らのマイクロ波の反射は、板状羽根が無い場合と比べ
て、加熱室内でのマイクロ波の伝搬経路を増加させるも
のであり、被加熱物全体にマイクロ波を乱反射させて被
加熱物の加熱の均一化を促進させるものである。
[0003] The radio wave stirring system has a configuration in which a metallic plate-like blade provided in a heating chamber is rotationally driven. In this method, a microwave propagating while being repeatedly reflected on a metal boundary surface forming a heating chamber or on a surface of an object to be heated is also reflected by a metallic plate-like blade. The reflection of the microwaves from the metallic plate-like blades increases the propagation path of the microwaves in the heating chamber as compared with the case without the plate-like blades, and irregularly reflects the microwaves on the entire object to be heated. This promotes uniform heating of the object to be heated.

【0004】被加熱物回転方式は、被加熱物を載置する
載置皿を回転駆動させる構成からなる。この方式では、
加熱室構造とその内部に収納した被加熱物の種類や形状
等により決定された加熱室内に生じるマイクロ波の伝搬
分布に対して、被加熱物の方を移動させ被加熱物全体に
マイクロ波を伝搬させ被加熱物の加熱の均一化を促進さ
せるものである。
[0004] The heating object rotating system has a configuration in which a mounting plate on which an object to be heated is mounted is rotated. In this scheme,
With respect to the microwave propagation distribution generated in the heating chamber, which is determined by the type and shape of the heating chamber and the type of heating target housed in the heating chamber, move the heating target and apply microwaves to the entire heating target. The heat is propagated to promote uniform heating of the object to be heated.

【0005】複数給電方式は、加熱室を形成する金属境
界面の複数の個所からマイクロ波を給電する構成からな
る。この方式は、単一の給電と比べて最も大きな特徴
は、位相の異なった複数のマイクロ波が加熱室内に給電
されることである。加熱室内に位相の異なるマイクロ波
を伝搬させることにより、上記電波攪拌方式と同様に加
熱室内にマイクロ波の乱反射状態を生じさせるものであ
る。
[0005] The multiple power supply system has a configuration in which microwaves are supplied from a plurality of locations on a metal boundary surface forming a heating chamber. The most significant feature of this method as compared with a single power supply is that a plurality of microwaves having different phases are supplied to the heating chamber. By transmitting microwaves having different phases into the heating chamber, a diffused reflection state of the microwave is generated in the heating chamber as in the radio wave stirring method.

【0006】加熱室壁面の凹凸形状方式は、加熱室を形
成する金属境界面に凹凸を設けた構成からなる。この方
式は、凹凸を有する金属境界面によってマイクロ波を乱
反射させるものである。
[0006] The method of forming an irregular shape on the wall surface of the heating chamber has a structure in which irregularities are provided on a metal boundary surface forming the heating chamber. In this method, microwaves are irregularly reflected by a metal interface having irregularities.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
電波攪拌方式の高周波加熱装置は、金属性板状羽根によ
って反射されるマイクロ波を加熱室内に均一に乱反射さ
せることに物理的限界がある。これは、マイクロ波の伝
搬速度に対して、金属性板状羽根の回転速度があまりに
遅いことによるものであり、金属性板状羽根の回転速度
を制御したとしても被加熱物全体に均一にマイクロ波を
伝搬させることは非常に難しい。従って、被加熱物の種
類や量によっては、不測の不均一な加熱分布が生じるこ
とを抑制することが難しいという課題を有していた。
However, there is a physical limit in the conventional radio frequency stirring type high frequency heating apparatus in that the microwave reflected by the metallic plate-like blade is uniformly and irregularly reflected in the heating chamber. This is because the rotation speed of the metallic plate-like blade is too slow relative to the microwave propagation speed. It is very difficult to propagate waves. Therefore, there is a problem that it is difficult to suppress occurrence of unexpected and uneven heating distribution depending on the type and amount of the object to be heated.

【0008】また、被加熱物回転方式は、被加熱物の種
類や量によって加熱室内に生じるマイクロ波分布は自ず
と決まってしまうため、一つの被加熱物に対応して生じ
たマイクロ波分布がその被加熱物を均一に加熱すること
に対して不適であってもその電磁波分布を変更すること
ができないという課題を有していた。
In the rotating method of the heated object, the microwave distribution generated in the heating chamber depends on the kind and amount of the heated object. Even if it is unsuitable for heating an object to be heated uniformly, there is a problem that its electromagnetic wave distribution cannot be changed.

【0009】複数給電方式は、理想的な挙動としては前
述したとおりであるが、一つの給電部から放射されるマ
イクロ波の挙動が他の給電部から放射されたマイクロ波
からの影響を受ける。このため、給電部が複数個あって
も、その複数の給電構成によって決定される特定のマイ
クロ波伝搬が加熱室内に生じるので、被加熱物の種類や
量によっては、不測の不均一な加熱分布が生じることを
抑制することが難しいという課題を有していた。
Although the multiple power feeding method has the ideal behavior as described above, the behavior of the microwave radiated from one power feeding unit is affected by the microwave radiated from the other power feeding unit. For this reason, even if there are a plurality of power supply units, specific microwave propagation determined by the plurality of power supply configurations occurs in the heating chamber, and depending on the type and amount of the object to be heated, an unexpected uneven heating distribution may occur. There is a problem that it is difficult to suppress the occurrence of the problem.

【0010】さらに、加熱室壁面の凹凸形状構造は被加
熱物の加熱の均一化を促進できうる乱反射を加熱室内に
生じさせるには、壁面全体にいわゆるゴルフボールのデ
ィンプルのような凹凸を配するとともにそのディンプル
の深さ寸法あるいは突出寸法を使用するマイクロ波の波
長に対して無視できない寸法、例えば1/10波長寸法
以上、にすることが必要である。この結果、加熱室の構
成が複雑となり実用性に難しい構成を強いられるという
課題を有していた。
Further, in order to generate irregular reflection in the heating chamber which can promote uniform heating of an object to be heated, the uneven structure on the wall of the heating chamber is provided with irregularities such as so-called dimples of a golf ball on the entire wall. In addition, it is necessary to make the depth dimension or protrusion dimension of the dimple a dimension that cannot be ignored with respect to the wavelength of the microwave to be used, for example, 1/10 wavelength dimension or more. As a result, there has been a problem that the configuration of the heating chamber becomes complicated and a configuration that is difficult for practical use is forced.

