JP2000214493A - Electrochromic device and its production - Google Patents

Electrochromic device and its production

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JP2000214493A
JP2000214493A JP11015668A JP1566899A JP2000214493A JP 2000214493 A JP2000214493 A JP 2000214493A JP 11015668 A JP11015668 A JP 11015668A JP 1566899 A JP1566899 A JP 1566899A JP 2000214493 A JP2000214493 A JP 2000214493A
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JP
Japan
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layer
substrate
electrode layer
electrode
electrochromic
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JP11015668A
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Japanese (ja)
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Toshiki Inoue
敏樹 井上
Kyoko Kumagai
京子 熊谷
Takanori Murazaki
孝則 村崎
Takashi Komori
隆史 小森
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Toyota Industries Corp
Original Assignee
Toyoda Automatic Loom Works Ltd
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Publication date
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrochromic(EC) device in which a sealing agent is hardly peeled and the leaking of an electrolyte can be prevented, and to provide a method for the production of the device. SOLUTION: In this device, an electrolyte layer 5 and an electrochromic(EC) layer 4 are sealed with a sealing agent applied between a first transparent substrate 1 or a first transparent electrode layer 2 and a second transparent substrate 7 or a second transparent electrode 6. Thereby, the end face of the EC layer 4 is not exposed to air so that the water content in the air does not intrude into the EC layer through the end face of the EC layer 4. Thereby, the adhesion property of the sealing agent is well maintained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電解質の漏出が少
なく信頼性の高いエレクトロクロミック(EC)素子及
びこの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a highly reliable electrochromic (EC) device having a small amount of electrolyte leakage and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】EC素子として、図5に示すように、第
1透明基板21上に第1透明電極層22、シール剤23
中に封入された電解質層24、EC層25、第2透明電
極層26及び第2透明基板27が積層された透過型EC
素子が知られている。また、図6又は図7に示すよう
に、第1透明基板21又は第2透明基板27の外側に反
射膜28を形成した反射型のEC素子も知られている。
2. Description of the Related Art As an EC element, a first transparent electrode layer 22 and a sealant 23 are formed on a first transparent substrate 21 as shown in FIG.
A transmission-type EC in which an electrolyte layer 24, an EC layer 25, a second transparent electrode layer 26, and a second transparent substrate 27 encapsulated therein are laminated.
Devices are known. Further, as shown in FIG. 6 or FIG. 7, a reflection type EC element in which a reflection film 28 is formed outside the first transparent substrate 21 or the second transparent substrate 27 is also known.

【0003】これらのEC素子は、第1透明電極層22
と第2透明電極層26との間に所定の電圧を印加するこ
とにより、EC層25の溶質に酸化・還元反応が起き、
これにより可逆的な着消変化が得られるものである。
[0003] These EC elements are composed of a first transparent electrode layer 22.
By applying a predetermined voltage between the first transparent electrode layer 26 and the second transparent electrode layer 26, an oxidation / reduction reaction occurs in the solute of the EC layer 25,
As a result, a reversible change of charge and discharge can be obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のE
C素子においては、第1透明電極層22又は第2透明電
極層26とEC層25との間にシール剤23を設け、こ
のシール剤23により電解質層24のみを封止すること
としていたため、EC層25の端面が外気に剥き出しに
なっており、外気中の水分が端面を介してEC層25内
に浸入し、シール剤23のEC層25に対する密着性を
阻害しやすい。特に、発明者らの試験結果によれば、E
C層25がWO3・nNb25(但し、nは零又は正
数)のような多孔質の固体である場合には、この傾向が
顕著である。
However, the above conventional E
In the C element, a sealant 23 is provided between the first transparent electrode layer 22 or the second transparent electrode layer 26 and the EC layer 25, and only the electrolyte layer 24 is sealed by the sealant 23. The end face of the EC layer 25 is exposed to the outside air, and the moisture in the outside air penetrates into the EC layer 25 through the end face, and the adhesion of the sealant 23 to the EC layer 25 is easily impaired. In particular, according to the test results of the inventors, E
This tendency is remarkable when the C layer 25 is a porous solid such as WO 3 .nNb 2 O 5 (where n is zero or a positive number).

