JP2000202842A - Method and apparatus for manufacture of film - Google Patents

Method and apparatus for manufacture of film

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JP2000202842A
JP2000202842A JP275299A JP275299A JP2000202842A JP 2000202842 A JP2000202842 A JP 2000202842A JP 275299 A JP275299 A JP 275299A JP 275299 A JP275299 A JP 275299A JP 2000202842 A JP2000202842 A JP 2000202842A
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Japan
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film
landing point
resin film
manufacturing apparatus
variation
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JP275299A
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Japanese (ja)
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Takanori Nishida
貴則 西田
Katsushi Yamakawa
勝史 山川
Hidetoshi Okashiro
英敏 岡城
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a film-making speed and a productivity by preventing air bite from being generated by a method wherein fluctuation of a landing point on a transfer cast surface of a resin film extruded from a slit clearance of a mouthpiece is controlled by at least two suction means which are different from each other. SOLUTION: A suction nozzle 6 for generating a negative pressure region 5 coming in contact with a resin film 2 is arranged to a rear face side of a mouthpiece 1, i.e., an upstream side in a transfer direction from a landing point 4 onto a cast face 3a on a rotary drum 3 of the resin film 2. A means for applying a liquid onto the cast face 3a is arranged to a further upstream side in a transfer direction, which comprises a spray nozzle 10 for applying a solvent equal in quality to the solvent contained in the resin film 2. Then, the resin film 2 is restricted so as to be stably landed at a specific landing point 4 by a negative pressure region 5 generated by the suction nozzle 6 to restrict fluctuation of the landing point 4. Further, the resin film 2 is made easy to be bonded by the solvent which is applied by the spray nozzle 10, and local fluctuation of the landing point 4 is restricted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、溶融樹脂膜、ある
いは樹脂を溶媒または溶液に溶解させた溶液樹脂膜を口
金のスリット間隙から移動キャスト面に押し出すフイル
ムの製造方法および装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a film in which a molten resin film or a solution resin film obtained by dissolving a resin in a solvent or a solution is extruded from a slit gap of a die onto a moving cast surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、溶融樹脂又は溶液樹脂を口金
のスリット間隙からシート状に押し出してキャスト面に
密着させた後、冷却あるいは乾燥工程を経て樹脂フイル
ムにする製造方法が知られている。このような樹脂フイ
ルムの製造において、口金から吐出された樹脂膜のキャ
スト面への密着点(着地点)が安定しているか否かは、
その後の工程に基本的な影響をおよぼし、製品品質を左
右する重要な因子になっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a manufacturing method in which a molten resin or a solution resin is extruded into a sheet shape from a slit gap of a die, brought into close contact with a cast surface, and then cooled or dried to form a resin film. In the production of such a resin film, it is determined whether the adhesion point (landing point) of the resin film discharged from the base to the casting surface is stable.
It has a fundamental effect on subsequent processes and is an important factor in determining product quality.

【0003】すなわち、この着地点が不安定であると、
たとえば、着地点が最も遅れた箇所からフイルムとキャ
スト面との間にエアが噛み込むという現象が生じる(以
後、これを“エア噛み”と称する)。このエア噛みが発
生すると、フイルム面に厚みむらを生じたり、その後の
延伸過程でエア噛み部分に応力集中が生じてフイルムが
破れるなどの問題があった。このエア噛み現象は、製膜
速度が高速になるほど顕著になるため、生産性向上の支
障になっていた。
[0003] That is, if this landing point is unstable,
For example, a phenomenon occurs in which air is caught between the film and the casting surface from a position where the landing point is most delayed (hereinafter, this phenomenon is referred to as "air biting"). When this air biting occurs, there are problems such as uneven thickness of the film surface and stress concentration at the air biting portion in the subsequent stretching process, causing the film to break. This air biting phenomenon becomes more remarkable as the film forming speed increases, which hinders improvement in productivity.