【0011】本発明は、加熱室に放射させるマイクロ波
の方向を故意に可変制御し、被加熱物の加熱の均一化を
促進する高周波加熱装置を提供するものである。
The present invention provides a high-frequency heating apparatus which intentionally variably controls the direction of microwaves radiated to a heating chamber to promote uniform heating of an object to be heated.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の高周波加熱装置
は上記課題を解決するために、被加熱物を収納する加熱
室と、マイクロ波を発生させる高周波発生手段と、前記
高周波発生手段が発生したマイクロ波を前記加熱室に放
射する放射手段と、前記放射手段の近傍の前記加熱室を
形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部に接続され
終端が閉じられた溝部と、前記溝部内に設け前記開孔部
におけるインピーダンスを変えるインピーダンス可変手
段とを備えている。
In order to solve the above-mentioned problems, a high-frequency heating apparatus according to the present invention includes a heating chamber for accommodating an object to be heated, a high-frequency generating means for generating microwaves, and a high-frequency generating means for generating the microwaves. Radiating means for radiating the microwaves to the heating chamber, an opening provided in a wall forming the heating chamber in the vicinity of the radiating means, a groove connected to the opening and a closed end, Impedance changing means provided in the groove to change impedance at the opening.

【0013】上記発明によれば、インピーダンス可変手
段により開孔部の形成されるインピーダンスは極めて小
さな値(理想的には零)から極めて大きな値(理想的に
は無限大)に可変制御される。一方、放射手段から加熱
室内に放射されるマイクロ波は、この開孔部に形成され
たインピーダンス値の影響を受ける。インピーダンス値
が極めて小さい値の場合は、開孔部を金属壁面とみなし
て所定の方向にマイクロ波が放射される。一方インピー
ダンス値が極めて大きな値の場合、開孔部によって加熱
室壁面を流れる高周波電流が遮断される。これにより、
開孔部側の加熱室壁面は放射されるマイクロ波との電磁
場結合ができなくなり、放射手段から放射されるマイク
ロ波は、開孔部を避ける方向に放射される。つまり、開
孔部のインピーダンス値を可変することにより、放射手
段からのマイクロ波の放射方向が変わる。これにより、
被加熱物へのマイクロ波の入射場所を変えることがで
き、被加熱物の加熱の均一化を促進させることができ
る。
According to the invention, the impedance formed by the impedance varying means is variably controlled from an extremely small value (ideally zero) to an extremely large value (ideally infinity). On the other hand, the microwave radiated into the heating chamber from the radiating means is affected by the impedance value formed in the opening. When the impedance value is extremely small, microwaves are radiated in a predetermined direction by regarding the opening as a metal wall surface. On the other hand, when the impedance value is extremely large, the high-frequency current flowing through the wall of the heating chamber is cut off by the opening. This allows
The wall of the heating chamber on the side of the opening cannot be coupled to the radiated microwave by an electromagnetic field, and the microwave radiated from the radiating means is radiated in a direction avoiding the opening. That is, by changing the impedance value of the opening, the radiation direction of the microwave from the radiation means changes. This allows
The location where microwaves are incident on the object to be heated can be changed, and uniform heating of the object to be heated can be promoted.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1の高周波加熱装
置は、被加熱物を収納する加熱室と、マイクロ波を発生
させる高周波発生手段と、前記高周波発生手段が発生し
たマイクロ波を前記加熱室に放射する放射手段と、前記
放射手段の近傍の前記加熱室を形成する壁面に設けた開
孔部と、前記開孔部に接続され終端が閉じられた溝部
と、前記溝部内に設け前記開孔部におけるインピーダン
スを変えるインピーダンス可変手段とを備えている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A high-frequency heating apparatus according to claim 1 of the present invention comprises a heating chamber for accommodating an object to be heated, a high-frequency generating means for generating microwaves, and a microwave generated by the high-frequency generating means. A radiating unit that radiates to the heating chamber, an opening provided in a wall forming the heating chamber in the vicinity of the radiating unit, a groove connected to the opening and having a closed end, and provided in the groove. Impedance changing means for changing the impedance at the opening.

【0015】そして、インピーダンス可変手段により開
孔部の形成されるインピーダンスは極めて小さな値(理
想的には零)から極めて大きな値(理想的には無限大)
に可変制御される。一方、放射手段から加熱室内に放射
されるマイクロ波は、この開孔部に形成されたインピー
ダンス値の影響を受ける。インピーダンス値が極めて小
さい値の場合は、開孔部を金属壁面とみなして所定の方
向にマイクロ波が放射される。一方インピーダンス値が
極めて大きな値の場合、開孔部によって加熱室壁面を流
れる高周波電流が遮断される。これにより、開孔部側の
加熱室壁面は放射されるマイクロ波との電磁場結合がで
きなくなり、放射手段から放射されるマイクロ波は、開
孔部を避ける方向に放射される。つまり、開孔部のイン
ピーダンス値を可変することにより、放射手段からのマ
イクロ波の放射方向が変わる。これにより、被加熱物へ
のマイクロ波の入射場所を変えることができ、被加熱物
の加熱の均一化を促進させることができる。
The impedance formed by the opening by the impedance varying means is changed from a very small value (ideally zero) to a very large value (ideally infinite).
Is variably controlled. On the other hand, the microwave radiated into the heating chamber from the radiating means is affected by the impedance value formed in the opening. When the impedance value is extremely small, microwaves are radiated in a predetermined direction by regarding the opening as a metal wall surface. On the other hand, when the impedance value is extremely large, the high-frequency current flowing through the wall of the heating chamber is cut off by the opening. As a result, the wall of the heating chamber on the side of the opening cannot be coupled to the radiated microwave by the electromagnetic field, and the microwave radiated from the radiating means is radiated in a direction avoiding the opening. That is, by changing the impedance value of the opening, the radiation direction of the microwave from the radiation means changes. This makes it possible to change the position where microwaves are incident on the object to be heated, and to promote uniform heating of the object to be heated.