【0005】このため、この種のEC素子においては、
特に高温高湿の条件下において、シール剤23が剥離し
やすく、これにより電解質層24の電解質が漏出すると
いう不具合が発生しやすい。本発明は、上記従来の実情
に鑑みてなされたものであって、シール剤が剥離しにく
く、電解質の漏出を防止できるEC素子及びこの製造方
法を提供することを解決すべき課題とする。
For this reason, in this kind of EC device,
In particular, under the conditions of high temperature and high humidity, the sealing agent 23 is easily peeled off, which tends to cause a problem that the electrolyte of the electrolyte layer 24 leaks. The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and an object of the present invention is to provide an EC element which can prevent a sealant from peeling easily and prevent electrolyte leakage, and a method for manufacturing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のEC素子は、第
1基板と、該第1基板上に形成された第1電極層と、該
第1基板と対面して設けられた第2基板と、該第2基板
上で該第1電極層と対面して設けられた第2電極層と、
該第1電極層と該第2電極層との間に介在された電解質
層及びEC層とを有するEC素子において、前記電解質
層及び前記EC層は、前記第1基板又は前記第1電極層
と前記第2基板又は前記第2電極層との間に介在された
シール剤により封止されていることを特徴とする。
An EC device according to the present invention comprises a first substrate, a first electrode layer formed on the first substrate, and a second substrate provided to face the first substrate. And a second electrode layer provided on the second substrate so as to face the first electrode layer;
In an EC device having an electrolyte layer and an EC layer interposed between the first electrode layer and the second electrode layer, the electrolyte layer and the EC layer may be formed on the first substrate or the first electrode layer. It is characterized by being sealed by a sealant interposed between the second substrate and the second electrode layer.

【0007】本発明のEC素子においては、第1基板と
第2基板との間、第1基板と第2電極層との間、第1電
極層と第2基板との間又は第1電極層と第2電極層との
間にシール剤が介在され、このシール剤により電解質層
及びEC層を封止している。このため、EC層の端面は
外気に剥き出しでなく、外気中の水分がEC層の端面を
介してEC層内に浸入しない。このため、シール剤の密
着性は好適に維持される。
[0007] In the EC device of the present invention, between the first substrate and the second substrate, between the first substrate and the second electrode layer, between the first electrode layer and the second substrate, or between the first electrode layer and the second electrode layer. A sealant is interposed between the first electrode layer and the second electrode layer, and seals the electrolyte layer and the EC layer with the sealant. For this reason, the end face of the EC layer is not exposed to the outside air, and moisture in the outside air does not enter the EC layer through the end face of the EC layer. For this reason, the adhesiveness of the sealant is suitably maintained.

【0008】したがって、本発明のEC素子において
は、特に高温高湿の条件下においても、シール剤が剥離
しにくく、これにより電解質層の電解質の漏出を防止で
きる。第1、2基板としてはガラス板又は樹脂板を採用
することができる。第1、2基板のいづれか一方は透明
である必要がある。第1、2電極層、特に透明な第1、
2電極層としては、ITO(インジウムティンオキサイ
ド(In2 3 ・SnO2 ))やフッ素ドープSnO2
膜等を採用することができる。
Therefore, in the EC device of the present invention, the sealant is hardly peeled off, especially under high temperature and high humidity conditions, thereby preventing leakage of the electrolyte from the electrolyte layer. A glass plate or a resin plate can be used as the first and second substrates. Either one of the first and second substrates needs to be transparent. First and second electrode layers, in particular a transparent first,
As the two electrode layers, ITO (indium tin oxide (In 2 O 3 .SnO 2 )) or fluorine-doped SnO 2
A film or the like can be employed.