【0004】このようなエア噛みの原因となる樹脂膜の
移動キャスト面への着地点の変動は、たとえば図6や図
7に示すように起こる。図6においては、口金101か
ら移動キャスト面102上に樹脂膜103がキャストさ
れるに際し、着地点の口金101の幅方向(樹脂膜10
3の幅方向)における軌跡である着地線104が、幅方
向において変動している。この変動幅δ1が大きくなる
と、局部的にエア噛みを生じる。この変動幅δ1が問題
となるのは、とくに、樹脂膜103の幅方向中央部の製
品部105であり、両側の耳部である非製品部106で
は、着地点の確認が難しいとともに、ほとんど問題とな
らないことが多い。また図7は、口金111から移動キ
ャスト面112上に樹脂膜113がキャストされるに際
し、製品部において着地点114が経時的に変動する様
子を示しており、この変動幅δ2が大きくなると、やは
りエア噛みを生じる。図6に示した変動と図7に示した
変動が複合的に生じることもある。
[0004] Such a change in the landing point of the resin film on the moving cast surface, which causes air biting, occurs as shown in, for example, FIGS. 6 and 7. In FIG. 6, when the resin film 103 is cast from the base 101 onto the moving cast surface 102, the width direction of the base 101 at the landing point (the resin film 10).
The landing line 104, which is a locus in the width direction of No. 3), fluctuates in the width direction. When the variation width δ1 increases, air bite occurs locally. The variation width δ1 is particularly problematic in the product portion 105 in the center in the width direction of the resin film 103, and it is difficult to confirm the landing point in the non-product portions 106 which are the ear portions on both sides. Often not. FIG. 7 shows how the landing point 114 fluctuates with time in the product section when the resin film 113 is cast from the base 111 onto the movable cast surface 112. When the fluctuation width δ2 becomes large, the variation width δ2 also increases. Air biting occurs. The variation shown in FIG. 6 and the variation shown in FIG. 7 may occur in combination.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
のような樹脂膜の着地点の変動を効果的に抑制し、エア
噛みの発生を防止して、製膜速度の向上、生産性の向上
をはかることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to effectively suppress the above-mentioned fluctuation of the landing point of the resin film, prevent the occurrence of air bite, improve the film forming speed, and improve the productivity. Is to improve.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のフイルムの製造方法は、口金のスリット間
隙から押し出された樹脂膜を、移動キャスト面に密着さ
せ、キャスト面の移動とともに下流側に送るフイルムの
製造方法において、互いに異なる二つ以上の密着手段に
より、樹脂膜のキャスト面への着地点の変動を抑えるこ
とを特徴とする方法からなる。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a film according to the present invention is characterized in that a resin film extruded from a slit gap of a die is brought into close contact with a moving cast surface, and the film is moved with the movement of the cast surface. The method for producing a film to be sent downstream is characterized in that a variation in the point of attachment of the resin film to the casting surface is suppressed by two or more different adhesion means.

【0007】また、本発明に係るフイルムの製造装置
は、口金のスリット間隙から押し出された樹脂膜を、移
動キャスト面に密着させ、キャスト面の移動とともに下
流側に送るフイルム製造装置において、樹脂膜のキャス
ト面への着地点の変動を抑えるための密着手段として、
互いに異なる二つ以上の手段を有することを特徴とする
ものからなる。
Further, the film manufacturing apparatus according to the present invention is a film manufacturing apparatus in which a resin film extruded from a slit gap of a die is brought into close contact with a moving cast surface and is sent downstream along with the movement of the cast surface. As a close contact means to suppress the fluctuation of the landing point on the cast surface,
It is characterized by having two or more means different from each other.

【0008】すなわち、従来一つしか設けられていなか
った密着手段を、二つ以上組み合わせて設けたものであ
り、それによってより効果的に樹脂膜の着地点の変動を
小さく抑えるようにしたものである。また、二つ以上の
密着手段を、最適な組み合せにすることにより、たとえ
ば一方の密着手段を主となる密着手段、他方の密着手段
を従となる密着手段とすることにより、両者の組み合せ
により最も効果的に着地点変動抑制効果が得られるよう
にしたものである。
In other words, two or more contacting means, which were conventionally provided only once, are provided in combination, whereby the variation of the contact point of the resin film is suppressed more effectively. is there. Also, by making the two or more contacting means an optimal combination, for example, by making one contacting means a main contacting means and the other contacting means a subordinate contacting means, Thus, the effect of suppressing the variation of the landing point can be obtained effectively.