【0016】また、請求項2の高周波加熱装置は、放射
手段は、加熱室を形成する壁面に設けた給電孔とし、前
記給電孔に隣接して開孔部を配設した構成としている。
Further, in the high frequency heating apparatus according to a second aspect, the radiating means is configured such that a power supply hole provided on a wall surface forming the heating chamber and an opening is provided adjacent to the power supply hole.

【0017】そして、給電孔から放射されるマイクロ波
の放射方向は給電部出口の金属壁面形状によって決定さ
れている。給電孔近傍に設けた開孔部のインピーダンス
を変化させることにより、マイクロ波は開孔部を避ける
方向に放射させることができる。この結果、被加熱物へ
のマイクロ波の入射位置を変化させて被加熱物の加熱の
均一化を促進できる。
The radiation direction of the microwave radiated from the power supply hole is determined by the shape of the metal wall surface at the power supply outlet. The microwave can be radiated in a direction avoiding the opening by changing the impedance of the opening provided near the power supply hole. As a result, it is possible to change the incident position of the microwave to the object to be heated and promote uniform heating of the object to be heated.

【0018】また請求項3の高周波加熱装置は、給電孔
を挟んで開孔部を配設した構成としている。そして、各
開孔部のインピーダンスを可変させることで、給電孔か
らのマイクロ波の放射方向をより広い範囲に渡って変化
させることができる。これにより、様々な形状の被加熱
物に応じて放射方向を選択制御して被加熱物の加熱の均
一化をより促進させることができる。
Further, the high-frequency heating device according to the third aspect has a configuration in which an opening is provided with the power supply hole interposed therebetween. By changing the impedance of each opening, the radiation direction of the microwave from the power supply hole can be changed over a wider range. This makes it possible to selectively control the radiation direction according to the object to be heated having various shapes, and to promote uniform heating of the object to be heated.

【0019】また、請求項4の高周波加熱装置は、放射
手段は、金属板からなるアンテナとし、前記アンテナに
対面する加熱室壁面に開孔部を配設した構成としてい
る。そして、アンテナと加熱室の金属壁面との間に生じ
ている電界は開孔部のインピーダンスを可変することで
電界の結合が生じたり、結合が解かれたりする。結合が
解かれるとその領域のアンテナにマイクロ波が伝搬しな
くなり、マイクロ波の放射が抑制される。これにより、
開孔部のインピーダンス値を変化させることで、アンテ
ナの放射分布を変化させることができる。放射分布を可
変させることで加熱室内のマイクロ波伝搬が変化し、被
加熱物へのマイクロ波の入射位置を変化させることがで
き、被加熱物の加熱の均一化を促進させることができ
る。
Further, in the high-frequency heating apparatus according to the fourth aspect, the radiating means is an antenna made of a metal plate, and an opening is provided on a wall surface of the heating chamber facing the antenna. Then, the electric field generated between the antenna and the metal wall surface of the heating chamber causes the electric field to be coupled or broken by changing the impedance of the opening. When the coupling is broken, the microwave does not propagate to the antenna in that region, and the radiation of the microwave is suppressed. This allows
By changing the impedance value of the aperture, the radiation distribution of the antenna can be changed. By changing the radiation distribution, the microwave propagation in the heating chamber changes, the incident position of the microwave on the object to be heated can be changed, and uniform heating of the object to be heated can be promoted.

【0020】また、請求項5の高周波加熱装置は、アン
テナは回転駆動される構成としている。これにより、ア
ンテナからのマイクロ波の放射分布を可変するとともに
アンテナから放射されたマイクロ波が加熱室内を伝搬し
て開孔部に入射した時にもマイクロ波の伝搬を変化させ
ることができ、加熱室内のマイクロ波の伝搬をよりラン
ダムにすることができる。この結果、被加熱物の加熱の
均一化をより促進させることができる。
The high-frequency heating device according to the fifth aspect is configured such that the antenna is driven to rotate. This makes it possible to change the microwave radiation distribution from the antenna and change the microwave propagation even when the microwave radiated from the antenna propagates through the heating chamber and enters the opening. Microwave propagation can be made more random. As a result, uniform heating of the object to be heated can be further promoted.

【0021】また、請求項6の高周波加熱装置は、回転
駆動のアンテナにおいて、開孔部は複数配設とし、少な
くとも1組は、アンテナの回転軸を中心として略180
°の間隔でもって配設された構成としている。これによ
り、アンテナからのマイクロ波の放射分布に対称性を持
たせたり非対称性にしたりすることができる。この結
果、被加熱物の形状や量に応じて加熱の均一化をより促
進させることができる。
According to a sixth aspect of the present invention, in the high-frequency heating device, in the rotary drive antenna, a plurality of apertures are provided, and at least one set of the high-frequency heating device has at least one opening about 180 degrees around the rotation axis of the antenna.
It is configured to be arranged at an interval of °. As a result, the microwave radiation distribution from the antenna can be made symmetric or asymmetric. As a result, uniform heating can be further promoted according to the shape and amount of the object to be heated.

【0022】[0022]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0023】(実施例1)図1および図2は本発明の実
施例1を示す高周波加熱装置の構成図、図3は本発明の
インピーダンス可変手段による溝部内のマイクロ波の挙
動を示す特性図である。
(Embodiment 1) FIGS. 1 and 2 are diagrams showing the configuration of a high-frequency heating apparatus according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 3 is a characteristic diagram showing the behavior of microwaves in a groove by the impedance variable means of the present invention. It is.