【0009】EC層としては、酸化タングステン、酸化
モリブデン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化チタン
等を含むものを採用することができる。上記作用効果
は、特に、EC層がWO3・nNb25(但し、nは零
又は正数)のような多孔質の固体である場合に顕著であ
る。電解質層は、EC層を発色させるカチオン源と、E
C層の酸化・還元反応を可逆的にさせるレドックス剤
と、カチオン源及びレドックス剤を溶解する有機溶媒
と、水とからなる場合に本発明の効果が大きい。カチオ
ン源としては、過塩素酸リチウム等のLi塩、Na塩、
K塩等の支持塩を採用することができる。レドックス剤
を添加すれば、EC層が酸化・還元反応をしている間に
レドックス剤が還元・酸化反応を起して(電荷補償をす
る)可逆反応を半永久的に継続させるようにすることが
できるとともに、サイクル寿命も向上する。このレドッ
クス剤としては、フェロセン系化合物を採用することが
好ましい。レドックス剤は電解質中に0.1M程度の濃
度で添加されるのが好ましい。有機溶媒としては、γ−
ブチロラクトン、スルホラン若しくはこれらの混合物又
はプロピレンカーボネート等を採用することができる。
As the EC layer, a layer containing tungsten oxide, molybdenum oxide, vanadium oxide, niobium oxide, titanium oxide, or the like can be used. The above effects are particularly remarkable when the EC layer is a porous solid such as WO 3 .nNb 2 O 5 (where n is zero or a positive number). The electrolyte layer includes a cation source for coloring the EC layer,
The effect of the present invention is great when it is composed of a redox agent for reversibly oxidizing and reducing the C layer, an organic solvent for dissolving the cation source and the redox agent, and water. Li salts such as lithium perchlorate, Na salts,
A supporting salt such as K salt can be employed. By adding a redox agent, the redox agent can cause a reduction / oxidation reaction (compensate for electric charge) while the EC layer is undergoing an oxidation / reduction reaction so that the reversible reaction can be continued semipermanently. And the cycle life is improved. It is preferable to use a ferrocene compound as the redox agent. The redox agent is preferably added to the electrolyte at a concentration of about 0.1M. As an organic solvent, γ-
Butyrolactone, sulfolane, a mixture thereof or propylene carbonate can be employed.

【0010】シール剤としては、エポキシ樹脂、シリコ
ン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂若しくはウレタン樹
脂等又はこれらの混合物等を採用することができる。な
お、EC素子を反射型EC素子とする場合、反射膜とし
てAl等の蒸着膜を用いることができる。本発明のEC
素子は以下に示す本発明のEC素子の製造方法により製
造し得る。この製造方法は、第1基板と、第1電極層
と、電解質層と、EC層と、第2電極層と、第2基板と
を有するEC素子の製造方法において、前記第1基板上
に前記第1電極層を形成した第1電極基板と、前記第2
基板上に前記第2電極層を形成した第2電極基板とを用
意する準備工程と、該第1電極基板の該第1電極層上に
固化により前記EC層となる液体状の組成物を塗布する
塗布工程と、該組成物の必要部分を固化して該EC層と
なす固化工程と、該EC層以外の該組成物を除去する除
去工程と、該EC層を囲むシール剤を該第1電極基板の
該第1基板又は該第1電極層上に形成するシール剤形成
工程と、該EC層側が該第2電極層となるように、該シ
ール剤上に該第2電極基板を設ける接合工程と、該EC
層と該第2電極層との間に前記電解質層を封入する封入
工程と、からなることを特徴とする。
As the sealant, an epoxy resin, a silicone resin, a fluorine resin, an acrylic resin, a urethane resin, or the like, or a mixture thereof can be used. In the case where the EC element is a reflective EC element, an evaporated film of Al or the like can be used as the reflective film. EC of the present invention
The device can be manufactured by the following method for manufacturing an EC device of the present invention. This manufacturing method is a method for manufacturing an EC device including a first substrate, a first electrode layer, an electrolyte layer, an EC layer, a second electrode layer, and a second substrate. A first electrode substrate on which a first electrode layer is formed;
A preparation step of preparing a second electrode substrate having the second electrode layer formed on the substrate, and applying a liquid composition to be the EC layer by solidification on the first electrode layer of the first electrode substrate A coating step of solidifying a necessary portion of the composition to form the EC layer, a removing step of removing the composition other than the EC layer, and a sealing agent surrounding the EC layer by the first step. Forming a sealant on the first substrate or the first electrode layer of the electrode substrate, and bonding the second electrode substrate on the sealant such that the EC layer side becomes the second electrode layer; Process and the EC
A sealing step of sealing the electrolyte layer between the layer and the second electrode layer.