【0009】上記密着手段としては、着地点の樹脂膜幅
方向における変動を抑えるようにしたもの、あるいは着
地点の経時的な変動を抑えるようにしたもの、さらには
これらを組み合わせたもののいずれにも構成できる。着
地点の変動は、口金のスリット間隙とキャスト面との距
離に応じて目標とする抑制量が異なり、口金のスリット
間隙とキャスト面との距離が10mm未満のときには着
地点の変動を5mm以下に抑え、口金のスリット間隙と
キャスト面との距離が10mm以上のときには着地点の
変動を10mm以下に抑えることが好ましい。この着地
点の変動は、図6に示したような、樹脂膜幅方向中央部
における製品部での変動を対象とする。
As the above-mentioned adhesion means, any of means for suppressing the variation of the landing point in the width direction of the resin film, means for suppressing the variation over time of the landing point, and a combination thereof are used. Can be configured. The variation of the landing point differs depending on the distance between the slit gap of the base and the casting surface, and the variation of the landing point is 5 mm or less when the distance between the slit gap of the base and the casting surface is less than 10 mm. When the distance between the slit gap of the base and the casting surface is 10 mm or more, it is preferable to suppress the variation of the landing point to 10 mm or less. The variation of the landing point is intended for the variation in the product portion at the center in the resin film width direction as shown in FIG.

【0010】密着手段のより具体的な態様としては、密
着手段の一つが、前記着地点よりもキャスト面移動方向
上流側に位置し、樹脂膜に直接接する負圧領域を生成す
る吸引ノズルからなることが好ましい。
As a more specific mode of the contacting means, one of the contacting means is provided with a suction nozzle which is located on the upstream side in the moving direction of the casting surface from the landing point and generates a negative pressure area directly in contact with the resin film. Is preferred.

【0011】そして、密着手段の一つをこのような吸引
ノズルから構成する場合、樹脂膜が溶液膜である場合に
は、密着手段の他の一つを、液体をキャスト面に塗布す
る液体塗布手段に構成することができる。たとえば、溶
液膜に含まれる溶媒と同等の溶媒をキャスト面に塗布す
る溶媒塗布手段に構成することができる。あるいは、樹
脂膜が溶融膜または溶液膜からなる場合、密着手段の他
の一つを、着地点よりもキャスト面移動方向上流側に位
置し、樹脂膜に直接には接しない負圧領域を生成する吸
引ノズルに構成することもできる。あるいは、密着手段
の他の一つを、樹脂膜に静電荷を付与する静電気負荷手
段に構成することもできる。さらには、密着手段の他の
一つを着地点上方または着地点よりもキャスト面移動方
向下流側に設けられたエアナイフから構成することもで
きる。さらには、これら他の密着手段を二つ以上組み合
わせて用いることもできる。
When one of the contacting means is constituted by such a suction nozzle, and when the resin film is a solution film, the other one of the contacting means is applied by liquid application for applying a liquid to the cast surface. Means can be configured. For example, a solvent application unit that applies a solvent equivalent to the solvent contained in the solution film to the cast surface can be used. Alternatively, when the resin film is made of a molten film or a solution film, a negative pressure region which is located on the upstream side of the casting surface moving direction from the landing point and which is not directly in contact with the resin film is generated by another one of the adhesion means. It can also be configured as a suction nozzle. Alternatively, the other one of the adhesion means may be configured as an electrostatic load means for applying an electrostatic charge to the resin film. Furthermore, another one of the contacting means may be constituted by an air knife provided above the landing point or downstream of the landing point in the direction of movement of the casting surface. Further, two or more of these other contacting means may be used in combination.

【0012】移動キャスト面は、周回するベルトまたは
回転するドラムのいずれによって形成されてもよい。
The moving cast surface may be formed by either a rotating belt or a rotating drum.