【0024】図1および図2において、被加熱物10を
収納する加熱室11は金属材料から構成された金属境界
部である右側壁面12、左側壁面13、奥壁面14、上
部壁面15、底部壁面16及び被加熱物を加熱室11内
に出し入れする開閉壁面である前面開閉壁面(図示して
いない)とにより略直方体形状に構成されている。17
はマイクロ波を発生させる高周波発生手段であるマグネ
トロンであり、マグネトロン17が発生したマイクロ波
は導波管18を伝搬して加熱室11の右側壁面12に配
設した給電孔19から加熱室11内に放射される。給電
孔19に近接して開孔部20を配設している。21は溝
部で開孔部20を一端とし、他端を閉じた形状からな
り、その内部には溝部21の壁面に支持された回転自在
のインピーダンス可変手段22が配設されている。
In FIGS. 1 and 2, a heating chamber 11 for accommodating an object to be heated 10 is a right side wall 12, a left side wall 13, a back wall 14, an upper wall 15, a bottom wall, which are metal boundaries formed of a metal material. 16 and a front opening / closing wall (not shown), which is an opening / closing wall through which an object to be heated is put in and out of the heating chamber 11, is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. 17
Is a magnetron which is a high-frequency generating means for generating a microwave. The microwave generated by the magnetron 17 propagates through the waveguide 18 and passes through a power supply hole 19 provided on the right wall surface 12 of the heating chamber 11 so as to generate a microwave. Is radiated. An opening 20 is provided near the power supply hole 19. Reference numeral 21 denotes a groove having a shape with the opening 20 at one end and the other end closed, and a rotatable impedance variable means 22 supported on the wall surface of the groove 21 is disposed inside the groove.

【0025】インピーダンス可変手段22は、低誘電損
失材料の平板にて構成し、その比誘電率は約5以上、好
ましくは15以下、板厚さは比誘電率を大きくすると薄
くすることができるが、機械的強度を確保するために5
mm前後にて構成している。利用できる材料は、アルミ
ナ系、またはムライト系のセラミックス並びにポリフェ
ニレンスルフィド(PPS)系、ポリエチレン(PE)
系またはポリスチレン(PS)系のそれぞれの複合材料
である耐熱樹脂材料である。
The impedance varying means 22 is made of a flat plate made of a low dielectric loss material, and its relative permittivity is about 5 or more, preferably 15 or less. The plate thickness can be reduced by increasing the relative permittivity. 5 to ensure mechanical strength
mm. Available materials are alumina or mullite ceramics, polyphenylene sulfide (PPS), polyethylene (PE)
This is a heat-resistant resin material which is a composite material of a polystyrene (PS) type or a polystyrene (PS) type.

【0026】23は、被加熱物10の載置皿である。こ
の載置皿は、モータによって回転駆動させる構成として
もよい。
Reference numeral 23 denotes a plate on which the object to be heated 10 is placed. The mounting plate may be configured to be rotationally driven by a motor.

【0027】次に図3を用いて、インピーダンス可変手
段による開孔部のインピーダンス値を変化させる原理に
ついて説明する。まず構成について述べる。
Next, the principle of changing the impedance value of the opening by the impedance variable means will be described with reference to FIG. First, the configuration will be described.

【0028】開孔部20を一端とする溝部21は、開孔
部20と空間的に連続して形成し、開孔部20を覆う金
属材料からなる壁面で構成されている。溝部21の終端
は溝板24により閉じられている。また、溝部21内に
はインピーダンス可変手段22が設けられている。
The groove 21 having the opening 20 as one end is formed in a spatially continuous manner with the opening 20 and is formed of a wall surface made of a metal material covering the opening 20. The end of the groove 21 is closed by a groove plate 24. In the groove 21, an impedance varying means 22 is provided.

【0029】このインピーダンス可変手段22は低誘電
損失材料からなる板状構造からなり、その両端に溝部壁
面に設けた孔を貫通させる支持部を設けている。支持部
により、インピーダンス可変手段22は溝部壁面にて支
持されている。インピーダンス可変手段20を回転駆動
するために、一方のインピーダンス可変手段の支持部に
出力軸を連結させたモータ(図示していない)を配設す
る。
The impedance varying means 22 has a plate-like structure made of a material having a low dielectric loss, and has a support portion at both ends thereof for penetrating a hole provided in the wall surface of the groove. The impedance varying means 22 is supported by the groove wall surface by the support. In order to rotationally drive the impedance variable means 20, a motor (not shown) having an output shaft connected to a support of one of the impedance variable means is provided.

【0030】なお、インピーダンス可変手段の回転角度
を判定するための手段として、モータの出力軸と一体的
に構成した支持角度判定手段を付帯させたり、モータと
してステッピングモータを使用することができる。
As means for judging the rotation angle of the impedance variable means, a support angle judging means integrally formed with the output shaft of the motor may be provided, or a stepping motor may be used as the motor.

【0031】次に各部の動作と作用について説明する。
開孔部20は加熱室11内を伝搬するマイクロ波によっ
て生じる加熱室を形成する各金属壁面を流れる高周波電
流の流れを分断する方向に長大な略矩形形状にて構成し
ている。開孔部20のインピーダンスを零にすると高周
波電流の流れは分断されない。従ってマイクロ波の伝搬
は、開孔部20の存在を無視して何ら変化しない。一
方、開孔部20のインピーダンスを無限大にすることで
高周波電流が流れなくなるのでマイクロ波伝搬は所期の
特性から変化する。また、開孔部20におけるマイクロ
波の入射波と反射波との位相差は、開孔部のインピーダ
ンスが零の場合180度であり、開孔部のインピーダン
スが無限大の場合0度となる。従って開孔部のインピー
ダンスを変えることで加熱室内に生じるマイクロ波は多
重伝搬し、さまざまなマイクロ波分布を形成させること
ができ、加熱室11内に載置された被加熱物の加熱の均
一化を促進できる。
Next, the operation and operation of each unit will be described.
The opening 20 is formed in a substantially rectangular shape that is long in a direction in which a flow of a high-frequency current flowing through each metal wall forming the heating chamber generated by the microwave propagating in the heating chamber 11 is cut off. When the impedance of the opening 20 is reduced to zero, the flow of the high-frequency current is not interrupted. Therefore, the propagation of the microwave does not change at all regardless of the existence of the aperture 20. On the other hand, by setting the impedance of the opening 20 to infinity, the high-frequency current stops flowing, so that the microwave propagation changes from the expected characteristics. Further, the phase difference between the incident wave and the reflected wave of the microwave at the aperture 20 is 180 degrees when the impedance of the aperture is zero, and is 0 degrees when the impedance of the aperture is infinite. Therefore, by changing the impedance of the aperture, the microwave generated in the heating chamber is multiply propagated, and various microwave distributions can be formed, and the heating of the object to be heated placed in the heating chamber 11 is made uniform. Can be promoted.