【0011】本発明の製造方法では、まず準備工程にお
いて、第1、2基板上に第1、2電極層を形成して第
1、2電極基板とする。次に、塗布工程において、固化
によりEC層となる液体状の組成物を第1電極基板の第
1電極層上に塗布する。この組成物としては遷移金属の
過酸化物を溶解したものを採用することができる。より
具体的には、溶質としてWO3・nNb25(但し、n
は零又は正数)を含有する過酸化ポリタングステン酸溶
液の他、過酸化ポリモリブデン酸溶液、過酸化ポリバナ
ジウム酸溶液、過酸化ポリニオブ酸溶液、過酸化ポリチ
タン酸溶液等を採用することができる。塗布方法として
は、ディップコーティング法、スピンコーティング法、
スプレーコーティング法等を採用することができる。
In the manufacturing method of the present invention, first, in a preparation step, first and second electrode layers are formed on the first and second substrates to form first and second electrode substrates. Next, in a coating step, a liquid composition that becomes an EC layer by solidification is coated on the first electrode layer of the first electrode substrate. As this composition, one in which a peroxide of a transition metal is dissolved can be employed. More specifically, WO 3 .nNb 2 O 5 (where n
, A polymolybdic peroxide solution, a polyvanadate solution, a polyniobate peroxide solution, a polytitanic peroxide solution, etc., in addition to a polytungstic acid solution containing zero or a positive number. . Application methods include dip coating, spin coating,
A spray coating method or the like can be employed.

【0012】そして、固化工程において、塗布された組
成物の必要部分を固化してEC層を形成する。固化方法
としては、必要部分に紫外線を照射する方法、必要部分
を加熱する方法等を採用することができる。除去工程で
は、固化工程においてEC層とならなかった組成物を除
去する。組成物が溶質としてWO3・aNb25(但
し、aは零又は正数)を含有する過酸化ポリタングステ
ン溶液である場合、この除去工程として、水又は有機溶
媒による組成物の溶解を採用することができる。
Then, in a solidifying step, a necessary portion of the applied composition is solidified to form an EC layer. As a solidification method, a method of irradiating a necessary portion with ultraviolet rays, a method of heating a necessary portion, or the like can be employed. In the removing step, the composition that did not become the EC layer in the solidifying step is removed. In the case where the composition is a polytungsten peroxide solution containing WO 3 · aNb 2 O 5 (where a is zero or a positive number) as a solute, dissolution of the composition with water or an organic solvent is employed as the removing step. can do.

【0013】次に、シール剤形成工程において、第1電
極基板の第1基板又は第1電極層上にEC層を囲むよう
にシール剤を形成する。そして、接合工程において、第
1電極基板と第2電極基板を接合する。このとき、第1
電極基板上のEC層側に第2電極層を対向させるととも
に、EC層と第2電極層との間に電解質層を形成する隙
間を残すようにする。
Next, in a sealant forming step, a sealant is formed on the first substrate or the first electrode layer of the first electrode substrate so as to surround the EC layer. Then, in the joining step, the first electrode substrate and the second electrode substrate are joined. At this time, the first
The second electrode layer is made to face the EC layer on the electrode substrate, and a gap for forming an electrolyte layer is left between the EC layer and the second electrode layer.

【0014】その後、封入工程において、EC層と第2
電極層との隙間に電解質を封入して電解質層を形成す
る。以上のようにして、電解質の漏出が少ないEC素子
を簡便に製造することができる。また、第1、2基板の
第1、2電極層と反対側に反射膜を形成して、反射型の
EC素子も同様に製造することもできる。
Thereafter, in the encapsulation step, the EC layer and the second
An electrolyte is sealed in a gap between the electrode layer and the electrode layer to form an electrolyte layer. As described above, it is possible to easily manufacture an EC element with less leakage of the electrolyte. Further, a reflection type EC element can be similarly manufactured by forming a reflection film on the first and second substrates on the side opposite to the first and second electrode layers.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した実施例
1〜3を比較例1、2とともに図面を参照しつつ説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments 1 to 3 embodying the present invention will be described together with comparative examples 1 and 2 with reference to the drawings.

【0016】[0016]