【0013】このような本発明に係るフイルムの製造方
法および装置においては、二つ以上の密着手段を組み合
わせて用いることにより、たとえば主密着手段を口金背
面側に設けた吸引ノズルとし、それに加えて上述のよう
な従となる他の密着手段を設けることにより、主密着手
段により変動が大きくならないように着地点を基本的に
安定させ、その上で、従となる密着手段により局部的な
不安定部分の変動あるいは経時的な変動をさらに抑える
ことが可能となる。したがって、着地点の変動は、樹脂
膜の幅方向にも経時的にも大幅に小さく抑えられること
になり、着地点を安定させることにより(着地点を実質
的に一定にすることにより)、エア噛みが防止され、厚
みむらがなく品質の向上されたフイルムが製造可能にな
るとともに、より高速での製膜が可能になる。また、着
地点変動の生じやすい薄膜においてより顕著な効果が現
れるので、生産するフイルムの一層の薄膜化も可能にな
る。
In such a method and apparatus for producing a film according to the present invention, by using two or more contacting means in combination, for example, the main contacting means is a suction nozzle provided on the back side of the base, and in addition to this, By providing another contacting means as described above, the landing point is basically stabilized so that the fluctuation is not increased by the main contacting means. It is possible to further suppress the variation of the portion or the variation over time. Therefore, the variation of the landing point can be greatly reduced both in the width direction of the resin film and over time, and by stabilizing the landing point (by making the landing point substantially constant), Biting is prevented, and a film having improved quality without unevenness in thickness can be manufactured, and a film can be formed at a higher speed. Further, since a more remarkable effect appears in a thin film in which landing point variation is liable to occur, the film to be produced can be further thinned.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の望ましい実施の
形態を、図面を参照して説明する。図1は、本発明の第
1実施態様に係るフイルムの製造装置を示している。図
において、1は溶媒を含む溶液樹脂膜2(たとえば、ポ
リアミドやポリイミド樹脂の溶液製膜における樹脂膜)
を吐出する口金を示しており、吐出された樹脂膜2は、
回転する冷却ドラム3の表面によって形成される移動キ
ャスト面3a上にキャストされる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a film manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a solution resin film 2 containing a solvent (for example, a resin film in a solution film formation of polyamide or polyimide resin).
Is shown, and the discharged resin film 2 has
It is cast on a moving cast surface 3a formed by the surface of the rotating cooling drum 3.

【0015】口金2の背面側、つまり、樹脂膜2のキャ
スト面3aへの着地点4よりもキャスト面移動方向上流
側には、口金2に隣接させて、樹脂膜2に直接接する負
圧領域5を生成する吸引ノズル6が設けられている。吸
引ノズル6は、吸引口7と減圧室8を有しており、減圧
室8内は、ブロワ9による空気吸引によって所定の減圧
度に制御されるようになっている。この吸引ノズル6
が、主となる密着手段を構成している。
On the back side of the base 2, that is, on the upstream side in the direction of movement of the casting surface from the point of attachment 4 of the resin film 2 to the casting surface 3a, there is a negative pressure area adjacent to the base 2 and in direct contact with the resin film 2. 5 is provided. The suction nozzle 6 has a suction port 7 and a decompression chamber 8, and the inside of the decompression chamber 8 is controlled to a predetermined degree of decompression by air suction by a blower 9. This suction nozzle 6
Constitute the main contacting means.

【0016】本実施態様では、従となる密着手段とし
て、吸引ノズル6のキャスト面移動方向上流側に、液体
をキャスト面3aに塗布する液体塗布手段が設けられ、
この液体塗布手段は、本実施態様では、上記溶液膜2に
含まれる溶媒と同等の(つまり、同一か同種の)溶媒を
キャスト面3aに塗布する溶媒塗布手段としての噴霧ノ
ズル10から構成されている。
In this embodiment, a liquid applying means for applying a liquid to the casting surface 3a is provided on the upstream side of the suction nozzle 6 in the direction of movement of the casting surface as a subordinate contact means.
In the present embodiment, the liquid application means is constituted by a spray nozzle 10 as a solvent application means for applying a solvent equivalent to the solvent contained in the solution film 2 (that is, the same or the same type) to the casting surface 3a. I have.

【0017】この噴霧ノズル10は、樹脂膜2の幅方向
に実質的に樹脂膜2の全幅にわたって延びていてもよ
い。あるいは、予め着地点4が不安定になる箇所が判っ
ている場合には、幅方向にその特定の位置に対して設け
るようにしてもよい。
The spray nozzle 10 may extend over substantially the entire width of the resin film 2 in the width direction of the resin film 2. Alternatively, if the location where the landing point 4 becomes unstable is known in advance, it may be provided at the specific position in the width direction.

【0018】このような製造装置を用いたフイルムの製
造においては、主密着手段である吸引ノズル6により生
成した負圧領域5により、着地点4直前の樹脂膜2が所
定の着地点4に安定して着地するように拘束され、樹脂
膜2の幅方向に、および、経時的にも、着地点4の変動
が抑えられる。
In the production of a film using such a production apparatus, the resin film 2 immediately before the landing point 4 is stabilized at the predetermined landing point 4 by the negative pressure region 5 generated by the suction nozzle 6 as the main contact means. Thus, the landing point 4 is suppressed from fluctuating in the width direction of the resin film 2 and also over time.