【0032】次にインピーダンス可変手段22を含む溝
部21について説明する。この溝部21の本実施例の形
状としては、溝深さL1が40mm,L2が20mm、
溝高さ(開孔部の高さ)Hが30mm、開孔部の幅が8
0mmである。また、インピーダンス可変手段22は、
比誘電率が12.3、板厚さが6.2mmであり、溝部
21の略中央に配設している。
Next, the groove 21 including the impedance varying means 22 will be described. The shape of the groove 21 in this embodiment is such that the groove depth L1 is 40 mm, L2 is 20 mm,
The groove height (height of the opening) H is 30 mm, and the width of the opening is 8
0 mm. Further, the impedance variable means 22 includes:
The dielectric constant is 12.3, the plate thickness is 6.2 mm, and it is disposed substantially at the center of the groove 21.

【0033】このような構成からなるインピーダンス可
変手段22を含む溝部21内に生じるマイクロ波分布を
図3に示す。図3において、実線25はインピーダンス
可変手段22の幅広面22aを溝部21の深さ方向に対
して垂直に設けた時のマイクロ波分布を示し、開孔部2
0に生じさせるインピーダンスを極めて小さい値(理想
的には零)としている。また、幅広面22aを溝部21
の深さ方向に対して平行に設けた場合のマイクロ波分布
を破線26にて示す。この場合、開孔部20に生じるイ
ンピーダンスは極めて大きな値(理想的には無限大)と
している。
FIG. 3 shows a microwave distribution generated in the groove 21 including the impedance varying means 22 having such a configuration. In FIG. 3, a solid line 25 indicates a microwave distribution when the wide surface 22 a of the impedance varying unit 22 is provided perpendicular to the depth direction of the groove 21.
The impedance generated at zero is an extremely small value (ideally zero). In addition, the wide surface 22a is
The broken line 26 indicates the microwave distribution in the case where the microwave distribution is provided in parallel with the depth direction. In this case, the impedance generated in the opening 20 has an extremely large value (ideally infinite).

【0034】次に以上の構成からなる本発明の高周波加
熱装置の動作と作用について図1および図2を用いて説
明する。図1はインピーダンス可変手段22を溝部21
の深さ方向に対して垂直に配設した場合であり、図2は
インピーダンス可変手段22を溝部21の深さ方向に対
して平行に配設した場合のマイクロ波伝搬挙動をそれぞ
れ示している。
Next, the operation and operation of the high-frequency heating apparatus of the present invention having the above-described structure will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows that the impedance variable means 22 is
FIG. 2 shows the microwave propagation behavior when the impedance varying means 22 is arranged parallel to the depth direction of the groove 21. FIG.

【0035】図1においては、開孔部20のインピーダ
ンス値が極めて小さい値であり、給電孔19から加熱室
11内に放射されるマイクロ波の放射方向は開孔部20
の影響を受けずに給電孔19周辺の構造によって決定さ
れた方向に放射していく。一方、図2においては、開孔
部20のインピーダンス値が極めて大きな値としたこと
により、給電孔19から放射されるマイクロ波は開孔部
20側の加熱室金属壁面との結合が解かれるので、開孔
部20を設けた位置とは反対側に片寄って図示したよう
な方向に放射される。
In FIG. 1, the impedance value of the aperture 20 is extremely small, and the radiation direction of the microwave radiated from the power supply hole 19 into the heating chamber 11 depends on the direction of the aperture 20.
Irradiates in the direction determined by the structure around the power supply hole 19 without being affected by the above. On the other hand, in FIG. 2, since the impedance value of the opening 20 is set to an extremely large value, the microwave radiated from the feed hole 19 is disconnected from the metal wall surface of the heating chamber on the opening 20 side. , And is radiated in the direction shown in the figure, with the offset being offset to the side opposite to the position where the opening 20 is provided.

【0036】このように給電孔19からのマイクロ波の
放射方向を可変させることで被加熱物10に入射するマ
イクロ波の位置を変化させることができる。この被加熱
物10上でのマイクロ波入射位置の変化により、被加熱
物10の加熱の均一化を促進させることができる。
As described above, by changing the radiation direction of the microwave from the feed hole 19, the position of the microwave incident on the object to be heated 10 can be changed. By changing the microwave incident position on the object to be heated 10, uniform heating of the object to be heated 10 can be promoted.

【0037】このインピーダンス可変手段の位置制御
は、被加熱物の種類、形状あるいは量に応じて予め分類
区分し、専用の加熱メニュースイッチを装置本体の操作
部に配置させることで実用することができる。
The position control of the impedance variable means can be put to practical use by classifying in advance according to the type, shape or amount of the object to be heated, and arranging a dedicated heating menu switch on the operation section of the apparatus main body. .

【0038】なお、インピーダンス可変手段22の回転
位置は、加熱終了後、所定の位置(たとえば開孔部20
のインピーダンスを極めて小さい値にする位置)にリセ
ットさせる制御を付帯させることが好ましい。
The rotation position of the impedance variable means 22 is set at a predetermined position (for example, the opening 20) after the heating is completed.
It is preferable to add a control for resetting the impedance to a value at which the impedance becomes extremely small.

【0039】(実施例2)次に本発明の実施例2につい
て、図4を用いて説明する。実施例2が実施例1と相違
する構成は、開孔部27を追加配設し、給電孔19を挟
んで開孔部を配設したことである。28は開孔部27を
一端とする溝部、29は溝部28内に配設し開孔部27
のインピーダンスを変化させるインピーダンス可変手段
である。
(Embodiment 2) Next, Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIG. The configuration of the second embodiment differs from that of the first embodiment in that an opening 27 is additionally provided and an opening is provided with the power supply hole 19 interposed therebetween. Reference numeral 28 denotes a groove having the opening 27 as one end, and reference numeral 29 denotes a groove provided in the groove 28.
This is an impedance varying means for changing the impedance of.