【実施例1】実施例1のEC素子は、図1及び図2に示
すように、自動車の室内用バックミラーに用いる反射型
EC素子である。このEC素子は以下に示す製造方法に
より製造した。まず、準備工程として、図1(A)に示
すように、ガラス板からなるバックミラー形状の第1透
明基板1を用意する。この第1透明基板1の表面全体に
はITOからなる第1透明電極層2が形成されている。
図2に示すように、この第1透明基板1の裏面全体にA
l等からなる反射膜8を蒸着し、第1電極基板10とし
た。また、ガラス板からなる同一形状の第2透明基板7
を用意し、この第2透明基板7の表面全体にもITOか
らなる第2透明電極層6を形成し、第2電極基板11と
した。第1、2透明電極層2、6の電気抵抗は7Ω/□
であった。
Embodiment 1 As shown in FIGS. 1 and 2, the EC element of Embodiment 1 is a reflection type EC element used for an interior rearview mirror of an automobile. This EC device was manufactured by the following manufacturing method. First, as a preparation step, as shown in FIG. 1A, a first transparent substrate 1 having a rearview mirror shape made of a glass plate is prepared. A first transparent electrode layer 2 made of ITO is formed on the entire surface of the first transparent substrate 1.
As shown in FIG. 2, the entire back surface of the first transparent substrate 1 has A
The first electrode substrate 10 was formed by depositing a reflective film 8 made of 1 or the like. A second transparent substrate 7 of the same shape made of a glass plate
Was prepared, and a second transparent electrode layer 6 made of ITO was also formed on the entire surface of the second transparent substrate 7 to obtain a second electrode substrate 11. The electrical resistance of the first and second transparent electrode layers 2 and 6 is 7Ω / □.
Met.

【0017】そして、塗布工程として、第1電極基板1
0の第1透明電極層2上全体に過酸化ポリタングステン
酸溶液12をディップコーティング法により塗布する。
この後、固化工程として、図1(B)に示すように、塗
布した過酸化ポリタングステン酸溶液12の外周縁を覆
うマスキング13を施しつつ、紫外線を照射して中央域
の過酸化ポリタングステン酸溶液12を固化してEC層
4(図2参照)となす。
Then, as an application step, the first electrode substrate 1
The polytungstic peroxide solution 12 is applied to the entire first transparent electrode layer 2 by a dip coating method.
Thereafter, as a solidification step, as shown in FIG. 1B, while applying a masking 13 covering the outer peripheral edge of the applied polytungstic peroxide solution 12, ultraviolet irradiation is performed to irradiate polytungstic peroxide in the central region. The solution 12 is solidified to form the EC layer 4 (see FIG. 2).

【0018】次いで、除去工程として、マスキング13
を外し、水で洗浄することによりEC層4以外の過酸化
ポリタングステン酸溶液12を除去する。そして、シー
ル剤形成工程として、第1電極基板10の第1透明電極
層2上において、エポキシ樹脂3でEC層4を囲む。こ
のとき、電解液の注入口として一部塗布しない部分を形
成しておく。
Next, as a removing step, a masking 13 is used.
Is removed, and the tungstic peroxide solution 12 other than the EC layer 4 is removed by washing with water. Then, as a sealant forming step, the EC layer 4 is surrounded by the epoxy resin 3 on the first transparent electrode layer 2 of the first electrode substrate 10. At this time, a part that is not applied is formed as an injection port for the electrolytic solution.

【0019】この後、接合工程として、図2に示すよう
に、EC層4側が第2透明電極層6となるように、エポ
キシ樹脂3上に第2電極基板11を設ける。このとき、
第2透明電極層6とEC層4との間隔が0.1mmとな
るようにする。そして、紫外線を照射し、エポキシ樹脂
3を硬化させてシール剤3とする。次いで、封入工程と
して、EC層4と第2透明電極層6との間に電解質層5
を注入口から注入する。そして、注入口にアクリル樹脂
を塗布し、紫外線を照射して硬化させて封止する。電解
質層5の電解質としては、有機溶媒としてプロピレンカ
ーボネートとスルホランとの1:1混合物、レドックス
剤として0.1M/lのフェロセン及び支持塩として1
M/lのLiCF3SO3を使用した。
Thereafter, as a bonding step, a second electrode substrate 11 is provided on the epoxy resin 3 so that the EC layer 4 side becomes the second transparent electrode layer 6, as shown in FIG. At this time,
The distance between the second transparent electrode layer 6 and the EC layer 4 is set to 0.1 mm. Then, the epoxy resin 3 is cured by irradiating ultraviolet rays to form a sealant 3. Next, as an encapsulation step, an electrolyte layer 5 is interposed between the EC layer 4 and the second transparent electrode layer 6.
From the inlet. Then, an acrylic resin is applied to the injection port, and the resin is cured by irradiating ultraviolet rays, and then sealed. The electrolyte of the electrolyte layer 5 includes a 1: 1 mixture of propylene carbonate and sulfolane as an organic solvent, 0.1 M / l ferrocene as a redox agent, and 1 as a supporting salt.
M / l LiCF 3 SO 3 was used.