【0019】そして、従となる密着手段である噴霧ノズ
ル10からキャスト面3a上に塗布された溶媒により、
着地点4部分およびその直近部分において樹脂膜2はよ
り密着しやすくなり、着地点4の局部的な変動がより小
さく抑えられる。
Then, the solvent applied to the casting surface 3a from the spray nozzle 10, which is a close contact means,
The resin film 2 is more easily adhered to the portion at the landing point 4 and the portion immediately adjacent to the portion, and the local fluctuation of the landing point 4 can be suppressed to be smaller.

【0020】その結果、全体として、着地点4の変動
は、局部的にも経時的にも大幅に小さく抑えられること
になり、エア噛み等の不都合の発生が防止され、フイル
ムの品質が向上するとともに、より高速製膜、より薄膜
化が可能になる。
As a result, as a whole, the fluctuation of the landing point 4 is greatly reduced locally and over time, so that inconvenience such as air biting is prevented, and the quality of the film is improved. At the same time, higher-speed film formation and thinning can be achieved.

【0021】図2は、本発明の第2実施態様に係るフイ
ルムの製造装置を示している。本実施態様では、前記第
1実施態様に比べ、従となる密着手段として、前記噴霧
ノズル10の代わりに、吸引ノズル6の口金1とは反対
側の位置に、樹脂膜2に直接には接しない負圧領域11
を生成する吸引ノズル12が設けられている。この吸引
ノズル12は、キャスト面3aに対向して開口する吸引
口13と、減圧室14とを有しており、減圧室14内
は、ブロワ15による空気吸引によって所定の減圧度に
制御されるようになっている。その他の構成は第1実施
態様に準じる。
FIG. 2 shows a film manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention. In the present embodiment, as compared with the first embodiment, as a close contact means, instead of the spray nozzle 10, the suction nozzle 6 is in direct contact with the resin film 2 at a position opposite to the base 1. Negative pressure area 11 not
Is provided. The suction nozzle 12 has a suction port 13 that opens to face the casting surface 3a and a decompression chamber 14. The inside of the decompression chamber 14 is controlled to a predetermined degree of decompression by suction of air by a blower 15. It has become. Other configurations are in accordance with the first embodiment.

【0022】このような製造装置を用いたフイルムの製
造においては、主密着手段である吸引ノズル6により生
成された負圧領域5により、着地点4直前の樹脂膜2が
着地点4が安定するように拘束されるが、このとき、そ
の背面側にさらに負圧領域11を生成しておくことで、
負圧領域5における変動がより小さくなるように抑えら
れる。負圧領域5の変動が抑えられると、それだけ着地
点4の変動も抑えられることになり、結果的に、着地点
4の変動は、局部的にも経時的にも大幅に小さく抑えら
れることになる。したがって、エア噛み等の不都合の発
生が防止され、フイルムの品質が向上するとともに、よ
り高速製膜、より薄膜化が可能になる。
In the production of a film using such a production apparatus, the resin film 2 immediately before the landing point 4 is stabilized at the landing point 4 by the negative pressure region 5 generated by the suction nozzle 6 as the main contact means. At this time, by further creating a negative pressure region 11 on the back side,
The fluctuation in the negative pressure region 5 is suppressed to be smaller. When the fluctuation of the negative pressure region 5 is suppressed, the fluctuation of the landing point 4 is correspondingly suppressed, and as a result, the fluctuation of the landing point 4 is significantly suppressed locally and over time. Become. Therefore, the occurrence of inconvenience such as air biting is prevented, the quality of the film is improved, and a higher-speed film formation and a thinner film can be realized.

【0023】図3は、本発明の第3実施態様に係るフイ
ルムの製造装置を示している。本実施態様では、前記第
1実施態様に比べ、従となる密着手段が、着地点4の上
方に設けられた、樹脂膜2に静電荷を付与する静電気印
加手段21から構成されている。静電気印加手段21
は、たとえば、直流高電圧が印加された導電性ワイヤま
たは導電性ナイフエッジからなる。その他の構成は第1
実施態様に準じる。
FIG. 3 shows a film manufacturing apparatus according to a third embodiment of the present invention. In the present embodiment, as compared with the first embodiment, the auxiliary contacting means is constituted by static electricity applying means 21 provided above the landing point 4 and for applying an electrostatic charge to the resin film 2. Static electricity applying means 21
Consists of, for example, a conductive wire or a conductive knife edge to which a high DC voltage is applied. Other configurations are first
According to the embodiment.