【0040】そして、二つの開孔部のインピーダンスを
それぞれ可変制御することで、給電孔19からのマイク
ロ波の放射方向をより広範囲に変化させることができ
る。たとえば、図示したように、開孔部27のインピー
ダンス値を極めて大きな値とし、開孔部20のインピー
ダンス値を極めて小さな値とすることで、マイクロ波の
放射方向を図示したように給電孔19の下方側に制御す
ることができる。この結果、偏平な被加熱物の場合にお
いても被加熱物の表面全体にマイクロ波を入射させるこ
とができ、被加熱物の加熱の均一化を促進させることが
できる。
By variably controlling the impedances of the two openings, the radiation direction of the microwave from the feed hole 19 can be changed over a wider range. For example, as illustrated, the impedance value of the aperture 27 is set to an extremely large value, and the impedance value of the aperture 20 is set to an extremely small value. It can be controlled downward. As a result, even in the case of a flat object to be heated, the microwave can be incident on the entire surface of the object to be heated, and uniform heating of the object to be heated can be promoted.

【0041】(実施例3)次に実施例3について、図5
を用いて説明する。実施例3が上記の実施例と相違する
構成は、マイクロ波を放射させる手段として金属板から
なるアンテナ30としたことである。マグネトロン17
が発生したマイクロ波は導波管31を伝搬し、その他端
近くに配設した金属支柱32に結合する。この金属支柱
32の先端には金属板からなるアンテナ30が配設され
ている。金属支柱32の他端は金属支柱32を回転駆動
させるモータ33の出力軸に連結されている。金属支柱
32を貫通させる開孔34が加熱室11の金属壁面に設
けられており、開孔34には金属支柱32を回転支持さ
せるとともに開孔34を遮蔽する構成からなる誘電体材
料の遮蔽手段(図示していない)が配設されている。
(Embodiment 3) Next, Embodiment 3 will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG. Embodiment 3 is different from the above-described embodiment in that an antenna 30 made of a metal plate is used as a means for radiating microwaves. Magnetron 17
The generated microwave propagates through the waveguide 31 and couples to the metal column 32 disposed near the other end. An antenna 30 made of a metal plate is disposed at the tip of the metal support 32. The other end of the metal column 32 is connected to an output shaft of a motor 33 that drives the metal column 32 to rotate. An opening 34 for penetrating the metal column 32 is provided in the metal wall surface of the heating chamber 11, and the opening 34 is configured to rotatably support the metal column 32 and shield the opening 34. (Not shown) are provided.

【0042】また、金属板のアンテナ30に対面する加
熱室壁面には開孔部35が設けられている。この開孔部
35を一端とする溝部36が配され、溝部36内には開
孔部35のインピーダンスを変化させるインピーダンス
可変手段37を配設している。
An opening 35 is provided on the wall surface of the heating chamber facing the antenna 30 made of a metal plate. A groove 36 having one end of the opening 35 is provided, and an impedance changing means 37 for changing the impedance of the opening 35 is provided in the groove 36.

【0043】以上の構成において、金属板のアンテナ3
0を伝搬してアンテナ30から放射されるマイクロ波の
存在下において、金属板からなるアンテナ30と加熱室
金属壁面との間には高周波電界が生じる。アンテナ30
と加熱室の金属壁面との間に生じている高周波電界は開
孔部35のインピーダンス値が極めて大きな値になると
結合が解かれる。結合が解かれるとその領域のアンテナ
30にマイクロ波が伝搬されなくなり、マイクロ波の放
射が抑制される。図5は、開孔部35のインピーダンス
が極めて小さな値の時のアンテナ30からのマイクロ波
の放射(放射分布38、39)を模式的に示したもので
ある。この状態からインピーダンス可変手段37を回転
駆動制御して開孔部35のインピーダンス値を大きくし
ていくと、放射分布38でのマイクロ波伝搬エネルギば
減少し放射分布39のマイクロ波伝搬エネルギが増加す
る。この結果、図においては放射分布39による被加熱
物10の加熱が促進される。
In the above configuration, the metal plate antenna 3
In the presence of microwaves radiated from the antenna 30 by propagating 0, a high-frequency electric field is generated between the antenna 30 made of a metal plate and the metal wall surface of the heating chamber. Antenna 30
When the impedance value of the opening 35 becomes extremely large, the high-frequency electric field generated between the heating chamber and the metal wall surface is broken. When the coupling is broken, the microwave is not propagated to the antenna 30 in that area, and the radiation of the microwave is suppressed. FIG. 5 schematically shows microwave radiation (radiation distributions 38 and 39) from the antenna 30 when the impedance of the aperture 35 is extremely small. From this state, when the impedance variable means 37 is rotationally controlled to increase the impedance value of the aperture 35, the microwave propagation energy in the radiation distribution 38 decreases and the microwave propagation energy in the radiation distribution 39 increases. . As a result, in the figure, heating of the object to be heated 10 by the radiation distribution 39 is promoted.

【0044】このように、金属板からなるアンテナ30
の放射分布を変化させることで加熱室11内のマイクロ
波伝搬を変化させ、被加熱物へのマイクロ波の入射位置
を変化させることができる。この結果、被加熱物の加熱
の均一化を促進させることができる。
As described above, the antenna 30 made of a metal plate
By changing the radiation distribution, the microwave propagation in the heating chamber 11 can be changed, and the incident position of the microwave on the object to be heated can be changed. As a result, uniform heating of the object to be heated can be promoted.

【0045】(実施例4)次に本発明の実施例4につい
て図6を用いて説明する。実施例4が実施例3と相違す
る点は、開孔部を複数個配設したことである。
Fourth Embodiment Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Example 4 differs from Example 3 in that a plurality of apertures are provided.