【0020】こうして、電解質層5及びEC層4が第1
透明電極層2と第2透明電極層6との間に介在されたシ
ール剤3により封止された反射型EC素子を製造する。
このEC素子を所定の高温高湿の環境下に放置したとこ
ろ、1000時間経過してもシール剤3の剥離は起こら
なかった。これは、このEC素子においては、第1透明
電極層2と第2透明電極層6との間にシール剤3が介在
され、このシール剤3により電解質層5及びEC層4を
封止しているため、EC層4の端面が外気に剥き出しで
なく、外気中の水分がEC層4の端面を介してEC層4
内に浸入しないことから、シール剤3の密着性が好適に
維持されているからである。
Thus, the electrolyte layer 5 and the EC layer 4 are
A reflective EC device sealed with the sealant 3 interposed between the transparent electrode layer 2 and the second transparent electrode layer 6 is manufactured.
When this EC element was left in a predetermined high-temperature, high-humidity environment, peeling of the sealant 3 did not occur even after 1000 hours. This is because, in this EC element, a sealant 3 is interposed between the first transparent electrode layer 2 and the second transparent electrode layer 6, and the electrolyte layer 5 and the EC layer 4 are sealed by the sealant 3. Therefore, the end face of the EC layer 4 is not exposed to the outside air, and the moisture in the outside air passes through the end face of the EC layer 4.
This is because the adhesive does not penetrate into the inside, so that the adhesion of the sealant 3 is appropriately maintained.

【0021】したがって、このEC素子においては、特
に高温高湿の条件下においても、シール剤3が剥離しに
くく、これにより電解質層5の電解質の漏出を防止でき
ることがわかる。
Therefore, it can be seen that, in this EC element, the sealant 3 is hardly peeled off even under high-temperature and high-humidity conditions, whereby leakage of the electrolyte in the electrolyte layer 5 can be prevented.

【0022】[0022]

【実施例2】実施例2のEC素子は、図3に示す反射型
EC素子である。このEC素子では、第2透明基板7の
裏面全体にAl等からなる反射膜8が蒸着されている。
他の構成及び製造方法は実施例1と同様である。このE
C素子においても実施例1のものと同様の作用効果を奏
することができる。
Embodiment 2 The EC device of Embodiment 2 is a reflection type EC device shown in FIG. In this EC device, a reflective film 8 made of Al or the like is deposited on the entire back surface of the second transparent substrate 7.
Other configurations and manufacturing methods are the same as in the first embodiment. This E
In the C element, the same operation and effect as those of the first embodiment can be obtained.

【0023】[0023]

【実施例3】実施例3のEC素子は、図4に示す透過型
EC素子である。このEC素子では、第1、2透明基板
1、7の裏面に反射膜を有していない。他の構成及び製
造方法は実施例1と同様である。このEC素子において
も実施例1のものと同様の作用効果を奏することができ
る。
Third Embodiment An EC device according to a third embodiment is a transmission type EC device shown in FIG. In this EC element, the first and second transparent substrates 1 and 7 do not have a reflective film on the back surface. Other configurations and manufacturing methods are the same as in the first embodiment. This EC element can also provide the same functions and effects as those of the first embodiment.

【0024】[0024]

【比較例1】比較例1のEC素子として、図5に示す反
射型EC素子を得た。ここでは、第2透明電極層26全
体に過酸化ポリタングステン酸溶液をディップコーティ
ング法により塗布し、120℃で1時間焼成してEC層
25を形成した。また、第1透明電極層22とEC層2
5との間にシール剤23を形成した。他の構成及び製造
方法は実施例1と同様である。
Comparative Example 1 As a EC element of Comparative Example 1, a reflective EC element shown in FIG. 5 was obtained. Here, a polytungstic peroxide solution was applied to the entire second transparent electrode layer 26 by dip coating, and baked at 120 ° C. for 1 hour to form the EC layer 25. Also, the first transparent electrode layer 22 and the EC layer 2
5, a sealant 23 was formed. Other configurations and manufacturing methods are the same as in the first embodiment.