【0024】このような製造装置を用いたフイルムの製
造においては、主密着手段である吸引ノズル6により生
成された負圧領域5により、着地点4直前の樹脂膜2が
着地点4が安定するように拘束されるが、加えて、静電
気印加手段21によって付与された静電荷により、着地
点4において樹脂膜2がより強力にキャスト面3aに密
着され、着地点4の変動はより小さく抑えられる。その
結果、着地点4の変動は、局部的にも経時的にも大幅に
小さく抑えられることになる。したがって、エア噛み等
の不都合の発生が防止され、フイルムの品質が向上する
とともに、より高速製膜、より薄膜化が可能になる。
In the film production using such a production apparatus, the resin film 2 immediately before the landing point 4 is stabilized at the landing point 4 by the negative pressure region 5 generated by the suction nozzle 6 as the main contact means. In addition, the resin film 2 is more strongly adhered to the casting surface 3a at the landing point 4 due to the electrostatic charge given by the static electricity applying means 21, and the variation of the landing point 4 is suppressed to be smaller. . As a result, the fluctuation of the landing point 4 can be greatly reduced both locally and over time. Therefore, the occurrence of inconvenience such as air biting is prevented, the quality of the film is improved, and a higher-speed film formation and a thinner film can be realized.

【0025】図4は、本発明の第4実施態様に係るフイ
ルムの製造装置を示している。本実施態様では、前記第
1実施態様に比べ、従となる密着手段が、着地点4の上
方または着地点4よりもキャスト面移動方向下流側に設
けられたエアナイフ31から構成されている。エアナイ
フ31には、適当な圧空源(図示略)から、圧力の調整
された清浄な空気(または気体)が線状に吹き付けられ
るようになっている。その他の構成は第1実施態様に準
じる。
FIG. 4 shows a film manufacturing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. In this embodiment, as compared with the first embodiment, the auxiliary contact means is constituted by an air knife 31 provided above the landing point 4 or downstream of the landing point 4 in the direction of movement of the casting surface. Clean air (or gas) whose pressure is adjusted is linearly blown from an appropriate pressure air source (not shown) to the air knife 31. Other configurations are in accordance with the first embodiment.

【0026】このような製造装置を用いたフイルムの製
造においては、主密着手段である吸引ノズル6により生
成された負圧領域5により、着地点4直前の樹脂膜2が
着地点4が安定するように拘束されるが、加えて、エア
ナイフ31による線状の空気吹き付けにより、着地点4
あるいはその直近位置で樹脂膜2がキャスト面3aに押
圧され、着地点4が所望の位置に規制される。その結
果、着地点4の変動は、局部的にも経時的にも大幅に小
さく抑えられることになる。したがって、エア噛み等の
不都合の発生が防止され、フイルムの品質が向上すると
ともに、より高速製膜、より薄膜化が可能になる。
In the production of a film using such a production apparatus, the resin film 2 immediately before the landing point 4 is stabilized at the landing point 4 by the negative pressure area 5 generated by the suction nozzle 6 as the main contact means. However, in addition, the air knife 31 linearly blows air to the landing point 4.
Alternatively, the resin film 2 is pressed against the cast surface 3a at a position immediately adjacent thereto, and the landing point 4 is regulated to a desired position. As a result, the fluctuation of the landing point 4 can be greatly reduced both locally and over time. Therefore, the occurrence of inconvenience such as air biting is prevented, the quality of the film is improved, and a higher-speed film formation and a thinner film can be realized.

【0027】上記第1〜第4実施態様は、移動キャスト
面3aが回転ドラム3によって形成される場合について
説明したが、本発明はこれに限らず、移動キャスト面が
周回するベルトによって形成される装置にも同様に適用
できる。
In the first to fourth embodiments, the case where the movable casting surface 3a is formed by the rotary drum 3 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the movable casting surface 3a is formed by a belt that rotates. The same applies to devices.

【0028】たとえば、前述の第2実施態様に対応する
態様を第5実施態様として図5に示す。本実施態様にお
いては、移動キャスト面41aは、回転ドラム42、4
3間にかけ渡されて周回駆動されるベルト41によって
形成されている。この態様は、溶液製膜に好適なもので
ある。その他の構成、作用は第2実施態様に準じる。も
ちろん、前述の第1、第3、第4実施態様と同様の密着
手段構成も周回ベルト方式の装置に適用可能である。
For example, an embodiment corresponding to the above-described second embodiment is shown in FIG. 5 as a fifth embodiment. In the present embodiment, the moving cast surface 41a is
It is formed by a belt 41 that is wound around and driven between three belts. This embodiment is suitable for solution casting. Other configurations and operations are similar to those of the second embodiment. Needless to say, the same contact unit structure as in the first, third, and fourth embodiments described above is also applicable to the circulating belt type apparatus.