【0046】すなわち、図6において、40は金属板か
らなるアンテナであり、略十字形状としている。41は
アンテナ40の回転軸、42、43はアンテナ40の回
転軸41を中心として略180°の間隔で配設された開
孔部である。開孔部42、43は、金属板からなるアン
テナ40に対面する位置に配設されている。また、開孔
部42、43には、それぞれ溝部44、45、インピー
ダンス可変手段46、47およびインピーダンス可変手
段46、47を回転駆動するモータ48、49が配設さ
れている。50は、マグネトロンが発生したマイクロ波
を伝送させる導波管である。
That is, in FIG. 6, reference numeral 40 denotes an antenna made of a metal plate, which has a substantially cross shape. Reference numeral 41 denotes a rotation axis of the antenna 40, and reference numerals 42 and 43 denote openings provided at intervals of approximately 180 ° with respect to the rotation axis 41 of the antenna 40. The apertures 42 and 43 are provided at positions facing the antenna 40 made of a metal plate. The openings 42, 43 are provided with grooves 44, 45, impedance varying means 46, 47, and motors 48, 49 for rotating the impedance varying means 46, 47, respectively. 50 is a waveguide for transmitting the microwave generated by the magnetron.

【0047】導波管を伝搬したマイクロ波はアンテナ4
0の回転軸に結合し、回転軸を伝搬してアンテナ40か
ら加熱室内51に放射される。アンテナ40は図示して
いないモータによって回転駆動制御される。回転駆動制
御されるアンテナ40の金属羽根部が、開孔部42、4
3に対面する位置を通過する時に開孔部42、43に形
成したインピーダンス値の影響を受けて放射分布を変化
させるものである。
The microwave propagated through the waveguide is applied to the antenna 4
The light is coupled to the rotation axis of 0, propagates along the rotation axis, and is radiated from the antenna 40 into the heating chamber 51. The rotation of the antenna 40 is controlled by a motor (not shown). The metal blades of the antenna 40 whose rotational drive is controlled are formed by the apertures 42, 4
When passing through the position facing 3, the radiation distribution is changed under the influence of the impedance values formed in the apertures 42 and 43.

【0048】このように、アンテナを回転させること
で、アンテナから放射されたマイクロ波が加熱室51内
を伝搬して開孔部42、43に再び入射した時にもマイ
クロ波の伝搬を変化させることができる。従って、加熱
室内には、アンテナからの放射分布の変化と開孔部に入
射したマイクロ波の伝搬の変化との相乗効果により、よ
りランダムなマイクロ波伝搬を形成させることができ
る。この結果、被加熱物の加熱の均一化をより促進させ
ることができる。
As described above, by rotating the antenna, even when the microwave radiated from the antenna propagates in the heating chamber 51 and enters the apertures 42 and 43 again, the propagation of the microwave is changed. Can be. Therefore, a more random microwave propagation can be formed in the heating chamber by a synergistic effect of a change in the radiation distribution from the antenna and a change in the propagation of the microwave incident on the aperture. As a result, uniform heating of the object to be heated can be further promoted.

【0049】また、開孔部をアンテナ40の回転軸41
に対して略180°の間隔で配設することで、アンテナ
40からの放射分布に対称性をもたせたり、対称性を崩
したりすることが容易に実行できる。これにより、被加
熱物の形状や量に応じた加熱の均一化をより促進させる
ことができる。
Further, the opening is formed in the rotating shaft 41 of the antenna 40.
By arranging them at an interval of about 180 °, it is possible to easily make the radiation distribution from the antenna 40 have symmetry or break the symmetry. Thereby, it is possible to further promote uniform heating according to the shape and amount of the object to be heated.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上のように本発明によれば以下の効果
を有する。
As described above, the present invention has the following effects.

【0051】(1)請求項1の高周波加熱装置によれ
ば、インピーダンス可変手段を可変制御することで開孔
部と放射手段とのマイクロ波結合を変化させて、放射手
段からのマイクロ波の放射方向を変化させることができ
る。これにより、被加熱物へのマイクロ波の入射位置を
変化させて被加熱物全体の加熱の均一化を促進させるこ
とができる。
(1) According to the high-frequency heating device of the first aspect, the microwave coupling between the aperture and the radiating means is changed by variably controlling the impedance variable means, thereby radiating the microwave from the radiating means. The direction can be changed. This makes it possible to change the incident position of the microwave on the object to be heated, thereby promoting uniform heating of the entire object to be heated.

【0052】(2)請求項2の高周波加熱装置によれ
ば、給電孔近傍に設けた開孔部のインピーダンスを変化
させることで、マイクロ波は開孔部を避ける方向に放射
させることができる。この結果、被加熱物へのマイクロ
波の入射位置を変化させて被加熱物全体の加熱の均一化
を促進させることができる。
(2) According to the high-frequency heating device of the second aspect, the microwave can be radiated in a direction avoiding the opening by changing the impedance of the opening provided near the power supply hole. As a result, it is possible to change the incident position of the microwave on the object to be heated and promote uniform heating of the entire object to be heated.

【0053】(3)請求項3の高周波加熱装置によれ
ば、二つの開孔部のインピーダンスを変化させることで
給電孔からのマイクロ波放射方向をより広範囲に変化さ
せることができる。この結果、被加熱物の種類、量、形
状に対して最適な状態のマイクロ波伝搬をマイクロ波空
間内に形成して被加熱物を均一に加熱させることができ
る。
(3) According to the high-frequency heating device of the third aspect, the direction of microwave radiation from the feed hole can be changed over a wider range by changing the impedance of the two openings. As a result, it is possible to uniformly heat the object to be heated by forming microwave propagation in the microwave space in an optimal state for the type, amount, and shape of the object to be heated.

【0054】(4)請求項4の高周波加熱装置によれ
ば、開孔部のインピーダンスを変化させることで金属板
からなるアンテナの放射分布を変化させることにより、
加熱室内でのマイクロ波の伝搬を変化させて被加熱物の
加熱の均一化を促進させることができる。
(4) According to the high-frequency heating device of the fourth aspect, the radiation distribution of the antenna made of a metal plate is changed by changing the impedance of the opening, thereby
By changing the propagation of microwaves in the heating chamber, uniform heating of the object to be heated can be promoted.