【0025】こうして、電解質層24が第1透明電極層
22とEC層25との間に介在されたシール剤23によ
り封止された反射型EC素子を製造する。このEC素子
を実施例1と同一の条件下で放置したところ、100時
間経過した時点でシール剤23の剥離を生じてしまっ
た。
Thus, a reflective EC device in which the electrolyte layer 24 is sealed by the sealant 23 interposed between the first transparent electrode layer 22 and the EC layer 25 is manufactured. When this EC element was left under the same conditions as in Example 1, peeling of the sealant 23 occurred after 100 hours.

【0026】[0026]

【比較例2】比較例2のEC素子として、やはり図5に
示す反射型EC素子を得た。ここでは、第2透明電極層
26全体に過酸化ポリタングステン酸溶液をディップコ
ーティング法により塗布し、実施例1のようなマスキン
グ13を施すことなく、紫外線を全面に照射してEC層
25を形成した。他の構成及び製造方法は実施例1と同
様である。
Comparative Example 2 As the EC element of Comparative Example 2, a reflection type EC element shown in FIG. 5 was also obtained. Here, an EC layer 25 is formed by applying a polytungstic peroxide solution to the entire second transparent electrode layer 26 by a dip coating method and irradiating the entire surface with ultraviolet rays without performing the masking 13 as in the first embodiment. did. Other configurations and manufacturing methods are the same as in the first embodiment.

【0027】こうして、電解質層24が第1透明電極層
22とEC層25との間に介在されたシール剤23によ
り封止された反射型EC素子を製造する。このEC素子
を実施例1と同一の条件下で放置したところ、100時
間経過した時点でシール剤23の剥離を生じてしまっ
た。
Thus, a reflective EC device in which the electrolyte layer 24 is sealed by the sealant 23 interposed between the first transparent electrode layer 22 and the EC layer 25 is manufactured. When this EC element was left under the same conditions as in Example 1, peeling of the sealant 23 occurred after 100 hours.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1の反射型EC素子の製造方法を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a method of manufacturing a reflective EC device according to a first embodiment.

【図2】実施例1の反射型EC素子の模式断面図であ
る。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the reflective EC device of Example 1.

【図3】実施例2の反射型EC素子の模式断面図であ
る。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a reflective EC device of Example 2.

【図4】実施例3の透過型EC素子の模式断面図であ
る。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a transmission-type EC element according to a third embodiment.

【図5】従来の透過型EC素子の模式断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a conventional transmission type EC element.

【図6】従来の反射型EC素子の模式断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a conventional reflective EC device.

【図7】従来の反射型EC素子の模式断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a conventional reflective EC device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…第1基板(第1透明基板) 2…第1電極層(第1透明電極層) 3…シール剤 4…EC層 5…電解質層 6…第2電極層(第2透明電極層) 7…第2基板(第2透明基板) 8…反射膜 10…第1電極基板 11…第2電極基板 12…組成物(過酸化ポリタングステン酸溶液) 13…マスキング DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... 1st board | substrate (1st transparent substrate) 2 ... 1st electrode layer (1st transparent electrode layer) 3 ... Sealant 4 ... EC layer 5 ... Electrolyte layer 6 ... 2nd electrode layer (2nd transparent electrode layer) 7 ... Second substrate (second transparent substrate) 8 ... Reflective film 10 ... First electrode substrate 11 ... Second electrode substrate 12 ... Composition (polytungstic peroxide solution) 13 ... Masking

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村崎 孝則 愛知県刈谷市豊田町2丁目1番地 株式会 社豊田自動織機製作所内 (72)発明者 小森 隆史 愛知県刈谷市豊田町2丁目1番地 株式会 社豊田自動織機製作所内 Fターム(参考) 2K001 AA10 BB28 BB42 BB45 BB48 CA20 CA31 CA32 DA21  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takanori Murasaki 2-1-1, Toyota-cho, Kariya-shi, Aichi Pref. Inside Toyota Industries Corporation (72) Inventor Takashi Komori 2-1-1, Toyota-cho, Kariya-shi, Aichi Pref. F-term in Toyota Industries Corporation (reference) 2K001 AA10 BB28 BB42 BB45 BB48 CA20 CA31 CA32 DA21