【0029】また、上述の各実施態様では、互いに異な
る密着手段を二つ設けた例を示したが、三つ以上の組み
合わせとしてもよい。
Further, in each of the above-described embodiments, an example is shown in which two different contact means are provided, but a combination of three or more may be provided.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のフイルム
の製造方法および装置によれば、互いに異なる二つ以上
の密着手段を用いて樹脂膜をキャスト面に密着させるよ
うにしたので、キャスト面への着地点の変動が大幅に小
さく抑えられ、局部的にも経時的にも変動が小さく抑え
られた安定したキャスト状態を達成できる。その結果、
エア噛み等の不都合の発生を防止して、フイルムの品質
の向上、製膜速度の向上、フイルムの薄膜化を促進でき
る。
As described above, according to the method and apparatus for producing a film of the present invention, the resin film is brought into close contact with the cast surface by using two or more different contact means. The fluctuation of the landing point on the vehicle is greatly suppressed, and a stable cast state in which the fluctuation is suppressed locally and over time can be achieved. as a result,
It is possible to prevent the occurrence of inconveniences such as air biting, thereby improving the quality of the film, improving the film forming speed, and promoting the thinning of the film.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施態様に係るフイルムの製造装
置の概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a film manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施態様に係るフイルムの製造装
置の概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a film manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3実施態様に係るフイルムの製造装
置の概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a film manufacturing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4実施態様に係るフイルムの製造装
置の概略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a film manufacturing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第5実施態様に係るフイルムの製造装
置の概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a film manufacturing apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】従来のフイルムの製造装置における着地点の変
動の様子を示す概略斜視図である。
FIG. 6 is a schematic perspective view showing how a landing point changes in a conventional film manufacturing apparatus.

【図7】従来のフイルムの製造装置における着地点の変
動の別の様子を示す概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing another variation of the landing point in the conventional film manufacturing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 口金 2 樹脂膜 3 回転ドラム 3a 移動キャスト面 4 着地点 5 負圧領域 6 吸引ノズル 10 噴霧ノズル 11 負圧領域 12 吸引ノズル 21 静電気印加手段 31 エアナイフ 41 周回ベルト 41a 移動キャスト面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cap 2 Resin film 3 Rotary drum 3a Moving cast surface 4 Landing point 5 Negative pressure area 6 Suction nozzle 10 Spray nozzle 11 Negative pressure area 12 Suction nozzle 21 Static electricity applying means 31 Air knife 41 Circulating belt 41a Moving cast surface

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡城 英敏 滋賀県大津市園山1丁目1番1号 東レ株 式会社滋賀事業場内 Fターム(参考) 4F205 AA29 AA40 AC05 AG01 AR07 GA07 GB02 GC02 GC07 GE01 GF01 GF23 GF24 GF30 GF46 GN04 GN24  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Hidetoshi Okagi 1-1-1 Sonoyama, Otsu City, Shiga Prefecture F-term in the Shiga Plant of Toray Industries Co., Ltd. 4F205 AA29 AA40 AC05 AG01 AR07 GA07 GB02 GC02 GC07 GE01 GF01 GF23 GF24 GF30 GF46 GN04 GN24