【0055】(5)請求項5の高周波加熱装置によれ
ば、アンテナからの放射分布を変化させることに加え
て、アンテナから放射されたマイクロ波が加熱室内を伝
搬して再び開孔部に入射した時にもマイクロ波の伝搬を
変化させることにより、加熱室内でのマイクロ波の伝搬
をよりランダムにすることで被加熱物の加熱の均一化を
より促進させることができる。
(5) According to the high-frequency heating device of the fifth aspect, in addition to changing the radiation distribution from the antenna, the microwave radiated from the antenna propagates in the heating chamber and enters the aperture again. By changing the propagation of the microwave even when the heating is performed, the propagation of the microwave in the heating chamber is made more random, so that uniform heating of the object to be heated can be further promoted.

【0056】(6)請求項6の高周波加熱装置によれ
ば、回転駆動のアンテナに対して複数の開孔部を配設す
ることでアンテナからの放射分布に対称性を持たせたり
放射分布を非対称にしたりすることにより、非加熱物の
形状や量に応じて放射分布を選択制御することで被加熱
物の加熱の均一化を促進することができる。
(6) According to the high-frequency heating device of the sixth aspect, by providing a plurality of apertures for the rotationally driven antenna, the radiation distribution from the antenna can be made symmetrical or the radiation distribution can be reduced. By making it asymmetric, the uniformity of heating of the object to be heated can be promoted by selectively controlling the radiation distribution according to the shape and amount of the non-heated object.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1の高周波加熱装置の構成図FIG. 1 is a configuration diagram of a high-frequency heating device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同高周波加熱装置の他の状態を示す構成図FIG. 2 is a configuration diagram showing another state of the high-frequency heating device.

【図3】同高周波加熱装置のインピーダンス可変手段を
含む溝部におけるマイクロ波分布特性図
FIG. 3 is a diagram showing a microwave distribution characteristic in a groove portion including an impedance varying unit of the high-frequency heating device.

【図4】本発明の実施例2の高周波加熱装置の構成図FIG. 4 is a configuration diagram of a high-frequency heating device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施例3の高周波加熱装置の構成図FIG. 5 is a configuration diagram of a high-frequency heating device according to a third embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例4の高周波加熱装置の構成図FIG. 6 is a configuration diagram of a high-frequency heating device according to a fourth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 被加熱物 11 加熱室 17 マグネトロン(高周波発生手段) 19 給電孔(放射手段) 20、27、35、42、43 開孔部 21、28、36、44、45 溝部 22、29、37、46、47 インピーダンス可変手
段 30 アンテナ(放射手段) 33 アンテナ回転駆動モータ 41 アンテナの回転軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Heated object 11 Heating chamber 17 Magnetron (high frequency generation means) 19 Power supply hole (radiation means) 20, 27, 35, 42, 43 Openings 21, 28, 36, 44, 45 Grooves 22, 29, 37, 46 , 47 Impedance variable means 30 Antenna (radiating means) 33 Antenna rotation drive motor 41 Antenna rotation axis

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福本 明美 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 3K090 AA01 AB02 BA01 BB07 BB17 CA01 CA21 DA04 DA08 EA01 EB02 EB16 EB29  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Akemi Fukumoto 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 3K090 AA01 AB02 BA01 BB07 BB17 CA01 CA21 DA04 DA08 EA01 EB02 EB16 EB29

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被加熱物を収納する加熱室と、マイクロ波
を発生させる高周波発生手段と、前記高周波発生手段が
発生したマイクロ波を前記加熱室に放射する放射手段
と、前記放射手段の近傍の前記加熱室を形成する壁面に
設けた開孔部と、前記開孔部に接続され終端を閉じた溝
部と、前記溝部内に設け前記開孔部におけるインピーダ
ンスを変えるインピーダンス可変手段とを備えた高周波
加熱装置。
1. A heating chamber for accommodating an object to be heated, high frequency generating means for generating microwaves, radiating means for radiating microwaves generated by the high frequency generating means to the heating chamber, and a vicinity of the radiating means. An opening provided on a wall surface forming the heating chamber, a groove connected to the opening and having a closed end, and impedance changing means provided in the groove and changing impedance at the opening. High frequency heating device.
【請求項2】放射手段は、加熱室を形成する壁面に設け
た給電孔とし、前記給電孔に隣接して開孔部を配設する
構成とした請求項1記載の高周波加熱装置。
2. The high-frequency heating apparatus according to claim 1, wherein the radiating means is a power supply hole provided in a wall surface forming the heating chamber, and an opening is provided adjacent to the power supply hole.
【請求項3】給電孔を挟んで開孔部を配設する構成とし
た請求項2記載の高周波加熱装置。
3. The high-frequency heating apparatus according to claim 2, wherein an opening is provided so as to sandwich the power supply hole.
【請求項4】放射手段は、金属板からなるアンテナと
し、前記アンテナに対面する加熱室壁面に開孔部を配設
する構成とした請求項1記載の高周波加熱装置。
4. The high-frequency heating apparatus according to claim 1, wherein the radiating means is an antenna made of a metal plate, and an aperture is provided on a wall surface of the heating chamber facing the antenna.
【請求項5】アンテナは回転駆動できる構成とした請求
項4記載の高周波加熱装置。
5. The high-frequency heating device according to claim 4, wherein the antenna is configured to be rotatable.
【請求項6】開孔部は複数配設とし、少なくとも1組
は、アンテナの回転軸を中心として略180°の間隔で
もって配設する構成とした請求項5記載の高周波加熱装
置。
6. The high-frequency heating apparatus according to claim 5, wherein a plurality of apertures are provided, and at least one set is provided at an interval of about 180 ° about the rotation axis of the antenna.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016017217A1 (en) * 2014-07-29 2016-02-04 三菱電機株式会社 Microwave heating radiation device
CN113330822A (en) * 2019-02-13 2021-08-31 松下知识产权经营株式会社 High-frequency heating device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016017217A1 (en) * 2014-07-29 2016-02-04 三菱電機株式会社 Microwave heating radiation device
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JPWO2016017217A1 (en) * 2014-07-29 2017-04-27 三菱電機株式会社 Microwave heating irradiation device
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