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1基板と、該第1基板上に形成された第
1電極層と、該第1基板と対面して設けられた第2基板
と、該第2基板上で該第1電極層と対面して設けられた
第2電極層と、該第1電極層と該第2電極層との間に介
在された電解質層及びエレクトロクロミック層とを有す
るエレクトロクロミック素子において、 前記電解質層及び前記エレクトロクロミック層は、前記
第1基板又は前記第1電極層と前記第2基板又は前記第
2電極層との間に介在されたシール剤により封止されて
いることを特徴とするエレクトロクロミック素子。
A first substrate, a first electrode layer formed on the first substrate, a second substrate provided facing the first substrate, and a first electrode formed on the second substrate. An electrochromic device comprising: a second electrode layer provided to face an electrode layer; and an electrolyte layer and an electrochromic layer interposed between the first electrode layer and the second electrode layer. And the electrochromic layer is sealed with a sealant interposed between the first substrate or the first electrode layer and the second substrate or the second electrode layer. element.
【請求項2】エレクトロクロミック層は多孔質の固体で
あることを特徴とする請求項1記載のエレクトロクロミ
ック素子。
2. The electrochromic device according to claim 1, wherein the electrochromic layer is a porous solid.
【請求項3】エレクトロクロミック層はWO3・nNb2
5(但し、nは零又は正数)からなることを特徴とす
る請求項2記載のエレクトロクロミック素子。
3. An electrochromic layer comprising WO 3 .nNb 2
3. The electrochromic device according to claim 2, wherein O 5 (where n is zero or a positive number) is used.
【請求項4】第1基板と、第1電極層と、電解質層と、
エレクトロクロミック層と、第2電極層と、第2基板と
を有するエレクトロクロミック素子の製造方法におい
て、 前記第1基板上に前記第1電極層を形成した第1電極基
板と、前記第2基板上に前記第2電極層を形成した第2
電極基板とを用意する準備工程と、 該第1電極基板の該第1電極層上に固化により前記エレ
クトロクロミック層となる液体状の組成物を塗布する塗
布工程と、 該組成物の必要部分を固化して該エレクトロクロミック
層となす固化工程と、 該エレクトロクロミック層以外の該組成物を除去する除
去工程と、 該エレクトロクロミック層を囲むシール剤を該第1電極
基板の該第1基板又は該第1電極層上に形成するシール
剤形成工程と、 該エレクトロクロミック層側が該第2電極層となるよう
に、該シール剤上に該第2電極基板を設ける接合工程
と、 該エレクトロクロミック層と該第2電極層との間に前記
電解質層を封入する封入工程と、からなることを特徴と
するエレクトロクロミック素子の製造方法。
4. A first substrate, a first electrode layer, an electrolyte layer,
In a method for manufacturing an electrochromic device having an electrochromic layer, a second electrode layer, and a second substrate, the first electrode substrate having the first electrode layer formed on the first substrate; The second electrode layer is formed on the second
A preparation step of preparing an electrode substrate; a coating step of applying a liquid composition that becomes the electrochromic layer by solidification on the first electrode layer of the first electrode substrate; and a necessary portion of the composition. A solidifying step of solidifying to form the electrochromic layer; a removing step of removing the composition other than the electrochromic layer; and a sealing agent surrounding the electrochromic layer, wherein the sealing agent surrounds the electrochromic layer. Forming a sealant on the first electrode layer; bonding the second electrode substrate on the sealant such that the electrochromic layer side becomes the second electrode layer; And a sealing step of sealing the electrolyte layer between the second electrode layer and the second electrode layer.
【請求項5】組成物は遷移金属の過酸化物を溶解したも
のであることを特徴とする請求項4記載のエレクトロク
ロミック素子の製造方法。
5. The method for manufacturing an electrochromic device according to claim 4, wherein the composition is prepared by dissolving a peroxide of a transition metal.
【請求項6】組成物は溶質としてWO3・nNb2
5(但し、nは零又は正数)を含有する過酸化ポリタン
グステン酸溶液であることを特徴とする請求項5記載の
エレクトロクロミック素子の製造方法。
6. A composition comprising WO 3 .nNb 2 O as a solute.
The method for producing an electrochromic device according to claim 5, wherein the solution is a polytungstic peroxide solution containing 5 (where n is zero or a positive number).
【請求項7】除去工程は水又は有機溶媒による組成物の
溶解により行うことを特徴とする請求項6記載のエレク
トロクロミック素子の製造方法。
7. The method for producing an electrochromic device according to claim 6, wherein the removing step is performed by dissolving the composition with water or an organic solvent.
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