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 口金のスリット間隙から押し出された樹
脂膜を、移動キャスト面に密着させ、キャスト面の移動
とともに下流側に送るフイルムの製造方法において、互
いに異なる二つ以上の密着手段により、樹脂膜のキャス
ト面への着地点の変動を抑えることを特徴とするフイル
ムの製造方法。
1. A method for producing a film in which a resin film extruded from a slit gap of a die is brought into close contact with a moving cast surface and fed downstream along with movement of the cast surface. A method for producing a film, characterized in that a change in a point of landing of a film on a cast surface is suppressed.
【請求項2】 密着手段により、前記着地点の樹脂膜幅
方向における変動を抑える、請求項1に記載のフイルム
の製造方法。
2. The film manufacturing method according to claim 1, wherein a variation in the width direction of the landing point in the resin film width direction is suppressed by the adhesion means.
【請求項3】 密着手段により、前記着地点の経時的な
変動を抑える、請求項1または2に記載のフイルムの製
造方法。
3. The method for producing a film according to claim 1, wherein a time-dependent variation of the landing point is suppressed by a contact means.
【請求項4】 口金のスリット間隙とキャスト面との距
離が10mm未満のときには着地点の変動を5mm以下
に抑え、口金のスリット間隙とキャスト面との距離が1
0mm以上のときには着地点の変動を10mm以下に抑
える、請求項1〜3のいずれかに記載のフイルムの製造
方法。
4. When the distance between the slit gap of the base and the casting surface is less than 10 mm, the variation of the landing point is suppressed to 5 mm or less, and the distance between the slit gap of the base and the casting surface is 1 mm.
The method for producing a film according to any one of claims 1 to 3, wherein a variation of a landing point is suppressed to 10 mm or less when the distance is 0 mm or more.
【請求項5】 口金のスリット間隙から押し出された樹
脂膜を、移動キャスト面に密着させ、キャスト面の移動
とともに下流側に送るフイルム製造装置において、樹脂
膜のキャスト面への着地点の変動を抑えるための密着手
段として、互いに異なる二つ以上の手段を有することを
特徴とするフイルムの製造装置。
5. A film manufacturing apparatus in which a resin film extruded from a slit gap of a die is brought into close contact with a moving casting surface and is sent downstream along with the movement of the casting surface. An apparatus for producing a film, comprising two or more different means as adhesion means for suppressing the film.
【請求項6】 密着手段が、前記着地点の樹脂膜幅方向
における変動を抑えるものである、請求項5に記載のフ
イルムの製造装置。
6. The film manufacturing apparatus according to claim 5, wherein the adhesion unit suppresses a variation in the width of the landing point in the resin film width direction.
【請求項7】 密着手段が、前記着地点の経時的な変動
を抑えるものである、請求項5または6に記載のフイル
ムの製造装置。
7. The film manufacturing apparatus according to claim 5, wherein the close contact means suppresses a change over time of the landing point.
【請求項8】 密着手段の一つが、前記着地点よりもキ
ャスト面移動方向上流側に位置し、樹脂膜に直接接する
負圧領域を生成する吸引ノズルからなる、請求項5〜7
のいずれかに記載のフイルムの製造装置。
8. One of the contacting means is a suction nozzle which is located on the upstream side in the moving direction of the casting surface from the landing point and generates a negative pressure region which is in direct contact with the resin film.
An apparatus for producing a film according to any one of the above.
【請求項9】 樹脂膜が溶液膜からなり、密着手段の他
の一つが、液体をキャスト面に塗布する液体塗布手段か
らなる、請求項8に記載のフイルムの製造装置。
9. The film manufacturing apparatus according to claim 8, wherein the resin film is made of a solution film, and another one of the adhesion means is a liquid applying means for applying a liquid to the cast surface.
【請求項10】 密着手段の他の一つが、前記着地点よ
りもキャスト面移動方向上流側に位置し、樹脂膜に直接
には接しない負圧領域を生成する吸引ノズルからなる、
請求項8に記載のフイルムの製造装置。
Another one of the adhesion means is a suction nozzle which is located upstream of the landing point in the direction of movement of the casting surface and generates a negative pressure region which is not directly in contact with the resin film.
An apparatus for manufacturing a film according to claim 8.
【請求項11】 密着手段の他の一つが、樹脂膜に静電
荷を付与する静電気印加手段からなる、請求項8に記載
のフイルムの製造装置。
11. The film manufacturing apparatus according to claim 8, wherein another one of the adhesion means comprises an electrostatic application means for applying an electrostatic charge to the resin film.
【請求項12】 密着手段の他の一つが、前記着地点上
方または着地点よりもキャスト面移動方向下流側に設け
られたエアナイフからなる、請求項8に記載のフイルム
の製造装置。
12. The film manufacturing apparatus according to claim 8, wherein the other one of the contacting means comprises an air knife provided above the landing point or downstream of the landing point in the direction of movement of the casting surface.
【請求項13】 移動キャスト面が周回するベルトによ
って形成されている、請求項5〜12のいずれかに記載
のフイルムの製造装置。
13. The film manufacturing apparatus according to claim 5, wherein the movable cast surface is formed by a circling belt.
【請求項14】 移動キャスト面が、回転ドラムによっ
て形成されている、請求項5〜12のいずれかに記載の
フイルムの製造装置。
14. The film manufacturing apparatus according to claim 5, wherein the moving cast surface is formed by a rotating drum.
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